JPS5965929A - 磁気記録媒体及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は磁気記録媒体及びその製造方法に関する。一層
詳細には、電気メッキ、化学メッキ、真空蒸着、スパッ
タリング、イオンブレーティング等により支持体上に強
磁性薄膜を形成させた薄膜型磁気記録媒体にバックコー
トすることにより摩擦係数を低下させ、蒸着面のカール
を押えた磁気記録媒体及びその製造方法に関する。

現在、磁気テープはオーディオ、ビデオ、コンピュータ
ーの分野で広範囲に使用されるようになってきた。それ
に伴い、媒体に記録する情報頃も年々増加し、媒体には
記録密度の高いことがます磁気ヘッドを用いる現在の記
録方式においては、テープ−ヘッド間のスペーシング損
失は５４．６Σ（ａＢ）（ａ：テープ−ヘッド間距離、
λ：記録波長）で表わされる。この式かられかるように
、記録密度の高い短波長記録においては、スペーシング
による出力低下の割合が長波長のそれより著しく大きく
なる。従って、小さな異物がテープ表面上にあっても、
それがドロップアウトとして検出されることになる。

ドロップアウトの原因として考えられるのは、くり返し
応力がかかることによる塗膜の劣化から生ずる磁気テー
プ塗膜表面の磁性粉脱落あるいは、走行中にベースが削
り取られたものや、ホコリ等が静電的にベース面に付着
しさらにそれが塗膜面に転移したものが挙げられる。こ
れらを防止するため、例えば後者の原因に対しては、磁
気テープの磁性面と反対の支持体表面（バンク面）＆こ
、カーボンブラックあるいはグラファイト等を有機バイ
ンダーとともに混練した塗料を塗布したものや帯電防止
剤を塗布する等によりベースの帯電現象を少なくする、
あるいは酸化琺素等を有機バインダーとともに混練した
塗料を塗布し、ベースの強靭化をはかりベースの削れを
少なくする等の方法が考案されている。これらの処理に
より、くり返し走行に対するドロップアウト増加の傾向
はかなり抑えることができる。しかしながら、そのレベ
ルは、現状ではまだ完全とは言えず、さらに少なくする
必要がある。

ドロップアウトをさらに少なくするため、その発生原因
を詳細に調べた結果、次の様なことがわかった。

バック層は走行回数を増してもドロップアウトが増加し
ないよう強靭であることが要求されるから、通常、熱硬
化型樹脂が結合剤として使用される。その場合、バック
層が塗布された後、テープは巻き取られ、熱硬化処理が
施されることになる。

しかし、塗布が終った時点においては、バンク層中では
まだ硬化反応が始まっておらずその塗膜は弱く、しかも
バック面と磁性面とは密着状態であるため、バック層塗
膜中に充填されたカーボンブラック、グラファイト、あ
るいは他の無機充填剤を含んだバック面塗膜表面は、そ
れが接触している反対側の磁性層表面に転移し易く、そ
の転移したものがドロップアウトやヘッド目づまりの原
因となっていることがわかった。一方、バック層を磁性
層よりも先に塗布した場合も、バック層がベース而に転
移し易く、その転移したものが同様にドロップアウトや
ヘッド目づまりの原因となっていることがわかった。ま
たこの現象は熱可塑性樹脂であっても同様な現象が起り
つると考えられる。

バック層を設けることにより、くり返し走行によりドロ
ップアウトの増加を抑えることはできるが、走行回数の
少ない段階においてドロップアウトがそれ程低くないの
はこの理由のためである。

本発明は、バック層形成工程での上記のような不具合を
解消するため、放射線感応樹脂（放射線の照射で硬化し
つる樹脂）をバインダーとしてカーボンブラックまたは
グラファイトあるいは他の無機充填剤と混練した塗料で
バック層を形成した後活性エネルギー線源により放射線
を照射し、硬化処理を施すか、あるいはそのまま表面処
理を行った後硬化処理を施し、バック層中に三次元架橋
を生じさせ、強靭な塗膜とした後、そのテープを巻き取
ることにより、上記のような原因によるドロップアウト
を減少させるものである。この方法によれば、バック層
と磁性層のいずれかの塗布が先であっても、テープが巻
き取られるのは塗膜の性層への転移は起きない。

本発明で用いる放射線感応樹脂とは、放射線によりラジ
カルを発生し架橋構造を生じるような、分子鎖中に不飽
和２重結合を２個以上含むものであり、これはまた熱可
塑性樹脂を放射線感応変性することによっても可能であ
る。

放射線感応変性の具体例としては、ラジカル重合性を有
する不飽和二重結合を示すアクリル酸。

メタクリル、酸あるいはそれらのエステル化合物のよう
なアクリル系二重結合、ジアリルフタレートのようなア
リル系二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不
飽和結合等の放射線照射による架橋あるいは重合乾燥す
る基を分子中に導入することである。

