JPS62107438A - 磁気記録媒体 - Google Patents

磁気記録媒体

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JPS62107438A
JPS62107438A JP24773585A JP24773585A JPS62107438A JP S62107438 A JPS62107438 A JP S62107438A JP 24773585 A JP24773585 A JP 24773585A JP 24773585 A JP24773585 A JP 24773585A JP S62107438 A JPS62107438 A JP S62107438A
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JP
Japan
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magnetic
parts
recording medium
acid
radiation
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Application number
JP24773585A
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English (en)
Inventor
Toru Shimozawa
下沢 徹
Shigeyo Miyamori
宮森 薫代
Masaharu Nishimatsu
西松 正治
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TDK Corp
Original Assignee
TDK Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
工 発明の背景 技術分野 本発明は、特に六方晶系の板状磁性粉を含有する磁性層
を有する塗布型の磁気記録媒体に関する。 さらに詳し
くは六方晶系板状磁性粉を特にディスク媒体に使用した
時のオーバーライド特性および出力を改善しようとする
ものである。 先行技術とその問題点 近年、磁気記録に関して、記録の大容財化、小型化を達
成するために記録密度の向トが強く要望されている。 従来、生産性等に優れたメリットを有する塗布型の磁気
記録媒体としては、γ−Fe2O3、Co被着y−Fe
203等の針状磁性粉を含有させた磁性層を有するもの
か汎用されてきた。  しかしながら、このような磁性
粉を有する磁気記録媒体では、その記録密度に、おのず
から限界がある。 そこで、より高記録密度化を可能にならしめる方策とし
て、磁気記録媒体の面に対し垂直方向の残留磁化を用い
る方式か提案されている。 このような垂直方式に用いられる媒体としては、例えば
BaフェライトやSrフェライト等の六方晶系板状磁性
粉を磁性層に含有する磁気記録媒体がある。 このような媒体を用いることによって、より高い記録密
度化が実現できるが、フロッピーディスク等のディスク
媒体として、従来のリング型磁気ヘッドを用いたとき、
ト分なオーバーライド特性および出力を得ることができ
ないという問題があり、この点の改8が強く必要とされ
ている。 ■ 発明の目的 本発明の目的は、オーバーライド特性か良好で、しかも
記録密度および出力が高く、磁気特性の良好な磁気記録
媒体、特にディスク媒体を提供することにある。 ■ 発明の開示 このような目的は、下記の本発明によって達成される。 すなわち、本発明は、支持体上にゝト均粒径0.2μI
以F、1均板状比が2未満の板状磁性粉とバインダーと
を含4Tする磁性層を有し、媒体の角型比か0.5〜0
.75、重置方向の保磁力か800 Oe以ドであり、
しかも磁性層の膜厚が1.8μI以Fであることを特徴
とする磁気記録媒体である。 ■ 発明の具体的構成 以ト、本発明の具体的構成について詳細に説明する。 本発明の磁気記録媒体(以ド、単に媒体という)は、F
記のような六方晶系の板状磁性粉とバインダーとを含有
する磁性層を有する。 そしてこのような磁性層のIIQ厚は1.8μI以F、
特に0.4〜1.6μm、より好ましくは0.4〜1.
4μmである。 この値が1゜8μmをこえると、オー
バーライド特性か悪くなり、高記録密度化を維持しつつ
、同時にいわゆるリングヘット型を用いたとき重ね占を
行うとき支障か生じる。 膜厚のド限値は通常0.4μm程度であって、0.4μ
m未満になると、磁性塗料が塗15しにくくなり、磁性
層の表面が平滑な記録媒体を得ることが困難となってし
まう。 従って、エンベロープ特性かわるくなる。 このような磁性層を任する媒体の特性として、+2面屯
直方向の屯直角型比Br上/ B m土は0.5〜0.
75、より好ましくは0.50〜0.70である。 さらに垂直方向の保磁力Hc上は800Oe以下、好ま
しくは600〜750Oeである。 これらの値が上記の値をこえた時、すなわち、垂直角型
比が0.75をこえ、しかも保磁力Hcが800 Oe
をこえたときは、オーバーライド特性が悪くなり、リン
グ型ヘッドを用いていわゆる重ね書きができなくなると
いう不都合が生じる。 また垂直角型比が0.5未満になると磁性層の表面粗度
が低下し、しかも高記録密度化ができなくなるため好ま
しくない。 そして、Hc工600 Oe未満では十分な出力が得ら
れない。 なお、垂直角型比および保磁力Hc土は下記のようにd
lQ定する。 すなわち、媒体表面に垂直方向にて磁化
曲線を測定し、これを反磁界補正する。 そして、これ
から残留磁化Br上、飽和磁化8″土、保磁力Hc上を
測定する。 垂直角型比はこのBr工/ B m上の比
である。 いわゆる両面記録媒体の場合であっても、下記の測定方
法によればよい。 本発明で用いる六方晶系の板状磁性粉としては、バリウ
ムフェライト、ストロンチウムフェライト等の六方晶フ
ェライト系か好適であるこのような磁性粉の8V−均粒
径は、% 6に1変換特性上0.2μm以F、より好ま
しくは0.02〜0.15μm、特に0.02〜0.1
01.tmが好ましい。 また、磁性粉の平均厚みは、o、ot−o。 2μm程度である。 ここで、平均粒径とは、電子顕微鏡写真〔走査形顕微鏡
(SEM)および透過形顕微鏡(TEM))によフて、
例えば六方晶系のバリウムフェライト粒子の断面50個
程度を観察し、粒径についての測定値をモ均したもので
ある。 ゝト均厚みも電子顕微鏡写真による測定値の平均である
。 また平均板状比とは平均粒径/平均厚みの値である
。 あるいは、X線回折による2θの半値巾によってのこれ
らの値を測定することもできる。 平均粒径が0.20μ印をこえると表面粗度が低下し、
線記録密度特性か悪くなる。 また、平均粒径を平均厚みで除した値、すなわち)向板
状比は2未満、特に1〜1゜8であることが好ましい。  この値を満足する場合には、オーバーライド特性の向
上がきわめて顕著なものとなる。 用いるバリウムフェライトとしては、BaFe 120
19等の六方晶系バリウムフェライトやバリウムフェラ
イトのBa、Feの一部をCa、Sr、Pb、Co、N
i、Ti、Cr、Zn。 In、Mn、Cu、Ge、Nb、Zr、Snその他の金
属で置換したもの等が挙げられる。 これらは併用してもよい。 ては、S r F e 1201q、あるいはこれを下
記に準じて置換したものであってもよい。 バリウムフェライト等の製法としては、セラミック法、
