JPH0762267A - 紫外線硬化型塗料組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 記録膜との密着性、耐湿性に優れ、長期にわ
たり安定した保護能力を有する硬化物となる紫外線硬化
型塗料組成物を得ることを目的とする。 【構成】 ３官能以上のアクリル若しくはメタクリルモ
ノマー、または、ウレタン、エポキシ若しくはポリエス
テル骨格を持つアクリル若しくはメタクリルオリゴマー
のうち一種類以上を合計量で１０〜２０重量部と、２官
能のアクリルまたはメタクリルモノマーのうち一種類以
上を合計量で５０〜８０重量部と、分子中に１個以上の
環構造を有する単官能のアクリルまたはメタクリルモノ
マーのうち一種類以上を合計量で５〜３０重量部と、光
重合開始剤とを含む紫外線硬化型塗料組成物である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、光信号を高速、高密度
に記録再生する光ディスク記録媒体用のオーバーコート
組成物に関し、更に詳しくは、紫外線等により硬化し、
記録媒体に対する接着性、耐湿性が良好な紫外線硬化型
塗料組成物に関する。

【０００２】また、本発明は、紫外線等により硬化し、
記録媒体に対する濡れ性と接着性が良く、なおかつ耐湿
性、耐擦傷性が良好で、なおかつ泡の発生が少ない紫外
線硬化型塗料組成物に関する。

【０００３】また、本発明は、紫外線等により硬化し、
記録媒体に対する濡れ性と接着性が良く、なおかつ耐湿
性、耐擦傷性が良好で、特に、光磁気ディスクにおけ
る、記録ヘッドの接触及び摺動に対して低摩擦力を長期
間にわたり維持することに優れた紫外線硬化型塗料組成
物に関する。

【０００４】

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】コンパ
クトディスク、光磁気ディスク等をはじめとする光ディ
スクは、ポリカーボネート等の透明性基盤上に蒸着また
はスパッタリングにより形成された無機薄膜層を有する
構造を持っている。

【０００５】この無機薄膜層は、大気中の酸素や水分の
影響を受け、その特性が劣化しやすいため、従来、ニト
ロセルロースを主成分とする熱可塑性樹脂や、アクリル
酸エステルを主成分とする紫外線硬化型樹脂がオーバー
コート剤として使用されてきたが、接着性、耐湿性が不
十分であり、耐環境試験において金属薄膜層に腐食が見
られることがあった。各種光ディスクの中でも特に、光
磁気ディスクは、書き込み、消去の可能なディスクであ
り情報記録用として、その耐環境性については特に優れ
た性能が要求されるが、粘度等の樹脂の使い勝手を含
め、いまだ十分満足するコート剤は得られていないのが
現状である。

【０００６】光磁気ディスクの記録層保護用コーティン
グ剤に要求される最重要特性は、いかなる環境下でも記
録情報を腐食から保護する耐腐食性である。光ディスク
用の記録媒体は、水分やヒートショックに弱く、保護コ
ート剤に対する特性として、耐腐食性以外に、耐湿性、
耐ヒートショック性、高い硬度等の優れた品質が要求さ
れている。また、紫外線硬化型保護膜を塗布するのに、
一般にスピンコートによる塗布が行われているが、生産
性を良くするうえからも低粘度の紫外線硬化型塗料組成
物が望まれている。

【０００７】従来使用されている光ディスク用保護膜
は、光磁気ディスクの保護コート剤やハードコート剤と
して使用するには、耐湿性、ヒートショック性が不十分
であり、加湿、加熱による加速試験での耐久性に問題が
あり、使用できないか、もしくは使用したとしても、十
分な環境変化に対する耐久性が付与できないために、記
録情報が失われたり消失したり、記録媒体としての機能
を消失させるものとなってしまう。また、特に生産性ア
ップを狙って低粘度に調整された保護コート剤で、十分
な耐腐食性を記録媒体に付与することを可能としたもの
が見いだされていない。

【０００８】一方、耐擦傷性に関しては、ガラス上での
鉛筆硬度が２Ｈ以上の硬化物であっても、ポリカーボネ
ート基盤上での鉛筆硬度はポリカーボネート基盤の硬度
に支配されていしまいＨとなってしまう。実用上重要な
のは、鉛筆硬度の値ではなく、実際に爪で引っかいた時
の耐擦傷性であり、これを満足する光ディスク用オーバ
ーコート剤が得られていないのが現状である。

【０００９】積算光量２００ｍＪ／ｃｍ² の比較的低エ
ネルギーで硬化させた紫外線硬化型塗料組成物の表面硬
度が、爪による引っかきに対して十分な耐擦傷性を持た
ない等の問題点を抱えている。今後、光ディスクの生産
性アップを考えた場合、紫外線硬化型塗料組成物の低い
粘度と、低エネルギーでの硬化が可能で、なおかつ十分
な保護膜の形成を可能とする紫外線硬化型塗料組成物が
要求される。

【００１０】また一方、光ディスク用オーバーコート剤
は、コンパクトディスクにおいても光磁気ディスクにお
いても、またミニディスクにおいても、直接コートする
面が蒸着もしくはスパッタアルミニウム面となるため、
紫外線硬化型塗料組成物のアルミニウム面に対する濡れ
性が悪く、ディスクの不良発生の原因にもなっている。
液のアルミ面に対する濡れ性を良くする為に、低表面張
力の紫外線硬化型塗料組成物が望まれる。

【００１１】蒸着アルミ面、スパッタアルミ面に対する
濡れ性を良くするために、変性シリコーン、フッ素系の
各添加剤を加えることにより、紫外線硬化型塗料組成物
の表面張力を低下させる試みが成されているが、表面張
力低下に効果のある変性シリコーンやフッ素系の添加剤
を加えた紫外線硬化型塗料組成物は、泡が発生しやす
く、且つ発生した泡が消えにくいという問題点を持つた
めに、これがディスク盤上のコート剤の塗布状態の不良
の発生原因となってしまう。今後、光ディスクの生産性
アップと高品質の安定化を考えた場合、紫外線硬化型塗
料組成物の低い粘度と、低エネルギーでの硬化が可能
で、低表面張力で泡の発生の極めて少ない、十分な保護
膜の形成を可能とする紫外線硬化型塗料組成物が要求さ
れる。

【００１２】また一方、小径の光磁気ディスク（ミニデ
ィスク）では、記録用ヘッドが直接ディスクに接触し、
さらに摺動する仕組みになっており、長期間の連続摺動
による、ディスク表面の傷発生が問題になる。そこで、
ミニディスクのような、記録用ヘッドが摺動するタイプ
の光磁気ディスクでは、従来、光硬化性樹脂組成物によ
る記録膜の保護コートを施した上に、潤滑剤を重ね塗り
する方法がとられていた。

【００１３】小径光磁気ディスクの記録ヘッドとの摺動
面に要求される再重要特性は、いかなる環境下での長時
間摺動によっても、ディスク表面に傷が付かない、ディ
スク表面の低摩擦性である。光ディスク用の記録媒体
は、水分やヒートショックに弱く、保護コート剤に対す
る特性として、耐腐食性以外に、耐湿性、耐ヒートショ
ック性、高い硬度等の優れた品質が要求されている。ま
た、紫外線硬化型保護膜を塗布するのに、一般にスピン
コートによる塗布が行われているが、生産性を良くする
うえからも低粘度の紫外線硬化型塗料組成物が望まれて
いる。

【００１４】従来使用されてきた光ディスク用保護膜だ
けでは、記録ヘッドとの摺動により、保護膜表面に傷が
付いてしまう、さらには、摩擦係数が大きいままでの長
期間連続摺動で、記録層にまで達し、記録を破壊する傷
となる可能性が大きい。また、特に生産性アップを狙っ
て低粘度に調整された保護コート剤で、十分な耐腐食性
を記録媒体に付与することを可能としたものが見いださ
れていない。

【００１５】以上の全ての問題点を、１液で解決可能と
するコーティング剤組成物が見いだされていない。

【００１６】本発明は、このような課題に鑑みてなされ
たものであり、記録膜との密着性、耐湿性に優れ、長期
にわたり安定した保護能力を有する硬化物となる紫外線
硬化型塗料組成物を得ることを目的とする。

【００１７】また、本発明は、さらに、硬化後の表面が
爪による引っかきに対しても優れた耐擦傷性を示す紫外
線硬化型塗料組成物を得ることを目的とする。

【００１８】また、本発明は、さらに、低粘度で、低表
面張力でありながら泡の発生が少なく、さらに泡が発生
した場合の消泡性に優れた紫外線硬化型塗料組成物を得
ることを目的とする。

【００１９】また、本発明は、さらに、硬化物表面の摩
擦係数が小さく、滑り性があり、摺動性に優れた紫外線
硬化型塗料組成物を得ることを目的とする。

【００２０】

【課題を解決するための手段】本発明の紫外線硬化型塗
料組成物は、２官能のアクリルまたはメタクリルモノマ
ーのうち一種類以上を合計量で７０〜９０重量部と、分
子中に１個以上の環構造を有する単官能のアクリルまた
はメタクリルモノマーのうち一種類以上を合計量で１０
〜３０重量部と、光重合開始剤とを含むものである。

