JPS60125925A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は磁気記録媒体に関し、特にバックコート層を有
する磁気記録媒体に関する。

発明の背景 従来、磁気記録媒体として使用されて来た強磁性粉末と
しては、例えばγ−Ｆｅｚ　ＯＢ　、Ｆ　ｅ３　ｏ４等
があった。しかし、これら強磁性粉末の保磁力および最
大残留磁束密度等の磁気特性は高感度高密度記録用とし
ては不十分であり、約１μｍ以下の記録波長の短い信号
や、トラック幅の狭い磁気記録にはあまり適していない
。

このように磁気記録媒体に対する要求が厳しくなるにつ
れて、高密度記録に適する特性を備えた強磁性粉末が開
発され、或いは提案されている。

このような磁性粉末はＣｏ含含有−Ｆｅ１０Ｂ、Ｃ。

含有Ｆｅ、、Ｏａなど、或いはＦｅ、Ｃｏ、Ｆｅ−Ｃｏ
、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ等の金属または合金、
これらとＡＩ、Ｃｒ、Ｓｉ等との合金力どがある。かか
る磁性粉末を用いた磁気記録層は高密度記録の目的には
高い保磁力と高い残留磁束密度とを有する必要があり、
上記磁性粉末がこれらの基準に合致するように種々の製
造方法或いは合金組成を選択する必要がある。

本発明者は種々の合金粉末を用いて磁気記録媒体を製作
したところ、ＢＥＴ法による比表面積が４８　ｒｒｔ”
７ｇで、磁性層の保磁力が１，００００ｅ以上で、しか
も磁性層の表面粗度（ＴＡＹＬＯＲ−ＨＯＢＳＯＮ社製
タリス社製プリステップ法における２０点平均値。カッ
トオフ１１７訂、針圧２ＷＩ！。

針０．　Ｉ　Ｘ　２．５μを用いた。以下同じ）が０．
０８μｍ以下のときに、ノイズレベルが充分に低く、高
密度短波長の記録に適する磁気記録媒体が得られること
を見出した。

一方、同様な高密度記録の目的で強磁性金属薄膜をプラ
スチックベースに被着した磁気記録媒体も用いられてい
る。

電気メッキ、化学メッキ、真空蒸着、スパッタリング、
イオンブレーティング等の方法を用いた場合、形成され
る強磁性金属薄膜は１００チ金属あるいは合金であるた
めに高い記録密度を持ち得る。しかし上記の方法で強磁
性金属薄膜を形成した場合、表面粗度がα０１μｍ程度
に小さくできる反面支持体の表面状態が強磁性薄膜の表
面状態に強く影響を及ぼし、電磁変換特性に影響する。

またＣｏ含含有−Ｆｅ、０３やＣＯ含有Ｆｅ、０．粉末
の場合にも高密度記録の目的には比表面積が１８ｍ”／
ｇ以上で、磁性層の保磁力が３５００ｅ以上でしかも磁
性層の表面粗度が０．０８μ以下にするとすぐれた電磁
特性が得られる。

しかも、これらいずれの磁気記録媒体においても、支持
体としてはポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン
ナフタレート、ポリイミド、ポリアミド等のグラスチッ
クフィルムベースの厚さが益々薄くなる傾向があり、現
在のところ１１μ程度以下のものが検討されている。

ペースが薄くなると、媒体の腰がやわらかくなりすぎて
摩擦が高くなり、走行不良、巻乱れ、強度不足が生じる
。そのため、ベースの腰を強くし、走行性をおぎなう必
要も生じた。従来走行性を改善する手段として、磁性面
にトップコートをほどこす事もあるが、この場合、トッ
プコート面の潤滑剤が永続性がなかったり、高温保存下
で粘着を生じたりして問題となる。また磁性面は表面粗
度が良好となってきているので、トップコートをした場
合巻きしまりによる粘着を生じ好ましくない。

）：７プコ−トの代りに、ベース裏？１ｉＮＣバックコ
−トＭを施すことにより走行不良、巻乱れ、強度不足等
を解決することが広く行われている。

これらの走行不良、強度不足等の対策として、磁気テー
プの裏面にバックコート層を設けるコトが一般に広く行
なわれている。

従来技術の欠点 しかし従来のバックコート層を施した磁気テープの性能
は、必ずしも満足できるものではなく、次のような問題
点が指摘されている。

（イ）バックコートを施すことによるＳ／Ｎの低下（ロ
）空気を巻き込むことによるシンチング現象の発生 （ハ）　バックコート層の削れ に）長時間用磁気テープでのローディングまたは７　ン
ロ−ティング動作時のテープ損傷この従来の欠点を除去
するため、従来より、バックコート層の充填材として、
様々な無機顔料が提案されている。しかしながら、充填
すべき無機顔料の種類、硬さ、粒子サイズまたは形状等
を適切に選ぶことが困難で、バンクコート層としての効
果が損なわれるばかりか、逆に特性に悪影響を及ぼして
しまう等の問題があり、上記する従来からの課題を解決
することができなかった。

本発明は、上述する従来からの技術的課題を解決し、Ｓ
／Ｎが高く、シンチング現象、バックコート層の削れ及
びローディングまたはアンローディング動作時のテープ
損傷を防止できるようにしたバンクコート型の磁気記録
媒体を提供することを目自勺とする。

