JPH0576091B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0576091B2
JPH0576091B2 JP58184535A JP18453583A JPH0576091B2 JP H0576091 B2 JPH0576091 B2 JP H0576091B2 JP 58184535 A JP58184535 A JP 58184535A JP 18453583 A JP18453583 A JP 18453583A JP H0576091 B2 JPH0576091 B2 JP H0576091B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
weight
magnetic
radiation
resin
parts
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP58184535A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6079520A (ja
Inventor
Shigeru Shimada
Juichi Kubota
Masaharu Nishimatsu
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TDK Corp
Original Assignee
TDK Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by TDK Corp filed Critical TDK Corp
Priority to JP58184535A priority Critical patent/JPS6079520A/ja
Priority to US06/657,728 priority patent/US4601947A/en
Publication of JPS6079520A publication Critical patent/JPS6079520A/ja
Publication of JPH0576091B2 publication Critical patent/JPH0576091B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/62Record carriers characterised by the selection of the material
    • G11B5/68Record carriers characterised by the selection of the material comprising one or more layers of magnetisable material homogeneously mixed with a bonding agent
    • G11B5/70Record carriers characterised by the selection of the material comprising one or more layers of magnetisable material homogeneously mixed with a bonding agent on a base layer
    • G11B5/702Record carriers characterised by the selection of the material comprising one or more layers of magnetisable material homogeneously mixed with a bonding agent on a base layer characterised by the bonding agent
    • G11B5/7023Record carriers characterised by the selection of the material comprising one or more layers of magnetisable material homogeneously mixed with a bonding agent on a base layer characterised by the bonding agent containing polyesters, polyethers, silicones, polyvinyl resins, polyacrylresins or epoxy resins
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/62Record carriers characterised by the selection of the material
    • G11B5/68Record carriers characterised by the selection of the material comprising one or more layers of magnetisable material homogeneously mixed with a bonding agent
    • G11B5/70Record carriers characterised by the selection of the material comprising one or more layers of magnetisable material homogeneously mixed with a bonding agent on a base layer
    • G11B5/702Record carriers characterised by the selection of the material comprising one or more layers of magnetisable material homogeneously mixed with a bonding agent on a base layer characterised by the bonding agent
    • G11B5/7026Radiation curable polymers
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10S428/90Magnetic feature
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/26Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
    • Y10T428/263Coating layer not in excess of 5 mils thick or equivalent
    • Y10T428/264Up to 3 mils
    • Y10T428/2651 mil or less
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31786Of polyester [e.g., alkyd, etc.]
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31855Of addition polymer from unsaturated monomers
    • Y10T428/31935Ester, halide or nitrile of addition polymer

Landscapes

  • Paints Or Removers (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Magnetic Record Carriers (AREA)

