JPS62291720A - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

３、発明の詳細な説明 ■　発明の背景 技術分野 本発明は、特に六方晶系の板状磁性粉を含有する磁性層
を有する塗布型の磁気記録媒体に関する。　さらに詳し
くは六方晶系板状磁性粉を特にディスク媒体に使用した
時の耐久走行Ｐ［を改善し、しかもさらに高記録密度を
達成しようとするものである。 先行技術とその問題点 近年、磁気記録に関して、記録の大容量化、小型化を達
成するために記録密度の向上が強く要望されている。 従来、生産性等に優れたメリットを有する塗布型の磁気
記録媒体としては、γ−Ｆｅ２０３　、Ｃｏ被着７−Ｆ
ｅ２Ｏ３等の針状磁性粉を含有させた磁性層を有するも
のが汎用されてきた。　　しかしながら、このような磁
性粉を有する磁気記録媒体では、その記録密度に、おの
ずから限界がある。 そこで、より高記録密度化を可能にならしめる方策とし
て、磁気記録媒体の面に対し垂直方向の残留磁化を用い
る方式が提案されている。 このような垂直方式に用いられる媒体としては、例えば
ＢａフェライトやＳ「フェライト等の六方晶系板状磁性
粉を磁性層に含有する磁気記録媒体がある。 このような媒体を用いることによって、より高い記録密
度化が実現でき、特に粒径の微細な磁性粉を使用した場
合この傾向は大きくなる。 しかしながらディスク媒体として微ｌ／ｍ磁性粉を使用
した場合、媒体使用時の耐久走行に問題があり、この点
の改善が強く要望されている。 ■　発明の目的 本発明の目的は、使用時の耐久走行性に優れしかも、さ
らに高記録密度化が可能な磁気記録媒体、特に、ディス
ク媒体を提供することにある。 ■　発明の開示 このような目的は、下記の本発明によって達成される。 すなわち第１の発明は、支持体上に、平均粒径０．２μ
−以下の六方晶系板状磁性粉とバインダーとを含有する
磁性層を有する磁気記録媒体において、 バインダーの２０℃、１０Ｈｚでの力学的損失係数、　
ｔａｎδが０．０５以下であることを特徴とする磁気記
録媒体である。 また第２の発明は、支持体上に、平均粒径０．２μｍ以
下の六方晶系板状磁性粉とバインダーとを含有する磁性
層を有する磁気記録媒体において、 バインダーの２０℃、１０Ｈｚでの力学的損失係数ｔａ
ｎδが０．０５以下であり、しかも磁性層の少なくとも
記録側表面に、炭素数１０〜２２の一塩基性の飽和ない
し不飽和の脂肪酸と炭素数２〜２２の一価の飽和ないし
不飽和のアルコールとからなる脂肪酸エステルが存在す
ることを特徴とする磁気記録媒体である。 ■　発明の具体的構成 以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。 本発明の磁気記録媒体は、支持体上に磁性層を有し、こ
の磁性層中には六方晶系板状磁性粉とバインダーとが含
有されているへ バインダーとしては、各種熱硬化性バインダー、各種放
射線硬化性バインダーが用いられる。 バインダーは、ＩＩ４ないし２種以上の成分を硬化させ
たものであるが、硬化後のバインダーは、２０℃、１０
Ｈｚでの力学的損失係数ｔａｎδが０．０５以下のもの
である。 この場合、力学的損失係数ｔａｎδは以下のようにして
測定される。 まず測定試料を作製する。 すなわち、バインダー組成どおりの成分を溶剤、例えば
メチルエチルケトン／トルエンで希釈したラッカー液を
調整する。　このラッカー液を、例えば離型紙上にバー
コータ等を用い、乾燥厚み３０〜４０μｍとなるように
塗布し乾燥する。 これを、用いる硬化法に従い、放射線や熱で硬化する。 得られたフィルムを粘弾性測定装置を用い、強制振動法
により加振周波数１０Ｈｚ（正弦波）、初期荷重０　、
２５　ｋｇ／　ｍｍ２にて、２０℃で測定する。 このようにして測定された　ｔａｎδがＯ，ＯＳをこえ
ると、耐久性は臨界的に減少してしまう。 ｔａｎδは、０．０５以下において小さいほど耐久性は
向上する。　しかし、０．０３以下になると耐久性はほ
ぼ一定の値に収束してくるので、ｔａｎδは０．０１〜
０．０５、より好ましくは０．０２〜０．０４であるこ
とが好ましい。 さらに、硬化後のバインダーは、４０℃、１０Ｈｚで（
７）貯蔵弾性率Ｅ′　が１００　ｋｇ／１１１１１１２
以上であることが好ましい。 この場合、貯蔵弾性率Ｅ′は、　ｔａｎδと同様にして
以下のようにして測定される。 すなわち、前記と同様にして得られたフィルムを粘弾性
測定装置を用い、強ルＩＦＡ動法により、加振周波数１
０Ｈｚ（正弦波）、初期荷重０　、　２５　ｋｇ／　ｍ
ｍ２にて、４０℃で測定する。 このようにして測定されたＥ′が１００　ｋｇ／１１１
１１２以上となると、耐久性が臨界的に向上する。 Ｅ′の上限値については特に制限はないが、一般に、５
００　ｋｇ／　ｍｍ２程度であるので、Ｅ′は１００〜
４００ｋｇ／ｍｆｆＩ２であることが好ましい。 このようなｔａｎδおよびＥ′を有するバインダー材質
は、熱硬化性バインダー、放射線硬化性バインダーであ
る。 この場合、バインダーに用いる熱硬化性樹脂または反応
型樹脂としては、塗布、乾燥後に加熱することにより、
縮合、付加等の反応により分子量は無限大のものとなり
、これらの樹脂のなかで、樹脂が熱分解するまでの間に
軟化または溶融しないものが好ましい。 具体的には例えばフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリ
ウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、ブチラール樹脂、ホル
マール樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコー
ン樹脂、アクリル系反応樹脂、ポリアミド樹脂、エポキ
シ−ポリアミド樹脂、飽和ポリエステル樹脂、尿素ホル
ムアルデヒド樹脂などの縮重合系の樹脂あるいは高分子
量ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混
合物、メタクリル酸塩共重合体とジイソシアネートプレ
ポリマーの混合物、ポリエステルポリオールとポリイソ
シアネートの混合物、低分子量グリコール／高分子量ジ
オール／トリフェニルメタントリイソシアネートの混合
物など、上記の縮重合系樹脂とイソシアネート化合物な
どの架橋剤との混合物、塩化ビニル−酢酸ビニル（カル
ボン酸含有も含む）、塩化ビニル−ビニルアルコール−
酢酸ビニル（カルボン酸含有も含む）、塩化ビニル−塩
化ビニリデン、塩化ビニル−アクリロニトリル、ビニル
ブチラール、ビニルホルマール等のビニル共重合系樹脂
と架橋剤との混合物、ニトロセルロース、セルロースア
セトブチレート等の繊維素系樹脂と架橋剤との混合物、
ブタジェン−アクリロニトリル等の合成ゴム系と架橋剤
との混合物、さらにはこれらの混合物が好適である。 そして、特に、エポキシ樹脂とブチラール樹脂とフェノ
ール樹脂との混合物、米国特許第３．０５８，８４４号
に記載のエポキシ樹脂とポリビニルメチルエーテルとメ
チロールフェノールエーテルとの混合物、また特開昭４
９−１３１１０１号に記載のビスフェノールＡ型エポキ
シ樹脂とアクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステ
ル重合体との混合物が好ましい。 このような、熱硬化性樹脂を硬化するには、一般に加熱
オーブン中で５０〜８０℃にて６〜１００時間加熱すれ
ばよい。 放射線硬化性化合物の具体例としては、ラジカル重合性
を有する不飽和二重結合を示すアクリル酸、メタクリル