その低放射線照射により架橋重合する不飽和二重結合で
あれば用いる事が出来る。

放射線感応樹脂に変性できる熱可塑性樹脂を以下に示ず
。

（１）塩化ビニール系共重合体 塩化ビニール−酢酸ビニール−ビニールアルコール共重
合体、塩化ビニール−ビニルアルコール共重合体、　１
ｍ化ヒニールービニルアルコーループロピオン酸ビニー
ル共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−マレイン酸
共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−末端０Ｈｌｌ
Ｊｉｌｌアルキル基共重合体、たとえばＵＣＣ社ｙＲｏ
Ｈ，Ｖ’ＹＮＣ，（ｖＹＥＧＸ等またＵｃｃ社ＶＥＲＲ
等が挙げられる。

上記共重合体に後に述べる手法により、アクリル系二重
結合、マレイン酸系二重結合、アリル系二重結合を導入
し・放射線感応変性を行う。

（ＩＩ）飽和ポリエステル樹脂 ７タル酸、イソフクル酸、テレフタル酸、コハク酸、ア
ジピン酸、セバシン酸のような飽和多塩基酸とエチレン
グリコール、ジエチレングリ：７−ル、グリセリン、ト
リメチロールプロパン。

１．２プロピレングリコール、ｌ、３ブタンジオール、
ジプロピレングリフール、１，４ブタンジオール、１，
６ヘキサンジオール、インクエリスリット、ソルビトー
ル、グリセリン、ネオペンチルグリコール、ｌ、４シク
ロヘキサンジメタツールのような多価アルコールとのエ
ステル結合により得られる飽和ポリエステル樹脂又はこ
れらのポリエステル樹脂を５ｏ３Ｎａ等で変性した樹脂
（バイロン５３Ｓ）。これらを後に述べる手法により放
射線感応変性を行なう。

ｍ）不飽和ポリエステル樹脂 分子鎖中に放射線硬化性不飽和二重結合を含有するポリ
エステル化合物、例えば第（Ｌ）項の熱可塑性樹脂とし
て記載の多塩基酸と多価アルコールのエステル結合から
成る飽和ポリエステル樹脂で多塩基酸の一部をマレイン
酸としか放射線硬化性不飽和二重結合を含有する不飽和
ポリエステル樹脂、プレポリマー、オリゴマーを挙げる
ことができる。

飽和ボＩＪ　エステル樹脂の多塩基酸および多価アルコ
ール成分は第（１）項に記載した各化合物を挙げること
ができ、放射線硬化性不飽和二重結合としてはマレイン
酸、フマル酸等を挙げることができる。

放’Ｊ、１線硬化性不飽和ポリエステル樹脂の製法は、
多塩基酸成分１種以上と多価アルコール成分１種以上に
マレイン酸、フマル酸等を加え常法、すなわち触媒存在
］、　８０〜２００°Ｃ窒素テ囲気下脱水あるいは脱ア
ルコール反応の後、２４０〜２８０°Ｃまで昇温し、０
．５〜１　ｍｍ　Ｈｇ　　の減圧下縮合反応によりポリ
エステル樹脂を得ることができる。マレイン酸やフマル
酸等の含有量は、製造時の架橋。

放射線硬化性等から酸成分中１〜４０モル％で好ましく
は１０〜３０モル％である。

（■）ボリヒニルアルコール系樹脂 ボリヒニルアルコール、ブチラール樹脂、アセタール樹
脂、ポルマール樹脂及びこれらの成分の共重合体。これ
ら樹脂中に含まれる水酸基を後に述べる手法により放射
線感応化変性を行なう。

（■）エポキシ系樹脂、フェノキシ樹脂ビスフェノール
Ａとエピクロルヒドリン、メチルエピクロルヒドリンの
反応によるエポキシ樹脂−シエル化学製（エピフート１
５２，１．５４゜８２８、　］、ｏｏ１，１００４．１
００７）ダウケミカル製（ＤＥＮ４３１．ＤＥＲ７３２
，Ｉ）ＥＨ１１，１゜ＤＥＲ３３１）、人１：１本イン
キ製（エピクロン４００゜エピクロン−５ＯＯ）、更に
上記エポキシの高重合度樹脂であるＵＣＣ社製フェノキ
シ樹脂（Ｐ　Ｋ　ＨＡ　。

