JPH03203050A - 光磁気ディスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はプラスチック基板の一主面上に十分な表面硬度
と光透過性があり且つ帯電防止効果に優れた樹脂層を形
成して成る光磁気ディスクに関するものである。

〔従来技術及びその問題点〕

光磁気ディスク用基板材料にはガラスまたはプラスチッ
クがあり、ガラス基板は高価になるが、その反面、種々
の所要特性が得られる。これに対して、プラスチック基
板は複製が容易であり、しかも、低コストである。

上記プラスチック基板材料には例えばポリカーボネート
樹脂などがあるが、その樹脂自体は誘電体であるために
帯電しやすく、また、ゴミなどが付着しやすく、しかも
、硬度が小さいために傷がつきやすく、これらが原因と
なってビットエラーレート（以下ＢＥＲと略す）などの
読出し性能が低下するという問題点がある。

そこで、この問題点を解決するために基板の読出し面に
５ｉＯｚなどの無機質膜を形成することが提案されてい
る（特開昭６３−１５５４５０号及び特開昭６３２９２
４４１号参照）。

しかしながら、上記構成の光磁気ディスクに対して耐久
性能を確かめるための環境試験を行ったところ、基板と
無機質膜の間に脹れが生じ、ＢＥＲが低下することが判
明した。

本発明は積上に鑑みて案出されたものであり、その目的
はプラスチック基板の読出し面に十分な表面硬度と光透
過性があり、且つＩＦ電防止効果にも優れた層を形成し
、これによって読出し性能を高めた光磁気ディスクを提
供することにある。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明の光磁気ディスクはプラスチック基板の読出し面
にアンチモン含有の酸化スズから戒る導電フィラーを３
〜１１重量％の範囲で含有した透明樹脂を塗着せしめた
ことを特徴とする。

以下本発明の詳細な説明する。

添付図面は本発明光磁気ディスクの典型的な層構成を示
しており、プラスチック基板１の一生面上に第１誘電体
層２、光磁気記録層３、第２誘電体層４及び金属保護層
５を順次積層し、更に樹脂保護層６を形成する。また、
読出し面である他主面上に前記組成の透明樹脂層７を形
成する。

上記透明樹脂層７は導電フィラーを含む樹脂から成り、
この導電フィラーはアンチモンを含む酸化スズを主体と
するものであって透明樹脂層７の導電性を高める働きが
あるが、その反面、核層７の硬度を低下せしめる。

そこで本発明者等は樹脂中の導電フィラー含有量を幾通
りにも変える実験を繰り返し行った結果、その含有量が
３〜１１重量％、好適乙こは５〜１０重量２であればよ
いことを見い出した。

その含有量が３重量％未満の場合には所望の導電性が得
られず、１１重量Ｚを越えた場合、硬度の低下をまねく
。

また酸化スズにアンチモンを含有せしめることにより導
電性が高められるという効果が得られる。

このような導電フィラーは酸化スズを主体とするもので
あるが、これにインジウムを加えた酸化インジウム・ス
ズ（ＩＴＯ＞でもよい。

透明樹脂層７の主体となる樹脂としては透明絶縁性であ
れば種々の材料を用いることができ、例えばエポキシ系
、不飽和ポリエステル系、ポリメタクリル系、アクリル
系、ウレタン系、アクリルウレタン系の紫外線硬化型樹
脂（ＵＶ樹脂）、もしくはユリア系、メラミン系、シア
リルスタレート系の熱硬化型樹脂など、また、熱硬化型
ＵＶ樹脂、湿気硬化型ＵＶ樹脂、二液型ＬＩＶ樹脂など
が挙げられる。

かくして上記組成の透明樹脂層７を形成した場合、比抵
抗が１０１３Ωｃｍ以下の導電性が得られ、しかも、ポ
リカーボネート樹脂基板の硬度（これを鉛筆硬度で表し
た場合、Ｂである）よりも高い硬度（鉛筆硬度でＨ以上
である）が得られ、そのＥ、高い透過率も得られた。

このような透明樹脂層７の厚みはその紫外線による硬化
度並びに基板の寸法、反り、硬度などにより最適条件が
決められ、通常１〜５μｍ、好適には１〜３μｍが適当
である。

上記透明樹脂層７を形成する場合、光磁気記録層３など
を形成する前に塗布形成するのがよく、これにより、上
記記録１ｉ３などを薄膜形成して基板Ｉの板面上に付着
したゴξなどが透明樹脂層７の形成に当たって混入する
ことがない。

また、本発明においては上記透明導電Ｎ７を種々の層構
成や型式の光磁気ディスクに採用することができ、添付
図面の層構成は一例である。

同図によれば、プラスチック基板１の材料としてポリカ
ーボネート樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ア
クリル樹脂、ポリオレフィンＭＢＨなどがある。

第１、第２誘電体層２．４の材料として窒化シリコン、
窒化アルミニウム、炭化シリコン、硫化カドミウム、窒
化チタン、硫化亜鉛、フッ化マグネシウム、酸化アルミ
ニウム、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化シリコ
ン、酸化カドミウム、酸化ビスマスなどがあり、これら
を単独でまたは組合わせて用いる。

