JPH11339253A - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体およびその製造方法Info
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- JPH11339253A JPH11339253A JP10140002A JP14000298A JPH11339253A JP H11339253 A JPH11339253 A JP H11339253A JP 10140002 A JP10140002 A JP 10140002A JP 14000298 A JP14000298 A JP 14000298A JP H11339253 A JPH11339253 A JP H11339253A
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- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- Lubricants (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 フロッピーディスク等の磁気記録媒体におい
て、潤滑剤のライナへの移行を防止する。 【解決手段】 非磁性下層２や磁気記録層３に、分子量
７０以上の側鎖基を少なくとも一つ有する脂肪酸エステ
ル化合物を潤滑剤として添加する。
て、潤滑剤のライナへの移行を防止する。 【解決手段】 非磁性下層２や磁気記録層３に、分子量
７０以上の側鎖基を少なくとも一つ有する脂肪酸エステ
ル化合物を潤滑剤として添加する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は磁気記録媒体および
その製造方法に関し、さらに詳しくは、走行耐久性に優
れた重層塗布方式の磁気記録媒体およびその製造方法に
関する。
その製造方法に関し、さらに詳しくは、走行耐久性に優
れた重層塗布方式の磁気記録媒体およびその製造方法に
関する。
【０００２】
【従来の技術】コンピュータ装置、ビデオ装置あるいは
オーディオ装置等に付随する磁気記録装置は、近年ます
ます小型軽量化、長時間化あるいはディジタル記録化等
が進展し、これら高性能磁気記録装置に用いられる磁気
記録媒体に対しても高密度記録化が強く要望されるよう
になっている。この磁気記録媒体としては、従来より塗
布型のものが主として用いられている。塗布型磁気記録
媒体は、磁性粉末、有機バインダおよび各種添加剤等を
有機溶媒に分散、混練して調整される磁性塗料を、非磁
性支持体上に塗布、乾燥、硬化することにより形成され
る磁気記録層を用いたものである。
オーディオ装置等に付随する磁気記録装置は、近年ます
ます小型軽量化、長時間化あるいはディジタル記録化等
が進展し、これら高性能磁気記録装置に用いられる磁気
記録媒体に対しても高密度記録化が強く要望されるよう
になっている。この磁気記録媒体としては、従来より塗
布型のものが主として用いられている。塗布型磁気記録
媒体は、磁性粉末、有機バインダおよび各種添加剤等を
有機溶媒に分散、混練して調整される磁性塗料を、非磁
性支持体上に塗布、乾燥、硬化することにより形成され
る磁気記録層を用いたものである。
【０００３】塗布型磁気記録媒体においても、高密度記
録化、短波長記録化の要望が高まっており、例えば３．
５”クラスのフロッピーディスク（ＦＤ）の分野におい
ては１００ＭＢ程度の大容量ＦＤが実用に供され、さら
にこれを超える大容量のＦＤの開発も進んでいる。
録化、短波長記録化の要望が高まっており、例えば３．
５”クラスのフロッピーディスク（ＦＤ）の分野におい
ては１００ＭＢ程度の大容量ＦＤが実用に供され、さら
にこれを超える大容量のＦＤの開発も進んでいる。
【０００４】高密度記録領域での磁気記録媒体の電磁変
換特性を改善する手法の一つとして、磁気記録層の薄膜
化が挙げられる。磁気記録層の薄膜化により、反磁界が
低減して記録時の自己減磁損失が減少する。また再生時
には位相ずれによる厚み損失が減少し、短波長領域での
電磁変換特性が改善される。ことにＦＤにおいては、磁
気記録層の薄膜化により、オーバーライト特性やピーク
シフト特性、ピーク半値幅特性においても優れた特性が
得られる。
換特性を改善する手法の一つとして、磁気記録層の薄膜
化が挙げられる。磁気記録層の薄膜化により、反磁界が
低減して記録時の自己減磁損失が減少する。また再生時
には位相ずれによる厚み損失が減少し、短波長領域での
電磁変換特性が改善される。ことにＦＤにおいては、磁
気記録層の薄膜化により、オーバーライト特性やピーク
シフト特性、ピーク半値幅特性においても優れた特性が
得られる。
【０００５】しかし、磁気記録層の薄膜化にともない発
生する問題点の一つとして、磁気記録層表面の凹凸にに
よるスペーシングロスの増加がある。すなわち、磁気記
録層が薄膜化すると、下地の非磁性支持体表面の凹凸が
磁気記録層の表面性に忠実に反映される。したがって、
非磁性支持体の表面が粗であれば磁気記録層表面も粗の
状態となり、この結果、磁気記録媒体の電磁変換特性や
ドロップアウト特性の悪化を誘発する。
生する問題点の一つとして、磁気記録層表面の凹凸にに
よるスペーシングロスの増加がある。すなわち、磁気記
録層が薄膜化すると、下地の非磁性支持体表面の凹凸が
磁気記録層の表面性に忠実に反映される。したがって、
非磁性支持体の表面が粗であれば磁気記録層表面も粗の
状態となり、この結果、磁気記録媒体の電磁変換特性や
ドロップアウト特性の悪化を誘発する。
【０００６】さらに前述した大容量ＦＤにおいては、デ
ータ転送レートを向上するために高速回転が要求され
る。このためＦＤは磁気ヘッドとの摺動に対して過酷な
条件に曝され、磁気記録層の薄膜化もあわせて、磁気ヘ
ッドとの摺動に対しては負の要因となる。
ータ転送レートを向上するために高速回転が要求され
る。このためＦＤは磁気ヘッドとの摺動に対して過酷な
条件に曝され、磁気記録層の薄膜化もあわせて、磁気ヘ
ッドとの摺動に対しては負の要因となる。
【０００７】このように、電磁変換特性から要求される
磁気記録層の薄膜化を実現するためには、磁気記録媒体
の高度な表面設計、および高速摺動系に対する優れた耐
久性を併せて実現する必要がある。
磁気記録層の薄膜化を実現するためには、磁気記録媒体
の高度な表面設計、および高速摺動系に対する優れた耐
久性を併せて実現する必要がある。
【０００８】この要請に応えるため、塗布型の磁気記録
媒体においては、非磁性支持体と磁気記録層の間に、比
較的厚くまた表面性に優れた非磁性下層を介在させる重
層塗布方式が提案されている。重層塗布方式によれば、
非磁性下層の表面形状に追従することなく、磁気記録層
表面形状を自由に設計することができる。また非磁性下
層に種々の機能を付与することにより、磁気記録媒体の
耐久性を向上することも可能となる。すなわち、重層塗
布型の磁気記録媒体により、高密度記録と耐久性の要請
を両立することが可能となる。
媒体においては、非磁性支持体と磁気記録層の間に、比
較的厚くまた表面性に優れた非磁性下層を介在させる重
層塗布方式が提案されている。重層塗布方式によれば、
非磁性下層の表面形状に追従することなく、磁気記録層
表面形状を自由に設計することができる。また非磁性下
層に種々の機能を付与することにより、磁気記録媒体の
耐久性を向上することも可能となる。すなわち、重層塗
布型の磁気記録媒体により、高密度記録と耐久性の要請
を両立することが可能となる。
【０００９】重層塗布型の磁気記録媒体を製造するに
は、非磁性粉末および有機バインダ等を溶剤に分散して
調製した非磁性下層塗料を、非磁性支持体に塗布して非
磁性下層を形成する。この後、磁性粉末および有機バイ
ンダ等を溶剤に分散して調製した磁気記録層塗料を、先
の非磁性下層上に塗布して磁気記録層を形成する。ＦＤ
の場合には非磁性支持体の両面に非磁性下層および磁気
記録層を形成する。また重層塗布型磁気記録媒体の他の
例として、上層の磁性粉末とは異種の磁性粉末により磁
性下層を形成し、この上に磁気記録層を設ける場合もあ
る。この後、カレンダ処理、熱硬化処理等を経て、磁気
記録テープではスリッタ工程を経てテープ状とし、ＦＤ
では円盤状への打ち抜き工程を経てディスク状とし、カ
セットやシェルに収納して所望とする磁気記録媒体が完
成する。
は、非磁性粉末および有機バインダ等を溶剤に分散して
調製した非磁性下層塗料を、非磁性支持体に塗布して非
磁性下層を形成する。この後、磁性粉末および有機バイ
ンダ等を溶剤に分散して調製した磁気記録層塗料を、先
の非磁性下層上に塗布して磁気記録層を形成する。ＦＤ
の場合には非磁性支持体の両面に非磁性下層および磁気
記録層を形成する。また重層塗布型磁気記録媒体の他の
例として、上層の磁性粉末とは異種の磁性粉末により磁
性下層を形成し、この上に磁気記録層を設ける場合もあ
る。この後、カレンダ処理、熱硬化処理等を経て、磁気
記録テープではスリッタ工程を経てテープ状とし、ＦＤ
では円盤状への打ち抜き工程を経てディスク状とし、カ
セットやシェルに収納して所望とする磁気記録媒体が完
成する。
【００１０】ところで、磁気記録層上に微小な塵埃が付
着すると、ドロップアウト（ミッシングパルス）や磁気
記録層の損傷、さらには磁気ヘッドトラック面の損傷を
発生する場合がある。
着すると、ドロップアウト（ミッシングパルス）や磁気
記録層の損傷、さらには磁気ヘッドトラック面の損傷を
発生する場合がある。
【００１１】このためＦＤにおいても、シェル内への塵
埃の侵入を防ぐため、シェル構造には様々な工夫がなさ
れている。またシェル内には、ライナと呼ばれる長繊維
の不織布が磁気ディスクを挟み込むように収納されてい
るのが一般的である。磁気ディスクはライナに緩く接触
しながら回転するため、磁気ディスク上の塵埃をかきと
り、磁気ディスク表面を清浄に保つ役割を担う。
埃の侵入を防ぐため、シェル構造には様々な工夫がなさ
れている。またシェル内には、ライナと呼ばれる長繊維
の不織布が磁気ディスクを挟み込むように収納されてい
るのが一般的である。磁気ディスクはライナに緩く接触
しながら回転するため、磁気ディスク上の塵埃をかきと
り、磁気ディスク表面を清浄に保つ役割を担う。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】ところが、磁気ディス
ク表面がライナに直接接触するための不都合も新たに発
