JP3467108B2 - 磁気記録媒体 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は少なくとも１層の磁性層
または少なくとも１層の磁性層と非磁性層を有し、優れ
た電磁変換特性と走行耐久性を有する磁気記録媒体に関
するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、ビデオテ−プ、オ−ディオテー
プ、コンピューターテープ等の磁気記録媒体としては強
磁性酸化鉄、Ｃｏ変性強磁性酸化鉄、ＣｒＯ₂ 、強磁性
合金粉末、六方晶フェライト等を結合剤中に分散した磁
性層を非磁性支持体に塗設したものが広く用いられる。
特に高密度記録に適する優れた電磁変換特性を示す磁性
体として強磁性合金粉末や六方晶フェライトが近年用い
られている。金属薄膜では斜め蒸着やスパッタ膜が注目
されている。また異なる磁気特性を有する磁性層の重層
構成を用い広い周波数帯域での出力を高める方法、ある
いは下層に非磁性層を設け上層を薄層化することで特に
短波長での出力を高める方法などもすでに実用化されて
いる。一方、優れた電磁変換特性を達成させるために磁
性層の磁気特性を向上させることと同時に表面平滑性を
高める必要がある。しかし単に表面平滑性を高めるだけ
では摩擦係数が上昇し走行性や耐久性が低下する問題が
ある。このような問題に対し表面性の制御を行う様々な
提案がなされている。例えば特開昭６１−１６８１２４
号公報では磁性層の中心線平均表面粗さＲａと最大高さ
Ｒ_max に、特開平４−１２５８１０号公報では中心線平
均表面粗さと中心線深さに、特開平５−７３８８４号公
報では表面突起の個数に各々着目している。その他、表
面の空間周波数、表面のうねり成分への着目など多数の
例を挙げることができる。また潤滑剤で摩擦係数を低下
させる試みも多数なされている。一方、磁気記録媒体
（以下、「磁気記録媒体」を単に「媒体」ということも
ある）の高容量化にともない媒体の薄手化が進むと媒体
強度が低下する。特にこのような薄手媒体において近年
要求される高い電磁変換特性を達成するために磁性層の
平滑化を行う場合、これらの技術では走行性と耐久性を
確保することが非常に困難な状況になってきている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明は電磁変換特性
が良好でかつ走行耐久性が優れる高密度記録用磁気記録
媒体を提供することを目的としている。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、平滑で電
磁変換特性が良好な磁気記録媒体の摩擦係数を下げ、走
行性と耐久性を向上させる方法につき鋭意検討を行っ
た。その結果、従来は全く着目されなかった磁性層表面
粗さの方向性にその解決方法があることを見いだしたの
である。即ち、本発明は、以下の構成からなる。 非磁性支持体上に少なくとも一層の磁性層を設けて
成る磁気記録媒体において、触針式表面粗さ計を用いカ
ットオフ０．０８ｍｍで測定した該磁性層表面の長手方
向の中心線平均表面粗さＲａ１と該磁性層表面の幅方向
の中心線平均表面粗さＲａ２の比（Ｒａ２／Ｒａ１）が
１．２〜２．０であることを特徴とする磁気記録媒体。 非磁性支持体上に非磁性層と磁性層とがこの順で形
成されている磁気記録媒体において、触針式表面粗さ計
を用いカットオフ０．０８ｍｍで測定した該磁性層表面
の長手方向の中心線平均表面粗さＲａ１と該磁性層表面
の幅方向の中心線平均表面粗さＲａ２の比（Ｒａ２／Ｒ
ａ１）が１．２〜２．０であることを特徴とする磁気記
録媒体。 非磁性支持体上に非磁性層と磁性層とがこの順で形
成されている磁気記録媒体において、該磁性層の厚さが
０．０５〜１μｍであって、触針式表面粗さ計を用いカ
ットオフ０．０８ｍｍで測定した該磁性層表面の長手方
向の中心線平均表面粗さＲａ１と該磁性層表面の幅方向
の中心線平均表面粗さＲａ２の比（Ｒａ２／Ｒａ１）が
１．２〜２．０であり、かつ磁気記録媒体の全厚が３〜
１０μｍであることを特徴とする磁気記録媒体。

