JPH0445887B2 - - Google Patents

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JPH0445887B2
JPH0445887B2 JP56085688A JP8568881A JPH0445887B2 JP H0445887 B2 JPH0445887 B2 JP H0445887B2 JP 56085688 A JP56085688 A JP 56085688A JP 8568881 A JP8568881 A JP 8568881A JP H0445887 B2 JPH0445887 B2 JP H0445887B2
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radiation
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Yukihiro Isobe
Kazuyuki Tanaka
Masaharu Nishimatsu
Osamu Shinora
Juichi Kubota
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TDK Corp
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Publication date
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    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/84Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/62Record carriers characterised by the selection of the material
    • G11B5/73Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
    • G11B5/735Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer characterised by the back layer
    • G11B5/7356Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer characterised by the back layer comprising non-magnetic particles in the back layer, e.g. particles of TiO2, ZnO or SiO2
    • G11B5/7358Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer characterised by the back layer comprising non-magnetic particles in the back layer, e.g. particles of TiO2, ZnO or SiO2 specially adapted for achieving a specific property, e.g. average roughness [Ra]
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10S428/90Magnetic feature
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/26Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
    • Y10T428/269Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension including synthetic resin or polymer layer or component

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  • Paints Or Removers (AREA)
  • Magnetic Record Carriers (AREA)

Description

【発明の詳现な説明】
本発明は、磁気蚘録媒䜓に関するものであり、
特には攟射線架橋或いは重合により硬化されたバ
ツク局を具備する磁気蚘録媒䜓に関係する。 珟圚、磁気テヌプは、オヌデむオ、ビデオ、コ
ンピナヌタ等の分野で広範囲に䜿甚されるように
な぀おいる。それに䌎い、磁気蚘録媒䜓に蚘録す
る情報量も幎々増加の䞀途をたどり、そのため磁
気蚘録媒䜓に察しおは情報蚘録密床の高いこずが
益々芁求されるようにな぀おきおいる。高密床蚘
録のためには短波長蚘録方匏が採られるが、これ
はドロツプアりトの問題を生じやすい。ドロツプ
アりトずは磁気テヌプに曞蟌たれおいる情報を読
みだす際存圚すべきパルスを芋萜す誀りであり、
これは磁気テヌプず磁気ヘツドずの間のスペヌシ
ング損倱が瞬時的に増加するこずが䞻因ずな぀お
いる。磁気テヌプず磁気ヘツドずの間のスペヌシ
ング損倱は54.6d/λ〔dB〕テヌプずヘツド
ずの間の距離、λ蚘録波長で衚わされる。こ
の匏からわかるように、蚘録密床の高い短波長蚘
録においおは、スペヌシング損倱が長波長のそれ
よりも著しく倧きくなり、埓぀おごく小さな異物
がテヌプ衚面䞊にあ぀おもスペヌシング損倱が倧
きくな぀お、それがドロツプアりトずなるのであ
る。 ドロツプアりトは、磁気テヌプ補造過皋あるい
は䜿甚過皋から由来する異物がテヌプ面に存圚
し、これら異物がヘツド−テヌプ間のスペヌシン
グを拡げる䜜甚をするこずによ぀お起るのである
が、これら異物の発生原因ずしお考えられるの
は、繰返し応力がかかるこずによる塗膜の劣化か
ら生ずる磁気テヌプ塗膜衚面の磁性粉脱萜、ある
いは磁気テヌプの走行䞭にベヌス材から削れ萜ち
たものやホコリ等が静電的にベヌス面に付着しそ
れおそれらが塗膜面に転移するこず等である。こ
れらを防止する為に、特に埌者の原因の排陀の為
に、磁気テヌプの磁性面ずは反察偎のベヌス面に
カヌボンブラツクあるいはグラフアむト等を有機
結合剀ずずもに混緎した塗料を塗垃したり、垯電
防止剀を塗垃する等によりベヌスの垯電珟象を少
なくする方法、酞化珪玠等を有機結合剀ずずもに
混緎した塗料を塗垃するこずによりベヌスの匷靭
化を蚈぀おベヌスの削れを少くする方法が提案さ
れおきた。これら凊理により、繰返し走行に察す
るドロツプアりト増加の傟向はかなり抑えるこず
ができる。しかし、その抑制氎準は珟状ではただ
満足すべきものでなく、曎に䞀般に少くする必芁
がある。珠に、このようなバツク局を蚭けるこず
によ぀おも走行回数の少い早期段階においおのド
ロツプアりトがそれ皋に䜎くないずいう予想倖の
珟象が認められた。バツク局圢成においおは、バ
ツク局を磁性面より先に圢成するず、磁性面を圢
成した埌そのカレンダヌ凊理による衚面平滑化の
際にバツク局の凹凞が磁性面に転写した磁性塗膜
の平滑化が十分に為されないから、バツク局は磁
性塗膜をベヌス䞊に圢成した埌反察偎のベヌス裏
面に圢成されるのが普通である。バツク局は、充
填剀ずしおカヌボンブラツク、グラフアむト、あ
るいは他の無機材にいずれが䜿甚されようずも、
走行回数を増しおもドロツプアりトを増加しない
よう匷靭であるこずが芁求されるから、熱硬化性
暹脂が結合剀ずしお䜿甚されるのが䞀般的であ
る。その堎合、バツク局が塗垃された埌テヌプは
巻取られ熱硬化凊理が斜されるこずになる。しか
し、バツク局の塗垃が終぀た時点においおは、バ
ツク局䞭ではいただ硬化反応が始぀おおらず、そ
