JPS6059527A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS6059527A JPS6059527A JP16667683A JP16667683A JPS6059527A JP S6059527 A JPS6059527 A JP S6059527A JP 16667683 A JP16667683 A JP 16667683A JP 16667683 A JP16667683 A JP 16667683A JP S6059527 A JPS6059527 A JP S6059527A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- radiation
- surface roughness
- parts
- resin
- Prior art date
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- Pending
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- Paints Or Removers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は磁気記録媒体に関し、特に優れた物理特性と電
磁変換特性を有する高密度配録媒体に関する。
磁変換特性を有する高密度配録媒体に関する。
従来、磁気記録媒体として使用されて来た強磁性粉末と
しては、例えばγ−F111.0.、Co含有r−Fe
、0.、Fem Oa s Co含有F ea 04
、Cr O@等があった。しかし、これら強磁性粉末の
保磁力および最大残留磁束密度等の磁気特性は高感度高
密度記録用としては不十分であり、約1μm以下の記録
波長の短い信号や、トラック幅の狭い磁気記録にはあま
り適していない。
しては、例えばγ−F111.0.、Co含有r−Fe
、0.、Fem Oa s Co含有F ea 04
、Cr O@等があった。しかし、これら強磁性粉末の
保磁力および最大残留磁束密度等の磁気特性は高感度高
密度記録用としては不十分であり、約1μm以下の記録
波長の短い信号や、トラック幅の狭い磁気記録にはあま
り適していない。
このように磁気記録媒体に対する請求が厳しくなるにつ
わ”(、高密度1己録に適する特性を備えた強磁性粉末
が開発され、或いは提案されている。
わ”(、高密度1己録に適する特性を備えた強磁性粉末
が開発され、或いは提案されている。
このような磁性粉末はF13.CG、Fe−CG、 F
e−Co−Ni、Co−Ni等の金属または合金、これ
らとA1.Cr、s等との合金などがある。かかる合金
粉末を用いた磁気記録層は高密度記録の目的には高い保
磁力と高い残留磁束密度とを有する必要があり、上記磁
性粉末がこれらの基準に合致するよさに種々の製造方法
式〜・は合金組成を選択する必要がある。
e−Co−Ni、Co−Ni等の金属または合金、これ
らとA1.Cr、s等との合金などがある。かかる合金
粉末を用いた磁気記録層は高密度記録の目的には高い保
磁力と高い残留磁束密度とを有する必要があり、上記磁
性粉末がこれらの基準に合致するよさに種々の製造方法
式〜・は合金組成を選択する必要がある。
本発明者は種々の合金粉末を用いて磁気記録媒体を製作
したところ、BleT法による比表面積が48が711
で、磁性層の保磁力が10000e以上で、しかも磁性
層の表面粗度(後述のクリステツブによる一定法におい
【カットオフへ17襲で20点平均(R1@)の値、・
・・以下同じ)がaSSμ以下のときに、ノイズレベル
が充分に低く、高密度短波長の記録に適する磁気記録媒
体が得られることを見出した。しかし、このよさに表面
性が向上すると摩擦が上昇し、実用走行でのテープ走行
停止、テープの巻き乱れが生じる。また合金磁性粉を用
いるテープはポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ
ンナツタt’−) sポリイミド、ポリアミド等のプラ
スチックフィルムベースな用〜鴬ており、この厚さが1
1μm程度以下のものが現在検討されている。このよう
にベースが薄くなると、媒体の腰が柔かくなり過ぎ【摩
擦が高くなり、走行停止などのトラブルを生じることが
ある。そのためペースの涙を強くして走行性を補う必要
性が生じた。
したところ、BleT法による比表面積が48が711
で、磁性層の保磁力が10000e以上で、しかも磁性
層の表面粗度(後述のクリステツブによる一定法におい
【カットオフへ17襲で20点平均(R1@)の値、・
・・以下同じ)がaSSμ以下のときに、ノイズレベル
が充分に低く、高密度短波長の記録に適する磁気記録媒
体が得られることを見出した。しかし、このよさに表面
性が向上すると摩擦が上昇し、実用走行でのテープ走行
停止、テープの巻き乱れが生じる。また合金磁性粉を用
いるテープはポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ
ンナツタt’−) sポリイミド、ポリアミド等のプラ
スチックフィルムベースな用〜鴬ており、この厚さが1
1μm程度以下のものが現在検討されている。このよう
にベースが薄くなると、媒体の腰が柔かくなり過ぎ【摩
擦が高くなり、走行停止などのトラブルを生じることが
ある。そのためペースの涙を強くして走行性を補う必要
性が生じた。
そこで本発明では上記の特定のBIT表面積及び保磁力
を有する合金磁性粉を用い且つ上記の特定の表面粗度を
有する磁性層を筒布したプラスチックヘースの裏面に、
塩化ビニル・酢tビニル・ビニルアルコール共重合体と
ポリウレタン樹脂とポリイソシアネートとより成る熱硬
化型組成物またはこれらに更にニトロセルロースを加え
た熱硬化型組成物によりバック層を形成し、或いは電子
線等により硬化した放射線硬化型樹脂によりバック層を
形成し、且つその表面粗度をα05〜α6μmの範囲に
規定することにより、磁性面の表面性を向上(表面粗度
減少)させても、媒体の腰が強くなり、走行性が良くな
るなど、すぐれた媒体を提供できた。
を有する合金磁性粉を用い且つ上記の特定の表面粗度を
有する磁性層を筒布したプラスチックヘースの裏面に、
塩化ビニル・酢tビニル・ビニルアルコール共重合体と
ポリウレタン樹脂とポリイソシアネートとより成る熱硬
化型組成物またはこれらに更にニトロセルロースを加え
た熱硬化型組成物によりバック層を形成し、或いは電子
線等により硬化した放射線硬化型樹脂によりバック層を
形成し、且つその表面粗度をα05〜α6μmの範囲に
規定することにより、磁性面の表面性を向上(表面粗度
減少)させても、媒体の腰が強くなり、走行性が良くな
るなど、すぐれた媒体を提供できた。
しかし、バック層はガイドローラとの摩擦により帯電し
てゴミを吸着してドロップアウトを生じたり、また磁気
テープの巻きを不整にしたり、出力変動を生じたりする
傾向がある。この欠点はバック層に導電材粒子、例えば
カーボンブラックを含有させれば改善しうるが、カーボ
ンブラックは100μmに近いものを用いると記録再生
系のガイドボストなどの接触部材により削られたり、テ
ープが巻かれているときの磁性面とバック面とのすり応
力により削られてドロップアウトの原因となる。これは
カーボンブラックのもろさによるものである。
てゴミを吸着してドロップアウトを生じたり、また磁気
テープの巻きを不整にしたり、出力変動を生じたりする
傾向がある。この欠点はバック層に導電材粒子、例えば
カーボンブラックを含有させれば改善しうるが、カーボ
ンブラックは100μmに近いものを用いると記録再生
系のガイドボストなどの接触部材により削られたり、テ
ープが巻かれているときの磁性面とバック面とのすり応
力により削られてドロップアウトの原因となる。これは
カーボンブラックのもろさによるものである。
本発明はバック層中に平均粒子径(電子顕微鏡撮影法に
よる、・・・以下同じ)が10〜S OOatμのカー
ボンブラックとモースト硬度6以下の01CO,、カオ
リン、BaSO4,01@、0.畔の無機化合物粉末と
を含有させることにより上記の問題特に磁性層及びバッ
ク面の削れの少ない磁気記録媒体を提供することを目的
とする。これKよりカーボンブラックのもろさの問題は
完全に回避されることが分った。カーボンブラックの単
独使用でも温和な条件下では特に問題が生じないけれど
も、高温多湿下(40℃80%RHなと)では軟かい無
機化合物粉末がカーボンブラックのもろさを補って削れ
が減少する。またこれらの無機化合物粉末はカーボンブ
ラックの分散性の悪さを補ってバック層の表面性及び電
磁特性を改善することができる。
よる、・・・以下同じ)が10〜S OOatμのカー
ボンブラックとモースト硬度6以下の01CO,、カオ
リン、BaSO4,01@、0.畔の無機化合物粉末と
を含有させることにより上記の問題特に磁性層及びバッ
ク面の削れの少ない磁気記録媒体を提供することを目的