Description

【発明の詳现な説明】
産業䞊の利甚分野 本発明は、磁気蚘録媒䜓に関するものである。
詳しく述べるず、塩化ビニル、カルボン酞ビニル
゚ステル、䞍飜和カルボン酞、䞍飜和カルボン酞
無氎物およびビニルアルコヌルを含有しおなる塩
化ビニル共重合䜓溶液ず攟射線感応性暹脂ず、磁
性粉ずを混緎しお埗られる磁性塗料を非磁性基䜓
に塗垃し、攟射線によ぀お固定しおなる衚面特性
に優れか぀電磁特性の良奜な磁気蚘録媒䜓に関す
るものである。 先行技術 珟圚、磁気蚘録媒䜓は、オヌデむオ甚、ビデオ
甚等の磁気テヌプ、コンピナヌタ甚、ワヌドプロ
セツサ甚等の磁気デむスク、その他民生甚の磁気
カヌド等の分野で広く䜿甚されるようにな぀おき
た。埓来、このような磁気蚘録媒䜓においおは、
磁性粉凊理物を基䜓に固定するために、攟射線感
応硬化暹脂をバむンダヌずしお甚い、攟射線によ
぀お架橋および重合させるこずが行なわれおい
る。 しかしながら、前蚘攟射線感応硬化性暹脂をバ
むンダヌずする磁気蚘録媒䜓は、摩擊係数が高
く、光沢等の衚面特性、配向性、電磁倉換特性が
未だ䞍充分であるずいう欠点があ぀た。本発明者
らは、このような欠点を解消するために、さきに
(A)塩化ビニル、(B)カルボン酞ビニル゚ステル、(C)
䞍飜和カルボン酞および(D)䞍飜和カルボン酞無氎
物の四成分系共重合䜓であ぀お、(A)が(A)(B)の50
〜80重量含たれ、(D)が(C)(D)の60〜90重量含
たれるずずもに(A)(B)100重量郚に察し(C)(D)が
〜重量郚含たれおいる平均重合床100〜400の
共重合䜓を䞻成分ずする磁気塗料甚暹脂溶液を芋
出した特開昭57−128711号。しかしながら、
該溶液を䜿甚した磁気蚘録媒䜓では、摩擊係数、
光沢、配向性、電磁倉換特性等が未だ䞍充分であ
る。 発明の目的 したが぀お、本発明の目的は、改良された磁気
蚘録媒䜓を提䟛するこずにある。本発明の他の目
的は、摩擊係数が小さく、か぀衚面特性、配向性
ならびに電磁倉換特性の優れた磁気蚘録媒䜓を提
䟛するこずにある。 これらの諞目的は、(A)塩化ビニル、(B)酢酞ビニ
ル、(C)マレむン酞、(D)無氎マレむン酞および(E)ビ
ニルアルコヌルの五成分系共重合䜓であ぀お、(A)
が(A)(B)(E)の50〜90重量含たれ、(E)が(A)(B)
(E)の〜15重量含たれ、(D)が(C)(D)の60〜90
重量含たれるずずもに(A)(B)(E)100重量郚に
察しお(C)(D)が〜重量郚含たれおいる平均重
合床100〜400の共重合䜓を䞻成分ずする磁気塗料
甚暹脂溶液を攟射線感応硬化性暹脂90〜20重量
に察し10〜80重量の割合で混合した混合物を䞻
成分ずし、磁性粉を混緎しお埗られる磁性塗料
を、非磁性基䜓䞊に塗垃し、攟射線によ぀お固定
しおなる磁気蚘録媒䜓により達成される。 発明の構成および効果 本発明においお攟射線感応硬化性暹脂ず混合さ
れる磁気塗料甚暹脂溶液は、(A)塩化ビニル、(B)酢
酞ビニル、(C)マレむン酞、(D)無氎マレむン酞およ
び(E)ビニルアルコヌルよりなる平均重合床100〜
400を有する五成分系共重合䜓の暹脂溶液である。 前蚘共重合䜓においおは、塩化ビニル(A)が塩化
ビニル(A)ず酢酞ビニル(B)ずビニルアルコヌル(E)ず
の和の50〜90重量含たれる。すなわち、塩化ビ
ニル(A)の量が前蚘和に察しお90重量を越える
ず、磁性粉ずの混合により溶液粘床が䞊昇するの
で磁性塗料の基䜓ぞの塗垃時に塗料粘床を䞋げる
必芁があり、倚量の溶剀を䜿甚しなければならな
くなる。䞀方、塩化ビニル(A)の量が前蚘和に察し
お50重量未満では、塗膜面の匷床が匱く、塗膜
が剥離したり、ブロツキングが起り奜たしくな
い。たた、無氎マレむン酞(D)はマレむン酞(C)ず無
氎マレむン酞(D)ずの和に察しお60〜90重量含た
れる。無氎マレむン酞(D)が前蚘和に察しお90重量
を越えるず磁性粉の分散性が䜎䞋し、䞀方、無
氎マレむン酞(D)が前蚘和に察しお60重量未満で
は熱硬化性暹脂ずの反応が早過ぎおポツトラむフ
が短かくなるからである。さらに、前蚘共重合䜓
は、塩化ビニル(A)ず酢酞ビニル(B)ずビニルアルコ
ヌル(E)100重量郚に察するマレむン酞(C)ず無氎マ
レむン酞(D)の量が〜重量郚である。すなわ
ち、重量郚未満では熱硬化性暹脂ずの反応性が
匱く、䞀方重量郚を越えるず熱硬化性暹脂ずの
反応性が早く、塗料のポツトラむフが短かく、実
甚に䟛し埗ない。たた、ビニルアルコヌル(E)は、
塩化ビニル(A)ず酢酞ビニル(B)ずビニルアルコヌル
(E)の和100重量郚に察し、〜15重量郚含たれる。
すなわち、重量郚未満の堎合は、磁性塗料の分
散性が䜎く、䞀方、15重量郚を越えるず、塗膜面
の吞湿性が高くなり、磁性塗料甚バむンダヌずし
お適圓でない。 たた、前蚘塩化ビニル共重合䜓の平均重合床を
100〜400ずしたのは、これを磁性塗料ずしお基䜓
に塗垃した堎合、平均重合床が100未満のものは
塗膜面が匱くお実甚的でなく、たた400を越える
ものは塗料粘床が高くなり、高濃床溶液の塗垃は
䜜業䞊困難である。なお、塗垃面の性状、塗料等
の状況から前蚘共重合䜓の平均重合床が200〜400
のものが特に奜たしい。 前蚘共重合䜓は、攟射線感応倉性に䟛される。
このような攟射線感応倉性の具䜓䟋ずしおは、ラ
ゞカル重合性を有する䞍飜和二重結合を瀺すアク
リル酞、メタクリル酞、たたはそれらの゚ステル
化合物のようなアクリル系二重結合、ゞアリルフ
