CN1733855A - 涂层用组合物、涂层薄膜、涂层薄膜制造方法与光记录介质 - Google Patents

涂层用组合物、涂层薄膜、涂层薄膜制造方法与光记录介质 Download PDF

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Abstract

本发明涉及含有电离放射线固化性化合物为主要成分的涂布剂和溶剂的涂层用组合物，把涂层用组合物中的涂布剂的浓度a(重量％)在以下的条件下，0＜a≤60，涂布剂的浓度a与涂层用组合物的表面张力b(达因/厘米)满足以下关系b≤(－a/15)+26的涂层用组合物，涂布在保护膜11的表面上固化形成硬涂层12。这样的硬涂层12即使是在保护膜11的表面上存在凸部或异物的场合，也可遮盖住这些凸部或异物具有高的表面平滑性。

Description

涂层用组合物、涂层薄膜、涂层薄膜制造方法与光记录介质
技术领域
本发明涉及涂层用组合物、涂层薄膜、涂层薄膜制造方法与光记录介质，尤其是涉及可以形成高平滑性表面的涂层用组合物与涂层薄膜制造方法以及具有高表面平滑性的涂层薄膜与光记录介质。
技术背景
作为新一代光盘的蓝光盘(Blu-ray Disc)，与普通的光盘同样地为了保护信息记录层，在信息记录层表面粘合聚碳酸酯树脂制成的保护膜，但蓝光盘的记录信息容量极大，密度极高，即使保护膜上有微小的划伤在读出或写入信息时有时也产生错误，所以目前蓝光盘放入盒中使用。
然而，蓝光盘为了作为介质的小型化和降低制造成本期望无盒型的裸光盘。
因此，例如，如图4所示，提出了在信息记录层用的保护膜11上形成硬涂层12P的方案(特开2002-245672号公报)。
蓝光盘等的保护膜11，通常采用将用溶剂稀释聚碳酸酯树脂的溶液浇铸在带上进行制膜制造，有时在制得的保护膜11的表面上形成凸部10。
在具有如上述的凸部10的保护膜11的表面形成硬涂层12P的场合，在硬涂层12P表面上以上述凸部10为核产生疵点，导致信号特性的劣化。
另外，形成硬涂层12P时在保护膜11的表面粘附尘埃等的异物，在这种状态下涂布硬涂层12P的涂布剂时也产生与上述同样的问题。
发明内容
本发明是鉴于如上述实况而完成的研究，其目的在于提供即使是在被涂面上存在凸部或异物的场合，也可以遮盖住这些凸部或异物形成高平滑性表面的涂层用组合物与涂层薄膜制造方法，以及具有高表面平滑性的涂层薄膜与光记录介质。
为了达到上述目的，第1本发明提供涂层用组合物，是含有电离放射线固化性化合物为主要成分的涂布剂的涂层用组合物，其特征在于，前述涂层用组合物中的前述涂布剂的浓度a(重量％)在以下的条件下时，
                    0＜a≤60前述涂布剂的浓度a与前述涂层用组合物的表面张力b(达因/厘米)满足以下的关系
       b≤(-a/15)+26              (发明1)
根据上述发明(发明1)，即使在被涂面上存在凸部或异物的场合，也可以遮盖住这些凸部或异物形成高平滑性的表面。
上述发明(发明1)，前述涂布剂优选含有选自二甲基硅氧烷类化合物与氟类化合物的至少1种化合物(发明2)，含有二甲基硅氧烷类化合物的场合，优选该含量为0.5～50重量％(发明3)，含有氟类化合物的场合，该含量优选为0.1～20重量％(发明4)。
根据上述发明(发明2～4)，容易对涂层用组合物赋予满足上述条件的表面张力。
第2本发明提供涂层薄膜(发明5)，其特征是具有树脂薄膜和在前述树脂薄膜的至少一面上涂布前述涂层用组合物(发明1～4)固化形成的涂层。
上述发明(发明5)的涂层薄膜，由于使用上述涂层用组合物形成涂层，故即使是在树脂薄膜的涂层形成面上存在凸部或异物的场合，也可以由涂层遮盖住这些凸部或异物，可以形成表面平滑性高的涂层薄膜。
上述发明(发明5)中，在前述树脂薄膜的涂层形成面上存在凸部，前述凸部的最大高度为h(μm)时，优选前述涂层的厚度d(μm)满足以下的条件
d≥h+1              (发明6)。
