JPH064917A - 光学的記録媒体、及びその製造方法 - Google Patents
光学的記録媒体、及びその製造方法Info
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- JPH064917A JPH064917A JP16134492A JP16134492A JPH064917A JP H064917 A JPH064917 A JP H064917A JP 16134492 A JP16134492 A JP 16134492A JP 16134492 A JP16134492 A JP 16134492A JP H064917 A JPH064917 A JP H064917A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ヘッドクラッシュ、ステッキングの発生を防
止する。 【構成】 基板１上に誘電体膜２、光磁気記録層３、誘
電体膜４、Ａｌ−Ｃｒ層５を形成し、その上に保護層６
を形成する。保護層６は（Ａ）ステアリルアクリレー
ト、（Ｂ）アクリル酸エステル類、（Ｃ）無機フィラー
を主成分として硬化させた樹脂組成物とする。
止する。 【構成】 基板１上に誘電体膜２、光磁気記録層３、誘
電体膜４、Ａｌ−Ｃｒ層５を形成し、その上に保護層６
を形成する。保護層６は（Ａ）ステアリルアクリレー
ト、（Ｂ）アクリル酸エステル類、（Ｃ）無機フィラー
を主成分として硬化させた樹脂組成物とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光ビームにより記録・
再生・消去を行なうことが可能な光学的記録媒体に関
し、特に磁場変調法によるオーバーライト（重ね書き）
が可能な光学的記録媒体に関するものである。
再生・消去を行なうことが可能な光学的記録媒体に関
し、特に磁場変調法によるオーバーライト（重ね書き）
が可能な光学的記録媒体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、オーバーライトが可能な光磁気デ
ィスク、及びその装置としては、例えば特開昭５１−１
０７１２１号、特開昭６３−２１７５４８号、特開昭５
９−２１５００８号、特公昭６０−４８８０６号に記載
されているように、記録する情報に応じて、光磁気記録
層への印加磁場を変調させる方式、あるいはアイ・イー
・イー・イー，トランサクション オン マグネティク
ス（ＩＥＥＥ Ｔｒａｎｓａｃｔｉｏｎ ｏｎ Ｍａｇ
ｎｅｔｉｃｓ）ＭＡＧ−２０，Ｖｏｌ．５，１０１３頁
（１９８４年）に報告されているように、２個の光スポ
ットを用いる方式等が知られている。また、従来の光学
的記録媒体における保護層としては、特開昭６１−１２
３５９３号、特開昭６１−１３３０６７号、特開昭６１
−１３９９６１号、特開昭６１−１５３８４４号に開示
されているように、紫外線硬化型アクリレート系樹脂組
成物により構成されたものが用いられている。
ィスク、及びその装置としては、例えば特開昭５１−１
０７１２１号、特開昭６３−２１７５４８号、特開昭５
９−２１５００８号、特公昭６０−４８８０６号に記載
されているように、記録する情報に応じて、光磁気記録
層への印加磁場を変調させる方式、あるいはアイ・イー
・イー・イー，トランサクション オン マグネティク
ス（ＩＥＥＥ Ｔｒａｎｓａｃｔｉｏｎ ｏｎ Ｍａｇ
ｎｅｔｉｃｓ）ＭＡＧ−２０，Ｖｏｌ．５，１０１３頁
（１９８４年）に報告されているように、２個の光スポ
ットを用いる方式等が知られている。また、従来の光学
的記録媒体における保護層としては、特開昭６１−１２
３５９３号、特開昭６１−１３３０６７号、特開昭６１
−１３９９６１号、特開昭６１−１５３８４４号に開示
されているように、紫外線硬化型アクリレート系樹脂組
成物により構成されたものが用いられている。
【０００３】しかしながら、光学的記録媒体を用いた、
磁界変調方式のオーバーライト可能な光磁気記録システ
ムでは、特に始動時において磁気ヘッドと光磁気記録媒
体の摺動が激しいために、度々磁気ヘッドがクラッシュ
する問題が発生する。従来、この磁気ヘッドのクラッシ
ュを防止する対策として、光磁気記録層の磁気ヘッドと
対向する側に紫外線硬化型アクリレート系樹脂を、例え
ば２〜３０μｍの厚さに積層した保護膜を設けることが
提案されているが、クラッシュの防止は不十分である。
具体的には、ＣＳＳ試験（コンタクト スタート・スト
ップテスト）を行うと、１００万パスをクリアすること
ができず、ヘッドクラッシュが発生する状況にある。ま
た、磁気ヘッドと光磁気記録媒体の表面とのステッキン
グ（吸着現象）も発生し、媒体の回転がスムーズにいか
ないという問題が発生した。また、従来ディスク状の磁
気記録媒体に対して、光ビームを照射した状態で、磁界
変調方式で上記磁気記録媒体に情報の書き込みを行な
う、オーバーライト可能な光磁気記録再生装置は種々提
唱されている。（特開昭５１−１０７１２１号公報、特
開昭６３−２１７５４８号公報、特開昭５９−２１５０
０８号公報、特開昭６０−４８８０６号公報）ここで
は、光磁気記録媒体に対して、オーバーライトするため
に、磁気ヘッドスライダーに磁気コイルおよびコアを配
設し、これを回転させる。
磁界変調方式のオーバーライト可能な光磁気記録システ
ムでは、特に始動時において磁気ヘッドと光磁気記録媒
体の摺動が激しいために、度々磁気ヘッドがクラッシュ
する問題が発生する。従来、この磁気ヘッドのクラッシ
ュを防止する対策として、光磁気記録層の磁気ヘッドと
対向する側に紫外線硬化型アクリレート系樹脂を、例え
ば２〜３０μｍの厚さに積層した保護膜を設けることが
提案されているが、クラッシュの防止は不十分である。
具体的には、ＣＳＳ試験（コンタクト スタート・スト
ップテスト）を行うと、１００万パスをクリアすること
ができず、ヘッドクラッシュが発生する状況にある。ま
た、磁気ヘッドと光磁気記録媒体の表面とのステッキン
グ（吸着現象）も発生し、媒体の回転がスムーズにいか
ないという問題が発生した。また、従来ディスク状の磁
気記録媒体に対して、光ビームを照射した状態で、磁界
変調方式で上記磁気記録媒体に情報の書き込みを行な
う、オーバーライト可能な光磁気記録再生装置は種々提
唱されている。（特開昭５１−１０７１２１号公報、特
開昭６３−２１７５４８号公報、特開昭５９−２１５０
０８号公報、特開昭６０−４８８０６号公報）ここで
は、光磁気記録媒体に対して、オーバーライトするため
に、磁気ヘッドスライダーに磁気コイルおよびコアを配
設し、これを回転させる。
【０００４】上記光磁気記録媒体に対向して配置し、両
者の間に生じる空気流で上記磁気ヘッドスライダーを上
記磁気記録媒体上で浮上させている。このため、磁気ヘ
ッドスライダーは、光磁気記録媒体が所定回転数である
場合においては、上記空気流の働きで、上記光磁気記録
媒体に直接接触しないために、上記光磁気記録再生装置
による記録・再生・消去などの過程で、摩耗損傷される
ことはない。
者の間に生じる空気流で上記磁気ヘッドスライダーを上
記磁気記録媒体上で浮上させている。このため、磁気ヘ
ッドスライダーは、光磁気記録媒体が所定回転数である
場合においては、上記空気流の働きで、上記光磁気記録
媒体に直接接触しないために、上記光磁気記録再生装置
による記録・再生・消去などの過程で、摩耗損傷される
ことはない。
【０００５】しかしながら、光磁気記録媒体の駆動の始
め、あるいは終了時には、相対回転数の低下で磁気ヘッ
ドスライダーは浮上力を失い、上記磁気記録媒体に対し
て上記磁気ヘッドスライダーが直接、摺接することとな
り、摩耗損傷をうけ、あるいは上記磁気記録媒体側に摩
耗損傷を与えるおそれがある。
め、あるいは終了時には、相対回転数の低下で磁気ヘッ
ドスライダーは浮上力を失い、上記磁気記録媒体に対し
て上記磁気ヘッドスライダーが直接、摺接することとな
