JPS6260122A - 磁気記録媒体 - Google Patents

磁気記録媒体

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JPS6260122A
JPS6260122A JP60200826A JP20082685A JPS6260122A JP S6260122 A JPS6260122 A JP S6260122A JP 60200826 A JP60200826 A JP 60200826A JP 20082685 A JP20082685 A JP 20082685A JP S6260122 A JPS6260122 A JP S6260122A
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JP
Japan
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magnetic
resin
parts
radiation
acid
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Pending
Application number
JP60200826A
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English (en)
Inventor
Toru Shimozawa
下沢 徹
Shigeyo Miyamori
宮森 薫代
Masaharu Nishimatsu
西松 正治
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TDK Corp
Original Assignee
TDK Corp
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Publication date
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Publication of JPS6260122A publication Critical patent/JPS6260122A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ■ 発明の背景 技術分野 本発明は、特に六方晶系の板状磁性粉を含有する磁性層
を有する塗45型の磁気記録媒体に関する。 さらに詳
しくは六方晶系板状磁性粉を特にディスク媒体に使用し
た時のオーバーライド特fE ケ改善しようとするもの
である。
先行技術とその問題点 近年、磁気記録に関して、記録の人容は化、小9+4化
を速成するために記録密度の向Fが強く要望されている
従来、生産性等に優れたメリットを打−rる塗布型の磁
気記録媒体としては、γ−Fe2O3、Co被着7  
Fe2O3’Jの針状磁?−′L粉を含ノ・−■せた磁
性層を有するものか汎用されてきた。 しかしながら、
このような磁性粉を打する@気記録媒体では、その記録
密度に、おのずから限界がある。
そこて、より高配′jj %’W度化を可能にならしめ
る方策として、磁気記録媒体の面に対し重置方向の残留
磁化を用いる方式が提案され°ている。
この上うな6直方式に用いられる媒体としては、例えば
BaフェライトやSrフェライト等の六方晶系板状磁性
粉を磁性層に含有する磁気記録媒体がある。
このような媒体を用いることによって、より高い記jJ
 +環化が実現できるが、ディスク媒体として、従来の
リング型磁気ヘッドを用いたとき、ト分なオーバーライ
ド特性を得ることができないという問題があり、この点
の改羨が強く7必要とされている。
■ 発明の目的 本発明の目的は、オーバーライド特性が良好で、しかも
記録密度が高く、磁気特性の良好な磁気記録媒体、特に
ディスク媒体を提供することにある。
■ 発明の開示 この上うなl]的は、下記の本発明によって達成される
すなわち、本発明は、支持体りに平均粒径0.2μm以
ドの板状磁性粉とバインダーとを含有する磁性層を有す
る磁気記録媒体において、板状磁性粉の板状比が2未満
であ乞ことを°特徴とする磁気記録媒体である。
■ 発明の具体的構成 以ド、本発明の1(体的構成について詳細に説明する。
本発明の磁気記録媒体は、F記のような六方晶系板状踏
性粉とバインダーとを含有する磁性層をイI下る。
本発明に用いる六方晶系板状磁性粉は、好ましくは六角
根状のバリウムフェライト系、ストロンチウムフェライ
ト系のものであり、その形状の 指標であるV均板状比
は2未満であることか必要である。 この値が2以上と
なると、オーバーライド特性が悪くなり、リング型ヘッ
トを用いて、いわゆる市ね8きができなくなる場合があ
るという不都合が生じる。
この場合、γ均板状比は1.0〜1.8であることが好
ましい。
また、・ト均粒径は0.2μl以t、特に0.02〜0
,1μm程度が好ましい。 ゛Y均厚みは0401〜0
.2μm程度である。
ここで、゛ト均粒径とは、電を顕微鏡写真〔走査形顕微
鏡(SEM)および透過形顕微鏡(TEM))によって
、例えば六方晶系のバリウム   □7.9イ8粒−1
−0断面、。程度度、、、観察5、   ;粒径につい
ての測定値を7均にしたものである。
嘔ビー+lすみも電r−顕微鏡写真による測定値のNF
′均である。 また゛ト均板状比とは゛ト均粒径/ ”
P−□均ノVみの値である。
あるいは、X線回折による2θの半値中によってのこれ
らの値を測定1−ることもできる。
・ト均粒径が0.2μmをこえると表面粗度が   1
7.9,2.7 z ’! < h & L/161、
B a F e H2O,1低ドし、線記録密度特性が
悪くなる。
19等の六方晶系バリウムフェライトやバリウム   
□フェライトのHa、Feの一部をCa、Sr、Pb、
Co、、Ni、Ti、Cr、Zn、in、Mn、Cu、
Ge、Nb、Zr、Snその他の金属で置換したもの等
が挙げられる。
これらは併用してもよい。
また、六万晶ストロンチウムフェライトSrF e 1
7019、あるいはこれをL記に準して置換したもので
あってbよい。
バリウムフェライト等の製法としては、セラミック法、
共沈−焼成法、水熱合成法−フラックス法、ガラス結晶
化法、アルコキシド法、プラズマジェット法等があり、
これらの方法の詳細については小池古゛康、久保修共著
“セラミックス18 (1983)Nl)、10” r
tどを参照するととメ】くできる。
本発明ではL記のいずれの製法を用いてもよいか、特に
板状比2未満の板状磁性粉を作製するには、なかでもガ
ラス結晶化法によるのが好適である。
以下、ガラス結晶法について詳述すると、ガラス結晶化
法は1通常、下記のプロセスに従って行われる。
原料→混合→溶解→急冷→結晶化→抽出→水洗・乾燥→
バリウムフェライト微粒fすなわち、Bad、またはB