共沈−焼成法、水熱合成法、フラックス法、ガラス結晶
化法、アルコキシド法、プラズマジェット法等があり、
これらの方法の詳細については小池吉康、久保修共著“
セラミックス18 (1983) No、  10″な
どを参11fiすることができる。 本発明では下記のいずれの製法を用いてもよいが、特に
板状比2未満の板状磁性粉を作製するには、なかでもガ
ラス結晶化法によるのが好適である。 以ド、ガラス結晶法について詳述すると、ガラス結晶化
法は、通常、下記のプロセスに従って行われる。 原料→混合→溶解→急冷→結晶化→抽出→水洗・乾燥→
バリウムフェライト微粒tすなわち、BaO1またはB
aOと と混合し、加熱溶融する。 そしてこの溶融物を急冷し
た後、再加熱しガラス物質の中からバリウムフェライト
を析出させ、酢酸などの弱い酸でマトリックスを溶解し
、粒子を分離、鯖製する。 記録・再生に適した保磁力を得るためには、CooとT
iO2を少量、BaO1 Fe203 、B203とともに白金るつぼ中で高周波
溶解したのち、高速回転しているロールのトに溶融物を
落とすことにより急冷し、ガラス状のフレークを作る。  このフレークを100〜1500℃に再加熱し、結晶
化させた後、熱酢酸溶液中で溶解、最後に抽出したバリ
ウムフェライトを水洗・乾燥する。 この方法ではガラスマトリックス中で核が一様に析出し
、成長するので微粒子化が容易であり、粒度分布もシャ
ープで、粒子−個一個がガラスマトリックスにより分離
されている。 したかりて分散性の良い粒子が得られる
。 ガラス形成分質として、P2O5がFe2O3を高
濃度に含み得るが、P2O5を用いた場合熱処理するこ
とにより、P205−Fe2 o:]化合物系が析出す
る。 また5i02を用いた場合、溶融温度か高くなり
、実用的に望ましくない。 このような製造方法をとることにより、他の製法よりも
板状比の小さい磁性粉を作ることが容易となる。 従来
は板状比2.8程度のものしか作ることができなかった
が上記の反応条件を厳しくしたり、加熱条件のコントロ
ール等により、板状比が2未満の磁性粉を作ることかで
きる。 またこのような磁性粉の保磁力は800Oe未満、特に
好ましくは600〜750Oeである。 磁性粉を磁性塗料とする際に用いるバインダーは、放射
線硬化性、熱可塑性樹脂、熱硬化性もしくは反応型樹脂
またはこれらの混合物等が使用されるが、得られる膜強
度等から熱硬化性樹脂、放射線硬化性樹脂を用いること
が好ましい。 熱可塑性樹脂としては軟化温度が150℃以■、モ均分
子量to、ooo〜 200.000.重合度200〜2,000程度のもの
である。 熱硬化樹脂または反応型樹脂としてもこのような重合度
等のものであり、塗布、乾燥後に加熱することにより、
縮合、付加等の反応により分子mは無限大のものとなる
ものである。 そして、これらの樹脂のなかで、樹脂か
熱分解するまでの間に軟化または溶融しないものが好ま
しい。 II一体的には例えばフェノール樹脂、エポキシ樹脂、
ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、ブチラール樹脂、
ホルマール樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリ
コーン樹脂、アクリル系反応樹脂、ポリアミド樹脂、エ
ボキシーボリアミト樹脂、飽和ポリエステル樹脂、尿素
ホルムアルデヒド樹脂などの縮重合系の樹脂あるトブレ
ボリマーの混合物、メタクリル酸塩共重合体とジイソシ
アネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリオー
ルとポリイソシアネートの混合物、低分−7!−川グリ
コール/高分子量ジオール/トリフェニルメタントリイ
ソシアネートの混合物など、上記の縮重合系樹脂とイソ
シアネート化合物などの架橋剤との混合物、塩化ビニル
−酢酸ビニル(カルボン酸含有も含む)、塩化ビニル−
ビニルアルコール−酢酸ビニル(カルボン酸含イ■も含
む)、塩化ビニル−塩化ビニリデン、塩化ビニル−アク
リロニトリル、ビニルブチラール、ビニルホルマール等
のビニル共重合系樹脂と架橋剤との混合物、ニトロセル
ロース、セルロースアセトブチレート笠の繊維素系樹脂
と架橋剤との混合物、ブタジェン−アクリロニトリル等
の合成ゴム系と架橋剤との混合物、さらにはこれらの混
合物か好適である。 そして、特に、エポキシ樹脂とブチラール樹++lZ 
  L、   −y   −i       ++、 
 NJ  IIIA  b   /7−++L:+  
Δ 外fn      :に−ra  41;  −&
  −、n3.058,844号に記載のエポキシ樹脂
とポリビニルメチルエーテルとメチロールフェノールエ
ーテルとの混合物、また特開昭49−131101号に
記載のビスフェノールA型エポキシ樹脂とアクリル酸エ
ステルまたはメタクリル酸エステル重合体との混合物が
好ましい。 このような、熱硬化性樹脂を硬化するには、一般に加熱
オーブン中で50〜80℃にて6〜100時間加熱すれ
ばよい。 バインダーとしては、放射線硬化型化合物を硬化したも
の、すなわち放射線硬化性樹脂を用いたものが特に好ま
しい。 放射線硬化性化合物の具体例としては、ラジカル重合性
を有する不飽和=−%結合を示すアクリル酸、メタクリ
ル酸、あるいはそれらのエステル化合物のようなアクリ
ル系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系二
重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結合
等の放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を熱
可塑性樹脂の分子中に含有または導入した樹脂である。  その池数射線照射により架橋重合する不飽和−0重粘
合を有する化合物であれば用いることかできる。 放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を熱可塑
性樹脂の分子中に含有する樹脂としては次の様な不飽和
ポリエステル樹脂がある。 分子3n中に放射線硬化性不飽和二重結合を含有するポ
リエステル化合物、例えば下記(2)の多塩基酸と多価
アルコールのエステル結合から成る飽和ポリエステル樹
脂で多塩基酸の一部をマレイン酸とした放射線硬化性不
飽和ニー市結合を含有する不飽和ポリエステル樹脂を挙
げることができる。 放射線硬化性不飽和ポリエステル
樹脂は多塩基酸成分1種以北と多価アルコール成分1程
以−Fにマレイン酸、フマル酸等を加え常法、すなわち
触媒の存在下で、180〜200℃、窒素雰囲気下、脱
水あるいは脱アルコール反応の後、240〜280℃ま
で昇温し、0.5〜lmmHgの減圧丁、縮合反応によ
り得ることができる。 マレイン酸やフマル酸等の含有
量は、製造時の架橋、放射線硬化性等から酸成分中1〜
40モル%、好ましくは10〜30モル%である。 放射線硬化性樹脂に変性できる熱可塑性樹脂の例として
は、次のようなものを挙げることができる。 (1)塩化ビニール系共重合体 塩化ビニール−酢酸ビニール−ビニールアルコール共重
合体、塩化ビニール−ビニールアルコール共重合体、塩
化ビニール−ビニールアルコール−プロピオン酸ビニー
ル共重合体、塩化ビニール−酢酸ヒニールーマレイン酸