酸、あるいはそれらのエステル化合物のようなアクリル
系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系二重
結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結合等
の放射線照射による架橋あるいは重合乾燥１−る基を熱
可塑性樹脂の分子中に含有または導入した樹脂である。 　その池数射線照射により架橋重合する不飽和二重結合
を存する化合物であれば用いることができる。 放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を熱可塑
性樹脂の分子中に含有する樹脂としては次の様な不飽和
ポリエステル樹脂がある。 分子鎖中に放射線硬化性不飽和二重結合を含有するポリ
エステル化合物、例えば下記（２）の多塩基酸と多価ア
ルコールのエステル結合から成る飽和ポリエステル樹脂
で多塩基酸の一部をマレイン酸とした放射線硬化性不飽
和二重結合を含有する不飽和ポリエステル樹脂を挙げる
ことができる。　放射線硬化性不飽和ポリエステル樹脂
は多塩基酸成分１種以上と多価アルコール成分１種以上
にマレイン酸、フマル酸等を加え常法、すなわち触媒の
存在下で、１８０〜２００℃、窒素雰囲気下、親水ある
いは説アルコール反応の後、２４０〜２８０℃まで昇温
し、０．５〜１ｍａ＋Ｈｇの減圧下、縮合反応により得
ることができる。　マレイン酸やフマル酸等の含有量は
、製造時の架橋、放射線硬化性等から酸成分中１〜４０
モル％、好ましくは１０〜３０モル％である。 放射線硬化性樹脂に変性できる熱可塑性樹脂の例として
は、次のようなものを挙げることができる。 （り塩化ビニール系共重合体 塩化ビニール−酢酸ビニール−ビニールアルコール共重
合体、塩化ビニール−ビニールアルコール共重合体、塩
化ビニール−ビニールアルコール−プロピオン酸ビニー
ル共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−マレイン酸
共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−ビニルアルコ
ール−マレイン酸共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニー
ル−末ｆ４０Ｈ側鎖アルキル基共重合体、例えばＵＣＣ
社製ＶＲＯＨ％ＶＹＮＣ１ＶＹＥＧＸ％ＶＥＲＲ，ＶＹ
ＥＳ、ＶＭＣＡ、ＶＡＧＨ，ＵＣＡＲＭＡＧ５２０、Ｕ
ＣＡＲＭＡ０５２８等が挙げられ、このものにアクリル
系二重結合、マレイン酸系二重結合、アリル系二重結合
を導入して放射線感応変性を行う。 これらはカルボン酸を含有してもよい。 （２）飽和ポリエステル樹脂 フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、コハク酸、ア
ジピン酸、セバシン酸のような飽和多塩基酸と、エチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン、ト
リメチロールプロパン、１．２プロピレングリコール、
１，３ブタンジオール、ジプロピレングリコール、１゜
４ブタンジオール、１．６ヘキサンジオール、ペンタエ
リスリット、ソルビトール、グリセリン、ネオペンチル
グリコール、１．４シクロヘキサンジメタツールのよう
な多価アルコールとのエステル結合により得られる飽和
ポリエステル樹脂またはこれらのポリエステル樹脂をＳ
Ｏ３Ｎａ等で変性した樹脂（例えばバイロン５３Ｓ）が
例として挙げられ、これらも放射線礒伏亦耕ｔ、侍へ （３）ポリビニルアルコール系樹脂 ポリビニルアルコール、ブチラール樹脂、アセタール樹
脂、ホルマール樹脂およびこれらの成分の共重合体で、
これら樹脂中に含まれる水酸基に対し放射線感応変性を
行う。 （４）エポキシ系樹脂、フォノキシ系樹脂ビスフェノー
ルＡとエピクロルヒドリン、メチルエピクロルヒドリン
の反応によるエポキシ樹脂、例えばシェル化学製（エピ
コート１５２、＋５４．８２Ｂ　、　１００１．１００
４、＋００７）　、ダウケミカル製（Ｄ　Ｅ　Ｎ４３１
　、　Ｄ　Ｅ　Ｒ７３２％ＤＥＲ５１１、ＤＥＲ３：Ｉ
Ｉ）、大日木インキ製（エビクロン４００　、８００）
、さらに上記エポキシの高重合度樹脂であるＵＣＣ社製
フェノキシ樹［９（ＰＫＨＡ、ＰＫＨＣ，ＰＫＨＨ）、
臭素化ビスフェノールＡとエピクロルヒドリンとの共重
合体、大日本インキ化学工業製（エビクロン目５．１５
２　、１５：ｌ　、　１１２０）等があり、またこれら
にカルボン酸基を含有するものも含まれる。　これら樹
脂中に含まれるエポキシ基を利用して放射緑感応変性を
行う。 （５）ｊａ維素誘導体 各種のものが用いられるが、特に効果的なものは硝化綿
、セルローズアセトブチレー・ト、エチルセルローズ、
ブチルセルローズ、アセチルセルローズ等が好適である
樹脂中の水酸基を活用して放射線感応変性を行う。 その他、放射１１ａ感応変性に用いることのできる樹脂
としては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエス
テル樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂および誘導体（ｐ
ｖｐオレフィン共重合体）、ポリアミド樹脂、ポリイミ
ド樹脂、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸
基を含有するアクリルエステルおよびメタクリルエステ
ルを重合成分として少なくとも一種含むアクリル系樹脂
等も有効である。 以下にエラストマーもしくはプレポリマーの例を挙げる
。 （１）ポリウレタンエラストマーもしくはプレポリマー ポリウレタンの使用は耐摩耗性、および基体フィルム、
例えばＰＥＴフィルムへの接着性が良い点で特に有効で
ある。　ウレタン化合物の例としては、イソシアネート
として、２．４−トルエンジイソシアネート、２．６−
）ルエンジイソシアネート、１．３−キシレンジイソシ
アネート、１．４−キシレンジイソシアネート、１．５
−ナフタレンジイソシアネート、ｍ−フェニレンジイソ
シアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、３．３
′−ジメチル−４，４′−ジフェニルメタンジイソシア
ネート、４．４′−ジフェニルメタンシイソシアネ−１
・、３．３′−ジメチルビフェニレンジイソシアネート
、４．４′−ビフェニレンジイソシアネート、ヘキサメ
チレンジイソシアネート、イソフオロンジイソシアネー
ト、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、デスモ
ジュールし、デスモジュールＮ等の各種多価イソシアネ
ートと、線状飽和ポリエステル（エチレングリコール、
ジエチレングリコール、グリセリン、トリメチロールプ
ロパン、１，４−ブタンジオール、１．６−ヘキサンジ
オール、ペンタエリスリット、ソルビトール、ネオペン
チルグリコール、１．４−シクロヘキサンジメタツール
の様な多価アルコールと、フタル酸、イソフタル酸、テ
レフタル酸、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸の様な
飽和多塩基酸との縮重合によるもの）、線状飽和ポリエ
ーテル（ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリ
コール、ポリテトラメチレングリコール）やカプロラク
タム、ヒドロキシル含有アクリル酸エステル、ヒドロキ