aOと Fe703をガラス形成分質、例えばB2 o3と混合
し、加熱溶融する。 そしてこの溶融物を急冷した後、
111加熱しガラス物質の中からバリウムフェライトを
析出させ、酢酸なとの弱い酸でマトリックスを溶解し、
粒子を分離、精製する。
記録・再生に適した保磁力を得るためには、CooとT
 i O2を少%、BaO1Fe203 、B203と
ともに白金るつぼ中で高周波溶解したのち、高速回転し
ているロールのトに溶融物を落とすことにより急冷し、
ガラス状のフレークを作る。 このフレークを再加熱し
、結晶化させた後・、熱酢酸溶液中で溶解、最後に抽出
したバリウムフェライトを水洗・乾燥1−る。
この方法ではガラスマトリックス中で核が様に析出し、
成長するので微粒子化が容易であり、粒度分布もシャー
プで、粒子 個−個がガラスマトリックスにより分離さ
れている。 したがって分散性の良い粒子か得られる。
 ガラス形成分質として、P2O5かFe2O3を高濃
度に含みマ′するが、P2O5を用いた場合熱処理する
ことにより、P205− Fe203化合物−f−/l
< )ri出する。 また5i02を用いた場合、溶融
7:A J迂か高くなり、実用的に望ましくない。
このような製造方法をとることにより、他の製法よりも
板状比の小さい磁性粉を作ることが容易となる。 従来
は板状比2.8程度のものしか作ることができなかった
がL記の反応条件を厳しくしたり、加熱条件のコントロ
ール等により、板状比か2未満の磁性粉を作ることがて
きる。
このような磁性粉を含イI°する磁性層のJ5Jさは、
通常、0.1〜10μmである。
またこのような磁性層を有する媒体の特性として、壷[
直角型比は0,53以ド、特に0.3〜0.5程度、組
直方向の保磁力Hc上は400〜800 0e程度であ
る。
このような特性値とすることにより、オーバーライド特
性が向トする。
なお、1C直角型比および保磁力He上は下記のように
d(す定する。 すなわち、媒体表面に垂直方向にて磁
化曲線をdlす足し、これを反磁界補正する。 そして
、これから残留磁化Br上、飽和磁化8m上、保磁力H
c上を測定する。
IR的角Qlj比はこのBr工/ B m上の比である
磁性粉を磁性塗料とする際に用いるバインダーは、放射
線硬化性、熱可塑性樹脂、熱硬化性もしくは反応型樹脂
またはこれらの混合物等が使用されるが、得られる膜強
度等か、ら熱硬化性樹脂、放射線硬化性樹脂を用いるこ
とが好ましい。
熱可塑性樹脂としては軟化温度が150℃以下、嘔均分
子−jllo、000〜 200.000、重合度200〜2,000程度のもの
である。
熱硬化樹脂または反応型樹脂としてもこのような重合度
等のものであり、塗布、乾燥後に加熱することにより、
縮合、付加等の反応により分子雀は無限大のものとなる
ものである。 そして、これらの樹脂のなかで、樹脂が
熱分解するまでの間に軟化または溶融しないものが好ま
しい。
具体的には例えばフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリ
ウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、ブチシー+1.樹脂、
ホルマール樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリ
コーン樹脂、アクリル系反+4:、−樹脂、ポリアミド
樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、飽和ポリエステル樹
脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂などの縮重合系の樹脂あ
るいは高分子:liポリエステル樹脂とイソシアネート
プレポリマーの混合物、メタクリル酸塩共重合体とジイ
ソシアネートブレポリマニの混合物、ポリエステルポリ
オールとポリイソシアネートの混合物、低分子量グリコ
ール/高分子   □量ジオール/トリフェニルメタン
トリイソシアネートの混合物など、上記の縮重合系樹脂
とイソシアネート化合物などの架橋剤との混合物、塩化
ビニル−酢酸ビニル(カルボン酸含有も含   □む)
−1塩化ビニル−ビニルアルコール−酢酸ビニル(カル
ボン酸含有も含む)、塩化ビニル−塩化ビニリデン、塩
化ビニルニア多すロニトリル、ビニルブチラール、ビニ
ルホルマール等のビニル共重合系樹脂と架橋剤との混合
物、ニトロセルロース、セルロースアセトブチレート等
の繊維素系樹脂と架橋剤との混合物、ブタジェン−アク
リロニトリル等の合成ゴム系と架橋剤との混合物、さら
にはこれらの混合物が好適である、 そして、特に、エポキシ樹脂とブチラール樹脂とフェノ
ール樹脂との°混合物、米国特許第3.058,844
号に記載のエポキシ樹脂とポリビニルメチルエーテルと
メチロールフェノールエーテルとの混合物、また特開昭
49−131101号に記載のビスフェノールA型エポ
キシ樹脂とアクリル酸エステルまたはメタクリル酸エス
テル重合体との混合物が好ましい。
このような、熱硬化性樹脂を硬化するには、一般に加熱
オーブン中で50〜80℃にて6〜10 n 1.−間
加熱すればよい。
バインダーとしては、放射線硬化型化合物を硬化したも
の、すなわち放射線硬化性樹脂を用いたものが特に好ま
しい。
放射線硬化性化合物の具体例としては、ラジカル1「磁
性を有する不飽和ニー重結合を示すアクリル酸、メタク
リル酸、あるいはそれらのエステル化合物のようなアク
リル系ニー重結合、ジアリルフタレートのようなアリル
系ニー重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽
和結合等    −。
(7) hl、 D#M !!<t 9#′″″8ゝ4
16°゛Gf m n FS e: t ’、;>  
   (’基を熱可塑性樹脂の分り中に含有または導入
し    lた樹脂である。 その他放射線照射により
架橋重合する小飽和二重結合を有する化合物であれば用
いることができる。
放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を熱可塑
性樹脂の分子中に含有する樹脂としては次の様な不飽和
ポリエステル樹脂かある。             
            11・ 分Y−鎖中に放射線硬化性不飽和−重結合を含    
:有するポリエステル化合物、例えばF記(2)   
 ′の多塩基酸と多価アルコールのエステル結合から成
る飽和ポリエステル樹脂で多塩基酸の−・部をマレイン
酸とした放射線硬化性不飽和二重結合を含有する不飽和
ポリエステル樹脂を挙げることかでさる。 放射線硬化
性不飽和ポリエステル樹脂は多塩基酸成分1種以上と多
価アルコール成分1種以トにマレイン酸、フマル酸等を
加え常法、すなわち触媒の存在Fで、180〜200℃
、窒素雰囲気下、親水あるいは脱アルコール反応のi4