【００２１】また、本発明の紫外線硬化型塗料組成物
は、３官能以上のアクリル若しくはメタクリルモノマ
ー、または、ウレタン、エポキシ若しくはポリエステル
骨格を持つアクリル若しくはメタクリルオリゴマーのう
ち一種類以上を合計量で１０〜２０重量部と、２官能の
アクリルまたはメタクリルモノマーのうち一種類以上を
合計量で５０〜８０重量部と、分子中に１個以上の環構
造を有する単官能のアクリルまたはメタクリルモノマー
のうち一種類以上を合計量で５〜３０重量部と、光重合
開始剤とを含むものである。

【００２２】また、本発明の紫外線硬化型塗料組成物
は、２官能のアクリルモノマーがトリシクロデカンジア
クリレートである上述構成の紫外線硬化型塗料組成物で
ある。

【００２３】また、本発明の紫外線硬化型塗料組成物
は、光重合開始剤がベンゾフェノン系重合開始剤、アセ
トフェノン系重合開始剤及びアミン系重合触媒を組み合
わせたものである上述構成の紫外線硬化型塗料組成物で
ある。

【００２４】また、本発明の紫外線硬化型塗料組成物
は、２官能のジメチルシロキサンを０．０１〜１．０重
量部含む上述構成の紫外線硬化型塗料組成物である。

【００２５】また、本発明の紫外線硬化型塗料組成物
は、２官能のジメチルシロキサンがアクリレート変性ジ
メチルシロキサンである上述構成の紫外線硬化型塗料組
成物である。

【００２６】また、本発明の紫外線硬化型塗料組成物
は、ポリエーテル変性されたシリコーンオイルのうち一
種類以上を合計量で０．１〜４重量部含む上述構成の紫
外線硬化型塗料組成物である。

【００２７】本発明においては、３官能以上のアクリル
またはメタクリルモノマー（Ａ）を使用するが、その具
体例としては、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）
アクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシ
ペンタ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエ
リスリトールペンタ（メタ）アクリレート、アルキル変
性ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレー
ト、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリ（メタ）
アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリト
ールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプ
ロパンテトラ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリ
ン変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ペンタ
エリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリ
スリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリメチロー
ルプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキサ
イド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレ
ート、プロピレンオキサイド変性トリメチロールプロパ
ントリ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性
トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ト
リス（メタ）アクリロキシエチルイソシアヌレート、カ
プロラクトン変性トリス（メタ）アクリロキシエチルイ
ソシアヌレート等を、また、ウレタン、エポキシあるい
はポリエステル骨格を持つアクリルまたはメタクリルオ
リゴマーとし、ウレタンオリゴマーとしては、市販され
ている材料で良く、根上工業社製、アートレジンＵＮ−
３３２０、ＵＮー３３２０ＨＢ、ＵＮ−３３２０ＨＧ、
ＳＨ−３８０Ｇ、新中村社製、ＮＫエステルＵ−４Ｈ
Ａ、サートマー社製、ケムリンク９５０１，９５０２、
ＵＣＢ社製、エベクリル２０４、２０５、２２０、２６
４、２６５、１２９０等を、エポキシオリゴマーとして
は、昭和高分子社製、リポキシＳＰ−４０１０、ＳＰ−
４０６０等を、ポリエステルアクリレートとしては、多
価アルコール例えばネオペンチルグリコール、エチレン
グリコール、プロピレングリコール、１、６ーヘキサン
ジオール、トリメチロールプロパン等と多塩基酸例えば
コハク酸、フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸等との
反応によって得られるものと、市販品として入手する事
ができる、東亜合成社製、アロニクスＭ−７１００、Ｍ
−８０３０、Ｍ−８０６０、Ｍ−８１００、ＵＣＢ社
製、エベクリルＯＴＡ４８０等を挙げることができる。

【００２８】これら化合物（Ａ）のうち特に好ましいも
のとしては、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリ
レート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレ
ート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレー
ト、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパント
リ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ト
リメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エピ
クロルヒドリン変性トリメチロールプロパントリ（メ
タ）アクリレート、東亜合成社製、アロニクスＭ−７１
００、Ｍ−８０３０、Ｍ−８０６０、Ｍ−８１００等が
挙げられる。これらの３官能モノマー（Ａ）は、１種ま
たは２種以上組み合わせて使用することができる。この
（Ａ）成分の量は、光ディスク用オーバーコート組成物
の好ましくは０〜４０重量％、特に好ましくは０〜３０
重量％が望ましい。

【００２９】２官能アクリルまたはメタクリルモノマー
のうちトリシクロデカンジアクリレートは、記録層の保
護能力に優れた本発明の組成物の中心成分である。本発
明で使用する化合物は、市販品として入手可能であり、
例えば、日本化薬社製のカヤラッドＲー６８４、等が挙
げられる。（Ｂ）成分の量は、光ディスク用オーバーコ
ート組成物の好ましくは４０〜９５重量％、特に好まし
くは、６０〜９０重量％である。

【００３０】環構造を有する単官能（メタ）アクリレー
ト（Ｃ）としては、耐水性を良くするために、なるべく
親水性の少ないものが良く、その中で環構造を有するも
のとしては、具体的には、ベンジル（メタ）アクリレー
ト、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペ
ンタニル（メタ）アクリレート、シクロアリファティッ
クネオペンチルグリコール（メタ）アクリレート、ジシ
クロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテ
ニロキシエチル（メタ）アクリレート、イソボニル（メ
タ）アクリレート、メトキシレーティッドシクロデカト
リエン（メタ）アクリレート、モルホリン（メタ）アク
リレート、フェノキシヒドロキシプロピル（メタ）アク
リレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フ
ェノキシ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変
性フタル酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド
変性フタール酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサ
イド,ープロピレンオキサイド変性フタル酸（メタ）ア
クリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレ
ート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル（メ
タ）アクリレート、Ｎービニルカプロラクタム、Ｎービ
ニルピロリドン等を挙げることができる。

【００３１】本発明の組成物は、光ディスクの無機（金
属）薄膜上に、スピンコーター等塗布装置を用いて、乾
燥塗膜が２〜２０μｍとなるように塗布される為、それ
らの塗布装置に適した粘度である必要がある。その粘度
は、好ましくは２５℃において２０〜５００ｍＰａ．
ｓ、さらに好ましくは、２０〜３００ｍＰａ．ｓ、特に
好ましくは２０〜２００ｍＰａ．ｓと、低粘度であるこ
とが、生産性の点からも望まれる。このようなことか
ら、化合物（Ｃ）としては、希釈効果が高く、かつ光デ
ィスクの記録層保護膜としての性能を維持できるもので
ある必要があり、これら化合物（Ｃ）のうち特に好まし
いものとしては、、ベンジル（メタ）アクリレート、シ
クロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニ
ル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）
アクリレート、ジシクロペンテニロキシエチル（メタ）
アクリレート、イソボニル（メタ）アクリレート、フェ
ノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシ（メ
タ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）ア
クリレート等を挙げることができる。これらの環構造を
有する単官能モノマー（Ｃ）は、１種または２種以上組
み合わせて使用することができる。（Ｃ）成分の量は、
光ディスク用オーバーコート組成物の好ましくは１〜４
０重量％、特に好ましくは３〜３０重量％である。

【００３２】光重合開始剤（Ｄ）としては、公知のどの
ような光重合開始剤でも使用することができるが、配合
後の貯蔵安定性の良いものが望ましい。このような光重
合開始剤（Ｄ）としては、例えば、２ーヒドロキシー２
ーメチルー１ーフェニルプロパンー１ーオン、１ーヒド
ロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２ーメチルー１
ー（４ー（メチルチオ）フェニル）ー２ーモルホリノプ
ロパンー１などのアセトフェノン系、ベンジルジメチル
ケタールなどのベンゾイン系、ベンゾフェノン、４ーフ
ェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノンなど
のベンゾフェノン系、イソプロピルチオキサントン、２
ー４ージエチルチオキサントンなどのチオキサントン
系、その他特殊なものとしては、メチルフェニルグリオ
キシレートなどが使用できる。特に好ましくは、２ーヒ
ドロキシー２ーメチルー１ーフェニルプロパンー１ーオ
ン、１ーヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２
ーメチルー１ー（４ー（メチルチオ）フェニル）ー２ー
モルホリノプロパンー１、ベンゾフェノン等が挙げられ
る。これら光重合開始剤（Ｄ）は、必要に応じて、４−
ジメチルアミノ安息香酸のごとき安息香酸系叉は、代３
級アミン系などの公知慣用の光重合促進剤の１種または
２種以上を任意の割合で混合して使用することができ
る。また、光重合開始剤のみの１種または２種以上の混
合で使用することができる。（Ｄ）成分の量は、光ディ
スク用オーバーコート組成物の好ましくは０〜２０重量
％、特に好ましくは１〜１０重量％である。