シル含有メタクリル酸エステル等の各種ポリエステル類
の縮重合物により成るポリウレタンエラストマー、プレ
ポリマーが有効である。 これらのウレタンエラストマーの末端のイソシアネート
基または水酸基と、アクリル系二重結合またはアリル系
二重結合等を有する単量体とを反応させることにより、
放射線感応性に変性１−ることは非常に効果的である。 　また、末端に極性基としてＯＨ，Ｃ０ＯＨ等を含有す
るものも含む。 さらに、不飽和二重結合を有する長鎖脂肪酸のモノある
いはジグリセリド等、インシアネート基と反応する活性
水素を持ち、かつ放射線硬化性を有する不飽和二重結合
を有する単量体も含まれる。 （２）アクリロニトリル−ブタジェン共重合エラストマ
ー シンクレアベトロケミカル社製ポリＢＤリタイッドレシ
ンとして市販されている末端水酸Ｊ＾のあるアクリロニ
トリルブタジェン共重合体プレポリマーあるいは白木ゼ
オン社製ハイカー目３２Ｊ等のエラストマーは、特にブ
タジェン中の二重結合が放射線によりラジカルを生し架
橋および重合させるエラストマー成分として適する。 （３）ポリブタジェンエラストマー シンクレアベトロケミカル社製ポリＢＤリタイッドレジ
ンＲ−１５等の低分子−計末端水酸基を有するプレポリ
マーが特に熱可塑性樹脂との相溶性の点で好適である。 　Ｒ−１５プレポリマーにおいては分子末端が水酸基と
なっている為、分子末端にアクリル系不飽和二重結合を
付加することにより放射線感応性を高めることが可能で
あり、バインダーとしてさらに有利となる。 またポリブタジェンの環化物、日本合成ゴム製ＣＢＲ−
Ｍ９０１も熱可塑性樹脂との組合せによりすぐれた性質
を有している。 その他、熱可塑性エラストマーおよびそのプレポリマー
の系で好適なものとしては、スチレン−ブタジェンゴム
、塩化ゴム、アクリルゴム、イソプレンゴムおよびその
環化物（日本合成ゴム製ＣｌＲ７０１）があり、エポキ
シ変性ゴム、内部可塑化飽和線状ポリエステル（東洋紡
バイロン＄３００）等のエラストマーも放射、ｍｓ応変
性処理を施すことにより有効に利用できる。 オリゴマー、モノマーとして本発明で用いられる放射線
硬化性不飽和二重結合を有する化合物としては、スチレ
ン、エチルアクリレート、エチレングリコールジアクリ
レート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチ
レングリコールジアクリレート、ジエチレングリコール
ジメタクリレート、１．６−ヘキサングリコールジアク
リレート、１．６−ヘキサングリコールジアクリレート
、Ｎ−ビニルピロリドン、ペンタエリスリトールテトラ
アクリレート（メタクリレート）、ペンタエリスリトー
ルトリアクリレート（メタクリレート）、トリメチロー
ルプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパン
トリメタクリレート、多官能オリゴエステルアクリレー
ト（アロエックスＭ−７１００、Ｍ−５４００，５５０
０，５７００等、東亜合成）、ウレタンエラストマーに
ッポンラン４０４０）のアクリル変性体、あるいはこれ
らのものにＣ０ＯＨ等の官能基が導入されたもの、トリ
メチロールプロパンジアクリレート（メタクリレート）
フェノールエチレノキシド付加物のアクリレート（メタ
クリレート）、下記一般式で示されるペンタエリスリト
ール縮合環にアクリル基（メタクリル基）またはεカプ
ロラクトン−アクリル基のついた化合物。 式中、ｍ＝１、ａ＝２、ｂ＝４の化合物（以下、特殊ペ
ンタエリスリトール縮合物Ａという）、 ｍ＝ｔ、ａ＝３、ｂ＝３の化合物（以下、特殊ペンタエ
リスリトール縮合物Ｂという）、ｍ＝ｔ、ａ＝６、ｂ＝
ｏの化合物（以下、特殊ペンタエリスリトール縮合物Ｃ
という）、ｍ＝２．ａ＝６、ｂ＝ｏの化合物（以下、特
殊ペンタエリスリトール縮合物りという）、および下記
式一般式で示される特殊アクリレート類等が挙げられる
。 １）　　（ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣＨ２）３−ＣＣＨ２０
）１（特殊アクリレートＡ） ２）　　　（ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣＨ２）３−ＣＣＨ２
Ｃ８３”（特殊アクリレートＢ） ３）　　（ＣＨ２＝ＣＨＣ０（ＯＣ３Ｈａ”）ｎ　−０
ＣＨ２）３−ＣＣＨ２ＣＨ３′　　　　　　（特殊アク
リレートＣ）（特殊アクリレートＤ） （特殊アクリレートＥ） ＣＨ２ＣＨ２Ｃ００ＣＨ＝ＣＨ２ （特殊アクリレートＦ） ８）　　ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ−（ＣＨ２ＣＨ２０）４−
ＣＯＣＨ＝ＣＨ２（特殊アクリレートＨ） （特殊アクリレートＩ） ＾ （特殊アクリレートＪ） Ａニアクリル酸、　　　ｘ：多価アルコールＹ：多塩基
酸　　　　　く特殊アクリレートＫ）１２）　　　Ａ（
−Ｍ−Ｎ＋−Ｍ−Ａ Ａ：アクリノ繋、　　　Ｍ：２価アルコールＮ：２塩基
酸　　　　　く特殊アクリレートし）次に、放射線感応
性バインダー合成例を説明する。 ａ）塩化ビニール酢酸ビニール共重合系樹脂のアクリル
変性体（放射線感応変性樹脂）の合成ＯＨ基を存する一
部ケン化塩ビー酢ビ共重合体（平均重合度　ｎ＝５００
）７５０部とトルエン１２５０部、シクロへキサノン５
００部を５１の４つ［１フラスコに仕込み、加熱溶解し
、８０℃昇ｆＡ？＆ｔ−リレンジイソシアネートの２−
ヒドロキシエチルメタクリレートアダクト※を６１．４
部加え、さらにオクチル酸スズ０．０１２部、ハイドロ
キノン０．０１２部を加え、８０℃でＮ２気流中、ＮＧ
Ｏ反応率が９０％となるまで反応せしめる。 反応終了後冷却し、メチルエチルケトン１２５０部を加
え希釈する。

【※トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）の２−とドロ
キシエチルメタクリレート（２８部ＭＡ）アダクトの製
法 ＴＤＩ３４８部をＮ２気流中１１の４つ「１フラスコ内
で８０℃に加熱後、２−エチレンメタクリレート２６０
部、オクチル酸スズ０．０７部、ハイドロキノン０．０
５部を反応缶内の温度が８０〜８５℃となるように冷却
コントロールしながら滴下終了後８０℃で３時間撹拌し
、反応を完結させる。 反応終了後取り出して、冷却後、白色ペースト状のＴＤ
Ｉの２ＨＥＭＡを得た。】 ｂ）ブラ、チール樹脂アクリル変性体に合成（放射線感
応変性樹脂） ブチラール樹脂積木化学製Ｂ　Ｍ　−Ｓ　１００　ｉ’
ｌｓをトルエン１９１．２部、シクロへキサノン７１．
４分と共に５１の４つ目フラスコに仕込み、加熱溶解し
、８０℃昇温後ＴＤＩの２ＨＥＭＡアダクト※を７．４
部加え、さらにオクチル酸スズｏ、ｏｔｓ部、ハイドロ
キノン０．０１５部を加え、８０℃でＮ２気流中ＮＣＯ
反応率が９０％以上となるまで反応せしめる。 反応終了後冷却し、メチルエチルケトンにて希釈する。 Ｃ）飽和ポリエステル樹脂アクリル変性体の合成（放射
線感応変性樹脂） 飽和ポリエステル樹脂（東洋紡バイロンＲＶ−２００）
、１００部をトルエン１１６部、メチルエチルケトン１
１６部に加熱溶解し、８０℃昇温後、ＴＤＩの２ＨＥＭ
Ａアダクト※を３．５５部加え、さらにオクチル酸スズ
０．００７部、ハイドロキノン０．００７部を加え、８
０℃でＮ２気流中ＮＣＯ反応率が９０％以上となるまで
反応せしめる。 ｄ）◎エポキシ樹脂アクリル変性体の合成（放射線感応
変性樹脂） エポキシ樹脂（シェル化学製エピコート１００７）４０
０部をトルエン５０部、メチルエチルケトン５０部に加