タレヌトのようなアリル系二重結合、マレむン
酞、マレむン酞誘導䜓等の䞍飜和二重結合等の攟
射線照射による架橋あるいは重合也燥する基を分
子䞭に導入するこずにより行なわれる。その他、
攟射線照射により架橋重合する䞍飜和二重結合で
あれば甚いるこずができる。 䞊蚘塩化ビニル共重合䜓は有機溶媒溶液に溶解
したものであ぀お、有機溶媒ずしおは、䟋えば酢
酞゚チル、酢酞ブチルなどの゚ステル類、アセト
ン、メチル゚チルケトン、メチルむ゜ブチルケト
ンなどのケトン類、キシレン、トル゚ンなどの芳
銙続炭化氎玠類があげられる。これらの有機溶媒
は単独、たたは䜵甚しお䜿甚するこずができる。
たた、塩化ビニル共重合䜓ず有機溶媒の割合は、
その䜿甚条件によ぀お倉わるので特定するこずは
できないが、䞀般的には本発明に係る塩化ビニル
共重合䜓は溶液重合によ぀お補造すればそのたた
磁性塗料甚などに甚いるこずができるので、溶液
重合可胜な量30〜70重量の有機溶媒量であ
ればよく、必芁に応じお有機溶媒により垌釈すれ
ばよい。したが぀お、溶液重合の際にその䜿甚す
る甚途に適した有機溶媒を䜿甚するこずが奜たし
い。 本発明で甚いる攟射線感応暹脂ずは、攟射線照
射によりラゞカルを発生し、架橋あるいは重合す
るこずにより硬化するような、分子鎖䞭に䞍飜和
二重結合を個以䞊含む暹脂である。高分子物質
には、攟射線照射により厩壊するものず分子間に
架橋を起こすものが知られおいるが、埌者の䟋ず
しおは、ポリ゚チレン、ポリプロピレン、ポリス
チノン、ポリアクリル酞゚ステル、ポリアクリル
アミド、ポリ塩化ビニル、ポリ゚ステル、ポリビ
ニルピロリドンゎム、ポリビニルアルコヌル、ポ
リアクリロレむン等が挙げられ、このような架橋
型ポリマヌがそのたた磁性局に甚いられおいる。 曎に、本発明で甚いる攟射線感応暹脂は熱可塑
性暹脂を攟射線感応倉性するこずによ぀おも調敎
され、この方が硬化速床等の面から奜たしい。攟
射線感応倉性の具䜓䟋ずしおは、ラゞカル重合性
を有する䞍飜和二重結合を瀺すアクリル酞、メタ
クリル酞あるいはそれらの゚ステル化合物のよう
なアクリル系二重結合、ゞアリルフタレヌトのよ
うなアリル系二重結合、マレむン酞、マレむン酞
誘導䜓等の䞍飜和結合等の攟射線照射による架橋
あるいは重合也燥する基を分子䞭に導入するこず
である。その他攟射線照射により架橋重合する䞍
飜和二重結合であれば甚いるこずができる。 具䜓的には、䟋えば、぀ぎのようなものがあ
る。 (1) 塩化ビニル系共重合䜓 塩化ビニル−酢酞ビニル−ビニルアルコヌル
共重合䜓、塩化ビニル−ビニルアルコヌル共重
合䜓、塩化ビニル−ビニルアルコヌル−プロピ
オン酞ビニル共重合䜓、塩化ビニル−酢酞ビニ
ル−マレむン酞共重合䜓、塩化ビニル−酢酞ビ
ニル−末端OH偎鎖アルキル基共重合䜓等があ
り、商品名ずしおは、䟋えばナニオン・カヌバ
むト瀟のVROH、VYNC、VYEGX、VERR
等が挙げられる。 䞊蚘共重合䜓は、埌に述べる手法により、ア
クリル系二重結合、マレむン酞二重結合、アリ
ル系二重結合を導入するこずにより攟射線感応
倉性が行なわれる。 (2) 飜和ポリ゚ステル暹脂 無氎フタル酞、む゜フタル酞、テレフタル
酞、コハク酞、アゞピン酞、セバシン酞等の飜
和倚塩基酞ず゚チレングリコヌル、ゞ゚チレン
グリコヌル、グリセリン、トリメチロヌルプロ
パン、−プロピレングリコヌル、ゞプロ
ピレングリコヌル、−ブタンゞオヌル、
−ブタンゞオヌル、−ヘキサンゞ
オヌル、ペンタ゚リスリツト、゜ルビトヌル、
ネオペンチルグリコヌル、−シクロヘキ
サンゞメタノヌル等の倚䟡アルコヌルずの反応
により埗られる飜和ポリ゚ステル暹脂たたはこ
れらのポリ゚ステル暹脂をSO3Na等に倉性し
た暹脂䟋えばバむロン等がある。こ
れらも埌に述べる手法により攟射線感応倉性が
行なわれる。 (3) 䞍飜和ポリ゚ステル暹脂 分子鎖䞭に攟射線硬化性䞍飜和二重結合を含
有するポリ゚ステル化合物。䟋えば第項の熱
可塑性暹脂ずしお蚘茉の倚塩基酞ず倚䟡アルコ
ヌルの゚ステル結合から成る飜和ポリ゚ステル
暹脂で倚塩基酞の䞀郚をマレむン酞、フマル酞
等の䞍飜和倚塩基酞ずした攟射線硬化性䞍飜和
二重結合を含有する䞍飜和ポリ゚ステル暹脂、
プレポリマヌ、オリゎマヌを挙げるこずができ
る。 飜和ポリ゚ステル暹脂の倚塩基酞および倚䟡
アルコヌル成分は第項に蚘茉した各化合物を
挙げるこずができ、攟射線硬化性䞍飜和二重結
合ずしおはマレむン酞、フマル酞を挙げるこず
ができる。 攟射線硬化性䞍飜和ポリ゚ステル暹脂の補法
は、倚塩基酞成分皮以䞊ず倚䟡アルコヌル成
分皮以䞊にマレむン酞、フマル酞等を加え垞
法、すなわち觊媒存圚䞋たたは䞍存圚䞋に180
〜200℃窒玠雰囲気䞋脱氎あるいは脱アルコヌ
ル反応の埌、240〜280℃たで昇枩し、0.5〜
mmHgの枛圧䞋瞮合反応によりポリ゚ステル暹
脂を埗るこずができる。マレむン酞やフマル酞
等の含有量は、補造時の架橋、攟射線硬化性等
から成分䞭〜40モルで、奜たしくは10〜30
モルである。 (4) ポリビニルアルコヌル系暹脂 ポリビニルアルコヌル、ブチラヌル暹脂、ア
セタヌル暹脂、ホルマヌル暹脂等およびこれら
の成分の共重合䜓がある。これらの暹脂も、そ
こに含たれる氎酞基を埌に述べる手法により攟
射線感応倉性が行なわれる。 (5) ゚ポキシ系暹脂、プノキシ暹脂 ビスプノヌルず゚ピクロルヒドリンたた
はメチル゚ピクロルヒドリンずの反応による゚
ポキシ暹脂䟋えば、シ゚ル化孊瀟補の゚ピコ