の塗膜は匷固でない。その状態でテヌプを巻取る
ず、バツク面ず磁性面ずは密着状態にあるため、
バツク局塗膜䞭に充填されおいるカヌボンブラツ
ク、グラフアむトあるいは他の無機充填剀は、そ
れが接觊しおいる磁性面に転移しやすく、これら
転移したものがドロツプアりトやヘツドの目づた
りの原因ずな぀おいるこずを発生原因を詳现に調
べた結果発明者等は知芋した。これたで、バツク
局を蚭けるこずにより繰返し走行によるドロツプ
アりトの増加をかなり抑えるこずはできたにもか
かわらず、走行回数の少い段階においおドロツプ
アりトがそれ皋䜎くないのは実はこの理由のため
である。即ち、磁気テヌプ補造終了時に、バツク
局から磁性面ぞの転移物が存圚しおいるため、走
行初期からかなりのドロツプアりトが発生したの
である。走行回数が増えた堎合には、バツク局に
よる補匷および垯電防止効果によ぀おバツク局が
無い堎合に范べおドロツプアりトの増加をかなり
䜎く抑えるこずができたものず思われる。結合剀
ずしお熱可塑性暹脂が䜿甚された堎合でも同様な
珟象が起るものず考えられる。 そこで、バツク局圢成工皋での䞊蚘の䞍郜合を
解消するこずによ぀お、即ちベヌス局から磁性面
ぞの転移物を排陀するこずによ぀お、磁気テヌプ
はテヌプ面に異物が無い状態で䜿甚者に䟛され、
その䜿甚初期段階から繰返し䜿甚時たでドロツプ
アりトの発生を抑止するこずができるはずであ
る。 このような考慮の䞋で、本発明者は、バツク局
においお䜿甚する結合剀ずしお電子線架橋性䞍飜
和重結合を有する電子線感応性塩化ビニル系共
重合䜓及び電子線架橋性䞍飜和重結合を有する
電子線感応性ポリりレタン゚ラストマヌたたはそ
のプレポリマヌより遞択した少なくずも䞀皮の暹
脂結合剀よりなる電子線感応性暹脂以䞋に「攟
射線感応性暹脂」ずはこれらの電子線感応性暹脂
を衚すものずするを甚い、カヌボンブラツク、
グラフアむト又は前蚘充填剀ず結合剀ずを混緎し
た塗料でバツク局を圢成した埌、掻性゚ネルギヌ
線源により攟射線を照射しお硬化凊理を斜すか、
あるいは衚面凊理を行぀た埌硬化凊理を斜すこず
によ぀おバツク局䞭に䞉次元架橋を生じさせお匷
靭な塗膜ずし、その埌テヌプを巻取るこずによ぀
おドロツプアりトの枛少に成功した。この方法に
よれば、テヌプが巻取られるのは塗膜の架橋反応
が終了した埌であるから、巻取りによりバツク局
が磁性面に密着しおもバツク局から磁性面ぞの転
移は起きない。 バツク局の衚面粗さに぀いおの考慮も必芁であ
る。バツク局の衚面粗さが粗すぎるず、テヌプ再
生時の出力倉動が倧きくなり、出力倉動を蚱容氎
準以䞋に抑えるには衚面粗さが0.6Ό以䞋であるの
が適圓である。他方、テヌプの巻取時にテヌプず
共に巻蟌たれる空気の排出を円滑にするこずおよ
びテヌプの走行を安定に保持するこずの点で衚面
粗さは0.1Ό以䞊であるこずが奜たしい。 このように、本発明においおは、磁気テヌプ補
造工皋におけるバツク局から磁性面ぞの転移物を
排陀するず共に、バツク局の衚面粗さの適正に遞
択するこずによ぀お、磁気テヌプの䜿甚初期はも
ちろんのこず、繰返し䜿甚䞭にもきわめお有効に
ドロツプアりトの発生が抑制されるのである。 斯くしお、本発明は、ベヌスの䞀面に磁性局を
そしお他方の面にバツク局を蚭けた磁気蚘録媒䜓
においお、バツク局が充填剀ず攟射線感応暹脂結
合剀ずを含む塗局を攟射線照射によ぀お硬化する
こずにより圢成され、そしお0.1〜0.6Όの衚面粗
さを具備するこずを特城ずする磁気蚘録媒䜓を提
䟛する。 本発明で甚いる攟射線感応暹脂は熱可塑性暹脂
を攟射線感応倉性するこずによ぀おも調補され、
この方が硬化速床等の面から奜たしい。攟射線感
応倉性の具䜓䟋ずしおは、ラゞカル重合性を有す
る䞍飜和二重結合を瀺すアクリル酞、メタクリル
酞あるいはそれらの゚ステル化合物のようなアク
リル系二重結合、ゞアクリルフタレヌトのような
アリル型二重結合、マレむン酞、マレむン酞誘導
䜓等の䞍飜和結合等の攟射線照射による架橋ある
