JP3312669B2 - 光情報記録媒体 - Google Patents
光情報記録媒体Info
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- JP3312669B2 JP3312669B2 JP00323094A JP323094A JP3312669B2 JP 3312669 B2 JP3312669 B2 JP 3312669B2 JP 00323094 A JP00323094 A JP 00323094A JP 323094 A JP323094 A JP 323094A JP 3312669 B2 JP3312669 B2 JP 3312669B2
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光ディスク、光カード
等の光情報記録媒体に関する。
等の光情報記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】セクタ又はトラックに１度だけ記録でき
る追記型光ディスクが知られている。かかる追記型光デ
ィスクの構造を図１に示す。基板１はポリカーボネート
（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等の
透明樹脂から形成されている。透明基板１上には情報を
記録する際のレーザビームを導くトラッキングのための
プリグルーブ（案内溝）が予め形成されている。透明基
板１上には有機色素光吸収層２が形成され、さらにその
上には再生出力レベルを光学的に増強させるための金
（Ａｕ）等の金属からなる反射層３が設けられ、さらに
その上に紫外線硬化型樹脂等の保護層４が設けられてい
る。
る追記型光ディスクが知られている。かかる追記型光デ
ィスクの構造を図１に示す。基板１はポリカーボネート
（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等の
透明樹脂から形成されている。透明基板１上には情報を
記録する際のレーザビームを導くトラッキングのための
プリグルーブ（案内溝）が予め形成されている。透明基
板１上には有機色素光吸収層２が形成され、さらにその
上には再生出力レベルを光学的に増強させるための金
（Ａｕ）等の金属からなる反射層３が設けられ、さらに
その上に紫外線硬化型樹脂等の保護層４が設けられてい
る。
【０００３】この光ディスクにおいて、書き込み記録用
のレーザビームは、透明基板１側から光吸収層２へ向け
て照射され、反射層３にて反射される。このとき、有機
色素光吸収層２は特定波長の光を吸収する性質を有して
いるので、特定波長レーザビームの照射により有機色素
光吸収層２を加熱しこれを融解させるに伴い、光吸収層
２に密着している基板１も加熱する。ここで基板１はガ
ラス転移に達し軟化する。このとき色素の分解が生じて
基板１及び光吸収層２の界面に圧力が加わる。色素と基
板との材料が界面で混じり合い最終的に界面が変形す
る。変形部分が冷却してできたピット部は、レーザビー
ムの位相差により、見掛上他の反射層部分より反射率を
低下させる。こうして光吸収層２に追記が完了する。こ
の反射率の変化を利用して、このピット部の有無を１又
は０の２値に対応させることにより、光ディスクの記録
再生を行う。
のレーザビームは、透明基板１側から光吸収層２へ向け
て照射され、反射層３にて反射される。このとき、有機
色素光吸収層２は特定波長の光を吸収する性質を有して
いるので、特定波長レーザビームの照射により有機色素
光吸収層２を加熱しこれを融解させるに伴い、光吸収層
２に密着している基板１も加熱する。ここで基板１はガ
ラス転移に達し軟化する。このとき色素の分解が生じて
基板１及び光吸収層２の界面に圧力が加わる。色素と基
板との材料が界面で混じり合い最終的に界面が変形す
る。変形部分が冷却してできたピット部は、レーザビー
ムの位相差により、見掛上他の反射層部分より反射率を
低下させる。こうして光吸収層２に追記が完了する。こ
の反射率の変化を利用して、このピット部の有無を１又
は０の２値に対応させることにより、光ディスクの記録
再生を行う。
【０００４】図１に示すように、光吸収層は色素をスピ
ンコート法によってディスク全面に形成されるが、光吸
収層の外周縁が除去され保護層によって各層が覆われて
いる。これは、特にディスク外周縁からの有機色素の漏
出を防止し有機色素のディスク表面の汚染を回避するた
めになされている。かかる構造を形成するために、光吸
収層の周縁を特殊な装置と溶剤によって除去したり、バ
イトを有する特殊な装置によって切削する技術が知られ
ている（特開平３−２０３８３５及び特開平３−２０３
８３６）。
ンコート法によってディスク全面に形成されるが、光吸
収層の外周縁が除去され保護層によって各層が覆われて
いる。これは、特にディスク外周縁からの有機色素の漏
出を防止し有機色素のディスク表面の汚染を回避するた
めになされている。かかる構造を形成するために、光吸
収層の周縁を特殊な装置と溶剤によって除去したり、バ
イトを有する特殊な装置によって切削する技術が知られ
ている（特開平３−２０３８３５及び特開平３−２０３
８３６）。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
光吸収層の周縁部の除去方法では、特殊な装置を必要と
するだけでなく、ディスク製造工程が多くなり、煩雑に
なる。また、溶剤の飛沫や塵の飛散が免れず、吸引装置
を用いてもディスクの歩留の向上ができない。本発明
は、かかる問題を解消すべくなされたものであって、本
発明の目的は製造工程を簡素化し光吸収層成分を外部に
漏らさない光情報記録媒体を提供することにある。
光吸収層の周縁部の除去方法では、特殊な装置を必要と
するだけでなく、ディスク製造工程が多くなり、煩雑に
なる。また、溶剤の飛沫や塵の飛散が免れず、吸引装置
を用いてもディスクの歩留の向上ができない。本発明
は、かかる問題を解消すべくなされたものであって、本