【００３３】光重合開始剤（Ｄ）のうち、アセトフェノ
ン系重合開始剤（Ｄ−１）としては、例えば、４ーフェ
ノキシジクロロアセトフェノン、４ーｔ−ブチルージク
ロロアセトフェノン、４ーｔーブチルートリクロロアセ
トフェノン、ジエトキシアセトフェノン、２ーヒドロキ
シー２ーメチルー１ーフェニルプロパンー１ーオン、１
ー（４ーイソプロピルフェニル）ー２ーヒドロキシー２
ーメチルプロパンー１ーオン、１ー（４ードデシルフェ
ニル）ー２ーヒドロキシー２ーメチルプロパンー１ーオ
ン、４ー（２ーヒドロキシエトキシ）ーフェニル（２ー
ヒドロキシー２ープロピル）ケトン、１ーヒドロキシシ
クロヘキシルフェニルケトン、２ーメチルー１ー（４ー
（メチルチオ）フェニル）ー２ーモルホリノプロパンー
１など、ベンゾフェノン系重合開始剤（Ｄ−２）として
は、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル
安息香酸メチル、４ーフェニルベンゾフェノン、ヒドロ
キシベンゾフェノン、４ーベンッゾイルー４’ーメチル
ジフェニルサルファイド、３，３’ージメチルー４ーメ
トキシベンゾフェノンなどが使用できる。特に好ましく
は、（Ｄ−１）成分としては、２ーヒドロキシー２ーメ
チルー１ーフェニルプロパンー１ーオン、１ーヒドロキ
シシクロヘキシルフェニルケトン、２ーメチルー１ー
（４ー（メチルチオ）フェニル）ー２ーモルホリノプロ
パンー１があげられる。（Ｄ−２）成分としては、ベン
ゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸
メチルが挙げられる。また、第３級アミン系の光重合促
進剤（Ｄ−３）としては、トリエタノールアミン、メチ
ルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、
４，４’ージメチルアミノベンゾフェノン、４，４’−
ジエチルアミノベンゾフェノン、２ージメチルアミノ安
息香酸エチル、４ージメチルアミノ安息香酸エチル、４
ージメチルアミノ安息香酸（ｎ−ブトキシ）エチル、４
ージメチルアミノ安息香酸イソアミル、４ージメチルア
ミノ安息香酸２ーエチルヘキシルなどが使用できる。特
に好ましくは、（Ｄ−３）成分としては、４ージメチル
アミノ安息香酸エチル、４ージメチルアミノ安息香酸
（ｎ−ブトキシ）エチル、４ージメチルアミノ安息香酸
イソアミル、４ージメチルアミノ安息香酸２ーエチルヘ
キシルなどが挙げられる。以上のように、光重合開始剤
の成分（Ｄ）としては、（Ｄ−１），（Ｄ−２），（Ｄ
−３）の３成分を組み合わせることにより使用する。各
成分の量は、光ディスク用オーバーコート組成物の好ま
しくは１〜２０重量％、特に好ましくは、各成分とも
に、１〜１０重量％である。

【００３４】密着性付与剤等の各種添加剤成分（Ｅ）と
しては、密着性付与剤以外に、シランカップリング剤、
重合禁止剤、レベリング剤等が、微量添加する事ができ
る。一般に光ディスクは、ＡＬ等の無機薄膜の上に、オ
ーバーコート組成物を塗布するため、密着性付与成分と
して、エチレンオキサイド変性コハク酸（メタ）アクリ
レート、エチレンオキサイド変性フタル酸（メタ）アク
リレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アク
リレート、エチレンオキサイド変性コハク酸ジ（メタ）
アクリレート、エチレンオキサイド変性フタル酸ジ（メ
タ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸ジ
（メタ）アクリレートの如きカルボキシル基、リン酸基
叉は水酸基を有する（メタ）アクリレート、ジ（メタ）
アクリレート等が挙げられる。このほかにもユニケミカ
ル（株）より市販されているホスマーＰＥ、ホスマーＰ
Ｐ、ホスマーＣＬ、ホスマーＭＨ、ホスマーＤＭなどを
用いることができる。

【００３５】シランカップリング剤としては、例えば、
γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ-
（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン等が挙
げられる。

【００３６】重合禁止剤としては、例えば、ハイドロキ
ノンモノメチルエーテル、t-ブチルカテコール、p-ベン
ゾキノン、2,5-t-ブチル-ハイドロキノン、フェノチア
ジン等が挙げられる。

【００３７】レベリング剤としては、例えば、モンサン
ト社製の モダブロー 、３Ｍ社製の ＦＣ−４３０
、日本ユニカ社製の Ｌ−７７ 、 Ｌ−７２０ 、
Ｌ−７２２ 、 Ｌ−５３１０ 、 Ｌ−７００１
、 Ｌ−７００２ 、信越化学工業社製の ＫＦ−３
５１ 、 ＫＦ−３５２ 、 ＫＦ−３５３ 、 ＫＦ
−３５４ 、 ＫＦ−３５５ 、松本油脂社製の ＳＭ
−１１ 、 ＳＭ−１２、ＳＭ−２０ 、 ＳＭ−２１
、 ＳＭ−２３ 、 ＳＭ−２４ 、 ＳＭ−２５
、 ＳＭ−２６ 、 ＳＭ−２７ 、 ＳＭ−２８
、 ＳＭ−３０ 、ＳＭ−３１ 、 ＳＭ３２ 、
ＳＭ−３５ 、 ＳＭ−３６ 、大日本インキ化学工業
社製のメガファック Ｆ−１４２Ｄ 、 Ｆ−１４４Ｄ
、 Ｆ−１５０ 、 Ｆ−１７１ 、 Ｆ−１７３
、 Ｆ−１７７ 、 Ｆ−１８３ などのシリコーン
系叉はフッ素系の界面活性剤が挙げられる。

【００３８】密着性付与剤等の各種添加剤成分（Ｅ）の
添加量は、接着力の点から最少量、硬度等の点から最大
量が決まってくる。各添加剤につき、０．０１重量％か
ら５重量％の範囲が好ましい。

【００３９】化合物（Ｆ）は、容易に市販品として入手
することができる。新中村化学工業社製ＳＡ−２００が
それである。成分（Ｆ）の添加量としては、紫外線硬化
型塗料組成物の、好ましくは０．００１重量％から１０
重量％の範囲が好ましい。特に好ましくは、０．０１重
量％から５重量％である。

【００４０】ポリエーテル変性されたシリコーンオイル
（Ｆ）としては、特にエチレンオキサイド（ＥＯ）変性
されたもの、プロピレンオキサイド（ＰＯ）変性された
もの、さらにエチレンオキサイドとプロピレンオキサイ
ドの両成分で（ＥＯ／ＰＯ）変性されたものをさしてい
る。純粋なジメチルシロキサンは、本来アクリル酸エス
テル系のモノマーで構成されたコーティング剤組成物に
対して、非相溶であり、添加した場合、完全に分離す
る。これを、可溶体にするために、エチレンオキサイド
（ＥＯ）と、プロピレンオキサイド（ＰＯ）の一方か、
もしくは両方を結合させた、いわゆるポリエーテル変性
シリコーンオイルとする。具体的には、市販品として入
手することができる。例えば、信越シリコーン社製『Ｋ
Ｆ３５１』、『ＫＦ３５２』、『ＫＦ３５３』、『ＫＦ
３５４』、『ＫＦ３５５』、『ＫＦ６１５』、『ＫＦ６
１８』、『ＫＦ６２５』、『ＫＦ９４５』、『ＫＦ９０
７』、ダウコーニング社製ペインタット『２９』、『３
１』、『３２』、松本油脂社製『ＳＭ−１１』、『ＳＭ
−１２』、『ＳＭ−２０』、『ＳＭ−２１』、『ＳＭ−
２３』、『ＳＭ−２４』、『ＳＭ−２５』、『ＳＭ−２
６』、『ＳＭ−２７』、『ＳＭ−２８』、『ＳＭ−３
０』、『ＳＭ−３１』、『ＳＭ−３２』、『ＳＭ−３
３』、『ＳＭ−３４』、『ＳＭ−３５』、『ＳＭ−３
６』がそれである。１種または２種以上を任意の割合で
混合して使用することができる。成分（Ｆ）の添加量と
しては、紫外線硬化型塗料組成物の、好ましくは０．０
０１重量％から１０重量％の範囲が好ましい。特に好ま
しくは、０．０１重量％から８重量％である。