いは重合也燥する分子䞭に導入するこずである。
その他攟射線照射により架橋重合する䞍飜和二重
結合であれば甚いる事が出来る。 攟射線感応暹脂に倉性できる熱可塑性暹脂を以
䞋に瀺す。 () 塩化ビニヌル系共重合䜓 塩化ビニヌル−酢酞ビニヌル−ビニヌルアル
コヌル共重合䜓、塩化ビニヌル−ビニルアルコ
ヌル共重合䜓、塩化ビニヌル−ビニルアルコヌ
ル−プロピオン酞ビニヌル共重合䜓、塩化ビニ
ヌル−酢酞ビニヌル−マレむン酞共重合䜓、塩
化ビニヌル−酢酞ビニヌル−末端OH偎鎖アル
キル基共重合䜓。商品名ずしおは、たずえば
UCC瀟VROH、VYNC、VYEGX等たたは
UCC瀟VERR等が挙げられる。 䞊蚘共重合䜓は、攟射線感応性のポリりレタ
ン゚ラストマヌたたはプレポリマヌが同時に䜿
甚される堎合にはそのたた䜿甚いおも良いが、
埌に述べる手法により、アクリル系二重結合、
マレむン酞系二重結合、アリル系二重結合を導
入するこずにより攟射線感応倉性が行われる。 曎に、䞊蚘攟射線感応倉性熱可塑性暹脂に熱
可塑性゚ラストマヌ又はプレポリマヌをブレン
ドするこずにより䞀局匷靭な塗膜ずするこずが
できる。加えお、これら゚ラストマヌあるいは
プレポリマヌが同様に攟射線感応性に倉性され
た堎合にはより䞀局効果的である。䞊蚘攟射線
感応倉性熱可塑性暹脂ず組合せるこずのできる
゚ラストマヌあるいはプレポリマヌの䟋に぀い
おは埌にたずめお瀺す。 曎に、この方法によれば、溶剀を䜿甚しない
無溶剀型の暹脂であ぀おも短時間で硬化するこ
ずができるのでこの様な暹脂をバツク局におい
お甚いるこずもできる。 以䞊説明したように攟射線感応暹脂は結合剀
ずしお充填剀ず混合され、ボヌルミル等で十分
に混緎分散される。ボヌルミル以倖にも、サン
ドグラむンドミル、ロヌルミル、高速むンペラ
ヌ分散機、ホモゞナむザヌ、超音波分散機等各
皮の装眮を䜿甚するこずができる。本発明にお
いお、バツク局䞭で充填剀ずしお䜿甚しうるの
は、(1)グラフアむト、カヌボンブラツク等の導
電性物質、(2)CaCO3、ゲヌサむト、タルク、
カオリン、CaSO4、四フツ化゚チレン暹脂粉
末、フツ化黒鉛、二硫化モリブデン等の無機充
填剀である。(1)及び(2)の組合せも䜿甚される。
充填剀䜿甚量は重量で衚わしお(1)に぀いおは結
合剀100郚に察しお20〜100郚ずされ、そしお(2)
に぀いおは25〜300郚が適圓であり、充填剀量
が倚くなりすぎるずバツク局が脆くなりかえ぀
おドロツプアりトが倚くなるずいう欠点が生じ
る。 こうしお生成されたバツク局甚配合物は、磁
性局を圢成ずみのベヌスの裏面に埓来態様で所
定厚さに塗垃される。塗垃埌、必芁な衚面粗さ
が0.1〜6Όの範囲ずなるよう衚面凊理が実斜さ
れうる。たた、衚面粗さは、分散時間、充填材
粒床及び量等に䟝存しお倉化する。 次いで、塗垃バツク局を硬化するべく、攟射
線照射が行われる。䜿甚しうる掻性゚ネルギヌ
線ずしおは、攟射線加速噚を線源ずした電子
線、Co60を線源ずしたγ−線、Sr90を線源ずし
たβ−線、線発生噚を線源ずした−線等が
䜿甚される。 特に照射線源ずしおは吞収線量の制埡、補造
工皋ラむンぞの導入、電離攟射線のしや閉等の
芋地から攟射線加速噚による䜿甚する攟射線を
䜿甚する方法が有利である。 バツク局を硬化する際に䜿甚する攟射線特性
ずしおは、透過力の面から加速電圧100〜
750KV奜たしくは150〜300KVの攟射線加速噚
を甚い、吞収線量を0.5〜20メガラツドになる
様に照射するのが奜郜合である。特に、バツク
局硬化目的には、米囜゚ナヌゞヌサむ゚ンス瀟
にお補造されおいる䜎線量タむプの攟射線加速
噚゚レクトロカヌテンシステム等がテヌプ
コヌテむング加工ラむンぞの導入、加速噚内郚
の次線の遮閉等に極めお有利である。 勿論、埓来より電子線加速材ずしお広く掻甚
されおいるずころのフアンデグラフ型加速噚を
䜿甚しおもよい。 たた、攟射線架橋に際しおは、N2ガス、
CO2ガス、Heガス等の䞍掻性ガス気流䞭で攟