根据上述发明(发明6)，由于可利用涂层确保遮盖凸部，故可以得到非常高的表面平滑性。
上述发明(发明5，6)中，也可以在前述树脂薄膜的非涂层形成面上设粘着层(发明7)。
上述发明(发明5～7)中，前述树脂薄膜可以包含聚甲基丙烯酸甲酯树脂、聚碳酸酯树脂及环烯烃类树脂的任何一种树脂为主要成分的材料(发明8)，这样的涂层薄膜适合作为光记录介质的保护层使用。
第3本发明提供涂层薄膜制造方法，是把电离放射线固化性化合物为主要成分的涂布剂调整浓度得到的涂层用组合物涂布在树脂薄膜的表面固化后形成涂层的涂层薄膜的制造方法，其特征在于，前述涂层用组合物中的前述涂布剂的浓度a(重量％)，在以下的条件时
0＜a≤60，前述涂布剂的浓度a与前述涂层用组合物的表面张力b(达因/厘米)，满足以下的关系
b≤(-a/15)+26         (发明9)
根据上述发明(发明9)，即使是在树脂薄膜的涂层形成面上存在凸部或异物的场合，由于可以利用涂层遮盖这些凸部或异物，故可以得到表面平滑性高的涂层薄膜。
上述发明(发明9)中，在前述树脂薄膜的涂层形成面上存在最大高度为h(μm)的凸部的场合，优选形成前述涂层，使前述涂层的厚度d(μm)满足以下的条件
d≥h+1                (发明10)
根据上述发明(发明10)，利用涂层确保遮盖凸部，可以得到表面平滑性非常高的涂层薄膜。
第4本发明提供光记录介质(发明11)，其特征在于具有采用前述涂层薄膜(发明5～8)或前述涂层薄膜制造方法(发明9，10)制得的涂层薄膜。
上述发明(发明11)的光记录介质，由于利用上述涂层形成表面平滑性高的光记录介质，故没有上述树脂薄膜的凸部造成的信号特性的劣化，可以成为错误率极低的光记录介质。
若采用本发明的涂层用组合物或涂层薄膜制造方法，则即使是在被涂面上存在凸部或异物的场合，也可以遮盖这些凸部或异物形成平滑性高的表面。另外，本发明的涂层薄膜与光记录介质，即使是在涂层的被涂面上存在凸部或异物的场合，也可以成为具有高表面平滑性的涂层薄膜与光记录介质。
附图的简单说明
图1是有关本发明一种实施方式的硬涂层薄膜的截面图。
图2是有关本发明另一种实施方式的硬涂层薄膜的截面图。
图3是有关本发明的一种实施方式的光盘的截面图。
图4是以往的硬涂层薄膜的截面图。
具体实施方式
以下，对本发明的实施方式进行说明。
[涂层用组合物]
本实施方式的涂层用组合物含有电离放射线固化性化合物为主要成分的涂布剂。
作为电离放射线固化性化合物，例如可以举出光聚合性预聚物和/或光聚合性单体。光聚合性预聚物，有自由基聚合型和阳离子聚合型，作为自由基聚合型的光聚合性预聚物，例如可列举聚酯丙烯酸酯类、环氧丙烯酸酯类、尿烷丙烯酸酯类、多元醇丙烯酸酯类等。
作为聚酯丙烯酸酯类预聚物，可以通过例如将多元羧酸与多元醇缩合得到的两末端有羟基的聚酯低聚物的羟基，使用(甲基)丙烯酸进行酯化，或者将环氧化物与多元羧酸加成得到的低聚物末端的羟基，使用(甲基)丙烯酸进行酯化而制得。
环氧丙烯酸酯类预聚物，例如，可以通过使(甲基)丙烯酸与分子量比较低的双酚型环氧树脂或线型环氧树脂的环氧乙烷环反应进行酯化制得。
尿烷丙烯酸酯类预聚物，例如，可以通过使用(甲基)丙烯酸将聚醚多元醇或聚酯多元醇与多异氰酸酯反应得到的聚氨酯低聚物进行酯化制得。
多元醇丙烯酸酯类预聚物，可以通过使用(甲基)丙烯酸将聚醚多元醇的羟基进行酯化制得。
作为阳离子聚合型的光聚合性预聚物，通常使用环氧树脂。作为这种环氧树脂，例如可列举使用环氧氯丙烷等将双酚树脂或线型树脂等的多元酚类环氧化的化合物，或使用过氧化物等将直链烯烃化合物或环烯烃化合物氧化得到的化合物等。
以上的光聚合性预聚物，既可以单独使用1种，也可以将2种以上组合使用。