発明の目的は製造工程を簡素化し光吸収層成分を外部に
漏らさない光情報記録媒体を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の光情報記録媒体
は、透明基板と、前記基板上に形成された有機色素から
なる光吸収層と、前記光吸収層上に形成された反射層と
を有する光情報記録媒体であって、前記有機色素を消色
せしめる色素退色組成物からなり、部分的に前記光吸収
層に接触しつつ前記反射層上に形成された保護層を有す
ることを特徴とする。
は、透明基板と、前記基板上に形成された有機色素から
なる光吸収層と、前記光吸収層上に形成された反射層と
を有する光情報記録媒体であって、前記有機色素を消色
せしめる色素退色組成物からなり、部分的に前記光吸収
層に接触しつつ前記反射層上に形成された保護層を有す
ることを特徴とする。
【０００７】
【作用】本発明によれば、特別な装置が必要なく製造工
程を簡素化し、光吸収層成分を外部に漏らさないだけで
なく、ディスク基盤にとらわれることのない光情報記録
媒体を得ることができる。
程を簡素化し、光吸収層成分を外部に漏らさないだけで
なく、ディスク基盤にとらわれることのない光情報記録
媒体を得ることができる。
【０００８】
【実施例】以下に本発明の実施例を図面を参照しつつ説
明する。図２は実施例の追記型光ディスクの部分拡大断
面を示す。図示するように、かかる光ディスクは、透明
基板１と、この上に形成された有機色素からなる光吸収
層２と、この上に形成された反射層３と、保護層４を有
する。光吸収層２はディスクの外周まで拡張されてお
り、その外周縁部は除去されていない。保護層４は、有
機色素を消色せしめる色素退色組成物からなり、部分的
に光吸収層の外周縁部に接触しつつ反射層３上に形成さ
れているので、有機色素と色素退色組成物との反応によ
り消色領域５がディスク外周部分に形成されている。
明する。図２は実施例の追記型光ディスクの部分拡大断
面を示す。図示するように、かかる光ディスクは、透明
基板１と、この上に形成された有機色素からなる光吸収
層２と、この上に形成された反射層３と、保護層４を有
する。光吸収層２はディスクの外周まで拡張されてお
り、その外周縁部は除去されていない。保護層４は、有
機色素を消色せしめる色素退色組成物からなり、部分的
に光吸収層の外周縁部に接触しつつ反射層３上に形成さ
れているので、有機色素と色素退色組成物との反応によ
り消色領域５がディスク外周部分に形成されている。
【０００９】かかる色素退色組成物は、(a)アクリル酸
エステルからなる不飽和二重結合含有化合物、(b)ベン
ゾフェノン系化合物、アントラキノン系化合物及びチオ
キサントン系化合物から選ばれる少なくとも１つからな
る水素引き抜き型重合開始剤、並びに(c)アミン類から
なる重合促進剤、の混合物からなる紫外線硬化型樹脂で
ある。
エステルからなる不飽和二重結合含有化合物、(b)ベン
ゾフェノン系化合物、アントラキノン系化合物及びチオ
キサントン系化合物から選ばれる少なくとも１つからな
る水素引き抜き型重合開始剤、並びに(c)アミン類から
なる重合促進剤、の混合物からなる紫外線硬化型樹脂で
ある。
【００１０】具体的には、本発明で用いるアクリル酸エ
ステルからなる不飽和二重結合含有化物(a)は、大きく
分けると低分子単量体と高分子不飽和基含有樹脂に分け
ることができる。低分子単量体としては具体的に、ジシ
クロペンタジエンオキシエチル（メタ）アクリレート、
イソボロニル（メタ）アクリレート、２，２−ビス（４
−（メタ）アクリロイルオキシエトキシフェニル）プロ
パン、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシ
エトキシフェニル）メタン、トリメチロールプロパント
リ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ
（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペン
チルグリコールジ（メタ）アクリレート、テトラヒドロ
フルフリル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジ
メチロールジ（メタ）アクリレート、ジオキサングリコ
ールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールト
リ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリプ
ロポキシトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリ
トールヘキサ及びペンタ（メタ）アクリレート、ジペン
タエリスリトールのε−カプロラクトン付加物のポリ
（メタ）アクリレート、ジメチロールプロパンテトラ
（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートモノマ
ー類を挙げることができる。
ステルからなる不飽和二重結合含有化物(a)は、大きく
分けると低分子単量体と高分子不飽和基含有樹脂に分け
ることができる。低分子単量体としては具体的に、ジシ
クロペンタジエンオキシエチル（メタ）アクリレート、
イソボロニル（メタ）アクリレート、２，２−ビス（４
−（メタ）アクリロイルオキシエトキシフェニル）プロ
パン、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシ
エトキシフェニル）メタン、トリメチロールプロパント
リ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ
（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペン
チルグリコールジ（メタ）アクリレート、テトラヒドロ
フルフリル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジ
メチロールジ（メタ）アクリレート、ジオキサングリコ
ールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールト
リ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリプ
ロポキシトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリ
トールヘキサ及びペンタ（メタ）アクリレート、ジペン
タエリスリトールのε−カプロラクトン付加物のポリ
（メタ）アクリレート、ジメチロールプロパンテトラ
（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートモノマ
ー類を挙げることができる。
【００１１】高分子不飽和基含有樹脂としては具体的
に、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂あるいは、ノボラ
ック型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂と（メタ）アクリ
ル酸との反応によって得られるエポキシ（メタ）アクリ
レート、多価アルコール例えば、ネオペンチルグリコー
ル、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，
６−ヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、ペン
タエリスリトール、トリシクロデカンジメチロール、ビ
ス−（ヒドロキシメチル）−シクロヘキサン等と多塩基
酸例えば、コハク酸、フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタ
ル酸、テレフタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、テト
ラヒドロ無水フタル酸等との反応によって得られるポリ
エステルポリオールと（メタ）アクリル酸との反応によ
って得られるポリエステル（メタ）アクリレートあるい
は、ポリオール例えば、ポリエチレングリコール、ポリ
プロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール
等のポリエーテルポリオール、前記多価アルコールと前
記多塩基酸との反応によって得られるポリエステルポリ
オール、前記多価アルコールと前記多塩基酸とε−カプ
ロラクトンとの反応によって得られるカプロラクトンポ
リオール、及びポリカーボネートポリオール例えば、
１，６−ヘキサンジオールとジフェニルカーボネートと
の反応によって得られるポリカーボネートポリオール等
と有機ポリイソシアネート例えば、イソホロンジイソシ
アネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリレン
ジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフ
ェニルメタン−４，４’−ジイソシアネート等とヒドロ
キシ（メタ）アクリレート化合物との反応によって得ら
れるウレタン（メタ）アクリレート等を挙げることがで
きる。ヒドロキシ（メタ）アクリレート化合物の例とし
ては、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロ
キシプロピル（メタ）アクリレート、ε−カプロラクト
ン−β−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート付加物
等である。
に、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂あるいは、ノボラ
ック型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂と（メタ）アクリ
ル酸との反応によって得られるエポキシ（メタ）アクリ
レート、多価アルコール例えば、ネオペンチルグリコー
ル、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，
６−ヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、ペン
タエリスリトール、トリシクロデカンジメチロール、ビ
ス−（ヒドロキシメチル）−シクロヘキサン等と多塩基
酸例えば、コハク酸、フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタ
ル酸、テレフタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、テト
ラヒドロ無水フタル酸等との反応によって得られるポリ
エステルポリオールと（メタ）アクリル酸との反応によ
って得られるポリエステル（メタ）アクリレートあるい
は、ポリオール例えば、ポリエチレングリコール、ポリ
プロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール
等のポリエーテルポリオール、前記多価アルコールと前
記多塩基酸との反応によって得られるポリエステルポリ
オール、前記多価アルコールと前記多塩基酸とε−カプ
ロラクトンとの反応によって得られるカプロラクトンポ
リオール、及びポリカーボネートポリオール例えば、
１，６−ヘキサンジオールとジフェニルカーボネートと
の反応によって得られるポリカーボネートポリオール等
と有機ポリイソシアネート例えば、イソホロンジイソシ
アネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリレン
ジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフ
ェニルメタン−４，４’−ジイソシアネート等とヒドロ
キシ（メタ）アクリレート化合物との反応によって得ら