ヌト152、154、828、1001、1004、1007、ダり
ケミカル瀟補のDEN 431、DER 732、DER
511、DER 331、倧日本むンキ化孊工業瀟補の
゚ピクロン 400、゚ピクロン 800等、前蚘
゚ポキシの高重合床暹脂であるナニオン・カヌ
バむト瀟のプノキシ暹脂䟋えばPKHA、
PKHC、PKHH等臭玠化ビスプノヌル
ず゚ピクロルヒドリンずの共重合䜓䟋えば倧
日本むンキ化孊工業瀟補の゚ピクロン145、
152、153、1120等がある。これらの暹脂も、
そこに含たれる゚ポキシ基を利甚しお、反射線
感応倉性が行なわれる。 (6) 繊維玠誘導䜓 各皮分子量の繊維玠誘導䜓も、熱可塑性プラ
スチツク成分ずしお有効である。その䞭でも、
特に効果的なものは、硝化綿、セルロヌスアセ
トブチレヌト、゚チルセルロヌス、ブチルセル
ロヌス、アセチルセルロヌス等が奜適である。
これらも暹脂䞭の氎酞基を掻甚しお埌に述べる
手法により攟射線感応倉性が行なわれる。 (7) その他 攟射線感応倉性に甚いるこずのできる暹脂ず
しおは、倚官胜性ポリ゚ステル暹脂、ポリ゚ヌ
テル゚ステル暹脂、ポリビニルピロリドン暹脂
およびその誘導䜓䟋えばビニルピロリドン−
゚チレン共重合䜓、ポリアミド暹脂、ポリむ
ミド暹脂、プノヌル暹脂、スピロアセタヌル
暹脂、氎酞基含有アクリルたたはメタクリル系
暹脂等も䜿甚できる。 その他、䜿甚可胜なバむンダヌ成分ずしお
は、単量䜓ずしおアクリル酞、メタクリル酞、
アクリルアミド、メタクリルアミド等がある。
二重結合のあるバむンダヌずしおは皮々のポリ
゚ステル、ポリオヌル、ポリりレタン等をアク
リル系二重結合を有する化合物で倉性するこず
ができる。必芁に応じお他䟡アルコヌルず倚䟡
カルボン酞ずを配合するこずによ぀お皮々の分
子量のものもできる。 なお、䞊蚘内容は、本発明による攟射線感応暹
脂の䞀郚を蚘したにすぎない。 さらに、䞊蚘攟射線感応倉性熱可塑性暹脂に熱
可塑性゚ラストマヌたたはプレポリマヌを配合す
るこずにより䞀局匷靭な塗膜ずするこずができ
る。 加えおこれらの゚ラストマヌたたはプレポリマ
ヌが、同様に攟射線感応硬化性に倉性された堎合
には、より䞀局効果的である。 本発明においお䜿甚可胜な゚ラストマヌたたは
プレポリマヌずしおは、䟋えば぀ぎのようなもの
がある。 (1) ポリりレタン゚ラストマヌおよびプレポリマ
ヌおよびテロマヌ ポリりレタン゚ラストマヌは耐摩耗性および
ポリ゚チレンテレフタレヌトフむルムぞの接着
性の点で特に有効である。 このようなりレタン化合物の䟋ずしおは、む
゜シアネヌトずしお−トリレンゞむ゜シ
アネヌト、−トリレンゞむ゜シアネヌ
ト、−キシリレンゞむ゜シアネヌト、
−キシリレンゞむ゜シアネヌト、
−ナフタレンゞむ゜シアネヌト、−プニレ
ンゞむ゜シアネヌト、−プニレンゞむ゜シ
アネヌト、3′−ゞメチル−4′−ゞプ
ニルメタンゞむ゜シアネヌト、4′−ゞプ
ニルメタンゞむ゜シアネヌト、3′−ゞメチ
ルビプニレンゞむ゜シアネヌト、4′−ビ
プニレンゞむ゜シアネヌト、ヘキサメチレン
ゞむ゜シアネヌト、む゜フオロンゞむ゜シアネ
ヌト、ゞシクロヘキシルメタンゞむ゜シアネヌ
ト、デスモゞナヌル、デスモゞナヌル等の
各皮倚䟡む゜シアネヌトず、線状飜和ポリ゚ス
テル䟋えば、゚チレングリコヌル、ゞ゚チレ
ングリコヌル、グリセリン、トリメチロヌルプ
ロパン、−ブタンゞオヌル、−ヘ
キサンゞオヌル、ペンタ゚リスリツト、゜ルビ
トヌル、ネオペンチルグリコヌル、−シ
クロヘキサンゞメタノヌル等の倚䟡アルコヌル
ず、無氎フタル酞、む゜フタル酞、テレフタル
酞、マレむン酞、コハク酞、アゞピン酞等ず飜
和倚塩基酞ずの重瞮合物、線状飜和ポリ゚ヌ
テルポリ゚チレングリコヌル、ポリプロピレ
ングリコヌル、ポリテトラメチレングリコヌル
等やカプロラクタム、ヒドロキシル含有アク
リル酞゚ステル、ヒドロキシル含有メタクリル
酞゚ステル等の各皮ポリ゚ステル類の重瞮合物
よりなるポリりレタン゚ラストマヌ、プレポリ
マヌ、テロマヌ等が有効である。 これらの゚ラストマヌを前蚘攟射線感応倉性
の各皮熱可塑性暹脂ずそのたた組合わせおもよ
いが、さらにポリりレタン゚ラストマヌ末端の
む゜シアネヌト基たたは氎酞基ず反応するアク
リル系二重結合たたはアリル系二重結合等を有
する単量䜓ず反応させるこずにより、攟射線感
応性に倉性するこずは非垞に効果的である。 (2) アクリロニトリル−ブダゞ゚ン共重合゚ラス
トマヌ シンクレア・ペトロケミカル瀟補のポリBD
リクむツドレゞンずしお垂販されおいる末端氎
玠基のあるアクリロニトリル−ブダゞ゚ン共重
合䜓プレポリマヌ、あるいは日本れオン瀟補の
ハむカヌ1432J等の゚ラストマヌは、特にブタ
ゞ゚ン䞭に二重結合が攟射線によりラゞカルを
生じお架橋および重合させる゚ラストマヌ成分
ずしお適する。 (3) ポリブタゞ゚ン゚ラストマヌ シンクレア・ペトロケミカル瀟補のポリBD
リクむツドレゞン−15等の䜎分子量の末端氎
酞基を有するプレポリマヌが、特に熱可塑性暹
脂ずの盞溶性の点で奜適である。−15プレポ
リマヌにおいおは、分子末端が氎玠基ずな぀お
いるため、分子末端をアクリル系䞍飜和二重結
合を付加するこずにより攟射線感応性を高める
こずが可胜であり、バむンダヌずしおさらに有
利である。 たた、ポリブタゞ゚ンの環化物日本合成ゎ
ム瀟補 CBR− 901も熱可塑性暹脂ずの
組合わせにより優れた性胜を発揮する。特に環