り、摩耗損傷をうけ、あるいは上記磁気記録媒体側に摩
耗損傷を与えるおそれがある。
【０００６】また、この様な問題の解決手段として、例
えば特開昭６３−２１７５４８号、特開昭６３−２２２
３４９号、特開平２−４０１４９号、特開平４−６４９
３９号、特開平４―６４９３８号、特開昭６３−２１７
５４８号、特開昭２２９６４３号、特開昭６４―４２０
４２号、特開昭６４―４３８３４号、特開昭６４―６４
１４８号、特開平１―１７１１３９号、に開示されてい
るように、硬化性樹脂中に無機フィラー及び潤滑剤を配
合した保護膜の使用がある。しかしながら、この様な保
護膜を用いた光学的記録媒体は耐環境性が劣り、記録層
の腐食が発生するという問題がある。
えば特開昭６３−２１７５４８号、特開昭６３−２２２
３４９号、特開平２−４０１４９号、特開平４−６４９
３９号、特開平４―６４９３８号、特開昭６３−２１７
５４８号、特開昭２２９６４３号、特開昭６４―４２０
４２号、特開昭６４―４３８３４号、特開昭６４―６４
１４８号、特開平１―１７１１３９号、に開示されてい
るように、硬化性樹脂中に無機フィラー及び潤滑剤を配
合した保護膜の使用がある。しかしながら、この様な保
護膜を用いた光学的記録媒体は耐環境性が劣り、記録層
の腐食が発生するという問題がある。
【０００７】また、上記磁気ヘッドスライダーと光磁気
記録媒体との間にステッキング（吸着）が生じ、上記磁
気ヘッドスライダー及び光磁気記録媒体の駆動が不能と
なるという問題が生じる。
記録媒体との間にステッキング（吸着）が生じ、上記磁
気ヘッドスライダー及び光磁気記録媒体の駆動が不能と
なるという問題が生じる。
【０００８】また従来、保護層を用いて光磁気記録膜を
保護している光学的記録媒体の代表的なものとしては、
案内溝及びプリフォーマット信号を有する樹脂基板上
に、真空蒸着、スパッタリング等の方法により、Ｓｉ3
Ｎ4 ，ＳｉＯx ，ＺｎＳ，ＳｉＣ等の無機誘電体の一種
あるいは二種以上を組み合わせた誘電体膜を形成し、そ
の上にＧｄＦｅ，ＴｂＦｅ，ＧｄＴｂＦｅ，ＴｂＦｅＣ
ｏ，ＧｄＴｂＦｅＣｏ等の非晶質光磁気記録膜を設け、
その光磁気記録膜の上に前記無機誘電体膜と同様の誘電
体膜を形成し、さらにその上に磁気ヘッドが摺動するの
に耐える、耐摺動性の保護膜を設けて、光磁気記録膜を
保護してなるものである。従来、この保護膜として、紫
外線硬化型樹脂あるいはこれに無機フィラーを分散・配
合したものが用いられている。
保護している光学的記録媒体の代表的なものとしては、
案内溝及びプリフォーマット信号を有する樹脂基板上
に、真空蒸着、スパッタリング等の方法により、Ｓｉ3
Ｎ4 ，ＳｉＯx ，ＺｎＳ，ＳｉＣ等の無機誘電体の一種
あるいは二種以上を組み合わせた誘電体膜を形成し、そ
の上にＧｄＦｅ，ＴｂＦｅ，ＧｄＴｂＦｅ，ＴｂＦｅＣ
ｏ，ＧｄＴｂＦｅＣｏ等の非晶質光磁気記録膜を設け、
その光磁気記録膜の上に前記無機誘電体膜と同様の誘電
体膜を形成し、さらにその上に磁気ヘッドが摺動するの
に耐える、耐摺動性の保護膜を設けて、光磁気記録膜を
保護してなるものである。従来、この保護膜として、紫
外線硬化型樹脂あるいはこれに無機フィラーを分散・配
合したものが用いられている。
【０００９】しかしながら、上記の従来の光学的記録媒
体では、保護膜と磁気ヘッドとの摩擦力が大きいため
に、光学的記録媒体の回転開始時および停止時に磁気ヘ
ッドが保護膜表面に接触した場合、磁気ヘッドの動作不
良、ヘッドクラッシュや保護膜にキズが発生し、長期間
使用していると光磁気記録膜をもキズつけるという問題
がある。
体では、保護膜と磁気ヘッドとの摩擦力が大きいため
に、光学的記録媒体の回転開始時および停止時に磁気ヘ
ッドが保護膜表面に接触した場合、磁気ヘッドの動作不
良、ヘッドクラッシュや保護膜にキズが発生し、長期間
使用していると光磁気記録膜をもキズつけるという問題
がある。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、この様な従
来技術の問題を解決するためになされたものであり、ヘ
ッドクラッシュの発生およびステッキングの発生がな
く、長期間の信頼性を維持することができる光学的記録
媒体を提供することを目的とするものである。
来技術の問題を解決するためになされたものであり、ヘ
ッドクラッシュの発生およびステッキングの発生がな
く、長期間の信頼性を維持することができる光学的記録
媒体を提供することを目的とするものである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明においては、第１発明は、円板状基板上に少
なくとも光磁気記録層を有し、その上方最外部に保護層
を形成してなる光学的記録媒体において、前記保護層が
（Ａ）ステアリルアクリレートと、（Ｂ）アクリル酸エ
ステル及び／又はメタクリル酸エステルと、（Ｃ）無機
フィラーとを主成分として硬化させた樹脂組成物からな
るように光学的記録媒体を構成するもので、第２発明
は、円板状基板上に少なくとも光磁気記録層を有し、そ
の上方最外部に保護層を形成してなる光学的記録媒体に
おいて、前記保護層がラジカル重合性モノマーの硬化樹
脂組成物からなる第１保護膜と、その上に形成した光カ
チオン重合性モノマーの硬化樹脂組成物からなる第２保
護層とからなり、前記第２保護層の外表面には凹凸が形
成されているように光学的記録媒体を構成するものであ
る。
に、本発明においては、第１発明は、円板状基板上に少
なくとも光磁気記録層を有し、その上方最外部に保護層
を形成してなる光学的記録媒体において、前記保護層が
（Ａ）ステアリルアクリレートと、（Ｂ）アクリル酸エ
ステル及び／又はメタクリル酸エステルと、（Ｃ）無機
フィラーとを主成分として硬化させた樹脂組成物からな
るように光学的記録媒体を構成するもので、第２発明
は、円板状基板上に少なくとも光磁気記録層を有し、そ
の上方最外部に保護層を形成してなる光学的記録媒体に
おいて、前記保護層がラジカル重合性モノマーの硬化樹
脂組成物からなる第１保護膜と、その上に形成した光カ
チオン重合性モノマーの硬化樹脂組成物からなる第２保
護層とからなり、前記第２保護層の外表面には凹凸が形
成されているように光学的記録媒体を構成するものであ
る。
【００１２】第３発明は、前記第２発明の光学的記録媒
体の製造方法において、ラジカル重合性モノマー層上に
光カチオン重合性モノマー層を積重し、光照射して第２
保護層を形成後、加熱して第１保護層を形成する光学的
記録媒体の製造方法である。
体の製造方法において、ラジカル重合性モノマー層上に
光カチオン重合性モノマー層を積重し、光照射して第２
保護層を形成後、加熱して第１保護層を形成する光学的
記録媒体の製造方法である。
【００１３】第４発明は、上面に潤滑性を有するグラフ
ト重合膜を形成した第１基体を、上面に光磁気記録層を
少なくとも形成した第２基体上に接着してなり、前記第
１基体を保護層とする光学的記録媒体であり、グラフト
重合膜がシリコーンアクリレート重合物及びフッ化アク
リレート重合物から選ばれる少なくとも一方を含有して
なる光学的記録媒体であることを含む。
ト重合膜を形成した第１基体を、上面に光磁気記録層を
少なくとも形成した第２基体上に接着してなり、前記第
１基体を保護層とする光学的記録媒体であり、グラフト
重合膜がシリコーンアクリレート重合物及びフッ化アク
リレート重合物から選ばれる少なくとも一方を含有して
なる光学的記録媒体であることを含む。
【００１４】第５発明は、潤滑性を有するグラフト重合
膜を第１基体上面に形成され、上面に光磁気記録層を少
なくとも形成された第２基体上に前記第１基体の下面を
接着することにより、保護層が形成されてなる光学的記
録媒体において、前記グラフト重合膜の表面粗さが中心
線平均粗さ（Ｒａ）で０．３〜５μｍの値を有する光学
的記録媒体であり、グラフト重合膜が、シリコーンアク
リレート重合物及びフッ化アクリレート重合物から選ば