光磁気記録層３は非晶質垂直磁化膜であり、その材料と
してＧｄＤｙＦｅ、　ＧｄＴｂＦｅ、　ＴｂＦｅＣｏ、
　ＤｙＦｅＣｏ。

ＧｄＴｂＤｙＦｅ、　ＧｄＴｂＦｅＣｏ、　ＴｂＤｙＦ
ｅＣｏ、　ＧｄＤｙＦｅＣｏなどがある。

金属保護層５の材料としてＡｊ！、　Ｃｒ、　Ｔｉ＋　
Ｃｕ＋Ａｇ、　Ａｕ、　５ＬＩＳなどが単独でもしくは
組合わせて用いられる。

樹脂保護層６にはエポキシ系、ポリエステル系、アクリ
ル系、アクリルウレタン系などの樹脂が用いられる。

尚、本発明は透明樹脂層を光磁気ディスク用基板の一生
面上に形成した点に特徴があるが、本発切者等は高透明
性並びに優れた導電性や硬度のいずれかの特性が要求さ
れる部位にも用いることができると考える。例えば樹脂
保護層６として用いてもよい。

〔実施例〕

次に実施例を述べる。

マグネトロンスパッタリング装置にポリカーボネート樹
脂基板を配置し、該基板の上に非晶質のイツトリウムサ
イアロン層（窒化シリコンを主成分とし、これにイツト
リウム原子、アルミニウム原子及び酸素原子を含むＮ）
を９２０人の厚みで形成し、続けてＴｉ原子を含む非晶
質ＧｄＤｙＦｅ垂直磁化膜（組成式（（Ｇｄｏ、　６ｓ
ＤＶｏ、　ｚｓ）　ｏ、　ｚａＦｅｏ、６）　ｏ、　ｑ
ｅＴｉ。、。２）を２００人の厚みで形成し、更に上記
イ・７トリウムサイアロン層を３００人の厚みで形成し
た。

次いでＡｘ金属層を８００人の厚みで形成し、然る後、
スピンコーティング装置を用いて紫外線硬化型樹脂保護
層（大日本インキ側製のアクリル系樹脂：商品名５Ｄ−
１７）を３μｍの厚みで塗布形成した。

そして、基板の他主面上にスピンコーティング装置を用
いて透明樹脂層を３μｍの厚みで塗布形成した。

この塗布形成に当たっては、前記樹脂（ＳＤ−１７）に
溶剤として少量のブタノールを加え、更に粒径１μｍ以
下のｓｂ含有ＳｎＯ□フィラー（触媒化成■製：商品名
ＥＬＣＯＭ　ＴＬ３５）を第１表に示す通り幾通りもの
比率で加え、十分に均一混合したものを用いた。尚、ブ
タノールはスピンコード中に揮発するため、塗布された
樹脂層を加熱しても硬度の変化が確認できなかった。

Ｃ以下余白〕 ト かくして得られたディスクＡ−Ｅ（！：透明樹脂層を形
成しないディスクＦについて、それぞれの透明樹脂層の
鉛筆硬度及び比抵抗並びに透明樹脂層の塗布形成前後に
おけるディスク自体のＢＥＲを測定したところ、第１表
に示す通りの結果が得られた。

ＢＥＲは記録ビットのなかの誤り率を示すものであり、
垂直磁化膜などを形成した後に塗布形成した透明導電層
のなかでゴミなどの付着していない非欠陥領域に対して
レーザー光を透過し、ＢＥＲ値を求めており、その測定
機器としてナカ藁チ■電気特性評価装置０Ｍ５２０００
システムを用いた。

同表に示す結果より明らかな通り、ディスクＣＤによれ
ば、鉛筆硬度Ｈ以上の高硬度な特性であり、しかも、高
い導電性の透明導電層を備えていることが判る。また、
両者のディスクともにＢＥＲが塗布前後で変化がなく、
透明性にも優れていることが判る。

また、各ディスクの透明樹脂層に対して工業用木綿ガー
ゼをこすり、故意に帯電させ、その層の上に埃を付着さ
せ、次いでブロアーによる空気の吹き付けでゴミの除去
状況を目視により観察したところ、ディスクＣ，Ｄは即
座に除去されたが、然るにディスクＥは付着したゴミが
ほとんど除去されなかった。

〔発明の効果〕

以上の通り、本発明の光磁気ディスクによれば、プラス
チック基板の一主面上にアンチモン含有の酸化スズから
成る導電フィラーを所定量含有した樹脂を塗着したこと
により、その透明樹脂層が高い表面硬度と優れた光透過
性を備え、しかも、帯電防止効果にも優れており、その
結果、高品質且つ高信頼性の光磁気ディスクを提供する
ことができた。

・透明樹脂層

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 一方の主面上に光磁気記録層を形成したプラスチック基
   板の他方の主面上にアンチモン含有の酸化スズから成る
   導電フィラーを３〜１１％の範囲で含有した透明樹脂を
   塗着せしめたことを特徴とする光磁気ディスク。