,240〜280℃まで+f者温し、0.5〜1mmH
Hの減圧ド、縮合反応により得ることができる。 マレ
イン酸やフマル酸等の含有量は、製造時の架橋、放射線
硬化性2 A1ら酸成分中1〜40モル%、好ましくは
10〜30モル%である。
放射線硬化性樹脂に変性できる熱可塑性樹脂の例として
は、次のようなものを挙げることができる。
(1)塩化ビニール系共重合体 塩化ビニール−酢酸ビニール−ビニールアルコール共重
合体、塩化ビニール−ビニールアルコール共重合体、塩
化ビニール−ビニールアルコール−プロピオン酸ビニー
ル共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−マレイン酸
共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−ビニルアルコ
ール−マレイン酸共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニー
ル−末端OH(+1+1鎖アルキル基共1[合体、例え
ばUCC社製VROH,VYNC。
VYEGX、VERR,VYES、VMCA、VAGH
,UCARMAG520.UCARMAG528等が挙
げられ、このものにアクリル系−’−+f(結合、マレ
イン酸系−゛重結合、アリル系二重結合を導入して放射
線感応変性を行う。
これらはカルボン酸を含有してもよい。
(2)飽和ポリニスデル樹脂 フタル酸、イソフタル酸、プレフタル酸、コハク酸、ア
ジピン酸、セバシン酸のような飽和多塩基酸と、エチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン、ト
リメチロールプロパン、1,2プロピレングリコール、
1.3ブタンジオール、ジプロピレングリコール、■。
4ブタンジオール、1.6へキーサンジオール、ペンタ
エリスリット、ソルビトール、グリセリン、ネオペンチ
ルグリコール、1,4シクロヘキサンジメタツールのよ
うな多価アルコールとのニスデル結合により得られる飽
和ポリエステル樹脂またはこれらのポリエステル樹脂を
SO”Na等で変性した樹脂(例えばバイロン53S)
が例として挙げられ、これらも放射線感応変性を行う。
(3)ポリビニルア゛ルコール系樹脂 ポリビニルアルコール、ブチラール樹脂、アセタール樹
脂、ホルマール樹脂およびこれらの成分の共重合体で、
こわら樹脂中に含まれる水酸基に対し放射線感応変性を
行う。
(4)エポキシ系樹脂、フォノキシ系樹脂ビスフェノー
ルAとエピクロルヒドリン、メチルエピクロルヒドリン
の反応によるエポキシ樹脂、例えばシェル化学製(エピ
コート152.154 、82+1 、1oaf、 1
004、+007) 、ダウケミカル製(D E N4
31 、 D E Ft732 、D E R511、
DEに、1:口)、大日本インキ製(エビクロン400
.800)、さらにF記エポキシの高重合度樹脂である
UCC社製フェノキシ樹脂(PKHA、PK)IC,P
KHH)、臭素化ビスフェノールAとエピクロルヒドリ
ンとの共重合体、大11本インキ化学[業製(エビクロ
ン145.152 、15:l 、1120)等があり
、またこれらにカルホン酸J^を含有するものも含まれ
る。 これら樹脂中に含まれるエポキシ基を利用して放
射線!声応夕ゞ性を行う。
(5)繊維素誘導体 各種のものが用いられるが、特に効果的なものは硝化綿
、セルローズアセトブチレート、エチルセルローズ、ブ
チルセルローズ、アセチルセルローズ等が好適である樹
脂中の水酸基を活用して放射線感応変性を行う。
その他、放射線感応変性に用いることのできる樹脂とし
ては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステル
樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂および誘導体(pvp
オレフィン共屯合体)、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹
脂、フェノール)、ニー1脂、スピロアセタール樹脂、
水酸基を含有するアクリルエステルおよびメタクリルニ
スデルを重合成分として少なくとも 練合Cアクリル系
樹脂等も有効である。
以上−にエラストマーもしくはプレポリマーの例を挙げ
る。
(1)ポリウレタンエラストマーもしくはプレポリマー ポリウレタンの使用は耐摩耗性、および基体フィルム、
例えばPETフィルムへの接着性が良い点で特に有効で
ある。  ウレタン化合物の例としては、イソシアネー
トとして、2.4−トルエンノイソシアネート、2.6
−トルニンシイソソアネート、1.3−キシレンジイソ
シアネート、1.4−キシレンジイソシアネート、1.
5−ナフタレンジイソシアネート、m−フェニレンジイ
ソシアネート、p−フェニレンジイソシアネート、3.
3′−ジメチル−4,4′−ジフェニルメタンジイソシ
アネート、4.4′−ジフェニルメタンジイソシアネー
ト、3.3′−ジメチルビフェニレンジイソシアネート
、4.4′−ビフェニレンジイソ 1シア+ −ト、ヘ
キサメチレンジイソシアネート、イソフォロンジイソシ
アネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、
デスモジュールし、デスモジュールN等の各種多価イソ
シアネートと、線状飽和ポリエステル(エチレングリコ
ール、ジエチレングリコール、グリセリン、トリメチロ
ールプロパン、1.4−ブタンジオール、1,6−ヘキ
サンジオール、ペンタエリスリット、ソルビトール、ネ
オペンチルグリコール、1.4−シクロヘキサンジメタ
ツールの様な多価アルコールと、フタル酸、イソフタル
酸、テレフタル酸、コハク酸、アジピ    1ン酸、
セバシン酸の様な飽和多塩基酸との縮重    :合に
よるもの)、線状飽和ポリエーテル−(ポリエチレング
リコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチ
レングリコール)やカプロラクタム、ヒドロキシル含有
アクリル酸エステル、ヒドロキシル含有メタクリール酸
エステル等の&+nポリエステル類の縮重合物により成
るポリウレタンエラストマー、プレポリマーが有効であ
る。
これらのウレタンエラストマーの末端のイソシアネート
基または水酸基と、アクリル系二重結合まt−はアリル
系二重結合等を有するIIi量体とを反応させることに
より、放射線感応性に変性1−−とは非常に効果的であ
る。 また、末端に極性基としてOH,C0OH等を含
イfするものも含む。
さらに、不飽和−、l[I結合を有する長8n脂肪酸の
モノあるいはジグリセリド等、イソシアネート基と反応
する活性水素を持ち、かつ放射線硬化性を有する不飽和
二重結合を有する弔鼠体も含まれる。
(2)アクリロニトリル−ブタジェン共重合エラストマ
ー シンクレアペトロケミカル社製ポリBDリタイッドレシ