れる少なくとも一方を含有することを含む。
膜を第１基体上面に形成され、上面に光磁気記録層を少
なくとも形成された第２基体上に前記第１基体の下面を
接着することにより、保護層が形成されてなる光学的記
録媒体において、前記グラフト重合膜の表面粗さが中心
線平均粗さ（Ｒａ）で０．３〜５μｍの値を有する光学
的記録媒体であり、グラフト重合膜が、シリコーンアク
リレート重合物及びフッ化アクリレート重合物から選ば
れる少なくとも一方を含有することを含む。
【００１５】以下、本発明を詳細に説明する。 （第１発明）図１は本発明の光学的記録媒体の一例を示
すもので、１は円板状の基板である。この基板１の上に
順次、誘電体膜２、光磁気記録層３、誘電体膜４、Ａｌ
−Ｃｒ等からなる反射層５、保護層６が形成されてい
る。なお、７は浮上型磁気ヘッドを表している。
すもので、１は円板状の基板である。この基板１の上に
順次、誘電体膜２、光磁気記録層３、誘電体膜４、Ａｌ
−Ｃｒ等からなる反射層５、保護層６が形成されてい
る。なお、７は浮上型磁気ヘッドを表している。
【００１６】本発明において、保護層を形成する成分
は、下記 （Ａ）ステアリルアクリレート化合物 （Ｂ）アクリル酸エステルおよび／又はメタクリル酸エ
ステル及び／又はそれらの重合性プレポリマー （Ｃ）無機フィラー を含むものである。
は、下記 （Ａ）ステアリルアクリレート化合物 （Ｂ）アクリル酸エステルおよび／又はメタクリル酸エ
ステル及び／又はそれらの重合性プレポリマー （Ｃ）無機フィラー を含むものである。
【００１７】ステアリルアクリレートは長鎖ステアリル
基が撥水性を示し、保護層に、潤滑機能を付与する。ま
たステアリルアクリレートはアクリレート基により、硬
化性樹脂と硬化架橋反応を行なうため、保護層からブリ
ードアウトすることなく、長期間にわたり、保護層に潤
滑性を付与することができるという効果を発揮する。
基が撥水性を示し、保護層に、潤滑機能を付与する。ま
たステアリルアクリレートはアクリレート基により、硬
化性樹脂と硬化架橋反応を行なうため、保護層からブリ
ードアウトすることなく、長期間にわたり、保護層に潤
滑性を付与することができるという効果を発揮する。
【００１８】ステアリルアクリレートは、硬化性樹脂１
００重量部に対して５〜４０重量部、特に好ましくは１
０〜３０重量部を添加する。
００重量部に対して５〜４０重量部、特に好ましくは１
０〜３０重量部を添加する。
【００１９】アクリル酸エステル、メタクリル酸エステ
ルとしては、例えばメタクリル酸エチル、メタクリル酸
ブチル、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸２−ヒ
ドロキシエチルエチルアクリレート等を挙げることがで
きる。
ルとしては、例えばメタクリル酸エチル、メタクリル酸
ブチル、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸２−ヒ
ドロキシエチルエチルアクリレート等を挙げることがで
きる。
【００２０】又、上記メタクリル酸をアクリル酸に替え
たものも好ましく使用できる。
たものも好ましく使用できる。
【００２１】多価アルコールのアクリル酸および叉は／
メタクリル酸エステルとしては、例えばネオペンチルグ
リコール変性トリメチロールプロパンジアクリレート、
ジシクロペンタジェンエトキシモノ（メタ）アクリレー
ト、イソボルニル（メタ）アクリレート、水素化ジシク
ロペンタジェンモノ（メタ）アクリレート、トリメチロ
ールプロパントリアクリレート、ジシクロペンタニルア
クリレート、イソボルニルアクリレート、２,２−ビス
〔４―（メタ）アクリロイルオキシエトキシフェニル〕
プロパン、２,２―ビス〔４−（メタ）アクリロイルオ
キシエトキシフェニル〕メタン、２,２−ビス〔４−
（メタ）アクリロイルオキシプロポキシフェニル〕プロ
パン等のモノマーの一種または二種以上を混合した混合
系でよい。また、アクリル酸エステル、メタクリル酸エ
ステルのプレポリマーで重合性を有するものは使用でき
る。
メタクリル酸エステルとしては、例えばネオペンチルグ
リコール変性トリメチロールプロパンジアクリレート、
ジシクロペンタジェンエトキシモノ（メタ）アクリレー
ト、イソボルニル（メタ）アクリレート、水素化ジシク
ロペンタジェンモノ（メタ）アクリレート、トリメチロ
ールプロパントリアクリレート、ジシクロペンタニルア
クリレート、イソボルニルアクリレート、２,２−ビス
〔４―（メタ）アクリロイルオキシエトキシフェニル〕
プロパン、２,２―ビス〔４−（メタ）アクリロイルオ
キシエトキシフェニル〕メタン、２,２−ビス〔４−
（メタ）アクリロイルオキシプロポキシフェニル〕プロ
パン等のモノマーの一種または二種以上を混合した混合
系でよい。また、アクリル酸エステル、メタクリル酸エ
ステルのプレポリマーで重合性を有するものは使用でき
る。
【００２２】無機フィラーとしては、耐摩耗性および高
硬度のものであればよく、例えばＡｌ2 Ｏ3 ，Ｓｉ3 Ｎ
4 ，ＳｉＣ，ＴｉＯ2 ，ＺｒＯ2 ，ＢＮ，ＡｌＮ，Ｓｉ
Ｏ 2 等が挙げられる。これらの平均粒径は ０.５〜５μ
ｍが好ましく、特に好ましくは１〜３μｍの範囲であ
る。
硬度のものであればよく、例えばＡｌ2 Ｏ3 ，Ｓｉ3 Ｎ
4 ，ＳｉＣ，ＴｉＯ2 ，ＺｒＯ2 ，ＢＮ，ＡｌＮ，Ｓｉ
Ｏ 2 等が挙げられる。これらの平均粒径は ０.５〜５μ
ｍが好ましく、特に好ましくは１〜３μｍの範囲であ
る。
【００２３】無機フィラーの配合量は、硬化性樹脂１０
０重量部に対して通常４０重量部以下、好ましくは５〜
２０重量部の範囲である。また、上記成分以外にもプレ
ポリマー成分として、ポリオールポリアクリレート、ポ
リエステルアクリレート、ポリエステルアクリレート、
ウレタンアクリレート、エポキシアクリレートを混合し
て用いることができる。
０重量部に対して通常４０重量部以下、好ましくは５〜
２０重量部の範囲である。また、上記成分以外にもプレ
ポリマー成分として、ポリオールポリアクリレート、ポ
リエステルアクリレート、ポリエステルアクリレート、
ウレタンアクリレート、エポキシアクリレートを混合し
て用いることができる。
【００２４】本発明において保護層を形成する硬化性樹
脂の硬化方法としては紫外線の照射、加熱、電子線照射
等を用いることができるが、特に好ましくは紫外線の照
射および電子線照射である。また、保護層の厚さは２〜
３０μｍ、好ましくは５〜１０μｍの範囲が望ましい。
２μｍ未満では、外部から加えられる衝撃に対する保護
層の保護機能が十分ではなく、３０μｍをこえると樹脂
保護層の硬化収縮により剥離を生じ易く、好ましくな
い。保護層の形成方法は、例えば、スピンコーター、ロ
ールコーター、バーコーター等により、硬化型樹脂組成
物を記録層上に塗布し、紫外線の照射、電子線照射、加
熱等を行なうことにより硬化させ、これにより形成でき
る。
脂の硬化方法としては紫外線の照射、加熱、電子線照射
等を用いることができるが、特に好ましくは紫外線の照
射および電子線照射である。また、保護層の厚さは２〜
３０μｍ、好ましくは５〜１０μｍの範囲が望ましい。
２μｍ未満では、外部から加えられる衝撃に対する保護
層の保護機能が十分ではなく、３０μｍをこえると樹脂
保護層の硬化収縮により剥離を生じ易く、好ましくな
い。保護層の形成方法は、例えば、スピンコーター、ロ
ールコーター、バーコーター等により、硬化型樹脂組成
物を記録層上に塗布し、紫外線の照射、電子線照射、加
熱等を行なうことにより硬化させ、これにより形成でき
る。
【００２５】また、保護層は、光学的記録媒体の片面あ
るいは両面に設けることができる。光磁気記録層は、特
に制限することなく、公知の広範囲のものを用いること
ができ、例えば、ＧｄＴｂ，ＴｂＦｅ，ＧｄＴｂＦｅ，
ＴｂＦｅＣｏ，ＧｄＴｂＦｅＣｏ等を材料として用いた
非晶質磁気記録層が挙げられる。
