JP2900169B2 - 磁気記録媒体 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は非磁性支持体と磁性層からなる磁気記録媒体
に関するものであり、特に重層構成の磁性層を有する磁
気記録媒体に関するものである。

〔従来技術とその課題〕

近年、磁気記録の発展にともない、より高画質、高音
質の要請が高い。この要請に答えるために磁気記録媒体
はこれまで強磁性粉末の微粒子化、磁気記録媒体の高密
度化が進められてきた。また、磁気記録媒体が大量に消
費されてきて、メディアとして大量に消費されるように
なってくるとより安価でできることが要求される。その
技術として重層化が上げられる。それは上層で高画質用
の特性をもたせ、下層で高音質用の特性をもたせるため
適切な強磁性粉末が使用できるからである。また重層化
は、その層によって適性な材質を使えるために安価なコ
ストで作製できる特徴も同時に持つ。一方高画質、高音
質を達成するためには電磁変換特性、特にRf出力を上
げ、ノイズを下げてS/Nを向上させる必要がある。

このためには、強磁性粉末を小さくして単位体積中の
強磁性粉末の数を増す必要がある。しかし、単位体積中
の強磁性粉末の数を単に増すために強磁性粉末の比表面
積を増しても、強磁性粉末の表面に空孔があいたりして
いて、実際の粒子サイズは小さくなっていなかったり、
短軸と長軸の軸比が小さくなったりすると、上記の目的
を達成することが困難であった。

すなわち、空孔が生ずると磁性率の損失が大きくな
り、また強磁性粉末と軸比が小さくなると磁気記録媒体
の製造時における強磁性粉末の配向性が悪くなる等の問
題があった。

また、強磁性粉末を小さくすると、抵抗磁力の成分が
増すためか、転写特性が悪化して実用に供しなくなると
いう問題があった。

そこでこれらの問題を解決するために、特開昭63−18
7419号では最上層に平均長軸粒子長が0.25μｍ未満、Ｘ
線回折法による結晶子サイズが300Å未満で最上層以外
の強磁性粉末の平均長軸粒子長が0.25μｍ以上、結晶子
サイズが300Å以上である重層磁性層を用いることを提
案した。しかしながらVHSやβなどシステムのビデオテ
ープでは上層の磁性層のHcが650Oe以上1000Oe以下で、
かつ下層の磁性層のHcは上層の0.6〜1.0倍であるような
範囲が好ましいことがわかった。

しかし下層の平均長軸径が0.25μｍ以上の強磁性粉末
を用いると、低域でのノイズが上がりS/Nが大幅に低下
することがわかった。又、下層の長軸径が0.25μｍ以上
では表面性が十分に平滑となっておらず、Ｙ−Ｓ、Ｙ−
S/Nも低下する。即ち、本発明の目的は高域及び低域の
全帯域において出力及びS/Nが高く、かつ転写特性も良
好なビデオ用磁気記録媒体を提供することにある。

〔課題を解決するための手段〕

本発明は非磁性支持体に酸化鉄もしくはコバルト含有
酸化鉄よりなる強磁性粉末を結合剤中に分散させてなる
磁性層を重層構成にして設けてなる磁気記録媒体におい
て、上層の磁性層のHcが650Oe以上1000Oe以下で上層の
磁性層に含まれる強磁性粉末のＸ線回折法による結晶子
サイズが500Å未満でかつ平均長軸径が0.1μｍ以上0.25
μｍ未満であり、下層の磁性層のHcは上層の0.6〜1.0倍
で下層の磁性層に含まれる強磁性粉末の結晶子サイズは
500Å以下の範囲で上層より大きく、平均長軸径は0.1μ
ｍより大きく、0.25μｍ未満の範囲で上層より大きいこ
とを特徴とする磁気記録媒体であり、これにより上記課
題を解決し、本目的を達成することができる。