れるウレタン（メタ）アクリレート等を挙げることがで
きる。ヒドロキシ（メタ）アクリレート化合物の例とし
ては、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロ
キシプロピル（メタ）アクリレート、ε−カプロラクト
ン−β−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート付加物
等である。
【００１２】水素引き抜き型重合開始剤(b)のベンゾフ
ェノン系としては、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香
酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフ
ェノン、４−ヒドロキシベンゾフェノン、アクリル化ベ
ンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニ
ルサルファイド、３，３’−ジメチル−メトキシベンゾ
フェノンがある。また、チオキサントン系としては、チ
オキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチル
チオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、イ
ソプロピルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサ
ントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−イ
ソプロピルチオキサントンがある。その他としては、ベ
ンジル、カンファーキノン、アントラキノン酸が用いら
れる。
ェノン系としては、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香
酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフ
ェノン、４−ヒドロキシベンゾフェノン、アクリル化ベ
ンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニ
ルサルファイド、３，３’−ジメチル−メトキシベンゾ
フェノンがある。また、チオキサントン系としては、チ
オキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチル
チオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、イ
ソプロピルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサ
ントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−イ
ソプロピルチオキサントンがある。その他としては、ベ
ンジル、カンファーキノン、アントラキノン酸が用いら
れる。
【００１３】重合促進剤(c)としては、トリエタノール
アミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノ
ールアミン、４，４’−ジメチルアミンベンゾフェノ
ン、４，４’−ジエチルアミノベンゾフェノン、２−ジ
メチルアミノエチル安息香酸、４−ジメチルアミノ安息
香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、
４−ジメチルアミノアセトフェノンが用いられる。
アミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノ
ールアミン、４，４’−ジメチルアミンベンゾフェノ
ン、４，４’−ジエチルアミノベンゾフェノン、２−ジ
メチルアミノエチル安息香酸、４−ジメチルアミノ安息
香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、
４−ジメチルアミノアセトフェノンが用いられる。
【００１４】この紫外線硬化型樹脂において各成分の配
合割合は、(a)不飽和二重結合含有化合物が１００重量
部で、(b)水素引き抜き型重合開始剤が０．０５重量部
から２０重量部好ましくは０．１重量部から１０重量部
で、(c)重合促進剤が０．０１重量部から１５重量部好
ましくは０．０５重量部から７重量部で混合されてい
る。
合割合は、(a)不飽和二重結合含有化合物が１００重量
部で、(b)水素引き抜き型重合開始剤が０．０５重量部
から２０重量部好ましくは０．１重量部から１０重量部
で、(c)重合促進剤が０．０１重量部から１５重量部好
ましくは０．０５重量部から７重量部で混合されてい
る。
【００１５】透明基板１上の有機色素光吸収層３には下
記式（１）で示されるシアニン系色素や、
記式（１）で示されるシアニン系色素や、
【００１６】
【化１】
【００１７】フタロシアニン系色素又はそれらの混合物
が用いられる。光吸収層はかかる色素をスピンコート法
によってディスク全面に形成され、反射層は真空蒸着や
スパッタ法でその上に形成される。光吸収層の外周縁が
除去されることなく、保護層との反応によって生じた消
色領域５によって光吸収層周縁が覆われる。かかる消色
反応は例えば上記シアニン色素の結合基であるメチレン
基が上記水素引き抜き型重合開始剤により、切られる反
応であって、これにより色素吸収波長が変化するために
退色が生じる。
が用いられる。光吸収層はかかる色素をスピンコート法
によってディスク全面に形成され、反射層は真空蒸着や
スパッタ法でその上に形成される。光吸収層の外周縁が
除去されることなく、保護層との反応によって生じた消
色領域５によって光吸収層周縁が覆われる。かかる消色
反応は例えば上記シアニン色素の結合基であるメチレン
基が上記水素引き抜き型重合開始剤により、切られる反
応であって、これにより色素吸収波長が変化するために
退色が生じる。
【００１８】基板１はＰＣ、ＰＭＭＡ等の透明樹脂から
射出成形や２Ｐ転写法により形成され、透明基板表面上