生する。例えば、走行耐久性に不可欠な磁気記録層表面
上の表面潤滑剤がライナに移行あるいはかきとられ、走
行性が低下する現象である。特に、高速回転が必要とさ
れる大容量ＦＤにおいては、表面潤滑剤の欠落は是非と
も解決しなければならない問題である。
ク表面がライナに直接接触するための不都合も新たに発
生する。例えば、走行耐久性に不可欠な磁気記録層表面
上の表面潤滑剤がライナに移行あるいはかきとられ、走
行性が低下する現象である。特に、高速回転が必要とさ
れる大容量ＦＤにおいては、表面潤滑剤の欠落は是非と
も解決しなければならない問題である。
【００１３】本発明はこのような背景から提案するもの
である。すなわち本発明の課題は、ライナ等の機構部品
への潤滑剤の移行を防止し、安定した潤滑性能、走行性
能が持続する高密度の磁気記録媒体およびその製造方法
を提供することである。
である。すなわち本発明の課題は、ライナ等の機構部品
への潤滑剤の移行を防止し、安定した潤滑性能、走行性
能が持続する高密度の磁気記録媒体およびその製造方法
を提供することである。
【００１４】
【課題を解決するための手段】本発明者は上述した課題
を達成するため、潤滑剤の分子構造を含めて様々な検討
を重ねた結果、本発明を完成するに至った。
を達成するため、潤滑剤の分子構造を含めて様々な検討
を重ねた結果、本発明を完成するに至った。
【００１５】すなわち、本発明の磁気記録媒体は、非磁
性支持体上に、非磁性下層および磁気記録層が順次塗布
形成された磁気記録媒体であって、この非磁性下層およ
び磁気記録層のいずれか少なくとも一方は、分子量７０
以上の側鎖基を少なくとも一つ有する脂肪酸エステル化
合物を含むことを特徴とする。
性支持体上に、非磁性下層および磁気記録層が順次塗布
形成された磁気記録媒体であって、この非磁性下層およ
び磁気記録層のいずれか少なくとも一方は、分子量７０
以上の側鎖基を少なくとも一つ有する脂肪酸エステル化
合物を含むことを特徴とする。
【００１６】また本発明の磁気記録媒体の製造方法は、
非磁性支持体上に非磁性下層塗料および磁気記録層塗料
を順次塗布する工程を有する磁気記録媒体の製造方法で
あって、この非磁性下層塗料および磁気記録層塗料のい
ずれか少なくとも一方は、分子量７０以上の側鎖基を少
なくとも一つ有する脂肪酸エステル化合物を含むことを
特徴とする。
非磁性支持体上に非磁性下層塗料および磁気記録層塗料
を順次塗布する工程を有する磁気記録媒体の製造方法で
あって、この非磁性下層塗料および磁気記録層塗料のい
ずれか少なくとも一方は、分子量７０以上の側鎖基を少
なくとも一つ有する脂肪酸エステル化合物を含むことを
特徴とする。
【００１７】また本発明の別の磁気記録媒体の製造方法
は、非磁性支持体上に非磁性下層塗料、磁気記録層塗料
およびトップコート溶液を順次塗布する工程を有する磁
気記録媒体の製造方法であって、このトップコート溶液
は、分子量７０以上の側鎖基を少なくとも一つ有する脂
肪酸エステル化合物を含むことを特徴とする。
は、非磁性支持体上に非磁性下層塗料、磁気記録層塗料
およびトップコート溶液を順次塗布する工程を有する磁
気記録媒体の製造方法であって、このトップコート溶液
は、分子量７０以上の側鎖基を少なくとも一つ有する脂
肪酸エステル化合物を含むことを特徴とする。
【００１８】いずれの発明においても、側鎖基として
は、炭化水素基または脂肪酸エステル基であることが望
ましい。
は、炭化水素基または脂肪酸エステル基であることが望
ましい。
【００１９】側鎖基の分子量は７０未満では、潤滑剤の
ライナの移行を低減する効果が不十分であった。側鎖基
の分子量の上限については特に限定はない。しかしなが
ら、潤滑剤分子全体としての分子量が増大すると、粘性
が高くなりすぎ、あるいは常温で固形状となるので、高
速摺動用の潤滑剤としては不向きとなる。また磁気記録
層用塗料への内添や、トップコ−ト溶液への溶解が困難
となる等、製造プロセス上の制約もある。したがって、
潤滑剤分子の主鎖の分子量を超えない範囲、数値的には
数百程度以下の分子量が望ましい。
ライナの移行を低減する効果が不十分であった。側鎖基
の分子量の上限については特に限定はない。しかしなが
ら、潤滑剤分子全体としての分子量が増大すると、粘性
が高くなりすぎ、あるいは常温で固形状となるので、高
速摺動用の潤滑剤としては不向きとなる。また磁気記録
層用塗料への内添や、トップコ−ト溶液への溶解が困難
となる等、製造プロセス上の制約もある。したがって、
潤滑剤分子の主鎖の分子量を超えない範囲、数値的には
数百程度以下の分子量が望ましい。
【００２０】本発明の磁気記録媒体において、潤滑剤の
ライナ等への移行が低減する理由は必ずしも明確ではな
い。しかしながら、潤滑剤として比較的分子量の大きな
側鎖基を導入する分子量設計ことにより、磁気記録層あ
るいは非磁性下層内での潤滑剤の保持形態、磁気記録層
表面での吸着形態、さらにはライナとの吸着形態等が変
化するためと考えられる。
ライナ等への移行が低減する理由は必ずしも明確ではな
い。しかしながら、潤滑剤として比較的分子量の大きな
側鎖基を導入する分子量設計ことにより、磁気記録層あ
るいは非磁性下層内での潤滑剤の保持形態、磁気記録層
表面での吸着形態、さらにはライナとの吸着形態等が変
化するためと考えられる。
【００２１】
【発明の実施の形態】以下、本発明を実施形態例により
図面を参照して説明する。本発明の磁気記録媒体の構成
を図１の概略断面図により説明する。このうち、図１
（ａ）は磁気テープやハードディスク（ＨＤ）等に適用
される片面塗布によるもの、図１（ｂ）はＦＤ等に適用
される両面塗布による磁気記録媒体である。
図面を参照して説明する。本発明の磁気記録媒体の構成
を図１の概略断面図により説明する。このうち、図１
（ａ）は磁気テープやハードディスク（ＨＤ）等に適用
される片面塗布によるもの、図１（ｂ）はＦＤ等に適用
される両面塗布による磁気記録媒体である。
【００２２】図１において、非磁性支持体１上に非磁性
下層２および磁気記録層３が順次形成されている。これ
らは、非磁性支持体１上に非磁性下層塗料および磁気記
録層塗料を順次塗布し、あるいはさらにトップコ−ト溶
液を塗布して製造することができる。また磁気記録層３
上にはさらに表面保護層等が形成されていてもよい。ま
た図１（ａ）の片面塗布媒体の場合には、非磁性支持体
１の他方の面にバックコート層が形成されていてもよ
い。
下層２および磁気記録層３が順次形成されている。これ
らは、非磁性支持体１上に非磁性下層塗料および磁気記
録層塗料を順次塗布し、あるいはさらにトップコ−ト溶
液を塗布して製造することができる。また磁気記録層３
上にはさらに表面保護層等が形成されていてもよい。ま
た図１（ａ）の片面塗布媒体の場合には、非磁性支持体
１の他方の面にバックコート層が形成されていてもよ
い。
【００２３】本発明が特徴とする分子量７０以上の側鎖
基を有する脂肪酸エステル化合物は、非磁性下層２およ
び磁気記録層３の一方あるいは両方に含まれる。また磁
気記録層３表面あるいは保護層（不図示）の表面の表面
潤滑層に、本発明が特徴とする分子量７０以上の側鎖基
を有する脂肪酸エステル化合物が含まれる。
基を有する脂肪酸エステル化合物は、非磁性下層２およ
び磁気記録層３の一方あるいは両方に含まれる。また磁
気記録層３表面あるいは保護層（不図示）の表面の表面
潤滑層に、本発明が特徴とする分子量７０以上の側鎖基
を有する脂肪酸エステル化合物が含まれる。
【００２４】磁気記録層３は磁性粉末、有機バインダお
よび各種添加剤等により構成される。磁性粉末としては
従来公知の酸化物系、金属系あるいは金属間化合物系等
の磁性材料はいずれも使用できる。酸化物系としては、
γ−Ｆｅ2 Ｏ3 、Ｆｅ3 Ｏ4、γ−Ｆｅ2 Ｏ3 ／Ｆｅ3
Ｏ4 固溶体、これら酸化鉄化合物にＣｏが含有あるいは
被着されたもの、Ｂａフェライト、ＣｒＯ2 等が例示さ
れる。金属系としては、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉおよびこれら
の合金、あるいはこれら単体金属や合金に、さらにＣ
ｒ、Ｔｉ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｂ、Ｓｉ等の元素
を添加あるいは被着したもの、ＭｎＢｉ、ＭｎＡｌ等が
例示される。金属間化合物系としては、窒化鉄、炭化
鉄、硼化鉄等が例示される。
よび各種添加剤等により構成される。磁性粉末としては
従来公知の酸化物系、金属系あるいは金属間化合物系等
の磁性材料はいずれも使用できる。酸化物系としては、
γ−Ｆｅ2 Ｏ3 、Ｆｅ3 Ｏ4、γ−Ｆｅ2 Ｏ3 ／Ｆｅ3
Ｏ4 固溶体、これら酸化鉄化合物にＣｏが含有あるいは
被着されたもの、Ｂａフェライト、ＣｒＯ2 等が例示さ
れる。金属系としては、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉおよびこれら
の合金、あるいはこれら単体金属や合金に、さらにＣ
ｒ、Ｔｉ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｂ、Ｓｉ等の元素
を添加あるいは被着したもの、ＭｎＢｉ、ＭｎＡｌ等が
例示される。金属間化合物系としては、窒化鉄、炭化
鉄、硼化鉄等が例示される。
【００２５】これら磁性粉末の粒子形状は、粒状、針
状、偏平状、板状等が選ばれるが、これらのうち、磁場
や形状による配向効果が得られる針状や板状のものが好
ましい。針状粒子の場合は、平均長軸長が０．０１〜
０．５μｍ程度、好ましくは０．０３〜０．３μｍ程度
であり、アスペクト比は３〜３０程度、好ましくは５〜
１０程度が選ばれ、これらの分布はシャープに揃ったも
のが好ましい。また板状のものは、マグネトプランバイ
ト系の六角板状が代表的であるが、その対角線長が２０
〜３００ｎｍ程度、好ましくは３０〜１００ｎｍ程度
で、板状比（対角線長／板厚）は２〜３０程度、好まし
くは３〜１０程度が選ばれる。この場合も分布がシャー
プに揃ったものが好ましい。いずれの磁性粉において
も、ＢＥＴ法による比表面積は４５ｍ2 ／ｇ以上が高密
度記録の観点から好ましい。
状、偏平状、板状等が選ばれるが、これらのうち、磁場
や形状による配向効果が得られる針状や板状のものが好
ましい。針状粒子の場合は、平均長軸長が０．０１〜
０．５μｍ程度、好ましくは０．０３〜０．３μｍ程度
であり、アスペクト比は３〜３０程度、好ましくは５〜