另外，作为光聚合性单体，例如可列举二(甲基)丙烯酸1，4-丁二醇酯、二(甲基)丙烯酸1，6-己二醇酯、二(甲基)丙烯酸新戊二醇酯、二(甲基)丙烯酸聚乙二醇酯、二(甲基)丙烯酸新戊二醇己二酸酯、二(甲基)丙烯酸羟基三甲基乙酸新戊二醇酯、二(甲基)丙烯酸双环戊烯酯、己内酯改性二(甲基)丙烯酸双环戊烯酯、环氧乙烷改性二(甲基)丙烯酸磷酸酯、二(甲基)丙烯酸烯丙基化环己酯、二(甲基)丙烯酸异氰尿酸酯、三(甲基)丙烯酸三羟甲基丙烷酯、三(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯、丙酸改性三(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯、三(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、环氧丙烷改性三(甲基)丙烯酸三羟甲基丙烷酯、三(丙烯酰氧基乙基)异氰尿酸酯、四丙烯酸季戊四醇酯、丙酸改性五(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯、六(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯、己内酯改性六(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯等的多官能丙烯酸酯。
这些光聚合性单体既可以单独使用1种，也可以将2种以上组合使用，还可以与上述光聚合性预聚物一起使用。
涂布剂，除了上述电离放射线固化性化合物以外，根据需要也可以含有光聚合引发剂或填充剂，又可以含有其他的电离放射线固化性化合物。
作为光聚合引发剂，对自由基聚合型的光聚合性预聚物或光聚合性单体，例如可以使用苯偶因、苯偶因甲醚、苯偶因乙醚、苯偶因异丙醚、苯偶因正丁醚、苯偶因异丁醚、苯乙酮、二甲氨基苯乙酮、2，2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2，2-二乙氧基-2-苯基苯乙酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙酮-1、1-羟基环己基苯基酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-吗啉代-1-丙酮、4-(2-羟基乙氧基)苯基-2-(羟基-2-丙基)酮、二苯甲酮、对苯基二苯甲酮、4，4′-二乙氨基二苯甲酮、二氯二苯甲酮、2-甲基蒽醌、2-乙基蒽醌、2-叔丁基蒽醌、2-氨基蒽醌、2-甲基噻吨酮、2-乙基噻吨酮、2-氯噻吨酮、2，4-二甲基噻吨酮、2，4-二乙基噻吨酮、苄基二甲基缩酮、苯乙酮二甲基缩酮、对二甲胺苯甲酸酯等，此外还可以使用低聚{2-羟基-2-甲基-1-[4-(1-甲基乙烯基)苯基]丙酮}等的高分子量光聚合引发剂等。
另外，对阳离子聚合型的光聚合性预聚物，例如可以使用芳香族锍离子、芳香族氧锍离子、芳香族碘鎓离子等的鎓离子，和四氟硼酸盐、六氟磷酸盐、六氟锑酸盐、六氟砷酸盐等的阳离子构成的化合物等。
上述光聚合引发剂既可以单独使用1种，也可以将2种以上组合使用。光聚合引发剂的配合量，相对于上述光聚合性预聚物与光聚合性单体的合计量100重量份，通常是0.2～10重量份。
作为填充剂，为了调节制得的涂层的折射率或提高薄膜的固化强度，例如可以使用无机微细粒子。作为这样的无机微细粒子，可列举二氧化硅粒子、二氧化钛粒子、氧化铝粒子、氧化锡粒子、碳酸钙粒子、硫酸钡粒子、滑石粉、高岭土、硫酸钙粒子等，填充剂的平均粒子径优选是0.5μm以下。另外，上述无机微细粒子，为了在涂层用组合物中的稳定性、强化涂层，也可以进行表面处理。
另外，为了提高所得涂层的折射率，也可以使用选自钛、铝、铟、锌、锡与锑的至少1种的金属的氧化物构成的微细粒子，例如是TiO2、Al2O3、In2O3、ZnO、SnO2、Sb2O3、ITO等的微细粒子，可以使用粒子径100nm以下，优选50nm以下的微细粒子作为填充剂使用。这样的金属氧化物微细粒子，由于粒子径比光波长十分地小，故不产生光的散射，分散着这种金属氧化物微细粒子的分散体(涂层)作为在光学上均匀的物质。