ンとして市販されている末端水酸基のあるアクリロニト
リルブタジェン共重合体プレポリマーあるいは]」本ゼ
オン社製ハイカー+432J等のエラストマーは、特に
ブタジェン中の一屯結合が放射線によりラジカルを生じ
架橋およびIR合させるニラストアー成分として適する
(3)ポリブタシエンエラストマー シンクレアベトロケミカル社製ポリBDリタ    □
イツトレジンR−15等の低分子N末端水酸」^   
lを4Tするプレポリマーが特に熱i+7 +l性樹脂
との    □相溶性の点で好適である。 R−15プ
レポリマーにおいては分子−末端が水酸基となっている
    □To、分子末端にアクリル系不飽和二重結合
を付   □加することにより放射線感応性を高めるこ
とか    l1ii能であり、バインダーとしてさら
に有利となる。
またポリブタジェンの環化物、日本合成ゴム    [
製CBR−M901も熱可塑性樹脂との組合せによりす
ぐれた性質を有している。
その他、熱可塑性エラストマーおよびそのプレポリマー
の系で好適なものとしては、スチレ    ″ンーブタ
ジェンゴム、塩化ゴム、アクリルゴ   □□ ム、インプレンゴムおよびその環化物([1本合   
:□成ゴム製ClR701)があり、エポキシ変性ゴム
、内部可塑化飽和線状ポリエステル(東洋   □紡バ
イロン$300)”’7のエラストマーも放射線感応変
性処理を施すことにより有効に利用できる。
オリゴマー、千ツマ−として本発明・で用いられる放射
線硬化性不飽和−4iQ結合を有する化合物としては、
スチレン、エチルアクリレート、エチト゛/グリコール
ジアクリレート、エチレンクリコールジメタクリレート
、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチレング
リコールジメタクリレート、1.6−ヘキサングリコー
ルジアクリレート、1.6−ヘキサングリコールジアク
リレート、N−ビニルピロリドン、ペンタエリスリトー
ルトリアクリレート(メタクリレート)、ペンタエリス
リトールトリアクリレート(メタクリレート)、トリメ
チロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプ
ロパントリメタクリレート、多官能オリゴエステルアク
リレート(アロニックスM−第100、M−5400,
5500,5700等、原曲合成)、ウレタンエラスト
マーにッポンラン4(J40)のアクリル変性体、ある
いはこれらのものにC0OH等の官能」、ξが導入され
たもの、 トリメチロールプロパンジアクリレート(メ
タクリレート)フェノールエチレノキシト付加物のアク
リレート(メタクリレート)、ド記 般式で示されるペ
ンタエリスリトール縮合環にアクリル基(メタクリル基
)またはεカプロラクトン−アクリル基のついた化合物
、式中、m=1、a=2、b=4の化合物(以ド、特殊
ペンタエリスリトール縮合物Aという)、 m−1、a=3、b=3の化合物(以F、特殊ペンタエ
リスリトール縮合物Bという)、m−1,a=6、b=
oの化合物(以ド、特殊ペンタエリスリトール縮合物C
という)、m−2、a=6、b=oの化合物(以ド、特
殊ペンタエリスリトール縮合物りという)、およびF記
式 般式で示される特殊アクリレート類等が挙げれる。
1)   (CH2=CHCOOCH2)3−CCH2
0H(特殊アクリレートA) 2)   (CH2=CHCOOCH2):l −CC
H2CH3(特殊アクリレートB)  − 3)   (CH2=CHCO(OC3Hs)n−OC
H2)3−CCH2CH3(特殊アクリレートC) (特殊アクリレートD) (特殊アクリレートE) 占H2CH2C00CH=CH2 (特殊アクリレートF) (特殊アクリレートH) ■ CH2CH2C00CH=CH2 (特殊アクリレート■) (特殊アクリレートJ) Aニアクリル酸、   X:多価アルコールY:多塩基
唆     (特殊アクリレートに)12)    A
RM  N+nM  AAニアクリル唆  M:2価ア
ルコール  N:2塩基酸(特殊アクリレートL) 次C′牧射線感応性バインダー合成例を説明する。
a)塩化ビニール酢酸ビニール共重合系樹脂のアクリル
変性体(放射、Vil感応変性樹脂)の合成OH基を有
する 部ケン生塩ビー酢ビ共和合体(モ均1重合度 n
=500)750部とトルエン1250部、シクロへキ
サノン500部を51の4つ[1フラスコに仕込み、加
熱溶解し、80℃シifシ後トリレンジイソシアネート
の2−ヒドロキシエチルメタクリレートアダクト※を6
1.4部加え、さらにオクチル酸スズ0.012部 ハ
イドロキノン0.012部を加え、80℃でN2気流中
、NGO反応率が90%となるまで反応せしめる。
反ktP−7’後冷却し、メチルエチルケトン1250
分を加え希釈する。
【※トリレンジイソシアネート(TDI)の2−とドロ
キシエチルメタクリレ−) (2HEMA)アダクトの
製法 TDI348部をN2気流中11の4つ[1フラスコ内
で80℃に加熱後、2−エチレンメタクリレート260
部、オクチル酸スズ0.07    ’□ 部、ハイドロキノン0.05部を反応缶内の温1゛°°
〜°゛″C5ft ’、J J″′″′1°′1°−。
ルしなから滴F終Y後80℃で3時間撹拌し、    
1反応そ元結させる。
反応路7’ ?tt取り出して、冷却後、白色ベースト
状のTDIの2HEMAを得た。] b)ブラチール樹脂アクリル変性体に合成(放射線感応
変性樹脂) ブチラール樹脂積木化学製BM−3100部をトルエン
191.2部、シクロへキサノン第1.4分と共に51
の4つ目フラスコに仕込   □み、加熱溶解し、80
℃SJl後TDIの2HεMA7ゲクト※を7.4部加
え、さらにオクチル酸スズo、ois部、ハイドロキノ
ン0.015部を加え、80℃でN2気流中NCO反応
率が90%以上となるまで反応せしめる。
反応路(1&冷却し・メチ′じチルケト″″て   1
希釈する。                    
 l□C)飽和ポリエステル樹脂アクリル変性体の合成
(放射線感応変性樹脂) 飽和ポリエステル樹脂(東洋紡バイロンRV−200)
、100部をトルエン11−6部、メチルエチルケトン
116部に加熱溶解し、80℃シJ−澗祷、TDIの2
HEMAアダクト※を3.55部加え、さらにオクチル
酸スズ0.007部、ハイドロキノン0.007部を加
え、80℃でN2気流中NCO反応率が90%以トとな
るまで反応せしめる。
d)◎エポキシ樹脂アクリル変性体の合成(放射線感応
変性樹脂) エポキシ樹脂(シェル化学製エピコート1007)40
0?JSをトルエン50部、メチルエチルケトン50部
に加熱溶解後、N、N−ジメチルベンジルアミン0−0
06部、ハイドロキノン0003部を添加し80℃とし
、アクリル酸69部を滴ドし、80℃で酸価5以丁とな
るまで反応せしめる。
◎フェノキシ樹脂アクリル変性体の合成(放射線感応変