ＰＫＨＣ！、ＰＫＨＨ）臭素化ヒスフェノールＡとエピ
クロルヒドリンとの共重合体２人に１本インキ化学工業
製（エピクロン１４５，１５２，１５３゜１１２０）等
。

これら樹脂中に含まれるエポキシ基を利用して、放射線
感応変性を行う。

（Ｖｌ）繊維素誘導体 各種分子量の繊Ｍｔ、素系誘導体も、また熱可塑性プラ
スチック成分として効果的である。その中でも、特に効
果的なものは關化綿、セルロース゛アセトブチレー１−
　、エチルセルローズ、ブチルセルローズ、アセチルセ
ルロース等が好適であり、樹脂中の水酸基を活用して後
に述べる手法により放射線感応変性を７１なう。

その他、放射性感応変性に用いることのできる樹脂とし
ては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステル
樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂及び誘導体（ＰｖＰオ
レフィン共重合体）、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂
、フェノール樹脂。

スピロアセタール樹脂、水酸基を含有するアクリルエス
テル及びメタクリルエステルを少なくとも一種以上重合
成分として含むアクリル系樹脂等も有効である。

さらに」二記放射線感応変性熱可塑性樹脂に熱可塑性エ
ラストマー又はプレポリマーをブレンドすることにより
、一層強靭な塗膜とすることができる。さらに、下記に
述べるように、これらエラストマーあるいはプレポリマ
ーが、同様に放射線感応性に変性された場合は、より効
果的である。以下に、」二記放射線感応樹脂と組み合わ
せることのテキルエラストマー又はプレポリマーを挙げ
る。

（１）ポリウレタンエラストマー及びプレポリマー及び
テロマー ポリウレタンエラストマーの使用は、耐摩耗性。

ＰＥＴフィルムへの接着性が良い点て特に有効である。

このようなウレタン化合物の例としては、イソシアネー
トとして、２，４−トルエンジイソシアネ−）’、２．
６４ルエンジイソシアネー１’　＋　　１−　＋　３−
キシレンジイソシアネート、１，４−キシレンジイソシ
アネート、ｌ、５−ナフタレンジイソシアイ・−）、ｍ
−フェニレンジイソシアネート、Ｐ−フエニレンジイソ
シアネー）、３．３’−ジメチル　４，４′−ジフェニ
ルメタンジイソシアネ−１・、４，４．’−ジフェニル
メタンジイソシアネート、　３．３’−ジメチルビフェ
ニレンジイソシアネート、　４．４’−ビフェニレンジ
イソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イ
ンフオロンジイソシアネー１・、ジンクＩＪ−，ギンル
メタンジイソシアネート、テスモシュール■１．テスモ
ジュールＮ等の各種多価イソシアネートと・線状飽和ポ
リエステル（エチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、グリセリン、トリメチロールブロノ（ン、１．４−
ブタンジオール、１，６−ヘキジンジオール、ペンタエ
リスリット、ソルビト−ル、ネオペンチルグリコール、
１，４−シクロヘキザンジメタノールの様な多価アリコ
ールと、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、コハ
ク酸、アジピン酸、セバシン酸　の様な飽和多塩基酸と
の縮重合によるもの）、線状飽和ポリエーテル（ポリエ
チレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテ
トラエチレングリコール）やカプロラクタム、ヒドロキ
シル含有アクリル酸エステル、ヒドロキシル含有メタア
クリル酸エステル等の各種ポリエステル類の縮重合物よ
り成るポリウレタンエラストマー、プレポリマ〜、テロ
マーが有効である。

これらのエラストマーを放射線感応性の各種熱可塑性プ
ラスチックスとそのまま組合せても良いが、史にウレタ
ンエラストマーの末端のイソシアネート基又は水酸基と
反応するアクリル系二重結合又はアリル系二重結合等を
有する弔量体と反応させることにより、放射線感応′ｌ
／１．に変性することは非常に効果的である。

（ＩＩ）アクリルニトリル−ブタジェン共重合エラスト
マー シンクレアベトロケミカル社製ポリＢＤリクィットレジ
ンとして市販されている末端水酸基のあるアクリロニト
リルブタジェン共重合体プレポリマー、あるいはＨ本ゼ
オン礼製ハイカー１４３２Ｊ等のエラストマーは、特に
ブタジェン中の二重結合が放射線によりラジカルを生し
架橋及び重合させるエラストマー成分として適する。

（Ｉｎ）ポリブタジェンエラストマー シンクレアベトロケミカル社製ポリＥＤリクィッドレジ
ンＲ−１５等の低分子量末端水酸基を有するプレポリマ
ーが特に熱可塑性樹脂との相溶性の点で好適である。Ｒ
−１５プレポリマーにおいテハ分子−末端が水酸ノ山と
なっているため分子末端をアクリル系小飽和二屯結合を
（＝Ｊ加することにより放射線感応性を高Ｖ）ることが
ｉ＋Ｊ能てあり、バインダーとして史にイ１刊となる。