【００４１】

【作用】本発明の紫外線硬化型塗料組成物は、特に光デ
ィスク記録膜の保護剤としてのオーバーコート剤、ま
た、光ディスクの傷つき防止用としてのハードコート剤
として有用である。特に、光ディスクの耐環境性につい
ては特に優れており、８０℃９５％の２０００時間環境
試験で、腐食による記録膜のピンホール発生が極めて少
ない。 さらに、本発明の紫外線硬化型塗料組成物を用
いた光ディスク用オーバーコートの形成は、光ディスク
の記録膜の上に紫外線硬化型塗料組成物を、例えばスピ
ンコート法等により塗布するため、低粘度化が要求され
るが、本発明による樹脂であれば、十分その要求を満足
できる。

【００４２】また、本発明の紫外線硬化型塗料組成物
は、さらに、爪などによる引っかきに対しても、優れた
耐擦傷性を示す。

【００４３】また、本発明の紫外線硬化型塗料組成物
は、紫外線硬化型塗料組成物の泡の発生が無いにもかか
わらず、液表面張力を低くすることが可能となっている
ため、塗布むら、はじき等の塗布性の不良発生がほぼ皆
無となる。また、硬化物表面の表面張力が低くできるの
で、爪などによる引っかきに対しての摩擦係数が低くな
るので、優れた耐擦傷性を示す。

【００４４】また、本発明の紫外線硬化型塗料組成物
は、硬化物表面の摩擦係数が極めて低くなり、優れた耐
擦傷性を示す摺動保護膜となる。また、液状コーティン
グ剤組成物の液表面張力を低くすることが可能となるた
め、塗布むら、はじき等の塗布性の不良発生がほぼ皆無
となる。

【００４５】

【実施例】以下、本発明紫外線硬化型塗料組成物の実施
例について説明しよう。なお、本実施例で用いる記号
は、以下の化合物を示すものである。 Ｍ８１００：ポリエステルアクリレートオリゴマー（東
亜合成社製アロニクス「Ｍ８１００」） Ｍ８０６０：ポリエステルアクリレートオリゴマー（東
亜合成社製のアロニクス「Ｍ−８０６０」） ＴＭＰＴＡ−３ＥＯ：エチレンオキサイド変性トリメチ
ロールプロパントリアクリレート（新中村化学工業社製
ＮＫエステル「Ａ−ＴＭＰＴ−３ＥＯ」） ＵＫ４１５３：変性トリメチロールプロパントリアクリ
レート（三菱レイヨン社製ダイヤビーム「ＵＫ４１５
３」） ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ＴＣＤＤＡ：トリシクロデカンジアクリレート（日本化
薬社製のカヤラッド「Ｒ−６８４」） ＣＨＡ：シクロヘキシルアクリレート ＴＨＦＡ：テトラヒドロフルフリルアクリレート ＰＨＥＡ：フェノキシエチルアクリレート ＩＢＡ：イソボニルアクリレート ＢＰ：ベンゾフェノン ＤＭＡＥＢ：４−ジメチルアミノ安息香酸エチル ＨＣＨＰＫ：１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケ
トン（メルク社製イルガキュア１８４） ＰＡＤＭＡ−ＥＯ：ＥＯ変性リン酸ジメタクリレート
（日本化薬社製カヤマー「ＰＭ−２」） ＳＭ−１１：ＥＯ／ＰＯ変性ジメチルシロキサン（松本
油脂社製有機変性シリコーン「ＳＭ−１１」） ＳＡ２００：アクリレート変性ジメチルシロキサン（新
中村化学工業社製ＳＡ−２００） メガファックＦ−１７７：フッ素系界面活性剤（大日本
インキ化学工業社製のメガファックＦ−１７７） ＳＭ２１：ＥＯ変性ジメチルシロキサン（松本油脂社製
ＳＭ−２１） ＳＭ２５：ＰＯ変性ジメチルシロキサン（松本油脂社製
ＳＭ−２５） Ｎｅｗｃａｌ １６０７：炭化水素系界面活性剤（ポリ
オキシエチレンアルキルエーテル）（日本乳化剤社製炭
化水素系界面活性剤Newcal−１６０７） ＨＳ２０４．５：炭化水素系界面活性剤（ポリオキシエ
チレンアルキルフェノールエーテル）（日本油脂社製炭
化水素系界面活性剤ＨＳ２０４．５） ＳＭ２８：ＥＯ／ＰＯ変性ジメチルシロキサン（松本油
脂社製ＳＭ−２８） ペインタット３１：ＥＯ／ＰＯ変性ジメチルシロキサン
（ダウコーニング社製ペインタット３１） ペインタット３２：ＥＯ／ＰＯ変性ジメチルシロキサン
（ダウコーニング社製ペインタット３２） ペインタット２９：ＥＯ変性ジメチルシロキサン（ダウ
コーニング社製ペインタット２９） ＫＦ６２５：ＰＯ変性ジメチルシロキサン（信越シリコ
ーン社製ＫＦ６２５） ＳＭ２２：アルコール変性ジメチルシロキサン（松本油
脂製薬社製ＳＭ−２２） ＳＭ２９：アルキルアリル変性ジメチルシロキサン（松
本油脂製薬社製ＳＭ−２９） ＫＦ−９６：ジメチルシロキサン（信越シリコーン社製
ＫＦ−９６）

【００４６】まず、本発明紫外線硬化型塗料組成物の実
施例１〜実施例１４について表１を参照しながら説明し
よう。

【００４７】−実施例１− 表１に示すように、撹拌機を備えた容器にポリエステル
アクリレートオリゴマー（Ｍ８０６０）（Ａ）２０部、
トリシクロデカンジアクリレート（ＴＣＤＤＡ）（Ｂ）
７５部、シクロヘキシルアクリレート（ＣＨＡ）（Ｃ）
５部、光重合開始剤としてベンゾフェノン（ＢＰ）
（Ｄ）６部、光重合開始助剤として４−ジメチルアミノ
安息香酸エチル（ＤＭＡＥＢ）（Ｄ）６部、ＥＯ変性リ
ン酸ジメタクリレート（ＰＡＤＭＡ−ＥＯ）（Ｅ）０．
５部、ＥＯ／ＰＯ変性ジメチルシロキサン（ＳＭ−１
１）（Ｅ）０．１部を混合し、本発明の光学材料用樹脂
組成物（光ディスク用材料）を得た。ポリカーボネート
基盤に記録膜を作成した光ディスクの記録膜の上に、上
記の光学材料用樹脂組成物をスピンコーターで塗布し、
メタルハライドランプ（ウシオ電機社製ＵＶＣ−２５３
３、積算光量２００ｍＪ／ｃｍ² ）により照射し該組成
物を硬化させた。保護コートされた光ディスクを８０℃
９５％ＲＨ２０００時間の状態に放置し、耐湿性試験を
行ったところ、２０００時間経過しても記録膜に異常が
無かった。また、ポリカーボネート上の硬度を調べる
と、鉛筆硬度でＨであった。ちなみに、ポリカーボネー
ト基盤自体の硬度を調べたところ、鉛筆硬度でＨであっ
た。粘度は１３５ｍＰａ．ｓであった。

【００４８】−実施例２〜実施例１４− 実施例１と同様にして、ポリエステルアクリレートオリ
ゴマー（Ｍ８１００）、ポリエステルアクリレートオリ
ゴマー（Ｍ８０６０）、エチレンオキサイド変性トリメ
チロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ−３Ｅ
Ｏ）、変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（ＵＫ４１５３）、ジペンタエリスリトールヘキサアク
リレート（ＤＰＨＡ）のうち、１〜２種類を合計量で１
０〜２０重量部を混合した。また、これらの成分を混合
しないケースについても検討した。トリシクロデカンジ
アクリレート（ＴＣＤＤＡ）（Ｂ）は６０〜９０重量部
混合した。シクロヘキシルアクリレート（ＣＨＡ）、テ
トラヒドロフルフリルアクリレート（ＴＨＦＡ）、フェ
ノキシエチルアクリレート（ＰＨＥＡ）は、何れか１種
類を５〜３０重量部混合した。光重合開始剤として、１
−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（ＨＣＨＰ
Ｋ）（Ｄ）を７〜１５重量部混合した。この他、ＥＯ変
性リン酸ジメタクリレート（ＰＡＤＭＡ−ＥＯ）を０．
１〜０．５重量部、ＥＯ／ＰＯ変性ジメチルシロキサン
（ＳＭ−１１）０．１重量部を混合した。これにより、
本発明の光学材料用樹脂組成物（光ディスク用材料）を
得た。これを用い実施例１と同様にして、オーバーコー
トされた光ディスクを得た。実施例１と同様の試験を行
い、耐湿性の試験の結果、２０００時間経過しても異常
が無かった。また、ポリカーボネート上の硬度を調べる
と、鉛筆硬度がＨであった。粘度は ２９〜９９ｍＰ
ａ．ｓであった。