ビデオ用磁気記録媒体、例えばVHS、βなどのシステ
ムでは上層の磁性層のHcは650Oe以上1000Oe以下、好ま
しくは750Oe〜950Oeの範囲である。Hcが650Oe未満では
高域の出力、S/Nが劣る。Hcが1000Oeより大きいと顕著
に低域の出力、S/Nが低下する。又下層の磁性層のHcが
上層の0.6〜1.0の値に比べ小さすぎると顕著に転写特性
が劣化する。

下層のHcは上層のHcの0.6〜1.0倍が好ましく、特に0.
8〜1.0倍が好ましく、600Oe〜850Oeが最も好ましい。約
1.1倍以上では長波長域の電磁変換特性が劣り、約0.5倍
以下では転写特性が劣るので好ましくない。

このようなHcのシステムにおいては、強磁性粉末の結
晶子サイズ、平均長軸径が高域、低域の出力、S/N及び
転写特性に大きく影響を及ぼすことがわかった。

すなわち上層の強磁性粉末の結晶子サイズは500Å未
満で好ましくは200Å〜400Å、特に好ましくは300Å〜3
60Åの範囲である。500Å以上では高域の出力、S/N、及
び低域の出力、S/Nが低下する。このように上層の強磁
性粉末の結晶子サイズが大きすぎると単に高域のみなら
ず低域の出力、S/Nにも影響する。下層の強磁性粉末の
結晶子サイズは500Å以下であり、好ましくは300Å〜48
0Å、特に好ましくは400Å〜450Åの範囲であり、かつ
上層の強磁性粉末の結晶子サイズより大きいことが必要
である。下層の結晶サイズが小さすぎると分散性が低下
し、表面性が悪化するため高域、低域の出力、S/Nが低
下する。

次に上層の強磁性粉末の平均長軸径は0.1μｍ以上0.2
5μｍ未満であり、好ましくは0.1μｍ〜0.2μｍの範囲
である。平均長軸径が0.1μｍ未満では配向性が劣り、B
rが低下するため高域の出力、S/Nが低下する。0.25μｍ
以上だと高域でのノイズが上がり、S/Nが低下しやす
い。

一方下層の強磁性粉末の平均長軸径は0.1μｍより大
きく、0.25μｍ未満、好ましくは0.15μｍ〜0.24μｍの
範囲で上層より大きいことが必要である。0.1μｍ未満
では転写特性が劣化する。又0.25μｍ以上だと低域の出
力、S/Nが顕著に劣化しやすく、又高域の出力、S/Nも劣
化しやすい。

〔発明の効果〕

本発明においては上層の磁性層のHcを650Oe以上1000O
e以下にすることによって高、低域の出力、S/Nが向上す
る。又下層の磁性層のHcを上層の0.6〜1.0倍にすること
により、低域の出力、S/Nが向上すると共に転写特性も
改良される。上層の強磁性粉末の結晶子サイズを500Å
未満とすることにより低域及び高域のS/Nが改良され
る。下層の結晶子サイズは500Å以下の範囲で上層より
大きくすることにより表面性が向上し、高低域の出力、
S/Nが顕著に改善される。又上層の強磁性粉末の平均長
軸径は0.1μｍ以上0.25μｍ未満とすることにより高
域、低域の出力、S/Nがかなり改良される。下層の平均
長軸径は0.1μｍより大きく、0.25μｍ未満の範囲で上
層より大きくすることにより低域の出力、S/Nが顕著に
改良される。このような特定の範囲の組み合せにより高
域、低域の出力、S/N及び転写特性が改良されることは
予期せぬ結果であった。

〔発明の詳細な記述〕 本発明で用いた強磁性粉末の結晶子サイズはＸ線回折
法で（1,1,0）面で測定し、Hallの式により求められた
ものである。又平均長軸径は透過型電子顕微鏡によって
測定したものである。