発明の説明 上記目的を達成するため、本発明はプラスチックフィル
ム支持体の表面に、表面粗度がＣ１０８μｍ以下の磁性
層を設け、支持の裏面にバックコート層を設けた磁気記
録媒体において、前記バツり層は、平均粒子サイズが０
．０４〜０．５１ｊｍのＴ　ｉ　Ｏ，を放射線硬化型の
結合剤中に分散させたことを特徴とする磁気記録媒体を
提供し、これにより従来からの問題点を解決した。

磁性層が金属まだは合金粉末分散型である場合には磁性
粉はＢＥＴ法による比表面積が４８　ｍ”７ｇ以上のも
のは記録媒体のＳ／Ｎが改善されるので好ましい。しか
しあ１り大きいと磁性粉のバインダー樹脂中への分散が
悪くなり壕だ効果が飽和する。この型の磁性ｊ―の表面
粗度は０．０８μｍ以下が好ましく、それにより短波長
の記録感度を上昇させることができる。

金属または合金薄膜型磁性層の場合にはその表面粗度は
０．０８μｍ以下は容易に実現でき、００１μｍ程度も
可能である。

Ｃｏ含含有−Ｆｅ、Ｏ８またはＣｏ含有Ｆｅ１０４粉末
を結合剤に分散させる場合には粉末のＢＥＴ法比表槓が
　ｍ２／９、磁性層の保磁力がＯｅ以上、磁性層の表面
粗度が００８μｍ以下が好ましい。

バックコート層の充填材として平均粒子サイズが０．０
４〜［１５μｍのＴｉＯ２を放射線硬化性樹脂結合剤中
に分散させたものが、上記する従来からの問題点を解決
するのに、極めて有効であることを見い出した。

一般に、バックコート層の充填材は、平均粒子サイズが
小さくなると、結合剤に対する分散性が悪くなる。分散
が不充分なまま、バックコート層を形成すると、バック
コート層に凹凸を生じ、磁気テープを重ね巻きしだ時に
前記凹凸が磁気記録層に転与され、Ｓ／Ｎが低下する。

また、充填剤が軟らかいと、繰返し耐久走行性が悪く、
バンクコート層が削られ、白粉を発生させる。多景の白
粉の発生はビデオ・テープ・レコーダの故障につながり
、好ましくない。

一方、充填材として、平均粒径の比較的大きい無機顔料
を充填した場合は、分散性が良好になり、Ｓ／Ｎも向上
するが、粒径が太き過ぎるとバックコート層の表面粗さ
が粗くなり、磁気テープを重ね巻きした時にバックコー
ト層の凹凸が磁気記録層に転写されてＳ／Ｎが低下する
。また、無機顔料粒子の硬度が高くなり過ぎるとバック
コート層の削れがガくなり、白粉の発生もなくなるが、
逆に繰返し走行させると、ビデオ・テープ・レコーダや
ビデオ・カセットのガイド等がバックコート層によって
削られてしまう。

本発明において充填無機顔料として使用されるＴ　ｉ　
０２粒子は、モース硬度が５〜７程度の適当に硬い粒子
であるため、補強効果が向上し、繰返し７馴久走行性の
優れたバックコート層が得られる。

しかも、充填剤としてのＴｉｅ、の硬度が適当であるた
め、ビデオ・テープ・レコーダやビデオ・カセットのガ
イド等がバックコ−ト層によって削られてしまうという
欠点をも解消することができる。

このため、ローディングまたはアンローディング時のテ
ープ損傷が改善され、ＶＴＲやビデオカセット等のガイ
ドとの接触によるバンクコートの削れかなくなり、白粉
の発生もなくなる。

また、このＴ　ｉ　Ｏｘ粒子の平均粒子サイズを０．０
４〜０．５μｍとしであるので、分散性が向上し、適度
の表面粗度のバックコート層が得られる。このため、磁
気テープを重ね巻きした時に７（ツクコート層の凹凸が
磁気記録層に転写されてＳ／Ｎが低下すると言った欠点
が解消され、Ｓ／Ｎが向上すると同時に、シンチング現
象の発生が防止される。

この無機顔料を用いて７（ツクコート用塗料を調製する
には、上記粒径のＴｉ１ｔを結合剤に対して４：１乃至
１　：　１　（ｉｆ量比）の割合で充填して混練する。

このバックコート用塗料を使用して、支持対の裏面に塗
膜厚さがα３〜α５μｍ、かつ表面粗度がＱ、０５〜Ｃ
Ｌ６μｍとなるようにノくツクコートを施す。こうして
得られた磁気テープは、上記従来の問題点を全て解決し
得る良好な結果が得られた。

結合剤に対する充填剤の割合が１：１より少なく力ると
、磁気記録層と粘着を起し、適当でかい。

バックコート層の厚さはできるだけ薄い方が望ましいが
、薄過ぎると充分な補強効果が得られなくなるので、０
．３〜１．５μｍ程度が適当である。またバックコート
層の表面粗度が０６μｍより粗いとバックコート層の表
面の凹凸が磁気記録層へ転写され、Ｓ／Ｎが低下し、０
，０５μｍより平滑であると摩擦が上がり走行ストップ
等の問題を発生するので、表面粗度は０，０５〜０．６
μｍの範囲が適当である。

前記バックコート層を構成する結合剤は、放射線硬化型
樹脂から選択される。特に、放射線に感応して架橋を生
じるアクリル系二重結合、マレイン系二重結合或いはア
リル系二重結合を含む放射線硬化型樹脂は特にすぐれて
いる。バックコート層を熱硬化型樹脂を結合剤として用
いて形成すると、バック面の磁性面の削れ、ドロップア
ウト、シンチング及び摩擦の減少などに効果を生じるが
、巻締りの改善が十分でなくバックコート層の粗面が磁
性面へ転写する欠点が十分に改善されない。