熱溶解後、Ｎ、Ｎ−ジメチルベンジルアミン０．００６
部、ハイドロキノン０．００３部を添加し８０℃とし、
アクリル酸６９部を滴下し、８０℃で酸価５以下となる
まで反応せしめる。 ◎フェノキシ樹脂アクリル変性体の合成（放射線感応変
性樹脂） ＯＨ基を有するフェノキシ樹脂（ＰにＨＨ：ＵＣＣ社製
　分子量３００００）６００部、メチルエチルケトン１
８００部を３１の４つ目フラスコに仕込み、加熱溶解し
、８０℃昇温後、トリレンジイソシアネートの２とドロ
キシエチルメタクリレートアダクトを６．０部加え、さ
らにオクチル酸スズ０．０１２部、ハイドロキノン０．
０１２部を加え、８０℃でＮ２気流中、ＮＧＯ反応率が
９０％となるまで反応せしめる。 このフェノキシ変性体の分子量は、 ３５０００．１分子当りの二重結合は１個である。 ｅ）ウレタンエラストマーアクリル変性体の合成（放射
線硬化性エラストマー） 末端イソシアネートのジフェニルメタンジイソシアネー
ト（ＭＤ　Ｉ　）系ウレタンプレポリマー（日本ポリウ
レタン製ニッポラン３１１９）２５０部、２ＨＨＭＡ３
２．５部、ハイドロキノン０．０７部、オクチル酸スズ
０．００９部を反応缶にいれ、８０℃に加熱溶解後、Ｔ
Ｄ１４３．５部を反応缶内の温度が８０〜９０℃となる
ように冷却しながら滴下し、滴下終了後、８０℃で反応
率９５％以上となるまで反応せしめる。 ｆ）ポリエーテル系末端ウレタン変性エラストマーアク
リル変性体（放射線硬化性エラストマー）の合成 日本ポリウレタン社製ポリエーテルＰＴＧ−５００，２
５０部、２ＨＥＭＡ３２．５部、ハイドロキノン０．０
７部、オクチル酸スズ０゜００９部を反応缶にいれ、８
０℃に加熱溶解後、ＴＤＩ４３．５部を反応缶内の温度
が８０〜９０℃となるように冷却しながら滴下し、滴下
終了後、８０℃で反応率９５％以上となるまで反応せし
める。 ｇ）ポリブタジェンエラストマーアクリル変性体の合成
（放射線硬化性エラストマー）シンクレアベトロケミカ
ル社製低分子量末端水酸基ポリブタジェンポリＢＤリク
イットレジンＲ−１５２５０部、２ＨＥＭＡ３２．５部
。 ハイドロキノン０．０７部、オクチル酸スズ０．００９
部を反応缶にいれ、８０℃に加熱溶解後、ＴＤ１４３．
５部を反応缶内の温度が８０〜９０℃となるように冷却
しながら滴下し、滴下終了後、８０℃で反応率９５％以
上となるまで反応せしめる。 高分子には、放射線照射により崩壊するものと分子間に
架橋を起こすものが知られている。 分子間に架橋を起すものとしては、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリスチレン、ポリアクリル酸エステル、
ポリアクリルアミド、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、
ポリビニルピロリドンゴム、ポリビニルアルコール、ポ
リアクリルンがある。　このような架橋型ポリマーであ
れば、上記のような変性を特に施さなくても。 架橋反応が起こるので、前記変性体の他に、これらの樹
脂はそのまま使用可能である。 このような放射線硬化性樹脂を硬化するには、公知の種
々の方法に従えばよい。 なお、硬化に際して、紫外線を用いる場合、上述したよ
うな、放射線硬化型化合物の中には、光重合増感剤が加
えられる。 この光重合増感剤としては、従来公知のものでよく、例
えばベンゾインメチルエーテル、ベンゾイネチルエーテ
ル、α−メチルベンゾイン、α−クロルデオキシベンゾ
イン等のベンゾイン系、ベンゾフェノン、アセトフェノ
ン、ビスジアルキルアミノベンゾフェノン等のケトン類
、アセドラキノン、フエナントラキノン等のキノン類、
ベンジルジスルフィド、テトラメチルチウラムモノスル
フィド等のスルフィド類、等を挙げることができる。　
光重合増感剤は樹脂固形分に対し、０．１〜１０重量％
の範囲が望ましい。 紫外線照射は、例えばキセノン放電管、水素放電管など
の紫外線電球等を用いればよい。 一方、電子線を用いる場合には、放射線特性としでは、
加速電圧１００〜７５０ＫＶ、好ましくは１５０〜３０
０にＶの放射線加速器を用い、吸収線量を０．５〜２０
メガラツトになるように照射するのが好都合である。 特に照射線源としては、吸収線量の制御、製造工程ライ
ンへの導入、電離放射線の遮蔽等の見地から、放射線加
熱器により電子線を使用する方法および前述した紫外線
を使用する方法が有利である。 なお、これら各バインダー成分の上記ｔａｎδおよびＥ
′は、上述したところにもとづき、容易に実験的に求め
ることができる。 用いる磁性粉は、好ましくは六角板状のバリウムフェラ
イト系のものであり、電磁変換特性上、平均粒径が０．
２−以下、特に０．０１〜０．１５−のものが好ましい
。 板状比は６以上、特に７以上、さらには８以上であるも
のが好ましい。　なぜならば、板状比を大きくすること
によって、垂直角型比が良好となるため高記録密度化が
容易になり、しかも耐久走行性もすぐれたものになるか
らである。　この場合、板状比の上限値には特に制限は
ないが、通常、５０以下である。 また、平均Ｊゾみは、０．００１〜０．１−程度である
。 ここて、平均粒径とは、電子顕微鏡写真（走査彫型ｒ顕
微鏡（ＳＥＭ）および透過形電子顕微鏡（ＴＥＭ））に
よって、例えば六方晶系のバリウムフェライト粒子の断
面５０個程度を観察し、粒径についての測定値を平均に
したものである。 平均厚みは上記の測定方法やＸ線回折による半値巾等に
従えばよい。 また、板状比とは平均粒径／平均厚みの値である。　平
均粒径が０．２−をこえるとＣ／Ｎ比が悪くなり、実用
上好ましくない。 バリウムフェライトとしては、 Ｂ　ａ　Ｆ　ｅ　１２０１ｇ等の六方晶バリウムフェラ
イトやバリウムフェライトのＢａ、Ｆｅの一部をＣａ、
Ｓｒ、Ｐｂ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｃｒ。 Ｚｎ、Ｉｎ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｇｅ、Ｎｂ、Ｚｒ。 Ｓｎその他の金属で置換したもの等が挙げられる。 これらは併用してもよい。 また、六方晶ストロンチウムフェライトＳ　ｒ　Ｆ　ｅ
　１２０１ｇ、あるし＼はこれを、ト３己に準じて置換
したものであってもよい。 バリウムフェライト等の製法としては、セラミック法、
共沈−焼成法、水熱合成法、フラッラス法、ガラス結晶
化法、アルコキシド法、プラズマジェット法等があり、
本発明ではいずれの方法を用いてもよい。　これらの方
法の詳細については小池吉康　、久保修共著“セラミッ
クス１８　（１９８３）　Ｎｏ、　　Ｉ　Ｏ”などを参
照することができる。 そして、このような磁性粉を含有する磁性層の厚さは、
用いる磁性粉の形状寸法によって様々の値をとりうるが
、通常０．１〜５−程度、好ましくは０．１〜４−であ
る。 この値が上記の範囲をこえ磁性層を厚くしすぎると、磁
性粉の垂直配向度が悪くなるため磁性層表面の表面粗度
も悪くなる。　またＣ／Ｎ比も悪くなる。 この磁性層表面の表面粗度Ｒ２０＝０．０８ＪＪ１１以
下であり、特にＲ２１１＝０．０６ＪＪＩＩ以下である
ことが好ましい。　通常、このＲ２Ｏの限界値は０．０
１程度である。 Ｒ２［ｌがＯ，ｏａ＃ｍをこえると、表面粗度が悪くな
ってヘッドタッチが悪くなり、Ｃ／Ｎ比が悪化するから
である。 ここで、表面粗度Ｒ２＋１の定義と表示は、ＪＩＳｌｌ
　０６０１に記載されているｌＯ点平均表面粗度ＲＩＧ
に準じ、測定点を１０点から２０点に増して新たに規定
したものである。 すなわち、２０点平均表面粗度Ｒ２ｏは、例えば触針針