性樹脂) OH基をイ1゛するフェノキシ樹脂(PKHH:UCC
社製 分1’−jt30000)600部、メチルエチ
ルケトン1800部を31の4つ[1フラスコに仕込み
、加熱溶解し、80″C昇温後。
トリレンジイソシアネートの2とドロキシエチルメタク
リレートアダクトを6.0部加え、さらにオクチル酸ス
ズ0.012部、バイトロキ/ンl’、012部を加え
、80”CでN2気流中、NGO反応率か90%となる
まで反応せしめる。
このフェノキシ変性体の分子Mは、35000.1分子
当りの二重結合は1個である。
e)ウレタンエラストマーアクリル変性体の合成(放射
線硬化性エラストマー) 末端イソシアネートのジフェニルメタンジイソシアネー
ト(MDI、f−ウレタンプレポリマー(日本ポリウレ
タン製ニッポラン3119)250部、2HEMA32
.5部、ハイドロキノン0.07部、オクチル酸スズ0
.009部を反応で[1にいわ、80℃に加熱溶解後、
TDr43.5部を反応缶内の温度が80〜90℃とな
るよつに冷却しながら滴ドし、滴ド終r後、80℃で反
応率95%以七となるまで反応せしめる。
f)ポリエーテル系末端ウレタン変性エラストマーアク
リル変性体く放射線硬化性エラストマー)の合成 し1本ポリウレタン社製ポリニーデルPTG−500,
250部、2HEMA32.5部、ハ・rドロキノン0
.07部、オクチル酸スズ0゜009部を反応([1に
いれ、80℃に加熱溶解後、TDI43.5部を反応缶
内の温度が80〜90Cとなるように冷却しなからM 
T” シ、滴ド終’f f&、80℃で反応率95%以
ヒとなるまで反応せしめる。
g)ポリブタジェンエラストマーアクリル変性体の合成
(放射線硬化性エラストマー)シンクレアペトロケミカ
ル社製低分(、;1末端水酸」、(ポリブタジェンポリ
BDリクイットレジンR−15250部、2HEMA3
2.5部、−ハイトロキノン0.07部、オクチル酸ス
ズQ、nn9部を反応’、Fjニイレ、80℃に加熱溶
解後、TDI43.5部を反応汀i内の温度が80〜9
0℃となるように冷却しなから滴ドし、滴ド終r後、8
0℃で反応率95%以Eとなるまで反応せしめる。
高分子−に&丸、放射線照射により崩壊するものと分子
間に架橋を起゛こ′1−ものか知られている。
分子・間に架橋を起すものとしては、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリスチレン、ポリアクリル酸エステル
、ポリアクリルアミド、ポリ塩化ビニル、ポリエステル
、ポリビニルピロリドンゴム、ポリビニルアルコール、
ポリアクリルンがある。 このような架橋型ポリマーで
あれば、1−記のような変性を特に施さなくても、架槁
戊沁が起こるので、前記変性体の他に、これらの樹脂は
そのまま便用ii(能である。
このような放射線硬化性樹脂を嫂化するには、公知の練
々の方法に従えばよい。
なお、硬化に際して、紫外線を用いる場合、ト述したよ
うな、放射線侠化型化合物の中には、光I[金増感剤が
加えられる。
この光重合増感剤としては、従来公知のものでよく、例
えばベンゾインメチルエーテル、ベンゾイオチルエーテ
ル、α−メチルベンゾイン、α−クロルデオキシベンゾ
イン等のベンゾイン系、ヘンシフエノン、アセトフェノ
ン、ビスジアルキルアミノヘンシフエノン等のケトン類
、アセドラキノン、フエナントラキノン等のキノン類、
ベンジルジスルフィド、テトラメヂルチウラムモノスル
フィド等のスルフィド類、等を挙げることかできる。 
光重合増感剤は樹脂固形分に対し、0.1〜10重番%
の範囲が望ましい。
紫外線照射は、例えばキセノン放電管、水素放電管など
の紫外線電球等を用いればよい。
方、雷を線を用いる場合には、放射線特性としては、加
速電圧100〜750KV、好ましくは150〜300
KVの放射線加速器を用い、吸収線i、−kを0.5〜
20メガラツドになるように照射するのが好都合である
特に照射線源としては、吸収線量の制御、製造工程ライ
ンへの4大、電離放射線の遮蔽等の見地から、放射線加
熱器により電子線を使用する方法および前述した紫外線
を使用する方法が有利である。
さらにまた、この方法によれば溶剤を使用しない無浴剤
型の樹脂であっても、短時間で硬化することができるの
で、このような樹脂を用いることができる。
このような放射線硬化性樹脂を用いることによって大径
のいわゆるジャンボロールで巻きしまりがなくなり、ジ
ャンボロール内外での電磁変換特性の差かなくなり特性
が向トする。 またオンラインで行えるので生産性が良
くなる。
磁性粉/バインダーは、1r量比で1/l〜9/1.特
に2/1〜8/1であることが好ましい。
このような割合とするのは1/1未満では飽和磁束密度
が低くなり、9/1をこえると分散不良により表面粗度
か悪くなり、また塗膜ももろくなり好ましくなくなるか
らである。
この他、公知の各種熱iT塑性樹脂をバインダーとして
用いることもできる。
本発明では必要に応じ、非反応性溶剤が使用される。 
溶剤としては特に制限はないが、バー インダーの溶解
性および相溶性等を考慮して適宜選択される。
例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソノチ
ルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、ギ酸エチル
、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、メタノール
、エタノール、イソプロパツール、ブタノール等のアル
コール類、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳
香族炭化水素類2イソプロピルエーテル、エチルニーデ
ル、ジオキサン等のエーテル類、テトラヒドロフラン、
フルフラール等のフラン類等を四−溶剤またはこれらの
混合溶剤として用いられ7.。
これらの溶剤はバインダーに対して10〜10000w
t%、特に100〜5000wL%の割合で用いる。
磁性層には無機顔料が含まれていてもよい。
無機顔料としては、1)導電性のあるカーポンブラック
、グラファイト、グラファイト化カーホンブラック、ま
た2)無機充填剤としてS iQ2 、TiO2、Af
1203 、Cr2O3、S i C,Cab、CaC
O3、’酸化亜鉛、ゲーサイト、γ−Fe203.タル
ク、カオリン、CaSO4,窒化硼素、フッ化黒鉛、−
8硫化モリブデン、ZnS等がある。 またこの他、伏
のような微粒子−顔料(エアロジルタイプ、コロイダル
タイプ): S iQ2 、Al2O3、TiO2、Z
rO2、 Cr203 、Y203 、CeO2、Fe304 、
Fe203 、ZrS iQ4、Sb20!、、5n0
2等も用いられる。 これら微粒r顔料は、例えば5i
02の場合、■無水硅酸の超微粒子コロイド溶M(スノ
ーテックス、水系、メタノールシリカゾル等、日産イ1