１０程度が選ばれ、これらの分布はシャープに揃ったも
のが好ましい。また板状のものは、マグネトプランバイ
ト系の六角板状が代表的であるが、その対角線長が２０
〜３００ｎｍ程度、好ましくは３０〜１００ｎｍ程度
で、板状比（対角線長／板厚）は２〜３０程度、好まし
くは３〜１０程度が選ばれる。この場合も分布がシャー
プに揃ったものが好ましい。いずれの磁性粉において
も、ＢＥＴ法による比表面積は４５ｍ2 ／ｇ以上が高密
度記録の観点から好ましい。
【００２６】磁性粉末の磁気特性は、目的とする磁気記
録媒体の用途により選択されるが、保磁力は４００〜２
０００Ｏｅ程度、飽和磁化モーメントは６０〜２００ｅ
ｍｕ／ｇ程度が選ばれる。磁気記録層として形成された
場合に、面内磁気異方性あるいは垂直磁気異方性のいず
れを示してもよいが、ヒステリシスループの角形性Ｒｓ
や残留磁束密度Ｂｒに優れたものが好ましい。
録媒体の用途により選択されるが、保磁力は４００〜２
０００Ｏｅ程度、飽和磁化モーメントは６０〜２００ｅ
ｍｕ／ｇ程度が選ばれる。磁気記録層として形成された
場合に、面内磁気異方性あるいは垂直磁気異方性のいず
れを示してもよいが、ヒステリシスループの角形性Ｒｓ
や残留磁束密度Ｂｒに優れたものが好ましい。
【００２７】磁性粉末を磁気記録層塗料中で良好に分散
するための分散剤は、従来公知のものをいずれも使用で
きる。分散剤の添加量は、磁性粉末に対して０．５〜
５．０重量％が適当である。
するための分散剤は、従来公知のものをいずれも使用で
きる。分散剤の添加量は、磁性粉末に対して０．５〜
５．０重量％が適当である。
【００２８】磁気記録媒体の帯電を防止するために、帯
電防止剤を添加してもよい。帯電防止剤は従来公知のも
のはいずれでもよく、その添加量は有機バインダの０．
０１〜４０重量％でよい。
電防止剤を添加してもよい。帯電防止剤は従来公知のも
のはいずれでもよく、その添加量は有機バインダの０．
０１〜４０重量％でよい。
【００２９】磁気記録層の耐久性を向上するために、研
磨剤を添加することも好ましい。研磨剤の代表例はＣｒ
2 Ｏ3 であるが、これに限定されない。研磨剤の平均粒
径は０．０３〜０．６μｍ、好ましくは０．０５〜０．
３μｍが選ばれる。その添加量は、磁性粉末１００重量
部に対して３〜２０重量部、好ましくは５〜１０重量部
である。
磨剤を添加することも好ましい。研磨剤の代表例はＣｒ
2 Ｏ3 であるが、これに限定されない。研磨剤の平均粒
径は０．０３〜０．６μｍ、好ましくは０．０５〜０．
３μｍが選ばれる。その添加量は、磁性粉末１００重量
部に対して３〜２０重量部、好ましくは５〜１０重量部
である。
【００３０】この他、磁気記録層には必要に応じ安定
剤、防黴剤、あるいは防錆剤等が添加される。
剤、防黴剤、あるいは防錆剤等が添加される。
【００３１】一方の非磁性下層は、非磁性粉末および有
機バインダ等により構成される。非磁性粉末材料として
は、カーボンブラック、グラファイト、ヘマタイト、ベ
ーマイト、溶融アルミナ、α，β，γ−アルミナ等の各
種アルミナ、雲母、カオリン、タルク、粘土、シリカ、
酸化マグネシウム、酸化チタン（ルチルおよびアナター
ゼ）、酸化亜鉛、硫化亜鉛、炭酸カルシウム、炭酸マグ
ネシウム、炭酸バリウム、硫酸バリウム、硫酸鉛、硫化
タングステン等の無機化合物、ポリエチレン、ポリ塩化
ビニル、ポリイミド、ポリテトラフルオロエチレン等の
高分子樹脂、デンプン、あるいは非磁性金属等が例示さ
れる。これらの非磁性粉末は、Ｓｉ化合物やＡｌ化合物
により表面処理されていてもよい。表面処理量は、非磁
性粉末に対し０．１〜１０重量％の範囲が選択される。
機バインダ等により構成される。非磁性粉末材料として
は、カーボンブラック、グラファイト、ヘマタイト、ベ
ーマイト、溶融アルミナ、α，β，γ−アルミナ等の各
種アルミナ、雲母、カオリン、タルク、粘土、シリカ、
酸化マグネシウム、酸化チタン（ルチルおよびアナター
ゼ）、酸化亜鉛、硫化亜鉛、炭酸カルシウム、炭酸マグ
ネシウム、炭酸バリウム、硫酸バリウム、硫酸鉛、硫化
タングステン等の無機化合物、ポリエチレン、ポリ塩化
ビニル、ポリイミド、ポリテトラフルオロエチレン等の
高分子樹脂、デンプン、あるいは非磁性金属等が例示さ
れる。これらの非磁性粉末は、Ｓｉ化合物やＡｌ化合物
により表面処理されていてもよい。表面処理量は、非磁
性粉末に対し０．１〜１０重量％の範囲が選択される。
【００３２】非磁性粉末の形状は、球状、正多面体ある
いは針状等でよいが、好ましくは針状が選ばれる。針状
の非磁性粉末を用いることにより、非磁性下層の表面性
が向上し、この結果、非磁性下層上に積層形成される磁
気記録層の表面性も、より平滑なものとなる。針状の非
磁性粉末を用いる場合には、その粒子形状は長軸が０．
５μｍ以下、さらには０．３μｍ以下が好ましく、アス
ペクト比は２〜２０、好ましくは５〜１０が選ばれる。
また非磁性粉末の比表面積はＢＥＴ法で１０〜２５０ｍ
2 ／ｇ、好ましくは３０〜１００ｍ2 ／ｇがよい。
いは針状等でよいが、好ましくは針状が選ばれる。針状
の非磁性粉末を用いることにより、非磁性下層の表面性
が向上し、この結果、非磁性下層上に積層形成される磁
気記録層の表面性も、より平滑なものとなる。針状の非
磁性粉末を用いる場合には、その粒子形状は長軸が０．
５μｍ以下、さらには０．３μｍ以下が好ましく、アス
ペクト比は２〜２０、好ましくは５〜１０が選ばれる。
また非磁性粉末の比表面積はＢＥＴ法で１０〜２５０ｍ
2 ／ｇ、好ましくは３０〜１００ｍ2 ／ｇがよい。
【００３３】非磁性粉末の混合量は、非磁性下層を構成
する全成分の重量に対し、５５〜９９重量％、好ましく
は７０〜９５重量％とするのが適当である。この範囲を
選択することにより、非磁性下層および磁気記録層の表
面性が良好となる。
する全成分の重量に対し、５５〜９９重量％、好ましく
は７０〜９５重量％とするのが適当である。この範囲を
選択することにより、非磁性下層および磁気記録層の表
面性が良好となる。
【００３４】本発明が特徴とする分子量７０以上の側鎖
基を少なくとも一つ有する脂肪酸エステル化合物は、潤
滑剤として磁気記録層あるいは非磁性下層の一方、ある
いは両方に含まれる。あるいは磁気記録層の表面に形成
されるトップコ−ト層中に含まれていてもよい。この脂
肪酸エステル化合物の例としては、イソステアリルステ
アレート、イソステアリルオレエート、イソセチルステ
アレート、トリメチロールプロパンロパームカネート等
が例示される。これら化合物は単独で使用しても、従来
公知の潤滑剤と混合して用いてもよい。
基を少なくとも一つ有する脂肪酸エステル化合物は、潤
滑剤として磁気記録層あるいは非磁性下層の一方、ある
いは両方に含まれる。あるいは磁気記録層の表面に形成
されるトップコ−ト層中に含まれていてもよい。この脂
肪酸エステル化合物の例としては、イソステアリルステ
アレート、イソステアリルオレエート、イソセチルステ
アレート、トリメチロールプロパンロパームカネート等
が例示される。これら化合物は単独で使用しても、従来
公知の潤滑剤と混合して用いてもよい。
【００３５】磁気記録層塗料あるいは非磁性下層塗料に
直接添加する場合には、磁性粉末あるいは非磁性粉末に
対して０．２〜１０重量％、好ましくは０．５〜５重量
％の添加量が選ばれる。磁気記録層上にトップコ−ト溶
液として塗布する場合には、０．５〜２００ｍｇ／ｍｍ
2 、好ましくは３０〜１００ｍｇ／ｍｍ2 の潤滑剤量と
する。これらの潤滑剤量は、良好な走行性、耐久性と、
磁気記録層表面への過度のしみだしによる出力低下が無
い範囲として選択される。
直接添加する場合には、磁性粉末あるいは非磁性粉末に
対して０．２〜１０重量％、好ましくは０．５〜５重量
％の添加量が選ばれる。磁気記録層上にトップコ−ト溶
液として塗布する場合には、０．５〜２００ｍｇ／ｍｍ
2 、好ましくは３０〜１００ｍｇ／ｍｍ2 の潤滑剤量と
する。これらの潤滑剤量は、良好な走行性、耐久性と、
磁気記録層表面への過度のしみだしによる出力低下が無
い範囲として選択される。
【００３６】磁気記録層および非磁性下層に用いる有機
バインダ材料としては、特に限定されないが、いずれも
従来より使用されている熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、
反応型樹脂等のすべてが使用可能である。熱可塑性樹脂
は、熱硬化性樹脂や反応型樹脂等と混合して用いること
が望ましい。樹脂の分子量としては、平均分子量５，０
００ないし２００，０００の範囲が選ばれ、１０，００
０ないし１００，０００のものが好適であり、１５，０
００〜５０，０００がさらに好適である。熱可塑性樹脂
としては、例えば塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、フ
ッ化ビニル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩
化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−酢酸
ビニル−ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル−アク
リロニトリル共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニト
リル共重合体、アクリル酸エステル−アクリルニトリル
共重合体、アクリル酸エステル−塩化ビニル−塩化ビニ
リデン共重合体、メタクリル酸エステル−塩化ビニル共
重合体、メタクリル酸エステル−塩化ビニリデン共重合
体、メタクリル酸エステル−エチレン共重合体、アクリ
ロニトリル−ブタジエン共重合体、スチレン−ブタジエ
ン共重合体、ポリウレタン樹脂、ポリエステルポリウレ
タン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネートポリウ
レタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、
ポリビニルブチラール樹脂、セルロース誘導体（セルロ
ースアセテートブチレート、セルロースダイアセテー
ト、セルローストリアセテート、セルロースプロピオネ
ート、ニトロセルロース等）、スチレンブタジエン共重
合体、ポリエステル樹脂、アミノ樹脂、各種合成ゴム系
等があげられる。また熱硬化性樹脂および反応型樹脂の