又、本発明に使用する強磁性微粉末としては酸化鉄
｛α−Fe₂O₃,Fe₃O₄,FeOx（ｘ＝1.33〜1.50）等｝もしく
はCo含有酸化鉄｛Co−α−Fe₂O₃,Co−Fe₃O₄,Co−FeOx
（ｘ＝1.33〜1.50）等｝など公知の強磁性粉末が使用で
きる。尚、前記Co含有酸化鉄とは、Coドープもしくは固
溶酸化鉄、Co被着酸化鉄等のCo変性酸化鉄等を包含する
ものである。特に好ましいのは、上層、下層共にCo−γ
−Fe₂O₃である。

また、一般的な針状酸化鉄製造では，硫酸第１鉄水溶
液にNaOH等のアルカリを加えpHを10以上に調整しながら
加熱し、空気を反応系に吹き込んで酸化を続けてαFeOO
Hを生成する。ここでpHの値を大きくするとαFeOOHの結
晶子サイズは大きくなる。そのαFeOOHを次工程で処理
することで、本発明で用いる磁性体の結晶子サイズをコ
ントロールできる。（γ−酸化鉄の製造方法は特別なも
のでなく、既知ものと同様。） 本発明の磁性層あるいは所望により設けられるバック
層に使用されるバインダーとしては従来公知の熱可塑性
樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂やこれらの混合物が使
用される。

熱可塑性樹脂としては軟化温度が150℃以下、平均分
子量が10000〜300000、重合度が約50〜2000程度のもの
で、例えば塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル
共重合体、塩化ビニル塩化ビニリデン共重合体、塩化ビ
ニルアクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステルア
クリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル塩化ビニ
リデン共重合体、アクリル酸エステルスチレン共重合
体、メタクリル酸エステルアクリロニトリル共重合体、
メタクリル酸エステル塩化ビニリデン共重合体、メタク
リル酸エステルスチレン共重合体、ウレタンエラストマ
ー、ナイロン−シリコン系樹脂、ニトロセルロース−ポ
リアミド樹脂、ポリフッカビニル、塩化ビニリデンアク
リロニトリル共重合体、ブタジエンアクリロニトリル共
重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、セル
ロース誘導体（セルロースアセテートブチレート、セル
ロースダイアセテート、セルローストリアセテート、セ
ルロースプロピオネート、ニトロセルロース、エチルセ
ルロース、メチルセルロース、プロピルセルロース、メ
チルエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、
アセチルセルロース等）、スチレンブタジエン共重合
体、ポリエステル樹脂、クロロビニルエーテルアクリル
酸エステル共重合体、アミノ樹脂、各種の合成ゴム系の
熱可塑性樹脂及びこれらの混合物等が使用される。

熱硬化性樹脂又は反応型樹脂としては塗布液の状態で
は200000以下の分子量であり、塗布、乾燥後に加熱する
ことにより、縮合、付加等の反応により分子量は無限大
のものとなる。又、これらの樹脂のなかで、樹脂が熱分
解するまでの間に軟化又は溶融しないものが好ましい。
具体的には例えばフェノール樹脂、フェノキシ樹脂、エ
ポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラ
ミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコン樹脂、アクリル系
反応樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ニトロセルロー
スメラミン樹脂、高分子量ポリエステル樹脂とイソシア
ネートプレポリマーの混合物、メタクリル酸塩共重合体
とジイソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエステ
ルポリオールとポリイソシアネートとの混合物、尿素ホ
ルムアルデヒド樹脂、低分子量グリコール／高分子量ジ
オール／トリフェニルメタントリイソシアネートの混合
物、ポリアミン樹脂、ポリイミン樹脂及びこれらの混合
物等である。

これらの結合剤の単独又は組合わされたものが使わ
れ、ほかに添加剤が加えられる。磁性層の強磁性粉末と
結合剤との混合割合は重量比で強磁性微粉末100重量部
に対して結合剤５〜300重量部、好ましくは10〜100重量
部、より好ましくは20〜40重量部の範囲で使用される。
バック層の微粉末と結合剤の混合割合は重量比で微粉末
100重量部に対して結合剤30〜300重量部、好ましくは40
〜150重量部の範囲で使用される。添加剤は分散剤、潤
滑剤、研磨剤、帯電防止剤、酸化防止剤、溶剤等がくわ
えられる。