とする。これKよりカーボンブラックのもろさの問題は
完全に回避されることが分った。カーボンブラックの単
独使用でも温和な条件下では特に問題が生じないけれど
も、高温多湿下(40℃80%RHなと)では軟かい無
機化合物粉末がカーボンブラックのもろさを補って削れ
が減少する。またこれらの無機化合物粉末はカーボンブ
ラックの分散性の悪さを補ってバック層の表面性及び電
磁特性を改善することができる。
本発明の磁気記録媒体における磁性層は、保磁力(He
) 1200Qe、以上で、含有する合金磁性粉のB
ET法による比表面積が48が71以上で、且つ表面粗
度が[108μm以下のものを用いる。保磁力の好まし
い範囲は1000〜20000eであり、これ以上の範
囲では記録時に磁気ヘッドが飽和しまた消磁が困難にな
る。磁性粉の比表面積は大きい程8/N比を改善する傾
向があるが、あまり比表面積が大きいと磁性粉へのバイ
ンダー中への分散が悪くなりまた効果が飽和する傾向を
有することが分った。一方、表面粗度が小さいと短波長
の記録感度が上昇する。
) 1200Qe、以上で、含有する合金磁性粉のB
ET法による比表面積が48が71以上で、且つ表面粗
度が[108μm以下のものを用いる。保磁力の好まし
い範囲は1000〜20000eであり、これ以上の範
囲では記録時に磁気ヘッドが飽和しまた消磁が困難にな
る。磁性粉の比表面積は大きい程8/N比を改善する傾
向があるが、あまり比表面積が大きいと磁性粉へのバイ
ンダー中への分散が悪くなりまた効果が飽和する傾向を
有することが分った。一方、表面粗度が小さいと短波長
の記録感度が上昇する。
上記の特性を満足させうる磁性合金とし【はCo、 F
e−Co、 Fe−Co−Ni、C6−Niなど、また
これにCr、At、81等を添加した微粉末が用いられ
る。これらは金属塩をBH,等の還元剤で湿式還元した
微粉末、酸化鉄表面をBt化合物で被覆した後、H,ガ
ス中で乾式還元した微粉末、或いは合金を低圧アルゴン
中で蒸発させた微粉末などで、軸比1:5〜1:10を
有し、残留磁束密度Br−200(1〜1000ガウス
のもので、且つ上記保磁力及び界面積の条件を満たすも
のである。
e−Co、 Fe−Co−Ni、C6−Niなど、また
これにCr、At、81等を添加した微粉末が用いられ
る。これらは金属塩をBH,等の還元剤で湿式還元した
微粉末、酸化鉄表面をBt化合物で被覆した後、H,ガ
ス中で乾式還元した微粉末、或いは合金を低圧アルゴン
中で蒸発させた微粉末などで、軸比1:5〜1:10を
有し、残留磁束密度Br−200(1〜1000ガウス
のもので、且つ上記保磁力及び界面積の条件を満たすも
のである。
合金磁性粉は各種バインダーを用い【磁性塗料とするこ
とができるが、一般には熱硬化性樹脂系バインダー及び
電子線硬化系バインダーが好適であり、その他添加剤と
して分散剤、潤滑剤、帯電防止剤を常法に従って用いる
ことができる。BETi!m積比が4Btn”/Iの磁
性粉を用いるため、分散性に問題がある場合は分散剤と
しては活面活性剤や有機チタンカップリング剤などを用
いても良い。バインダーとしては塩化ビニル・酢酸ビニ
ル・ビニルアルコール共重合体、ポリウレタンプレポリ
マー及びポリイソシアネートより成るバインダー、或V
はこれにさらにニトロセルロースを加えたバインダー、
その他公知の熱硬化性バインダー、或いはイオン化エネ
ルギーに感応するアクリル系二重結合や!レイン系二重
結合などを樹脂の基として含有する放射線硬化型バイン
ダーなどが使用できる。
とができるが、一般には熱硬化性樹脂系バインダー及び
電子線硬化系バインダーが好適であり、その他添加剤と
して分散剤、潤滑剤、帯電防止剤を常法に従って用いる
ことができる。BETi!m積比が4Btn”/Iの磁
性粉を用いるため、分散性に問題がある場合は分散剤と
しては活面活性剤や有機チタンカップリング剤などを用
いても良い。バインダーとしては塩化ビニル・酢酸ビニ
ル・ビニルアルコール共重合体、ポリウレタンプレポリ
マー及びポリイソシアネートより成るバインダー、或V
はこれにさらにニトロセルロースを加えたバインダー、
その他公知の熱硬化性バインダー、或いはイオン化エネ
ルギーに感応するアクリル系二重結合や!レイン系二重
結合などを樹脂の基として含有する放射線硬化型バイン
ダーなどが使用できる。
通常の方法に従って、合金磁性粉末をバインダー及び所
定の溶剤並びに各i添加剤と混合して磁性塗料とし、こ
れをポリエステルペース岬の基体に塗布し、熱硬化また
は電子線硬化して破性膜を形成し、さらにバック層を同
様に形成し、そして全体にスーパーカレンダーを行って
所定の表面粗度のものに仕上げる。
定の溶剤並びに各i添加剤と混合して磁性塗料とし、こ
れをポリエステルペース岬の基体に塗布し、熱硬化また
は電子線硬化して破性膜を形成し、さらにバック層を同
様に形成し、そして全体にスーパーカレンダーを行って
所定の表面粗度のものに仕上げる。
本発明においてポリエステルベース等の[a[フィルム
基体の裏面に形成するバック層は、大別して2種のもの
が可能で、一方は以下に示す熱硬化性樹脂混合物、他方
は以下に示す放射線(イオン化性)樹脂組成物である。
基体の裏面に形成するバック層は、大別して2種のもの
が可能で、一方は以下に示す熱硬化性樹脂混合物、他方
は以下に示す放射線(イオン化性)樹脂組成物である。
バック層に用いる熱硬化性樹脂混合物としては、カーボ
ンブラック及び無機化合物粉末を添加した塩化ビニル・
酢酸ビニル會ビニルアルコール共重合体、ポリウレタン
プレポリマー及びポリイソシアネートより成る熱硬化性
バインダー、或いはこれにさらにニトロセルロースを加
えた熱硬化性がすぐれた作用を有することが分った。
ンブラック及び無機化合物粉末を添加した塩化ビニル・
酢酸ビニル會ビニルアルコール共重合体、ポリウレタン
プレポリマー及びポリイソシアネートより成る熱硬化性
バインダー、或いはこれにさらにニトロセルロースを加
えた熱硬化性がすぐれた作用を有することが分った。
バック層に用いる放射線硬化型樹脂混合物は、カーボン
ブラック及び無機化合物を添加したアクリル系、マレイ
ン系またはアリル系の二重給金な有する樹脂バインダー
である。なおこれらの、バインダーは磁性層のバインダ
ーとしても用いることができる。
ブラック及び無機化合物を添加したアクリル系、マレイ
ン系またはアリル系の二重給金な有する樹脂バインダー
である。なおこれらの、バインダーは磁性層のバインダ
ーとしても用いることができる。
本発明で用いるカーボンブラックは平均粒子径10〜3
00μmのものから選択する。10μm以下ではバック
層中で偏在する傾向があり、パック層表直はかえって粗
(なり、それに接触する磁性層の表面に悪影響を与え、
また導電性が低くなって多量を要する。300μm以上
では導電性は良いが上述のバック層表面の削れの問題が
増大し、また磁性面に削れくずが付着してドロップアウ
トを生じる。本発明においてはさらにモース硬度5以下
の無機化合物粉末を用いることによりカーボンブラック
のもろさの問題を完全に回避する。好ましい無機化合物
にはCaC0,、カオリン、Ba5O,、α−Fe、0
.などのモース硬度6以下の粉末がある。かかる粉末の
粒子径は40〜aOO川μのものが使用できる。なおり
−ボンプラックは常温下では問題を生じないが、上記の
ようにcaco、等を含有させることにより高温多湿下
(例えば40℃、80%RH)におけるパック面の削れ
の問題を完全に回避する。さらに、これにより磁性面の
削れの問題も解決されるものである。
00μmのものから選択する。10μm以下ではバック
層中で偏在する傾向があり、パック層表直はかえって粗
(なり、それに接触する磁性層の表面に悪影響を与え、
また導電性が低くなって多量を要する。300μm以上
では導電性は良いが上述のバック層表面の削れの問題が
増大し、また磁性面に削れくずが付着してドロップアウ
トを生じる。本発明においてはさらにモース硬度5以下
の無機化合物粉末を用いることによりカーボンブラック
のもろさの問題を完全に回避する。好ましい無機化合物
にはCaC0,、カオリン、Ba5O,、α−Fe、0
.などのモース硬度6以下の粉末がある。かかる粉末の
粒子径は40〜aOO川μのものが使用できる。なおり
−ボンプラックは常温下では問題を生じないが、上記の
ようにcaco、等を含有させることにより高温多湿下
(例えば40℃、80%RH)におけるパック面の削れ
の問題を完全に回避する。さらに、これにより磁性面の
削れの問題も解決されるものである。
またカーボンブラックと無機化合物粉末の割合は1:9
〜9:1(重量比)とし、かつこれらのパック層全量に
対する割合は20〜8o−で用いると良いことが分った
。
〜9:1(重量比)とし、かつこれらのパック層全量に
対する割合は20〜8o−で用いると良いことが分った
。
合金磁性粉はγ−i;’e、o、、CO含含有−pa、
o。
o。
などと比べ表面硬度が低いため、モース硬度6以上の無