るいは両面に設けることができる。光磁気記録層は、特
に制限することなく、公知の広範囲のものを用いること
ができ、例えば、ＧｄＴｂ，ＴｂＦｅ，ＧｄＴｂＦｅ，
ＴｂＦｅＣｏ，ＧｄＴｂＦｅＣｏ等を材料として用いた
非晶質磁気記録層が挙げられる。
【００２６】また、基板は、特に制限することはない
が、例えば案内溝及びプリフォーマット信号を有してい
ても良く、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ポリ
スチレン樹脂、ポリオレフィン系樹脂等からなるものが
用いられる。
が、例えば案内溝及びプリフォーマット信号を有してい
ても良く、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ポリ
スチレン樹脂、ポリオレフィン系樹脂等からなるものが
用いられる。
【００２７】その他保護層以外は従来公知の材料、構成
である。 （第２発明）図２は第２の発明の構成の一例を示すもの
で、図中３１は円板状の基板である。この基板３１の上
に順次、誘電体膜３２、光磁気記録層３３、誘電体膜３
４、Ａｌ−Ｃｒ等からなる反射層３５、第１の保護層３
６、最後に、上面に凹凸を形成してなる第２の保護層３
７を積層してある。前記凹凸は第２の保護層３７の全表
面に微細な溝の集合として形成され、溝の深さは ０.２
〜３μｍ、特に好ましくは ０.５〜２μｍで、溝間隔
０.２〜３μｍ、特に好ましくは ０.５〜２μｍ程度の
ものである。
である。 （第２発明）図２は第２の発明の構成の一例を示すもの
で、図中３１は円板状の基板である。この基板３１の上
に順次、誘電体膜３２、光磁気記録層３３、誘電体膜３
４、Ａｌ−Ｃｒ等からなる反射層３５、第１の保護層３
６、最後に、上面に凹凸を形成してなる第２の保護層３
７を積層してある。前記凹凸は第２の保護層３７の全表
面に微細な溝の集合として形成され、溝の深さは ０.２
〜３μｍ、特に好ましくは ０.５〜２μｍで、溝間隔
０.２〜３μｍ、特に好ましくは ０.５〜２μｍ程度の
ものである。
【００２８】なお、３８は浮上型磁気ヘッドを示してい
る。
る。
【００２９】第２発明においても保護層以外の構成、材
料は公知のものが適宜利用できる。
料は公知のものが適宜利用できる。
【００３０】第１の保護層３６は、ラジカル重合性モノ
マー及び／又はそのラジカル重合性プレポリマーの重合
した樹脂組成物からなる。これらのものは熱によりラジ
カルを発生し、硬化するアクリレート系樹脂組成物であ
る。
マー及び／又はそのラジカル重合性プレポリマーの重合
した樹脂組成物からなる。これらのものは熱によりラジ
カルを発生し、硬化するアクリレート系樹脂組成物であ
る。
【００３１】具体例としては、エポキシアクリレート、
ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレートル、
ポリエーテルアクリレート、ポリカーボネートアクリレ
ート等が好ましい。
ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレートル、
ポリエーテルアクリレート、ポリカーボネートアクリレ
ート等が好ましい。
【００３２】第２の保護層３７は、光カチオン重合性モ
ノマー、そのプレポリマーで光重合性を有するもの等の
重合した樹脂組成物からなる。これらのものは、光照射
によりカチオンを発生する触媒、例えばジアリルヨード
ニウム塩、オニウム塩とエポキシ樹脂組成物がある。
ノマー、そのプレポリマーで光重合性を有するもの等の
重合した樹脂組成物からなる。これらのものは、光照射
によりカチオンを発生する触媒、例えばジアリルヨード
ニウム塩、オニウム塩とエポキシ樹脂組成物がある。
【００３３】保護膜の厚さは第１保護層、第２保護層と
も２〜３０μｍ、好ましくは３〜１０μｍの範囲が好ま
しい。２μｍ未満では外部からの傷に対する保護膜の保
護機能が十分でなく、３０μｍをこえると、樹脂保護層
の硬化収縮により剥離を生じるため好ましくない。 （第３発明）第２発明である上記光学的記録媒体の製造
方法は、基本的には保護層以外は従来公知の方法により
製造する。
も２〜３０μｍ、好ましくは３〜１０μｍの範囲が好ま
しい。２μｍ未満では外部からの傷に対する保護膜の保
護機能が十分でなく、３０μｍをこえると、樹脂保護層
の硬化収縮により剥離を生じるため好ましくない。 （第３発明）第２発明である上記光学的記録媒体の製造
方法は、基本的には保護層以外は従来公知の方法により
製造する。
【００３４】本発明に係る保護層は、基板に所定の各機
能層（記録層等）を形成した後、その上に第１の保護層
形成用のラジカル重合性モノマー、そのラジカル重合性
プレポリマー等をスピンコーター、ロールコーター等の
方法により塗布する。次いでさらにその上に、第２の保
護層形成用の光カチオン重合性モノマー、そのプレポリ
マー等を上記と同様にしてスピンコーター、ロールコー
ター等で塗布する。その後、光照射により第２の保護層
を硬化形成させた後、６０℃〜８０℃に加熱して第１の
保護層および第２の保護層を硬化形成させるものであ
る。
能層（記録層等）を形成した後、その上に第１の保護層
形成用のラジカル重合性モノマー、そのラジカル重合性
プレポリマー等をスピンコーター、ロールコーター等の
方法により塗布する。次いでさらにその上に、第２の保
護層形成用の光カチオン重合性モノマー、そのプレポリ
マー等を上記と同様にしてスピンコーター、ロールコー
ター等で塗布する。その後、光照射により第２の保護層
を硬化形成させた後、６０℃〜８０℃に加熱して第１の
保護層および第２の保護層を硬化形成させるものであ
る。
【００３５】上記した製造方法によれば、第２の保護層
の表面に凹凸を形成することができ、このものは磁気ヘ
ッドスライダーと保護層とのステッキング防止及びヘッ
ドクラッシュの防止機能を有する。また、第１の保護
層、第２の保護層とも完全に硬化せしめることができる
ため、未硬化モノマーが保護層中に残存し、これが高温
高湿環境下において有機酸を発生し、光磁気記録層の腐
食を促進させることがなく、耐環境性もすぐれている。 （第４発明）図３は本発明の光学的記録媒体の保護層の
構成の一例を示す断面図である。このような媒体は以下
のようにして製造できる。即ち、第１の基体１１上にグ
ラフト重合膜１２を形成する。さらに第１の基体１１〜
１２を、第２の基体である光磁気記録積層基板１３上に
接着剤層１４を介して接合する。この場合、グラフト重
合膜１２を形成した第１の基体１１が、保護層を構成す
る。
の表面に凹凸を形成することができ、このものは磁気ヘ
ッドスライダーと保護層とのステッキング防止及びヘッ
ドクラッシュの防止機能を有する。また、第１の保護
層、第２の保護層とも完全に硬化せしめることができる
ため、未硬化モノマーが保護層中に残存し、これが高温
高湿環境下において有機酸を発生し、光磁気記録層の腐
食を促進させることがなく、耐環境性もすぐれている。 （第４発明）図３は本発明の光学的記録媒体の保護層の
構成の一例を示す断面図である。このような媒体は以下
のようにして製造できる。即ち、第１の基体１１上にグ
ラフト重合膜１２を形成する。さらに第１の基体１１〜
１２を、第２の基体である光磁気記録積層基板１３上に
接着剤層１４を介して接合する。この場合、グラフト重
合膜１２を形成した第１の基体１１が、保護層を構成す
る。
【００３６】図４は第２の基板１３の構成の一例を示す
ものである。
ものである。
【００３７】図４中２１は透明樹脂基板、２２はＳｉ3
Ｎ4 等からなる誘電体層、２３は光磁気記録層、２４は
Ｓｉ3 Ｎ4 等からなる誘電体層、２５はＡｌ−Ｃｒから
なる反射層である。
Ｎ4 等からなる誘電体層、２３は光磁気記録層、２４は
Ｓｉ3 Ｎ4 等からなる誘電体層、２５はＡｌ−Ｃｒから
なる反射層である。
【００３８】グラフト重合膜１２は潤滑性に優れたシリ
コーン（メタ）アクリレート、フッ素化（メタ）アクリ