化されたポリブタゞ゚ンは、ポリブタゞ゚ンが
本来有する䞍飜和結合のラゞカルにより攟射線
による架橋重合の効率が良く、バむンダヌずし
お優れた性質を有しおいる。 その他の熱可塑性゚ラストマヌおよびそのプレ
ポリマヌ系で奜適なものずしおは、スチレン−ブ
タゞ゚ンゎム、塩化ゎム、アクリルゎム、む゜プ
レンゎムおよびその環化物日本合成ゎム瀟補
CIR 701、゚ポキシ倉性ゎム、内郚可塑性飜和
線状ポリ゚ステル東掋玡瞟瀟補バむロン300
等の゚ラストマヌも攟射線環応倉性凊理を斜すこ
ずにより有効に利甚できる。 本発明は、溶剀を䜿甚する堎合には、アセト
ン、メチル゚チルケトン、メチルむ゜ブチルケト
ン、シクロヘキサノン等のケトン類、メタノヌ
ル、゚タノヌル、む゜プロパノヌル、ブタノヌル
等のむ゜シアネヌト系熱硬化型バむンダヌでは䜿
甚できなか぀たアルコヌル類、テトラヒドロフラ
ン、ゞオキサン等の゚ヌテル類、ゞメチルホルム
アミド、ビニルピロリドン、ニトロプロパン等の
溶剀、トル゚ン、キシレン等の芳銙族炭化氎玠類
等の垌釈剀ないし溶剀が甚いられる。 塗垃されるべき基䜓ずしおは、珟圚磁気蚘録媒
䜓ずしお広く掻甚されおいるポリ゚チレンテレフ
タレヌト系フむルムおよびさらに耐熱性を芁求さ
れる甚途ずしおは、ポリむミドフむルム、ポリア
ミドむミドフむルム等が掻甚され、特にポリ゚ス
テル系フむルムにおいおは薄物ベヌスでは軞延
䌞、軞延䌞凊理を斜しお利甚する堎合が倚い。 本発明においお䜿甚される磁性粉ずは、γ−
Fe2O3、Fe3O4、Coドヌプγ−Fe2O3、Coドヌプ
γ−Fe2O3−Fe3O4固溶䜓、CrO2、Co系化合物被
着型γ−Fe2O3、Co系化合物被着型Fe3O4γ−
Fe2O3ずの䞭間酞化状態も含む。たたここでいう
Co系化合物ずは、酞化コバルト、氎酞化コバル
ト、コバルトプラむト、コバルトむオン吞着物
等コバルトの磁気異方性を保磁力向䞊に掻甚する
堎合を瀺す。や、Co、Fe−Co、Fe−Co−、
Co−Ni等の匷磁性金属元玠を䞻成物ずするもの
等の磁性䜓埮粉末である。その補法は、NaBH4
等の還元剀による湿匏還元法や、酞化鉄衚面をSi
化合物で凊理したのち、氎玠ガス等により也匏還
元法よ぀おあるいは䜎圧アルゎンガス気流䞭で真
空蒞発させるこずによ぀お埗られる手法等が挙げ
られる。たた、単結晶バリりムプラむト埮粉も
䜿甚できる。 以䞊の磁性䜓粉末は、針状圢態あるいは粒状圢
態のものを䜿甚し、磁気蚘録媒䜓ずしお甚いる甚
途によ぀お遞択される。そのサむズは、䟋えば、
針状圢態の堎合は平均長軞が0.1〜1Ό、平均短
軞が0.02〜0.1Όのものが奜たしく、たた粒状圢
態の堎合は平均粒埄が0.01〜0.5Όのものが奜た
しい。 前蚘暹脂組成物ず磁性粉は、ボヌルミル、サン
ドグラむンドミル、ロヌルミル、高速むンペラヌ
分散機、ホモゞナむザヌ、超音波分散機等の各皮
の装眮内で十分混緎分散されお、磁性塗料が埗ら
れる。この磁性塗料は、垞法により非磁性基䜓䞊
に塗垃される。その塗垃膜は、也燥基準で0.5〜
20Ό、奜たしくは0.5〜10Όである。 本発明に係わる攟射線硬化型磁気蚘録媒䜓甚バ
むンダヌに関しおも、圓該甚途にお通垞䜿甚され
る各皮垯電防止剀、分散剀、研磚剀等を甚途に合
わせお本発明添加剀以倖に添加させ掻甚するこず
も有効である。 本発明においお磁性塗膜の架橋に䜿甚される掻
性゚ネルギヌ線ずしおは、電子線加速噚を線源ず
した電子線が䞋蚘に述べる理由から有利である。
しかし、その他にもCo60を線源ずした線、Sr90
を線源ずしたβ線、線発生機を線源ずした線
等も䜿甚できる。 照射線源ずしおは、吞収線量の制埡、補造工皋
ラむンぞの導入のための電離攟射線の自己遮蔜、
工皋ラむン諞蚭備ずのシヌケンス制埡ずの接続の
しやすさ等の点で電子線加速噚の利甚が有利であ
る。電子線加速噚は、埓来コツククロフト型、バ
ンデグラフ型、共換倉圧噚型、鉄心絶瞁倉圧噚
型、リニダアクセレレヌタ型等、䞻ずしお高電圧
を埗る方匏の差により各皮の加速噚が実甚化され
おいる。しかし、磁気蚘録媒䜓は汎甚甚途に䜿甚
される堎合、10ミクロン以䞋の薄い磁性膜厚のも
のがほずんどであり、䞊蚘加速噚で通垞䜿甚され
る1000kV以䞊の高加速電圧は䞍必芁であり、
300kV以䞋の䜎い加速電圧の電子線加速噚で十分
である。䜎加速電圧加速噚においおは、システム
自䜓のコストも䜎䞋するが、さらにそのうえ電離
攟射線の遮蔜蚭備費の点でさらに有利である。 ぀ぎに、遮蔜蚭備コストの有利さに぀いお第
衚に瀺す。
【衚】 第衚に瀺すように、300kV以䞋の電子加速噚
においおは、遮蔜材ずしお鉛板最倧cmを甚
いお電子線被照射郚を包む加速管党䜓を芆うこず
で挏線を十分遮断するこずができる。このため
に高䟡な電子線照射宀を別に蚭ける必芁もなく、
システム自䜓も磁気蚘録媒䜓補造ラむンのシス
テムずしお組蟌むこずが可胜ずなり、䟋えば磁気
テヌプ、磁気シヌト等の電子線による也燥、硬化
をオンラむンで行なうこずが可胜ずなる。 このような具䜓的システムずしおは、米囜゚ナ
ヌゞヌ・サむ゚ンス瀟ESIにお補造されおい
る䜎電圧タむプの電子線加速噚゚レクトロカヌ
テンシステム、RPC瀟の電子線加速噚ブロヌ
ドビヌムシステム、西独ポリマヌ、フむゞクス
瀟の自己遮蔜型スキダンニング型䜎電圧タむプ電
子線加速噚が奜適である。150〜300kVの䜎電圧
加速噚を䜿甚し、前述のバむンダヌ塗膜を硬化し
た堎合、高枩高湿走行耐久性においお、吞収線量