共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−ビニルアルコ
ール−マレイン酸共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニー
ル−末端OH側鎖アルキル基共重合体、例えばUCC社
製VROH,VYNClVYEGX、VERR,VYE
S、VMCA、VAGH,UCARMAG520、UC
ARM系二重結合、マレイン酸系二1■結合、アリル系
二重結合を導入して放射線感応変性を行う。 これらはカルボン酸を含有してもよい。 (2)飽和ポリエステル樹脂 フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、コハク酸、ア
ジピン酸、セバシン酸のような飽和多塩基酸と、エチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン、ト
リメチロールプロパン、1,2プロピレングリコール、
1.3ブタンジオール、ジプロピレングリコール、1゜
4ブタンジオール、1,6ヘキサンジオール、ペンタエ
リスリット、ソルビトール、グリセリン、ネオペンチル
グリコール、1.4シクロヘキサンジメタツールのよう
な多価アルコールとのエステル結合により得られる飽和
ポリニスデル樹脂またはこれらのポリエステル樹脂をS
O3Na等で変性した樹脂(例えばバイロン53S)が
例として挙げられ、これらも放射線感応変性を行う。 (3)ポリビニルアルコール−f−樹脂ポリビニルアル
コール、ブチラール樹脂、アセタール樹脂、ホルマール
樹脂およびこれらの成分の共重合体で、これら樹脂中に
含まれる水酸基に対し放射M感応変性を行う。 (4)エポキシ系樹脂、フォノキシ系樹脂ビスフェノー
ルAとエピクロルヒドリン、メチルエピクロルヒドリン
の反応によるエポキシ樹脂、例えばシェル化学製(エピ
コート152、+54.828 、100+、 +00
4、+007) 、ダウケミカル製(D E N431
 、 D E R732、D E R511、DER3
31)、大日本インキ製(エビクロン400 、800
)、さらに上記エポキシの高重合度樹脂であるUCC社
製フェノキシ樹脂(PKHA、PKHC,PにHH)、
臭素化ビスフェノールAとエピクロルヒドリンとの共重
合体、大日本インキ化学P業製(エピクロン145゜1
52 、+5:] 、 +120)等があり、またこれ
らにカルボン酸基を含有するものも含まれる。 これら
樹脂中に含まれるエポキシ基を利用して放射線感応変性
を行う。 (5)繊維素誘導体 各種のものが用いられるか、特に効果的なものは硝化綿
、セルローズアセトブチレート、エチルセルローズ、ブ
チルセルローズ、アセチルセルローズ等が好適である樹
脂中の水酸基を活用して放射線感応変性を行う。 その他、放射線感応変性に用いることのできる樹脂とし
ては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステル
樹脂、ポリビニルピロリドン樹J指および誘導体(pv
pオレフィン共重合体)、ポリアミド樹脂、ポリイミド
樹脂、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸基
を含有するアクリルエステルおよびメタクリルエステル
を重合成分として少なくとも 種含むアクリル系樹脂等
も有効である。 以下にエラストマーもしくはプレポリマーの例を挙げる
。 (1)ポリウレタンエラストマーもしくはプレポリマー ポリウレタンの使用は耐摩耗性、および基体フィルム、
例えばPETフィルムへの接着性が良い点で特に有効で
ある。 ウレタン化合物の例としては、イソシアネート
として、2.4−トルエンジイソシアネート、2.6−
トルエンジイソシアネート、1.3−キシレンジイソシ
アネート、1.4−キシレンジイソシアネート、1.5
−ナフタレンジイソシアネート、m−フェニレンジイソ
シアネート、p−フェニレンジイソシアネート、3.3
′−ジメチル−4,4′−ジフェニルメタンジイソシア
ネート、4.4′−ジフェニルメタンジイソシアネート
、3.3′−ジメチルビフェニレンジイソシアネート、
4.4′−ビフェニレンジイソシアネート、ヘキサメチ
レンジイソシアネート・ インフオロンジイソシアネー
ト、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、デスモ
ジュールL、デスモジュールN等の名種多価イソシアネ
ートと、線状飽和ポリエステル(エチレンクリコール、
ジエチレングリコール、グリタンジオール、1.6−ヘ
キサンジオール、ペンタエリスリット、ソルビトール、
ネオペンチルグリコール、1.4−シクロヘキサンジメ
タツールの様な多価アルコールと、フタル酸、イソフタ
ル酸、テレフタル酸、コハク酸、アジピン酸、セバシン
酸の様な飽和多塩基酸との縮重合によるもの)、線状飽
和ポリエーテル(ポリエチレングリコール、ポリプロピ
レングリコール、ポリテトラメチレングリコール)やカ
プロラクタム、ヒドロキシル含有アクリル酸エステル、
ヒドロキシル含有メタクリル酸エステル等の各+nポリ
エステル類の縮重合物により成るポリウレタンエラスト
マー、プレポリマーか有効′である。 これらのウレタンエラストマーの末端のイソシアネート
基または水酸基と、アクリル系二ili結合またはアリ
ル系二゛屯結合等を有する単に体とを反応させることに
より、放射線感応性に変性することは非常に°効果的で
ある。 また、末評?−≦枡ILシl、て0阿 CO(
’)H篤を介イー1するものも含む。 さらに、不飽和二重結合を有する長鎖脂肪酸のモノある
いはジグリセリド等、イソシアネート基と反応する活性
水素を持ち、かつ放射線硬化性を存する不飽和二重結合
を有する41量体も含まれる。 (2)アクリロニトリル−ブタジェン共重合エラストマ
ー シンクレアペトロケミカル社製ポリBDリタイッドレシ
ンとして市販されている末端水酸基のあるアクリロニト
リルブタジェン共重合体プレポリマーあるいは日本セオ
ン社製ハイカー+432J等のエラストマーは、特にブ
タジェン中のL重結合が放射線によりラジカルを生じ架
橋および組合させるエラストマー成分として適する。 (3)ポソブタジエンエラストマー シンクレアベトロケミカル社製ポリBDリタイッドレジ
ンR−15等の低分子量末端水酸基を有するプレポリマ
ーか特に熱可塑性樹脂との相溶性の点で好適である。 
R−15プレポリマーにおいては分を末端が水酸基とな
っているl)、分子末端にアクリル系不飽和二重結合を
付加することにより放射線感応性を高めることか可能で
あり、バインダーとしてさらに有利となる。 またポリブタジェンの環化物、日本合成ゴム製CBR−
M901も熱可塑性樹脂との組合せによりすぐれた性質
を有している。 その他、熱可塑性ニラストアーおよびそのプレポリマー
の系で好適なものとしては、スチレン−ブタジェンゴム
、塩化ゴム、アクリルゴム、イソプレンゴムおよびその
環化物(日本合成ゴム製ClR701)があり、エポキ
シ変性ゴム、内部可塑化飽和線状ポリエステル(東洋紡
バイロン#300)等のエラストマーも放射線感応変性
処理を施すことにより存効に利用できる。 オリゴマー、モノマーとして本発明で用いられる放射線
硬化性不飽和二重結合を有する化合物としては、スチレ
ン、エチルアクリレート、エチレングリコールジアクリ
レート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチ
レングリコールジアクリレート、ジエチレングリコール
ジメタクリレート、1,6−ヘキサングリコールジアク
リレート、1.6−ヘキサングリコールジアクリレート
、N−ビニルピロリドン、ペンタエリスリトールテトラ
アクリレート(メタクリレート)、ペンタエリスリトー
ルトリアクリレート(メタクリレート)、トリメチロー
ルプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパン
トリメタクリレート、多官能オリゴエステルアクリレー
ト(アロニックスM−7100、M−5400,550
0,5700等、東亜合成)、ウレタンエラストマーに
ッポンラン4040)のアクリル変性体、あるいはこれ
らのものにC0OH等の官能基が導入されたもの、トリ
メチロールプロパンジアクリレート(メタクリレート)
フェノールエチレノキシド付加物のアクリレートくメタ
クリレート)、下記一般式で示されるペンタエリスリト
ール縮合環にアクリル基(メタクリル基)またはεカプ
ロラクトン−アクリル基のついた化合物、式中、m=1
、a=2、b=4の化合物(以下、特殊ペンタエリスリ
トール縮合物Aという)、 m−L、a=3、b=3の化合物(以下、特殊ペンタエ
リスリトール縮合物Bという)、m−1、a=6、b=
oの化合物(以下、特殊ペンタエリスリトール縮合物C
という)、m−2、a=6、b=oの化合物(以下、特
殊ペンタエリスリトール縮合物りという)、および下記
式一般式で示される特殊アクリレート類等が挙げれる。 1)   (CH2=CHCOOCH2)3−CCH2
0H(特殊アクリレートA) 2)   (CH2=CHCOOCH2)3−CCH2
CH3(特殊アクリレートB) 3)   (CH2=CHC0(OC3H6)n −0
CH2)3−CCH2CH3(特殊アクリレートC) (特殊アクリレートD) (特殊アクリレートE) CH2CH2C00CH=CH2 (特殊アクリレートF) (n=:16)       (特殊アクリレートG)
(特殊アクリレートH) CH2CH2C00CH=CH2 (特殊アクリレートr) (特殊アクリレートJ) Aニアクリル酸、   x:多価アルコールY:多塩基
酸     く特殊アクリレートK)12)    A
RM  N+r1M  AAニアクリノ漕  M:2価
アルコール(特殊アクリレートし) 次に、放射線感応性バインダー合成例を説明する。 a)塩化ビニール酢酸ビニール共重合系樹脂のアクリル
変性体(放射線感応変性樹脂)の合成OH基を4Tする
一部ケン化塩ビー酢ビ共重合体(嘔均屯合度 n=50
0)750部とトルエン1250部、シクロへキサノン
500部を51の4つ[1フラスコに仕込み、加熱溶解
し、80℃′iJ−温後トリレンジイソシアネートの2
−ヒドロキシエチルメタクリレートアダクト※を61、
4部加え、さらにオクチル酸スズ0.012部、ハイド
ロキノン0.012部を加え、80℃でN2気流中、N
GO反応率が90%となるまで反応せしめる。 反応路7 ?&冷却し、メチルエチルケトン1250部
を加え希釈する。
【※トリレンジイソシアネート(TDI)の2−ヒト、
ロキシエチルメタクリレート(2HEMA)アダクトの
製法 TDI348部をN2気流中11の4つロフラスコ内で
80℃に加熱後、2−エチレンメタクリレート260部
、オクチル酸スズ0.07部、ハイドロキノン0.05
部を反応缶内の温度が80〜85℃となるように冷却コ
ントロールしながら滴下終了後80℃で3時間撹拌し、
反応を完結させる。 反応路Y後取り出して、冷却後、白色ペースト状のTD
Iの2HEMAを得た。】 b)ブラチール樹脂アクリル変性体に合成(放射線感応
変性樹脂) ブチラール樹脂積木化学fiBM−8100部をトルエ
ン191.2部、シクロへキサノン71.4分と共に5
1の4つ目フラスコに仕込み、加熱溶解し、80℃昇f
A後TDIの2HEMAアダクト※を7.4部加え、さ
らにオクチル酸スズ0.015部、ハイドロキノン0.
015部を加え、80℃でN2気流中NCO反応率が9
0%以上となるまで反応せしめる。 反応路r後冷却し、メチルエチルケトンにて希釈する。 C)飽和ポリエステル樹脂アクリル変性体の合成(放射
線感応変性樹脂) 飽和ポリエステル樹脂(東洋紡バイロンRV−ZOO)
、100 ?;f3ヲl’ )t/l−:/ 116部
、メチルエチルケトン116部に加熱溶解し、80℃昇
温後、TDIの2HEMAアダクト※を3.55部加え
、さらにオクチル酸スズ0.007部、ハイドロキノン
0.007部を加え、80℃でN2気流中NCO反応率
が90%以上となるまで反応せしめる。 d)◎エポキシ樹脂アクリル変性体の合成(放射線感応
変性樹脂) エポキシ樹脂(シェル化学製エピコート1007)40
0部をトルエン50部、メチルエチルケトン50部に加
熱溶解後、N、N−ジメチルベンジルアミン0.006
部、ハイドロキノン0.003部を添加し80℃とし、
アクリル酸69部を滴下し、80℃で酸価5以下となる
まで反応せしめる。 ◎フェノキシ樹脂アクリル変性体の合成(放射線感応変
性樹脂) OH,lを存するフェノキシ樹脂(PKHH:UCC社
製 分子量30000)600部、メチルエチルケトン
1800部を31の4つロフラスコに仕込み、加熱溶解
し、80″C昇温後、トリレンジイソシアネートの2と
ドロキシエチルメタクリレートアダクトを6.0部加え
、さらにオクチル酸スズ0.012部、ハイドロキノン
0.012部を加え、80℃でN2気流中、NGO反応
率が90%となるまで反応せしめる。 このフェノキシ変性体の分F lは、35000.1分
子当りの二重結合は1個である。 e)ウレタンエラストマーアクリル変性体の合成(放射
線硬化性エラストマー) 末端イソシアネートのジフェニルメタンジイソシアネー
ト(MD I )系ウレタンプレポリマー(日本ポリウ
レタン製ニッポラン3119)250部、2HEMA3
2.5部、ハイドロキノン0,07部、オクチル酸スズ
0.009部を反応缶にいわ、80℃に加熱溶解後、T
D夏43.5部を反応缶内の温度が80〜90℃となる
ように冷却しながら滴下し、滴ド終7後、80℃で反応
率95%以上となるまで反応せしめる。 f)ポリエーテル系末端ウレタン変性エラストマーアク
リル変性体(放射線硬化性エラストマー)の合成 日本ポリウレタン社製ポリエーテルPTG−500,2
50部、2HEMA32.5部、ハイドロキノン0.0
7部、オクチル酸スズ0゜009部を反応缶にいれ、8
0℃に加熱溶解後、TDI43.5部を反応缶内の温度
が80〜90℃となるように冷却しながらf4′Fし、
滴下終了後、80℃で反応率95%以上となるまで反応
せしめる。 g)ポリブタジェンエラストマーアクリル変性体の合成
(放射線硬化性ニラストアー)シンクレアベト口ケミカ
ル社製低分子量末端水酸基ポリブタジェンポリBDリク
イットレジンR−15250部、2HEMA32.5部
、ハイドロキノン0.07部、オクチル酸スズ0.00
9部を反応缶にいれ、80℃に加熱溶解後、TDI43
.5部を反応缶内の温度が80〜90℃となるように冷
却しながら滴下し、滴下終了後、80℃で反応率95%
以上となるまで反応せしめる。 高分子には、放射線照射により崩壊するものと分子間に
架橋を起こすものが知られている。 分子間に架橋を起すものとしては、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリスチレン、ポリアクリル酸エステル、