例としては、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレ
タン硬化型樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂、メラミン
樹脂、アルキッド樹脂、シリコーン樹脂、ポリアミン樹
脂、高分子量ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポ
リマの混合物、ポリエステルポリオールとポリイソシア
ネートの混合物、低分子量グリコールと高分子量ジオー
ルとイソシアネートの混合物等、およびこれら樹脂の混
合物が例示される。これらの樹脂のうち、柔軟性を付与
するとされるポリウレタン樹脂、ポリカーボネート樹
脂、ポリエステル樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン
共重合体等の使用が好ましい。
バインダ材料としては、特に限定されないが、いずれも
従来より使用されている熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、
反応型樹脂等のすべてが使用可能である。熱可塑性樹脂
は、熱硬化性樹脂や反応型樹脂等と混合して用いること
が望ましい。樹脂の分子量としては、平均分子量５，０
００ないし２００，０００の範囲が選ばれ、１０，００
０ないし１００，０００のものが好適であり、１５，０
００〜５０，０００がさらに好適である。熱可塑性樹脂
としては、例えば塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、フ
ッ化ビニル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩
化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−酢酸
ビニル−ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル−アク
リロニトリル共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニト
リル共重合体、アクリル酸エステル−アクリルニトリル
共重合体、アクリル酸エステル−塩化ビニル−塩化ビニ
リデン共重合体、メタクリル酸エステル−塩化ビニル共
重合体、メタクリル酸エステル−塩化ビニリデン共重合
体、メタクリル酸エステル−エチレン共重合体、アクリ
ロニトリル−ブタジエン共重合体、スチレン−ブタジエ
ン共重合体、ポリウレタン樹脂、ポリエステルポリウレ
タン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネートポリウ
レタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、
ポリビニルブチラール樹脂、セルロース誘導体（セルロ
ースアセテートブチレート、セルロースダイアセテー
ト、セルローストリアセテート、セルロースプロピオネ
ート、ニトロセルロース等）、スチレンブタジエン共重
合体、ポリエステル樹脂、アミノ樹脂、各種合成ゴム系
等があげられる。また熱硬化性樹脂および反応型樹脂の
例としては、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレ
タン硬化型樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂、メラミン
樹脂、アルキッド樹脂、シリコーン樹脂、ポリアミン樹
脂、高分子量ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポ
リマの混合物、ポリエステルポリオールとポリイソシア
ネートの混合物、低分子量グリコールと高分子量ジオー
ルとイソシアネートの混合物等、およびこれら樹脂の混
合物が例示される。これらの樹脂のうち、柔軟性を付与
するとされるポリウレタン樹脂、ポリカーボネート樹
脂、ポリエステル樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン
共重合体等の使用が好ましい。
【００３７】これらの樹脂は、非磁性粒子の分散性を向
上するために−ＳＯ3 Ｍ、−ＯＳＯ3 Ｍ、−ＣＯＯＭ、
あるいは−ＰＯ（ＯＭ’）2 等の極性官能基を含有して
いてもよい（但し、ＭはＨまたはＬｉ、Ｋａ、Ｎａ等の
アルカリ金属、Ｍ’はＨまたはＬｉ、Ｋａ、Ｎａ等のア
ルカリ金属またはアルキル基をあらわす）。極性官能基
としてはこの他に−ＮＲ1 Ｒ2 、−ＮＲ1 Ｒ2 Ｒ3 + Ｘ
- の末端基を有する側鎖型のもの、＞ＮＲ1 Ｒ2 + Ｘ-
の主鎖型のもの等がある（ここでＲ1 、Ｒ2 、Ｒ3 は水
素原子または炭化水素基であり、Ｘ- はフッ素、塩素、
臭素、ヨウ素等のハロゲンイオンあるいは無機、有機イ
オンをあらわす）。この他に−ＯＨ、−ＳＨ、−ＣＮ、
エポキシ基等の極性官能基であってもよい。これら極性
官能基の含有量は０．１〜８．０ｍｏｌ％であり、好ま
しくは０．２〜６．０ｍｏｌ％である。０．１ｍｏｌ％
では磁性粉の分散効果がみられず、８．０ｍｏｌ％を超
えると磁気記録層塗料がゲル化し易くなる。極性基を有
する塩化ビニル系共重合体は、例えば塩化ビニル／ビニ
ルアルコール共重合体等の水酸基を含む共重合体と、極
性基および塩素原子を有する化合物との反応により合成
される。極性基を有するポリエステルやポリウレタン
も、公知の方法により合成される。
上するために−ＳＯ3 Ｍ、−ＯＳＯ3 Ｍ、−ＣＯＯＭ、
あるいは−ＰＯ（ＯＭ’）2 等の極性官能基を含有して
いてもよい（但し、ＭはＨまたはＬｉ、Ｋａ、Ｎａ等の
アルカリ金属、Ｍ’はＨまたはＬｉ、Ｋａ、Ｎａ等のア
ルカリ金属またはアルキル基をあらわす）。極性官能基
としてはこの他に−ＮＲ1 Ｒ2 、−ＮＲ1 Ｒ2 Ｒ3 + Ｘ
- の末端基を有する側鎖型のもの、＞ＮＲ1 Ｒ2 + Ｘ-
の主鎖型のもの等がある（ここでＲ1 、Ｒ2 、Ｒ3 は水
素原子または炭化水素基であり、Ｘ- はフッ素、塩素、
臭素、ヨウ素等のハロゲンイオンあるいは無機、有機イ
オンをあらわす）。この他に−ＯＨ、−ＳＨ、−ＣＮ、
エポキシ基等の極性官能基であってもよい。これら極性
官能基の含有量は０．１〜８．０ｍｏｌ％であり、好ま
しくは０．２〜６．０ｍｏｌ％である。０．１ｍｏｌ％
では磁性粉の分散効果がみられず、８．０ｍｏｌ％を超
えると磁気記録層塗料がゲル化し易くなる。極性基を有
する塩化ビニル系共重合体は、例えば塩化ビニル／ビニ
ルアルコール共重合体等の水酸基を含む共重合体と、極
性基および塩素原子を有する化合物との反応により合成
される。極性基を有するポリエステルやポリウレタン
も、公知の方法により合成される。
【００３８】これら有機バインダは単独で用いることも
可能であるが、２種類以上を併用することも可能であ
る。磁気記録層中におけるこれら有機バインダの量は、
磁性粉１００重量部に対して５〜３０重量部、好ましく
は１０〜２０重量部である。
可能であるが、２種類以上を併用することも可能であ
る。磁気記録層中におけるこれら有機バインダの量は、
磁性粉１００重量部に対して５〜３０重量部、好ましく
は１０〜２０重量部である。
【００３９】上述した有機バインダを架橋硬化する硬化
剤として、例えばポリイソシアネート等を添加すること
が可能である。ポリイソシアネートとしては、トリメチ
ロールプロパンと２，４−トリレンジイソシアネート
（ＴＤＩ）の付加体（例えば商品名コロネートＬ−５
０）が一般的であるが、４，４−ジフェニルメタンジイ
ソシアネート（ＭＤＩ）やヘキサンジイソシアネート
（ＨＤＩ）等のアルキレンジイソシアネートの付加体を
使用してもよい。この他、テトラグリシジルメタキシレ
ンジアミン、テトラグリシジル−１，３−ビスアミノメ
チルシクロヘキサン、テトラグリシジルアミノジフェニ
ルメタン、トリグリシジル−ｐ−アミノフェノール等の
ポリグリシジルアミン化合物、２−ジブチルアミノ−
４，６−ジメルカプト置換トリアジン等のポリチオール
化合物、トリグリシジルイソシアヌレート等のエポキシ
化合物、エポキシ化合物とイソシアネート化合物の混合
物、エポキシ化合物とオキサゾリン化合物との混合物、
イミダゾール化合物とイソシアネート化合物の混合物、
無水メチルナジン酸等、従来より公知のものはいずれも
使用可能である。これら硬化剤の有機バインダへの配合
割合は、有機バインダ１００重量部に対し５〜８０重量
部、好ましくは１０〜５０重量部である。
剤として、例えばポリイソシアネート等を添加すること
が可能である。ポリイソシアネートとしては、トリメチ
ロールプロパンと２，４−トリレンジイソシアネート
（ＴＤＩ）の付加体（例えば商品名コロネートＬ−５
０）が一般的であるが、４，４−ジフェニルメタンジイ
ソシアネート（ＭＤＩ）やヘキサンジイソシアネート
（ＨＤＩ）等のアルキレンジイソシアネートの付加体を
使用してもよい。この他、テトラグリシジルメタキシレ
ンジアミン、テトラグリシジル−１，３−ビスアミノメ
チルシクロヘキサン、テトラグリシジルアミノジフェニ
ルメタン、トリグリシジル−ｐ−アミノフェノール等の
ポリグリシジルアミン化合物、２−ジブチルアミノ−
４，６−ジメルカプト置換トリアジン等のポリチオール
化合物、トリグリシジルイソシアヌレート等のエポキシ
化合物、エポキシ化合物とイソシアネート化合物の混合
物、エポキシ化合物とオキサゾリン化合物との混合物、
イミダゾール化合物とイソシアネート化合物の混合物、
無水メチルナジン酸等、従来より公知のものはいずれも
使用可能である。これら硬化剤の有機バインダへの配合
割合は、有機バインダ１００重量部に対し５〜８０重量
部、好ましくは１０〜５０重量部である。
【００４０】磁気記録層塗料および非磁性下層塗料に用
いられる溶剤としては、いずれもアセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン
等のケトン類、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、ブタノール等のアルコール類、酢酸メチル、酢酸エ
チル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、乳酸エチル、エチレ
ングリコールモノアセテート等のエステル類、ジエチレ
ングリコールジメチルエーテル、グリコールモノエチル
エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテ
ル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水
素、メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化
炭素、クロロホルム、ジクロルベンゼン等のハロゲン化
炭化水素等が使用される。
いられる溶剤としては、いずれもアセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン
等のケトン類、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、ブタノール等のアルコール類、酢酸メチル、酢酸エ
チル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、乳酸エチル、エチレ
ングリコールモノアセテート等のエステル類、ジエチレ
ングリコールジメチルエーテル、グリコールモノエチル
エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテ
ル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水
素、メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化
炭素、クロロホルム、ジクロルベンゼン等のハロゲン化
炭化水素等が使用される。
【００４１】磁気記録層塗料および非磁性下層塗料を調
製する際は、上述した各構成成分を混練して高濃度塗料
とした後、これを希釈、分散して所望の固形分の塗料と
する。高濃度塗料調製用の混練機としては、オープンニ
ーダ、加圧ニーダ、連続ニーダ、２本ロールミルあるい
は３本ロールミル等が採用される。希釈、分散のための
分散機としては、ボールミル、振動ボールミル、サンド
ミル等が使用される。
製する際は、上述した各構成成分を混練して高濃度塗料
とした後、これを希釈、分散して所望の固形分の塗料と
する。高濃度塗料調製用の混練機としては、オープンニ
ーダ、加圧ニーダ、連続ニーダ、２本ロールミルあるい
は３本ロールミル等が採用される。希釈、分散のための
分散機としては、ボールミル、振動ボールミル、サンド
ミル等が使用される。
【００４２】非磁性下層塗料および磁気記録層塗料を塗
布する非磁性支持体としては、通常の磁気記録媒体で用
いられるものはいずれも使用可能であり、ポリエチレン
テレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート
等のポリエステル類、ポリエチレン、ポリプロピレン等
のポリオレフィン類、セルローストリアセテート、セル
ロースダイセテート等のセルロース誘導体、ポリ塩化ビ
ニル等のビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン等のビニリ
デン樹脂、ポリカーボネート、ポリアミドイミド、ポリ
イミド等の有機高分子が例示される。これらは単層構造
および積層構造の別を問わない。またその塗布面はコロ
ナ放電処理等の表面処理が施されていてもよい。また、
この非磁性支持体中に、ＳｉＯ2 やラテックス等のフィ
ラーを含有させ、微細な表面突起を形成してもよい。こ
れら表面突起は、磁気記録層の表面性を制御して、磁気
記録ディスクの耐久性の向上等に寄与する。有機高分子
をＦＤや磁気カード用の非磁性支持体とする場合、その
厚さは３０μｍ〜１ｍｍ程度でよい。磁気記録テープの
場合には３μｍ〜３０μｍが選ばれる。
布する非磁性支持体としては、通常の磁気記録媒体で用
いられるものはいずれも使用可能であり、ポリエチレン
テレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート
等のポリエステル類、ポリエチレン、ポリプロピレン等
のポリオレフィン類、セルローストリアセテート、セル
ロースダイセテート等のセルロース誘導体、ポリ塩化ビ
ニル等のビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン等のビニリ
デン樹脂、ポリカーボネート、ポリアミドイミド、ポリ
イミド等の有機高分子が例示される。これらは単層構造
および積層構造の別を問わない。またその塗布面はコロ
ナ放電処理等の表面処理が施されていてもよい。また、
この非磁性支持体中に、ＳｉＯ2 やラテックス等のフィ
ラーを含有させ、微細な表面突起を形成してもよい。こ
れら表面突起は、磁気記録層の表面性を制御して、磁気
記録ディスクの耐久性の向上等に寄与する。有機高分子
をＦＤや磁気カード用の非磁性支持体とする場合、その
厚さは３０μｍ〜１ｍｍ程度でよい。磁気記録テープの
場合には３μｍ〜３０μｍが選ばれる。
【００４３】さらにハードディスク等の磁気記録媒体の
場合には非磁性支持体としてＡｌ系金属、セラミクスや
ガラス等の剛体基板を用いることができる。これら剛体
基板の表面にアルマイト処理等による酸化被膜や、Ｎｉ
−Ｐ被膜等を形成して、その表面硬度をさらに高めても
よい。
場合には非磁性支持体としてＡｌ系金属、セラミクスや
ガラス等の剛体基板を用いることができる。これら剛体
基板の表面にアルマイト処理等による酸化被膜や、Ｎｉ
−Ｐ被膜等を形成して、その表面硬度をさらに高めても
よい。
【００４４】非磁性支持体上に非磁性下層および磁気記
録層を順次形成するための塗布方法は特に限定されず、
グラビアコート、押し出しコート、エアドクタコート、
ブレードコート、エアナイフコート、スクィズコート、
含浸コート、リバースロールコート、トランスファロー
ルコート、グラビアコート、キスコート、キャストコー
ト、エクストルージョンコート、あるいはスピンコート
等従来の方法はいずれも採用可能である。トップコート
溶液の塗布方法もこれらの方式やスプレーコートの他
に、ＬＢ(Langmuir-Brodget)法による形成も可能であ
る。トップコート溶液は、潤滑剤および必要に応じて防
錆剤等の溶質を主成分とし、アルコールやトルエン等の
溶剤を溶媒とした溶液系である。
録層を順次形成するための塗布方法は特に限定されず、
グラビアコート、押し出しコート、エアドクタコート、
ブレードコート、エアナイフコート、スクィズコート、
含浸コート、リバースロールコート、トランスファロー
ルコート、グラビアコート、キスコート、キャストコー
ト、エクストルージョンコート、あるいはスピンコート
等従来の方法はいずれも採用可能である。トップコート
溶液の塗布方法もこれらの方式やスプレーコートの他
に、ＬＢ(Langmuir-Brodget)法による形成も可能であ
る。トップコート溶液は、潤滑剤および必要に応じて防
錆剤等の溶質を主成分とし、アルコールやトルエン等の
溶剤を溶媒とした溶液系である。
【００４５】重層塗布方式を用いる場合には、ウェット
オンドライ方式、ウェットオンウェット方式のいずれの
方法によってもよい。ウェットオンドライ方式は、非磁
性支持体上に非磁性下層塗料を塗布乾燥後、必要に応じ
てカレンダ処理、硬化処理を施し、この乾燥塗膜上に磁
気記録層塗料を塗布する方式である。またウェットオン
ウェット方式は非磁性下層塗料を塗布後、乾燥せずに湿
潤状態のままさらに磁気記録層塗料を塗布する方式であ
る。
オンドライ方式、ウェットオンウェット方式のいずれの
方法によってもよい。ウェットオンドライ方式は、非磁
性支持体上に非磁性下層塗料を塗布乾燥後、必要に応じ
てカレンダ処理、硬化処理を施し、この乾燥塗膜上に磁
気記録層塗料を塗布する方式である。またウェットオン
ウェット方式は非磁性下層塗料を塗布後、乾燥せずに湿
潤状態のままさらに磁気記録層塗料を塗布する方式であ
る。
【００４６】ウェットオンウェット重層塗布方式のコー
ティングシステムの概略構成を、図２を参照して説明す
る。装置全体は、長尺の非磁性支持体１３が巻回された
供給ロール１１から巻き取りロール１２に向けて非磁性
支持体１３が搬送される間に、諸工程が施されるように
構成されている。すなわち、この搬送方向に沿って、塗
布装置１４、磁場配向装置１５、乾燥装置１６およびカ
レンダ装置１７がこの順に配列されている。
ティングシステムの概略構成を、図２を参照して説明す
る。装置全体は、長尺の非磁性支持体１３が巻回された
供給ロール１１から巻き取りロール１２に向けて非磁性
支持体１３が搬送される間に、諸工程が施されるように
構成されている。すなわち、この搬送方向に沿って、塗
布装置１４、磁場配向装置１５、乾燥装置１６およびカ
レンダ装置１７がこの順に配列されている。
【００４７】塗布装置１４は、図示の装置は一例として
押し出しコート方式の要部であるコーティングヘッドが
示されており、これらは非磁性下層塗料用コーティング
ヘッド１８および磁気記録層塗料用コーティングヘッド
１９から構成されている。非磁性下層塗料用コーティン
グヘッド１８および磁気記録層塗料用コーティングヘッ
ド１９は一つの塗布装置に装備されていてもよく、別個
の塗料装置に個別に装備されていもよい。
押し出しコート方式の要部であるコーティングヘッドが
示されており、これらは非磁性下層塗料用コーティング
ヘッド１８および磁気記録層塗料用コーティングヘッド
１９から構成されている。非磁性下層塗料用コーティン
グヘッド１８および磁気記録層塗料用コーティングヘッ
ド１９は一つの塗布装置に装備されていてもよく、別個
の塗料装置に個別に装備されていもよい。
【００４８】コーティングヘッドの動作の概略を図３を
参照して説明する。非磁性下層塗料用コーティングヘッ
ド１８および磁気記録層塗料用コーティングヘッド１９
の内部にはいずれも塗料溜まり２０，２４が形成され、
コーティングヘッド先端部に向けてスリット２１，２５
が形成されている。塗料溜まり２０，２４から供給され
た各塗料は、スリット２１，２５を経由してコーティン
グヘッド先端部に押し出される。
参照して説明する。非磁性下層塗料用コーティングヘッ
ド１８および磁気記録層塗料用コーティングヘッド１９
の内部にはいずれも塗料溜まり２０，２４が形成され、
コーティングヘッド先端部に向けてスリット２１，２５
が形成されている。塗料溜まり２０，２４から供給され
た各塗料は、スリット２１，２５を経由してコーティン
グヘッド先端部に押し出される。
【００４９】一方非磁性支持体１３は、コーティングヘ
ッド先端部と微小間隔を保って図中の矢印の方向に搬送