バンク層が放射線硬化型であると、熱硬化型のものより
も均一で強じんなバンク層が形成でき、しかも熱硬化時
の裏型転写（磁性面にバック面の粗さが転写される現象
）もないので有利である。

さらに、製造上、磁性面、バック面がいずれも放射線硬
化される場合には連続硬化が可能であり、上記の裏型転
写がないのでドロップアウトが防止できる。その上、放
射線硬化は省エネルギー対策、製造時の人員の減少にも
役立ち、コストの低減につながる。特性面では熱硬化時
の巻きしまりによるドロップアウトの外に、ロール状に
巻かれたときの内外径の個所の圧力のちがいにより磁気
テープの長さ方向の距離による出力差が生じることもな
くなる。これは、ペース厚が１１μ以下と薄くなり、巻
きしまりの影響を受け易いためであるが、放射線硬化型
のバック層ではこの影響を取除くことができ、内外径で
の出力差やドロップアウトの差を除くことができる。

磁性層 分散型磁性層を用いる場合に上記の特性を満足させうる
磁性合金としてはＣｏ、Ｆ″ｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎ
ｉ　１Ｃｏ−Ｎｉなど、またこれにＣｒ。

Ａｌ、Ｓｔ　等を添加した微粉末が用いられる。これら
は金属塩をＢＨ４等の還元剤で湿式還元した微粉末、酸
化鉄表面をＳｌ化合物で被覆した後、Ｈ，ガス中で乾式
還元した微粉末、或いは合金を低圧アルゴン中で蒸発さ
せた微粉末などで、軸比１：５〜１：１０を有し、残留
磁束密度Ｂｒ＝２、０００〜′５．　Ｄ　［１０ガウス
のもので、且つ上記保磁力及び表面積の条件を満たすも
のである。

合金磁性粉は各種バインダーを用いて磁性塗料とすると
とができるが、一般には熱硬化性樹脂系バインダー及び
電子線硬化系バインダーが好適であり、その他添加剤と
して分散剤、潤滑剤、帯電防止剤を常法に従って用いる
ことができる。ＢＥＴ表面債比が４８　ｍ２７ｇの磁性
粉を用いるため、分散性に問題がある場合は、分散剤と
しては活面活性剤や有機チタンカップリング剤などを用
いても良い。バインダーとしては塩化ビニル・酢酸ビニ
ル・ビニルアルコール共重合体、ポリウレタンプレポリ
マー及びポリインシアネートより成るバインダー、或い
はこれにさらにニトロセルロースを加えたバインダー、
その他公知の熱硬化性バインダー、或いはイオン化エネ
ルギーに感応するアクリル系二重結合やマレイン系二重
結合などを樹脂の基として含有する放射線硬化型バイン
ダーなどが使用できる。

通常の方法に従って、合金磁性粉末を）くインダー及び
所定の溶剤並びに各種添加剤と混合して磁性塗料とし、
これをポリエステルベース等の基体に塗布し、熱硬化ま
だは電子線硬化して磁性膜を形成しスーパーカレンダー
を行ない、さらにノ（ツク層を同様に形成し、そして全
体にスーツ（−カレンダーを行なって所定の表面粗度の
ものに仕上げる。

金属または合金薄膜型磁性層の場合には、強磁性材料は
先きに述べた粉末の材料と同様のものから選択でき、先
きに述べた方法で製造しうる。

壕だ、保磁力はやや小さいがＣＯ被着型γ−Ｆｅｚ　０
Ｂ　、Ｃｏ被着型Ｆｅ３Ｏ４などの針状粒子も使用する
ことができ、これらはγ−Ｆｅ２Ｏ３またはＦｅ３Ｏ４
にＣＯイオンを吸着させるなどの方法で製造することが
できる。

バックコート層の結合剤 本発明で用いる放射線硬化性または感応性樹脂は放射線
によりラジカルを発生して架橋を行うような、分子鎖中
に不飽和２重結合を２個以上含むものであり、これはま
た熱可塑性樹脂を放射線感応変性することによっても可
能である。なお、磁性層が放射線感応性（硬化型）樹脂
をバインダーとして用いる場合はバック層の樹脂として
記載する以下のものを用いることができるものと理解す
べきである。

放射線感応変性の具体例としては、ラジカル重合性を有
する不飽和二重結合を示すアクリル酸、メタクリル酸あ
るいはそれらのエステル化合物のようなアクリル系二重
結合、ジアリルフタレートのようなアリル系二重結合、
マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結合等の放射
線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を分子中に導
入することである。

その他放射線照射により架橋重合する不飽和二１結合で
あれば用いる事が出来る。

放射線感応（Ｕ・１脂に変性できる熱可塑性樹脂を以下
に示す。

（１）塩化ビニール系共重合体 塩化ヒニールー酢酸ビニールービニールアルコール共重
合体、塩化ビニール−ビニルアルコール共重合体、塩化
ビニール−ビニルアルコーループμピオン酸ビニール共
重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−マレイン酸共重
合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−末ｉＯＨ側録アル
キル基共重合体、たとえばＵＣＣ社ＶＲＯＨ１ＶＹＮＣ
，ＶＹＥＧＸ等またＵＣＣ社ＶＥＲＲ（７）マレイン酸
導入型等が挙げられる。