【００４９】−比較例１− 実施例１と同様にして、トリシクロデカンジアクリレー
ト（ＴＣＤＤＡ）（Ｂ）１００重量部、光重合開始剤と
して１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（Ｈ
ＣＨＰＫ）を８重量部、ＥＯ変性リン酸ジメタクリレー
ト（ＰＡＤＭＡ−ＥＯ）（Ｅ）０．１重量部、ＥＯ／Ｐ
Ｏ変性ジメチルシロキサン（ＳＭ−１１）（Ｅ）０．１
重量部を混合し、本発明の光学材料用樹脂組成物（光デ
ィスク用材料）を得た。これを用い実施例１と同様にし
て、オーバーコートされた光ディスクを得た。実施例１
と同様の試験を行い、耐湿性の試験の結果、１００時間
経過した頃より記録膜に腐食による直径５０μｍ以上の
ピンホールが多数発生してきた。また、ポリカーボネー
ト上の硬度を調べると、鉛筆硬度でＨであった。粘度は
１３０ｍＰａ．ｓであった。これにより、２官能のアク
リルモノマー、すなわちトリシクロデカンジアクリレー
ト（ＴＣＤＤＡ）（Ｂ）のみをベースとしたときは、密
着性が悪くなるので、その結果として腐食し易くなるこ
とがわかる。

【００５０】ー比較例２ー 実施例１と同様にして、エチレンオキサイド変性トリメ
チロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ−３Ｅ
Ｏ）（Ａ）９０重量部、テトラヒドロフルフリルアクリ
レート（Ｃ）１０重量部、光重合開始剤として１−ヒド
ロキシシクロヘキシルフェニルケトン（ＨＣＨＰＫ）を
８重量部、ＥＯ変性リン酸ジメタクリレート（ＰＡＤＭ
Ａ−ＥＯ）（Ｅ）０．１重量部、ＥＯ／ＰＯ変性ジメチ
ルシロキサン（ＳＭ−１１）（Ｅ）０．１重量部を混合
し、本発明の光学材料用樹脂組成物（光ディスク用材
料）を得た。これを用い実施例１と同様にして、オーバ
ーコートされた光ディスクを得た。実施例１と同様の試
験を行い、耐湿性の試験の結果、１００時間経過した頃
より記録膜に腐食による直径１００μｍ以上のピンホー
ルが多数発生してきた。また、ポリカーボネート上の硬
度を調べると、鉛筆硬度でＨであった。粘度は３７ｍＰ
ａ．ｓである。これにより、２官能成分を入れないで、
３官能成分と単官能成分だけの混合物をベースとする
と、比較例１と同様に密着性が悪くなるので、その結果
として腐食し易くなることがわかる。

【００５１】以上の説明からも明らかなように、本発明
の紫外線硬化型塗料組成物は、２官能のアクリルモノマ
ー、すなわちトリシクロデカンジアクリレート（ＴＣＤ
ＤＡ）（Ｂ）と３官能以上の成分及び／または単官能の
成分を混合したものをベースにすることにより、記録膜
との密着性、耐湿性に非常に優れ、如何なる使用条件下
でも長期にわたり安定した保護能力が要求される光ディ
スクの記録層の保護を目的とするオーバーコート剤とし
て特に有用である。また、低粘度であるため、光ディス
クの品質アップと同時に生産性アップが可能となる。

【００５２】

【表１】

【００５３】次に、本発明紫外線硬化型塗料組成物の実
施例２１〜実施例３２について表２を参照しながら説明
しよう。

【００５４】ー実施例２１ー 撹拌機を備えた容器にトリシクロデカンジアクリレート
（ＴＣＤＤＡ）８０重量部、テトラヒドロフルフリルア
クリレート（ＴＨＦＡ）２０重量部、光重合開始剤とし
て、１ーヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（Ｈ
ＣＨＰＫ）５重量部、ベンゾフェノン（ＢＰ）２重量
部、４ージメチルアミノ安息香酸エチル（ＤＭＡＥＢ）
２重量部、添加剤としては、ＥＯ変性リン酸ジメタクリ
レート（ＰＡＤＭＡ−ＥＯ）０．１重量部、ＥＯ／ＰＯ
変性ジメチルシロキサン（ＳＭ−１１）０．１重量部を
混合し、本発明の光学材料用樹脂組成物（光ディスク用
材料）を得た。ポリカーボネート基盤に記録膜を作成し
た光ディスクの記録膜の上に、上記の光学材料用樹脂組
成物をスピンコーターで塗布し、メタルハライドランプ
（ウシオ電機社製ＵＶＣ−２５３３、積算光量２００ｍ
Ｊ／ｃｍ² ）により照射し該組成物を硬化させた。保護
コートされた光ディスクを８０℃９５％ＲＨ２０００時
間の状態に放置し、耐湿性試験を行ったところ、２００
０時間経過しても記録膜に異常が無かった。さらに、デ
ィスク基盤をカートリッジ内にはめ込んだ形で同様の耐
湿性試験を行ったところ２０００時間経過しても記録膜
に異常が無かった。また、ポリカーボネート上の硬度を
調べると、鉛筆硬度でＨであった。粘度は４０ｍＰａ．
ｓであった。磁気記録膜に対する密着性は十分あった。
爪による引っかき試験を行ったところ、傷は付かなかっ
た。

【００５５】ー実施例２２〜実施例３２ー 実施例２１と同様にして、エチレンオキサイド変性トリ
メチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ−３
ＥＯ）を１０〜２０重量部の範囲で混合した。また、こ
の成分を混合しないケースについても検討した。トリシ
クロデカンジアクリレート（ＴＣＤＤＡ）（Ｂ）は６０
〜８０重量部混合した。テトラヒドロフルフリルアクリ
レート（ＴＨＦＡ）は、１０〜２０重量部混合した。光
重合開始剤として、１ーヒドロキシシクロヘキシルフェ
ニルケトン（ＨＣＨＰＫ）２〜７重量部、ベンゾフェノ
ン（ＢＰ）２〜６重量部、４ージメチルアミノ安息香酸
エチル（ＤＭＡＥＢ）２〜６重量部を混合した。添加剤
としては、ＥＯ変性リン酸ジメタクリレート（ＰＡＤＭ
Ａ−ＥＯ）０．１重量部、ＥＯ／ＰＯ変性ジメチルシロ
キサン（ＳＭ−１１）０．１重量部を混合した。これに
より、本発明の光学材料用樹脂組成物（光ディスク用材
料）を得た。これを用い実施例２１と同様にして、オー
バーコートされた光ディスクを得た。実施例２１と同様
の試験を行い、耐湿性試験の結果、２０００時間経過し
ても記録膜に異常が無かった。更に、カートリッジ内に
はめ込んだ形での耐湿性試験の結果は、２０００時間経
過しても記録膜に異常が無かった。また、ポリカーボネ
ート上の硬度を調べると、鉛筆硬度でＨであった。粘度
は３５〜６３ｍＰａ．ｓであった。磁気記録膜に対する
密着性は十分あった。爪による引っかき試験を行ったと
ころ、傷は付かなかった。

【００５６】ー比較例２１〜比較例２７ー 実施例２１と同様にして、エチレンオキサイド変性トリ
メチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ−３
ＥＯ）を１０〜２０重量部の範囲で混合した。また、こ
の成分を混合しないケースについても検討した。トリシ
クロデカンジアクリレート（ＴＣＤＤＡ）（Ｂ）は６０
〜８０重量部混合した。テトラヒドロフルフリルアクリ
レート（ＴＨＦＡ）は、１０〜２０重量部混合した。光
重合開始剤として、１ーヒドロキシシクロヘキシルフェ
ニルケトン（ＨＣＨＰＫ）５〜８重量部、ベンゾフェノ
ン（ＢＰ）０〜２重量部、４ージメチルアミノ安息香酸
エチル（ＤＭＡＥＢ）０〜２重量部を混合した。添加剤
としては、ＥＯ変性リン酸ジメタクリレート（ＰＡＤＭ
Ａ−ＥＯ）０．１重量部、ＥＯ／ＰＯ変性ジメチルシロ
キサン（ＳＭ−１１）０．１重量部を混合した。

【００５７】これを用い実施例２１と同様にして、オー
バーコートされた光ディスクを得た。実施例２１と同様
の試験を行い、耐湿性試験の結果、実施例２１〜実施例
２７においては２０００時間経過しても記録膜に異常が
無かった。カートリッジ内にはめ込んだ形での耐湿性試
験の結果は、比較例２１〜比較例２７では２０００時間
経過して問題になるレベルではないが、腐食の顕著な増
加が認められた。また、ポリカーボネート上の硬度を調
べると、比較例２１〜比較例２７において鉛筆硬度でＨ
であった。 粘度は、３５〜６３ｍＰａ．ｓであった。
磁気記録膜に対する密着性は、比較例２１〜比較例２
５、及び比較例２７では十分あった。比較例２６の場合
は、傷の付きにくい硬い塗膜が得られるが、その副作用
として、密着性の低下が認められた。爪による引っかき
試験を行ったところ、比較例２１〜比較例２５、及び比
較例２７では傷が付いた。このことより、光重合開始剤
として、アセトフェノン系重合開始剤を単独で使用する
か、これとベンゾフェノン系重合開始剤、またはアミン
系重合触媒を組み合わせて使用したときには、カートリ
ッジ内耐腐食性、耐擦傷性などが劣ることがわかる。