これらの熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂
は、主たる官能基以外に官能基としてカルボン酸、スル
フィン酸、スルフェン酸、スルホン酸、燐酸、硫酸、ホ
スホン、ホスフィン、ホウ酸、硫酸エステル基、燐酸エ
ステル基、これらのアルキルエステル基等の酸性基（こ
れらの酸性基は、Na塩などの形でもよい）、アミノ酸
類；アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸また
は燐酸エステル類、アルキルベタイン型等の両性類基、
アミノ基、イミノ基、イミド基、アミド基、エポキシ
基、等また、水酸基、アルコキシル基、チオール基、ハ
ロゲン基、シリル基、シロキサン基を通常１種以上６種
以内含み、各々の官能基は樹脂1gあたり１×10^-6eq〜１
×10^-2eq含む事が好ましい。

本発明にもちいるポリイソシアネートとしては、トリ
レンジイソシアネート、4,4′−ジフェニルメタンジイ
ソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシ
リレンジイソシアネート、ナフチレン−1,5−ジイソシ
アネート、ｏ−トルイジンジイソシアネート、イソホロ
ンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシア
ネート、イソホロンジイソシアネート等のイソシアネー
ト類、又当該イソシアネート類とポリアルコールとの生
成物、又イソシアネート類の縮合に依って生成した２〜
15量体のポリイソシアネート等を使用することができ
る。これらポリイソシアネート類の平均分子量は、100
〜20000のものが好適である。これらポリイソシアネー
トの市販されている商品名としては、コロネートＬ、コ
ロネートHL、コロネート2030、コロネート2031、ミリオ
ネートMR、ミリオネートMTL（日本ポリウレタン（株）
製）、タケネートＤ−102、タケネートＤ−110N、タケ
ネートＤ−200、タケネートＤ−202、タケネート300S、
タケネート500（武田薬品（株）製）、スミジュールＴ
−80、スミジュール44S、スミジュールPF、スミジュー
ルＬ、スミジュールＮ、デスモジュールＬ、デスモシュ
ールIL、デスモジュールＮ、デスモジュールHL、デスモ
ジュールT65、デスモジュール15、デスモジュールＲ、
デスモジュールRF、デスモジュールSL、デスモジュール
Z4273（住友バイエル社製）等があり、これらを単独若
しくは硬化反応性の差を利用して二つ若しくはそれ以上
の組み合わせによって使用することができる。又、硬化
反応を促進する目的で、水酸基（ブタンジオール、ヘキ
サンジオール、分子量が1000〜10000のポリウレタン、
水等）、アミノ基（モノメチルアミン、ジメチルアミ
ン、トリメチルアミン等）を有する化合物や金属酸化物
の触媒を併用する事も出来る。これらの水酸基やアミノ
基を有する化合物は多官能である事が望ましい。これら
のポリイソシアネートはバインダー総量の５〜40wt％、
好ましくは20〜40wt％の範囲で用いられる。

本発明に使用する分散剤としては、カプリル酸、カプ
リン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ス
テアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、エライジン酸、リ
ノール酸、リノレン酸、ステアロール酸等の炭素数10〜
26個の脂肪酸（R₁COOH、R₁は炭素数９〜25個のアルキル
基）、前記の脂肪酸のアルカリ金属（Li、Na、Ｋ、NH₄ ⁺
等）またはアルカリ土類金属（Mg、Ca、Ba等）、Cu、Pb
等から成る金属石鹸、上記脂肪酸の脂肪酸アミド；レシ
チン等が使用される。この他に炭素数４以上の高級アル
コール（ブタノール、オクチルアルコール、ミリスチル
アルコール、ステアリルアルコール）及びこれらの硫酸
エステル、燐酸エステル、アミン化合物等も使用可能で
ある。また、ポリアルキレンオキサイド及びこれらの硫
酸エステル、燐酸エステル、アミン化合物等やスルホ琥
珀酸、スルホ琥珀酸エステル等も使用可能である。これ
らの化合物にはバインダーとの相溶性や特性を変えるた
めにSi、Ｆの置換基を導入することも可能である。これ
らの分散剤は通常一種類以上で用いられ、一種類の分散
剤は結合剤100重量部に対して0.005〜20重量部の範囲で
添加される。これら分散剤の使用方法は、強磁性微粉末
や非磁性微粉末の表面に予め被着させても良く、また分
散途中で添加してもよい。