が5Mradを越えるず、オヌデむオおよびメモリ
ヌ甚ではヘツドの磁性膜脱萜の付着、たたビデオ
甚途では回転シリンダヌぞ同様の付着が増しお奜
たしくない。他方、0.5〜5Mradの吞収線量では
電子線による重合、架橋密床が適圓であるため、
磁性塗膜が適床に柔軟性ず剛盎性ずのバランスを
有し、磁性局ヘツド間の耐摩耗性も向䞊し、ヘツ
ド付着、シリンダヌ付着もなく、優れた磁気蚘録
媒䜓ずなる。 たた、攟射線架橋に際しおは、窒玠ガス、ヘリ
りムガス等の䞍掻性ガス気流䞭で攟射線を蚘録媒
䜓に照射するこずが重芁であり、磁性塗膜のよう
に非垞に磁性顔料充填床の高い塗膜は非垞に倚孔
質ずな぀おいるために、空気䞭で攟射線を照射す
るこずはバむンダヌ成分の架橋に際し、攟射線に
より生じたオゟン等の圱響で重合䜓䞭に生じたラ
ゞカルが有効に架橋反応しお働くこずを阻害す
る。その圱響は、磁性局衚面は圓然ずしお、倚孔
質のため塗膜内郚たでバむンダヌ架橋阻害の圱響
を受ける。したが぀お、掻性゚ネルギヌ線を照射
する郚分の雰囲気は、特に酞玠濃床が最倧で
、奜たしくは3000ppm以䞋の窒玠、ヘリりム、
炭酞ガス等の䞍掻性ガス雰囲気に保぀こずが重芁
である。 ぀ぎに、実斜䟋を挙げお本発明をさらに詳现に
説明する。 実斜䟋 塩化ビニル130重量郚、酢酞ビニル70重量郚、
メチル゚チルケトン105郚、トル゚ン45重量郚お
よび過酞化ベンゟむル重量郚をオヌトクレヌブ
に仕蟌み、55℃で重合を開始した。塩化ビニル−
酢酞ビニルの重合率が10にな぀たずき、無氎マ
レむン酞4.5重量郚、マレむン酞1.5重量郚および
メチル゚チルトン30重量郚からなる重合液の1/6
を添加した。残りの5/6を䞊蚘重合率が60にな
るたで分割添加した。重合率90たで重合させお
から冷华し、埗られた暹脂分玄50重量の暹脂溶
液を取出した。この暹脂の組成は、分析の結果、
塩化ビニル70重量郚、酢酞ビニル30重量郚、無氎
マレむン酞2.3重量郚およびマレむン酞0.7重量郹
で重合床250の共重合䜓であ぀た。この共重合䜓
の溶液を液ずする。 この酢酞ビニル成分ずケン化凊理し、塩化ビニ
ル70重量郚、酢酞ビニル20重量郚、ビニルアルコ
ヌル10重量郚、無氎マレむン酞2.0重量郚および
マレむン酞1.0重量郚よりなり、重合床270の暹脂
埗た。この暹脂をメチル゚チルケトンに溶解し、
暹脂濃床50の溶液を埗た。この暹脂の溶液を
液ずする。 コバルト被着針状γ−Fe2O3長軞0.4Ό、短軞
0.05Ό、Hc600 Oe 120重量郹 カヌボンブラツク垯電防止甚、䞉菱カヌボンブ
ラツクMA600 重量郚 α−Al2O3粉末平均粒埄0.5Ό 重量郚 分散剀倧豆油粟補レシチン 重量郚 溶剀メチル゚チルケトントル゚ン5050
100重量郹 䞊蚘組成分をボヌルミル䞭にお時間混合し、
針状磁性酞化鉄を分散剀により良く湿最させた。 液固圢分換算重合床玄250 重量郚 アクリル二重結合導入ブチラヌル暹脂 重量郚 アクリル二重結合導入ポリ゚ヌテルりレタン゚ラ
ストマヌ固圢分換算 15重量郹 溶剀メチル゚チルケトントル゚ン5050
200重量郹 脂肪酞゚ステルミリスチン酞ブチル重量郚 脂肪酞ミリスチン酞 重量郚 ぀ぎに、䞊蚘組成の混合物を良く混合溶解させ
た。これをさきに磁性粉凊理を行な぀たボヌルミ
ル䞭に投入し、再び24時間混合分散させた。 このようにしお埗られた磁性塗料を厚さ15Ό
のポリ゚ステルフむルム䞊に塗垃し、氞久磁石
1600ガりス䞊で配向させ、赀倖線ランプたた
は熱颚により溶剀を也燥させたのち、衚面を平滑
化凊理し、぀いで、ESI瀟の゚レクトロカヌテン
タむプ電子線加速装眮を䜿甚しお加速電圧
150kV、電極電流10mA、党照射5Mradの条件で
窒玠雰囲気䞋に残酞玠濃床500ppm前埌にお電子
線照射し、磁性塗膜の重合也燥および硬化反応を
行な぀た。 埗られたテヌプを1/2むンチ幅に切断しおビデ
オテヌプを埗た。このようにしお埗られたビデオ
テヌプに぀いお、皮々の特性を詊隓したずころ、
第衚のずおりであ぀た。なお、比范のために
液および液を混入しないもの比范䟋およ
び液のみを混入したもの比范䟋に぀いお
も同様な詊隓を行な぀た。 比范䟋  実斜䟋においお、液および液甚に䜿甚され
る塩化ビニル系共重合䜓の成分から無氎マレむン
酞を陀いた共重合䜓を甚いた以倖は、実斜䟋ず同
様な混合物を調補し、か぀実斜䟋ず同様な方法で
ビデオテヌプを埗お、同様な詊隓を行な぀た。
【衚】 なお、摩擊係数Όは、磁気テヌプを摩擊シリン
ダに巻き぀け、走行させたずきの入口テンシペン
Toおよび出口テンシペンTiを枬定し、次に瀺す
オむラヌの匏により算出した。 ΌΞlnTiTo ただし、匏䞭、Ξはテヌプの巻付角rad.で
あり、たたlnは自然察数である。 たた、光沢床は、テヌプの磁性面に60°に入射
角で光を圓お、その反射光を怜出しおパヌセント
で衚わす。第衚に蚘した光沢は、実斜䟋の詊
料の光沢のずした堎合の比范䟋の詊料の盞察評
䟡倀である。 電磁倉換特性は、VHSビデオデツキによる枬
定倀で、RF感床4MHzで枬定し、比范䟋の堎合
をOdBずしお換算したdBである。 発明者はこのほか、攟射線感応硬化性暹脂を
液ずの混合比率を倉化させお皮々の実隓を詊みた
結果、反射線感応硬化性暹脂90重量に察し液
10重量の割合および攟射線感応硬化性暹脂80重
量に察し液20重量が䞊䞋限でこれらの比率
の間にある堎合には、摩擊係数が小さく、光沢床
等の衚面性が優れ、配向や電磁特性が良い。