上記共重合体に後に述べる手法により、アクリル系二重
結合、マレイン酸系二重結合、アリル系二重結合を導入
し放射線感応変性を行ったもの ＧＩ）　飽和ポリエステル樹脂 フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、マレイン酸、
マレイン酸誘導体、コノ・り酸、アジピン酸、セバシン
酸、のような飽和多塩基酸とエチレングリコール、ジエ
チレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパ
ン、１２プロピレングリコール、１．３ブタンジオール
、ジプロピレングリコール、１．４ブタンジオール、ｔ
６ヘキサンジオール、ペンタエリスリット、ンルビトー
ル、グリセリン、ネオペンチルグリコール、１，４シク
ロヘキサンジメタツールのようガ多価アルコールとのエ
ステル結合により得られる飽和ポリエステル樹脂又はこ
れらのポリエステル樹脂をＳｏ、Ｎａ等で変性した樹脂
（バイロン５３Ｓ）。これらを後に述べる手法により放
射線感応変性を行なったもの 唾　不飽和ポリエステル樹脂 分子鎖中に放射線硬化性不飽和二重結合を含有するポリ
エステル化合物、例えば第（ＩＩ）項の熱可塑性樹脂と
して記載の多塩基酸と多価アルコールのエステル結合か
ら成る飽和ポリエステル樹脂で多塩基酸の一部をマレイ
ン酸とした放射線硬化性不飽和二重結合を含有する不飽
和ポリエステル樹脂、プレポリマー、オリゴマーを挙げ
ることができる。

飽和ポリエステル樹脂の多塩基酸および多価アルコール
成分は第（１）項に記載した各化合物を挙げることかで
き、放射線硬化性不飽和二重結合としてはマレイン酸、
フマル酸等を挙げることができる。

放射線硬化性不飽和ポリエステル樹脂の製法は、多塩基
酸成分１種以上と多価アルコール成分１種以上にマレイ
ン酸、フマル酸等を加え常法、すなわち触媒存在１８０
〜２００℃窒素雰囲気下脱水あるいは脱アルコール反応
の後、２４０“〜２８０℃まで昇温し、０．５〜１ｙ＋
ｉＨｇ　の減圧下縮合反応によりポリエステル樹脂を得
ることができる。マレイン酸やフマル酸等の含有量は、
製造時の架橋、放射線硬化性等から酸成分中１〜４０モ
ルチで好ましくは１０〜３０モルチである。

（財）　ポリビニルアルコール系樹脂 ポリビニルアルコール、ブチラール樹脂、アセタール樹
脂、ホルマール樹脂及びこれらの成分の共重合体。これ
ら樹脂中に含まれる水酸基を後に述べる手法により放射
線感応化変性を行なったもの。

（９）　エポキシ系樹脂、フェノキシ樹脂ビスフェノー
ルＡとエピクロルヒドリン、メチルエピクロルヒドリン
の反応によるエポキシ樹脂−シエル化学展（エビコー）
１５２，１５４゜８２８．１００１，１００４．１００
７）ダウケミカル製（ＤＥＮ４３１．ＤＥＲ７５２，Ｄ
ＥＲ５１１。

ＤＥＲ３３１）、大日本インキ製（エビクロン４００、
エビクロン−Ｓ　ＯＯ）、更に上記エポキシの高重合度
樹脂であるＵＣＣ社製フェノキシ樹脂（ＰＫＨ，Ｒ，Ｐ
ＫＨＣ，ＰＫＨＨ）臭素化ヒスフェノールＡとエピクロ
ルヒドリンとの共重合体、大日本インキ化学工業製（エ
ビクロン１４５゜１５２．１５５．１１２０）等。

これら樹脂中に含まれるエポキシ基を利用して、放射線
感応変性を行ったもの Ｍ　繊維素誘導体 各種分子量の繊維素系誘導体も、また熱可塑性プラスチ
ック成分として効果的である。その中でも、特に効果的
なものは硝化綿、セルローズアセトブチレート、エチル
セルローズ、ブチルセルローズ、アセチルセルロース等
が好適であり、樹脂中の水酸基を活性して後に述べる手
法により放射線感応変性を行なったもの その他、放射性感応変性に用いることのできる樹脂とし
ては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステル
樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂及び誘導体（ｐｖｐオ
レフィン共重合体）、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂
、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸基を含
有するアクリルエステル及びメタクリルエステルを少く
とも一種以上重合成分として含むアクリル系樹脂等く有
効である。

さらに上記放射線感応変性熱可塑性樹脂に熱可塑性エラ
ストマー又はプレポリマーをブレンドすることにより、
一層強靭な塗膜とすることができる。さらに、下記に述
べるように、これらニジストマーあるいはプレポリマー
が、同様に放射線感応性に変性された場合は、より効果
的である。以下に、上記放射線感応樹脂と組み合わせる
ことのできるエラストマー又はプレポリマーを挙げる。