′、学)  ■鯖製四塩化ケイ素の燃焼によって製造さ
れる超微粒子状無水シリカ(標準品100人)(アエロ
ジル、日本アエロジル株式公社)などが挙げられる。 
また、前記■の超微粒子−コロイド溶液および■と同様
の気相法で製造される超微粒f−状の酸化アルミニウム
、並びに酸化チタンおよび11「述の微粒f−顔料が使
用され得る。 この様な無機顔料の使用丑は1)に関し
てはバインダー100!TC量部に対して1〜30 i
Q fi七部、また2)に関しては1〜30(「か部が
適当であり、これらがあまり多くなると、fil lj
Qがもろくなり、かえってドロップアウトか多くなると
いう欠点がある。
また、無機顔料の径については1)に関しては0.1μ
■以丁、さらには0.05μm以ドが好ましく52)に
関しては0.7μm以ド、さらには0.05μm以下が
好ましい。
磁性層には分散剤が含まれていてもよい。
分散剤として41機チタンカップリング剤、シランカッ
プリング剤や界面活性剤が、帯電防止剤としてサポニン
などの天然界面活性剤;アルキレンオキサイド系、グリ
セリン系、グリシドール系などのノニオン界面活性剤:
高級アルキルアミン類、第4級アンモニウム塩類、ピリ
ジンその他の複素環類、ホスホニウムまたはスルホニツ
ム類なとのカチオン界面活性剤;カルホン酸、スルホン
酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸ニスデル基等の酸性基
を含むアニオン界面活性剤;アミノ酸類、アミノスルホ
ン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル等
の両性活性剤などが使用される。
磁性層には?l■滑剤が含まれていてもよい。
潤滑剤としては、従来この種の磁気記録媒体に用いられ
る潤滑剤として、シリコンオイル、フ、ソ表オイル、脂
肪酸、脂肪酸エステル、パラフィン、流動パラフィン、
界面活性剤等を用いることかできるか、脂肪酸および/
または脂肪酸エステルを用いるのが好ましい。
脂肪酸としては、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸
、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン
酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リルン酸
、ステアロール酸等の炭素数12以上の脂肪酸(RCO
OHlRは炭素数11以上のアルキル基)であり・脂肪
酸ニスデルとしては、炭素数12〜16個の−塩It性
脂肪酸と炭素数3〜12個の−・価のアルコールからな
る脂肪酸エステル類、炭素数17個以にの 塩基性脂肪
酸と脂肪酸の炭素数と合計して、炭素数が21〜23個
よりなる一価のアルコールとからなる脂肪酸エステル等
が使用され、また首記脂肪酸のアルカリ金属またはアル
カリ土類金属からなる金属石鹸、レシチン等が使用され
る。
シリコーンとしては、脂肪酸変性よりなるもの、−・部
フッ素変性されているものが使用される。 アルコール
としては高級アルコールよりなるもの、フッ素としては
電解置換、テロメリゼーシ・マン、オリゴメリゼーシジ
ン等によって得られるものが使用される。
潤(rrMの中では、放射線硬化型のものも使用して好
都合である。 これらは裏面への裏型転写を抑えるため
、ドロップアウトの防止、ロール状に巻かれたときの内
外径の個所よる出力差の減少の他、オンライン上での製
造が可能である等の利点を持つ。
放射線硬化型潤滑剤としては、滑性を示す分子−鎖とア
クリル系二(「結合とを分Y−中に41する化合物、例
えばアクリル酸ニスデル、゛メタクリル酸エステル、ビ
ニル酢酸エステル、アクリル酸アミド系化合物、ビニル
アルコールエステル、メチルビニルアルコールエステル
、アリルアルコールエステル、グリセライド等があり。
これらの潤滑剤を構造式で表すと、 CH2=CH−CH2C00R1 CH2=CHC0NHCH2C0OR。
C82C0OR。
RCOOCH=CH2、 RCOOCH2−CH=CH2等で、ここでRは直鎖ま
たは分枝状の飽和もしくは不飽和炭化水素基で、炭素数
は7以ト、好ましくは12以1123以ドであり、これ
らはフッ素置換体とすることもできる。
フッ素置換体としては、 CnF4.+、SO2NCH2CH2−CnFnCH2
CH2NHCH2CH2−1CnF  00(:0OC
II 2 Glfz −n−1 等がある。
これら放射線硬化型潤滑剤の好ましい具体例としては、
ステアリン酸メタクリレート(アクリレート)、ステア
リルアルコールのメタクリレート(アクリレート)、グ
リセリンのメタクリレート(アクリレート)、グリコー
ルのメタクリレート(アクリレート)、シリコーンのメ
タクリレート(アクリレート)等が挙げられる。
分散剤および潤滑剤はバインダーに対して0.1〜20
屯量部含ませるがよい。
支持体としては、ポリエチレンテレフタレート等のポリ
エステル類、ポリプロピレン等のポリオレフィン類、セ
ルローストリアセテート等のセルロース誘導体、ポリイ
ミド、ポリカーボネート、ポリサルホン、ポリエチレン
ナフタレート、)?h族アラミド、芳香族ポリニスデル
、さらにはアルミニウム等の金属板、ガラス板が使用さ
れるがこれらに限定されるものではない。
これらの中では、特に、ポリエステル、ポリアミド、ポ
リイミド等を用いることが好ましい。
本発明の磁気記録媒体では支持体の両面に磁性層を設け
てもよい。 このような媒体とじては、例えばフロッピ
ーディスク、ハードディスク等がある。
この場合、特にフロッピーディスクの場合は両面に磁性
層を設けているものが好ましい。
また必要に応じてアンターコート、バックコートおよび
トップコートを設けてもよい。
なお、バックコートを設けるときには、バインター、顔
料および潤滑剤からなる組成とするのがよい。
本発明の磁気記録媒体を製造するには常法に従って行え
ばよく、磁性粉をバインダー、イーr機溶剤等とともに
混合分数して磁性塗料を調製し、この磁性塗料をポリエ
ステルフィルムなとの基体1−にグラビアコート、リバ
ースロールコート、エアーナイフコート、エアードクタ
ーコート、ブレードコート、キスコート、スプレィコー
トなどの手法を用いて塗45 L、必安に応じて水下方
向や東向方向の磁場等による配向処理を行って乾燥し、
好ましくは常法に従い放射線硬化すればよい。 そして
必要に応してバックコートおよびトップコートを設けれ
ばよい。
配向処理は、常法に従い、上述したような所定の重置角
型比および保磁力を得るために種々の方びをとりつる。
たとえば配向方法としては永久磁石、直流磁石、父(F
i、@場が代表的なものとして用いられ、それらのもの
の外挿組合せ、例えば垂直と水モの組合せ、水゛ト配向
、永久磁石または直流磁場と交流磁場の組合せ、機械的
配向や機械的配向とト記の組合せ等、種々のものが用い