このほかに分散剤として好ましい化合物としては、カ
ルボン酸、燐酸エステル等の界面活性剤やフッ素系界面
活性剤フロラード（fluorad）FC95、FC129、FC430、FC4
31を用いる事ができる。

本発明の磁性層あるいはバック層に使用される潤滑剤
としては、二硫化モリブデン、窒化硼素、弗化黒鉛、炭
酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化ケイソ、酸化チタ
ン、酸化亜鉛、酸化錫、二硫化タングステン等の無機微
粉末、アクリルスチレン系樹脂微粉末、ベンゾグアナミ
ン系樹脂微粉末、メラミン系樹脂微粉末、ポリオレフィ
ン系樹脂微粉末、ポリエステル系樹脂微粉末、ポリアミ
ド系樹脂微粉末、ポリイミド系樹脂微粉末、ポリ弗化エ
チレン系樹脂微粉末等の樹脂微粉末、シリコンオイル、
脂肪酸変性シリコンオイル、グラファイト、弗化アルコ
ール、ポリオレフィン（ポリエチレンワックス等）、ポ
リグリコール（ポリエチレンオキシドワックス等）、テ
トラフルオロエチレンオキシドワックス、ポリテトラフ
ルオログリコール、パーフルオロ脂肪酸、パーフルオロ
脂肪酸エステル、パーフルオロアルキル硫酸エステル、
パーフルオロアルキル燐酸エステル、アルキル燐酸エス
テル、ポリフェニルエーテル、炭素数10〜20の一塩基性
脂肪酸と炭素数３〜12個の一価のアルコールもしくは二
価のアルコール、三価のアルコール、四価のアルコー
ル、六価のアルコールのいずれか１つもしくは２つ以上
とから成る脂肪酸エステル類、炭素数10個以上の一塩基
性脂肪酸と該脂肪酸の炭素数と合計して炭素数が11〜28
個と成る一価〜六価のアルコールから成る脂肪酸エステ
ル類等の有機化合物潤滑剤が使用できる。又、炭素数８
〜22の脂肪酸或いは脂肪酸アミド、脂肪族アルコールも
使用できる。これら有機化合物潤滑剤の具体的な例とし
ては、カプリル酸ブチル、カプリル酸オクチル、ラウリ
ン酸エチル、ラウリン酸ブチル、ラウリン酸オクチル、
ミリスチン酸エチル、ミリスチン酸ブチル、ミリスチ酸
オクチル、パルミチン酸エチル、パルミチン酸ブチル、
パルミチン酸オクチル、ステアリン酸エチル、ステアリ
ン酸ブチル、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸アミ
ル、アンヒドロソルビタンモノステアレート、アンヒド
ロソルビタンジステアレート、アンヒドロソルビタント
リステアレート、アンヒドロソルビタンテトラステアレ
ート、アンヒドロソルビタンエチレンオキシドモノステ
アレート、オレイルオレート、オレイルアルコール、ラ
ウリルアルコール等が有り単独若しくは組合わせて使用
出来る。また本発明に使用される潤滑剤としては所謂潤
滑油添加剤も単独若しくは組合わせて使用出来、酸化防
止剤（アルキルフェノール等）、錆どめ剤（ナフテン
酸、アルケニルコハク酸、ジラウリルフォスフェート
等）、油性剤（ナタネ油、ラウリルアルコール等）、極
圧剤（ジベンジルスルフィド、トリクレジルフォスフェ
ート、トリブチルホスファイト等）、清浄分散剤、粘度
指数向上剤、流動点降下剤、泡どめ剤等がある。これら
の潤滑剤は結合剤100重量部に対して0.05〜20重量部の
範囲で添加される。