また、ポリブタジェンの環化物１１本合成コム製Ｃ’Ｊ
３　Ｒ−Ｍ　９０１も熱可塑性樹脂との組合せによりす
ぐれた性能を発揮する。特に、環化されたポリブタジェ
ンは、ポリブタジェン本来のイｊ”する不飽和結合のラ
ジカルにより放射線による架橋重合の効率が良く、バイ
ンダーとして優れた性質を有している。

その低熱用塑性ニジストマー及びそのプレポリマーの系
で好適なものとしては、スチレン−ブタジェンコノ＼＋
塩化ゴム、アクリルゴム、イソプレンゴム及びその環化
物（ＩＡ本合成ゴム製ＣｌＲ７０１：があり、エボギシ
変性ゴム、内部ＩＩｆ塑化胞化飽和線状ポリエステル洋
紡バイロン４ＰＬ３０ｏ）、等のエラストマーも下記に
述べる放射線感応変性処理をほどこすことにより有効Ｇ
こ利用できる。

次に、放射線感応性バインダー合成例を説明する。

トリレンジイソシアネートのアグクトの製法ａ）塩化ビ
ニール酢酸ビニール共重合系樹脂（放射線感応変性樹脂
）のアクリル変性体の合成ビニライトＶＡＧＨ’７５０
部とトルエン」２５０部シクロへキサノン５００部を５
ノ４つ１−１フラスコに仕込み加熱溶解し、８０°Ｃ昇
ｎ１Ｍ後トリレンジイソシアネートの２−ヒト１ツキジ
エチルメタアクリレ−ドアタクトを６１．４部加え、更
にオクチル酸スズ０．０１２部、ハイドロキノン０．０
１２部加え８００ＣてＮよ気流中ＮＣＯ反応率か９０％
となるまで反ｂｄ：せしめる。反応終了後冷却し、メチ
ルエヂルヶトン１２５０部を加えイや釈する。

Ｘトリレンジイソシアネ−１−（Ｔ　Ｄ　１．　）の２
−ヒトロギシエチルメタアクリレ−１・（２ＨＥ　Ｉｖ
ｌＯアダクトの製法 トリレンジイソシアネ−１・３４５部をＮＬ気流中１）
の４つ［１フラスコ内で８０°Ｃに加熱後、２−ヘキサ
エチレンメタアクリレート２６０部、オクチル酸スズ０
．０７部、ハイドロキノン０．０５部を反応缶内の温度
が８０〜８５°Ｃとなるように冷却コントＩＪ−ルしな
から滴下終了後８０°Ｃで３時間攪拌し反応を完結させ
る。反応終了後取り出して冷却後白色ペースト状のＴ　
Ｄ　工の２ＨＥＭＡを得た。

ｂ）ブチラール樹脂アクリル変性体の合成＜放射線＋６
１＋ｉ；変性樹脂） ブチラール樹脂積水化学製ＢＭ−３１００部をトルエン
１９１　、２部シクロへキサノン７１　、４　部Ｌ５ノ
４つ［１フラスコに仕込み加熱溶解し８００Ｃ昇濡後ト
リレンジイソシアネートの２−ヒドロキシエチルメタア
クリレートアダクトを７．４部加え、更にオクチル酸ス
ズ０．０１５部、ハイドロキノン０．０１５部を加え、
８０°ＣでＮ、気流中ＮＣｏ反応率が９０％以上となる
まで反応せしめる。反応終了後冷却しメチルエチルケト
ンにて叶釈する。

Ｃ）飽和ポリエステル樹脂アクリル変性体の合成（放射
線感応変性樹脂） 東洋紡製バイロンＲＶ−２００１００部をトルエン１１
６部、メチルエチルケトン１１６部に加熱溶解し８００
Ｃ昇濡後ＴＤ工の２ＨＥＭＡアダクトを３＝４５５ｍ加
え、オクチル酸スズＯ、ＯＯ’７ｍ、ハイドロキノン０
．００部部を添加し、Ｎ２気流中８０００でＮＣＯ反応
率９０％麿上となるまで反応せしめる。

ｄ）エポキシ樹脂アクＩＪ　／し変性体の合成（放射線
感応変性樹脂） シェル化学製エピコート〕、ｏｏワ　４００部をトルエ
ン５０部ＭＥＫ５０部に加熱溶解後Ｎ　Ｎ−’；メチル
ベンジルアミンｏ、ｏｏ６部、ハイドロキノン０．００
３部を添加し８００Ｃとし、アクリル酸６９部を滴下し
８００Ｃで酸価５以下となるまで反応せしめる。

ｅ）ウレタンエラストマーアクリル変性体の合成（放射
線感応エラストマー） 末端インシアネートのジフェニルメタンジイソシア＊−
）　ＣＭＤＩ　）Ｊウレタンプレポリマ一本ポリウレタ
ン製ニツボラン４０４０）２５０部、２ＨＥＭＡ３２．
５部、ハイドロキノンＯ、０７部、オクチル酸スズ０．
００９部を反応缶に入れ、８０。