にはレーザビームトラッキングサーボ用のプリグルーブ
が予め形成されている。反射層３はＡｕ、Ａｇ、Ｃｕ、
Ａｌやこれらの合金等の金属からなる。
射出成形や２Ｐ転写法により形成され、透明基板表面上
にはレーザビームトラッキングサーボ用のプリグルーブ
が予め形成されている。反射層３はＡｕ、Ａｇ、Ｃｕ、
Ａｌやこれらの合金等の金属からなる。
【００１９】
【発明の効果】以上の如く、本発明によれば、透明基板
と、基板上に形成された有機色素からなる光吸収層と、
光吸収層上に形成された反射層とを有する光情報記録媒
体において、有機色素を消色せしめる色素退色組成物か
らなり、部分的に光吸収層に接触しつつ反射層上に形成
された保護層を設けたので、光吸収層外周部分を除去す
る特別な装置が必要なく、製造工程を簡素化し、光吸収
層成分を外部に漏らさないだけでなく、ディスク基盤に
とらわれることのない光情報記録媒体を得ることができ
る。
と、基板上に形成された有機色素からなる光吸収層と、
光吸収層上に形成された反射層とを有する光情報記録媒
体において、有機色素を消色せしめる色素退色組成物か
らなり、部分的に光吸収層に接触しつつ反射層上に形成
された保護層を設けたので、光吸収層外周部分を除去す
る特別な装置が必要なく、製造工程を簡素化し、光吸収
層成分を外部に漏らさないだけでなく、ディスク基盤に
とらわれることのない光情報記録媒体を得ることができ
る。
【図１】従来の光ディスクの拡大部分断面図である。
【図２】本発明の光ディスクの拡大部分断面図である。
１ 基板 ２ 有機色素光吸収層 ３ 反射層 ４ 保護層 ５ 消色領域
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 林 毅 山梨県中巨摩郡田富町西花輪2680番地パ イオニアビデオ株式会社内 (72)発明者 滝下 俊彦 山梨県中巨摩郡田富町西花輪2680番地パ イオニアビデオ株式会社内 (72)発明者 鈴木 健二 山梨県中巨摩郡田富町西花輪2680番地パ イオニアビデオ株式会社内 (72)発明者 石井 一彦 埼玉県与野市上落合1039番地 (56)参考文献 特開 平３−131605（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−186534（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−278333（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−167238（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−151029（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G11B 7/24 G11B 7/26
Claims (3)
- 【請求項１】 透明基板と、前記基板上に形成された有
機色素からなる光吸収層と、前記光吸収層上に形成され
た反射層とを有する光情報記録媒体であって、前記有機
色素を消色せしめる色素退色組成物からなり、部分的に
前記光吸収層に接触しつつ前記反射層上に形成された保
護層を有することを特徴とする光情報記録媒体。 - 【請求項２】 前記色素退色組成物は、(a)アクリル酸
エステルからなる不飽和二重結合含有化合物、(b)ベン
ゾフェノン系化合物、アントラキノン系化合物及びチオ
キサントン系化合物から選ばれる少なくとも１つからな
る水素引き抜き型重合開始剤、並びに(c)アミン類から
なる重合促進剤からなる紫外線硬化型樹脂であることを
特徴とする請求項１記載の光情報記録媒体。 - 【請求項３】 前記紫外線硬化型樹脂は、(a)不飽和二
重結合含有化合物の１００重量部、(b)水素引き抜き型
重合開始剤の０．０５重量部から２０重量部好ましくは
０．１重量部から１０重量部、及び(c)重合促進剤が
０．０１重量部から１５重量部好ましくは０．０５重量
部から７重量部からなる混合物であることを特徴とする
請求項２記載の光情報記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP00323094A JP3312669B2 (ja) | 1994-01-17 | 1994-01-17 | 光情報記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP00323094A JP3312669B2 (ja) | 1994-01-17 | 1994-01-17 | 光情報記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07210899A JPH07210899A (ja) | 1995-08-11 |
| JP3312669B2 true JP3312669B2 (ja) | 2002-08-12 |
Family
ID=11551656
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP00323094A Expired - Fee Related JP3312669B2 (ja) | 1994-01-17 | 1994-01-17 | 光情報記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3312669B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3611437B2 (ja) * | 1997-12-24 | 2005-01-19 | Ｔｄｋ株式会社 | 光記録媒体の製造方法及び光記録媒体 |
| JP3611438B2 (ja) * | 1997-12-24 | 2005-01-19 | Ｔｄｋ株式会社 | 光記録媒体及びその製造方法 |
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