本発明に用いる磁性層あるいはバック層の研磨剤とし
ては一般に使用される研磨作用若しくは琢磨作用をもつ
材料で、α−アルミナ、γ−アルミナ、熔融アルミナ、
炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、コランダム、
人造ダイヤモンド、α−酸化鉄、ザクロ石、エメリー
（主成分：コランダムと磁鉄鉱）、ガーネット、ケイ
石、窒化ケイ素、炭化硼素、炭化モリブデン、炭化硼
素、炭化タングステン、チタンカーバイド、クオーツ、
トリポリ、ケイソウ土、ドロマイト等で、主としてモー
ス硬度６以上より好ましくはモース硬度８以上の材料が
１乃至４種迄の組合わせで使用される、これらの研磨剤
は平均粒子サイズが0.005〜５ミクロンの大きさのもの
が使用され、特に好ましくは0.01〜２ミクロンである。
これらの研磨剤は結合剤100重量部に対して0.01〜20重
量部、好ましくは１〜15重量部の範囲で添加される。

本発明の分散、混練、塗布の際に使用する有機溶媒と
しては、任意の比率でアセトン、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロ
ン、テトラヒドロフラン等のケトン系；メタノール、エ
タノール、プロパノール、ブタノール、イソブチルアル
コール、イソプロピルアルコール、メチルシクロヘキサ
ノールなどのアルコール系；酢酸メチル、酢酸エチル、
酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸
エチル、酢酸グリコールモノエチルエーテル等のエステ
ル系；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、グリコ
ールジメチルエーテル、グリコールモノエチルエーテ
ル、ジオキサンなどのエーテル系；ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン、スチレン
などのタール系（芳香族炭化水素）；メチレンクロライ
ド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、
エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン等の塩素化
炭化水素、N,N−ジメチルホルムアルデヒド、ヘキサン
等のものが使用できる。

混練の方法には特に制限はなく、また各成分の添加順
序などは適宜設定することができる。磁性塗料およびバ
ック層塗料の調製には通常の混練機、例えば、二本ロー
ルミル、三本ロールミル、ボールミル、ペブルミル、ト
ロンミル、サンドグラインダー、ゼグバリ（Szegvar
i）、アトライター、高速インペラー、分散機、高速ス
トーンミル高速度衝撃ミル、ディスパー、ニーダー、高
速ミキサー、リボンブレンダー、コニーダー、インテン
シブミキサー、タンブラー、ブレンダー、ディスパーザ
ー、ホモジナイザー、単軸スクリュー押し出し機、二軸
スクリュー押し出し機、及び超音波分散機などを用いる
ことができる。混練分散に関する技術の詳細は、T.C.PA
TTON著（テー．シー．パットン）“Paint Flow and Pig
ment Dispersion"（ペイント フロー アンド ピグメ
ント ディスパージョン）1964年John Wiley ＆ Sons社
発行（ジョン ウイリー アンド サンズ）や田中信一
著「工業材料」25巻37（1977年）などや当該書籍の引用
文献に記載されており、連続処理の為これらの混練分散
機を適宜組み合わせ送液し塗布する。また、米国特許第
2581414号及び同第2855156号などの明細書にも記載があ
る。本発明においても上記の書籍や当該書籍の引用文献
などに記載された方法に準じて混練分散を行い磁性塗料
およびバック層塗料を調製することができる。

磁性層の形成は上記の組成などを任意に組合せて有機
溶媒に溶解し、塗布溶液として支持体上に塗布・乾燥す
る。テープとして使用する場合には支持体の厚み2.5〜1
00ミクロン程度、好ましくは３〜70ミクロン程度が良
い。ディスクもしくはカード状の場合は厚みが0.03〜10
mm程度であり、ドラムの場合は円筒状で用いる事も出来
る。素材としてはポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレンナフタレート等のポリエステル類、ポリプロピレ
ン、ポリエチレン等ポリオレフィン類、セルローストリ
アセテート、セルロースダイアセテート等のセルロース
誘導体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のビニ
ル系樹脂類、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリスル
ホン等のプラスチックのほかにアルミニウム、銅等の金
属、ガラス等のセラミックス等も使用出来る。これらの
支持体な塗布に先立って、コロナ放電処理、プラズマ処
理、下塗処理、熱処理、除塵埃処理、金属蒸着処理、ア
ルカリ処理をおこなってもよい。