（Ｉ）　ポリウレタンエラストマー及びプレポリマー及
びテロマー ポリウレタンニジストマーは、耐摩耗性、ＰＥＴフィル
ムへの接着性が良い点で特に有効である。

このようなウレタン化合物の例としては、イソシアネー
トとして、２．４−）ルエンジイソシアネート、２．６
−　）ルエンジイソシアネート、ｔＸ−キシレンジイン
シアネート、ｔ４−キシレンジインシアネート、１５−
す７タレンジインシアネート、ｍ−フエニレンジインシ
アネ−）、ｐ−フェニレンジイソシアネート、５．３′
−ジメチル−４４’−ジフエニルメタンジイソシアネー
ト、４４′−ジフェニルメタンジイソシアネー）、ｉ５
’−ジメチルビフエニレンジイソシアネ−）、４．４’
−ヒフェニレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイ
ソシアネート、インフオロンジイソシアネート、ジシク
ロヘキシルメタンジイソシアネート、テスモジュールし
、デスモジュールＮ等の各種多価インシアネートと、線
状飽和ポリエステル（エチレングリコール、ジエチレン
グリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ｔ
４−ブタンジオール、ｔ６−ヘキサンジオール、ペンタ
エリスリット、ソルビトール、ネオペンチルグリコール
、１４−シクロヘキサンジメタノールの様な多価アル”
ａ　−ルと、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、
マレイン酸、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、の様
な飽和多塩基酸との縮重合によるもの）、線状飽和ポリ
エーテル（ポリエチレングリコール、ポリプロピレング
リコール、ポリテトラエチレングリコール）やカプロラ
クタム、ヒドロキシン含有アクリル酸エステル、ヒドロ
キシ含有メタアクリル酸エステル等の各種ポリエステル
類の縮重合物より成るポリウレタンエラストマー、プレ
ポリマー、テロマーが有効である。

これらのニジストマーを放射線感応変性の各種熱可坦性
プラスチックスとそのまま組合せても良いが、更にウレ
タンニジストマーの末端のインシアネート基又は水酸基
と反応するアクリル系二重結合又はアリル系二重結合等
を有する単量体と反応させることにより、放射線感応性
に変性することは非常に効果的である。

（ｎ）　アクリルニトリル−ブタジェン共重合ニジスト
マー シンクレアペトロケミカル社製ポリＢＤリクイツドレン
ジとして市販されている末端水酸基のあるアクリロニト
リルブタジェン共重合体プレポリマー、あるいは日本化
オン社製ハイカー１４３２Ｊ等のニジストマーば、特に
ブタジェン中の二重結合が放射線によりラジカルを生じ
架橋及び重合させるニジストマー成分として適する。

価　ポリブタジェンエラストマー シンクレアベトロケミカル社製ポリＢＤリクイツドレジ
ンＲ−１５等の低分子量末端水酸基を有するプレポリマ
ーが特に熱可塑性プラスチックとの相溶性の点で好適で
ある。Ｒ−１５プレポリマーにおいては分子末端が水酸
基となっている為分子末端をアクリル系不飽和二重結合
を付加することにより放射線感応性を高めることが可能
であり、バインダーと１７て史に有利となる。

また、ポリブタジェンの環化物日本合成ゴム製ＣＢＲ−
Ｍ９０１も熱可塑性プラスチックスとの組合せによりす
ぐれた性能を発揮する。特に、環化さレタポリブタジエ
ンは、ポリブタジェン本来の有する不飽和結合のラジカ
ルにより放射線による架橋重合の効率が良く、バインダ
ーとして優れた性質を有している。

その他熱可塑性ニジストマー及びそのプレポリマーの系
で好適力ものとしては、スチレン−ブタジェンゴム、塩
化ゴム、アクリルゴム、イソプレンゴム及びその環化物
（日本合成ゴム製ＣｌＲ７０１）、エポキシ変性ゴム、
内部可塑化飽和線状ポリエステル（東洋紡バイロンｆｌ
＝５００　）、等のニジストマーも下記に述べる放射線
感応変性処理をほどこすことにより有効に利用できる。

次に、放射線感応性バインダー合成例な説明する。

トリレンジイソシアネートのアダクトの製法ａ）塩化ビ
ニール酢酸ビニール共重合系樹脂（放射線感応変性樹脂
）のアクリル変性体の合成ビニライトＶＡＧＨ７５０部
とトルエン１２５０部シクロヘキサノン５００部を５１
４つロフラスコに仕込み加熱溶解し、８０℃昇温昇温ジ
トリレンジイソシアネート−ヒドロキシエチルメタアク
リレートアダクトを６１４部加え、更にオクチル酸スズ
００１２部、ハイドロキノン００１２部加え８０℃でＮ
、気流中ＮＣ０反応率が９ｏチとなる゛まで反応せしめ
る。反応終了後冷却し、メチルエチルケトン１２５０部
を加え稀釈する。

※トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）の２−ヒドロキ
シエチルメタアクリレート（２ＨＥＭＡ）アダクトの製
法 トリレンジイソシアネート３４８部をＮ、気流中１１の
４つロフラスコ内で８０℃に加熱後、２−へキサエチレ
ンメタアクリレート２６０部、オクチル酸スズ０．０７
部、ハイドロキノン［１ＬｏＳ部を反応缶内の温度が８
０〜８５℃となるように冷却コントロールしながら滴下
終了後８０℃で３時間攪拌し反応を完結させる。反応終
了後取り出して冷却後白色ペースト状のＴＤＩの２ＨＥ
ＭＡを得た。

ｂ）ブチラール樹脂アクリル変性体の合成（放射線感応
変性樹脂） ブチラール樹脂積水化学製ＢＭ−８１００部をトルエン
１９１．２　部シクロヘキサノン７１．４部に５４４つ
目フラスコに仕込み加熱溶解し８０℃エチルメタアクリ
レートアダクト※を１４部加え、更にオクチル酸スズ０
０１５部、ハイドロキノン０．０１５部を加え、８０℃
でＮ、気流中ＮＣ０反応率が９０％以上となるまで反応
せしめる。反応終了後冷却しメチルエチルケトンにて稀
釈する。