ポリアクリルアミド、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、
ポリビニルピロリドンゴム、ポリビニルアルコール、ポ
リアクリルンがある。 このような架橋型ポリマーであ
れば、上記のような変性を特に施さなくても、架橋反応
が起こるので、葭記変性体の他に、これらの樹脂はその
まま使用可能である。 このような放射線硬化性樹脂を硬化するには、公知の種
々の方法に従えばよい。 なお、硬化に際して、紫外線を用いる場合、F述したよ
うな、放射線硬化型化合物の中には、光重合増感剤か加
えられる。 この先I「金増感剤としては、従来公知のものでよく1
例えばベンゾインメチルエーテル、ベンゾイネチルエー
テル、α−メチルベンゾイン、α−クロルデオキシヘン
ゾイン等のベンゾイン系、ベンゾフェノン、アセトフェ
ノン、ビスジアルキルアミノベンゾフェノン等のケトン
類、アセドラキノン、フエナントラキノン等のキノン類
、ベンジルジスルフィド、テトラメチルチウラムモノス
ルフィド等のスルフィド類、等を挙げることかできる。  光重合増感剤は樹脂固形分に対し、0.1〜10重量
%の範囲か望ましい。 紫外線照射は、例えばキセノン放電管、水素放電管など
の紫外線電球等を用いればよい。 一方、電子線を用いる場合には、放射線特性としては、
加速電圧100〜750KV、好ましくは150〜30
0KVの放射線加速器を用い、吸収線量を0.5〜20
メガラツドになるように照射するのが好都合である。 特に照射線源としては、吸収線量の制御、製造工程ライ
ンへの導入、電離放射線の遮蔽等の見地から、放射線加
熱器により電子線を使用する方法および面述した紫外線
を使用する方法が有利である。 さらにまた、この方法によれば溶剤を使用しない無溶剤
型の樹脂であっても、短時間で硬化することができるの
で、このような樹脂を用いることができる。 このような放射線硬化性樹脂を用いることによって大径
のいわゆるジャンボロールで巻きしまりがなくなり、ジ
ャンボロール内外での電磁変換特性の差がなくなり特性
か向トする。 またオンラインで行えるので生産性が良
くなる。 磁性粉/バインダーは、屯叶比で1/1〜9/1、特に
2/1〜8/1であることか好ましい。 このような割合とするのはl/1未満ては飽和磁束密度
が低くなり、9/1をこえると分散不良により表面粗度
か悪くなり、また塗膜ももろくなり好ましくなくなるか
らである。 この他、公知の名種熱可塑性樹脂をバインダーとして用
いることもできる。 本発明では必要に応じ、非反応性溶剤が使用される。 
溶剤としては特に制限はないが、バインダーの溶解性お
よび相溶性等を考慮して適宜選択される。 例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、ギ酸エチル
、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、メタノール
、エタノール、イソプロパツール、ブタノール等のアル
コール類、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳
香族炭化水素類、イソプロピルエーテル、エチルエーテ
ル、ジオキサン等のエーテル類、テトラヒドロフラン、
フルフラール等のフラン類等を単一溶剤またはこれらの
混合溶剤として用いられる。 これらの溶剤はバインダーに対して10〜10000w
t、%、特に100〜5000wL%の割合で用いる。 磁性層には無機顔料が含まれていてもよい。 無機顔料としては、1)導電性のあるカーボンブラック
、グラファイト、グラファイト化カーボンブラック、ま
た2)無機充填剤として5i02.TiO2,Al12
03.Cr2O3、S i C,Cab、CaCO3、
酸化亜鉛、ゲーサイト、γ−Fe203.タルク、カオ
リン、(asO4,窒化硼素、フッ化黒鉛、−[化モリ
ブデン、ZnS等がある。 またこの他、次のような微
粒子顔料(エアロジルタイプ、コロイダルタイプ) :
 S i02 、 Al1203 、TiO2、ZrO
2、 Cr203 、Y203 、CeO2、Fe304 、
Fe203 、ZrS i04、Sb205,5n02
等も用いられる。 これら微粒子顔料は、例えば5i0
2の場合、■無水硅酸の超微粒子コロイド溶液(スノー
テックス、水系、メタノールシリカゾル等、日産化学)
、■精製四塩化ケイ素の燃焼によって製造される超微粒
子状無水シリカ(標準品100人)(アエロジル、日本
アエロジル株式会社)などが挙げられる。 また、首記
■の超微粒子コロイド溶液および■と同様の気相法で製
造される超微粒子状の酸化アルミニウム、並びに酸化チ
タンおよび面述の微粒子顔料が使用され得る。 この様
な無機顔料の使用量はl)に関してはバインダー100
市川部に対して1〜30重量部、また2)に関しては1
〜30jfi、 :n部が適当であり、これらがあまり
多くなると、塗膜がもろくなり、かえってドロップアウ
トか多くなるという欠点がある。 また、無機顔料の径については1)に関しては0.1μ
m以丁、さらには0.05μm5μm以下しく、2)に
関しては0.7μm以下、さらには0.05μm以下が
好ましい。 磁性層には分散剤が含まれていてもよい。 分散剤として有機チタンカップリング剤、シランカップ
リング剤や界面活性剤が、帯電防止剤としてサポニンな
どの天然界面活性剤;アルキレンオキサイド系、グリセ
リン系、グリシドール系などのノニオン界面活性剤:高
級アルキルアミン類、第4級アンモニウム塩類、ピリジ
ンその他の複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム
類などのカチオン界面活性剤:カルボン酸、スルホン酸
、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基等の酸性基を
含むアニオン界面活性剤;アミノ酸類、アミノスルホン
酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル等の
両性活性剤などが使用される。 磁性層には潤滑剤が含まれていてもよい。 潤滑剤としては、従来この種の磁気記録媒体に用いられ
る溜滑剤として、シリコンオイル、フッ素オイル、脂肪
酸、脂肪酸エステル、パラフィン、流動パラフィン、界
面活性剤等を用いることができるが、脂肪酸および/ま
たは脂肪酸エステルを用いるのが好ましい。 脂肪酸としては、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸
、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン
酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リルン酸
、ステアロール酸等の炭素数12以tの脂肪酸(RCO
OHlRは炭素数11以上のアルキル基)であり、脂肪
酸エステルとしては、炭素数12〜16個の一塩基性脂
肪酸と炭素数3〜12個の一価のアルコールからなる脂
肪酸エステル類、炭素数17個以上の一塩基性脂肪酸と
脂肪酸の炭素数と合計して、炭素数が21〜23個より
なる一価のアルコールとからなる脂肪酸エステル等が使
用され、また面記脂肪酸のアルカリ金属またはアルカリ
土類金属からなる金属石鹸、レシチン等が使用される。 シリコーンとしては、脂肪酸変性よりなるもの、一部フ