レート等の重合体で構成される。グラフト重合膜は、シ
リコンアクリレート、フッ素化アクリレート等のモノマ
ーをポリカーボネート、ＰＭＭＡ、ポリオレフィン、ポ
リエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレー
ト、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン系、ポリアミド
系、ポリプロピレン系、塩化ビニル等のポリマーあるい
は、エポシキアクリレート、ウレタンアクリレート、ポ
リエーテルアクリレート、ポリエステルアクリレート、
ポリカーボネートアクリレート等の、アクリル系硬化型
樹脂組成物、硬化物よりなるポリマー、第１の基体上に
塗布するか、あるいは、第１の基体を上記モノマー中に
浸漬し、電子線、紫外光等の放射線を同時に照射する
か、第１の基体上に塗布、浸漬後、加熱することによ
り、第１の基体上に形成される。さらにグラフト重合膜
中の未反応モノマーは、アルコール、ケトン、ＴＨＦ等
の有機溶剤により抽出除去できる。
コーン（メタ）アクリレート、フッ素化（メタ）アクリ
レート等の重合体で構成される。グラフト重合膜は、シ
リコンアクリレート、フッ素化アクリレート等のモノマ
ーをポリカーボネート、ＰＭＭＡ、ポリオレフィン、ポ
リエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレー
ト、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン系、ポリアミド
系、ポリプロピレン系、塩化ビニル等のポリマーあるい
は、エポシキアクリレート、ウレタンアクリレート、ポ
リエーテルアクリレート、ポリエステルアクリレート、
ポリカーボネートアクリレート等の、アクリル系硬化型
樹脂組成物、硬化物よりなるポリマー、第１の基体上に
塗布するか、あるいは、第１の基体を上記モノマー中に
浸漬し、電子線、紫外光等の放射線を同時に照射する
か、第１の基体上に塗布、浸漬後、加熱することによ
り、第１の基体上に形成される。さらにグラフト重合膜
中の未反応モノマーは、アルコール、ケトン、ＴＨＦ等
の有機溶剤により抽出除去できる。
【００３９】この時、形成されるグラフト重合膜の膜厚
は０．０５以上０．２μｍ以下、特に０．１〜０．１５
μｍとすることが好ましい。膜厚が０．２μｍを越える
と第１の基体とグラフト重合膜との密着性が低下し好ま
しくない。
は０．０５以上０．２μｍ以下、特に０．１〜０．１５
μｍとすることが好ましい。膜厚が０．２μｍを越える
と第１の基体とグラフト重合膜との密着性が低下し好ま
しくない。
【００４０】またグラフト重合膜の表面の粗さは、中心
線平均粗さ（Ｒａ）で０．３〜５μｍ、好ましくは０．
５〜４．０μｍ、さらには０．７〜３．０μｍであるこ
とが望ましい。
線平均粗さ（Ｒａ）で０．３〜５μｍ、好ましくは０．
５〜４．０μｍ、さらには０．７〜３．０μｍであるこ
とが望ましい。
【００４１】この範囲の表面の粗さにするためには、グ
ラフト重合膜の膜厚を０．０５以上、０．２μｍ以下、
特に好ましくは０．１〜０．１５μｍとすることと、電
子線照射量を線量率１２〜５０Ｍｒａｄの範囲内に制御
して、グラフト重合を行うこと等の方法がある。
ラフト重合膜の膜厚を０．０５以上、０．２μｍ以下、
特に好ましくは０．１〜０．１５μｍとすることと、電
子線照射量を線量率１２〜５０Ｍｒａｄの範囲内に制御
して、グラフト重合を行うこと等の方法がある。
【００４２】本発明において、第１の基体としてのフィ
ルムとしては、ポリアミド系、ポリエステル系、ポリア
ミドイミド系、ポリプロピレン系、ポリエチレン系、ポ
リアセタール系、ポリカーボネート系、ポリ塩化ビニル
系、ポリ塩化ビニリデン系等の合成樹脂フィルムが用い
られる。これらのフィルムは接着剤をあらかじめ塗布
し、接着性を付与せしめるもの、あるいは半硬化状等の
いわゆる自己接着性のあるもの等がある。これらのフィ
ルムの厚さは４μｍ〜７０μｍ程度の膜厚のものが多用
される。
ルムとしては、ポリアミド系、ポリエステル系、ポリア
ミドイミド系、ポリプロピレン系、ポリエチレン系、ポ
リアセタール系、ポリカーボネート系、ポリ塩化ビニル
系、ポリ塩化ビニリデン系等の合成樹脂フィルムが用い
られる。これらのフィルムは接着剤をあらかじめ塗布
し、接着性を付与せしめるもの、あるいは半硬化状等の
いわゆる自己接着性のあるもの等がある。これらのフィ
ルムの厚さは４μｍ〜７０μｍ程度の膜厚のものが多用
される。
【００４３】
【実施例】以下、実施例により本発明を更に具体的に説
明する。なお、明示がない場合は部は重量部を表わす。 （第１発明） 実施例１ 図１に示す光学的記録媒体を以下の様にして作成した。
明する。なお、明示がない場合は部は重量部を表わす。 （第１発明） 実施例１ 図１に示す光学的記録媒体を以下の様にして作成した。
【００４４】まず案内溝および／またはプリフォーマッ
ト信号を有する厚さ１．２ｍｍのポリカーボネート基板
１上に、スパッタリング法により層厚１０００ÅのＳｉ
3 Ｎ 4 層２を成膜し、次いで層厚２００Åの非晶質Ｔｂ
ＦｅＣｏの光磁気記録層３を設け、さらに層厚５００Å
のＳｉ3 Ｎ4 層４、層厚７００ÅのＡｌ―Ｃｒ層５を成
膜した。次に、以下の組成の紫外線硬化型ウレタンアク
リレート樹脂組成物をスピンコート（４０００ｒｐｍ，
１０秒間）し、層厚１０μｍの樹脂層を作成した後、Ｕ
Ｖランプ（照射面上２３３ｍＷ／ｃｍ2 ，波長３６５ｎ
ｍ）を７秒間照射して、樹脂を硬化させ、樹脂保護層６
を形成し、光学的記録媒体を得た。なお紫外線硬化型樹
脂組成物としては （Ａ）ステアリルアクリレート（共栄社油脂（株）製）
２０部 （Ｂ）アクリル酸エチル（Ｒ−６０４：日本化薬
（株））６０部 （Ｃ）トリシクロデカンジメチロールジアクリレートの
εカプロラクトン２ｍｏｌ付加体、４ｍｏｌ付加体（Ｔ
ＣＤＡＣＬ−２，−４：日本化薬（株））１５部 （Ｄ）光重合開始剤（イルガキュア１８４；日本チバガ
イギー（株）５部 以上の混合物を用い、該樹脂１００部に対して無機フィ
ラーとしてアルミナ（ＡＫＰ−１．３：住友化学
（株））の２０部を混合した。
ト信号を有する厚さ１．２ｍｍのポリカーボネート基板
１上に、スパッタリング法により層厚１０００ÅのＳｉ
3 Ｎ 4 層２を成膜し、次いで層厚２００Åの非晶質Ｔｂ
ＦｅＣｏの光磁気記録層３を設け、さらに層厚５００Å
のＳｉ3 Ｎ4 層４、層厚７００ÅのＡｌ―Ｃｒ層５を成
膜した。次に、以下の組成の紫外線硬化型ウレタンアク
リレート樹脂組成物をスピンコート（４０００ｒｐｍ，
１０秒間）し、層厚１０μｍの樹脂層を作成した後、Ｕ
Ｖランプ（照射面上２３３ｍＷ／ｃｍ2 ，波長３６５ｎ
ｍ）を７秒間照射して、樹脂を硬化させ、樹脂保護層６
を形成し、光学的記録媒体を得た。なお紫外線硬化型樹
脂組成物としては （Ａ）ステアリルアクリレート（共栄社油脂（株）製）
２０部 （Ｂ）アクリル酸エチル（Ｒ−６０４：日本化薬
（株））６０部 （Ｃ）トリシクロデカンジメチロールジアクリレートの
εカプロラクトン２ｍｏｌ付加体、４ｍｏｌ付加体（Ｔ
ＣＤＡＣＬ−２，−４：日本化薬（株））１５部 （Ｄ）光重合開始剤（イルガキュア１８４；日本チバガ
イギー（株）５部 以上の混合物を用い、該樹脂１００部に対して無機フィ
ラーとしてアルミナ（ＡＫＰ−１．３：住友化学
（株））の２０部を混合した。
【００４５】実施例２ 電子線硬化型樹脂組成物として （Ａ）ステアリルアクリレート １５部 （Ｂ）アクリル酸エステル（Ｒ−６０４） ３０部 （Ｃ）ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（Ｄ
ＰＨＡ） ３０部 （Ｄ）ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥ
ＴＥＡ） ２５部 以上の混合物に、該樹脂に対して無機フィラーであるア