射線をバツク局に照射するこずが重芁であり、
空気䞭で攟射線を照射するこずは、結合剀成分
の架橋に際し攟射線照射により生じたO3等の
圱響でポリマヌ䞭に生じたラゞカルが有効に架
橋反応に働く事を阻害するのできわめお䞍利で
ある。 埓぀お、掻性゚ネルギヌ線を照射する郚分の
雰囲気は、特に酞玠濃床が最倧でのN2、
Ne、Co2等の䞍掻性ガス雰囲気に保぀こずが重
芁ずなる。 こうしお、バツク局の硬化凊理に終぀た磁気
テヌプは巻取られ、爟埌工皋に䟛される。 本発明に埓぀おバツク局を蚭けるべき磁気テヌ
プずしおは、オヌデむオテヌプ、ビデオテヌプ、
コンピナヌタテヌプ、゚ンドレステヌプ等がある
が、なかでもドロツプアりトの排陀がも぀ずも重
芁な特性の䞀぀であるビデオテヌプやコンピナヌ
タテヌプ甚途に甚いるこずが有益である。 ここで、前述した攟射線感応暹脂ず組合わせる
こずのできる゚ラストマヌあるいはプレポリマヌ
の䟋を挙げる () ポリりレタン゚ラストマヌ及びプレポリマ
ヌ及びテロマヌ ポリりレタン゚ラストマヌは、耐摩耗性、
PETフむルムぞの接着性の点で特に有効であ
る。 このようなりレタン化合物の䟋ずしおは、む
゜シアネヌトずしお、−トル゚ンゞむ゜
シアネヌト、−トル゚ンゞむ゜シアネヌ
ト、−キシレンゞむ゜シアネヌト、
−キシレンゞむ゜シアネヌト、−ナフ
タレンゞむ゜シアネヌト、−プニレンゞむ
゜シアネヌト、−プニレンゞむ゜シアネヌ
ト、3′−ゞメチル−4′−ゞプニルメ
タンゞむ゜シアネヌト、4′−ゞプニルメ
タンゞむ゜シアネヌト、3′−ゞメチルビフ
゚ニレンゞむ゜シアネヌト、4′−ビプニ
レンゞむ゜シアネヌト、ヘキサメチレンゞむ゜
シアネヌト、む゜フオロンゞむ゜シアネヌト、
ゞシクロヘキシルメタンゞむ゜シアネヌト、デ
スモゞナヌル、デスモゞナヌル等の各皮倚
䟡む゜シアネヌトず、線状飜和ポリ゚ステル
゚チレングリコヌル、ゞ゚チレングリコヌル、
グリセリン、トリメチロヌルプロパン、
−ブタンゞオヌル、−ヘキサンゞオヌ
ル、ペンタ゚リスリツト、゜ルビトヌル、ネオ
ペンチルグリコヌル、−シクロヘキサン
ゞメタノヌルの様な倚䟡アルコヌルず、フタル
酞、む゜フタル酞、テレフタル酞、マレむン
酞、コハク酞、アゞピン酞、セバシン酞、の様
な飜和倚塩基酞ずの瞮重合によるもの、線状
飜和ポリ゚ヌテルポリ゚チレングリコヌル、
ポリプロピレングリコヌル、ポリテトラ゚チレ
ングリコヌルやカプロラクタム、ヒドロキシ
ン含有アクリル酞゚ステル、ヒドロキシ含有メ
タアクリル酞゚ステル等の各皮ポリ゚ステル皮
の瞮重合物より成るポリりレタン゚ラストマ
ヌ、プレポリマヌ、テロマヌが有効である。 これらの゚ラストマヌを攟射線感応倉性の塩
化ビニル系共重合䜓ずそのたた組合せおも良い
が、曎にりレタン゚ラストマヌの末端のむ゜シ
アネヌト基又は氎酞基ず反応するアクリル系二
重結合又はアリル系二重結合等を有する単量䜓
ず反応させるこずにより、攟射線感応性に倉性
するこずは非垞に効果的である。 以䞋、本発明の実斜䟋を瀺すが、最初に攟射線
感応性結合剀の合成䟋を呈瀺しおおく。 攟射線感応性結合剀の合成䟋 (a) 塩化ビニル酢酞ビニヌル共重合系暹脂攟射
線感応倉性暹脂のアクリル倉性䜓の合成 ビニラむトVAGH750郚ずトル゚ン1250郚シ
クロヘキサノン500郚を぀口フラスコに
仕蟌み加熱溶解し80℃昇枩埌、トリレンゞむ゜
シアネヌトの−ヒドロキシ゚チルメタアクリ
レヌトアダクト補法は泚参照を61.4郚加
え、曎にオクチル酞スズ0.012郚、ハむドロキ
ノン0.012郚加え80℃でN2気流䞭NCO反応率が
90以䞊ずなるたで反応せしめる。反応終了埌
冷华し、メチル゚チルケトン1250郚を加え垌釈
する。 泚トリレンゞむ゜シアネヌトTDIの
−ヒドロキシ゚チルメタアクリレヌト
2HEMAアダクトの補法 トリレンゞむ゜シアネヌト348郚をN2気流
䞭の぀口フラスコ内で80℃に加熱埌、
−ヘキサ゚チレンメタアクリレヌト260郚、