ッ素変性されているものが使用される。 アルコールと
しては高級アルコールよりなるもの、フッ素としては電
解置換、テロメリゼーション、オリゴメリゼーション等
によって得られるものが使用される。 潤滑剤の中では、放射線硬化型のものも使用して好都合
である。 こわらは裏面への裏型転写を抑えるため、ド
ロップアウトの防止、ロール状に巻かれたときの内外径
の個所よる出力差の減少の他、オンライン上での製造が
可能である等の利点を持つ。 放射線硬化型潤滑剤としては、滑性を示す分子 2fl
とアクリル系−重結合とを分子中に仔する化合物、例え
ばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、ビニル
酢酸エステル、アクリル酸アミド系化合物、ビニルアル
コールエステル、メチルビニルアルコールエステル、ア
リルアルコールエステル、クリセライト等があり、これ
らの潤滑剤を構造式で表すと、 CH2=CH−CH2C00R1 CH2=CHC0NHCH2COOR1CH2C00R
1 RCOOCH=CH2、 RCOOCH2−CH=CH2等で、ここでRは直鎖ま
たは分枝状の飽和もしくは不飽和炭化水素基で、炭素数
は7以上、好ましくは12以I:23以下であり、これ
らはフッ素置換体とすることもできる。 フッ素置換体としては、 cnF2.+、SO2NCH2CH2−1CnFnCH
2CH2NHCH2CH2−1LnF     00C
OOOI  2  (:Ilz  −n−1 等がある。 これら放射線硬化型潤滑剤の好ましい其体例としては、
ステアリン酸メタクリレート(アクリレート)、ステア
リルアルコールのメタクツレート(アクリレート)、グ
リセリンのメタクリレート (アクリレート)、グリコ
ールのぜ々クリレート(アクリレート)、シリコーンの
メタクリレート(アクリレ−トン等が挙げられる。 分散剤および潤滑剤はバインダーに対して0.1〜20
重量部含ませるがよい。 支持体としては、ポリエチレンテレフタレート等のポリ
エステル類、ポリプロピレン等のポリオレフィン類、セ
ルローストリアセテート等のセルロース誘導体、ポリイ
ミド、ポリカーボネート、ポリサルホン、ポリエチレン
ナフタレート、芳香族アラミド、)y香族ボッニスデル
、さらにはアルミニウム等の金属板、ガラス板が使用さ
れるがこれらに限定されるものではない。 これらの中では、特に、ポリエステル、ポリアミド、ポ
リイミド等を用いることが好ましい。 本発明の磁気記録媒体では通常、支持体の両面に磁性層
が設けられる。 このような媒体としては、例えばフロ
ッピーディスク、ハードディスク等がある。 また必要に応じてアンダーコート、バックコートおよび
トップコートを設けてもよい。 なお、バックコートを設けるときには、バインダー、顔
料および潤滑剤からなる組成とするのがよい。 本発明の磁気記録媒体を製造するには常法に従って行え
ばよく、磁性粉をバインダー、有機溶剤等とともに混合
分散して磁性塗料を調製し、この磁性塗料をポリエステ
ルフィルムなどの基体上にグラビアコート、リバースロ
ールコート、エアーナイフコート、エアードクターコー
ト、ブレードコート、キスコート、スプレィコートなど
の手法を用いて塗布し、必要に応じて水モ方向や垂直方
向の磁場等による配向処理を行って乾燥し、好ましくは
常法に従い放射線硬化すればよい。 そして必要に応じ
てバックコートおよびトップコートを設ければよい。 配向処理は、常法に従い、ト述したような所定の垂直角
型比および保磁力を得るために種々の方法をとりつる。 たとえば配向方法としては永久磁石、直流磁石、交流磁
場が代表的なものとして用いられ、それらのものの各種
組合せ、例えば垂直と木毛の組合せ、水モ配向、永久磁
石または直流磁場と交流磁場の組合せ、機械的配向や機
械的配向と上記の組合せ等、種々のものか用いられる。 これらのうち、特に本発明では、機械的配向や水ゝト配
向を行うことか好ましい。 配向に用いる磁場強度としては1000〜6000Gが
好ましい。 本発明の記録媒体において、さらに支持体と磁性層との
間にパーマロイ等の高透磁率金属薄j摸や各種塗膜のア
ンダーコート層を設けることもできる。 これらは併用
してもよい。 塗膜のアンダーコート層には、断連したような熱硬化性
樹脂または放射線硬化型化合物および導電性顔料、無機
充填剤、潤滑剤、界面活性剤の分散剤等が必要に応じ含
まれる。 導電性顔料としては、カーボンブラックが好ましい。 
カーボンブラックとしては、ファーネス、チャンネル、
アセチレン、サーマル、ランプ等、いずれの方法で製造
されたものでもよいが、アセチレンブラック、ファーネ
スブラック、チャンネルブラック、ローラーおよびディ
スクブラック及びドイツナフタリンブラックが好ましい
。 カーボンブラックの粒子径はどのようなものでもよいが
、好ましいのは、電子顕微鏡撮影法により測定して10
〜100mμm、特に好ましくはlO〜80 rnμl
である。 更に粒子径について言えば、粒子径100 
mμlを超えるとアンダーコート層面の表面粗度が悪く
なり、磁性層塗布後の型持低下の原因となる。 また1
0 mμm未満では分散がうまくいかず、やはりアンダ
ーコートの表面粗度か悪くなる。 ファイト化カーボンブラックがあり、本発明ではグラフ
ァイト化カーボンブラックも用いることができる。 このようなアンダーコート層を設けることによって、媒
体のヘッドへのはりつき、また、塗布工程等の製造工程
中にガイドローラ、カレンダローラ等のはりつき、放電
ノイズ等の発生を防止することができる。 アンダーコート層の厚さは10人〜5μI程度とするこ
とが好ましい。 用いる磁気ヘッドとしては、通常、例えば、塗布型の磁
気記録媒体においては、従来までの安定性で実績のある
リング型ヘッドが使用出来るため薄膜型の磁気記録媒体
に比べ有利である。 特に本発明の媒体は垂直方向の保
磁力Hcが低いため、従来実績のあるフェライトヘッド
が使用出来さらに有利である。 なお、リング型ヘッドを用いる場合、ヘッドのギャップ
は、媒体のオーバーライド特性や線記録密度D58等の
特性に影響を及ぼす。 そのため、このようなヘッドのギャップは0、35〜0
. 5μm 、特に、0.4〜0.5μ山とすることが
好ましい。 ギャップが大きくなれば線記録密度D5o
がわるくなり、一方ギャップが小さくなればオーバーラ
イド特性がわるくなってしまう。 ■ 発明の51一体内作用効果 本発明によれば、)肉板状比が2未満の板状磁性粉を含
有する膜Nt、8μl以Fの磁性層を任し、媒体の眞直
角型比が0.5〜0.75であり、しかも保磁力Heが
800 Oe以下であるので、オーバーライド特性がき
わめて良好でしかも記録密度や出力が大きく、磁気特性
も良好な磁気記録媒体が得られる。 このような磁気記録媒体は、各種フロッピーディスク、
オーディオ、ビデオ、ビデオフロッピー、画像ファイル
、計算機用ディスク、磁気ディスク、磁気カード等に用
いられる。 特にフロッピーディスク、計算機用ディスク、磁気ディ
スクに好適である。 ■ 発明の具体的実施例 以■、本発明の具体的実施例を示し、本発明をさらに詳
細に説明する。 [実施例1] 厚さ75μmのポリエステル(PET)フィルムの表面
と裏面の両面tに下記に示すようなアンダーコート層を
設層した。 ムZ久ユユニ上1         6部カーボンブラ
ック 20  mμm       50(A)アクリ
ル変性塩ビー酢ビービニルアルコール共市合体 分子μ
45.000  45(B)アクリル変性ポリウレタン