ルミナ（ＡＫＰ−１．３）の２０部を混合した物を用い
る以外は実施例１と同様にして光学的記録媒体を作成し
た。
ＰＨＡ） ３０部 （Ｄ）ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥ
ＴＥＡ） ２５部 以上の混合物に、該樹脂に対して無機フィラーであるア
ルミナ（ＡＫＰ−１．３）の２０部を混合した物を用い
る以外は実施例１と同様にして光学的記録媒体を作成し
た。
【００４６】実施例３ 無機フィラーとしてＡｌＮの２０部を混合した物を用い
る以外は実施例１と同様にして光学的記録媒体を作成し
た。
る以外は実施例１と同様にして光学的記録媒体を作成し
た。
【００４７】比較例１ 紫外線硬化型樹脂組成物として （１）Ｒ−６０４（日本化薬） ６０部 （２）トリメチロールプロパントリアクリレート １
５部 （３）トリシクロデカンジメチロールジアクリレートの
εカプロラクトン２ｍｏｌ付加体、４ｍｏｌ付加体（Ｔ
ＣＤＡＣＬ−２，−４） ２０部 （４）光重合開始剤（イルガキュア１８４） ５部 の混合物を用いる以外は実施例１と同様にして光学的記
録媒体を作成した。
５部 （３）トリシクロデカンジメチロールジアクリレートの
εカプロラクトン２ｍｏｌ付加体、４ｍｏｌ付加体（Ｔ
ＣＤＡＣＬ−２，−４） ２０部 （４）光重合開始剤（イルガキュア１８４） ５部 の混合物を用いる以外は実施例１と同様にして光学的記
録媒体を作成した。
【００４８】比較例２ 電子線硬化型樹脂組成物として （１）Ｒ−６０４ ３０部 （２）ＤＰＨＡ ３５部 （３）ＰＥＴＥＡ ２５部 （４）ステアリン酸アミド １０部 の混合物を用いる以外は実施例１と同様にして、光学的
記録媒体を作成した。
記録媒体を作成した。
【００４９】作成した各光学的記録媒体を用いて、図１
に示す様に、浮上型磁気ヘッド７を媒体表面に接触させ
た状態から、３秒間で、媒体を浮上、２４００ｒｐｍに
回転させる。（磁気ヘッドの浮上量１．６μｍ）その
後、３秒間で、媒体の回転を２４００ｒｐｍから停止さ
せて磁気ヘッドを媒体表面に接触させる。この操作をく
り返すＣＳ／Ｓ（コンタクトスタートストップ）試験を
行った結果、実施例１，２の場合には媒体保護層にキズ
の発生がなく、ヘッドクラッシュおよびステッキングも
発生せず、１００万回をクリアしたが、比較例ではキズ
が発生し、ヘッドクラッシュが発生し、１００万回をク
リアすることができなかった。 （第２発明，第３発明） 実施例４ 図２に示す光学的記録媒体を以下の様にして作成した。
に示す様に、浮上型磁気ヘッド７を媒体表面に接触させ
た状態から、３秒間で、媒体を浮上、２４００ｒｐｍに
回転させる。（磁気ヘッドの浮上量１．６μｍ）その
後、３秒間で、媒体の回転を２４００ｒｐｍから停止さ
せて磁気ヘッドを媒体表面に接触させる。この操作をく
り返すＣＳ／Ｓ（コンタクトスタートストップ）試験を
行った結果、実施例１，２の場合には媒体保護層にキズ
の発生がなく、ヘッドクラッシュおよびステッキングも
発生せず、１００万回をクリアしたが、比較例ではキズ
が発生し、ヘッドクラッシュが発生し、１００万回をク
リアすることができなかった。 （第２発明，第３発明） 実施例４ 図２に示す光学的記録媒体を以下の様にして作成した。
【００５０】まず案内溝およびプリフォーマット信号を
有する厚さ１．２ｍｍのポリカーボネート基板３１上
に、スパッタリング法により、層厚１０００ÅのＳｉ3
Ｎ4 層からなる誘電体膜３２を成膜し、次いで層厚１０
０Åの非晶質ＧｄＴｂＦｅ、層厚２００Åの非晶質Ｔｂ
ＦｅＣｏＣｒからなる光磁気記録層３３を設け、さらに
層厚４００ÅのＳｉ3 Ｎ4 層からなる誘電体膜３４を成
膜し、さらに層厚６００ÅのＡｌ−Ｃｒ層３５を成膜し
た。このＡｌ−Ｃｒ層３５上にラジカル重合性樹脂を用
いて第１の保護層３６を以下の方法で形成した。
有する厚さ１．２ｍｍのポリカーボネート基板３１上
に、スパッタリング法により、層厚１０００ÅのＳｉ3
Ｎ4 層からなる誘電体膜３２を成膜し、次いで層厚１０
０Åの非晶質ＧｄＴｂＦｅ、層厚２００Åの非晶質Ｔｂ
ＦｅＣｏＣｒからなる光磁気記録層３３を設け、さらに
層厚４００ÅのＳｉ3 Ｎ4 層からなる誘電体膜３４を成
膜し、さらに層厚６００ÅのＡｌ−Ｃｒ層３５を成膜し
た。このＡｌ−Ｃｒ層３５上にラジカル重合性樹脂を用
いて第１の保護層３６を以下の方法で形成した。
【００５１】ラジカル重合性樹脂としては、アクリレー
ト系樹脂であるＳＰＣ−１１２、日本化薬（株）製を用
い、層厚５μｍでスピンナーにより塗布した。
ト系樹脂であるＳＰＣ−１１２、日本化薬（株）製を用
い、層厚５μｍでスピンナーにより塗布した。
【００５２】さらにこの上に、光カチオン重合性樹脂を
用いて第２の保護層３７をスピンナーにより厚さ５μｍ
に塗布して、紫外線を照射し硬化させた。光カチオン重
合性樹脂としてはエポキシ樹脂組成物ＫＲ−４００（旭
電化（株）製）を用いた。さらに、８０℃で３０分、加
熱して、第１の保護層、第２の保護層を完全に硬化させ
て、光学的記録媒体を作成した。
用いて第２の保護層３７をスピンナーにより厚さ５μｍ
に塗布して、紫外線を照射し硬化させた。光カチオン重
合性樹脂としてはエポキシ樹脂組成物ＫＲ−４００（旭
電化（株）製）を用いた。さらに、８０℃で３０分、加
熱して、第１の保護層、第２の保護層を完全に硬化させ
て、光学的記録媒体を作成した。
【００５３】第２の保護層の表面には、平均表面粗さ
（Ｒａ）０．５μｍの凹凸が形成されていた。
（Ｒａ）０．５μｍの凹凸が形成されていた。
【００５４】実施例５ 第１の保護層３６で用いるラジカル重合性樹脂としてア
クリレート系樹脂組成物の代りに、不飽和ポリエステル
系樹脂（商品名スピラックＴ−５０２、昭和高分子製）
を用いる以外は実施例４と同様にして光学的記録媒体を
作成した。
クリレート系樹脂組成物の代りに、不飽和ポリエステル
系樹脂（商品名スピラックＴ−５０２、昭和高分子製）
を用いる以外は実施例４と同様にして光学的記録媒体を
作成した。
【００５５】実施例６ 第１の保護層３６で用いるラジカル重合性樹脂としてア
クリレート系樹脂組成物の代りに、ウレタン系樹脂（商
品名ＤＮ―９０１、日本ポリウレタン（株）製）を用い
る以外は実施例４と同様にして光学的記録媒体を作成し
た。
クリレート系樹脂組成物の代りに、ウレタン系樹脂（商
品名ＤＮ―９０１、日本ポリウレタン（株）製）を用い
る以外は実施例４と同様にして光学的記録媒体を作成し
た。
【００５６】実施例７ 第２の保護層３７で用いる光カチオン重合性樹脂として
ＫＲ−４００を用いる代りに、脂環式エポキシ樹脂ＫＲ
−８００（旭電化（株）製）を用いる以外は実施例４と
同様にして光学的記録媒体を作成した。
ＫＲ−４００を用いる代りに、脂環式エポキシ樹脂ＫＲ
−８００（旭電化（株）製）を用いる以外は実施例４と
同様にして光学的記録媒体を作成した。
【００５７】比較例３ 保護層として、紫外線硬化樹脂（ ＵＶ樹脂ＩＮ
Ｃ３２７，日本化薬（株）製）を用い、塗布、硬化させ
たものを用いる以外は実施例４と同様にして光学的記録
媒体を作成した。
Ｃ３２７，日本化薬（株）製）を用い、塗布、硬化させ
たものを用いる以外は実施例４と同様にして光学的記録
媒体を作成した。
【００５８】比較例４ 保護層として、比較例３で用いたＵＶ樹脂にアルミナ１
０重量％を配合したものを用いる以外は実施例４と同様
にして光学的記録媒体を作成した。
０重量％を配合したものを用いる以外は実施例４と同様
にして光学的記録媒体を作成した。
【００５９】上記の実施例４〜７、および比較例３，４
により作成した各光学的記録媒体を用いて、７０℃／９
０％Ｒ、Ｈ、２０００時間の耐環境試験を行ったとこ
ろ、実施例４〜７では記録層の腐蝕の発生が少なく、Ｃ
／Ｎ比、Ｂ．Ｅ．Ｒ（ビットエラーレート）の低下がな
かったのに対して一方、比較例４は記録層の腐蝕の発生
が多く、Ｃ／Ｎ比、Ｂ．Ｅ．Ｒの大幅な低下がみられ