機化合物粉末をバック層に用いると磁性面が削れ易いが
、本発明のよりにモース硬度6以下のものを用いること
によって、この問題を防止しうる。しかも、これらのも
のはカーボンブラックよりも分散性が良好なため、これ
らを入れることにより表面粗度が減少し、磁性面への形
状転写現象が避けられ、電磁特性が向上する。これは毫
−改善するだけでな(、磁性層との粘着及びシンチング
現象を減じ、さらに磁性層の表面粗度と相関してバック
層の表面粗度が(L6μm以下のときS/Nを良好に保
つことが分った。表面粗度が105μm以下になるとシ
ンチング現象、粘着性、走行性に問題が生じることが分
った。
機化合物粉末をバック層に用いると磁性面が削れ易いが
、本発明のよりにモース硬度6以下のものを用いること
によって、この問題を防止しうる。しかも、これらのも
のはカーボンブラックよりも分散性が良好なため、これ
らを入れることにより表面粗度が減少し、磁性面への形
状転写現象が避けられ、電磁特性が向上する。これは毫
−改善するだけでな(、磁性層との粘着及びシンチング
現象を減じ、さらに磁性層の表面粗度と相関してバック
層の表面粗度が(L6μm以下のときS/Nを良好に保
つことが分った。表面粗度が105μm以下になるとシ
ンチング現象、粘着性、走行性に問題が生じることが分
った。
バック層が熱硬化型である場合のバインダイ洛成分の比
率は、広い範囲で種々に変えることができるが、塩化ビ
ニル・酢酸ビニル愉ビニルアルプール共重合体及びポリ
ウレタンにつ入・ては、前者を10〜801!量チ、後
者を残部とし、ポリイソシアネートとして上記樹脂全量
:を100として5〜80M世部添加される。
率は、広い範囲で種々に変えることができるが、塩化ビ
ニル・酢酸ビニル愉ビニルアルプール共重合体及びポリ
ウレタンにつ入・ては、前者を10〜801!量チ、後
者を残部とし、ポリイソシアネートとして上記樹脂全量
:を100として5〜80M世部添加される。
上記のバインダー組成にさらにニトロセルロースを加え
る場合には、ニトロセルロース15〜6ON−ftjk
、%、塩化ビニル・酢酸ビニル・ビニルアルコール共重
合体15〜60重量%及びポリウレタン10〜70重量
%(ただし全量で100%)の範囲で用いうる。ポリイ
ソシアネートは上記樹脂全量を100とすると5〜80
1i量部添加されウル。なお、ニトロセルロースの添加
は粘着性をさらに低下させ、また耐摩耗性をさらに向上
させる。
る場合には、ニトロセルロース15〜6ON−ftjk
、%、塩化ビニル・酢酸ビニル・ビニルアルコール共重
合体15〜60重量%及びポリウレタン10〜70重量
%(ただし全量で100%)の範囲で用いうる。ポリイ
ソシアネートは上記樹脂全量を100とすると5〜80
1i量部添加されウル。なお、ニトロセルロースの添加
は粘着性をさらに低下させ、また耐摩耗性をさらに向上
させる。
本発明のバック層に放射線硬化型のバインダーを用いる
場合の放射線1合性二1結合を有するアクリル系二重結
合、マレイン系二重結合、或いはアリル系二重結合を有
する樹脂としては、次のものを使用しうる。
場合の放射線1合性二1結合を有するアクリル系二重結
合、マレイン系二重結合、或いはアリル系二重結合を有
する樹脂としては、次のものを使用しうる。
(I) 塩化ビニール系共重合体
塩化とニール−酢酸ビニール−ビニールアルコール共重
合体、塩化ビニールービニルアルーール共重合体、塩化
ビニールービニルアルスーループロビオン酸ビニール共
重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−マレイン酸共重
合体、塩化ビニール−酢酸ビ;−ルー末端oHm鎖ア、
A/中ル基共重合体、たとえばUCC社VROH。
合体、塩化ビニールービニルアルーール共重合体、塩化
ビニールービニルアルスーループロビオン酸ビニール共
重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−マレイン酸共重
合体、塩化ビニール−酢酸ビ;−ルー末端oHm鎖ア、
A/中ル基共重合体、たとえばUCC社VROH。
VYNC,VYEGX等またUCC社VERRIが挙げ
られる。
られる。
上記共重合体に後に述べる手法により、アクリル系二重
結合、マレイン酸系二重結合、アリル系二重結合を導入
し放射線感応変性を行ったもの (II) 飽和ポリエステル樹脂 フタル酸、イソフ/ル酸、テレフタル酸、マレイン酸、
マレイン醗酵導体、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸
、のよ5な飽和多塩基酸とエチレングリコール、ジエチ
レングリフール、グリセリン、トリメチロールプロパン
、Llプレピレングリコール、15ブタンジオ−々、ジ
プロピレングリコール、147’タンジオール、t6ヘ
キサンジオール、ペンタエリスリット、ソ羨ビトール、
グリセリン、ネオペンチルグリ;−ル、t4シクロヘキ
サンジメタツールのような多価アルコールとのエステル
結合により得られる飽和ポリエステル樹脂又はこれらの
ポリエステル樹脂をS Os l’J a等で変性した
樹脂(バイロン55S)。これらを彼に述べる手法によ
り放射線感応変性を行なったもの (2)不飽和ポリエステル樹脂 分子鎖中に放射線硬化性不飽和二重結合を含有するポリ
エステル化合物、例えば第(n)項の熱可塑性樹脂とし
て記載の多塩基酸と多価アル;−ルのエステル結合から
成る飽和ポリエステル樹脂で多塩基酸の一部をマレイン
酸とした放射線硬化性不飽和二重結合を含有する不飽和
ポリエステル樹脂、プレポリマー、オリゴマーを挙げゐ
ことができる。
結合、マレイン酸系二重結合、アリル系二重結合を導入
し放射線感応変性を行ったもの (II) 飽和ポリエステル樹脂 フタル酸、イソフ/ル酸、テレフタル酸、マレイン酸、
マレイン醗酵導体、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸
、のよ5な飽和多塩基酸とエチレングリコール、ジエチ
レングリフール、グリセリン、トリメチロールプロパン
、Llプレピレングリコール、15ブタンジオ−々、ジ
プロピレングリコール、147’タンジオール、t6ヘ
キサンジオール、ペンタエリスリット、ソ羨ビトール、
グリセリン、ネオペンチルグリ;−ル、t4シクロヘキ
サンジメタツールのような多価アルコールとのエステル
結合により得られる飽和ポリエステル樹脂又はこれらの
ポリエステル樹脂をS Os l’J a等で変性した
樹脂(バイロン55S)。これらを彼に述べる手法によ
り放射線感応変性を行なったもの (2)不飽和ポリエステル樹脂 分子鎖中に放射線硬化性不飽和二重結合を含有するポリ
エステル化合物、例えば第(n)項の熱可塑性樹脂とし
て記載の多塩基酸と多価アル;−ルのエステル結合から
成る飽和ポリエステル樹脂で多塩基酸の一部をマレイン
酸とした放射線硬化性不飽和二重結合を含有する不飽和
ポリエステル樹脂、プレポリマー、オリゴマーを挙げゐ
ことができる。
飽和ポリエステル樹脂の多塩基酸および多価アルコール
成分は第(I)項に記載した各化合物を挙げることがで
き、放射線硬化性不飽和二重結合としてはマレイン酸、
フマル酸等を挙げることができる。
成分は第(I)項に記載した各化合物を挙げることがで
き、放射線硬化性不飽和二重結合としてはマレイン酸、
フマル酸等を挙げることができる。
放射線硬化性不飽和ポリエステル樹脂の製法は、多塩基
酸成分1種以上と多価アルコール成分1種以上にマレイ
ン酸、フマル酸等を加え常法、すなわち触好存在180
〜200℃璧素雰囲気下脱水あるいは脱アルコール反応
の彼、240〜280℃まで昇温し、0.5〜1 ru
m Hgの減圧下縮合反応によりポリエステル樹脂を得
ることができる。!レイ/I!やフマル酸等の含有量は
、製造時の架橋、放射線感応性尋から酸成分中1〜40
モA/チで好ましくは10〜50モルチである。
酸成分1種以上と多価アルコール成分1種以上にマレイ
ン酸、フマル酸等を加え常法、すなわち触好存在180
〜200℃璧素雰囲気下脱水あるいは脱アルコール反応
の彼、240〜280℃まで昇温し、0.5〜1 ru
m Hgの減圧下縮合反応によりポリエステル樹脂を得
ることができる。!レイ/I!やフマル酸等の含有量は
、製造時の架橋、放射線感応性尋から酸成分中1〜40
モA/チで好ましくは10〜50モルチである。
(5)ポリビニルアルコール系樹脂
ポリビニλアルコール、ブチラールIIJ脂、アーhタ
ール樹脂、ホルマール樹脂及びこれらの成分の共重合体
。これら樹脂中に含まれる水酸基を後に述べる手法によ
り放射線感応化変性を行なったもの。
ール樹脂、ホルマール樹脂及びこれらの成分の共重合体
。これら樹脂中に含まれる水酸基を後に述べる手法によ
り放射線感応化変性を行なったもの。
(7)エポキシ系樹脂、フェノキシ樹脂ビスフェノール
Aとエピクロルヒドリン、メチルエビク0#ヒドリンの
反応によるエポキシ樹脂−シエル化学展(エピコート1