【０００５】本発明の磁気記録媒体が優れた電磁変換特
性を示し、かつ摩擦係数が低減され、走行耐久性に優れ
る理由は定かでないが次のように考えられる。記録再生
を行う磁気ヘッドは媒体のほぼ長手方向に走行し、磁性
層表面をトレースする。従って、触針式表面粗さ計での
長手方向のＲａが小さいと、ヘッドの走行方向の上下動
が少なくなり安定した記録再生が可能となり、高い出力
が得られるばかりでなく変調ノイズも小さくすることが
できると考えられる。長手方向のＲａが大きいと磁性層
とヘッド間のスペーシングが大きくなる傾向があり、ま
た走行も不安定になるため変調ノイズが高くなる。一
方、幅方向のＲａが大きいとテープの幅方向の摩擦係数
が小さくなり、テープのデッキ走行系内での幅方向の変
位、即ち上下動を防ぐことができると考えられる。逆に
テープの幅方向のＲａが小さいと幅方向の摩擦係数が高
くなり、一度テープが片側に変位して走行した場合、も
との中心走行位置に戻りにくくなると考えら、走行系の
ガイドやシリンダの規制部分とテープエッジの擦れを発
生させ、テープに著しい損傷を与えてしまう。即ち、本
発明の全く新しい着眼点は電磁変換特性はテープ長手方
向の表面粗さＲａ１を小さくし、また走行耐久性はテー
プ幅方向の表面粗さＲａ２を大きくし、かつ（Ｒａ２／
Ｒａ１）の比を特定の範囲に規定することでそれぞれ独
立して改善できることを見いだしたところにある。

【０００６】本発明は（Ｒａ２／Ｒａ１）の値を１．２
〜２．０に制御するが、好ましくは１．５〜１．８であ
る。（Ｒａ２／Ｒａ１）が１．２より小さくなると走行
耐久性がが低下し、また（Ｒａ２／Ｒａ１）が２．０を
越えると、電磁変換特性の低下がし始めるため好ましく
ない。Ｒａ１は通常、１〜４０ｎｍ、好ましくは１〜２
０ｎｍ、更に好ましくは、３〜１５ｎｍである。Ｒａ１
が１ｎｍより小さいと長手方向の摩擦係数は高くなり走
行耐久性が悪化し始めるので好ましくない。Ｒａ１が２
０ｎｍを越えると電磁変換特性が低下し好ましくない。

【０００７】また、本発明において、磁性層の厚味は、
非磁性支持体上に磁性層を単層として設ける場合は、通
常、０．５〜１０μｍ、好ましくは１〜４μｍであり、
非磁性支持体の上に設けられた非磁性層の上に設ける場
合は、０．０１〜１μｍ、好ましくは０．０５〜０．８
μｍ、更に好ましくは、０．１〜０．５μｍであり、磁
気記録媒体の全厚は３〜３０μｍ、好ましくは３〜１０
μｍ、更に好ましくは、５〜８μｍである。ここで、非
磁性層を下層または下層非磁性層ともいい、下層の上に
設けた磁性層を上層または上層磁性層ともいう。また、
本発明においては、該上層磁性層の他に該非磁性層に代
えてもしくは該非磁性層の下または上に１層以上の磁性
層を設けることができる。従って、本発明における（Ｒ
ａ２／Ｒａ１）の値は最上層の値である。

【０００８】本発明におけるＲａ１またはＲａ２は、触
針式表面粗さ計として小坂研究所製を用いて、カットオ
フ０．０８ｍｍ、針径２μＲ、針圧７０ｍｇ、速度０．
１ｍｍ／ｓ、測定長（Ｒａ１の場合は、長手方向に、Ｒ
ａ２の場合は幅方向に測定）０．５ｍｍで２０回測定
し、それらを平均した値である。ここで、長手方向の測
定および幅方向の測定における測定条件や手順はその方
向性を除けば同一である。尚、従来、単に中心線平均表
面粗さＲａという場合は、本発明におけるＲａ１を指す
概念であったことを付言する。即ち、本発明において、
初めて幅方向の中心線平均表面粗さＲａ２という概念が
導入されたものである。言い換えれば、本発明はＲａを
長手方向と幅方向とに分けて表面粗さを調整することに
より、本目的を達成する上で効果的であることを初めて
見いだしたものである。

【０００９】本発明は塗布型磁気記録媒体だけではなく
金属薄膜媒体においても同様な効果が得られることは言
うまでもない。金属薄膜は一般には斜め蒸着またはスパ
ッタ法によりＦｅまたはＣｏを主成分とし、必要に応じ
ＮｉやＣｒを含む公知のものを用いることができる。以
下に本発明における塗布型磁気記録媒体について詳細に
記載する。