た。
により作成した各光学的記録媒体を用いて、７０℃／９
０％Ｒ、Ｈ、２０００時間の耐環境試験を行ったとこ
ろ、実施例４〜７では記録層の腐蝕の発生が少なく、Ｃ
／Ｎ比、Ｂ．Ｅ．Ｒ（ビットエラーレート）の低下がな
かったのに対して一方、比較例４は記録層の腐蝕の発生
が多く、Ｃ／Ｎ比、Ｂ．Ｅ．Ｒの大幅な低下がみられ
た。
【００６０】また、各実施例および比較例により作成し
た光学的記録媒体を用いて、図２に示す様に、浮上型磁
気ヘッド３８を媒体表面に接触させた状態から、該媒体
を３０００ｒｐｍで３秒間回転させ、保護層と磁気ヘッ
ド３８との間の空気流により磁気ヘッドを浮上させた
（磁気ヘッドの浮上量１．６μｍ）。その後媒体の回転
を停止させ、３秒間回転をオフにしている状態を保つ。
これをくり返すＣＳＳ試験（Ｃｏｎｔａｃｔ−Ｓｔａｒ
ｔ−Ｓｔｏｐ−Ｔｅｓｔ）を行った結果、実施例４〜７
はＣＳＳ試験１００万パスをクリアでき、ヘッドクラッ
シュの発生およびステッキングの発生もなかった。
た光学的記録媒体を用いて、図２に示す様に、浮上型磁
気ヘッド３８を媒体表面に接触させた状態から、該媒体
を３０００ｒｐｍで３秒間回転させ、保護層と磁気ヘッ
ド３８との間の空気流により磁気ヘッドを浮上させた
（磁気ヘッドの浮上量１．６μｍ）。その後媒体の回転
を停止させ、３秒間回転をオフにしている状態を保つ。
これをくり返すＣＳＳ試験（Ｃｏｎｔａｃｔ−Ｓｔａｒ
ｔ−Ｓｔｏｐ−Ｔｅｓｔ）を行った結果、実施例４〜７
はＣＳＳ試験１００万パスをクリアでき、ヘッドクラッ
シュの発生およびステッキングの発生もなかった。
【００６１】一方、比較例３はＣＳＳ試験１００万パス
をクリアできず、ヘッドクラッシュが発生した。またス
テッキングが発生した。 （第４発明，第５発明） 実施例８ 図３に示す光学的記録媒体を製造した。
をクリアできず、ヘッドクラッシュが発生した。またス
テッキングが発生した。 （第４発明，第５発明） 実施例８ 図３に示す光学的記録媒体を製造した。
【００６２】ポリエチレンテレフタレート基体１１上
に、シリコンアクリレートを滴下し、その上面に東レ・
ルミラー# ２５（フィルム厚２５μｍ）を気泡がはいら
ないようにして積層した。この状態で加速電圧２００ｋ
Ｖ、線量率１２〜５０Ｍｒａｄ -1（線量測定はＡＴ線量
計を使用）の照射条件で電子線照射を行った。その後、
ルミラー# ２５をはがし基体１１をアセトン中に４８Ｈ
浸漬して、未反応モノマー及び生成したホモポリマーを
抽出除去し、２４Ｈ真空乾燥してグラフト重合膜を作成
した。またこのグラフト重合膜の表面の中心線表面粗さ
（Ｒａ）は０．８μｍであった。測定は、ランクテーラ
ーボブソン社製、タリサーフ ６型を用いて行った。さ
らに、前記の第１の基体と、第２の基体である光磁気記
録積層基板１３とを接着剤１６として溶剤型アクリル系
接着剤により圧着接合して、光学的記録媒体を得た。な
お、光磁気記録積層基板１３は以下のようにして作成し
た。
に、シリコンアクリレートを滴下し、その上面に東レ・
ルミラー# ２５（フィルム厚２５μｍ）を気泡がはいら
ないようにして積層した。この状態で加速電圧２００ｋ
Ｖ、線量率１２〜５０Ｍｒａｄ -1（線量測定はＡＴ線量
計を使用）の照射条件で電子線照射を行った。その後、
ルミラー# ２５をはがし基体１１をアセトン中に４８Ｈ
浸漬して、未反応モノマー及び生成したホモポリマーを
抽出除去し、２４Ｈ真空乾燥してグラフト重合膜を作成
した。またこのグラフト重合膜の表面の中心線表面粗さ
（Ｒａ）は０．８μｍであった。測定は、ランクテーラ
ーボブソン社製、タリサーフ ６型を用いて行った。さ
らに、前記の第１の基体と、第２の基体である光磁気記
録積層基板１３とを接着剤１６として溶剤型アクリル系
接着剤により圧着接合して、光学的記録媒体を得た。な
お、光磁気記録積層基板１３は以下のようにして作成し
た。
【００６３】以下に図４により、光磁気記録積層基板１
３の作成方法を示す。
３の作成方法を示す。
【００６４】案内溝及びプリフォーマット信号を形成し
た透明樹脂基板２１上に、スパッタリング法により層厚
１０００ÅのＳｉ3 Ｎ4 からなる誘電体膜２２を成膜
し、次いで層厚２００Åの非晶質ＴｂＦｅＣｏからなる
光磁気記録層２３を設け、さらに層厚４００ÅのＳｉ3
Ｎ4 層からなる誘電体膜２４を成膜し、さらに層厚６０
０ÅのＡｌ−Ｃｒ層２５を成膜した。
た透明樹脂基板２１上に、スパッタリング法により層厚
１０００ÅのＳｉ3 Ｎ4 からなる誘電体膜２２を成膜
し、次いで層厚２００Åの非晶質ＴｂＦｅＣｏからなる
光磁気記録層２３を設け、さらに層厚４００ÅのＳｉ3
Ｎ4 層からなる誘電体膜２４を成膜し、さらに層厚６０
０ÅのＡｌ−Ｃｒ層２５を成膜した。
【００６５】実施例９ 実施例８で用いた基体１１上にフッ素化アクリレートに
よるグラフト重合膜を形成する以外は、実施例８と同様
にして光学的記録媒体を得た。Ｒａは１．０μｍであっ
た。
よるグラフト重合膜を形成する以外は、実施例８と同様
にして光学的記録媒体を得た。Ｒａは１．０μｍであっ
た。
【００６６】比較例５ 実施例８の光磁気記録積層基板１３上に前記ＵＶ硬化型
樹脂よりなる１０μｍの保護膜を形成して光学的記録媒
体を得た。保護膜の表面のＲａは０．０５μｍであっ
た。
樹脂よりなる１０μｍの保護膜を形成して光学的記録媒
体を得た。保護膜の表面のＲａは０．０５μｍであっ
た。
【００６７】＜摺動試験＞摺動試験として、磁気ヘッド
スライダーを用いたＣＳＳ（コンタクト−スタート−ス
トップ）テストを１００万パス行った時の試験例を示
す。浮上型磁気ヘッドを媒体保護膜に接触させた状態
で、該媒体を３０００ｒｐｍで５秒間回転させ、保護膜
と磁気ヘッドとの間の空気流により、磁気ヘッドを浮上
させる。（磁気ヘッドの浮上量１．６μｍ） その後、媒体の回転を停止させ、５秒間、保護膜と磁気
ヘッドとを接触させた状態とする。このサイクルをくり
返すＣＳＳテストを行なった。実施例８，９の媒体は上
記テストを１００万パス行なった後でも保護膜の表面の
キズの深さは０．１μｍであったが、比較例５の媒体の
キズの深さは２．０μｍであり、さらにそのキズの部分
からクラックが発生し、光磁気記録膜に損傷を与えた。
また比較例５の媒体では磁気ヘッドの動作不良が発生し
たが、実施例８，９の媒体では上記の現象は発生しなか
った。
スライダーを用いたＣＳＳ（コンタクト−スタート−ス
トップ）テストを１００万パス行った時の試験例を示
す。浮上型磁気ヘッドを媒体保護膜に接触させた状態
で、該媒体を３０００ｒｐｍで５秒間回転させ、保護膜
と磁気ヘッドとの間の空気流により、磁気ヘッドを浮上
させる。（磁気ヘッドの浮上量１．６μｍ） その後、媒体の回転を停止させ、５秒間、保護膜と磁気
ヘッドとを接触させた状態とする。このサイクルをくり
返すＣＳＳテストを行なった。実施例８，９の媒体は上
記テストを１００万パス行なった後でも保護膜の表面の
キズの深さは０．１μｍであったが、比較例５の媒体の
キズの深さは２．０μｍであり、さらにそのキズの部分
からクラックが発生し、光磁気記録膜に損傷を与えた。
また比較例５の媒体では磁気ヘッドの動作不良が発生し
たが、実施例８，９の媒体では上記の現象は発生しなか
った。
【００６８】
【発明の効果】第１発明の保護層を用いることにより、
ヘッドクラッシュの発生およびステッキングの発生がな
く、長期間の信頼性を維持することができる効果が得ら
れる。特に、磁気変調方式のオーバーライト（重ね書
き）が可能な光磁気記録媒体において有効である。
ヘッドクラッシュの発生およびステッキングの発生がな
く、長期間の信頼性を維持することができる効果が得ら
れる。特に、磁気変調方式のオーバーライト（重ね書
き）が可能な光磁気記録媒体において有効である。
【００６９】第２，３発明の光学的記録媒体は、ラジカ
ル重合性樹脂で形成した第１の保護層と、更にその上に
光カチオン重合性樹脂で形成した第２の保護層を設ける