エラストマー分子祉 5.000         4
5(C)ペンタエリスリトールトリアクリレートステア
リン酸               2ステアリン酸
ブチル           2混合溶剤(旧BK/ 
トルエン=1/1)  300上記混合物をボールミル
中5時間分散させ、!−3−、/7”l M +l エ
フ テlly (pF、 T ”I  71lly へ
トrψ燥厚0.7μIになるように塗45 t、、表面
ゝト滑化処理を行い、エレクトロンカーテンタイプ電f
−線加速装置を用いて加速電圧150にeV、電極電流
10mA、吸収線量5Mrad、N2ガス中で′I′i
f、fWaをアンダーコート層に照射した。 このようなアンダーコート層の両面ヒに、さらに−ド記
に示されるような磁性塗料からなる磁性層を形成し、種
々のサンプルを作製した。 すなわち、まず最初に、+均粒径0.05μm、!均板
状比1.8をもつ六方晶系バリウムフェライト(B a
 F e 12019のBa、Feの一部をCo (9
%)、Ti (3%)で置換したものをガラス結晶化法
で合成したものを用いて以Fのようにして磁性塗料を作
成した。 バリウムフェライト     t2o屯H部(Hc=7
00 Oe) a  Aj2203          Zfffid
部(0,5μm粉状) カーボンブラック        10重量部(20m
μm) 溶剤(MEK/トルエン:  100重量部上記組成物
をボールミル中にて3時間混合し、バリウムフェライト
をよく湿潤させた。 次に、バインダーとして 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体(
マレイン酸1%含有; MW40,000)8重量部(固型分換算)、アクリル
二重結合導入塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体くマレイ
ン酸1%含有: MW20.000)10重量部(固型分換算)、 アクリル二重結合導入ポリエーテルウレタンエラストマ
ー(MW40.000)9重量部(固型分換算)、 ペンタエリスリトールトリアクリレート3重量部、 溶剤(MEK/トルエン;50150)200重叶部 ステアリン酸を4重量部、 および ステアリン酸ブチル2重坦部 を混合溶解させた。 これを磁性粉混合物の入ったボルルミル中に投入し、再
び42時間混合分散させた。 このようにして得られ・た磁性塗料を、上記アンダーコ
ート層上にグラビアコートによって塗設し、その後、遠
赤外線ランプまたは熱風により溶剤を乾燥させた。 表
面)滑化処理をした後、ESI社製エレクトロカーテン
タイプ電f線加速装置を使用して加速電圧150KeV
、電極電流20mA、全照射”i 5 M r a d
の条件下でN2雰囲気下にて電F線を照射し、塗膜を硬
化させた。 媒体サンプルとしての重置方向の保磁力H
c土は750 Oeであった。 硬化後の塗膜(磁性層)の厚さを表1に示すように種々
かえてサンプルを作製した。 なお、この膜厚の測定は
電r−マイクロメーターで行った。 これら塗膜をフィルムの両面に形成し、両面コートとし
た。 このようにして作製したものをサンプル101〜108
(表1)とする。 これらのサンプルについて特性を調
べた。 特性は以下のように評価した。 (1)6直角型比 磁気記録媒体サンプルの垂直方向の角型比Br土/ B
 m上を測定し、反磁場補正を行った。 支持体の両面に磁性層を設層した場合は、それぞれの磁
性層について測定を行った。 (2)オーバーライド特性 磁気記録媒体サンプル上10KFRP Iの矩形波をリ
ング型ヘッドにて占き込み、その上に20KFRPIを
市ね書きし、出力差を測定した。 出力差大の方がオー
バ−ライト特性が良い。 (3)線記録密度D5(1(にFRPI)回転1(30
0r、  p、 m、 、 ヘッド;フェライトヘッド
、ギャップ0.45μmにて低記録密度領域での出力(
E)か高記録密度領域でE/2となる線記録密度D5o
(KFRPI)を測した。 結果を表1に示す。 表1の結果から、磁性層の1摸厚がうすくなる程、配向
しやすくなり、組直角型比がト昇する。 そのため記録
密度特性D5oが向ヒし、しかもオーバーライド特性も
良好となることがわかる。 ただ、膜厚が0.2μmではオーバーライド特性は良好
であるが、塗布ムラが激しくエンベロープ特性が悪く、
型持ト使用出来ない。 また、膜厚か1.8μmより大
きいものはオーバーライド特性が一26dBより小さい
ので好ましくなく、しかも記録密度特性がD5o=40
KFRP Iを標準とした場合、やや低■する傾向であ
る。 そこで磁性層の膜厚は0.4〜1.8μmが好ま
しい。 これよりサンプルNo、101〜106のみが実用に耐
えるものであることがわかる。 [実施例2コ 実施例1で用いたポリエステル(PUT)フィルムの表
面と裏面の両面上に下記に示すようなアンダーコート層
を設層した。 アンダーコート− 重量部 CaCO350lnμm         10カーボ
ン 20mAtIn (グラファイト化カーボン)     30塩化ビニル
−ビニルアルコール共重合体(ユニオンカーバイド社製
VAGH)  50ポリウレタンエラストマー (BF、グツドリッチ ニステン5703)ステアリン
酸              2ステアリン酸ブチル
          2混合溶剤(M■に/トルエン=
171)300下記混合物をボールミル中5時間分散さ
せた後、さらにイソシアネート化合物(日本ポリウレタ
ン社製コロネートし)を20重が部加え、この混合物を
上記のポリエステル(PET)フィルム上に乾燥厚3μ
Iになるように塗布し、表面iV−滑化処理を行い、そ
の後、80℃で48時間熱硬化を行った。 このようなアンダーコート層の両面上に、さらに下記に
示されるような磁性塗料からなる磁性層を形成し、種々
のサンプルを作製した。 すなわち、実施例1で用いた磁性粉にかえて、下記に示
されるような保磁力をもつ六方晶系バリウムフェライト
(B a F e +2019のBa、Feを一部下記
のC01Tiで置換したものをガラス結晶化法で合成)
の磁性粉として用いた。 置換金属(%) 磁性粉区分         保磁力(Oe)Co  
 Ti なお、これらの磁性粉の!ド均粒径は0.05μm、γ
均板状比は1.5であった。 置換金属は蛍光X線で分析を行い、Feを100%とし
て換算した。 これらの磁性粉を用い、以下のようにして磁性塗料を作
製した。 バリウムフェライト     120重量部α−AjZ
203          2重量部(0,5μm粉状
) カーボンブラック        10重量部(20m
Atm) 溶剤(MEK/トルエン:  100重量部L記組成物
をボールミル中にて3時間混合し、バリウムフェライト
をよく湿潤させた。 次に下記に示すバインダーを磁性粉混合物の入ったボー
ルミル中に投入し、再び42時間混合分散させた。 庄4>エコl」 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体(
ユニオンカーバイド社製UCARMAG528) 151重:4部(固型分換算)、 ウレタン(日本ポリウレタン社製ニラポラン3022)
     15爪量部(固型分換算)、溶剤(MEK/
シクロヘキサノンニ ア0/30)          200爪は部、高級
脂肪酸変性シリコーンオイル3重量部、および ミリスチン酸ブチル3川壁部 を混合溶解させた。 さらに、分散後、磁性塗料中にイソシアネート化合物(