Claims (1)

    【特蚱請求の範囲】
  1.  (A)塩化ビニル、(B)酢酞ビニル、(C)マレむン
    酞、(D)無氎マレむン酞および(E)ビニルアルコヌル
    の五成分系共重合䜓であ぀お(A)が(A)(B)(E)の50
    〜90重量含たれ、(E)が(A)(B)(E)の〜15重量
    含たれ、(D)が(C)(D)の60〜90重量含たれるず
    ずもに(A)(B)(E)100重量郚に察しお(C)(D)が
    〜重量郚含たれおいる平均重合床100〜400の共
    重合䜓を䞻成分ずする磁気塗料甚暹脂溶液を攟射
    線感応硬化性暹脂90〜20重量に察し10〜80重量
    に割合で混合した混合物を䞻成分ずし、磁性粉
    を混緎しお埗られる磁性塗料を、非磁性基䜓䞊に
    塗垃し、攟射線によ぀お固定しおなる磁気蚘録媒
    䜓。
JP58184535A 1983-10-04 1983-10-04 磁気蚘録媒䜓 Granted JPS6079520A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58184535A JPS6079520A (ja) 1983-10-04 1983-10-04 磁気蚘録媒䜓
US06/657,728 US4601947A (en) 1983-10-04 1984-10-04 Magnetic recording medium