52,1549828.1001.f004,1007
)ダウケミカル製(DEN431. DER752,D
ER511゜DER151)、大日本インキ製(エビク
ロン400、エビクロン−aOO)、更に上記エポキシ
の高重合度樹脂であるUCC社製フェノキシ樹脂(PK
HA、PKHC,PKHH)集票化ビスフェノールAと
エピクロルヒドリンとの共重合体、大日本インキ化学工
業製(エビクロン14S。
Aとエピクロルヒドリン、メチルエビク0#ヒドリンの
反応によるエポキシ樹脂−シエル化学展(エピコート1
52,1549828.1001.f004,1007
)ダウケミカル製(DEN431. DER752,D
ER511゜DER151)、大日本インキ製(エビク
ロン400、エビクロン−aOO)、更に上記エポキシ
の高重合度樹脂であるUCC社製フェノキシ樹脂(PK
HA、PKHC,PKHH)集票化ビスフェノールAと
エピクロルヒドリンとの共重合体、大日本インキ化学工
業製(エビクロン14S。
152.153.1120 )等。
これら樹脂中に含まれるエポキシ基を利用して、放射線
感応変性を行ったもの (VT) 繊維素誘導体 各種分子量の繊le、累系訪導体も、また熱可塑性プラ
スチック成分として効果的である。その中でも、特に効
果的なものは硝化綿、セルローズアセトブチレート、エ
チルセルローズ、ブチルセルローズ、アセチルセルロー
ス等が好適であり、樹脂中の水酸基を活性して抜に述べ
る手法により放射線感応変性を行なったもの その他、放射性感応変性に用いることのできる樹脂とし
ては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステル
樹脂、ポリビニルビ日リドン樹脂及び誘導体(PVPオ
レフィン共重今体)、ポリアミド樹脂、ボリイ之ド樹脂
、フェノール樹脂、スピロアセクール樹脂、水酸基を含
有するアクリルエステル及びメタクリルエステルを少く
とも一種以上重合成分として含むアクリル系樹脂等も有
効である。
感応変性を行ったもの (VT) 繊維素誘導体 各種分子量の繊le、累系訪導体も、また熱可塑性プラ
スチック成分として効果的である。その中でも、特に効
果的なものは硝化綿、セルローズアセトブチレート、エ
チルセルローズ、ブチルセルローズ、アセチルセルロー
ス等が好適であり、樹脂中の水酸基を活性して抜に述べ
る手法により放射線感応変性を行なったもの その他、放射性感応変性に用いることのできる樹脂とし
ては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステル
樹脂、ポリビニルビ日リドン樹脂及び誘導体(PVPオ
レフィン共重今体)、ポリアミド樹脂、ボリイ之ド樹脂
、フェノール樹脂、スピロアセクール樹脂、水酸基を含
有するアクリルエステル及びメタクリルエステルを少く
とも一種以上重合成分として含むアクリル系樹脂等も有
効である。
さらに上記放射線感応変性熱可塑性樹脂に熱可臓性エラ
ストマー又はプレポリマーをブレンドするととKより、
一層強靭な塗膜とすることができる。さらに、下記に述
べるよさに、これらエラスト!−あるいはプレポリマー
が、同様に放射線感応性に変性された場合は、より効果
的である。以下に、上記放射線感応樹脂と組み合わせる
ことのできるエラストマー又はプレポリ!−を挙げる。
ストマー又はプレポリマーをブレンドするととKより、
一層強靭な塗膜とすることができる。さらに、下記に述
べるよさに、これらエラスト!−あるいはプレポリマー
が、同様に放射線感応性に変性された場合は、より効果
的である。以下に、上記放射線感応樹脂と組み合わせる
ことのできるエラストマー又はプレポリ!−を挙げる。
(I) ポリウレタンエラストi−及びプレポリ!−及
びテロマー ポリウレタンエラストマーは、耐摩耗性、PETフィル
ムへの接着性が良い点で特に有効である。
びテロマー ポリウレタンエラストマーは、耐摩耗性、PETフィル
ムへの接着性が良い点で特に有効である。
このようなウレタン化合物の例としては、イソシアネー
トとして、2.4−トルエンジイソシアネート、26−
トルエンジイソシアネート、t5−キシレンジイソシア
ネート、1.4−キシレンジイソシアネート、15−ナ
フタレンジイソシアネート、m−フェニレンジイソシア
ネート、p−フェニレンジイソシアネート、五s1−ジ
メチルー4.4′−シフェニルメタンジイソシアネー)
、4.4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、五す
−ジメチルビフエニレンジイソシアネー)、44’−ビ
フェニレンジイソシアネート、ヘキサメチレンシイツタ
アネート、イソフォロンジイソシアネート、ジシクμヘ
キシルメタンジイソシアネート、デスモジュールL1デ
スモジュールN等の各種多価インシアネートと、111
i!状飽和ポリエステル(エテンングリコール、ジエチ
レングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン
、14−ブタンジオール、t6−ヘキサンジオール、ペ
ンタエリスリット、ソルビトール、ネオペンチルクリコ
ール、L4−シクロヘキサンジメタツールの様な多価ア
ルプールと、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、
マレイン酸、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、の様
な飽和多塩基酸との縮重合によるもの)、線状飽和ポリ
エーテル(ポリエチレングリロール、ボリブpビレング
リスール、ポリナト2エチレングリ;−ル)やカブレラ
クタム、ヒト四キシン含有アクリル酸エステ羨、ヒドロ
キシ含有メタアクリル酸エステル蝉の各種ポリエステル
類の縮重介物より成るポリウレタンエラストマー、プレ
ポリマー、チルマーが有効である。
トとして、2.4−トルエンジイソシアネート、26−
トルエンジイソシアネート、t5−キシレンジイソシア
ネート、1.4−キシレンジイソシアネート、15−ナ
フタレンジイソシアネート、m−フェニレンジイソシア
ネート、p−フェニレンジイソシアネート、五s1−ジ
メチルー4.4′−シフェニルメタンジイソシアネー)
、4.4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、五す
−ジメチルビフエニレンジイソシアネー)、44’−ビ
フェニレンジイソシアネート、ヘキサメチレンシイツタ
アネート、イソフォロンジイソシアネート、ジシクμヘ
キシルメタンジイソシアネート、デスモジュールL1デ
スモジュールN等の各種多価インシアネートと、111
i!状飽和ポリエステル(エテンングリコール、ジエチ
レングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン
、14−ブタンジオール、t6−ヘキサンジオール、ペ
ンタエリスリット、ソルビトール、ネオペンチルクリコ
ール、L4−シクロヘキサンジメタツールの様な多価ア
ルプールと、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、
マレイン酸、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、の様
な飽和多塩基酸との縮重合によるもの)、線状飽和ポリ
エーテル(ポリエチレングリロール、ボリブpビレング
リスール、ポリナト2エチレングリ;−ル)やカブレラ
クタム、ヒト四キシン含有アクリル酸エステ羨、ヒドロ
キシ含有メタアクリル酸エステル蝉の各種ポリエステル
類の縮重介物より成るポリウレタンエラストマー、プレ
ポリマー、チルマーが有効である。
これらのエラストマーを放射線感応変性の各種熱可塑性
プラスチックスとそのまま組合せ【も良いが、更にウレ
タンエラストマーの末端のイソシアネート基又は水酸基
と反応するアクリル系二重結合又はアリル系二重結合醇
を有する単量体と反応させることにより、放射線感応性
に変性することは非常に効果的である。
プラスチックスとそのまま組合せ【も良いが、更にウレ
タンエラストマーの末端のイソシアネート基又は水酸基
と反応するアクリル系二重結合又はアリル系二重結合醇
を有する単量体と反応させることにより、放射線感応性
に変性することは非常に効果的である。
(If) アクリル二Fリルーブタジエン共重合エラス
トマー シンクレアベトロケミカル社製ポリBDリクイツドレン
ジとして市販されている末端水酸基のあるアクリロニト
リルブタジェン共1丁合体プレポリマー、あるいは日本
ゼオン社製ハイカー1452J等のエラストマーは、特
にブタジェン中の二重結合が放射線によりラジカルを生
じ架橋及び重合させるエラストマー成分として適する。
トマー シンクレアベトロケミカル社製ポリBDリクイツドレン
ジとして市販されている末端水酸基のあるアクリロニト
リルブタジェン共1丁合体プレポリマー、あるいは日本
ゼオン社製ハイカー1452J等のエラストマーは、特