支持体上へ前記の磁性層ならびにバック層を塗布する
方法としてはエアードクターコート、ブレードコート、
エアナイフコート、スクイズコート、含浸コート、リバ
ースロールコート、トランスファーロールコート、グラ
ビアコート、キスコート、キャストコート、スプレイコ
ート、バーコート、スピンコート等が利用出来、その他
の方法も可能であり、これらの具体的説明は浅倉書店発
行の「コーテイング工業」253頁〜277頁（昭和46.3.20.
発行）に詳細に記載されている。特に、本発明の場合、
下層用塗布液と上層用塗布液を湿潤状態で重畳して塗布
するいわゆるウエットオンウエット塗布方式が好まし
い。

ウエットオンウエット方式としては特開昭61−139929
号公報に記載の塗布方法を用いることができる。

また、上記の強磁性粉末と結合剤の分散方法および支
持体への塗布方法などの詳細は特開昭54−46011号およ
び同54−21805号等の各公報に記載されている。

このような方法により、支持体上に塗布された磁性層
は必要により層中の磁性粉末を直ちに乾燥しながら所望
の方向へ配向させる処理を施したのち、形成した磁性層
を乾燥する。このときの支持体の搬送速度は、通常10m/
分〜1000m/分でおこなわれ、乾燥温度が20℃〜130℃で
制御される。又必要により、例えば、米国特許第347396
0号明細書に記載の表面平滑化加工を施したり、所望の
形状に裁断したりして、本発明の磁気記録体を製造す
る。これらの製造方法はフイラーの表面処理、混練・分
散、塗布、熱処理、カレンダー、放射線照射（EB）処
理、表面研磨処理、裁断の工程を連続して行う事が好ま
しい。また必要に応じて幾つかに工程を分ける事ができ
る。

これらの工程においては、温度、湿度が制御され、温
度は10℃〜130℃、湿度は空気中の水分量で表すと、5mg
/m³〜20mg/m³である。これらは、例えば、特公昭40−23
625号公報、特公昭39−28368号公報、米国特許第347396
0号明細書、等にしめされている。又、特公昭41−13181
号公報にしめされる方法はこの分野における基本的、且
つ重要な技術と考えられている。

以下に本発明を実施例により更に具体的に説明する。
ここに示す成分、割合、操作順序等は本発明の精神から
逸脱しない範囲において変更しうるものであることは本
業界に携わるものにとっては容易に理解されることであ
る。

従って、本発明は下記の実施例に制限されるべきでは
ない。尚、実施例及び比較例中の部は重量部をしめす。

（実施例） Co−FeOx（ｘ＝1.45、Hc、結晶子サイズ、平均長軸径に
ついては表−１） 100部 塩化ビニル酢酸ビニル共重合体（スルホン酸基0.25％含
有、重合度400） 15部 ポリエステルポリウレタン（スルホン酸基0.1％含有）
５部 ポリイソシアネート（コロネート Ｌ） 6.7部 導電性カーボン（10mμ） 10部 オレイン酸 ２部 酢酸ブチル 20部 MEK 80部 上記の組成で調液した塗布液を、単層及び重層塗布を
おこなった。ここで単層の膜厚は４μ、重層では上層0.
5μ、下層3.5μとした。また使用した支持体は14μ厚の
PETとした。

得られた試料の各特性を下記の方法により評価し、そ
の結果を表−１に記載した。

Ｙ−Ｓ（高域変換特性）・・・50％whiteの映像信号を
基準録画電流で記録し、その再生出力のエンベロープの
平均値をオシロスコープで測定し、（１）式により算出
した。