上述无机微细粒子(金属氧化物微细粒子)的配合量，优选是涂布剂的10～90重量％。
此外，为了提高所得涂层的硬度，对涂层赋予防划伤性，作为电离放射线固化性化合物，可以使用反应性粒子，例如特开2000-273272号公报所述的反应性粒子。这种反应性粒子是分子内有1个以上的聚合性不饱和基的有机化合物(a)在化学上与上述无机氧化物粒子键合的粒子。
作为反应性粒子的无机氧化物粒子，可列举氧化硅、氧化铝、氧化锆、氧化钛、氧化锌、氧化锗、氧化铟、氧化锡、氧化锑、氧化铈等的粒子，既可以单独使用1种，也可以将2种以上组合使用。
对形成光学用薄膜或光学制品等的涂层(硬涂层)使用本涂层用组合物的场合，作为无机氧化物粒子、优选使用光的吸收少、光透过性高的氧化硅粒子。
无机氧化物粒子的平均粒径优选是0.001～2μm，特别优选是0.001～0.2μm，再优选是0.001～0.1μm。无机氧化物粒子的平均粒径超过2μm时，有可能使本涂层用组合物固化得到的涂层的光透过性降低、或该涂层的表面平滑性差。
无机氧化物粒子的形状可以是球状、中空状、多孔状、棒状、板状、纤维状、无定形状的任何一种形状，但特优选是球状。
无机氧化物粒子的比表面积(使用氮的BET法测的比表面积)优选是10～1000m2/g，特优选是100～500m2/g。
作为与上述无机氧化物粒子键合的有机化合物(a)所具有的聚合性不饱和基，例如，可列举丙烯酰基、甲基丙烯酰基、乙烯基、丙烯基、丁二烯基、苯乙烯基、乙炔基、肉桂酰基、马来酸酯基、丙烯酰胺基等。
有机化合物(a)中的聚合性不饱和基的个数，只要在分子内是1个以上则没有特殊限定，通常是1～4个。
有机化合物(a)，除上述聚合性不饱和基以外，还优选含式[-X-C(＝Y)-NH-](式中，X是NH、O或S，Y是O或S)表示的基。另外，有机化合物(a)，还优选是分子内有硅烷醇的化合物，或是水解生成硅烷醇基的化合物。
作为这样的有机化合物(a)的优选具体例，例如，可举出下述式(1)表示的化合物。
Figure A20051009143800111
式(1)中，R1与R2是氢原子或C1～C8的烷基或芳基，R1或R2既可以相同，也可以不同。作为这样的官能基，例如，可列举甲基、乙基、丙基、丁基、辛基、苯基、二甲苯基等。
作为式[(R1O)mR2 3-nSi-]表示的基，例如，可列举三甲氧基甲硅烷基、三乙氧基甲硅烷基、三苯氧基甲硅烷基、甲基二甲氧基甲硅烷基、二甲基甲氧基甲硅烷基等，其中，优选三甲氧基甲硅烷基或三乙氧基甲硅烷基等。这里，m是1～3的整数。
R3是有C1～C12的脂肪族或芳香族结构的2价的有机基，也可以含链状，支链状或环状的结构。作为这样的有机基，例如，可列举亚甲基、亚乙基、亚丙基、亚丁基、六亚甲基、亚环己基、亚苯基、亚二甲苯基、十二亚甲基等，其中，优选亚甲基、亚丙基、亚环己基、亚苯基等。
R4是2价的有机基，通常从分子量14～1万、优选分子量76～500的2价的有机基中选择。作为2价的有机基，例如，可列举六亚甲基、八亚甲基、十二亚甲基等的链状多亚烷基；亚环己基、降冰片烯基等的脂环式或多环式的2价的有机基；亚苯基、亚萘基、亚联苯基、多亚苯基等的2价的芳香族基；及这些的亚烷基置换体或芳基置换体。这些2价的有机基，既可以包括含有碳与氢原予以外元素的原子团，还可以包括聚醚键、聚酯键、聚酰胺键、聚碳酸酯键、进一步可以包括式[-X-C(＝Y)-NH-](式中，X表示NH、O或S，Y表示O或S)表示的基。
R5是(n+1)价的有机基，优选从链状、支链状或环状的饱和烃基或不饱和烃基中选择。这里，n优选是1～20的整数，特别优选是1～10的整数，再优选是1～5的整数。
Z是分子中有活性自由基种的存在下，可分子间交联反应的聚合性不饱和基的1价的有机基。作为这样的有机基，例如，可列举丙烯酰(氧)基、甲基丙烯酰(氧)基、乙烯(氧基)、丙烯(氧)基、丁二烯(氧)基、苯乙烯(氧)基、乙炔(氧)基、肉桂酰(氧)基、马来酸酯基、丙烯酰胺基、甲基丙烯酰胺基等，其中，优选丙烯酰(氧)基与甲基丙烯酰(氧)基。