にブタジェン中の二重結合が放射線によりラジカルを生
じ架橋及び重合させるエラストマー成分として適する。
(I[[) ポリブタジエンエラストマーシンクレアペ
トロケミカル社製ポリBDリタイツドレジンR−15等
の低分子量末端水酸基を有するプレポリマーが特に熱可
塑性プラスチックとの相溶性の点で好適である。R−1
5プレポリマーにおいては分子末端が水酸基となつ℃い
る為分子末端をアクリル系不飽和二重結合を付加するこ
とにより放射線感応性を高めることが可能であり、バイ
ンダーとし【更に有利となる。
トロケミカル社製ポリBDリタイツドレジンR−15等
の低分子量末端水酸基を有するプレポリマーが特に熱可
塑性プラスチックとの相溶性の点で好適である。R−1
5プレポリマーにおいては分子末端が水酸基となつ℃い
る為分子末端をアクリル系不飽和二重結合を付加するこ
とにより放射線感応性を高めることが可能であり、バイ
ンダーとし【更に有利となる。
また、ポリブタジェンの環化物日本合成ゴム製CBR−
Mqo1も熱可塑性プラスチックスとの組合せによりす
ぐれた性能を発揮する。特に、濃化されたポリブタジェ
ンは、ポリブタジェン本来の有する不飽和結合のラジカ
ルにより放射線による架橋重合の効率が良く、バインダ
ーとして優れた性質を有している。
Mqo1も熱可塑性プラスチックスとの組合せによりす
ぐれた性能を発揮する。特に、濃化されたポリブタジェ
ンは、ポリブタジェン本来の有する不飽和結合のラジカ
ルにより放射線による架橋重合の効率が良く、バインダ
ーとして優れた性質を有している。
その偏熱可塑性エラストマー及びそのプレポリ!−の系
で好適なものとし【は、スチレン−ブタジェンゴム、塩
化ゴム、アクリルゴム、イソプレンゴム及びその環化物
(日本合成ゴム製CrR701)、エポキシ変性ゴム、
内部可塑化飽和線状ポリエステル(東洋紡バイーン≠1
oo)、等のエラス)−r−も下記に述べる放射線感応
変性処理をほどこすことにより有効に利用できる。その
他エラストマー以外に塩酢ビ共重合体、エポキシ、フェ
ノキシ、繊維岬を加えても良v0 次に、放射線感応性バインダー合成例を説明する。
で好適なものとし【は、スチレン−ブタジェンゴム、塩
化ゴム、アクリルゴム、イソプレンゴム及びその環化物
(日本合成ゴム製CrR701)、エポキシ変性ゴム、
内部可塑化飽和線状ポリエステル(東洋紡バイーン≠1
oo)、等のエラス)−r−も下記に述べる放射線感応
変性処理をほどこすことにより有効に利用できる。その
他エラストマー以外に塩酢ビ共重合体、エポキシ、フェ
ノキシ、繊維岬を加えても良v0 次に、放射線感応性バインダー合成例を説明する。
トリレンジイソシアネーFのアダクトの製法a)塩化ビ
;−〃酢酸ビニール共重合系樹脂(放射線感応変性樹脂
)のアクリル変性体の合成ビニライトVAGH7S 0
部とトルエン1250部シクロヘキサノン500部を5
14つロプラスコに仕込み加熱溶解し、80℃昇温昇温
ジトリレンジイソシアネート−ヒドロキシエチルメタア
クリレートアダクトを614部加え、更にオクチル酸ス
、([1012部、ハイドロキノン[1012部加え8
0℃でN、気流中NGO反応率が90%となるまで反応
せしめる。反応終了後冷却し、メチルエチルケトン12
50部を加え稀釈する。
;−〃酢酸ビニール共重合系樹脂(放射線感応変性樹脂
)のアクリル変性体の合成ビニライトVAGH7S 0
部とトルエン1250部シクロヘキサノン500部を5
14つロプラスコに仕込み加熱溶解し、80℃昇温昇温
ジトリレンジイソシアネート−ヒドロキシエチルメタア
クリレートアダクトを614部加え、更にオクチル酸ス
、([1012部、ハイドロキノン[1012部加え8
0℃でN、気流中NGO反応率が90%となるまで反応
せしめる。反応終了後冷却し、メチルエチルケトン12
50部を加え稀釈する。
秦トリレンジイソシアネー) (TDI)の2−ヒドロ
キシエチルメタアクリレ−) (2HEMA)アダクト
の製法 トリレンジイソシアネート348部をN、気流中1tの
4つロフラスコ内で60℃に加熱後、2−へキサエチレ
ンメタアクリレート240部、オクチル酸スズ[107
部、ハイドレキ2フ105部を反応缶内の温度が80〜
85℃となるように冷却コントロールしながら滴下終了
後80℃で3時間攪拌し反応を完結させる。反応終了後
取り出し【冷却後白色ペースト状のTDIの2HEMA
を得た。
キシエチルメタアクリレ−) (2HEMA)アダクト
の製法 トリレンジイソシアネート348部をN、気流中1tの
4つロフラスコ内で60℃に加熱後、2−へキサエチレ
ンメタアクリレート240部、オクチル酸スズ[107
部、ハイドレキ2フ105部を反応缶内の温度が80〜
85℃となるように冷却コントロールしながら滴下終了
後80℃で3時間攪拌し反応を完結させる。反応終了後
取り出し【冷却後白色ペースト状のTDIの2HEMA
を得た。
b)ブチラール樹脂アクリル変性体の合成(放射線感応
変性樹脂) ブチラール樹脂積木化学製BM−81e 0部をトルエ
ン1912部シクロヘキサノン714部1514つロフ
ラスーに仕込み加熱溶解し80℃昇温昇温ジトリレンジ
イソシアネート−ヒドロキシエチルメタアクリレートア
ダクト壷を74部加え、更にオクチル酸スズ1015部
、ハイドロキノンα015部を加え、80℃でN、気流
中NCO反応率が90−以上となるまで反応せしめる。
変性樹脂) ブチラール樹脂積木化学製BM−81e 0部をトルエ
ン1912部シクロヘキサノン714部1514つロフ
ラスーに仕込み加熱溶解し80℃昇温昇温ジトリレンジ
イソシアネート−ヒドロキシエチルメタアクリレートア
ダクト壷を74部加え、更にオクチル酸スズ1015部
、ハイドロキノンα015部を加え、80℃でN、気流
中NCO反応率が90−以上となるまで反応せしめる。
反応終了後冷却しメチルエチルケトンにて稀釈する。
C)飽和ポリエステル樹脂アクリル変性体の合成(放射
線感応変性樹脂) 東洋紡製パイロンRV−200100部をト/l/:C
ン116部、メチルエチルケトン114部に加熱溶解し
80℃昇温後TDIの2HEM人アダクト棗を455部
加え、オクチル酸スズαo o yg5、ハイドロキノ
ン1003部を添加し、N、気流中80”CでNCO反
応率90%以上となるまで反応せしめる。
線感応変性樹脂) 東洋紡製パイロンRV−200100部をト/l/:C
ン116部、メチルエチルケトン114部に加熱溶解し
80℃昇温後TDIの2HEM人アダクト棗を455部
加え、オクチル酸スズαo o yg5、ハイドロキノ
ン1003部を添加し、N、気流中80”CでNCO反
応率90%以上となるまで反応せしめる。
d)エポキシ樹脂アクリル変性体の合成(放射線感応変
性樹脂) シェル化学展エビコー)1007 400部をトルエン
50部MP2に50部に加熱溶解後NN−ジメチルベン
ジルアミン1006部、ハイドロキノン1003部を添
加し80℃とし、アクリル酸69部を滴下し80℃で酸
化5以下となるまで反応せしめる。
性樹脂) シェル化学展エビコー)1007 400部をトルエン
50部MP2に50部に加熱溶解後NN−ジメチルベン
ジルアミン1006部、ハイドロキノン1003部を添
加し80℃とし、アクリル酸69部を滴下し80℃で酸
化5以下となるまで反応せしめる。
・)ウレタンエラストマーアクリル変性体の合成(放射
線感応エラストマー) 末端インシアネートのジフェニルメタンジイソシアネー
ト(MDI)系ウレタンプレポリマー(日本ポリウレタ
ン製ニッポラン4040)2501p、2HEMA32
.5部、ハイドロキノン0,07部、オクチル酸スズ0
.00部部を反応缶に入れ、60℃に加熱溶解後TDI
4x5部を反応缶内の温度が80〜90℃となる様に冷
却しながら滴下し、滴下終了後80℃でNCO反応率9
5チ以上となるまで反応せしめる。
線感応エラストマー) 末端インシアネートのジフェニルメタンジイソシアネー
ト(MDI)系ウレタンプレポリマー(日本ポリウレタ
ン製ニッポラン4040)2501p、2HEMA32
.5部、ハイドロキノン0,07部、オクチル酸スズ0
.00部部を反応缶に入れ、60℃に加熱溶解後TDI
4x5部を反応缶内の温度が80〜90℃となる様に冷
却しながら滴下し、滴下終了後80℃でNCO反応率9
5チ以上となるまで反応せしめる。
f)ポリエーテル系末端ウレタン変性エラスト!−アク
リル変性体の合成(放射線加速器2ストマー) 日本ポリウレタン社製ボリエーテ#p’T()−so6
250部、2HEMA32.5部、ハイドロキノン10
07部、オクチル酸スズα00部部を反応缶に入れ80
℃に加熱溶解後TDIJN5部を反応缶内の温度が80
〜90℃となるように冷却しながら滴下し、滴下終了後
80℃でNCO反応率95チ以上となるまで反応せしめ
る。
リル変性体の合成(放射線加速器2ストマー) 日本ポリウレタン社製ボリエーテ#p’T()−so6
250部、2HEMA32.5部、ハイドロキノン10
07部、オクチル酸スズα00部部を反応缶に入れ80