Ｃに加熱溶解後ＴＤ工４３．５部を反応缶内の温度が８
０〜９０°Ｃとなる様に冷却しながら滴下し、滴下終了
後８０°ＣでＮＣＯ反応率９５％以上となるまで反応せ
しめる。

ｆ）ポリエーテル系末端ウレタン変性エラストマーアク
リル変性体の合成（放射線感応エラストマー） 日本ポリウレタン社製ポリエーテルＰＴＧ−５００２５
０部、２ＨＥＭＡ３２，５部、ハイドロキノン０、ＯＯ
’７部、オクチル酸スズ０．００９部を反応缶に入れ８
００Ｃに加熱溶解後ＴＤ工４３．５部を反応缶内の湿度
が８０〜９０°Ｃとなるように冷却しながら滴下し、滴
下終了後８０°ＣでＮＣＯ反応率９５％以上となるまで
反応せしめる。

ｇ）ポリブタジェンエラストマーアクリル変性体の合成
（放射線感応エラストマー） シンクレアベトロケミカル社製低分子量末端水酸基ポリ
ブクジエンポリＢＤリクイットレジンＲ−１５　　２５
０部、２ＨＫＭＡ３２．５部、ハイドロキノン０．００
７部、オクチル酸スズ０．００９部を反応缶に入れ・８
００Ｃ！に加熱溶解後Ｔ’Ｄ１４３．５部を反応缶内の
温度が８０〜９０°Ｃとなるように冷却しながら滴下し
、滴下終了後８００ＣでＮＣＯ反応率９５％以上となる
まで反応せしめる。

以上の変性体の他に高分子には放射線照射により崩壊す
るものと分子間に架橋を起こすものが知られている。分
子間に架橋を起こすものとしては、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリスチレン。

ポリアクリル酸エステル、ポリアクリルアミド。

ポリ塩化ビニル、ポリエステル、ポリビニルピロリドン
ゴム、ポリビニルアルコール、ポリアクロレインがある
。この様な架橋型ポリマーであれば上記のような変性を
特に施さなくても、架橋反応が起きるので、そのまま放
射線架橋用バックコート樹脂として使用可能である。

さらにまた、この方法によれば溶剤を使用しない無溶剤
型の樹脂であっても短時間で硬化することができるので
、この様な樹脂をバックコート川として用いることもで
きる。

また、本発明のバンクコートの架橋に使用する活性エネ
ルギー線としては、放射線加速器を線源とした電子線、
　Ｃｏ″を線源とした　ｒ−線、　Ｓｒ”を線源とした
β−線、Ｘ線発生器を線源としたＸ−線あるいは紫外線
等か使用される。

特に開削線源としては吸収線量の制御、製造工程ライン
への導入、電離放射線の遮閉等の見地から放射線加熱器
により放射線を使用する方法が有利である。

バンク層を硬化する際に使用する放射線特性としては、
透過力の面から加速電圧１００〜’７５０ＫＶ好ましく
は１５０〜３００　ＫＶの放射線加速器を用い吸収線Ｉ
Ｌを０．５〜２０メガラッドになるように照射するのが
好都合である。

本発明のバック層硬化に際しては、米国エナージーサイ
エンス社にて製造されている低線量タイプの放射線加速
器（エレクトロカーテンシステム）等がテープコーティ
ング加エラインへの導入、加速器内部の２次Ｘ線の遮蔽
等に極めて有利である。

もちろん、従来より放射線加速材として広く活用されて
いるところのファンデグラフ型加速器を使用しても良い
。

また、放射線架橋に際しては、ＮＬガスＨｅガス等の不
活性ガス気流中で放射線をバック層に照射することが重
要であり、空気中で放射線を照射することは、バインダ
ー成分の架橋に際し放射線照射により生じたＯＪ等の影
響でポリマー中に生じたラジカルが有利に架橋反応に働
くＩＪ１を阻害するので極めて不利である。

従って、活性エネルギー線を照射する部分の雰囲気は、
特に酸素濃度が最大で５％のＮＬ、Ｈｅ。

ＣＯ，等の不活性ガス寄囲気に保つことが重要となる。

また、本発明でバック層中に」二記結合拐とともに使用
される充填材としては、導電性のある、ｌ）グラファイ
ト、カーボンブラック、また２）無機充填材としては、
Ｓｉｎ、、　Ｔｉｅ、、　ＡコＪＯｊ＋　Ｃｒ２Ｏ３，
５ｊ−Ｃ，Ｃａ、ＣＯ，。