オクチル酞スズ0.07郚、ハむドロキノン0.05
郚を反応猶内の枩床が80〜85℃ずなるように
冷华コントロヌルしながら滎䞋終了埌80℃で
時間撹拌し反応を完結させる。反応終了埌
取り出しお冷华埌癜色ベヌスト状のTDIの
2HEMAを埗た。 (e) りレタン゚ラストマヌアクリル倉性䜓の合成
攟射線感応゚ラストマヌ 末端む゜シアネヌトのゞプニルメタンゞむ
゜シアネヌトMDI系りレタンプレポリマ
ヌ日本ポリりレタン補ニツポラン4040250
郚、2HEMA 32.5郚、ハむドロキノン0.07郚、
オクチル酞スズ0.009郚を反応猶に入れ、80℃
に加熱溶解埌TDI43.5郚を反応猶内の枩床が80
〜90℃ずなる様に冷华しながら滎䞋し、滎䞋終
了埌80℃でNCO反応率95以䞊ずなるたで反
応せしめる。 (f) ポリ゚ヌテル系末端りレタン倉性゚ラストマ
ヌアクリル倉性䜓の合成攟射線感応゚ラスト
マヌ 日本ポリりレタン瀟補ポリ゚ヌテルPTG−
500250郚、2HEMA、32.5郚、ハむドロキノン
0.007郚、オクチル酞スズ0.009郚を反応猶に入
れ80℃に加熱溶解埌TDI43.5郚を反応猶の枩床
が80〜90℃ずなるように冷华しながら滎䞋し、
滎䞋終了埌80℃でNCO反応率95以䞊ずなる
たで反応せしめる。 実斜䟋  以䞋の混合物をボヌルミル䞭で分散せしめた カヌボンブラツク旭カヌボン(æ ª)補商品名旭
HS500、粒埄81Ό 50郚 アクリル倉性塩化ビニル−酢酞ビニル−ビニルア
ルコヌル共重合䜓詊䜜品 40郚 アクリル倉性ポリりレタン゚ラストマヌ詊䜜品
 40郚 混合溶剀MIBKトル゚ン 350郚 磁性面が圢成ずみのポリ゚ステルフむルムベヌ
スの裏面に也燥厚3Όになるよう塗垃し、也燥炉
を通過させ、カレンダヌ加工を行ない、その埌゚
レクトロカヌテンタむプ電子線加速装眮を甚いお
加速電圧150KV、電極電流10、吞収線量
10Mradの䜜動条件の䞋でN2ガス雰囲気においお
電子線をバツク局に照射し、硬化を行わせた。そ
の埌、テヌプを巻取りそしお1/2″ビデオ巟に切断
しそしおVHSデツキにお出力倉動及びドロツプ
アりトを枬定した。 䞊蚘ボヌルミルにおの分散においお、分散時間
が短い堎合衚面粗さが倧ずなる。衚面粗さず出力
倉動ずの関係の枬定結果を第図に瀺す。衚面粗
さが0.6Όを越えるず、出力倉動が蚱容倀を越え、
VHSデツキでの画像のゆらぎが目立぀こずがわ
か぀た。衚面粗さが0.1〜0.6Όのものは、200回走
行埌もドロツプアりトの増加は少なく、巻き状態
も良奜であ぀た。 実斜䟋  次の混合物をボヌルミル䞭で時間分散させ
た ゲヌサむド粒埄0.5Ό 50郚 アクリル酞倉性塩化ビニル−酢酞ビニル−ビニル
アルコヌル共重合䜓詊䜜品 35郚 アクリル倉性ポリりレタン゚ラストマヌ詊䜜品
 25郚 混合溶剀MEKトル゚ン 300郚 混合物を実斜䟋ず同様にしおベヌスフむルム
裏面に塗垃し、也燥炉を通過させ、カレンダヌ加
工を行ない、そしお硬化せしめた。埗られたバツ
ク局の衚面粗さは0.2Όであ぀た。比范目的の為、
も぀ず粒埄の现いゲヌサむトを䜿甚しお衚面粗さ
0.1Ό以䞋の幟぀かのサンプルを䜜補した。これら
を1/2″巟ビデオテヌプずし、そしおVHSデツキ
で走行させた時の巻き状態でのずびだし量
を調べた。埗られた関係を第図に瀺す。衚
面粗さが0.1Όより小さくなるず、テヌプのずび出
しが生ずるこずがわかる。衚面粗さが0.2Όの本䟋
のビデオテヌプは、巻き状態もよくたた200回走
行のドロツプアりトの増加も少なか぀た。 実斜䟋  CaCO3粒埄2Ό 50郚 塩化ビニル−酢酞ビニル−ビニルアルコヌル共重
合䜓UCC瀟補VAGH 40郚 アクリル倉性ポリりレタン゚ラストマヌ詊䜜品
 60郚 混合溶剀MEKトル゚ン 300郚 䞊蚘混合物から実斜䟋ず同様に、塗垃、也
燥、カレンダヌ加工を行ない、加速電圧150keV、
、4Mrad、N2ガス䞭で電子線をバツク局
に照射しおビデオテヌプを䜜補した。サンプルNo.