℃に加熱溶解後TDIJN5部を反応缶内の温度が80
〜90℃となるように冷却しながら滴下し、滴下終了後
80℃でNCO反応率95チ以上となるまで反応せしめ
る。
g)ポリブタジェンエラストマーアクリル変性体の合成
(放射線感応ニジストマー) シンクレアペ)Elケミカル社製低分子量末端水酸基ポ
リブタジエンボリBDリクイットレジンR−15250
部、2HEMA515部、ハイドロキノン0.007部
、オクチル酸スズ1009部を反応缶に入れ、80℃に
加熱溶解後TDIJL5部を反応缶内の温度が80〜9
0℃となるように冷却しながら滴下し、滴下終了後80
℃でNGO反応率95チ以上となるまぐ反応せしめる。
(放射線感応ニジストマー) シンクレアペ)Elケミカル社製低分子量末端水酸基ポ
リブタジエンボリBDリクイットレジンR−15250
部、2HEMA515部、ハイドロキノン0.007部
、オクチル酸スズ1009部を反応缶に入れ、80℃に
加熱溶解後TDIJL5部を反応缶内の温度が80〜9
0℃となるように冷却しながら滴下し、滴下終了後80
℃でNGO反応率95チ以上となるまぐ反応せしめる。
また高分子には放射線照射により崩壊するものと分子間
に架橋を起すものが知られている0分子間に架橋を起す
ものとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリス
チレン、ポリアクリル酸エステル、ポリアクリルアミド
、ポリ塩化ビニル、ポリエステA/、ポリビニルピロリ
ドンゴム、ポリビニルアルコール、ポリアクロレイン力
する。この様な架橋型ポリマーであれば上記のよ5な肇
性を特に施さなくても、架橋反応が起るので、そのまま
放射線架橋用バックコート樹脂として使用可能である。
に架橋を起すものが知られている0分子間に架橋を起す
ものとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリス
チレン、ポリアクリル酸エステル、ポリアクリルアミド
、ポリ塩化ビニル、ポリエステA/、ポリビニルピロリ
ドンゴム、ポリビニルアルコール、ポリアクロレイン力
する。この様な架橋型ポリマーであれば上記のよ5な肇
性を特に施さなくても、架橋反応が起るので、そのまま
放射線架橋用バックコート樹脂として使用可能である。
さらにまた、この方法によれば溶剤を使用しない無溶剤
型の樹脂であっても短時間で硬化することができるので
、この様な樹脂をバンクコート用として用いることもで
きる。
型の樹脂であっても短時間で硬化することができるので
、この様な樹脂をバンクコート用として用いることもで
きる。
また、本発明のバックコートの架橋に使用する活性エネ
ルギー線としては、放射線加速器を線源とした電子線、
C,1(lを線源としたr−線、B rli6を線源と
したβ−線、X線発生器を線源としたX−線等が使用さ
れる。
ルギー線としては、放射線加速器を線源とした電子線、
C,1(lを線源としたr−線、B rli6を線源と
したβ−線、X線発生器を線源としたX−線等が使用さ
れる。
特に開側線源としては吸収線量の制御、製造工程ライン
への導入、電離放射線のしゃ閉尋の見地から放射線加熱
器により放射線を使用する方法が有利である。
への導入、電離放射線のしゃ閉尋の見地から放射線加熱
器により放射線を使用する方法が有利である。
バック層を硬化する際に使用する放射線特性としては、
透過力の面から加速電圧100〜75すKV好ましくは
150−50@KVの放射線加速器を用い吸収線量を1
5〜20メガツツドになるよ5に照射するのが好都合で
ある。
透過力の面から加速電圧100〜75すKV好ましくは
150−50@KVの放射線加速器を用い吸収線量を1
5〜20メガツツドになるよ5に照射するのが好都合で
ある。
本発明のバック層硬化に際しては、米国エナージーサイ
エンス社にて製造されている低線量タイプの放射線加速
器(エレクトロカーテンシステム)等がテープコーティ
ング加エラインへの導入、加速器内部の2次XSの遮蔽
等に極めて有利である。
エンス社にて製造されている低線量タイプの放射線加速
器(エレクトロカーテンシステム)等がテープコーティ
ング加エラインへの導入、加速器内部の2次XSの遮蔽
等に極めて有利である。
勿論、従来より放射線加速材として広く活用されている
ところのファンデグラフ型加速器を使用しても良〜箋。
ところのファンデグラフ型加速器を使用しても良〜箋。
また、放射線架橋に際しては% NlガスH・ガス等の
不活性ガス気流中で放射線をバック層に照射することが
重要であり、空気中で放射線を照射することは、バイン
ダー成分の架橋に際し放射線照射により生じたO、等の
影響でポリ1−中に生じたラジカルが有利に架橋反応に
働く事を阻害するので極めて不利である。
不活性ガス気流中で放射線をバック層に照射することが
重要であり、空気中で放射線を照射することは、バイン
ダー成分の架橋に際し放射線照射により生じたO、等の
影響でポリ1−中に生じたラジカルが有利に架橋反応に
働く事を阻害するので極めて不利である。
゛ 従って、?、!i性エネルギー線を照射する部分の
雰囲気は、特に酸素濃度が最大で1%のN、、He。
雰囲気は、特に酸素濃度が最大で1%のN、、He。
CO,等の不活性ガス雰囲気に保つことが重要となる。
また、バック層または磁性層のバインダー成分の一部に
はアクリル酸、メタクリ、41Lアクリルアミド、メタ
クリルアミド等の放射線硬化性単量体を含んでも良い。
はアクリル酸、メタクリ、41Lアクリルアミド、メタ
クリルアミド等の放射線硬化性単量体を含んでも良い。
放射線硬化性樹脂は耐摩耗性及び接着性及び柔軟性を改
醤するために、さらにポリウレタンエラストマー及びポ
リウレタンプレポリマー、アクリロニトリル・ブタジェ
ン共重合体エラX ) マー、ボリブタジエンエラスト
マーエボキシ樹脂、フェノキシ樹脂、繊維業、塩化ビニ
ル・酢酸ビニル共1合等を併用するとともできる。
醤するために、さらにポリウレタンエラストマー及びポ
リウレタンプレポリマー、アクリロニトリル・ブタジェ
ン共重合体エラX ) マー、ボリブタジエンエラスト
マーエボキシ樹脂、フェノキシ樹脂、繊維業、塩化ビニ
ル・酢酸ビニル共1合等を併用するとともできる。
バック層が放射線硬化型である3−以下含有させれば十
分であることが分った。
分であることが分った。
以下本発明の実施例を詳しく説明する。
磁性層1
湿式還元法により種々の合金粉末を製造した。
これらは、軸比(短軸/長軸)が1A〜1/10の針状
粒子より成り、残留磁束密度2000〜3000ガウス
、保磁力1000〜20060e。
粒子より成り、残留磁束密度2000〜3000ガウス
、保磁力1000〜20060e。
BET表面積比45〜7G?n@/#を有するものであ
った。これらの磁性粉を次の配合比で通常の方法で混合
した。
った。これらの磁性粉を次の配合比で通常の方法で混合
した。
重量部
pe−Co合金粉末 1 ロθ
メチルエチルケトン/トルエン(50150) 250
ンリスチン酸 2 ソルビタントリステアレート 2 この混合物にポリイソシアネート(バイエル社製デスモ
ジュールL)30重量部加え【磁性塗料とし、ポリエス
テルフィルふに15μの厚さで形成し、カレンダー加工
した。
ンリスチン酸 2 ソルビタントリステアレート 2 この混合物にポリイソシアネート(バイエル社製デスモ
ジュールL)30重量部加え【磁性塗料とし、ポリエス
テルフィルふに15μの厚さで形成し、カレンダー加工
した。
実施例1
バック層として次の樹脂組成を混合した。
重量部
カーボンブラック(80mμ)25
CaCOs (10111rnμ) 25メチルエチル
ケトン ただしカーボンブラックと(:aCO,の比は種々変化
させた。この混合物にポリイソシアネート(デスモジュ
ールL)をsozgz部加えて混合し、上記の磁性層を
設けたポリエステルフィル^の裏面に厚さ15μに塗布
し、乾燥し、カレンダー加工をし、そして熱硬化し、裁
断してビデオテープとした。
ケトン ただしカーボンブラックと(:aCO,の比は種々変化
させた。この混合物にポリイソシアネート(デスモジュ
ールL)をsozgz部加えて混合し、上記の磁性層を
設けたポリエステルフィル^の裏面に厚さ15μに塗布
し、乾燥し、カレンダー加工をし、そして熱硬化し、裁
断してビデオテープとした。
上記磁性層及びバック層の表面粗度はカレンダー加工を
種々に調整することにより磁性層については101〜0
.12μm1 バック層については[LO5〜0.8μ
mのものを得た。
種々に調整することにより磁性層については101〜0
.12μm1 バック層については[LO5〜0.8μ
mのものを得た。
実施例2
実施例1において、バック層の組成を次のようにした他
は、同じ工程及び条件下に磁性層の光面粗度α01〜(
L12μm、及びバック層の表面粗度α口5〜(L8μ
mのビデオテープを製造した。
は、同じ工程及び条件下に磁性層の光面粗度α01〜(
L12μm、及びバック層の表面粗度α口5〜(L8μ