【００５８】以上の説明からも明らかなように、本発明
の紫外線硬化型塗料組成物は、光重合開始剤として、ベ
ンゾフェノン系重合開始剤、アセトフェノン系重合開始
剤及びアミン系重合触媒を組み合わせて使用することに
より、記録膜との密着性、耐湿性が非常に優れるので、
如何なる使用条件下でも長期にわたり安定した保護能力
が要求される光ディスクの記録層の保護を目的とするオ
ーバーコート剤として特に有用である。また、低粘度で
あるため、光ディスクの品質アップと同時に生産性アッ
プが可能となる。また、硬化後の表面が爪による引っか
きに対して極めて優れた耐擦傷性を示す。

【００５９】

【表２】

【００６０】次に、本発明紫外線硬化型塗料組成物の実
施例４１〜実施例６３について表３を参照しながら説明
しよう。

【００６１】ー実施例４１ー 撹拌機を備えた容器にポリエステルアクリレートオリゴ
マー（Ｍ８０６０）２０重量部、トリシクロデカンジア
クリレート（ＴＣＤＤＡ）７５重量部、シクロヘキシル
アクリレート（ＣＨＡ）５重量部、光重合開始剤とし
て、ベンゾフェノン（ＢＰ）６重量部、４ージメチルア
ミノ安息香酸エチル（ＤＭＡＥＢ）６重量部、添加剤と
しては、ＥＯ変性リン酸ジメタクリレート（ＰＡＤＭＡ
−ＥＯ）０．５重量部、アクリレート変性ジメチルシロ
キサン（ＳＡ２００）０．１重量部を混合し、本発明の
光学材料用樹脂組成物（光ディスク用材料）を得た。ポ
リカーボネート基盤に記録膜を作成した光ディスクの記
録膜の上に、上記の光学材料用樹脂組成物をスピンコー
ターで塗布し、メタルハライドランプ（ウシオ電機社製
ＵＶＣ−２５３３、積算光量２００ｍＪ／ｃｍ² ）によ
り照射し該組成物を硬化させた。保護コートされた光デ
ィスクを８０℃９５％ＲＨ２０００時間の状態に放置
し、耐湿性試験を行ったところ、２０００時間経過して
も記録膜に異常が無かった。また、爪による引っかきテ
ストを行った結果、傷が付かなかった。粘度は１３５ｍ
Ｐａ．ｓであった。密着性は問題無かった。消泡性は問
題無かった。表面張力は３０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下で問題
無かった。

【００６２】ー実施例４２〜実施例６３ー 実施例４１と同様にしてポリエステルアクリレートオリ
ゴマー（Ｍ８１００）、ポリエステルアクリレートオリ
ゴマー（Ｍ８０６０）、エチレンオキサイド変性トリメ
チロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ−３Ｅ
Ｏ）、変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（ＵＫ４１５３）のうち、１〜２種類を合計量で１０〜
２０重量部を混合した。また、これらの成分を混合しな
いケースについても検討した。トリシクロデカンジアク
リレート（ＴＣＤＤＡ）（Ｂ）は６０〜８０重量部混合
した。シクロヘキシルアクリレート（ＣＨＡ）、テトラ
ヒドロフルフリルアクリレート（ＴＨＦＡ）、フェノキ
シエチルアクリレート（ＰＨＥＡ）は、何れか１種類を
１０〜３０重量部混合した。光重合開始剤として、１ー
ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（ＨＣＨＰ
Ｋ）０〜８重量部、ベンゾフェノン（ＢＰ）０〜１０重
量部、４ージメチルアミノ安息香酸エチル（ＤＭＡＥ
Ｂ）０〜１０重量部を混合した。この他、ＥＯ変性リン
酸ジメタクリレート（ＰＡＤＭＡ−ＥＯ）を０．１〜
０．５重量部、アクリレート変性ジメチルシロキサン
（ＳＡ２００）０．０１ないし０．５重量部を混合し
た。これにより、本発明の光学材料用樹脂組成物（光デ
ィスク用材料）を得た。これを用い実施例４１と同様に
して、オーバーコートされた光ディスクを得た。実施例
４１と同様の試験を行い、全てについて問題無かった。
粘度は３５〜１４０ｍＰａ．ｓであった。

【００６３】ー比較例４１〜比較例４６ー 実施例４１と同様にしてエチレンオキサイド変性トリメ
チロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ−３Ｅ
Ｏ）１０重量部を混合した。また、これらの成分を混合
しないケースについても検討した。トリシクロデカンジ
アクリレート（ＴＣＤＤＡ）（Ｂ）は７０重量部混合し
た。テトラヒドロフルフリルアクリレート（ＴＨＦＡ）
は０〜１０重量部、フェノキシエチルアクリレート（Ｐ
ＨＥＡ）は２０重量部混合した。光重合開始剤として、
１ーヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（ＨＣＨ
ＰＫ）８重量部を混合した。この他、ＥＯ変性リン酸ジ
メタクリレート（ＰＡＤＭＡ−ＥＯ）を０．１重量部を
混合した。また、ＥＯ／ＰＯ変性ジメチルシロキサン
（ＳＭ−１１）、フッ素系界面活性剤（メガファックＦ
−１７７）、ＥＯ変性ジメチルシロキサン（ＳＭ２
１）、ＰＯ変性ジメチルシロキサン（ＳＭ２５）、炭化
水素系界面活性剤（ポリオキシエチレンアルキルエーテ
ル）（Ｎｅｗｃａｌ １６０７）、または炭化水素系界
面活性剤（ポリオキシエチレンアルキルフェノールエー
テル）（ＨＳ２０４．５）を０．１重量部混合した。
これにより、光学材料用樹脂組成物（光ディスク用材
料）を得た。これを用い実施例４１と同様にして、オー
バーコートされた光ディスクを得た。実施例４１と同様
の試験を行った。粘度は３７ｍＰａ．ｓであった。消泡
性については、フッ素系界面活性剤、ＥＯ変性ジメチル
シロキサン、またはＰＯ変性ジメチルシロキサンを使用
した場合、すなわち比較例４１〜比較例４４ではシェイ
キングで立泡された泡が２０分間の静置で消えなかっ
た。また、炭化水素系界面活性剤を使用した場合、すな
わち比較例４５及び比較例４６では表面張力の低下には
効果が無く、界面活性剤が入ってないブランクとほぼ同
じ値となった。

【００６４】以上の説明からも明らかなように、本発明
の紫外線硬化型塗料組成物は、アクリレート変性ジメチ
ルシロキサンを使用することにより、低粘度で、低表面
張力でありながら泡の発生が極めて少なく、さらに泡が
発生した場合の消泡性が極めて優れる。また、光ディス
ク用材料を硬化して得られる硬化物は、記録膜との密着
性、耐湿性が非常に優れるので、如何なる使用条件下で
も長期にわたり安定した保護能力が要求される光ディス
クの記録層の保護を目的とするオーバーコート剤として
特に有用である。低粘度であることで、光ディスクの品
質アップと同時に生産性アップが可能となる。また、硬
化後の表面が爪による引っかきに対して極めて優れた耐
擦傷性を示す。