により描き出された断面曲線を用い、この断面曲線から
基準長さだけ抜き取った部分において、記録チャート進
行方向に記入した各山頂、谷底の平均線に並行、かつ断
面曲線を横切らない任意の基準直線から縦倍率の方向に
測定した最高から１０番目までの山頂の標高の平均値と
、最深から１０番目までの谷底までの山頂の標高の平均
値と、最深から１０番目までの谷底の標高の平均値との
差をマイクロメーター（＃ｍ）で表わしたものをいう。 なお、２０点平均表面粗度Ｒ２０を求める場合の基準長
さしは、原則として２０点平均表面粗度Ｒ２０の範囲に
よって異なり、 ０．８−≦Ｒ２０の場合、Ｌ＝０．２５ｍｍ０．８４　
＜　Ｒ２ｏ≦６．３ＪＪ１１の場合Ｌ＝０．８ｍａ＋ ６．３４＜Ｒ２０≦２５−の場合 １、＝２．５１１１１ ２　ｓ、ｍ＜Ｒ２０≦１００−の場合 Ｌ　　＝　　８　ｆｆ１１１ １００１４！１１＜Ｒ２０≦４００−の場合Ｌ＝２５ｍ
ｍ とする。 また、カットオフ値は、触針スピード３０ｙｍ　／　ｓ
　ｅ　ｃで、０．１８〜９Ｈｚ程度とする。 また、触針針の針先端面の大きさは０．１×２．５−１
針圧は２ｍｇとする。 このような磁性粉と、前述したバインダーとを含有する
磁性層の少なくとも記録表面上には下記の化合物を存在
させることが好ましい。 この化合物としては、炭素数１０〜２２、より好ましく
は１０〜１８の一塩基性の飽和ないし不飽和の脂肪酸と
、炭素数２〜２２、より好ましくは、２〜１８の一価の
飽和ないし不飽和のアルコールとからなる脂肪酸エステ
ルである。　上記脂肪酸の炭素数が１０未満でしかもア
ルコールの炭素数が２未満となると、エステルの融点が
低くなり、そのため潤滑効果があられれず耐久性の向上
が期待できない。 また、上記脂肪酸およびアルコールの炭素数がそれぞれ
２２をこえると、エステルの融点が高くなり、溶融性が
悪く、そのため潤滑効果があられれず耐久性の向上が期
待できない。 エステルにおける脂肪酸および／またはアルコールの脂
肪族３ｎは飽和でも不飽和であってもよく、ｎ一体、ｉ
一体等種々のものであってもよい。 このようなエステルの具体例としては、カプリン酸ブチ
ル、カプリン酸オクチル、カプリン酸イソオクチル、カ
プリン酸２エチルヘキシル、カプリン酸デシル、カプリ
ン酸イソデシル、カプリン酸ラウリル、カプリン酸トリ
デシル、カプリン酸イソトリデシル、カプリン酸ミリス
チル、カプリン酸イソテトラデシル、カプリン酸セチル
、カプリン酸インヘキサデシル、カプリン酸ステアリル
、カプリン酸イソステアリル、カプリン酸オレイル、 ラウリン酸ビニル、ラウリン酸プロピル、ラウリン酸イ
ソプロピル、ラウリン酸ブチル、ラウリン酸イソブチル
、ラウリン酸アミル、ラウリン酸イソアミル、ラウリン
酸ヘプチル、ラウリン酸イソへブチル、ラウリン酸オク
チル、ラウリン酸イソオクチル、ラウリンＷＲｚエチル
ヘキシル、ラフリン酸デシル、ラウリン酸イソデシル、
ラウリン酸ドデシル、ラウリン酸イソドデシル、ラウリ
ン酸トリデシル、ラウリン酸イソトリデシル、ラウリン
酸ミリスチル、ラウリン酸イソミリスチル、ラウリン酸
ペンタデシル、ラウリン酸イソペンタデシル、ラウリン
酸セチル、ラウリン酸イソセチル、ラウリン酸ステアリ
ル、ラウリン酸イソステアリル、ラウリン酸オレイル、
ラウリン酸リシノール、ラウリン酸リノール。 ミリスチン酸ビニル、ミリスチン酸プロピル、ミリスチ
ン酸イソプロピル、ミリスチン酸ブチル、ミリスチン酸
イソブチル、ミリスチン酸アミル、ミリスチン酸イソア
ミル、ミリスチン酸ヘプチル、ミリスチン酸イソへブチ
ル、ミリスチン酸オクチル、ミリスチン酸イソオクチル
、ミリスチン酸２エチルヘキシル、ミリスチン酸デシル
、ミリスチン酸イソデシル２ミリスチン酸ドデシル、ミ
リスチン酸イソドデシル、ミリスチン階トリデシル、ミ
リスチン酸イソトリデシル、ミリスチン酸ミリスチル、
ミリスチン酸イソミリスチル、ミリスチン酸ペンタデシ
ル、ミリスチン酸イソペンタデシル、ミリスチン酸セチ
ル、ミリスチン酸イソセチル、ミリスチン酸ステアリル
、ミリスチン酸イソステアリル、ミリスチン酸オレイル
、ミリスチン酸リシノール、ミリスチン酸リノール、 イソミリスチン酸プロピル、イソミリスチン酸イソプロ
ピル、イソミリスチン酸ブチル、イソミリスチン酸イソ
ブチル、イソミリスチン酸アミル、イソミリスチン酸イ
ソアミル、イソミリスチン酸ヘプチル、イソミリスチン
酸イソへブチル、イソミリスチン酸オクチル、イソミリ
スチン酸イソオクチル、イソミリスチン酸２エチルヘキ
シル、イソミリスチン酸デシル、イソミリスチン酸イソ
デシル、イソミリスチン酸ドデシル、イソミリスチン酸
イソドデシル、イソミリスチン酸トリデシル、イソミリ
スチン酸イソトリデシル、イソミリスチン酸ミリスチル
。 イソミリスチン酸イソミリスチル、イソミリスチン酸ペ
ンタデシル、イソミリスチン酸イソペンタデシル、イソ
ミリスチン酸セチル、イソミリスチン酸イソセチル、イ
ソミリスチン酸ステアリル、イソミリスチン酸イソステ
アリル、イソミリスチン酸オレイル、イソミリスチン酸
リシノール、イソミリスチン酸リノール、バルミチン酸
ビニル、バルミチン酸プロピル酸５バルミチン酸イソプ
ロピル、バルミチン酸ブチル、バルミチン酸イソブチル
、バルミチン酸アミル、バルミチン酸イソアミル、バル
ミチン階ヘプチル、バルミチン酸イソヘプチル、バルミ
チン酸オクチル、バルミチン酸イソオクチル、バルミチ
ン酸２エチルヘキシル、バルミチン酸デシル、バルミチ
ン酸イソデシル、バルミチン酸ドデシル、バルミチン酸
イソドデシル。 バルミチン酸トリデシル、バルミチン酸イソトリデシル
、バルミチン酸ミリスチル、バルミチン酸イソミリスチ
ル、バルミチン酸ペンタデシル、バルミチン酸イソペン
タデシル、パルミチン酸セチル、バルミチン酸イソセチ
ル、バルミチン酸ステアリル、バルミチン酸イソステア
リル、バルミチン酸オレイル、バルミチン酸リシノール
、バルミチン酸リノール。 イソパルミチン酸ビニル、イソパルミチン酸プロピル、
イソパルミチン酸イソプロピル、−ｆソバルミチン酸ブ
チル、イソパルミチン酸イソブチル、イソパルミチン酸
アミル、イソパルミチン酸イソアミル、イソパルミチン
酸へブチル、イソパルミチン酸イソへブチル、イソパル
ミチン酸オクチル、イソパルミチン酸イソオクチル、イ
ソパルミチン酸２エチルヘキシル、イソバルミチン酸デ
シル、イソパルミチン酸イソデシル、イソパルミチン酸
ドデシル、イソパルミチン酸イソドデシル、イソパルミ
チン酸トリデシル、イソパルミチン酸イソトリデシル、
イソパルミチン酸ミリスチル、イソパルミチン酸イソミ
リスチル、イソパルミチン酸ペンタデシル、イソパルミ
チン酸イソペンタデシル、イソパルミチン酸セチル、イ
ソパルミチン酸イソセチル、イソパルミチン酸ステアリ
ル、イソパルミチン酸インステアリル、イソパルミチン
酸オレイル、イソパルミチン酸リシノール、イソパルミ
チン酸リノール、 ステアリン酸ビニル、ステアリン酸プロピル、ステアリ
ン酸イソプロピル、ステアリン酸ブチル、ステアリン酸
イソブチル、ステアリン酸アミル、ステアリン酸イソア
ミル、ステアリン酸へブチル、ステアリン酸イソヘプチ
ル、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸イソオクチル
、ステアリン酸２エチルヘキシル、ステアリン酸デシル
、ステアリン酸イソデシル、ステアリン酸ドデシル、ス
テアリン酸イソドデシル、ステアリン酸トリデシル、ス
テアリン酸イソトリデシル、ステアリン酸ミリスチル、
ステアリン酸イソミリスチル、ステアリン酸ペンタデシ
ル、ステアリン酸イソペンタデシル、ステアリン酸セチ