される。この過程で、非磁性下層塗料用コーティングヘ
ッド１８により非磁性下層塗料の塗膜２３が形成され、
この後直ちに磁気記録層塗料用コーティングヘッド１９
により磁気記録層塗料の塗膜２６が形成される。
ッド先端部と微小間隔を保って図中の矢印の方向に搬送
される。この過程で、非磁性下層塗料用コーティングヘ
ッド１８により非磁性下層塗料の塗膜２３が形成され、
この後直ちに磁気記録層塗料用コーティングヘッド１９
により磁気記録層塗料の塗膜２６が形成される。
【００５０】図４はコーティングヘッドの他の例であ
る。図４の例は、複合型のコーティングヘッド２７であ
り、この複合型コーティングヘッド２７内部には非磁性
下層塗料用および磁気記録層塗料用の塗料溜まり２０，
２４、および所定間隔をおいてスリット２１，２５が形
成されている。
る。図４の例は、複合型のコーティングヘッド２７であ
り、この複合型コーティングヘッド２７内部には非磁性
下層塗料用および磁気記録層塗料用の塗料溜まり２０，
２４、および所定間隔をおいてスリット２１，２５が形
成されている。
【００５１】図５はコーティングヘッドのさらに他の例
である。図５の例も、複合型のコーティングヘッド２７
であり、この複合型コーティングヘッド２７内部には非
磁性下層塗料用および磁気記録層塗料用の塗料溜まり２
０，２４、およびスリット２８が形成されている。この
スリット２８は、各塗料溜まり２０，２４が複合型のコ
ーティングヘッド２７内で層状に一体化して、非磁性支
持体１３上に非磁性下層塗料の塗膜２３および磁気記録
層塗料用の塗膜２６が同時に形成される。
である。図５の例も、複合型のコーティングヘッド２７
であり、この複合型コーティングヘッド２７内部には非
磁性下層塗料用および磁気記録層塗料用の塗料溜まり２
０，２４、およびスリット２８が形成されている。この
スリット２８は、各塗料溜まり２０，２４が複合型のコ
ーティングヘッド２７内で層状に一体化して、非磁性支
持体１３上に非磁性下層塗料の塗膜２３および磁気記録
層塗料用の塗膜２６が同時に形成される。
【００５２】
【実施例】以下、本発明の磁気記録媒体の製造方法につ
き、さらに詳細に説明を加える。以下に示す各実施例
は、本発明の理解を容易にするための例示であり、本発
明はこれら実施例になんら限定されない。
き、さらに詳細に説明を加える。以下に示す各実施例
は、本発明の理解を容易にするための例示であり、本発
明はこれら実施例になんら限定されない。
【００５３】〔実施例１〕本実施例は、分子量７０以上
の側鎖基を少なくとも一つ有する脂肪酸エステル化合物
として、Ｃ8 Ｈ17ＣＨ（Ｃ6 Ｈ13）ＣＨ2 ＯＣＯＣ17Ｈ
35 （イソセチルステアレート，側鎖基の分子量８５）
を用いた例である。
の側鎖基を少なくとも一つ有する脂肪酸エステル化合物
として、Ｃ8 Ｈ17ＣＨ（Ｃ6 Ｈ13）ＣＨ2 ＯＣＯＣ17Ｈ
35 （イソセチルステアレート，側鎖基の分子量８５）
を用いた例である。
【００５４】下記組成物をニーダおよびサンドミルによ
り混練および分散して、磁気記録層塗料および非磁性下
層塗料を調製した。
り混練および分散して、磁気記録層塗料および非磁性下
層塗料を調製した。
【００５５】磁気記録層塗料組成物 （Ｐ／Ｂ＝５） Ｆｅ系磁性粉末 １００ 重量部 （ＢＥＴ法による比表面積 ５０ｍ2 ／ｇ，保磁力 １
６００Ｏｅ） スルホン酸Ｎａ含有ポリウレタン樹脂 ４ 重量部 スルホン酸Ｋａ含有塩化ビニル樹脂 １６ 重量部 カーボンブラック（旭＃５０） ４ 重量部 α−アルミナ ８ 重量部 イソセチルステアレート ４ 重量部 メチルエチルケトン ２００ 重量部 トルエン １５０ 重量部 シクロヘキサノン ２００ 重量部
６００Ｏｅ） スルホン酸Ｎａ含有ポリウレタン樹脂 ４ 重量部 スルホン酸Ｋａ含有塩化ビニル樹脂 １６ 重量部 カーボンブラック（旭＃５０） ４ 重量部 α−アルミナ ８ 重量部 イソセチルステアレート ４ 重量部 メチルエチルケトン ２００ 重量部 トルエン １５０ 重量部 シクロヘキサノン ２００ 重量部
【００５６】非磁性下層塗料組成物 （Ｐ／Ｂ＝５） α−Ｆｅ2 Ｏ3 １００ 重量部 （ＢＥＴ法による比表面積 ５２ｍ2 ／ｇ） スルホン酸Ｎａ含有ポリウレタン樹脂 ４ 重量部 スルホン酸Ｋａ含有塩化ビニル樹脂 １６ 重量部 イソセチルステアレート ４ 重量部 メチルエチルケトン ２００ 重量部 トルエン １５０ 重量部 シクロヘキサノン ２００ 重量部
【００５７】各組成物の分散液には、塗布直前に硬化剤
としてポリイソシアネート化合物（日本ポリウレタン社
製 コロネートＬ）を５重量部添加した。
としてポリイソシアネート化合物（日本ポリウレタン社
製 コロネートＬ）を５重量部添加した。
【００５８】このように調製された磁気記録層塗料およ
び非磁性下層塗料を、図２のコーティングシステムを用
いて厚さ６０μｍのポリエチレンテレフタレートフィル
ムからなる非磁性支持体の一方の面上に同時重層塗布し
た。この後、塗膜が未乾燥状態である間に、磁気記録層
の面内で等方的に磁場配向し、乾燥した。さらに非磁性
支持体の他方の面上に同様に塗布、磁場配向および乾燥
の各処理を施した。塗布厚は、乾燥後の塗膜厚さとして
非磁性下層が１．５μｍ、磁気記録層が０．５μｍとな
るようにした。その後、カレンダ装置により磁気記録層
表面両面の平滑処理を６０℃の条件でおこなった。
び非磁性下層塗料を、図２のコーティングシステムを用
いて厚さ６０μｍのポリエチレンテレフタレートフィル
ムからなる非磁性支持体の一方の面上に同時重層塗布し
た。この後、塗膜が未乾燥状態である間に、磁気記録層
の面内で等方的に磁場配向し、乾燥した。さらに非磁性
支持体の他方の面上に同様に塗布、磁場配向および乾燥
の各処理を施した。塗布厚は、乾燥後の塗膜厚さとして
非磁性下層が１．５μｍ、磁気記録層が０．５μｍとな
るようにした。その後、カレンダ装置により磁気記録層
表面両面の平滑処理を６０℃の条件でおこなった。
【００５９】このようにして得られた磁気シートは、直
径３．５インチの円盤状に打ち抜いた後、６０℃のオー
ブン中で２０時間、硬化熱処理を施し、実施例１のサン
プルシートを得た。
径３．５インチの円盤状に打ち抜いた後、６０℃のオー
ブン中で２０時間、硬化熱処理を施し、実施例１のサン
プルシートを得た。
【００６０】評価方法 サンプルシートは、次の方法により潤滑剤のライナへの
移行量を評価した。この評価方法につき、図６を参照し
て説明する。
移行量を評価した。この評価方法につき、図６を参照し
て説明する。
【００６１】図６（ａ）に示すように１０枚のサンプル
シート３０および１１枚のライナ３１を交互に積み重
ね、サンプルシートとライナのスタック３２とする。こ
のサンプルシートとライナのスタック３２を図６（ｂ）
に示すようにシャーレ３３中に収納して挟み込み、５０
０ｇの分銅３４で加圧する。この図６（ｂ）の状態で７
５℃の恒温槽中で２０日間保存後、サンプルシートを回
収し、サンプルシートから潤滑剤の抽出をおこない、潤
滑剤減少率（ライナへの移行率）を算出した。
シート３０および１１枚のライナ３１を交互に積み重
ね、サンプルシートとライナのスタック３２とする。こ
のサンプルシートとライナのスタック３２を図６（ｂ）
に示すようにシャーレ３３中に収納して挟み込み、５０
０ｇの分銅３４で加圧する。この図６（ｂ）の状態で７
５℃の恒温槽中で２０日間保存後、サンプルシートを回
収し、サンプルシートから潤滑剤の抽出をおこない、潤
滑剤減少率（ライナへの移行率）を算出した。
【００６２】潤滑剤の抽出操作は、保存後のサンプルシ
ートをヘキサンに含浸することによりおこなった。この
抽出溶液を一旦乾燥後、固化物を再度テトラヒドロフラ
ンに溶解した。このテトラヒドロフラン溶液をゲルパー
ミエーションクマトグラフィにより展開し、潤滑剤イソ
セチルステアレートを単離定量した。
ートをヘキサンに含浸することによりおこなった。この
抽出溶液を一旦乾燥後、固化物を再度テトラヒドロフラ
ンに溶解した。このテトラヒドロフラン溶液をゲルパー
ミエーションクマトグラフィにより展開し、潤滑剤イソ
セチルステアレートを単離定量した。
【００６３】基準サンプルとして、製造直後（移行試験
前）のサンプルシートをライナに接触させずに７５℃の
恒温槽中で２０日間保存し、この基準サンプルシートか
ら同様の方法により潤滑剤を定量分析した。
前）のサンプルシートをライナに接触させずに７５℃の
恒温槽中で２０日間保存し、この基準サンプルシートか
ら同様の方法により潤滑剤を定量分析した。
【００６４】潤滑剤減少率は〔数１〕により算出した。
【００６５】
【数１】
【００６６】〔実施例２〕本実施例は、分子量７０以上
の側鎖基を少なくとも一つ有する脂肪酸エステル化合物
として、ＣＨ3 ＣＨ2 Ｃ（ＣＨ2 ＯＣＯＣ11Ｈ23）
3 （トリメチロールプロパントリパームカネート 側鎖
基の分子量２１３）を用いた例である。
の側鎖基を少なくとも一つ有する脂肪酸エステル化合物
として、ＣＨ3 ＣＨ2 Ｃ（ＣＨ2 ＯＣＯＣ11Ｈ23）
3 （トリメチロールプロパントリパームカネート 側鎖
基の分子量２１３）を用いた例である。
【００６７】この化合物は、ＣＨ3 ＣＨ2 Ｃ≡基に、 -
（ＣＨ2 ＯＣＯＣ11Ｈ23）基が３個結合したものである
が、３個の -（ＣＨ2 ＯＣＯＣ11Ｈ23）基のうち、一個
を主鎖とし、残りの２個を側鎖と見做したものである。
したがって、側鎖としては分子量２１３のものが２個あ
る形をとる。
（ＣＨ2 ＯＣＯＣ11Ｈ23）基が３個結合したものである
が、３個の -（ＣＨ2 ＯＣＯＣ11Ｈ23）基のうち、一個
を主鎖とし、残りの２個を側鎖と見做したものである。
したがって、側鎖としては分子量２１３のものが２個あ
る形をとる。
【００６８】このトリメチロールプロパントリパームカ
ネートを４重量部用いた他は、前実施例１に準じてサン
プルシートを作成し、潤滑剤減少率を算出した。したが
って、重複する説明は記載を省略する。
ネートを４重量部用いた他は、前実施例１に準じてサン
プルシートを作成し、潤滑剤減少率を算出した。したが
って、重複する説明は記載を省略する。
【００６９】〔実施例３〕本実施例は、分子量７０以上
の側鎖基を少なくとも一つ有する脂肪酸エステル化合物
として、ＲＣＯＯＣＨ2 Ｃ（ＣＨ2 ＣＯＯＲ1 ）（ＣＨ
2 ＣＯＯＲ2 ）（ＣＨ2 ＣＯＯＲ3 ） （ペンタエリス
リットテトラデカネート）を用いた例である。ただし化
学式中、Ｒ，Ｒ1 ，Ｒ2 およびＲ3 は、いずれもＣ7 Ｈ