【００６５】

【表３】

【００６６】次に、本発明紫外線硬化型塗料組成物の実
施例７１〜実施例１０２について表４を参照しながら説
明しよう。

【００６７】ー実施例７１ー 撹拌機を備えた容器にポリエステルアクリレートオリゴ
マー（Ｍ８０６０）２０重量部、トリシクロデカンジア
クリレート（ＴＣＤＤＡ）７５重量部、シクロヘキシル
アクリレート（ＣＨＡ）５重量部、光重合開始剤とし
て、ベンゾフェノン（ＢＰ）６重量部、４ージメチルア
ミノ安息香酸エチル（ＤＭＡＥＢ）６重量部、添加剤と
しては、ＥＯ変性リン酸ジメタクリレート（ＰＡＤＭＡ
−ＥＯ）０．５重量部、ＥＯ／ＰＯ変性ジメチルシロキ
サン（ＳＭ−１１）０．３重量部を混合し、本発明の光
学材料用樹脂組成物（光ディスク用材料）を得た。液の
相溶性は問題無い。ポリカーボネート基盤に記録膜を作
成した光ディスクの記録膜の上に、上記の光学材料用コ
ーティング剤組成物をスピンコーターで塗布し、メタル
ハライドランプ（ウシオ電機社製ＵＶＣ−２５３３、積
算光量２００ｍＪ／ｃｍ² ）により照射し該組成物を硬
化させた。保護コートされた光ディスクを８０℃９５％
ＲＨ２０００時間の状態に放置し、耐湿性試験を行った
ところ、２０００時間経過しても記録膜に異常が無かっ
た。また、爪による引っかきテストを行った結果、傷が
付かなかった。粘度は１３５ｍＰａ．ｓであった。密着
性は問題無かった。摩擦係数は０．０７で問題無い。硬
化表面状態は、フラットで問題無かった。 ー実施例７２〜実施例１０２ー 実施例７１と同様にして、ポリエステルアクリレートオ
リゴマー（Ｍ８１００）、ポリエステルアクリレートオ
リゴマー（Ｍ８０６０）、エチレンオキサイド変性トリ
メチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ−３
ＥＯ）、変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（ＵＫ４１５３）のうち、１〜２種類を合計量で１０〜
２０重量部を混合した。トリシクロデカンジアクリレー
ト（ＴＣＤＤＡ）（Ｂ）は６０〜８０重量部混合した。
テトラヒドロフルフリルアクリレート（ＴＨＦＡ）は、
１０〜２０重量部混合した。光重合開始剤として、１ー
ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（ＨＣＨＰ
Ｋ）５重量部、ベンゾフェノン（ＢＰ）２重量部、４ー
ジメチルアミノ安息香酸エチル（ＤＭＡＥＢ）２重量部
を混合した。この他、ＥＯ変性リン酸ジメタクリレート
（ＰＡＤＭＡ−ＥＯ）を０．１重量部を混合した。ま
た、ＥＯ／ＰＯ変性ジメチルシロキサン（ＳＭ−１
１）、ＥＯ／ＰＯ変性ジメチルシロキサン（ＳＭ２
８）、ＥＯ／ＰＯ変性ジメチルシロキサン（ペインタッ
ト３１）、ＥＯ／ＰＯ変性ジメチルシロキサン（ペイン
タット３２）、ＥＯ変性ジメチルシロキサン（ペインタ
ット２９）、ＰＯ変性ジメチルシロキサン（ＫＦ６２
５）のうち１種類か２種類を合計量で０．１〜６重量部
混合した。これにより、本発明の光学材料用コーティン
グ剤組成物（光ディスク用材料）を得た。これを用い実
施例７１と同様にして、オーバーコートされた光ディス
クを得た。実施例７１と同様の試験を行い、全てについ
て問題無かった。粘度は３５〜１００ｍＰａ．ｓであっ
た。摩擦係数は０．０４〜０．０８で問題無かった。

【００６８】ー比較例７１〜比較例７４ー 実施例７１と同様にして、ポリエステルアクリレートオ
リゴマー（Ｍ８１００）１２重量部を混合した。 変性
トリメチロールプロパントリアクリレート（ＵＫ４１５
３）を８重量部混合した。トリシクロデカンジアクリレ
ート（ＴＣＤＤＡ）（Ｂ）は７０重量部混合した。テト
ラヒドロフルフリルアクリレート（ＴＨＦＡ）は、１０
重量部混合した。光重合開始剤として、１ーヒドロキシ
シクロヘキシルフェニルケトン（ＨＣＨＰＫ）５重量
部、ベンゾフェノン（ＢＰ）２重量部、４ージメチルア
ミノ安息香酸エチル（ＤＭＡＥＢ）２重量部を混合し
た。この他、ＥＯ変性リン酸ジメタクリレート（ＰＡＤ
ＭＡ−ＥＯ）を０．１重量部を混合した。また、アルコ
ール変性ジメチルシロキサン（ＳＭ２２）、アルキルア
リル変性ジメチルシロキサン（ＳＭ２９）、またはジメ
チルシロキサン（ＫＦ−９６）を０．５重量部混合し
た。これらのものを混合しない場合についても検討し
た。これにより、光学材料用樹脂組成物（光ディスク用
材料）を得た。これを用い実施例７１と同様にして、オ
ーバーコートされた光ディスクを得た。実施例７１と同
様の試験を行った。シロキサンを混合していない場合、
すなわち比較例７１においては、相溶性は良好である
が、摩擦係数が０．７と大きくなり、ディスク表面の摩
擦が大きすぎ、摺動保護膜としての使用に耐えない。ま
た、アルコール変性ジメチルシロキサン、またはジメチ
ルシロキサンを混合した場合、すなわち比較例７２〜比
較例７４では、液が白濁し、相溶性が悪かった。この結
果、硬化後の表面は凸凹になり光ディスク用保護膜とし
ては外観不良となった。

【００６９】以上の説明からも明らかなように、本発明
の紫外線硬化型塗料組成物は、ポリエーテル変性された
シリコーンオイルを使用することにより、低粘度で生産
性が良くなる。また、記録層の保護能力に優れととも
に、硬化物表面の摩擦係数が小さく、滑り性があり、摺
動性に優れる。以上の特性を１液の１層コートで可能に
している。よって、記録用ヘッドとの接触が避けられな
い光磁気ディスク、記録用ブランクミニディスクなど
の、記録層の摺動保護膜として有用である。

【００７０】なお、以上の実施例においては、光重合開
始剤を用いなくても電子線を照射することにより架橋反
応を引き起こすことができる。

【００７１】

【表４】

【００７２】次に、実施例及び比較例の評価試験方法と
評価基準を説明する。

【００７３】粘度は、コーンプレート型粘度計（ハーケ
社製）を用いて、２５℃における粘度を測定した。コー
ンの種類はＰＫ５，１°とした。

【００７４】鉛筆硬度は、光ディスク基盤に光硬化性樹
脂組成物をスピンコート（ミカサ株式会社製、１Ｈ−Ｄ
Ｘ ）により、厚さ約１０μｍになるように塗布し（膜
厚は、スピンコーターの回転数と振り切り時間で、粘度
により調整した）、積算光量２００ｍＪ／ｃｍ² の紫外
線を照射し硬化させ、ＪＩＳ Ｋ５４００に基づいて表
面硬度を測定した。

【００７５】密着性は、（１）アルミ蒸着面に対するも
のと、（２）ポリカーボネート面に対するものと２項目
について測定した。

【００７６】（１）アルミニウムが蒸着された直径１２
ｃｍ、厚み１．２ｍｍのポリカーボネート基盤に、実施
例、比較例、の紫外線硬化型樹脂組成物をスピンコーテ
ィング（ミカサ株式会社製、１Ｈ−ＤＸ ）し、積算光
量２００ｍＪ／ｃｍ² の紫外線を照射し硬化させ、厚み
約１０μｍ程度の保護膜を形成した。膜厚は、スピンコ
ーターの回転数と振り切り時間で、粘度により調整し
た。上記のように作成したサンプルをカッターナイフで
アルミニウム蒸着膜に達するように、１ｃｍ間隔の平行
な２本の切れ目を硬化膜の上からいれ、切れ目に沿って
セロテープを貼り、テープの一端を塗膜面に対し直角に
保ち、瞬間的に引き剥す。その結果、硬化膜にアルミニ
ウム蒸着膜が付着した状態で剥離するときは、密着力を
『○ 、アルミニウム蒸着膜がすべてポリカーボネート
基盤側へ残った時は『× とした。

【００７７】（２）ポリカーボネート基盤に、（１）に
記したように樹脂組成物をスピンコートし、樹脂硬化膜
の上からカッターナイフでポリカーボネート基盤に達す
るように１ｍｍ×１ｍｍの１００個の碁盤目を入れ、そ
の上からセロテープを貼りテープの一端を塗膜面に対し
直角に保ち、瞬間的に引き剥す。その結果ポリカーボネ
ート基盤上に残った樹脂硬化膜の碁盤目の数が１００個
全ての場合を、密着力が『○ 、ポリカーボネート基盤
からの樹脂硬化膜の剥がれが１個でも生じた場合を、密
着力が『×』とした。

【００７８】耐腐食性は、光磁気ディスク基盤に光硬化
性樹脂組成物をスピンコート（ミカサ株式会社製、１Ｈ
−ＤＸ ）により、厚さ約１０μｍになるように塗布し
（膜厚は、スピンコーターの回転数と振り切り時間で、
粘度により調整した）、積算光量２００ｍＪ／ｃｍ² の
紫外線を照射し硬化させ樹脂組成物で記録層が保護され
た光磁気ディスクをサンプルとし、８０℃９５％ＲＨの
オーブン中に配置２０００時間のエージングを行い、磁
気記録多層膜に発生する腐食による孔（ピンホール）の
増加量と径を測定した。１種の樹脂組成物に対し２０個
のサンプルを用意した。５０μｍ以上の腐食が１個以上
発生している場合、クラックが発生している場合、基盤
１枚あたりに１０〜４０μｍの腐食が２個以上コンスタ
ントに発生している場合、１０μｍ以上の腐食が発生し
ない基盤が１枚も無い場合、その樹脂組成物の耐腐食性
は『×』とした。それ以外の１０μｍ以上の腐食が全く
発生しない場合、２０個のうち数枚に腐食が発生したと
しても、その腐食の径が５０μｍ未満の場合、初期の状
態から全く変化の無い場合を耐腐食性が『○』とした。
『△』は、『○』、『×』の中間的結果にたいして付け
る。