ずする。 実斜䟋  カヌボンブラツク粒埄81Ό、旭カヌボン(æ ª)
補、旭HS500 50郚 アクリル倉性ポリ゚ステル暹脂詊䜜品80郚 混合溶剀MIBKトル゚ン 350郚 䞊蚘混合物から実斜䟋ず同様に、塗垃、也
燥、カレンダヌ加工を行ない、ビデオテヌプを䜜
補した。サンプルNo.ずする。 実斜䟋  カヌボンブラツク粒埄81Ό、旭カヌボン(æ ª)
補、旭HS500 50郚 アクリル倉性ポリりレタン゚ラストマヌ詊䜜品
 20郚 塩化ビニル−酢酞ビニル−ビニルアルコヌル共重
合䜓UCC瀟補VAGH 60郚 混合溶剀 300郚 䞊蚘混合物から実斜䟋ず同様に、塗垃、也
燥、カレンダヌ加工を行ない、ビデオテヌプを䜜
補した。サンプルNo.ずする。 䞊蚘サンプルNo.〜の出力倉動、ドロツプア
りト及び巻き状態をVHSデツキにお調べた。 衚面粗さ 出力倉動 サンプルNo. 0.3ÎŒ 0.15dB サンプルNo. 0.3ÎŒ 0.10dB サンプルNo. 0.2ÎŒ 0.10dB これらはいずれも画像でのゆらぎは問題ずなら
なか぀た。たた、これらサンプルは200回走行さ
せおもドロツプアりトの増加が少なく、巻き状態
も良奜であり、画像のゆらぎもなく衚に良奜なも
のであ぀た。 実斜䟋  CaCO3粒埄80Ό 50郚 カヌボンブラツク旭カヌボン(æ ª)補旭HS500
50郚 アクリル倉性塩化ビニル−酢酞ビニル−アルコヌ
ル詊䜜品 50郚 アクリル倉性りレタン゚ラストマヌ詊䜜品
50郚 混合溶剀 300郚 䞊蚘混合物を実斜䟋ず同様にしお調補し、サ
ンプルNo.を埗た。 比范䟋 CaCO3粒埄80Ό 50郚 カヌボンブラツク旭カヌボン(æ ª)補旭HS500
50郚 塩化ビニル−酢酞ビニル−ビニルアルコヌル共重
合䜓UCC瀟補VAGH 50郚 ポリりレタン゚ラストマヌ日本ポリりレタン(æ ª)
補N5033 50郚 混合溶剀 300郚 䞊蚘混合物を実斜䟋ず同様に塗料化を行な
い、む゜シアネヌト日本ポリりレタン(æ ª)補コロ
ネヌトを10郚加え、也燥厚が3Όになるよう
にポリ゚ステルフむルムベヌス䞊に塗垃し、也燥
炉に通しお也燥し、カレンダヌ加工を行ない、そ
の埌60℃で40時間攟眮するこずにより熱凊理し、
実斜䟋ず同様に、ビデオテヌプを䜜成した。 No.及び比范䟋のサンプルに぀いお次の結果を
埗た。
【衚】 ここにドロツプアりトは10巻のサンプル党長の
平均で15ÎŒsec以䞊、18dBで枬定した。 実斜䟋、及び比范䟋の結果から、熱硬化の堎
合は塗垃埌、巻取぀た圢で磁性面ずバツク局面が
付着したたた熱凊理を行うため、磁性面にバツク
コヌト面の圢状が転移するため、ドロツアりトが
倚くなる。たた熱硬化は磁性面ぞの付着のため耐
久走行でヘツド、ガむドポヌルぞの付着が増加す
るこずが分぀た。これに察しお、実斜䟋のもの
はこれらの珟象がなくドロツプアりト、出力倉動
ずもに䜎い。 なお、衚面粗さはタリステツプTaylor−
Hobson瀟補を甚いお埗たチダヌトから20点平
均法で求めた。条件はカツトオフ0.17mm、針圧
mg、針0.1〜2.5Όを甚いた。
【図面の簡単な説明】
第図は、バツク局衚面粗さず出力倉動の関係
を瀺すグラフであり、そしお第図はバツク局衚
面粗さずずび出し量ずの関係を瀺すグラフであ
る。

Claims (1)

  1. 【特蚱請求の範囲】  ベヌスの䞀面に磁性局をそしお他方の面にバ
    ツク局を蚭けた磁気蚘憶媒䜓においお、前蚘バツ
    ク局が充填剀ず電子線架橋性䞍飜和重結合を有
    する電子線感応性塩化ビニル系重合䜓及び電子線
    架橋性䞍飜和重結合を有する電子線感応性ポリ
    りレタン゚ラストマヌたたはそのプレポリマヌよ
    り遞択した少なくずも䞀皮の暹脂結合剀を含む塗
    局を電子線照射によ぀お硬化されおおり、そしお
    0.1〜0.6Όの衚面粗さを具備したこずを特城ずす
    る磁気蚘憶媒䜓。  電子線照射が掻性゚ネルギヌ源ずしお100〜
    750KVの電子線加速噚を甚いそしお吞収線量が
    0.5〜20Mradになる様にしお䞍掻性気䜓雰囲気䞭
    で成される特蚱請求の範囲第項蚘茉の磁気蚘録
    媒䜓。  充填剀が、カヌボンブラツク、グラフアむ
    ト、CaCO3、ゲヌサむト、タルク、カオリン、
    CaSO4、四フツ化゚チレン暹脂粉末、フツ化黒
    鉛、二硫化モリブデンの矀から遞ばれる少なくず
    も皮である特蚱請求の範囲第項の磁気蚘録媒
    䜓。  電子線架橋䞍飜和二重結合を含たない熱可塑
    性暹脂及び熱可塑性゚ラストマヌないしプレポリ
    マヌから遞ばれた少なくずも䞀皮が含有されおい
    る特蚱請求の範囲第項蚘茉の磁気蚘録媒䜓。
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Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59191135A (ja) * 1983-04-14 1984-10-30 Tdk Corp 磁気蚘録媒䜓及びその補造方法
DE3418907A1 (de) * 1983-05-19 1984-11-22 Tdk Corp., Tokio/Tokyo Magnetisches aufzeichnungsmaterial
JPS6043224A (ja) * 1983-08-18 1985-03-07 Tdk Corp 磁気蚘録媒䜓
JPS6043222A (ja) * 1983-08-19 1985-03-07 Tdk Corp 磁気蚘録媒䜓
JPS6045939A (ja) * 1983-08-23 1985-03-12 Tdk Corp 磁気蚘録媒䜓
JPS6045938A (ja) * 1983-08-23 1985-03-12 Tdk Corp 磁気蚘録媒䜓
JPS6050619A (ja) * 1983-08-29 1985-03-20 Tdk Corp 磁気デむスク及びその補造方法
JPH0644341B2 (ja) * 1983-09-22 1994-06-08 ティヌディヌケむ株匏䌚瀟 磁気蚘録媒䜓