15およびＣ9 Ｈ19が５０％ずつ混在した化合物である。
したがって、この化合物は側鎖基として分子量１５７あ
るいは１８５のものが２個ある形をとる。
の側鎖基を少なくとも一つ有する脂肪酸エステル化合物
として、ＲＣＯＯＣＨ2 Ｃ（ＣＨ2 ＣＯＯＲ1 ）（ＣＨ
2 ＣＯＯＲ2 ）（ＣＨ2 ＣＯＯＲ3 ） （ペンタエリス
リットテトラデカネート）を用いた例である。ただし化
学式中、Ｒ，Ｒ1 ，Ｒ2 およびＲ3 は、いずれもＣ7 Ｈ
15およびＣ9 Ｈ19が５０％ずつ混在した化合物である。
したがって、この化合物は側鎖基として分子量１５７あ
るいは１８５のものが２個ある形をとる。
【００７０】このペンタエリスリットテトラデカネート
を４重量部用いた他は、前実施例１に準じてサンプルシ
ートを作成し、潤滑剤減少率を算出した。したがって、
ここでも重複する説明は記載を省略する。
を４重量部用いた他は、前実施例１に準じてサンプルシ
ートを作成し、潤滑剤減少率を算出した。したがって、
ここでも重複する説明は記載を省略する。
【００７１】〔比較例１〕潤滑剤としてオレイルオレエ
ート（側鎖基なし）を４重量部用いた他は、前実施例１
に準じてサンプルシートを作成し、潤滑剤減少率を算出
した。
ート（側鎖基なし）を４重量部用いた他は、前実施例１
に準じてサンプルシートを作成し、潤滑剤減少率を算出
した。
【００７２】〔比較例２〕潤滑剤としてブチルステアレ
ート（側鎖基なし）を４重量部用いた他は、前実施例１
に準じてサンプルシートを作成し、潤滑剤減少率を算出
した。
ート（側鎖基なし）を４重量部用いた他は、前実施例１
に準じてサンプルシートを作成し、潤滑剤減少率を算出
した。
【００７３】〔比較例３〕潤滑剤としてミリスチン酸
（側鎖基なし）を４重量部用いた他は、前実施例１に準
じてサンプルシートを作成し、潤滑剤減少率を算出し
た。
（側鎖基なし）を４重量部用いた他は、前実施例１に準
じてサンプルシートを作成し、潤滑剤減少率を算出し
た。
【００７４】〔比較例４〕潤滑剤としてＣ4 Ｈ9 （Ｃ2
Ｈ5 ）ＣＨＣＨ2 ＯＣＯＣ15Ｈ31 （イソオクチルパル
ミテート、側鎖基の分子量２９）を４重量部用いた他
は、前実施例１に準じてサンプルシートを作成し、潤滑
剤減少率を算出した。
Ｈ5 ）ＣＨＣＨ2 ＯＣＯＣ15Ｈ31 （イソオクチルパル
ミテート、側鎖基の分子量２９）を４重量部用いた他
は、前実施例１に準じてサンプルシートを作成し、潤滑
剤減少率を算出した。
【００７５】〔比較例５〕潤滑剤としてＣ4 Ｈ9 （Ｃ2
Ｈ5 ）ＣＨＣＨ2 ＯＣＯＣ13Ｈ27 （イソオクチルミリ
ステート、側鎖基の分子量２９）を４重量部用いた他
は、前実施例１に準じてサンプルシートを作成し、潤滑
剤減少率を算出した。
Ｈ5 ）ＣＨＣＨ2 ＯＣＯＣ13Ｈ27 （イソオクチルミリ
ステート、側鎖基の分子量２９）を４重量部用いた他
は、前実施例１に準じてサンプルシートを作成し、潤滑
剤減少率を算出した。
【００７６】以上のように作成した実施例１〜３および
比較例１〜５のサンプルシートにつき、潤滑剤減少率を
〔表１〕にまとめて示す。
比較例１〜５のサンプルシートにつき、潤滑剤減少率を
〔表１〕にまとめて示す。
【００７７】
【表１】
【００７８】〔表１〕の結果を検討すると、分子量７０
以上の側鎖基を少なくとも一つ有する脂肪酸エステル化
合物を潤滑剤として含む実施例１〜実施例３のサンプル
シートは、いずれも潤滑剤減少率が４．８％以下であ
り、極めて少ないことが明らかである。
以上の側鎖基を少なくとも一つ有する脂肪酸エステル化
合物を潤滑剤として含む実施例１〜実施例３のサンプル
シートは、いずれも潤滑剤減少率が４．８％以下であ
り、極めて少ないことが明らかである。
【００７９】これに対し、同じ脂肪酸エステル化合物で
あっても側鎖基を持たない直鎖型の化合物を潤滑剤とし
て含む比較例１〜比較例２のサンプルシートは、潤滑剤
減少率が３０〜４０％程度あり、実施例に比較して１０
倍以上多い。
あっても側鎖基を持たない直鎖型の化合物を潤滑剤とし
て含む比較例１〜比較例２のサンプルシートは、潤滑剤
減少率が３０〜４０％程度あり、実施例に比較して１０
倍以上多い。
【００８０】また比較例３ではエステルでなく脂肪酸そ
のものを潤滑剤として使用したが、潤滑剤として添加し
たミリスチン酸が磁性粉末に吸着して固定化されるであ
ろうことを考慮に入れると、潤滑剤減少率がすべてライ
ナへの移行に基づくものとは断定できない。しかしなが
ら、高温保存条件での耐久性の観点からも、本発明の目
的に沿うものではない。
のものを潤滑剤として使用したが、潤滑剤として添加し
たミリスチン酸が磁性粉末に吸着して固定化されるであ
ろうことを考慮に入れると、潤滑剤減少率がすべてライ
ナへの移行に基づくものとは断定できない。しかしなが
ら、高温保存条件での耐久性の観点からも、本発明の目
的に沿うものではない。
【００８１】さらに比較例４〜５では、側鎖基を含む脂
肪酸エステル化合物ではあるが、その側鎖基の分子量が
７０未満であるため、潤滑剤減少率は満足すべき値が得
られない。
肪酸エステル化合物ではあるが、その側鎖基の分子量が
７０未満であるため、潤滑剤減少率は満足すべき値が得
られない。
【００８２】以上、本発明の磁気記録媒体およびその製
造方法につき詳細な説明を加えたが、これらは単なる例
示であり、本発明はこれら実施例に何ら限定されない。
例えば、実施例では分子量７０以上の側鎖基を少なくと
も一つ有する脂肪酸エステル化合物を、磁気記録層およ
び非磁性下層の両方に内添する製造方法を採用したが、
いずれか一方の層に内添してもよい。また分子量７０以
上の側鎖基を少なくとも一つ有する脂肪酸エステル化合
物を、トップコート溶液として磁気記録層表面に塗布す
る方法を採用してもよい。これはいずれも他の潤滑剤と
併用してもよい。
造方法につき詳細な説明を加えたが、これらは単なる例
示であり、本発明はこれら実施例に何ら限定されない。
例えば、実施例では分子量７０以上の側鎖基を少なくと
も一つ有する脂肪酸エステル化合物を、磁気記録層およ
び非磁性下層の両方に内添する製造方法を採用したが、
いずれか一方の層に内添してもよい。また分子量７０以
上の側鎖基を少なくとも一つ有する脂肪酸エステル化合
物を、トップコート溶液として磁気記録層表面に塗布す
る方法を採用してもよい。これはいずれも他の潤滑剤と
併用してもよい。
【００８３】また磁気記録媒体としてＦＤを例にとった
が、ＨＤや磁気記録テープ、磁気カード等、磁気記録層
と非磁性下層を重層塗布するあらゆる磁気記録媒体に適
用して優れた走行性の向上効果等が得られる。さらに、
磁気記録層を２層とした層構成や、磁気記録層とは異種
の磁性粉末を非磁性下層に用いた層構成等、各種重層塗
布方式の磁気記録媒体に適用してもよい。
が、ＨＤや磁気記録テープ、磁気カード等、磁気記録層
と非磁性下層を重層塗布するあらゆる磁気記録媒体に適
用して優れた走行性の向上効果等が得られる。さらに、
磁気記録層を２層とした層構成や、磁気記録層とは異種
の磁性粉末を非磁性下層に用いた層構成等、各種重層塗
布方式の磁気記録媒体に適用してもよい。
【００８４】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、ライナ等への機構部品への潤滑剤の移行を低
減し、長期間あるいは高温条件等過酷な保存あるいは使
用条件下においても、安定した潤滑性能、走行性能を発
揮できるの磁気記録媒体およびその製造方法を提供する
ことが可能となる。
によれば、ライナ等への機構部品への潤滑剤の移行を低
減し、長期間あるいは高温条件等過酷な保存あるいは使
用条件下においても、安定した潤滑性能、走行性能を発
揮できるの磁気記録媒体およびその製造方法を提供する
ことが可能となる。
【図１】本発明の磁気記録媒体の層構成を示す概略断面
図である。
図である。
【図２】コーティングシステムの概略構成図である。
【図３】コーティングヘッドの動作の概略を示す図であ
る。
る。
【図４】他のコーティングヘッドの動作の概略を示す図
である。
である。
【図５】さらに他のコーティングヘッドの動作の概略を
示す図である。
示す図である。
【図６】サンプルシートからライナへの潤滑剤の移行を
測定する方法を示す図である。
測定する方法を示す図である。
１，１３…非磁性支持体、２…非磁性下層、３…磁気記
録層 １１…供給ロール、１２…巻き取りロール、１４…塗布
装置、１５…磁場配向装置、１６…乾燥装置、１７…カ
レンダ装置、１８…非磁性下層塗料用コーティングヘッ
ド、１９…磁気記録層塗料用コーティングヘッド、２
０，２４…塗料溜まり、２１，２５…スリット、２３…
非磁性下層塗料の塗膜、２６…磁気記録層塗料の塗膜、
２７…複合型のコーティングヘッド、３０…サンプルシ
ート、３１…ライナ、３２…サンプルシートとライナの
スタック、３３…シャーレ
録層 １１…供給ロール、１２…巻き取りロール、１４…塗布
装置、１５…磁場配向装置、１６…乾燥装置、１７…カ
レンダ装置、１８…非磁性下層塗料用コーティングヘッ
ド、１９…磁気記録層塗料用コーティングヘッド、２
０，２４…塗料溜まり、２１，２５…スリット、２３…
非磁性下層塗料の塗膜、２６…磁気記録層塗料の塗膜、
２７…複合型のコーティングヘッド、３０…サンプルシ
ート、３１…ライナ、３２…サンプルシートとライナの
スタック、３３…シャーレ
Claims (6)
- 【請求項１】 非磁性支持体上に、非磁性下層および磁
気記録層が順次塗布形成された磁気記録媒体であって、 前記非磁性下層および磁気記録層のいずれか少なくとも
一方は、 分子量７０以上の側鎖基を少なくとも一つ有する脂肪酸
エステル化合物を含むことを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項２】 前記側鎖基は、炭化水素基および脂肪酸
エステル基のうちのいずれか一種であることを特徴とす
る請求項１記載の磁気記録媒体。 - 【請求項３】 非磁性支持体上に非磁性下層塗料および
磁気記録層塗料を順次塗布する工程を有する磁気記録媒
体の製造方法であって、 前記非磁性下層塗料および磁気記録層塗料のいずれか少
なくとも一方は、 分子量７０以上の側鎖基を少なくとも一つ有する脂肪酸
エステル化合物を含むことを特徴とする磁気記録媒体の
製造方法。 - 【請求項４】 前記側鎖基は、炭化水素基および脂肪酸
エステル基のうちのいずれか一種であることを特徴とす