反应性粒子可以通过上述无机氧化物粒子与有机化合物(a)反应进行制造。估计在上述无机氧化物粒子的表面存在能与有机化合物(a)反应的成分，通过在水分的存在下或无水分存在下将粉末状的无机氧化物粒子或无机氧化物粒子的溶剂分散溶胶与有机化合物(a)混合，加热、进行搅拌，无机氧化物粒子的表面成分与有机化合物(a)反应，可得到反应性粒子。
在涂布剂中反应性粒子的含量(固形份)优选是5～80重量％，特优选是10～70重量％。
反应性粒子的含量未满5重量％时，有时所得涂层的硬度不充分，反应性粒子的含量超过90重量％时，有时涂层用组合物的固化性差。
本实施方式的涂布剂优选含有二甲基硅氧烷类化合物和/或氟类化合物，使涂层用组合物可具有后述的表面张力。
作为二甲基硅氧烷类化合物，例如，可列举巯基改性聚二甲基硅氧烷、酚改性聚二甲基硅氧烷、聚醚改性聚二甲基硅氧烷、脂肪酸酯改性聚二甲基硅氧烷、(甲基)丙烯酸酯改性聚二甲基硅氧烷、具有二甲基硅氧烷骨架的硅氧烷接枝丙烯酸树脂等。
在涂布剂中的二甲基硅氧烷类化合物的含量优选是0.5～50重量％、特优选是0.5～5重量％。
作为氟类化合物，可列举氟烷基羧酸盐、氟烷基季铵盐、氟烷基环氧乙烷加成物等的有氟烷基的化合物；全氟烷基羧酸盐、全氟烷基季铵盐、全氟烷基环氧乙烷加成物等的有全氟烷基的化合物；有氟碳基的化合物；四氟乙烯聚合物；偏氟乙烯与四氟乙烯的共聚物；偏氟乙烯与六氟丙烯的共聚物；含氟(甲基)丙烯酸酯；含氟(甲基)丙烯酸酯的聚合物；含氟(甲基)丙烯酸烷基酯的聚合物；含氟(甲基)丙烯酸酯与其他的单体的共聚物等。
在涂布剂中氟化合物的含量优选是0.5～20重量％、特别优选是0.5～5重量％。
本实施方式的涂层用组合物优选含溶剂，由此，涂布剂的浓度与涂层用组合物的表面张力容易满足后述的关系。作为本实施方式中的溶剂，只要是可以溶解上述涂布剂中的电离放射线硬化性化合物，并且对涂布对象物没有不良影响则没有特殊限定，例如，可以适当地从甲醇、乙醇、异丙醇、异丁醇、辛醇等的醇类；丙酮、甲乙酮、甲基异丁基酮、环己酮等的酮类；醋酸乙酯、醋酸丁酯、乳酸乙酯、γ-丁内酯等的酯类；乙二醇单甲醚(甲基溶纤剂)、乙二醇单乙醚(乙基溶纤剂)、二乙二醇单丁醚(丁基溶纤剂)、丙二醇单甲醚等的醚类；苯、甲苯、二甲苯等的芳香族烃类；二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮等的酰胺类中选择使用。
本实施方式中的涂布剂，除了以上的成分外，例如，也可以含有抗氧剂、紫外线吸收剂、光稳定剂、硅烷偶联剂、防老剂、热阻聚剂、着色剂、留平剂(leveling agent)、表面活性剂、保存稳定剂、增塑剂、润滑剂、有机填充剂、填料、润湿改良剂、涂面改良剂等的各种添加剂。
本实施方式的涂层用组合物，在涂层用组合物中涂布剂的浓度a(重量％)在以下的条件下
0＜a≤60涂布剂的浓度a与涂层用组合物的表面张力b(达因/厘米)满足以下的关系
                  b≤(-a/15)+26
由于涂布剂的浓度a与涂层用组合物的表面张力b满足上述关系，故即使是在被涂面上存在凸部或异物的场合，也可以利用涂层遮盖这些凸部或异物形成高平滑性的表面。再者，上述关系中，如果b＞(-a/15)+26，则不仅上述效果差，而且产生导致涂层用组合物的加工效率降低的问题。
以上说明的涂层用组合物，通过对所期望的基材涂布，使之固化，可在基材的表面形成表面平滑性高的涂层，根据需要可形成硬涂层。作为涂布对象的基材，例如，可列举塑料薄膜、塑料片、塑料板等的塑料制品、金属制品、玻璃制品、石材等。
[涂层薄膜]
本实施方式中，作为涂层薄膜，举出保护光盘信息记录层用的硬涂层薄膜作为一个例子进行说明，但本发明的涂层薄膜不限定于这样的用途。
如图1所示，本实施方式中的硬涂层薄膜由保护膜11和在保护膜11的一个面上形成的硬涂层12构成。