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58184535A JPS6079520A (ja) 1983-10-04 1983-10-04 磁気蚘録媒䜓

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6079520A JPS6079520A (ja) 1985-05-07
JPH0576091B2 true JPH0576091B2 (ja) 1993-10-21

Family

ID=16154894

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP58184535A Granted JPS6079520A (ja) 1983-10-04 1983-10-04 磁気蚘録媒䜓

Country Status (2)

Country Link
US (1) US4601947A (ja)
JP (1) JPS6079520A (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6052922A (ja) * 1983-09-02 1985-03-26 Tdk Corp 磁気蚘録媒䜓
JPS63239904A (ja) * 1987-03-27 1988-10-05 Nippon Seiko Kk 光硬化型磁性流䜓
JP2502639B2 (ja) * 1987-12-09 1996-05-29 日信化孊工業株匏䌚瀟 磁気蚘録媒䜓
US5547599A (en) * 1989-03-17 1996-08-20 Raytheon Company Ferrite/epoxy film
US5143637A (en) * 1990-02-20 1992-09-01 Nippon Seiko Kabushiki Kaisha Magnetic fluid composition
JP2004185713A (ja) * 2002-12-03 2004-07-02 Fuji Photo Film Co Ltd 磁気蚘録媒䜓

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5740742A (en) * 1980-08-23 1982-03-06 Sony Corp Magnetic recording medium

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4004997A (en) * 1972-01-30 1977-01-25 Seiko Shimada Process of curing a polymerizable composition containing a magnetized powered ferromagnetic material with radioactive rays
JPS5625232A (en) * 1979-08-06 1981-03-11 Sony Corp Magnetic recording medium
JPS5715231A (en) * 1980-07-03 1982-01-26 Sony Corp Magnetic recording medium
US4448846A (en) * 1980-09-22 1984-05-15 Ampex Corporation Radiation-cured magnetic media and process for making same
JPS57128711A (en) * 1981-02-04 1982-08-10 Denki Kagaku Kogyo Kk Resin solution for magnetic coating material
JPS57130229A (en) * 1981-02-04 1982-08-12 Fuji Photo Film Co Ltd Manufacture of magnetic recording material
JPS57164436A (en) * 1981-04-02 1982-10-09 Fuji Photo Film Co Ltd Manufacture of magnetic recording medium
JPS5897132A (ja) * 1981-12-07 1983-06-09 Fuji Photo Film Co Ltd 磁気蚘録材料の補造方法
JPS58114330A (ja) * 1981-12-28 1983-07-07 Denki Kagaku Kogyo Kk 磁気蚘録媒䜓甚磁性塗料
JPS59127225A (ja) * 1983-01-06 1984-07-23 Tdk Corp 磁気蚘録媒䜓
JPS59177727A (ja) * 1983-03-25 1984-10-08 Tdk Corp 磁気蚘録媒䜓

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5740742A (en) * 1980-08-23 1982-03-06 Sony Corp Magnetic recording medium

Also Published As

Publication number Publication date
JPS6079520A (ja) 1985-05-07
US4601947A (en) 1986-07-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4419406A (en) Magnetic recording medium and production thereof
US4415630A (en) Process of making magnetic recording medium
JPH0440780B2 (ja)
NL8403173A (nl) Magnetisch registratiemedium.
US4699847A (en) Magnetic recording medium
US4560617A (en) Magnetic recording medium
JPH0612564B2 (ja) 磁気蚘録媒䜓
US4618535A (en) Magnetic recording medium
JPH0576091B2 (ja)
US4559265A (en) Magnetic recording medium
JPH0576089B2 (ja)
JPH0576092B2 (ja)
JPH0219529B2 (ja)
JPS62137718A (ja) 磁気蚘録ディスクの補造方法
JPH0546016B2 (ja)
JPH0533447B2 (ja)
GB2130121A (en) Magnetic recording medium and method for producing the same
JPH0673172B2 (ja) 磁気蚘録媒䜓
JPH057763B2 (ja)
JPH0315257B2 (ja)
JPS59191135A (ja) 磁気蚘録媒䜓及びその補造方法
GB2146269A (en) Magnetic recording disc and process for its production
JPH02192012A (ja) 磁気蚘録媒䜓
JPS6059527A (ja) 磁気蚘録媒䜓
JPH0413766B2 (ja)