る請求項３記載の磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項５】 非磁性支持体上に非磁性下層塗料、磁気
記録層塗料およびトップコート溶液を順次塗布する工程
を有する磁気記録媒体の製造方法であって、 前記トップコート溶液は、 分子量７０以上の側鎖基を少なくとも一つ有する脂肪酸
エステル化合物を含むことを特徴とする磁気記録媒体の
製造方法。 - 【請求項６】 前記側鎖基は、炭化水素基および脂肪酸
エステル基のうちのいずれか一種であることを特徴とす
る請求項５記載の磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10140002A JPH11339253A (ja) | 1998-05-21 | 1998-05-21 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
| US09/312,771 US6165581A (en) | 1998-05-21 | 1999-05-17 | Magnetic recording medium apparatus |
| EP99109954A EP0959461A1 (en) | 1998-05-21 | 1999-05-20 | Magnetic recording medium and manufacturing method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10140002A JPH11339253A (ja) | 1998-05-21 | 1998-05-21 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11339253A true JPH11339253A (ja) | 1999-12-10 |
Family
ID=15258657
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10140002A Pending JPH11339253A (ja) | 1998-05-21 | 1998-05-21 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6165581A (ja) |
| EP (1) | EP0959461A1 (ja) |
| JP (1) | JPH11339253A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001319324A (ja) * | 2000-05-12 | 2001-11-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JP4313739B2 (ja) * | 2004-08-19 | 2009-08-12 | 富士フイルム株式会社 | 記録ディスクカートリッジ |
Family Cites Families (30)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS582414B2 (ja) * | 1978-04-24 | 1983-01-17 | 日本ビクター株式会社 | 磁気記録媒体 |
| JPS55157131A (en) * | 1979-05-25 | 1980-12-06 | Hitachi Ltd | Magnetic tape |
| US4309482A (en) * | 1979-07-19 | 1982-01-05 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
| US4303738A (en) * | 1980-07-28 | 1981-12-01 | International Business Machines Corporation | Magnetic media having tridecyl stearate lubricant |
| JPS59186130A (ja) * | 1983-04-06 | 1984-10-22 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
| JPS61915A (ja) * | 1984-06-13 | 1986-01-06 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS61156521A (ja) * | 1984-12-27 | 1986-07-16 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPH0715748B2 (ja) * | 1985-02-27 | 1995-02-22 | 日立マクセル株式会社 | 磁気記録媒体 |
| JPS6236726A (ja) * | 1985-08-09 | 1987-02-17 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| US4741977A (en) * | 1985-08-20 | 1988-05-03 | Tdk Corporation | Magnetic sheet |
| EP0222564B1 (en) * | 1985-11-01 | 1990-12-27 | Kao Corporation | Magnetic recording medium |
| US4731292A (en) * | 1985-11-18 | 1988-03-15 | Konishiroku Photo Industry Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
| JPS62140240A (ja) * | 1985-12-13 | 1987-06-23 | Tohoku Metal Ind Ltd | 磁気記録媒体 |
| IT1188635B (it) * | 1986-03-27 | 1988-01-20 | Ausimont Spa | Lubrificanti per fluoropolieterei interni per mezzi magnetici di registrazione |
| JPH0792907B2 (ja) * | 1986-05-09 | 1995-10-09 | 日立マクセル株式会社 | 磁気記録媒体 |
| US4772522A (en) * | 1986-07-21 | 1988-09-20 | Tdk Corporation | Magnetic recording medium |
| US4803133A (en) * | 1986-12-26 | 1989-02-07 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
| JPS63209022A (ja) * | 1987-02-25 | 1988-08-30 | Toyobo Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JP2559250B2 (ja) * | 1988-04-01 | 1996-12-04 | 富士写真フイルム株式会社 | 磁気記録媒体 |
| US5045390A (en) * | 1988-04-22 | 1991-09-03 | Konica Corporation | Magnetic recording medium |
| DE68919439T2 (de) * | 1988-06-06 | 1995-06-01 | Fuji Photo Film Co Ltd | Magnetischer Aufzeichnungsträger. |
| JP2649951B2 (ja) * | 1988-07-21 | 1997-09-03 | 富士写真フイルム株式会社 | 磁気記録媒体 |
| DE3924449A1 (de) * | 1988-07-25 | 1990-02-01 | Fuji Photo Film Co Ltd | Magnetaufzeichnungsmedium |
| JPH0296922A (ja) * | 1988-10-04 | 1990-04-09 | Ube Ind Ltd | 磁気記録媒体 |
| JP2831672B2 (ja) * | 1989-01-18 | 1998-12-02 | 花王株式会社 | 磁気記録媒体 |
| US5045372A (en) * | 1989-01-19 | 1991-09-03 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Magnetic recording medium containing ferromagnetic metal powder and a specific fatty acid ester in a content dependent upon the specific surface area of the ferromagnetic metal powder |
| US5230964A (en) * | 1989-10-05 | 1993-07-27 | The Dow Chemical Company | Magnetic recording media a comprising magnetic particles binder and (fluorinated phenoxy)(3-perfluoroalkylphenoxy)-cyclic phosphazene lubricant |
| JP3017251B2 (ja) * | 1990-06-20 | 2000-03-06 | コニカ株式会社 | 磁気記録媒体 |
| JPH06314446A (ja) * | 1992-06-19 | 1994-11-08 | Tdk Corp | 光磁気ディスク |
| JP3263514B2 (ja) * | 1993-12-27 | 2002-03-04 | ティーディーケイ株式会社 | 磁気記録媒体 |
-
1998
- 1998-05-21 JP JP10140002A patent/JPH11339253A/ja active Pending
-
1999
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