保护膜11是对读出或写入信息用的光的波长域有充分的光透过性，同时为了容易地制造光盘，刚性或柔软性处于适度，而且为了保管光盘，优选对温度稳定的薄膜。作为这样的保护膜11，优选聚碳酸酯，环烯烃聚合物或聚甲基丙烯酸甲酯为主要成分的光透过性薄膜，特优选与后述的硬涂层12的粘合性高的聚碳酸酯为主要成分的薄膜。此外，使用环烯烃聚合物为主要成分的薄膜的场合，为了提高与硬涂层12的粘合性，优选对形成硬涂层12的面实施电晕放电处理。
保护膜11的厚度根据光盘的种类或光盘之外构成部位的厚度而定，通常是25～300μm，优选是50～200μm左右。
此外，保护膜11通常通过将使用溶剂稀释所期望树脂的溶液浇铸在带上进行制膜制造，但往往在保护膜11的表面上形成凸部10，另外，也有时形成粘附在保护膜11上的异物造成的凸部10。这种凸部10的高度通常是0.1～10μm左右。
硬涂层12通过将前述的涂层用组合物，优选含有填充剂的涂层用组合物涂布在保护膜11的表面上，使其固化而形成。
涂层用组合物的涂布可采用通常的方法进行，例如，可以采用棒涂布法、刮刀涂布法、辊式涂布法、刮板涂布法、口模式涂布法、照相凹版涂布法进行。涂布涂层用组合物后，优选在50～120℃左右干燥涂膜。
可通过对涂层用组合物的涂膜照射电离放射线进行涂层用组合物的固化。作为电离放射线，通常可以使用紫外线、电子束等。电离放射线的照射量依电离放射线的种类而异，例如紫外线的场合，优选光量100～500mJ/cm2左右，电子束的场合优选10～1000krad左右。
硬涂层12的厚度，当上述凸部10的最大高度为h(μm)时，优选为h+1(μm)以上。由此确保遮盖凸部10，可获得非常高的表面平滑性。硬涂层12的厚度的上限没有特殊限定，但为了防止所得的涂层薄膜1的变形优选为20μm以下，特优选为10μm以下。
本实施方式的硬涂层薄膜1，由于具有前述的涂层用组合物固化形成的硬涂层12，故即使是在保护膜11的表面上存在凸部10的场合，也可以遮盖其凸部10成为表面平滑性高的涂层薄膜。
此外，本实施方式的硬涂层薄膜1，虽然由保护膜11与硬涂层12构成，但如图2所示的硬涂层薄膜1′，也可以在保护膜11的硬涂层12的对置面上形成粘着剂层23，还可以在粘着剂层23上层合剥离片3。
作为构成粘着剂层23的粘合剂的种类，只要是可以构成光盘的粘合剂则没有特殊限定，例如可以是丙烯酸类、聚酯类、聚氨酯类、橡胶类、聚硅氧烷类等的粘着剂或粘接剂，也可以是电离放射线固化性、热固化性、热塑性等的粘合剂。
粘合剂层23的厚度通常是5～100μm，优选是10～30μm左右。
作为剥离片3可以使用以往公知的剥离片，例如可以使用将聚对苯二甲酸乙二醇酯或聚丙烯等的树脂薄膜用聚硅氧烷类剥离剂等进行剥离处理的剥离片。
[光盘]
本实施方式中的光盘2，如图3所示，由具有凹凸图形(凹坑或凹槽/槽脊)的光盘基板21和在光盘基板21的凹凸面上形成的信息记录层22、层合在信息记录层22上的粘着剂层23、层合在粘着剂层23上的保护膜11、及层合在保护膜11上的硬涂层12构成。
这样的光盘2，例如可采用以下的方法制造。
(1)在硬涂层薄膜1的背面(没有硬涂层12的面。以下相同)，或在光盘基板21的凹凸面上所形成的信息记录层22上，涂布电离放射线固化性粘合剂等的粘合剂，将硬涂层薄膜1与信息记录层22进行粘合。
(2)在硬涂层薄膜1的背面，或在光盘基板21的凹凸面上形成的信息记录层22上，粘贴由具有剥离片的丙烯酸类、聚酯类、聚氨酯类、橡胶类、聚硅氧烷类等的粘合剂构成的粘合剂层(粘合片)，剥掉剥离片利用露出的粘合剂层，将硬涂层薄膜1与信息记录层22进行粘合。
(3)剥掉硬涂层薄膜1′的剥离片3使粘着剂层23露出，将该粘着剂层23与在光盘基板21的凹凸面上形成的信息记录层22进行粘合。
本实施方式的光盘2，存在于保护膜11的硬涂层12侧的凸部10可利用硬涂层12遮盖住，由于成为光盘2(硬涂层12)的表面平滑性高的光盘，故没有上述凸部10引起的信号特性的劣化，成为错误率极低的光盘。