ことにより、ヘッドクラッシュの発生およびステッキン
グの発生がなく、耐環境性にすぐれた長期間の信頼性を
維持できるものである。
ル重合性樹脂で形成した第１の保護層と、更にその上に
光カチオン重合性樹脂で形成した第２の保護層を設ける
ことにより、ヘッドクラッシュの発生およびステッキン
グの発生がなく、耐環境性にすぐれた長期間の信頼性を
維持できるものである。
【００７０】第４，５発明によれば、保護層として、潤
滑性を有するグラフト重合膜を第１の基体上に形成し、
次にこのグラフト重合膜を形成した第１の基体を第２の
基体上に接着したものを用いることにより、磁気ヘッド
の摺動回数が１００万回でもヘッドクラッシュが発生し
なかった。すなわち、信頼性の高い磁気変調式オーバー
ライト可能な、耐摺動性の優れた保護層を有する、光学
的記録媒体を影響することができる。
滑性を有するグラフト重合膜を第１の基体上に形成し、
次にこのグラフト重合膜を形成した第１の基体を第２の
基体上に接着したものを用いることにより、磁気ヘッド
の摺動回数が１００万回でもヘッドクラッシュが発生し
なかった。すなわち、信頼性の高い磁気変調式オーバー
ライト可能な、耐摺動性の優れた保護層を有する、光学
的記録媒体を影響することができる。
【図１】本発明の光学的記録媒体の一実施例を示す説明
図である。
図である。
【図２】本発明の光学的記録媒体の他の実施例を示す説
明図である。
明図である。
【図３】本発明の光学的記録媒体の製造方法の一例を示
す説明図である。
す説明図である。
【図４】本発明に使用する光磁気記録積層基板の一例を
示す説明図である。
示す説明図である。
１ 基板 ２ Ｓｉ3 Ｎ4 層 ３ 光磁気記録層 ４ Ｓｉ3 Ｎ4 層 ５ Ａｌ−Ｃｒ層 ６ 保護層 ７ 浮上型磁気ヘッド １１ 第１の基体フィルム １２ グラフト重合層 １３ 光磁気記録積層基板 １４ 接着剤層 ２１ 透明樹脂基板 ２２ Ｓｉ3 Ｎ4 層 ２３ 光磁気記録層 ２４ Ｓｉ3 Ｎ4 層 ２５ Ａｌ−Ｃｒ層 ３１ 基板 ３２ Ｓｉ3 Ｎ4 層 ３３ 光磁気記録層 ３４ Ｓｉ3 Ｎ4 層 ３５ Ａｌ−Ｃｒ層 ３６ 第１保護層 ３７ 第２保護層 ３８ 浮上型磁気ヘッド
Claims (7)
- 【請求項１】 円板状基板上に少なくとも光磁気記録層
を有し、その上方最外部に保護層を形成してなる光学的
記録媒体において、前記保護層が（Ａ）ステアリルアク
リレートと、（Ｂ）アクリル酸エステル及び／又はメタ
クリル酸エステルまたはそれらの重合性プレポリマー
と、（Ｃ）無機フィラーとを主成分として硬化させた樹
脂組成物からなることを特徴とする光学的記録媒体。 - 【請求項２】 円板状基板上に少なくとも光磁気記録層
を有し、その上方最外部に保護層を形成してなる光学的
記録媒体において、前記保護層がラジカル重合性モノマ
ー及び／又はそのラジカル重合性プレポリマーの硬化樹
脂組成物からなる第１保護膜と、その上に形成した光カ
チオン重合性モノマー及び／又はその光カチオン重合性
プレポリマーの硬化樹脂組成物からなる第２保護層とか
らなり、前記第２保護層の外表面には凹凸が形成されて
いることを特徴とする光学的記録媒体。 - 【請求項３】 請求項２記載の光学的記録媒体の製造方
法において、ラジカル重合性モノマー及び／又はそのラ
ジカル重合性プレポリマー層上に光カチオン重合性モノ
マー及び／又はその光カチオン重合性プレポリマー層を
積重し、光照射して第２保護層を形成後、加熱して第１
保護層を形成することを特徴とする光学的記録媒体の製
造方法。 - 【請求項４】 上面に潤滑性を有するグラフト重合膜を
形成した第１基体の下面を、上面に光磁気記録層を少な
くとも形成した第２基体上面に接着してなり、前記グラ
フト重合膜を形成した第１基体を保護層とすることを特
徴とする光学的記録媒体。 - 【請求項５】 グラフト重合膜がシリコーンアクリレー
ト重合物及びフッ化アクリレート重合物から選ばれる少
なくとも一方を含有してなる請求項４記載の光学的記録
媒体。 - 【請求項６】 潤滑性を有するグラフト重合膜を第１基
体上面に形成され、上面に光磁気記録層を少なくとも形
成された第２基体上に前記第１基体の下面を接着するこ
とにより保護層が形成されてなる光学的記録媒体におい
て、前記グラフト重合膜の表面粗さが中心線平均粗さ
（Ｒａ）で０．３〜５μｍの値を有することを特徴とす
る光学的記録媒体。 - 【請求項７】 グラフト重合膜が、シリコーンアクリレ
ート重合物及びフッ化アクリレート重合物から選ばれる
少なくとも一方を含有する、請求項６記載の光学的記録
媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16134492A JPH064917A (ja) | 1992-06-19 | 1992-06-19 | 光学的記録媒体、及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16134492A JPH064917A (ja) | 1992-06-19 | 1992-06-19 | 光学的記録媒体、及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH064917A true JPH064917A (ja) | 1994-01-14 |
Family
ID=15733298
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16134492A Pending JPH064917A (ja) | 1992-06-19 | 1992-06-19 | 光学的記録媒体、及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH064917A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6232421B1 (en) | 1998-01-28 | 2001-05-15 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Olefin polymer and process for producing the same |
| US10125989B2 (en) | 2013-03-05 | 2018-11-13 | Bic Violex S.A. | Sealing assembly to fill and seal a reservoir or a disposable gas lighter |
-
1992
- 1992-06-19 JP JP16134492A patent/JPH064917A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6232421B1 (en) | 1998-01-28 | 2001-05-15 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Olefin polymer and process for producing the same |
| US6414094B2 (en) | 1998-01-28 | 2002-07-02 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Olefin polymer and process for producing the same |
| US10125989B2 (en) | 2013-03-05 | 2018-11-13 | Bic Violex S.A. | Sealing assembly to fill and seal a reservoir or a disposable gas lighter |
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