られる。
これらのうち、特に本発明では、機械的配向や水゛Y、
配向を行うことか好ましい。
そして、磁場配向を行う場合、磁場外で磁性粒子′7・
・rIt m場のために配向したものが乱れ、配向性の
低ドを生じないよう磁場内で乾燥させ、反磁場か1%l
いてもそれらの影響が出ないよう、磁場内である程度乾
燥させ、磁性粉が動かないようにすることが好ましい。
配向に用いる磁場強度としては1000〜6000Gが
好ましい。
本発明の記録媒体において、さらに支持体と磁性層との
間にパーマロイ等の高透磁率金属薄膜や各種塗j摸のア
ンダーコート層を設けることもできる。 これらは併用
してもよい。
塗11Qのアンダーコート層には、前述したような熱硬
化性樹脂または放射線硬化型化合物および導′1′if
性顔料、無機充填剤、潤滑剤、界面活性剤の分散剤等が
必要に応じ含まれる。
導電性顔料としては、カーボンブラックが好ましい。 
カーボンブラックとしては、ファーネス、チャンネル、
アセチレン、サーマル、ランプ等、いずれの方法で製造
されたものでもよいが、アセチレンブラック、ファーネ
スブラック、チャンネルブラック、ローラーおよびディ
スクブラック及びドイツナフタリンブラックが好ましい
カーボンブラックの粒子径はどのようなものでもよいか
、好ましいのは、電子顕微鏡l&1影法により7!(す
足して10〜100  mμm、特に好ましくは10〜
80  mμmである。 更に粒子径について言えば、
粒子径100  mμmを超えるとアンダーコート層面
の表面粗度が悪くなり、磁性層塗布後の型持低下の原因
となる。 また10+nμm未満では分散がうまくいか
ず、やはりアンダーコートの表面粗度が悪くなる。
カーボンブラックには特殊なものとしてグラファイト化
カーボンブラックがあり、本発明ではグセファイト化カ
ーボンブラックも用いることがてきる。
このようなアンダーコート層を設けることによって、媒
体のヘッドへのはりつき、また、塗布玉梓等の製造工程
中にガイドローラ、カレンダローラ等のはりつき、放電
ノイズ等の発生を防市することができる。
アンダーコート層の厚さは10人〜5μm程度とするこ
とが好ましい。
用いる磁気ヘッドとしては、通常、例えば、ガートバン
ド形成用のみに消去ヘッドを持つようなり−ドライト川
のリング型ヘッドが用いられ、特に塗布型の磁気記録媒
体においては、従来までの安定性で実績のあるリング型
ヘッドが便用田来るため薄1反型の磁気記録媒体に比べ
有利である。
■ 発明の具体的作用効果 本発明の磁気記録媒体は板状比が2未満である六方晶系
板状磁性粉を含有する磁性層を有する。 従って、得ら
れた媒体はオーバーライド特性が1−分実用に耐えるも
のであり、しかも高い記録冶度化を得ることができる。
このような磁気記録媒体は、名種フロッピーディスク、
オーディオ、ビデオ、ビデオフロッピー、画像ファイル
、計算機用ディスク、磁気ディスク、磁気カート等に用
いられる。
特にフロッピーディスク、計算機用ディスク、磁気ディ
スクに好適である。
■ 発明のJL体的実施例 以ド、本発明の具体的実施例を示し、本発明をさらに詳
細に説明する。
[実施例1] ド記に示すような保磁力Hc上をもつ六方晶系バリウム
フェライト(B a F e 1701gのBa  ’
reを一部置換したものをカラス結晶化法で合成)の磁
性粉を作成した。
区  分    Co   Ti     (μm) 
   (Oe)1    9  3  0.05  6
00F記の磁性粉について表1に示される゛ト均板状比
、・ト均粒径を有する磁性粉を用いて以丁のようにして
磁性塗料を作成した。
バリウムフェライト     120 % jf部α−
A1203          2爪星部(0,5μm
粉状) カーボンブラック        10 +1’c量部
(20[Ilμl ) 溶剤(MEK/トルエン:   100重量部北記組成
物をボールミル中にて3時間混合し、バリウムフェライ
トをよく湿潤させた。
次に、下記に示すバインダーを磁性粉混合物の人フたボ
ールミル中に投入し、再び42時間混合分散させた。
バインダー1 塩体ビニルー酢酸ビニルービニルアルコール共用合体(
マレイン酸1%含イf: MW4(J、000)8重叶部(固型分換算)、アクリ
ル−重結合導入塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体(マレ
イン酸1%含有; M W 20 、  OOO) L Offl R部(
固型分換算)、 アクリルニー市結合導入ポリエーテルウレタンエラスト
マー (MW40.000)9重fi部(固型分換算)
、 ペンタエリスリトールトリアクリレート3市g11部 溶剤(ME K/l−/L、mン: 50150 )2
00 i4 jlt部 ステアリン酸を4 i(1量部、 および ステアリン酸ブチル2爪星部 を混合溶解させた。
また、厚さ75μIのポリエステル(PET)フィルム
の表面と裏面の両面上にF記に、Rずようなアンダーコ
ート層を設層した。
ニム久ニ二二上調         重(、上部カーボ
ンブラック 2oLIIμm5゜(^)アクリル変性基
ビー酢ビービニル7′ルコール共屯合体 分7’−Ei
145.OOO45(8ノアクリル変性ポリウレタン工
ラストマー分′f−■5.000        45
(C)ペンタエリスリトールトリアクリレートステアリ
ン酸             2ステアリン酸ブチル
          2混合溶剤(1ロに/トルエン=
1/1)300L記混合物をボールミル中5時間分散さ
せ、L記のポリエステル(PET)フィルム七に乾燥I
す07μmになるように塗布し、・表向)滑化処理を行
い、エレクトロカーテンタイプ電r線加速に置を用いて
加速電圧150KeV、電極電流10mA、吸収線量5
Mrad、N2ガス中で電r−線をアンダーコート層に
照射した。
このようなアンダーコート層の両面トに、前記の磁性塗
料をグラビアコートにより塗設し、無配向処理状態で配
向させ、その後遠赤外線ランプまたは熱風により溶剤を
乾燥させ表面゛ト滑化処理をした。
その後、バインダーはESI社製エレクトロカーテンタ
イプ電f線加速装置を使用して加速電圧150KeV、
電極電流20mA、吸収線量5Mradの条件ドで、N
2雰囲気Fにて電r−線を照射し、塗膜を硬化させた。
このようにして作製したものを試料1〜5(表1)とす
る。 これらの試料について特性を1調べた。
なお、媒体の保磁力Hc土は表1に示されるとおりであ
った。
特性は以Fのように評価した。
(1)重置角型比 磁気−+1録媒体サンプルの組直方向の角型比Br上/
 B m土を測定し、反磁場補正を行った。
支持体の両面に磁性層を設層した場合は−1それぞれの
磁性層について測定を行った。
(2)オーバーライド特性 磁気記録媒体サンプルll0KFRPIの矩形波をリン
グ型ヘッドにて8き込み、その上に20KFRPIを改