酸化亜鉛、ゲーサイト、αＦｅ、０１．タルク、カオリ
ン＋　ＯａＳ’０４．　窒化、ｆＪＪＩ素、テフロン粉
末、フッ化黒鉛、二硫化モリブデンがある。この様な充
填材の使用量はｌ）に関してはバインダー１００重は部
に対して２０〜１００部、又２）に関しては１０〜３０
０部が適当であり、充填材量があまり多くなると、塗膜
がもろくなり、かえってドロップアウトが多くなるとい
う欠点が生じる。

さらに、この様なバック層を設けるべき磁気テープとし
ては、オーディオテープ、ビデオテープ。

コンピューター用テープ、エンドレステープがあルカ、
中でも、ドロップアウトが最も重要な特性の１つである
ビデオテープ・コンピューター用テープに用いることは
かなり有効である。

なお、強磁性薄膜磁気記録媒体は、電気メッキ。

化学メッキ、真空蒸着、スパッタリング、イオンブレー
ティング等によって得られるが真空蒸着法による場合を
示すと、コバルト／ニッケル（原子比８／２）の合金イ
ンゴットを準備し、真空蒸着法ニより長尺の強磁性薄膜
をポリエチレンテレフタレートのベースの上に形成する
。蒸着は電子線加熱により行ない、中心入射角が７０°
のいわゆる斜め蒸着法を採用する。ベースフィルム冷却
用に円筒キャンを用い、冷却温度を５°Ｃに保つ。真空
槽を３　Ｘ　１０−’　Ｐａまで排気し、これに酸素ガ
スを圧力が６．３×ｌＯ−’Ｐａになるまで導入して蒸
着を行なう。電子銃に与えるパワーとベースフィルムの
駆動速度を調整することによって膜厚が約８００人とな
るようにする。

このようにして得られる強磁性薄膜は保磁力が約１００
００ｅ、Ｂｒ　が約８０００Ｇとなりビデオ用の磁気記
録媒体として好都合なものが得られる。

以下、本発明の実施例について述べる。

実施例１゜ カーボンブラック （試作品）　　　　　　　　　　　　　　３０部アクリ
ル変性ポリウレタンエラストマー（試作品）　　　　　
　　　　　　　　　２０部混合溶剤（Ｍより　Ｋ　／　
）ルエン＝１／］、）　　３００部上記混合物をボール
ミル中５時間分散させ、磁性面が形成されているポリエ
ステルフィルムの裏面に乾燥厚３μになるように塗布し
、エレクトロカーテンタイプ電子線加速装置を用いて加
速’ｆｕ　ＩＪ・、’１５０ＫＶ、電極電流１０ｍＡ、
吸収線量１０　Ｍ　ｒａｄ。

Ｎ７ガス中で電ｒ−線をバック層に照射し、硬化を行っ
た後巻き取り、ｌ／２′ビテオｌ１ｌｆｆｌに切断し、
ｖＨＳテ’７　キ＆、−てｌ’　ｏツブアウトを４川定
した。このサンプルをＡ　］とする。

実施例２゜ Ｓｉｎ、（粒径２Ａ）　　　　　　　　　　　　　　５
０部アクリル変性塩ビー酢ビ−ビニルアルコール共重合
体（試作品）　　　　　　　　　　　　　　　３０部ア
クリル変性ポリウレタンエラストマー（試作品）　　　
　　　　　　　　　　　　２０部混合溶剤　　　　　　
　　　　　　　　３００部上記混合物を実施例１と同様
に調製し、サンプルＡ２を得た。

実施例３ カーボンブランク“′旭Ｈ８５００旭カーボン（株ト５
０部 アクリル変性ポリエステル樹脂 （試作品）　　　　　　　　　　　　　　　６０部混合
溶剤　　　　　　　　　　　　　　３ＯＱ部上記混合物
を実施例１と同様に調製しサンプルＡ３をイ４１だ。

実施例４゜ カーボンブラックＩＩ、市Ｈ８５００旭カーボン（株）
２５０部 アクリル変性ポリウレタンエラストマー（試作品）　　
　　　　　　　　　　　　　３０部塩化ビニル−酢酸ビ
ニルーヒニルアルコール共ｔｆｉ、合体（Ｕ、０．Ｃ！
、ＶＡＧＨ）　　　　　　　　　７０部混合溶剤　　　
　　　　　　　　　　　３００部上記混合物を実施例１
と同様に調製し、サンプル／Ｉ６４を得た。

比較例１゜ カーボンブラック゛′旭Ｈ８５００”　　　　　　　５
０部塩ビー酢ヒービニルアルコール共重合体　　　　３
０部（Ｕ、　Ｏ，Ｃ，ＶＡＧＨ） ポリウレタンエラストマー　　　　　　　　　　　２０
部（８本ポリウレタンＮ５Ｕ３３　） 混合溶剤　　　　　　　　　　　　　　３Ｑｏ部上記混
合物を実施例１と同様に塗料化を行った後、イソシアネ
ート（日本ポリウレタン、コロネ−）Ｌ）を１．０部加
え、乾燥厚３１になるように塗布した。その後、６００
Ｃ中に２４時間放１行、熱硬化処理を施した後、ｌ／２
′にすＪ断じた。これをサンプル／１６．５とする。