Ｃ−Ｓ（低域変換特性）・・・カラー一色信号の映像信
号を基準録画電流で記録し、上記と同様な方法で算出し
た。

再生出力感度（dB）＝201og₁₀V/V₀ ・・・（１） V:平均値 V₀:比較例７−１の平均値 Ｙ−S/N・・・ジバソク製ノイズメーター（925R）を使
用し、基準テープを比較例７−１とし、S/N比の差を求
めた。ハイパスフィルター10KHz、ローバスフィルター
4.2MHzでノイズレベルを測定した。使用したVTRは松下N
V−8200である。

Ｃ−S/N・・・シバソク製ノイズメーター（925R）を使
用し、ハイパスフィルター10KHz、ローパスフィルター5
00KHzAMでおこなった。VTRは松下NV−8200を使用した。
比較例７−１を基準（0dB）として比較した。

S/P（転写特性）・・・規定入力レベルより10dB高いレ
ベルで1kHzの正弦波信号を無信号、1kHz、無信号（リー
ル約10回転）、1kHz（リール１回転以内）無信号の順で
数回くり返す要領で録音し、温度30＋0.5℃で48時間放
置した。その再生出力レベルと、1kHzの帯域フィルタを
通した無信号部分の最大転写信号レベルを、それぞれ測
定して、次式により算出した。

転写（dB）＝Ａ−Ｂ A:録音した1kHzの再生出力レベル（dBs） B:最大転写信号レベル（dBs） 上表より明らかなごとく、高域の感度、出力に影響す
るのは主に上層の強磁性粉末であるが、Hcが小さすぎた
り、結晶子サイズ、平均長軸径が大きすぎると劣化しや
すい。しかし特に著しいのは上層の磁性層のHcが大きす
ぎる場合であり、このような効果は従来あまり考えられ
なかったものである。

低域の出力、感度に主に影響するのは下層の強磁性粉
末であり、Hcが大きすぎたり、結晶子サイズ、平均長軸
径が大きすぎたりすると顕著に劣化する。逆に言えば本
発明の範囲で顕著に改良されるということである。又こ
れは単に下層のみならず、上層の強磁性粉末のHc、結晶
子サイズ、平均長軸径も大きすぎると劣化しやすい傾向
があり、本発明の範囲内では上層の強磁性粉末も低域の
出力、感度の改良効果があり、従来知られていなかった
効果である。

又転写効果に対しては従来微粒子にすると劣化するこ
とが知られており、本発明においても上層、下層の強磁
性粉末の結晶子サイズや平均長軸径を小さくしすぎると
劣化しやすい。しかし、意外にも転写特性に大きく影響
するのは下層の磁性層のHcが小さすぎる場合であり、本
発明の範囲の顕著な改良効果が明白である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 稲波 博男 神奈川県小田原市扇町２丁目12番１号 富士写真フイルム株式会社内 (72)発明者 小川 博 神奈川県小田原市扇町２丁目12番１号 富士写真フイルム株式会社内 (56)参考文献 特開 昭63−187419（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−241721（ＪＰ，Ａ)

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】非磁性支持体に酸化鉄もしくはコバルト含
   有酸化鉄よりなる強磁性粉末を結合剤中に分散させてな
   る磁性層を重層構成にして設けてなる磁気記録媒体にお
   いて、上層の磁性層のHcが650Oe以上1000Oe以下で上層
   の磁性層に含まれる強磁性粉末のＸ線回折法による結晶
   子サイズが500Å未満でかつ平均長軸径が0.1μｍ以上0.
   25μｍ未満であり、下層の磁性層のHcは上層の0.6〜1.0
   倍で下層の磁性層に含まれる強磁性粉末の結晶子サイズ
   は500Å以下の範囲で上層より大きく、平均長軸径は0.1
   μｍより大きく、0.25μｍ未満の範囲で上層より大きい
   ことを特徴とする磁気記録媒体。