ね書きし、出力差を測定した。 出力万人の方がオーバ
ーラント特性が良い。
(3)線記録密度D5o(KFRPI)回転数300 
r、p、m、、ヘッド:フェライトヘッド、キャップ0
,3μmにて低記録密度領域での出力(E)が高記録密
度領域でE/2となる線記録密度D50(KFRP[)
を測定した。
結果を表1に示す。
現行のフロッピーのオーバーライド特性の規格は一26
dBであるが、上記のサンプルのオーバーライド特性を
測定してみたところオーバーライド−20dBのものま
でが、実用上使用に耐える事がわかり、実用可能なレベ
ルを一2LlαB以Fとした。
これより、試料N004.5が実用に耐えるものであっ
た。
[実施例2] 六方晶系バリウムフェライトとして上記に示す磁性粉2
を用い、バインダーとして、上記に示すバインダー2を
用いた他は、実施例1と同様のPETフィルム、アンダ
ーコート層を用い、実施例1と同様にして磁気媒体をえ
た。
区  分    Co   Ti     (μm) 
   (Oe)2         7     2 
    0.06     700バインダー2 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体(
マレイン酸1%含イf: MW20,000)6屯ら1部(固型分換算)、アクリ
ル変性フェノキシ MW35,000)6重積部(固型分換算)、アクリル
変性ポリエーテルウレタンエラストマー(MW20.0
00)18屯量部 (l!!il牛分換算)、 溶剤(MEK/シクロヘキサノン; 70/30)200重量部、 高級脂肪酸変性シリコーンオイル3爪!11部、および ミリスチン酸ブチル3屯量部を混合溶解させた。
[実施例3] 六方晶系バリウムフェライトとして一上記に示す、→竹
粉3を用い、バインダーとして熱硬化型バインター3を
用い、ざらにアンターコート層として、上記に示すアン
ダーコート層を設層した他は、実施例1と同様にして磁
気媒体をえた。
なお、磁性塗料塗布後の乾燥条件は、80℃、48時間
であった。 また磁性層厚は2μmであった。
区  分   Co   Ti     (μII+ 
)    (Oe)3    6  2  0.06 
 800塩1しヒニルー酢酸ビニルービニルアルコール
jjHilj合体くユニオンカーバイド社製UCARM
AG52B) 15市叶部(固型分換算)、 ウレタン(E1本ポリウレタン社製ニッポラン3022
)    15市量部(固型分換算)、溶剤(MEK/
シクロヘキサノン; 70 / 30 )         200重砒部、
高級脂肪酸変性シリコーンオイル3重量部、および ミリスチン酸ブチル3爪量部 を混f。−溶解させた。
ただし、分散後、磁性塗料中にイソシアネート化合物(
日本ポリウレタン社製コロネートし)を5重量部(固型
分換算)加えた。
アンダーコート 重量部 CaCO350mμl        10カーボン 
20IIIμm (グラファイト化カーボン)30 塩イkP゛ニルービニルアルコール共重合体(VAGH
)             50ポリワレタンエラス
トマー (BF、グツドリッチ ニステン5703)ステアリン
酸              2ステアリン酸ブチル
          2混合溶剤(MIBK/ トルエ
ン=1/1)3001記混合物をボールミル中5時間分
散させた櫟、さらに、rソシアネート化合物(日本ポリ
ウレタン社製コロネートし)を20重計部加え、この1
0合物をF記のポリエステル(PET)フィルム]二に
乾燥厚3μmになるように塗布し、表面・ト滑化処理を
行い、その後、80℃で48時間熱硬化を行った。
[実h’ti例4] 六方晶系バリウムフェライトとじて、f記に示す磁性粉
4を用い、バインダーとして、f記に示すバインダー4
を用いた他は、実施例1と同様のPETフィルム、アン
ダーコート層を用い、実り’6例1と同様にして磁気媒
体をえた。
区    4ト       Co     Ti  
        (μ m)       (Oe)4
   10  4  0.06  500塩化ビニル酢
酸ビニル−ビニルアルコール共重合体くマレ〈ン酸含有
率二0.8%、MW30. 000) 18(重量部(固型分換算)、 アクリル二東結合導入ポリエーテルウレタンエラストマ
ー(MW50,000) 12重量部(固型分換算)、 溶剤(MEK/トルエン;50150)200重ht部
、 ステアリン酸を4重量部、 および ステアリン酸ブチル2屯量部 を混合溶解させた。
このようにして作製したものを試料6〜11(表2)と
する。 これらの試料について特性を調べた。
なお、媒体の保磁力Hc上、垂直角型比は表2に示され
るとおりであった。
特性は以ドのように評価した。
(1)市直角型比 磁気記録媒体サンプルの垂直方向の角型比Br上/ B
 m土を測定し、反磁場補正を行つた。
支持体の両面に磁性層を設層した場合は、それぞれの磁
性層について測定を行った。
(2)オーバーライド特性 磁気記録媒体サンプル上10KFRPIの矩形波をリン
グ型ヘッドにて書き込み、そのFに20KFRP Iを
市ね一トきし、出力差を測定した。 出力万人の方がオ
ーバーライド特性が良い。
結果を表2に示す。
表2より、本発明の効果は明かである。
なお、実施例1〜4の中で、ノ(インダー組成を熱硬イ
1性樹脂としたものは放射線硬化性樹脂に比へ熱硬化時
の布きしまりによりカールが発生しや1いということが
確認された。 従 って5実用面ではバインダー組成を
放射線硬化性樹11ffとした方か好適である。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)支持体上に平均粒径0.2μm以下の板状磁性粉
    とバインダーとを含有する磁性層を有する磁気記録媒体
    において、板状磁性粉の板状比が2未満であることを特
    徴とする磁気記録媒体。
  2. (2)板状磁性粉が六方晶系板状磁性粉である特許請求
    の範囲第1項に記載の磁気記録媒体。
  3. (3)媒体がディスク媒体である特許請求の範囲第1項
    または第2項に記載の磁気記録媒体。
JP60200826A 1985-09-11 1985-09-11 磁気記録媒体 Pending JPS6260122A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009142263A1 (ja) * 2008-05-23 2009-11-26 日立マクセル株式会社 磁気記録媒体

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WO2009142263A1 (ja) * 2008-05-23 2009-11-26 日立マクセル株式会社 磁気記録媒体

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