mのビデオテープを製造した。
重量部
ニトロセルロース SO
(ダイセル社製ニドpセルロース)
塩化ビニルΦ酢酸ビニルOビニルアA/コール 2゜共
1合体(VAGH) カーボンブラック(100mts) 50ボリクレタン
プVポリマー 50 (デイスモコール22) BaSO4(soum) 2 a 実施例6 カーボンブラック(201稗−) 20部アクリル変性
塩ビー酢ビ−ビニルアルコール 3t)混載!合体 力オ!J y(sooms) 255 部アクリル変性ポリウレタンエラストマ 20部混合溶
剤(MI BK/)ルエ2−1/i ) S OO部上
記混合物をボールミル中5時間分散させ、磁性面が形成
されているポリエステルフィルムの裏面に乾燥厚t5に
なるように塗布し、エレクトロカーテンタイプ電子線加
速装置を用いて加速電圧150に@V、電極電流10m
A、吸収線量5 Mrad 。
1合体(VAGH) カーボンブラック(100mts) 50ボリクレタン
プVポリマー 50 (デイスモコール22) BaSO4(soum) 2 a 実施例6 カーボンブラック(201稗−) 20部アクリル変性
塩ビー酢ビ−ビニルアルコール 3t)混載!合体 力オ!J y(sooms) 255 部アクリル変性ポリウレタンエラストマ 20部混合溶
剤(MI BK/)ルエ2−1/i ) S OO部上
記混合物をボールミル中5時間分散させ、磁性面が形成
されているポリエステルフィルムの裏面に乾燥厚t5に
なるように塗布し、エレクトロカーテンタイプ電子線加
速装置を用いて加速電圧150に@V、電極電流10m
A、吸収線量5 Mrad 。
N3ガス中で電子線をバック層に照射し、硬化を行った
後、カレンダー加工して巻き取り、i/2”ビデオ中に
切断した。
後、カレンダー加工して巻き取り、i/2”ビデオ中に
切断した。
実施例4
カーボンブラック(151mμ) 25部CaCO5(
1o(1m) 25部 アクリル変性ポリエステル樹脂 60部混合溶剤 30
0部 上記混合物を実施例3と同様に調製しサンプルを得た。
1o(1m) 25部 アクリル変性ポリエステル樹脂 60部混合溶剤 30
0部 上記混合物を実施例3と同様に調製しサンプルを得た。
実施例5
カーポンプフック(soomμ) 20部カオリン(8
oma) 2o@ Cacts (100ma) 20部 アクリル変性ポリウレタンエラストマー 30部混合溶
剤 !$00部 上記混合物を実施例3と同様に調製し、f′ンブルを得
た。
oma) 2o@ Cacts (100ma) 20部 アクリル変性ポリウレタンエラストマー 30部混合溶
剤 !$00部 上記混合物を実施例3と同様に調製し、f′ンブルを得
た。
磁性層とバック層の形成順序による効果を検討するため
に磁性層2.5を用意した。
に磁性層2.5を用意した。
磁性層2
磁性層1と同様な磁性合金粉末及びベースを用い、次の
混合物 重量部 F・−Co−Ni合金粉末 100 ボリビニルプチラーA/11脂b) 1 0アクリル二
重結合導入クレタ2e) 1 0メチルエチルケトン/
トルエ2(50150) 250をポリエステルフィル
ムに45μの厚さに塗布し、電子線硬化とカレンダー加
工を行った。
混合物 重量部 F・−Co−Ni合金粉末 100 ボリビニルプチラーA/11脂b) 1 0アクリル二
重結合導入クレタ2e) 1 0メチルエチルケトン/
トルエ2(50150) 250をポリエステルフィル
ムに45μの厚さに塗布し、電子線硬化とカレンダー加
工を行った。
磁性層5
磁性層2の製造法と同じ方法を用い、次の組成を用〜・
て配録媒体を製造した。
て配録媒体を製造した。
重量部
Fe−Co−Ni合金粉末 100
飽和ポリエステル樹脂 5
アクリル導入塩化ビニルアルコール共重合体 a)(重
合度1sOO) 1 0 混合溶剤 25G これらの磁性層2.3及び前述の磁性層1と、実施例1
.5.4.50バック層を適当に順序を変えて形成しビ
デオテープとした。実施例を含めて形成順序は次表の通
りである。いずれの場合も各層の形成時にそれぞれカレ
ンダー加工を行った。
合度1sOO) 1 0 混合溶剤 25G これらの磁性層2.3及び前述の磁性層1と、実施例1
.5.4.50バック層を適当に順序を変えて形成しビ
デオテープとした。実施例を含めて形成順序は次表の通
りである。いずれの場合も各層の形成時にそれぞれカレ
ンダー加工を行った。
嚢中■、■はその顔に当該層を形成したことを示す。
また比較例として実施例1においてcaco、を同量の
カーボンブラックと置換したもの(比較例1)、実施例
1においてカーボンブラックを同量のCaC0,と置換
したもの(比較例2)、実施例1にお〜・てカーボンブ
ラック及びcaco、を同量のAl、O,粉末と置換し
たもの(比較例I)及び磁性層1のみ(パック層なし)
のもの(比較例りを用意した。
カーボンブラックと置換したもの(比較例1)、実施例
1においてカーボンブラックを同量のCaC0,と置換
したもの(比較例2)、実施例1にお〜・てカーボンブ
ラック及びcaco、を同量のAl、O,粉末と置換し
たもの(比較例I)及び磁性層1のみ(パック層なし)
のもの(比較例りを用意した。
そして同じ宍に実施例及び比較例の11特性を示した。
なお嵌に示したものの弐間粗度はいずれも本発明の定義
範囲に入るものである。
範囲に入るものである。
結果の検討
上記の実施例1のビデオテープの表面粗度について検討
した。第1図はビデオテープな五8m/BLaQで駆動
し、中心周波数4.5MH!で記録・再生した場合のS
/N比(相対値)を示す。ただし曲線の添字は磁性層の
表面粗度である。これから分るように、磁性層の表面粗
度が108μm以下で、バック層の表面粗度が16μm
以下のと館に8/N比を高く保つことができる。実施例
2.5.4.5についても全く同様であった。次に、走
行摩擦について検討したところ、バック層の光面粗度c
t、o5μm以下では摩擦が大きいことが分った。
した。第1図はビデオテープな五8m/BLaQで駆動
し、中心周波数4.5MH!で記録・再生した場合のS
/N比(相対値)を示す。ただし曲線の添字は磁性層の
表面粗度である。これから分るように、磁性層の表面粗
度が108μm以下で、バック層の表面粗度が16μm
以下のと館に8/N比を高く保つことができる。実施例
2.5.4.5についても全く同様であった。次に、走
行摩擦について検討したところ、バック層の光面粗度c
t、o5μm以下では摩擦が大きいことが分った。
実施例1について、磁性層の表面粗度がα08μ以下で
且つバック層の表面粗度が905〜0.4μmの範囲に
あるものについて、合金粉末のBET比表面積とS/N
との関係を調べたところ第2図に示す結果を得た。ただ
し55 dBを基準とした。
且つバック層の表面粗度が905〜0.4μmの範囲に
あるものについて、合金粉末のBET比表面積とS/N
との関係を調べたところ第2図に示す結果を得た。ただ
し55 dBを基準とした。
これからBET値48 xi”71以上のときにすぐれ
た特性が得られることが分る。他の実施例も同様であっ
た。
た特性が得られることが分る。他の実施例も同様であっ
た。
電気抵抗の関係を実施例1について調べた結果を第3図
に示した。これから削れの少ない範囲はカーボンブラッ
クとCaCO5の比が9/1以下であることが分った。
に示した。これから削れの少ない範囲はカーボンブラッ
クとCaCO5の比が9/1以下であることが分った。
これは一方電気抵抗が上記の比が1/9以下のときに大
きくなる点と併せ考えて9/1〜1/9の範囲が好適で
あることが分った。
きくなる点と併せ考えて9/1〜1/9の範囲が好適で
あることが分った。
次に、上記の所定の合金磁性粉及び所定の表面粗度(両
面)を満たすものについて他の特性を示す上表を参照す
る。バック面の削れはカーボンブラックのみの場合には
大きく(比較例1)、これに対応してカーボンブラック
の落ちによりドロップアウトが大きくなる。一方CaC
0,のみをバック層に用いたときは削れはないが電気抵
抗が大館\・ために帯電して同じくドロップアウトを増
大する(比較例2)。Al20mのみではバック面の削
れは小さく1が帯電及び磁性面の削れが大きくなってド
ロップアウトを増やす(比較例5)。勿論バック層がな
ければ問題外である(比較例b)。一方、本発明のもの
はバック面の削れ、ドロップアウト、シンチング、磁性
面の削れ及び電気抵抗の点ですべてすぐれていることが
分る。熱硬化盤のグループム、Bと放射ils硬化型の
グループC,D。
面)を満たすものについて他の特性を示す上表を参照す
る。バック面の削れはカーボンブラックのみの場合には
大きく(比較例1)、これに対応してカーボンブラック
の落ちによりドロップアウトが大きくなる。一方CaC
0,のみをバック層に用いたときは削れはないが電気抵
抗が大館\・ために帯電して同じくドロップアウトを増
大する(比較例2)。Al20mのみではバック面の削
れは小さく1が帯電及び磁性面の削れが大きくなってド