此外，本实施方式的光盘2是一面1层式的光盘，但也可以是一面2层式的光盘，其形态没有特殊限定。
[实施例]
以下，利用实施例等更具体地说明本发明，但本发明的范围不限定于这些实施例。
[实施例1]
把作为电离放射线固化性化合物的尿烷丙烯酸酯类预聚物(荒川化学工业公司制，商品名“Beamset 575CB”，固体成分浓度100重量％、含有光聚合引发剂)100重量份和二甲基硅氧烷类化合物(BYK.Chemie Japan公司制，商品名“BYK-300”，固体成分浓度52重量％)5重量份混合，混合物作为涂布剂，再加入作为溶剂的丙二醇单甲醚，制备涂布剂的浓度(a)15重量％、35重量％、60重量％的涂层用组合物。此外，涂布剂中的二甲基硅氧烷类化合物的含量是2.5重量％。使用表面张力计(协和表面科学公司制，商品名“CBVP-A”)测定制得的涂层用组合物的表面张力(以下相同)。把表面张力的测定结果示于表1。
使用棒涂布器把上述涂层用组合物涂布在存在无数存在最大高度4.1μm凸疵点的聚碳酸酯薄膜(帝人化成公司制，商品名“Pureac110-75”，厚度：75μm)的凸疵点存在的面上，使干燥后的涂层的厚度为5.5μm，在70℃干燥/分钟后，照射紫外线(照射条件：照度310mW/cm2，光量300mJ/cm2)，制得有硬涂层的硬涂层薄膜(涂层薄膜)。
[实施例2]
把作为电离放射线固化性化合物的尿烷丙烯酸酯类预聚物(荒川化学工业公司制，商品名“Beamset 575CB”，固体成分浓度100重量％、含有光聚合引发剂)25重量份与反应性粒子(JSR公司制，商品名“Desolite Z 7524”、固体成分浓度75重量％)100重量份、和二甲基硅氧烷类化合物(BYK.Chemie Japan公司制，商品名“BYK-300”、固体成分浓度52重量％)5重量份混合，把混合物作为涂布剂，再加入作为溶剂的丙二醇单甲醚，制得涂布剂的浓度(a)15重量％、35重量％、60重量％的涂层用组合物。此外，涂布剂中的二甲基硅氧烷类化合物的含量是2.5重量％。把测定所得涂层用组合物的表面张力的结果示于表1。
使用上述涂层用组合物，与实施例1同样地制得硬涂层薄膜(涂层薄膜)。
[实施例3]
除了把实施例1中的二甲基硅氧烷类化合物5重量份改成氟类化合物(大日本油墨化学工业公司制，商品名“MEGAFAC F-470”，固体成分浓度100重量％)1重量份以外，其他与实施例1同样地制备涂层用组合物。此外，涂布剂中的氟类化合物的含量是1.0重量％。把测定所得涂层用组合物的表面张力的结果示于表1。
使用上述涂层用组合物，与实施例1同样地制得硬涂层薄膜(涂层薄膜)。
[实施例4]
除了使实施例1中的二甲基硅氧烷类化合物的量为2.94重量份，并加入氟类化合物(大日本油墨化学工业公司制，商品名“MEGAFACF-470”、固体成分浓度100重量％)0.5重量份以外，其他与实施例1同样地制备涂层用组合物。此外，涂布剂中的二甲基硅氧烷类化合物的含量是1.5重量％、氟类化合物的含量是0.5重量％。把测定所得涂层用组合物的表面张力的结果示于表1。
使用上述涂层用组合物，与实施例1同样地制得硬涂层薄膜(涂层薄膜)。
[实施例5]
除了溶剂为异丁醇以外，其他与实施例1同样地制备涂层用组合物。把测定所得涂层用组合物的表面张力的结果示于表1。
使用上述涂层用组合物，与实施例1同样地制得硬涂层薄膜(涂层薄膜)。
[实施例6]
除了涂布实施例1制得的涂层用组合物使干燥后的涂层的厚度为4.5μm以外，其他与实施例1同样地制得硬涂层薄膜(涂层薄膜)。
[比较例1]
除了使二甲基硅氧烷类化合物的量为0.15重量份以外，其他与实施例1同样地制备涂层用组合物。此外，涂布剂中的二甲基硅氧烷类化合物的含量是0.078重量％。把测定所得涂层用组合物的表面张力的结果示于表1。
使用上述涂层用组合物，与实施例1同样地制得硬涂层薄膜(涂层薄膜)。
[比较例2]