日本ポリウレタン社製コロネートL)を5重量部(固型
分換算)加えた。 このようにして得られた磁性塗料を、北記アンダーコー
ト層上にグラビアコートによって塗設し、その後、遠赤
外ランプまたは熱風により溶剤を乾燥させた。 その後、表面平滑化処理をした後、80℃で48時間熱
峡化を行って、塗膜を硬化させた。 硬化後の塗膜(磁性層)の厚さは1.0μmであった。 このffi厚の測定は電子マイクロメーターで行った。 これら塗膜をフィルムの両面に形成し、両面コートとし
た。 なお、このような種々の媒体サンプルの垂直方向の保磁
力は下記表1に示されるとおりであり、重置角型比Br
上/ B m上は各サンプルにつきすべて0.54であ
った。 E記の各サンプルについて、上述したようなオーバーラ
イド特性とD5oを求めた。 結果を表2に示す。 [実施例3] PETフィルムおよびアンダーコート層は実施例1の場
合と同様にし、磁性層を下記のようにかえた。 すなわち、平均粒径0.06μm、平均板状比1.3で
あって、B a F e 1201gのBa。 Feの一部をCo (9%)、Ti(3%)で置換した
磁性粉(保磁力600 Oe)を用いて、その他の混合
物組成、媒体作製方法等は以下に示すようなバインダー
組成および磁性粉の配向処理にかえた以外は実施例1の
場合と同様にした。 なお、設層乾燥後の磁性層厚さは、1.5μmとした。 べ/≦仁ダニj七戟 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体(
マレイン酸1%含有; NW2O,000)10重量部 (固型分換算)、 アクリル変性フェノキシ(MW35,000)6重量部
(固型分換算)、 アクリル変性ポリエーテルウレタンエラストマー(MW
20,000)24!fi量部(固型分換算)、 溶剤(MEK/シクロヘキサノン; 70/30)200市量部、 高級脂肪酸変性シリコーンオイル3重量部、ミリスチン
酸ブチル      3重量部(配向処理) 処理31 磁場配向処理を行わなかった。 処理32 水平磁場配向(100OG)処理を行った。 処理33 基板上に磁性塗料を塗布した後に、スムーズニングシー
トにて強圧、機械配向させ、その後、垂直磁場(400
0G)で磁場内乾燥させなから配向処理をした。 これらの媒体サンプルについて、重直角型比、オーバー
ライド特性およびD5oを測定した。 なお、媒体サンプルとしての垂直方向の保磁力Hc土は
730 Oeであった。 結果を表3に示す。 垂直角型比Br上/ B m上が0.72のもの(サン
プルNo、303)は、オーバーライド特性が一27d
Bてあり、−・方Br上/ B m上が0.46のもの
(サンプルNo、302)は、オーバーライド特性は良
好であるが、記録密度D5oが36にFRPIまでであ
り、40にFRPIの値をクリアーできず、しかもエン
ベロープ特性もやや悪いという欠点がある。 従って、垂直角型比Br工/ B m工の値が0.50
〜0.75が好ましく、さらに、本発明の媒体を使用時
に装填するハード等の特性(特にドライブ特性等)のバ
ラツキを考えると、0.50〜0.70の値がもっとも
好ましい。 [実施例4] PETフィルムおよびアンダーコート層は実施例1の場
合と同様としくただしアンダーコート設層厚さは2μm
とした)、磁性層中に含存される磁性粉をF記のように
かえた。 すなわち゛ト均粒径は0.09μmで一定とし、下向板
状比は表4に示される種々のものとした。 この磁性粉はB a F e (70(gのBa、Fe
の一部をCo (7%)、Ti(2%)で置換したもの
(保磁カフ00 Oe)を用いた。 その他の混合物組
成、媒体作製方法等としては、以下に示すようなバイン
ダー組成および磁性層の配向処理にかえた以外は、実施
例1の場合と同様とした。 なお、設層乾燥後の磁性層厚さは1,5μIとした。 (バインダー組成) 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体(
マレイン酸含有率:0.8% MW30.000)18
重量部(固型分換算)アクリル二ffl結合導入ポリエ
ーテルウレタンエラストマー(MW50,000)12
重組部(固型分換算)、 溶剤(MEK/トルエン;50150)200 tl’
i量部、 ステアリン酸を4重量部、 および ステアリン酸ブチル2 ff1g1部 なお、磁性層を塗設した後の磁場にょる配向処理は行わ
なかった。 これらの媒体サンプルについて、垂直角型比およびオー
バーライド特性を測定した。 なお、媒体サンプルとしての垂直方向の保磁力Hc上は
750 Oeであった。 結果を表4に示す。 板状比3のものでもオーバーライド特性か一26dB以
下であるが、ドライブのバラツキ、ヘッドギャップのバ
ラツキ等を考慮した場合、オーバーライド特性はさらに
低い方が良い。 F記より板状比2未満のものの方がオーバーライド特性
が良いルがわかる。 このように媒体のHc上が750 Oeのものでもオー
バーライド特性が良い事がわかる。 以ヒの結果より本発明の効果があきらかである。 なお、実施例1〜4の中で、バインダー組成を熱硬化性
樹脂としたものは放射線硬化性樹脂に比へ熱硬化時の巻
きしまりによりカールが発生しやすいということが確認
された。 従って、実用面ではバインダー組成を放射線
硬化性樹脂とした方が好適である。 出願人  ティーディーケイ株式会社

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)支持体上に平均粒径0.2μm以下、平均板状比
    が2未満の板状磁性粉とバインダーとを含有する磁性層
    を有し、媒体の角型比が0.5〜0.75、垂直方向の
    保磁力が800Oe以下であり、しかも磁性層の膜厚が
    1.8μm以下であることを特徴とする磁気記録媒体。
  2. (2)板状磁性粉が六方晶系板状磁性粉である特許請求
    の範囲第1項に記載の磁気記録媒体。
  3. (3)媒体がディスク媒体である特許請求の範囲第1項
    または第2項に記載の磁気記録媒体。
  4. (4)媒体の垂直方向の保磁力が600〜 750Oeである特許請求の範囲第1項ないし第3項の
    いずれかに記載の磁気記録媒体。
  5. (5)磁性層中に含有されるバインダーが放射線硬化型
    バインダーである特許請求の範囲第1項ないし第4項の
    いずれかに記載の磁気記録媒体。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0298816A (ja) * 1988-10-05 1990-04-11 Mitsubishi Kasei Corp 磁気記録媒体
JPH0298815A (ja) * 1988-10-05 1990-04-11 Mitsubishi Kasei Corp 磁気記録媒体

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0298816A (ja) * 1988-10-05 1990-04-11 Mitsubishi Kasei Corp 磁気記録媒体
JPH0298815A (ja) * 1988-10-05 1990-04-11 Mitsubishi Kasei Corp 磁気記録媒体

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