比較例２゜ 実施例及び比較例１て用いたバンクコートがされていな
い磁気テープをサンプル／７６６とした。これは、ＶＨ
３用ビデオテープてあり、ポリエステルフィルム上に磁
性塗膜がコーティングされたものである。

−に記ザンブルのドロップアウトの結果を表１に示ずＯ
表１ 一上 ２００Ｃ６０％ＲＨ，ＶＨＳデツキ 表１かられかるように、放射線硬化処理が施されたサン
プルＡ１〜Ａ４は通常の熱硬化タイプの７％　５よりは
るかにドロップアウトは少ない。

さらに、図１に走行回数とドロップアウトの関係を示す
。

ｉｌｌから、バンクコートが施されているサンプルは走
行回数に対するドロップアウトの増加傾向が未処理のも
のに対してはるかに少ないことがわかる。また放射線硬
化処理サンプルは従来の熱硬化サンプルと比較しても、
初期のドロップアウトの低さがそのまま維持されており
、１００回走行後も低い値となっている。

この様なバンク層形成方法においても、従来から使用さ
れている分散剤、潤滑剤は同様に使用することができる
ことはもちろんである。また、ＶＨＳデツキにてＦＦ走
行後のテープの巻き姿の程度を表２に示す。

表２ 優・良・ＩＩＩ　、不可の４段階１；・）ｉ価この結果
から、カーボンブラックを配合したものは極めて巻き状
態が良く蒸πを而のカールが押えられ、また、ＳｉＯ□
を添加したものについても、バックコートされていない
ものより良い結果となつている。

汀）１００個数の測定法 ４１φＨ７の１ｉｔ−（Ｈ：ｉじ″を記録し、再生した
場合の信号か、゛ト均再生しベルより１８　ｄ、　Ｂ以
」二低下する時間が１５．ｔ１秒以上であるものの個数
を数えた。

以上本発明につき好適な実施例を挙げて種々説明したが
、本発明はこの実施例に限定されるものではなく、発明
の精神を逸脱しない範囲内で多くの改変を施し得るのは
もちろんのことである。

特許出願人 東京電気化学工業株式会社 図　　面 走行回数 手続補正書 昭和５７年１１月７．ｆ〔φ 特許庁長官ンー杉和夫　殿 ］　事件の表示 昭和　５７年特　許　　１第１７５８２５　　号２、発
明の名称 ３、補正ｋ　ｔ−６％″′Ｓ″ＣＥ′ＩＪ　＋　１７）
　’ｍ　ｉｎ　ｊｊ　Ｍ事件との関係　特許出願人 ４代理人 ８　補正の内容 別紙の通り ８、補正の内容 ｌ）明細書第３１頁第９行目と第１０行目の「・・・・
もちろんのことである。」と「特許出願人」との間に次
の文章を挿入する。

［４、図面の簡単な説明 第１図は走行回数とドロップアウトの関係を示すグラフ
である。」 ２）図面は別紙の通り補正する。

媚１１２］ 走行回数 月目糸六ネ市正書（２）　　後記号なし゛昭和５８年　
６月２４日 特許庁長官　若杉　和夫殿 ■、事１’ｌの表示 昭トロ５７年特許願第１７５８２５号 ２、発明の名称 磁気記録媒体及びその製造方法 ３、補正をする者 事件との関係特許出願人 （ＩＪｉ東京都中央区日本４１１丁目１３番１号４、イ
（■臥 自発 ８、補正の内容 ■）明細書第４頁第１行目の「蒸着面のカールを押え」
を「強磁性薄膜面のドロップアウトを減少させ」と補正
する。

２）明細書第４頁第７行目の１要求されるようになった
。」の後に次の文章を加入する。

「その種類として、ビデオテープ、コンピュータテープ
、高性能オーディオテープ、多重コードテープ、磁気デ
ィスク、フロッピィディスク。

磁気カードなどの磁気記録媒体がある。」３）明細書第
５頁第１１行目、第１２行目、第１４行目に「塗膜」と
あるのをそれぞれ「金属薄膜」と補正する。

４）明細書第５頁第１２行目の「磁性粉脱落」を「薄膜
削れ」と補正する。

５）明細書第８頁第６行目の「塗布」を「形成」と補正
する。

６）明細書第２３頁第４行目の１照剤線源」を「照射線
源」と補正する。

７）明細書第２６頁第１８行目の「３μ」を「０．１μ
」とン市正する。

８）明細書第３０頁第７行目と第８行目の間に次の文章
を挿入する。

［実施例５ Ｓｉ０□　　　　　　　　　　　　　２０部アクリル変
性ポリウレタンエラスストンー４０部 塩化ヒニル、酢酸ビニルアルコール共！　合体６０部 第三級アミン　　　　　　　　　１００部ヘンジインエ
チルエーテル　ｏ、ａ部混合溶剤　　　　　　　　　　
　６００部上記組成物を紫外線照射した。塗布厚が１μ
になるようにした。