【００７９】紫外線照射条件 紫外線照射装置 ＵＶＣ−２５３３：ウシオ電機 メタルハライドナンプ １灯 入力 １２０Ｗ／ｃｍ ランプ高さ １０ｃｍ 光量計：ＵＩＴ−１０２（ウシオ電機）、受光センサ
ー：ＵＶＤ−３６５ＰＤ

【００８０】紫外線硬化樹脂を塗布するには、通常スピ
ンコーターで基盤の記録層上面に塗工される。すなわ
ち、基盤をスピンコーターの回転軸に固定し、基盤を低
速で回転させながら、基盤の 内周重量部分に、もしく
は全面に紫外線硬化型樹脂をドーナッツ状に供給する。
紫外線樹脂組成物を供給した後、基盤を瞬時に高速回転
させることによりディスク上に均一に塗布する。

【００８１】カートリッジ組み込み耐腐食性は、前述の
耐腐食性の評価と同様とした。

【００８２】耐擦傷性は、爪による引っかきを５回行
い、５回全て傷が付く場合『×』、全く付かない場合
『○』、付いたり付かなかったりしたとき『△』とし
た。爪は、基盤に対して垂直に１００〜１５０ｇの加重
で押し当て、静止した状態から瞬時に基盤と平行の方向
にスライドさせる。

【００８３】消泡性は、１００ｃｃの透明ガラス瓶に樹
脂組成物を３０ｇ入れ、ペイントシェーカー（Ｒｅｄ
Ｄｅｖｉｌ社製モデル Ｎｏｓ．５４００）にて５分間
シェイキングを行た後に静置し、泡の消えるまでの時間
を測定した。１０分以内に完全に消泡した場合『○』、
２０分以上泡が消えない場合『×』、それ以外を『△』
とした。

【００８４】表面張力は、自動表面張力計（協和界面科
学社製、ＣＢＶＰ−Ａ３型）を用いて、２５℃の値を求
めた。表面張力が３０ｄａｙｎｅ／ｃｍ以下であれば、
蒸着アルミ面、スパッタアルミ面に対して安定した濡れ
性を示すので、この場合を『○』、３０ｄａｙｎｅ／ｃ
ｍより大きな値を示すとき、濡れ性が悪くなる傾向にあ
る。この場合を『×』とした。ちなみに、界面活性剤を
添加していない樹脂組成物の表面張力は３５〜４５ｄａ
ｙｎｅ／ｃｍの範囲の値を示し、この場合、光ディスク
の記録膜上のアルミニウムの状態によっては、例えば、
蒸着されてから樹脂がコーティングされるまでの間にア
ルミニウムが酸化することにより、アルミ表面の表面張
力が低下し、樹脂組成物の表面張力に近くなることで、
濡れ性が悪くなり、最悪の場合、完全にはじいてしま
う。

【００８５】液相溶性は、全成分を混合し、３時間撹拌
した後、３０分静置した時点での、液の状態を観察し、
完全な均一な透明液体の場合を『○』、白濁、沈澱、淀
み、浮遊物、相分離が観察された場合を『×』とした。

【００８６】密着性は、耐腐食性の加速試験と同じ条件
８０℃８５％ＲＨ下で２０００時間のエージングで剥離
しない場合を『○』、部分的にでも剥離があった場合
『×』とした。光磁気記録膜、誘電体膜、アルミ膜がス
パッタリング蒸着されている、３．５インチの光磁気デ
ィスク基盤に、実施例、比較例、の紫外線硬化型樹脂組
成物をスピンコーティング（ミカサ株式会社製、１Ｈ−
ＤＸ ）し、積算光量２００ｍＪ／ｃｍ² の紫外線を照
射し硬化させ、厚み約１０μｍ程度の保護膜を形成し
た。膜厚は、スピンコーターの回転数と振り切り時間
で、粘度により調整した。

【００８７】硬化物表面性は、ディスクにスピンコート
し、紫外線で硬化した時、硬化物表面が、フラットな平
面となって、うろこ状の凹凸、すじ等が見られない場合
を『○』、硬化物表面に、うろこ状の凹凸、すじ状、斑
状、不透明（下地のアルミが見えない状態）となった場
合を『×』とした。

【００８８】摩擦係数は、新東科学社製の「ＨＥＩＤＯ
Ｎ １４Ｄ」表面性測定機で、測定した。サンプルは、
１５０μｍポリエチレンテレフタレートフィルム、５×
１５センチメートル角に、コイルバー＃１２で、各コー
ティング剤組成物を塗布し、紫外線（２００ｍＪ／ｃｍ
² ）で硬化させた。ヘッドの材質はサファイアでＲ１
φ、荷重１００ｇ、摺動スピードは５００ｍｍ／ｍｉｎ
である。ここで、摩擦係数は０．１以下であることが望
ましい。

【００８９】なお、本発明は上述の実施例に限らず本発
明の要旨を逸脱することなくその他種々の構成を採り得
ることはもちろんである。

【００９０】

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明の紫外線硬化型塗料組成物によれば、記録膜との密着
性、耐湿性が非常に優れるので、如何なる使用条件下で
も長期にわたり安定した保護能力が要求される光ディス
クの記録層の保護を目的とするオーバーコート剤として
特に有用である。また、低粘度であるため、光ディスク
の品質アップと同時に生産性アップが可能となる。

【００９１】また、本発明の紫外線硬化型塗料組成物に
よれば、さらに、硬化後の表面が爪による引っかきに対
して極めて優れた耐擦傷性を示す。

【００９２】また、本発明の紫外線硬化型塗料組成物に
よれば、低粘度で、低表面張力でありながら泡の発生が
極めて少なく、さらに泡が発生した場合の消泡性が極め
て優れる。また、光ディスク用材料を硬化して得られる
硬化物は、記録膜との密着性、耐湿性が非常に優れるの
で、如何なる使用条件下でも長期にわたり安定した保護
能力が要求される光ディスクの記録層の保護を目的とす
るオーバーコート剤として特に有用である。低粘度であ
ることで、光ディスクの品質アップと同時に生産性アッ
プが可能となる。また、硬化後の表面が爪による引っか
きに対して極めて優れた耐擦傷性を示す。

【００９３】また、本発明の紫外線硬化型塗料組成物に
よれば、低粘度で生産性が良い。記録層の保護能力に優
れる。硬化物表面の摩擦係数が小さく、滑り性があり、
摺動性に優れる。以上の特性を１液の１層コートで可能
にしている。よって、記録用ヘッドとの接触が避けられ
ない光磁気ディスク、記録用ブランクミニディスクなど
の、記録層の摺動保護膜として有用である。

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ２官能のアクリルまたはメタクリルモノ
   マーのうち一種類以上を合計量で７０〜９０重量部と、 分子中に１個以上の環構造を有する単官能のアクリルま
   たはメタクリルモノマーのうち一種類以上を合計量で１
   ０〜３０重量部と、 光重合開始剤とを含むことを特徴とする紫外線硬化型塗
   料組成物。
2. 【請求項２】 ３官能以上のアクリル若しくはメタクリ
   ルモノマー、または、ウレタン、エポキシ若しくはポリ
   エステル骨格を持つアクリル若しくはメタクリルオリゴ
   マーのうち一種類以上を合計量で１０〜２０重量部と、 ２官能のアクリルまたはメタクリルモノマーのうち一種
   類以上を合計量で５０〜８０重量部と、 分子中に１個以上の環構造を有する単官能のアクリルま
   たはメタクリルモノマーのうち一種類以上を合計量で５
   〜３０重量部と、 光重合開始剤とを含むことを特徴とする紫外線硬化型塗
   料組成物。
3. 【請求項３】 ２官能のアクリルモノマーは、トリシク
   ロデカンジアクリレートであることを特徴とする請求項
   １または請求項２記載の紫外線硬化型塗料組成物。
4. 【請求項４】 光重合開始剤は、ベンゾフェノン系重合
   開始剤、アセトフェノン系重合開始剤及びアミン系重合
   触媒を組み合わせたものであることを特徴とする請求項
   １、請求項２、または請求項３記載の紫外線硬化型塗料
   組成物。
5. 【請求項５】 ２官能のジメチルシロキサンを０．０１
   〜１．０重量部含むことを特徴とする請求項１、請求項
   ２、または請求項３記載の紫外線硬化型塗料組成物。
6. 【請求項６】 ２官能のジメチルシロキサンは、アクリ
   レート変性ジメチルシロキサンであることを特徴とする
   請求項５記載の紫外線硬化型塗料組成物。
7. 【請求項７】 ポリエーテル変性されたシリコーンオイ
   ルのうち一種類以上を合計量で０．１〜４重量部含むこ
   とを特徴とする請求項１、請求項２、または請求項３記
   載の紫外線硬化型塗料組成物。