Ｃ）飽和ポリエステル樹脂アクリル変性体の合成（放射
線感応変性樹脂） 東洋紡製バイロンＲ■−２００１００部をトルエン１１
６部、メチルエチルケトン１１６部に加熱溶解し８０℃
昇温後ＴＤＩの２ＨＥＭＡアダクト※を五５５部加え、
オクチル酸スズ０００７部、ハイドロキノン１１００７
部を添加し、Ｎ、気流中８０℃でＮＣ０反応率９０チ以
上となるまで反応せしめる。

ｄ）エポキシ樹脂アクリル変性体の合成（放射線感応変
性樹脂） シェル化学製エピコート１００７　４００部をトルエン
５０部ＭＥＫ５０部に加熱溶解後ＮＮ−ジメチルベンジ
ルアミンα００（５部、ハイドロキノン０．００３部を
添加し８０℃とし、アクリル酸６９部を滴下し８０℃で
酸化５以下となるまで反応せしめる。

ｅ）ウレタンエラストマーアクリル変性体の合成（放射
線感応ニジストマー） 末端イソシアネートのジフェニルメタンジイソシアネー
ト（ＭＤＩ）系ウレタンスプレポリマー（日本ポリウレ
タン製ニッポラン３１１９）２５０部、２　ＨＥＭＡ　
３２．５部、ハイドｏ　キ／　７１０７部、オクチル酸
スズ０．　ＯＯ９部を反応缶に入れ、８゜℃に加熱溶解
後ＴＤＩ４３．５部を反応缶内の温度が８０〜９０℃と
なる様に冷却しながら滴下し、滴下終了後８０℃でＮＣ
Ｏ反応率９５チ以上となるまで反応せしめる。

ｆ）ポリエーテル系末端ウレタン変性ニジストマーアク
リル変性体の合成（放射線感応ニジストマー） 日本ポリウレタン社製ポリエーテルＰＴＧ−５００２５
０部、２　ＨＥＭＡ　５２．５部、／％イドロキノン１
００７部、オクチル酸スズα００９部を反応缶に入れ８
０℃に加熱溶解後ＴＤＩＪＫ５部を反応缶内の温度が８
０〜９０℃と゛なるように冷却しガから滴下し、滴下終
了後８０℃でＮＣＯ反応率９５チ以上となるまで反応せ
しめる。

ｇ）　ポリブタジェンエラストマーアクリル変性体の合
成（放射線感応ニジストマー） ンンクレアベトロケミカル社製低分子量末端水酸基ポリ
ブクジエンボリＢＤリクイットレジンＲ−１５２５０部
、２　ＨＥＭＡ　３２．５部、ノ・イドロキノン０．０
０７部、オクチル酸スズ０．００９部を反応缶に入れ、
８０℃に加熱溶解後ＴＤＩＪ＆５部を反応缶内の温度が
８０〜９０℃となるように冷却しながら滴下し、滴下終
了後８０℃でＮＣＯ反応率９５チ以上となるまで反応せ
しめる。

また高分子には放射線照射により崩壊するものと分子間
に架橋を起すものが知られている。分子間に架橋を起す
ものとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリス
チレン、ポリアクリル酸エステル、ポリアクリルアミド
、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、ポリビニルピロリド
ンゴム、ポリビニルアルコール、ポリアクロレインカア
ル。この様な架橋型ポリマーであれば上記のような変性
を特に施さなくても、架橋反応が起るので、そのまま放
射線架橋用バックコート樹脂として使用可能である。

さらにまた、この方法によれば溶剤を使用しない無溶剤
型の樹脂であっても短時間で硬化することができるので
、この様な樹脂をバックコート用として用いることもで
きる。

また、本発明のバックコートの架橋に使用する活性エネ
ルギー線としては、放射線加速器を線源とした電子線、
Ｃｏ１１０　を線源としたγ−線、５ｒ９０　を線源と
したβ−線、Ｘ線発生器を線源としたＸ−線等が使用さ
れる。

特に照剤制）源としては吸収線量の制御、製造工程ライ
ンへの導入、電離放射線のしゃ閉等の見地から放射線加
熱器により放射線を使用する方法が有利である。

バック層を硬化する際に使用する放射線特性としては、
透過力の面から加速電圧↑００〜７５０ＫＶ好ましくは
１５０〜３００ＫＶの放射線加速器を用い吸収線量を０
．５〜２０メガランドになるように照射するのが好都合
である。

本発明のバック層硬化に際しては、米国エナージーサイ
エンス社にて製造されている低線量タイプの放射線加速
器（エレクトロカーテンシステム）等がテープコーティ
ング加エラインへの導入、加速器内部の２次Ｘ線の遮蔽
等に極めて有利である。

勿論、従来より放射線加速材として広く活用されている
ところのファンデグラフ型加速器を使用しても良い。

また、放射線架橋に際しては、Ｎ、ガスＨｅガス等の不
活性ガス気流中で放射線をバック層に照射することが重
要であり、空気中で放射線を照射することは、バインダ
ー成分の架橋に際し放射線照射により生じたＯｌ等の影
響でポリマー中に生じたラジカルが有利に架橋反応に働
く事を阻害するので極めて不利である。