ル、ステアリン酸イソセチル、ステアリン酸ステアリル
、ステアリン酸イソステアリル、ステアリン酸オレイル
、ステアリン酸リシノール、ステアリン酸リノール、 イソステアリン酸ビニル、イソステアリン酸プロピル、
イソステアリン酸イソプロピル、イソステアリン酸ブチ
ル、イソステアリン酸イソブチル、イソステアリン酸ア
ミル、イソステアリン酸イソアミル、イソステアリン酸
へブチル、イソステアリン酸イソへブチル、イソステア
リン酸オクチル、イソステアリン酸イソオクチル、イソ
ステアリン酸２エチルヘキシル、イソステアリン酸デシ
ル、イソステアリン酸イソデシル、イソステアリン酸ド
デシル、イソステアリン酸イソドデシル、イソステアリ
ン酸トリデシル、イソステアリン酸イソトリデシル、イ
ソステアリン酸ミリスチル、イソステアリン酸イソミリ
スチル、イソステアリン酸ペンタデシル、イソステアリ
ン酸イソペンタデシル、イソステアリン酸セチル、イソ
ステアリン酸イソセチル、イソステアリン酸ステアリル
、イソステアリン酸イソステアリル、イソステアリン酸
オレイル、イソステアリン酸リシノール、イソステアリ
ン酸リノール、 オレイン酸ブチル、オレイン酸イソブチル、オレイン酸
アミル、オレイン酸イソアミル、オレイン酸へブチル、
オレイン酸イソへブチル、オレイン酸オクチル、オレイ
ン酸イソオクチル、オレイン酸２エチルヘキシル、オレ
イン酸デシル、オレイン酸イソデシル、オレイン酸ドデ
シル、オレイン酸イソドデシル、オレイン酸トリデシル
、オレイン酸イソトリデシル、オレイン酸ミリスチル、
オレイン酸イソミリスチル、オレイン酸ペンタデシル、
オレイン酸イソペンタデシル、オレイン酸セチル、オレ
イン酸イソセチル、オレイン酸ステアリル、オレイン酸
イソステアリル、オレイン酸オレイル、オレイン酸リシ
ノール、オレイン酸リノール、エライジン酸ブチル、エ
ライジン酸イソブチル、エライジン酸アミル、エライジ
ン酸イソアミル、エライジン酸ヘプチル、エライジン酸
イソヘプチル、エライジン酸オクチル、エライジン酸イ
ソオクチル、エライジン酸２エチルヘキシル、エライジ
ン酸デシル、エライジン酸イソデシル、エライジン酸ド
デシル、エライジン酸イソドデシル、エライジン酸トリ
デシル、エライジン酸イソトリデシル、エライジン酸ミ
リスチル、エライジン酸イソミリスチル、エライジン酸
ペンタデシル、エライジン酸イソペンタデシル、エライ
ジン酸セチル、エライジン酸イソセチル、エライジン酸
ステアリル、エライジン酸イソステアリル、エライジン
酸オレイル、エライジン酸リシノール、エライジン酸リ
ノール、 １０−オクタデセン酸ブチル、１０−才クタデセン酸イ
ソブチル、１０−オクタデセン酸アミル、１〇−オクタ
デセン酸イソアミル、１〇−オクタデセン酸へブチル、
１０−オクタデセン酸イソへブチル、ＩＯ−オクタデセ
ン酸オクチル、１０−オクタデセン酸インオクチル、１
０−オクタデセン酸２エチルヘキシル、１０−オクタデ
セン酸デシル、１０−オクタデセン酸イソデシル、１０
−オクタデセン酸ドデシル、１０−オクタデセン酸イン
ドデシル、１０−オクタデセン酸トリデシル、１０−オ
クタデセン酸イントリデシル、１０−オクタデセン酸ミ
リスチル、１０−オクタデセン酸イソミリスチル、１〇
−オクタデセン酸ペンタデシル、１〇−オクタデセン酸
インペンタデシル、１〇−オクタデセン酸セチル、１０
−オクタデセン酸イソセチル、１０−オクタデセン酸ス
テアリル、１０−オクタデセン酸イソステアリル、１０
−オクタデセン酸オレイル、１０−オクタデセン酸リシ
ノール、１０−オクタデセン酸リノール、 リシノール酸ブチル、リシノール酸イソブチル、リシノ
ール酸アミル、リシノール酸イソアミル、リシノール酸
へブチル、リシノール酸イソへブチル、リシノール酸オ
クチル、リシノール酸インオクチル、リシノール酸２エ
チルヘキシル、リシノール酸デシル、リシノール酸イソ
デシル、リシノール酸ドデシル、リシノール酸イソドデ
シル、リシノール酸トリデシル、リシノール酸イソトリ
デシル、リシノール酸ミリスチル、リシノール酸イソミ
リスチル、リシノール酸ペンタデシル、リシノール酸イ
ンペンタデシル、リシノール酸セチル、リシノール酸イ
ソセチル、リシノール酸ステアリル、リシノール酸イソ
ステアリル、リシノール酸オレイル、リシノール酸リシ
ノール、リシノール酸リノール、 リノール酸ブチル、リノール酸イソブチル、リノール酸
アミル、リノール酸イソアミル、リノール酸へブチル、
リノール酸イソへブチル、リノール酸オクチル、リノー
ル酸イソオクチル、リノール酸２エチルヘキシル、リノ
ール酸デシル、リノール酸イソデシル、リノール酸ドデ
シル、リノール酸イソドデシル、リノール酸トリデシル
、リノール酸イソトリデシル、リノール酸ミリスチル、
リノール酸インミリスチル、リノール酸ペンタデシル、
リノール酸イソペンタデシル、リノール酸セチル、リノ
ール酸イソセチル、リノール酸ステアリル、リノール酸
インステアリル、リノール酸オレイル、リノール酸リシ
ノール、リノール酸リノール、これらのエステルの融点
は、−２５〜７５℃、特に、−２５〜６５℃、さらに−
２０〜４５℃、さらに−２０〜３５℃のものが好ましく
、これらのものは特に耐久走行性に優れた効果を発揮す
る。 このような脂肪酸エステルは磁性粉１００重ｊ７を部に
対して総計２０重量部以下、特に０．　１〜１ｓｆｆ１
１部使用することが好ましい。 このような化合物に加え、さらに脂肪酸、脂肪酸のアル
カリ金属もしくはアルカリ土類金属からなる金属セッケ
ン、シリコーンオイル、フッ素オイル、パラフィン、流
動パラフィン、界面活性剤等も併用可能である。 脂肪酸としては、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸
、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン
酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リルン酸
、ステアロール酸等の炭素数８以上の脂肪酸（ＲＣＯＯ
Ｈ，Ｒは炭素数７以上のアルキル基）が好ましい。 上述した脂肪酸エステルを磁性層の少なくとも記録側表
面上に存在させるには、以下の方法等がある。 すなわち、通常は、後述するバインダー中に磁性粉と上
記脂肪酸エステルとその他の所定の添加物を分散混合し
たものを支持体上に直接あるいは中間層を介して塗布す
ればよい。 また、あらかじめ支持体上に塗布されたバインダーと磁
性粉とを含有する磁性層上に上記脂肪酸エステルを塗Ｉ
ｉＴまたは蒸着などによってトップコートとして被着さ
せてもよい。 この場合、脂肪酸エステルは必要に応じて磁性層上の全
面にあるいは部分的に点在させるように被着させてもよ
い。 さらには、磁性層中に添加するとともにトップコートと
して設けてもよい。 トップコート層として設ける場合、その膜厚は通常程度
とし、トップコート層を塗設する前のトップコート溶液
中の脂肪酸エステル含有量は０．１〜１５胃ｉｔ程度と
する。 このように磁性層の少なくとも記録側表面上に所定の脂
肪酸エステルを存在させた場合には、媒体の耐久走行性
は格段と向上する。 従って、一度記録された情報の信頼性はきわめて高いも
のとなる。 本発明の磁性層中に含有される磁性粉／バインダーの比
は、重量比で１／１〜９／ｌ、特に２／１〜８／１であ
ることが好ましい。 このような割合とするのは１／１未満では飽和磁束密度
が低くなり、９／１をこえると分散不良により表面粗度
が悪くなり、また塗膜ももろくなり好ましくないからで