除了使氟类化合物的量为0.05重量份以外，其他与实施例3同样地制备涂层用组合物。此外，涂布剂中的氟类化合物的含量是0.05重量％。把测定所得涂层用组合物的表面张力的结果示于表1。
使用上述涂层用组合物，与实施例1同样地制得硬涂层薄膜(涂层薄膜)。
[试验例]
统计存在于实施例或比较例制得的硬涂层薄膜表面上的疵点(聚碳酸酯薄膜的凸部引起的凸部)的数，换算成光盘每一面的面积(436cm2)统计疵点数。统计的疵点为直径100μm以上的疵点，使用共焦显微镜(Lasertech公司制，HD 1000)进行统计。把结果示于表1。
[表1]
                 b(达因/厘米) 疵点数(个)
   a：15重量％   a：35重量％   a：60重量％
实施例1    23.0   21.7     21.0     0
实施例2    23.2   21.6     19.6     0
实施例3    24.5   23.0     21.2     0
实施例4    23.1   21.8     21.2     0
实施例5    22.3   22.6     21.8     0
实施例6    23.0   21.7     21.0     20
比较例1    27.0   27.4     27.2     400
比较例2    25.8   24.0     22.8     300
由表1可以看出，实施例1～5制得的硬涂层薄膜完全没有直径100μm以上的疵点，实施例6制得的硬涂层薄膜上直径100μm以上的疵点极少。
本发明的涂层用组合物适合在所期望的基材、尤其是树脂薄膜上形成硬涂层使用，本发明的涂层薄膜适合作为光学制品、尤其是光记录介质的保护膜使用。

Claims (11)

1.涂层用组合物，是含有电离放射线固化性化合物为主要成分的涂布剂的涂层用组合物，其特征在于，在前述涂层用组合物中前述涂布剂的浓度a(重量％)在以下的条件下，
0＜a≤60前述涂布剂的浓度a与前述涂层用组合物的表面张力(达因/厘米)满足以下的关系，
b≤(-a/15)+26。
2.权利要求1所述的涂层用组合物，其特征在于，前述涂布剂含有选自二甲基硅氧烷类化合物与氟类化合物的至少1种化合物。
3.权利要求1所述的涂层用组合物，其特征在于，前述涂布剂含有0.5～50重量％的二甲基硅氧烷类化合物。
4.权利要求1所述的涂层用组合物，其特征在于，前述涂布剂含有0.1～20重量％的氟类化合物。
5.涂层薄膜，其特征在于，具有树脂薄膜、和在前述树脂薄膜的至少一个面上涂布权利要求1所述的涂层用组合物并使其固化形成的涂层。
6.权利要求5所述的涂层薄膜，其特征在于，在前述树脂薄膜的涂层形成面上存在凸部，前述凸部的最大高度为h(μm)时，前述涂层的厚度d(μm)满足以下的条件，
d≥h+1。
7.权利要求5所述的涂层薄膜，其特征在于，在前述树脂薄膜的涂层非形成面上设置粘着层。
8.权利要求5所述的涂层薄膜，其特征在于，前述树脂薄膜包含聚甲基丙烯酸甲酯树脂、聚碳酸酯树脂与环烯烃类树脂的任何一种树脂为主要成分的材料。
9.涂层薄膜制造方法，是把调节电离放射线固化性化合物为主要成分的涂布剂浓度得到的涂层用组合物涂布在树脂薄膜的表面上使其固化形成涂层的涂层薄膜的制造方法，其特征在于，制备前述涂层用组合物，当前述涂层用组合物中的前述涂布剂的浓度a(重量％)为以下的条件时，
0＜a≤60要使前述涂布剂的浓度a与前述涂层用组合物的表面张力b(达因/厘米)满足以下的关系，
b≤(-a/15)+26。
10.权利要求9所述的涂层薄膜制造方法，其特征在于，在前述树脂薄膜的涂层形成面上存在最大高度为h(μm)的凸部的场合，形成前述涂层要使前述涂层的厚度d(μm)满足以下的条件，
d≥h+1。
11.光记录介质，其特征在于，具有权利要求5所述的涂层薄膜或采用权利要求9所述的涂层薄膜制造方法制得的涂层薄膜。
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