′本実施例においてもドロップアウトの結果は良好であ
った。また感度は＋１．０　ｄＢであった。なお、５ｉ
０２を増加させていくと、電磁変換特性も低下し、２０
０重量部を越えると塗膜がもろくなることがわかった。

２００重量部以内なら、感度が＋０．４　ｄＢ以上であ
り、良好であった。」 −１８９−

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、支持体の一力の面に強磁性薄膜を形成し、他方の而
   にバック層を設けた磁気記録媒体において、バンク層か
   放射線感応硬化性樹脂を含む結合相中に充填材を分散し
   硬化したものであることを特徴とする磁気記録媒体。 ２、充填材か、カーボンブラック、クラファイト等の導
   電物質の粉末である第１項記載の磁気記録媒体。 ３、充填材が、Ｓｊ、（Ｊ、　、　Ｔｉｅ、　、　Ａｌ
   、　０３　、　Ｏｒ、　Ｏ。 Ｓｊ、Ｃ、Ｃｅ０Ｌ、　ＣａＣ０Ｊ、酸化亜鉛、ゲーサ
   イト。 αＦｅｚＯ３’　、タルク、カオリン、　＋ＥａＳ％　
   、窒化、ＩＭ素、テフロン粉末、フン化黒鉛、二（ｉｉ
   ｆＵ化モリフテン、ジルコニアなどの高靭性材料の粉末
   である第１項記載の磁気記録媒体。 ４、充填材が、カーボンブラック、グラファイト等の導
   電物質の粉末と、５ｉ０２　、　ＴｉＯ２。 ＡＩ、２０３　、　Ｏｒ、ｚ　０３．５ＩＣｒ　　０ｅ
   Ｏｚ　＋　ＣａＣＯ３、酸化亜鉛、ゲーサイ＋−、αＦ
   ｅ２Ｏ，、タルク、カオリン、　ＣａＳＯ４，窒化薄素
   、テフロン粉末、フッ化１．二硫化モリブデン、ジルコ
   ニア　７１どの高物性材料の粉末とを含む第１項記載の
   磁気記録媒体。 ５、支持体の一方の面に強磁性簿膜を形成し、他方の面
   にバック層を設けた磁気記録媒体の製法に於いて、放射
   線感応硬化性樹脂を含む結合剤中に充填材を分散して、
   バック層とした後、活性エネルギー線を照射して、該感
   応樹脂を硬化することを特徴とする磁気記録媒体の製造
   方法。 ６　、　充填４′Ａが、グラファイト、カーボンブラッ
   ク等の導電物質の粉末である前記第５項記載の磁気記録
   媒体の製造方法。 ７、充填材が、５ｉｎＬ、　Ｔｉｅ、　、　Ａｌ２Ｏ，
   、０ｒＬＯ，。 ＳｉＣ，Ｃｅ０１　、　Ｃ！ａｃｏＪ、酸化１１ｊ鉛、
   ゲーサイト。 αＦｅｚＯ３、タルク、カオリン、　ＣａＳＯ４、窒化
   ＡＨ素、テフロン粉末、フフ化黒鉛、二硫化モリブデン
   、ジルコンなどの高靭性材料である第５項記載の磁気記
   録媒体の製造方法。 ８．充填利が、グラファイト、カーボンブランク等の導
   電物質の粉末と、３ｉ０Ｌ、　Ｔｉｅ、　。 ＡＩ、ＯＪ　　、　Ｃｒ、０３　　、　ＳｉＣ、Ｃｅ’
   ０１　、　Ｃａ、ＣＯ，、酸化；ｕｉ鉛、ゲーサイト、
   αＦｅＬ０３　＋タルク、カオリン、　ＣａＳＯ４、％
   Ｊ（Ｌｌｆｉｆｉ素、テフロン粉末、フッ化黒鉛、二硫
   化モリブデン、ジルコンナトの高靭性材料とを含む第５
   項記載の磁気記録媒体の製造方法。 ９、活性エネルギー線源として、１００〜７５０ＫＶの
   電子線加速器を用い、吸収線量が、０．５〜２０　Ｍｒ
   ａｄになる様にして、不活性気体中で照射する事を特徴
   とする、前記５，６．７又は８項記載の磁気記録媒体の
   製造方法。