ロップアウトを増やす(比較例5)。勿論バック層がな
ければ問題外である(比較例b)。一方、本発明のもの
はバック面の削れ、ドロップアウト、シンチング、磁性
面の削れ及び電気抵抗の点ですべてすぐれていることが
分る。熱硬化盤のグループム、Bと放射ils硬化型の
グループC,D。
Eを比較すれば、放射性硬化型の方が出力が大館い、と
れはこの臘の方がバック面の表面性が良いために、磁性
面への裏層転写が少ないためと思われる。また磁性層の
バインダーが放射線硬化型であるグループEは他のグル
ープA〜Dのものより大きい出力が得られる。
れはこの臘の方がバック面の表面性が良いために、磁性
面への裏層転写が少ないためと思われる。また磁性層の
バインダーが放射線硬化型であるグループEは他のグル
ープA〜Dのものより大きい出力が得られる。
なお上記の測定は次のよ5にして行った。
シンチング現象
一般市販のVH8方式VTRを用〜1【、テープ全長を
早送りした稜早戻しを行ない、残り50寓の所で停止し
、更に早戻しを最後まで行な5゜然る後、テープの捲き
状態を目視により観察した。
早送りした稜早戻しを行ない、残り50寓の所で停止し
、更に早戻しを最後まで行な5゜然る後、テープの捲き
状態を目視により観察した。
テープ層間にすき間がなく捲き状態が良好な場合を良好
としそしてテープ層間にすき間が発生した場合を不良と
した。
としそしてテープ層間にすき間が発生した場合を不良と
した。
バック層及び磁性層の削れ
一般市販のVH8方式VTRを用い、4G’Cの温度及
び80%相対湿度の環境化で100回走行させた後の削
れを観察した。
び80%相対湿度の環境化で100回走行させた後の削
れを観察した。
電磁特性
■ 中心周波数5MHzで記録・再生した場合のS/N
比(相対値)を示す。
比(相対値)を示す。
V HS f、) V T Rを改造し、5MHz迄測
定出来るようにした。
定出来るようにした。
■ ドロップアウトは15μsでの値であり、個/ M
iNである。
iNである。
電顕撮影法
■ 透過電顕により、テープからの抽出法による。それ
により平均粒子径を測定する。
により平均粒子径を測定する。
■ 走査型電顕により、断面写真法による。この場合、
粒子が凝集している場合があるのt5バラツキが大の場
合は最小粒子径を平均粒子径とする。
粒子が凝集している場合があるのt5バラツキが大の場
合は最小粒子径を平均粒子径とする。
表面粗度
タリステップ(TAYLOR−HOBSON社製)を用
〜1て得たチャートから20点平均法でめた。
〜1て得たチャートから20点平均法でめた。
カットオフ(L17ii+、針圧211v、針(LIX
2.5/jmを用いた。
2.5/jmを用いた。
第1図は義気記録媒体の磁性層及びパック層の赤面粗度
とS/Hの関係を示すグラフ、第2図は合金磁性粉末の
BET比弐面積とS/Nの関係を示すグラフ、及び第3
図はCaCO5とカーボンブラックが削れと光間抵抗に
及ぼす影響を示すグラフである。 第1図 第2図 第3図 0 □カー/fζ′ンフ゛°クツクーー 100100
COCO2−0 第1頁の続き 0発 明 者 有 岡 博 之 東京都中央区式会社内 0発 明 者 久保1) 悠−東京都中央区式会社内 旧本橋1丁目1旙1号 ティーディーケイ株旧本橋1丁
目1旙1号 ティーディーケイ株手続補正書 昭和59年7月6[1 特許庁長官 志 賀 学 殿 ’F (’lの表示 昭和58イ「 特願第 1666
76 シJ゛発明の名称 磁気記録媒体 補止をする者 11件との関係 特許出願人 名 称 (506)ティーディーケイ株式会社代理人 〒】α1 ’−=、 563?MP−、T、、’ 、、 −=補正
の対q( =nj づ 」− L 補正の内容 別紙の通り 1、 明m書第30百第10行に1メチルエチルケトン
」とあるを次の通り訂正する。 「 メチルエチルケトン 250 ステアリン酸 5 ミリスチン削ミリスチル 2 」 2、 明細11F第31頁第14行ニl’−BaSO4
(soμm)20」とある次に、改行して次の通り加入
する。 「 メチルエチルケトン 250 ステアリン酸 5 ミリスチン酸ミリスチル 2 179−
とS/Hの関係を示すグラフ、第2図は合金磁性粉末の
BET比弐面積とS/Nの関係を示すグラフ、及び第3
図はCaCO5とカーボンブラックが削れと光間抵抗に
及ぼす影響を示すグラフである。 第1図 第2図 第3図 0 □カー/fζ′ンフ゛°クツクーー 100100
COCO2−0 第1頁の続き 0発 明 者 有 岡 博 之 東京都中央区式会社内 0発 明 者 久保1) 悠−東京都中央区式会社内 旧本橋1丁目1旙1号 ティーディーケイ株旧本橋1丁
目1旙1号 ティーディーケイ株手続補正書 昭和59年7月6[1 特許庁長官 志 賀 学 殿 ’F (’lの表示 昭和58イ「 特願第 1666
76 シJ゛発明の名称 磁気記録媒体 補止をする者 11件との関係 特許出願人 名 称 (506)ティーディーケイ株式会社代理人 〒】α1 ’−=、 563?MP−、T、、’ 、、 −=補正
の対q( =nj づ 」− L 補正の内容 別紙の通り 1、 明m書第30百第10行に1メチルエチルケトン
」とあるを次の通り訂正する。 「 メチルエチルケトン 250 ステアリン酸 5 ミリスチン削ミリスチル 2 」 2、 明細11F第31頁第14行ニl’−BaSO4
(soμm)20」とある次に、改行して次の通り加入
する。 「 メチルエチルケトン 250 ステアリン酸 5 ミリスチン酸ミリスチル 2 179−
Claims (1)
- 1、 強磁性合金粉末を樹脂バインダー中に分散した磁
性層をプラスチックフィルムベースに被着して成る磁気
記録媒体において、前記合金粉末はBET法で48 m
”71以上の表面積を有し、磁性層の保磁力が1000
0e以上であり、磁性層の表面粗度が108μm以下で
あり、さらに前記ベースの裏面には塩化ビニル・酢酸ビ
ニル中ビニルアルコール共1合体、ポリウレタンプレポ
リマー及びポリイソシアネートまたはこれらとニトロセ
ルロースとから成る熱硬化バック層またはアクリル系二
重結合、マレイン系二重結合、またはアリル系二重結合
を有する樹脂より成る放射線硬化バック層であって、内
部に平均粒子径10〜300mμのカーボンブラックと
モース硬度6以下の無機化合物粉末とを均一に分散含有
し、前記カーボンブラック対無機化合物粉末の比が1=
9〜9:1にし、且つ表面粗度が0.05〜16μmで
ある尚防バックjflが設けられている磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16667683A JPS6059527A (ja) | 1983-09-12 | 1983-09-12 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16667683A JPS6059527A (ja) | 1983-09-12 | 1983-09-12 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6059527A true JPS6059527A (ja) | 1985-04-05 |
Family
ID=15835656
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16667683A Pending JPS6059527A (ja) | 1983-09-12 | 1983-09-12 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6059527A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6079522A (ja) * | 1983-10-04 | 1985-05-07 | Sony Corp | 磁気記録媒体 |
USRE38048E1 (en) | 1989-04-05 | 2003-03-25 | Hitachi Maxell, Ltd. | Magnetic recording medium |
-
1983
- 1983-09-12 JP JP16667683A patent/JPS6059527A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6079522A (ja) * | 1983-10-04 | 1985-05-07 | Sony Corp | 磁気記録媒体 |
JPH0533448B2 (ja) * | 1983-10-04 | 1993-05-19 | Sony Corp | |
USRE38048E1 (en) | 1989-04-05 | 2003-03-25 | Hitachi Maxell, Ltd. | Magnetic recording medium |
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