ある。 本発明では、磁性層を設層する際の磁性塗料中には必要
に応じ非反応性溶剤が使用される。 溶剤としては特に制限はないが、バインダーの溶解性お
よび相溶性等を考慮して適宜選択される。 例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、ギ酸エチル
、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、メタノール
、エタノール、イソプロパツール、ブタノール等のアル
コール類、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳
香族炭化水素類、イソプロピルエーテル、エチルエーテ
ル、ジオキサン等のエーテル類、テトラヒドロフラン、
フルフラール等のフラン類等を単一溶剤またはこれらの
混合溶剤として用いられる。 これらの溶剤はバインダーに対して１０〜１　００００
ｗｔ％、　特に　１００〜５０００胃し％の割合で用い
る。 また、磁性層には無機顔料が含まれていてもよい。 無機顔料としては、１）導電性のあるカーボンブラック
、グラファイト、グラファイト化カーボンブラック、ま
た２）無機充填剤としてＳ　ｉ０２　、ＴｉＯ２、Ａｌ
１２０３、Ｃｒ２０３、ＳｉＣ，ＣａＯ１ＣａＣＯ３，
酸化亜鉛、ゲーサイト、γ−Ｆｅ２０３．タルク、カオ
リン、ＣａＳＯ４、ｆｉ磁化素、フッ化黒鉛、二硫化モ
リブデン、ＺｎＳ等がある。 またこの他、次のような微粒子顔料（エアロジルタイプ
、コロイダルタイプ）：５ｉ０２、Ａ１２０３　、Ｔｉ
Ｏ２、ＺｒＯ２、 Ｃｒ２０３　、Ｙ２０３　、ＣｅＯ２、Ｆｅ３　０４　
　、　　Ｆｅ２　０３　　、　　ＺｒＳ　　ｉ０４　　
、Ｓｂ２０５．５ｎ０２等も用いられる。　これら微粒
子顔料は、例えば５ｉ０２の場合、■無水珪酸の超微粒
子コロイド溶液（スノーテックス、水系、メタノールシ
リカゾル等、０産化学）、■精製四塩化ケイ素の燃焼に
よって製造される超微粒子状無水シリカ（標準品１００
人）（アエロジル、日本アエロジル株式会社）などが挙
げられる。　また、前記■の超微粒子コロイド溶液およ
び■と同様の気相法で製造される超微粒子状の酸化アル
ミニウム、並びに酸化チタンおよび前述の微粒子顔料が
使用され得る。　この様な無機顔料の使用量は１）に関
してはバインダー１００重量部に対して１〜３０重量部
、また２）に関しては１〜３０重量部が適当であり、こ
れらがあまり多くなると、塗膜がもろくなり、かえって
ドロップアウトが多くなるという欠点がある。 また、無機顔料の径についてはｌ）に関しては０．１μ
ｌ以下、さらには０．０５μｍ以下が好ましく、２）に
関しては０．７μｍ以下、さらには０．５μｍ以下が好
ましい。 磁性層には分散剤が含まれていてもよい。 分散剤として有機チタンカップリング剤、シランカップ
リング剤や界面活性剤が、帯電防止剤としてサポニンな
どの天然界面活性剤；アルキレンオキサイド系、グリセ
リン系、グリシドール系などのノニオン界面活性剤；高
級アルキルアミン類、第４級アンモニウム塩類、ピリジ
ンその他の複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム
類などのカチオン界面活性剤；カルボン酸、スルホン酸
、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基等の酸性基を
含むアニオン界面活性剤；アミノ酸類、アミノスルホン
酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル等の
両性活性剤などが使用される。 分散剤はバインダーに対して０．１〜２０重量部含ませ
るがよい。 支持体としては、ポリエチレンテレフタレート等のポリ
エステル類、ポリプロピレン等のポリオレフィン類、セ
ルローストリアセテート等のセルロース誘導体、ポリイ
ミド、ポリカーボネート、ポリサルホン、ポリエチレン
ナフタレート、芳香族アラミド、芳香族ポリエステル、
さらにはアルミニウム等の金属板、ガラス板が使用され
るがこれらに限定されるものではない。 これらの中では、特に、ポリエステル、ポリアミド、ポ
リイミド等を用いることが好ましい。 支持体の厚さは１〜２００−程度とする。 本発明の磁気記録媒体では通常、支持体の両面に磁性層
が設けられる。　このような媒体としては、例えばフロ
ッピーディスク、ハードディスク等がある。 また必要に応じて、バックコートを設けてもよい。 なお、バックコートを設けるときには、バインダー、顔
料および拐滑剤かうなる組成とするのがよい。 本発明の磁気記録媒体を製造するには常法に従って行え
ばよく、磁性粉をバインダー、有機溶剤等とともに混合
分散して磁性塗料を調製し、この磁性塗料をポリエステ
ルフィルムなどの支持体上にグラビアコート、リバース
ロールコート、エアーナイフコート、エアードクターコ
ート、ブレードコート、キスコート、スプレィコートな
どの手法を用いて塗布し、必要に応じて水平方向や垂直
方向の磁場等による配向処理を行って乾燥し、好ましく
は常法に従い放射線硬化すればよい。　そして必要に応
じて、アンダーコート、バックコートおよヒトツブコー
トを設ければよい。 配向処理は、常法に従い、種々の方法をとりうる。 たとえば配向方法としては永久磁石、直流磁石、交流磁
場が代表的なものとして用いられ、それらのものの篠種
組合せ、例えば垂直と水平の組合せ、水平配向、永久磁
石または直流磁場と交流磁場の組合せ、機械的配向や機
械的配向と上記の組合せ等、種々のものが用いられる。 配向に用いる磁場強度としては１０００〜６０００Ｇが
好ましい。 本発明の記録媒体において、さらに支持体と磁性層との
間にパーマロイ等の高透磁率金属薄膜を設けることもで
きる。 なお、本発明の磁気記録媒体は、ディジタル記録用ある
いはアナログ記録用のいずれの媒体としても用いられる
。 ■　発明の具体的作用効果 本発明によれば、耐久走行性に優れ、しかも高記録密度
特性の良好な磁気記録媒体が得られる。 このような磁気記録媒体は、各種フロッピーディスク、
オーディオ、ビデオ、ビデオフロッピー、画像ファイル
、計算機用ディスク、電気ディスク、磁気カード等に用
いられ、ディジタル記録用あるいはアナログ記録用のい
ずれの媒体でありてもよい。 特にフロッピーディスク、計算機用ディスク、磁気ディ
スクに好適である。 ■　発明の具体的実施例 以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明をさらに詳
細に説明する。 実施例Ｉ Ａ、アクリル二重結合導入塩化ビニル−酢酸ビニル−ビ
ニルアルコール共重合体（マレイン酸含有：ＭＷ＝４０
０００） Ｂ、アクリル二重結合導入ポリエステルウレタンエラス
トマー（ＭＷ＝３００００）Ｃ，アクリル二重結合導入
ポリエステルウレタンエラストマー（ＭＷ＝５０００） Ｄ、ペンタエリスリトールトリアクリレート上記Ａ、Ｂ
、Ｃ，Ｄを表１の混合比（重量部）で混合し、メチルエ
チルケトン／トルエン＝　５０１５０の溶剤２００重量
部に希釈して、ラッカー液を作製した。 各ラッカー液を、離型紙上に、バーコータにより乾燥後
、厚み３０〜４０μｍとなるように手引きし、４０℃に
て２４時間乾燥させた。 さらに、ＥＳＩ社製エレクトロカーテン型電子線加速装
置を用いて、加速電圧１５０ＫｅＶ、電極電流２０ｍＡ
、全照射量５Ｍｒａｄの条件下でＮ２雰囲気下にて電子
線を照射し、塗膜を硬化させた。 得られたバインダーフィルムを離型紙から剥離し、岩本
製作所製粘弾性スペクトロメータにより、加振周波数（