従って、活性エネルギー線を照射する部分の雰囲気は、
特に酸素濃度が最大で１チのＨ２、Ｈｅ　。

ＣＯ７等の不活性ガス雰囲気に保つことが重要となる。

その個使用可能なバインダー成分としては、単量体とし
てアクリル酸、メタクリル酸、アクリルアミド、メタク
リルアミド等がある。二重結合のあるバインダーとして
は種々のポリエステル、ポリオール、ポリウレタン等を
アクリル系二重結合を有する化合物で変性することがで
きる。必要に応じて多価アルコールと多価カルボン酸を
配合することによって種々の分子量のものもできる。放
射線感応樹脂としては上記内容は一部を記したにすぎな
い。これらのものが混合されていてもかまわない。

さらに好ましいのは回数射線により硬化性をもつ下節２
ｏ二重結合を２個以上有する分子量５，０００〜１００
，０００　のプラスチック状化合物、０３）放射線によ
り硬化性をもつ不飽和二重結合を１個以上有するか、又
は放射線硬化性を有しない、分子量へ０００〜１０Ｑ、
０００のゴム状化合物、および（Ｃ）放射線により硬化
性をもつ不飽和二重結合を１個以上有する、分子量２０
０〜５．０００の化合物を、（Ａ）２０〜７０重量％、
ω）２０〜８０重量％、（Ｃ）１０〜４０重量％の割合
で用いた組合せである。

放射線硬化系樹脂を用いた場合、硬化時間が短かく、巻
き取り後のバックコート表面の充填剤等の磁性層への転
移がないので、好適である。

以下に、本発明の実施例を比較例と共に説明する。

磁性層１ 湿式還元法により種々の合金粉末を製造した。

これらは軸比（短軸／長軸）が１１５〜１／１０の針状
粒子より成り、残留磁束密度２０００〜５０００ガウス
、保磁力１０００〜２００００ｅ、ＢＥＴ表面積比４５
〜７０　ｍ”／Ｅｌを有するものであった。

これらの磁性粉を次の配合比で通常の方法で混合した。

重量部 Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ合金粉末　１００ ミリスチン酸　２ ソルビタントリステアレート　２ この混合物にポリインシアネート（バイエル社製デスモ
ジュールし）３０重量部加えて磁性塗料とし、ポリエス
テルフィルムに３．５μの厚さで塗布し、乾燥しカレン
ダー加工した。その後８０℃で４８時間熱硬化反応を行
なった。

カレンダ加工を調整することにより表面粗度は０．０２
〜０１２μｍの種々のものを得だ。

磁性層２ 磁性層１と同一の磁性粉を用いて次の配合物の混合物を
作った。

重量部 Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ合金粉末　１００ ポリビニルブチラール樹脂　１０ この混合物をポリエステルフィルムに五５μの厚さで塗
布し、乾燥し、カレンダー加工後、電子線で硬化した。

カレンダー加工の条件を調整することにより表面粗度は
α０２〜α１２μｍとした。

磁性層５ 磁性層としては真空蒸着法によりコバルト８０チ、ニッ
ケル２０％の斜め蒸着合金磁性膜をポリエチレンテレフ
タレート膜の表面に約ｉ、ｓｏｏ人の厚さとなるように
蒸着したものを用いた。表面粗度は［１Ｌ０１μｍであ
った。

磁性層４ （イ）磁気記録層の形成 Ｃｏ被着酸化鉄（Ｈｃ＝５０００ｅ　）　７８　％ニト
ロセルロース　５チ 塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体　４％ポリウレタン　
９％ 脂肪酸　α５チ インシアネ一ト化合物　五５％ メチル・エチル・ケトン　１８０％ 上記組成物をボールミル中で混練し分散させた後、厚さ
１１５μｍのポリエチレンテレフタＬ／　−トフイルム
上に３５μの厚さに塗布し、乾燥し、カレンダー加工し
、熱硬化した。

実施例 磁性層１．２．３．４を形成した上記のポリエステルフ
ィルム基体の裏面に下記のようにしてバックコート層を
それぞれ形成した。

すなわち、表１の無機顔料を用いて次の組成物を作り、
これからバック層を形成した。樹脂は上記（ト）、（Ｂ
）、（Ｃ）の組成物に相当する。

重量部 多官能アクリレート　分子ｉｉ、ＯＤＤ　２０ステアリ
ン酸　２ ステアリン酸ブチル　２ 混合溶剤（ＭＩＢＫ／　）　ルｘ　ｙ　）　２５０無機
顔料（表１）　２００ とした。

◎上記混合物中の放射線感応バインダーの合成方法を以
下に示す。

ａ）塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合
体のアクリル変性体の合成 エスレツクＡ７５０重−ｉ部とトルエン１２５０重量部
、シクロヘキサノン５００重量部を５１の４つ目フラス
コに仕込み加熱溶解し８０℃昇温後、トリレンジインシ
アネートの２−ヒドロキシエチルメタクリレートアダク
トを６１４重量部加え、更にオクチル酸スズ００１２重
量部、ハイドロキノン００１２重量部を加え、８０°Ｃ
でＮ２気流中ＮＣＯ反応率が９０チ以上となるまで反応
せしめる。反応終了後、冷却してメチルエチルケトン１
２５０重量部を加え希釈する。

※トリレンジイソシアネー）（ＴＤＩ）の２−ヒドロキ
シエチルメタクリレ−）　（２ＨＥＭＡ）アダクトの製
法 ＴＤＩ３４８重量部をＮ、気流中１ノの４つロフラスコ
内で８０℃に加熱後、２ＨＥＭＡ２６０１１Ｅ量部、オ
クチル酸スズα０７重量部、ハイドロキノン０．０５重
量部を反応缶内の温度が８０〜８５℃となるように冷却
コント日−ルしながら滴下終了後、８０℃で６時間攪拌
し反応を完結させる。反応終了後、取出して冷却、白色
ペースト状の２ＨＥＭＡを得た。