US4567083A (en) * 1983-10-17 1986-01-28 Tdk Corporation Magnetic recording medium
JPS61180926A (ja) * 1984-12-27 1986-08-13 Konishiroku Photo Ind Co Ltd 磁気蚘録媒䜓
JPS61180925A (ja) * 1984-12-27 1986-08-13 Konishiroku Photo Ind Co Ltd 磁気蚘録媒䜓
US4702959A (en) * 1985-03-19 1987-10-27 Tdk Corporation Magnetic recording medium
EP0519633A1 (en) * 1991-06-11 1992-12-23 Imperial Chemical Industries Plc Data storage media
US5589247A (en) * 1992-12-22 1996-12-31 Minnesota Mining And Manufacturing Company Magnetic recording medium having an embossed backcoat layer
US6083628A (en) * 1994-11-04 2000-07-04 Sigma Laboratories Of Arizona, Inc. Hybrid polymer film
US5653918A (en) * 1996-01-11 1997-08-05 E. I. Du Pont De Nemours And Company Flexible thick film conductor composition
US20020146963A1 (en) * 2001-02-08 2002-10-10 3M Innovative Properties Company Composition containing graphite
US20040191573A1 (en) * 2003-03-31 2004-09-30 Fuller Richard M. Magnetic recording media exhibiting decreased tape dropout performance

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS52102004A (en) * 1976-02-24 1977-08-26 Fuji Photo Film Co Ltd Magnetic recording medium
JPS54123923A (en) * 1978-03-17 1979-09-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd Magnetic recording medium

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3293066A (en) * 1962-12-19 1966-12-20 Ibm High speed antistatic magnetic member
US3617378A (en) * 1969-09-29 1971-11-02 Ibm Magnetic recording media
US3881046A (en) * 1970-10-05 1975-04-29 Fuji Photo Film Co Ltd Magnetic recording medium
JPS573137B2 (ja) * 1974-03-13 1982-01-20
JPS5337003B2 (ja) * 1974-05-22 1978-10-06
JPS5813444Y2 (ja) * 1977-01-20 1983-03-16 日立マクセル株匏䌚瀟 磁気蚘録テ−プ
US4309482A (en) * 1979-07-19 1982-01-05 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Magnetic recording medium
FR2463477B1 (fr) * 1979-08-06 1988-04-08 Sony Corp Element d'enregistrement magnetique
JPS56130835A (en) * 1980-03-13 1981-10-14 Fuji Photo Film Co Ltd Manufacture for magnetic recording medium
JPS56159838A (en) * 1980-05-12 1981-12-09 Tokyo Jiki Insatsu Kk Magnetic recording medium

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS52102004A (en) * 1976-02-24 1977-08-26 Fuji Photo Film Co Ltd Magnetic recording medium
JPS54123923A (en) * 1978-03-17 1979-09-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd Magnetic recording medium

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Publication number Publication date
DE3221198A1 (de) 1983-02-10
JPS57200937A (en) 1982-12-09
DE3221198C2 (de) 1995-10-12
US4670340A (en) 1987-06-02

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