正弦波）１０Ｈｚ、初期荷重０　、２５　ｋｇ／　μｍ
２により、貯蔵弾性率Ｅ′および力学的損失係数ｔａｎ
δを測定した。 結果を表１に示す。 さらにこれらのラッカー液をバインダーとして下記に示
されるような磁性塗料から磁性層を形成し、種々の媒体
サンプルを作製した。 すなわち、まず最初に、 平均粒径０．０８ｇ、平均厚み０．００８−１平均板状
比１０をもつ六方晶系バリウムフェライト（Ｂ　ａ　Ｆ
　ｅ　１２０１ｇのＢａ、Ｆｅを一部Ｃ０１Ｔｉで置換
したものを水熱合成法で合成）を用いて以下のようにし
て磁性塗料を作製した。 バリウムフェライト　　　　　１２０重量部（Ｈｃ＝７
５０　０ｅ） α−Ａｉ２ｏ３　　　　　　　　　２重量部（０，５μ
ｍ粉状） カーボンブラック　　　　　　　１０ｉ［１量部（２０
ｍμｍ） 溶剤（ＭＥに／トルエン＝　　１００重量部上記組成物
をボールミル中にて３時間混合し、バリウムフェライト
をよく湿−１させた。 次にバインダーとして表１に示される所定のものに 溶剤（ＭＥに／トルエン；５０１５０）２００重量部、 ステアリン酸を４ｆｆｌＱ部をそれぞれ加えて混合溶解
させ乞 これを上記磁性粉混合物の入ったボールミル中に投入し
、再び４２時間混合分散させた。 このようにして得られた磁性塗料を、厚さ７５−のＰＥ
Ｔフィルム上にグラビアコートを行い、永久磁石（３０
００Ｇ）上で乾燥させながら垂直配向させ、その後遠赤
外ランプまたは熱風により溶剤を乾燥させた。　表面平
滑化処理をした後、ＥＳＩ社製エレクトロカーテンタイ
プ電子線加速装置を使用して加速電圧ｔＳＯにｅｖ、電
極電流２０ｍＡ、全照射量５　Ｍｒａｄの条件下でＮ２
雰囲気下にて電子線を照射し、塗膜を硬化させた。　硬
化後の膜厚は３−とじた。 なおバリウムフェライトの平均粒径、平均厚みは、電子
顕微鏡写真〔走査計電子顕微１！（ＳＥＭ）および透過
形電子顕微鏡（ＴＥＭ））やＸ線回折による半値巾を用
いて測定した。　また平均板状比は、平均粒径／平均厚
みによって算出した。 このようにして得られたサンプルを所定のディスク形状
に打ち抜いた後、評価サンプルとし、下記の特性を測定
した。 （１）耐久走行性 現行のフロッピーディスクドライブで常温で測定した。 （２）線記録密度Ｄ５０（ＫＦＲＰＩ）回転数３００　
ｒ、ｐ、ｍ　、ヘッド；フェライトヘット、ギャップ０
．３μｍにて低記録密度領域での出力（Ｅ）が高記録密
度領域でＥ／２となる記録密度Ｄ　ｓｏ　（にＦＲＰＩ
）を測定した。 結果を表１に示す。 表１に示される結果から、本発明の効果があきらかであ
る。 〔実施例２〕 に、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合
体（ＭＷ＝３５０００） Ｌ、ポリエステルウレタンエラストマー（ＭＷ＝３００
００） Ｍ、ポリイソシアネート（ＭＷ＝７００）表２に示され
る混合比（重量部）の上記Ｋ、Ｌ、Ｍと、メチルエチル
ケトン／トルエン＝５０７５０の溶剤２００重量部とを
実施例１と同様に混合し、乾燥厚み３０〜４０μｍとな
るように塗布し、６０℃で２４時間の硬化時間で硬化さ
せた。 実施例１と同様にえられたバインダーフィルムの　ｔａ
ｎδ、Ｅ′を測定した。 結果を表２に示す。 次いで、これらのバインダーを用いて媒体サンプルを作
製した。　すなわち、 平均粒径０．に】−１平均厚み０．００４−１板状比３
０の六方晶系バリウムフェライト（Ｂ　ａ　Ｆ　ｅ　１
２０１ｇのＢａ、ＦｅをＣｕ、Ｚｒで一部変換したもの
を水熱合成法で合成）１２０重量部、 ａ−Ａ１２０３　　（０，５μｍ粉末）２重量部、 分散剤（大豆油未結製レシチン）３重量部および 溶剤（ＭＥに／シクロへキサノン； ７０／３０）１００重量部 を用いて実施例１と同様にして磁性粉混合物を作った。 次に、バインダーとして表２に示される所定のものに 溶剤（ＭＥＫ／シクロヘキサノン； ７０／３０）２００重量部、 高級詣肪酸変性シリコーンオイル３重計部、およびステ
アリン酸−２重量部 をそれぞれ混合溶解させた。 その後、実施例１と同様の操作によりサンプルを作製し
た。 ただし、配向処理は交流磁場（２０００Ｇ）を用いて行
った。 これらについて、実施例１の場合と同様な特性を測定し
た。 結果を表２に示す。 〔実施例３〕 実施例１のサンプルＮｏ、１０１の磁性塗料中に、下記
の化合物１〜６のいずれかを所定量加えて混合し、さら
に必要に応じて、磁性層の上にトップコート層を形成し
た以外は、上記サンプルＮｏ、１０１の場合と同様にし
て表３に示すような種々のサンプルを作製した。 化合物１（本発明） カプリン酸ヘプチル　　　　　　６重量部化合物２（本
発明） ステアリン酸イソセチル　　　　３ｆｆｉｆｆｉ部ステ
アリン酸ブチル　　　　　　３重量部化合物３（本発明
） オレイン酸オレイル　　　　　　６重量部化合物４（本
発明） ステアリン酸オクチル　　　　　６ｉ１ｉｔｉ１部化合
物５（比較） カプロン酸プロピル　　　　　　６重量部化合物６（比
較） リグノセリン酸トコシル　　　　５ｆｉｆｉ部上述した
ようにさらに必要に応じて、下記表３に示される上記化
合物１〜３の１つをイソプロピルアルコール中に混合し
、４ｗｔ％の塗布溶液とし、このものを磁性層の上に塗
布してトップコート層を形成した。 このようにして得られたサンプルを所定のディスク形状
に打ち抜いた後評価サンプルとし、上記実施例１〜２の
場合と同様な特性を測定した。 結果を表３に示す。 （実施例４〕 実施例１で用いた磁性粉を下記表４に示される形状を有
する種々の磁性粉にかえた以外は、実施例１のサンプル
Ｎｏ、３０４の場合と同様にして、種々のサンプルを作
製した。　そして上述の耐久走行性およびＤ５ｏの特性
を同様に測定した。 結果を表４に示す。 （実施例５〕 実施例１のサンプルＮｏ、１０１について、磁性層の厚
さを種々かえたサンプルを作製し、これらについてＤ５
ｏの値を測定した。　結果を下記表５に示す。 表　　　　　　　　５ サンプル　　　　磁性層の　　　　Ｄ５゜Ｎｏ、　　　
　　　厚さくｐ）　　　　（ＫＦＲＰＩ）５０１　　　
　　　　　　　１　。　０　　　　　　　７５５０２　
　　　　　　　　　　　１、　５　　　　　　　　７１
以上の結果より本発明の効果は明らかである。

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. （１）支持体上に、平均粒径０．２μｍ以下の六方晶系
   板状磁性粉とバインダーとを含有する磁性層を有する磁
   気記録媒体において、 バインダーの２０℃、１０Ｈｚでの力学的損失係数、ｔ
   ａｎδが０．０５以下であることを特徴とする磁気記録
   媒体。
2. （２）バインダーの４０℃、１０Ｈｚでの貯蔵弾性率Ｅ
   ′が１００Ｋｇ／ｍｍ＾２以上である特許請求の範囲第
   １項に記載の磁気記録媒体。
3. （３）磁性粉が六方晶系バリウムフェライトである特許
   請求の範囲第１項または第２項に記載の磁気記録媒体。
4. （４）磁性粉の平均板状比が６以上である特許請求の範
   囲第１項ないし第３項のいずれかに記載の磁気記録媒体
   。
5. （５）支持体上に、平均粒径０．２μｍ以下の六方晶系
   板状磁性粉とバインダーとを含有する磁性層を有する磁
   気記録媒体において、 バインダーの２０℃、１０Ｈｚでの力学的損失係数ｔａ
   ｎδが０．０５以下であり、しかも磁性層の少なくとも
   記録側表面に、炭素数１０〜２２の一塩基性の飽和ない
   し不飽和の脂肪酸と炭素数２〜２２の一価の飽和ないし
   不飽和のアルコールとからなる脂肪酸エステルが存在す
   ることを特徴とする磁気記録媒体。