ｂ）ウレタンニジストマーアクリル変性体の合成末端イ
ンシアネートのジフェニルメタンジイソシアネー）（Ｍ
ＤＩ）系ウレタンプレポリマー（日本ポリウレタン製、
ニラポラン３１１９）２５０重量部、２ＨＥＭＡ　３　
Ｚ５重量部、ハイドロキノン１００７重量部、オクチル
酸スズ０．００９重量部を反応缶に入れ、８０℃に加熱
溶解後ＴＤＩ４五５重量部を反応缶の温度が８０〜９０
℃となるように冷却しながら滴下し、滴下終了後８０℃
でＮＣＯ反応率９５チ以上となるまで反応せしめる。

このバック層１を先に磁気記録層を形成した基材の反対
面側に乾燥厚みが１０μｍになるように塗布、乾燥を行
ない、カレンダーにて表面平滑処理を行なった後、エレ
クトロカーテンタイプ電子線加速装置を用いて加速電圧
１５０　Ｋｅｙ、電極電流１０　ｍＡ　ｓ吸収線量３Ｍ
ｒａｄの作動条件の下でＮ、ガス芽囲気において電子線
を７（ツク層に照射し硬化を行なわせた。

この後、１／２インチ幅に切断してＶＨＳビデオカセッ
トに組込み、を磁変換特性、シンチング、バンクコート
削れ、ローディングまたはアンローディング時のキズ及
び巻乱れを測定した。その測定結果を表２（磁性層１を
用いたもの）、表３（磁性Ｍ２を用いたもの）、表４（
磁性層３を用いたもの）に示しである。表１ないし４に
おいて、サンプル１〜３が本発明の実施例、サンプル４
．５が比較例である。なお表２．３のサンプルの磁性層
にすべて表ｉｆＯ粗度０．０８μｍ以下、ノくツクコー
ト層のそれはすべて鳳Ｏ６６μｍ以下である。

表２〜４にはさらに熱硬化ノ（ツクコー）（Ｂｅ）にＴ
　ｉ　Ｏｘを分散させたものについての結果を一緒に示
した。

表　１ 表２ 表　５ 磁性層２ 表４ 磁性層５ 磁性層１．２の各サンプルについてバックコート層の表
面粗度と磁性表面の表面粗度の関係を調べたところ第１
図となった。そこで表２〜４ではすべて表面粗度をそれ
ぞれ０．６μｍ以下及び００８μ以下に選択した。また
磁性層１．２について金属粉の表面積とＳ／Ｎの関係を
調べ、４８　ｍ２／１以上が好ましいことを確認した。

表２〜４から明らかなように、無機顔料としてＴ　ｉ　
Ｏ，粒子だけを使用した比較サンプル４は、カラーＳ／
Ｎ、シンチング、バックコート削れ、ローディングまだ
はアンローディング時のキズ等の特性は比較的良好であ
るが、磁気テープの巻乱れを発生し易い。また無機顔料
として平均粒子サイズ０，０４μｍの小さい粒径のＣａ
Ｃ０ｍ粒子だけを使用した比較サンプル５は、磁気テー
プのカラーＳ／Ｎ、シンチング、バックコート削れが劣
り、ローディングまたはアンローディング時のキズ及び
ドロップアウトが大きくなる。

これに対し本発明の実施例たるサンプル１〜３は、比較
サンプル４．５に比べて、カラーＳ／Ｎが優れ、シンチ
ングが起り難※い。更にバックコート削れかなく、ロー
ディングまたはアンローディング時の磁気テープの損傷
も非常に少ガく、しかも磁気テープの巻部れも発生しな
い。

ＴｉＯ２０，６１１ｍのものはＹ−８／Ｎの低下７ンチ
ング、バックコート削れを発生した。

磁性層４についても同様な効果が確認された。

本発明の効果 以上述べたように、本発明は、支持体の表面に磁気記録
層を有し、裏面にバックコート層を設けた磁気記録媒体
において、前記バックコート層は、平均粒子サイズ００
４〜０５μｍのＴ１０．を放射線硬化樹脂に分散させた
ものであることを特徴とすることから、Ｓ／Ｎが高く、
シンチング現象、バックコート削れ及びローディングま
たはアンローディング動作時のテープ損傷を防止できる
。また放射線硬化型樹脂のため巻きしまりがなく、ジャ
ンボロールの内、外で電気特性上の差がないすぐれたも
のとなる。

【図面の簡単な説明】

第１図はバックコート面の表面粗度とＹ−８／Ｎの関係
を示すグラフである。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）磁気記録層をプラスチックフィルム支持体に被着
   して成る磁気記録媒体において、前記磁性層が０．０８
   μｍ以下の表面粗度を有し、さらに前記支持体の裏面に
   は平均粒子サイズが［１０４〜０．５μｍのＴｉｅ、を
   放射線硬化性結合剤に分散硬化したバックコート層を設
   けたことを特徴とする磁気記録媒体。
2. （２）結合剤はアクリル系二重結合、マレイン系二重結
   合、及びアリル系二重結合を有する樹脂から選択される
   前記第１項記載の磁気記録媒体。
3. （３）前記磁性層１００００ｅ以上の保磁力を有する特
   許請求の範囲第１項又は第２項記載の磁気記録媒体。