【００１０】本発明において、長手方向Ｒａ１に対する
幅方向Ｒａ２の比を１．２〜２にするための手段は特に
制限されないが、好ましくは、以下の方法が例示され
る。 強磁性粉末の形状を選定すると共に角型比を制御す
ること。強磁性粉末は、例えば針状の強磁性粉末を用い
る場合は、針状比を小さくすることが好ましく、具体的
には針状比３〜１０、特に好ましくは５〜８であるが、
これは強磁性粉末の形状が磁性層表面の形状に方向性を
与えるためと考えられる。六方晶フェライトの場合は逆
に板状比を大きくする方が好ましく具体的には２〜１
０、特に３〜７が好ましい。また強磁性粉末の配向度も
粗さの方向性に影響を与えることがわかり、針状強磁性
粉末では、電磁変換特性に影響を及ぼさない範囲で配向
性が小さくする方が幅方向の表面粗さが大きくなり好ま
しく、具体的には長手方向のＳＱで０．７５〜０．９
０、特に０．７５〜０．８５が好ましい。

【００１１】逆に板状強磁性粉末では配向性が大きい方
が幅方向の表面粗さが大きくなり好ましく、具体的には
０．７０〜０．９５、特に０．８０〜０．９５である。 非磁性層を設ける場合、非磁性層の主体となる無機
質非磁性粉末の形状を選定すること。非磁性支持体との
間に非磁性層を設け、その中の無機質非磁性粉末の形状
を変えることが極めて有効である。具体的には針状の無
機質非磁性粉末ではその針状比が小さい方が好ましく、
針状粒子より球形粒子または球状粒子が好ましい。ま
た、針状粒子の場合の針状比は好ましくは２〜１０の範
囲である。これは下層の表面形状は無機質非磁性粉末の
形状の影響を受け、それが磁性層表面の形状にも影響を
及ぼすためと考えられる。 磁性層または非磁性層を設ける側の非磁性支持体の
表面を制御すること。

【００１２】非磁性支持体の表面を制御することにより
Ｒａ１とＲａ２の比を変えることもできる。具体的には
フィラーを含む非磁性支持体の幅方向の延伸を強くする
とフィラー周辺の形状に方向差が生じ幅方向の表面粗さ
を長手方向に対し大きくすることができる。具体的に
は、非磁性支持体の長手方向および幅方向のＦ５値を選
定することが挙げられる。ここでＦ５値とは、非磁性粉
体のＳ−Ｓ曲線（Stress-Strain 曲線）上で伸び(Strai
n)が５％に対応する応力（Stress）のことである。長手
方向のＦ５値は通常、５〜３０Ｋｇ／ｍｍ² 、好ましく
は１０〜１８Ｋｇ／ｍｍ² の範囲であり、幅方向のＦ５
値は通常、５〜３０Ｋｇ／ｍｍ² 、好ましくは１２〜２
０Ｋｇ／ｍｍ² の範囲である。また、（長手方向のＦ５
値／幅方向のＦ５値）を好ましくは１．１〜２．０に特
に１．２〜１．６に制御することが好ましい。

【００１３】 塗布方法を選定すること。塗布方法を
選定することにより該表面粗さの方向性を制御すること
も可能である。具体的にはエクストルージョン塗布でス
リットクリアランスの幅方向分布に微小の周期的変動を
加えることで幅方向の表面粗さを大きくし、液供給量の
精度を上げることで長手方向の表面粗さを小さくするこ
とができる。具体的には幅方向のスリットクリアランス
を通常、±０．５％以内〜±５以内、好ましくは±１％
以内〜±３％以内の周期的微小変動させることにより
（Ｒａ２／Ｒａ１）の値を制御できる。

【００１４】本発明において、これらの方法を単独に用
いて、好ましくはこれらの幾つかを併用することで所定
の（Ｒａ２／Ｒａ１）を有した磁気記録媒体を製造する
ことができる。尚、（Ｒａ２／Ｒａ１）の値を制御する
方法は上記〜に限定されるものでなく、公知の方法
が適用できる。

【００１５】次に、本発明の磁性層に使用される強磁性
粉末としてはγ−ＦｅＯx（x＝１．３３〜１．５）、Ｃ
ｏ変性γ−ＦｅＯx（x＝１．３３〜１．５）、Ｆｅまた
はＮｉまたはＣｏを主成分（７５％以上）とする強磁性
合金微粉末など公知の強磁性金属粉末を使用できる。強
磁性強合金粉末はＦｅに対するＣｏ含有量２０〜４０
％、Ｎｉ含有量０〜５％の範囲で目的に応じて比率を決
めることが好ましい。針状比が２〜２０のものが使用で
きるが、４〜８が好ましい。これらの強磁性粉末には、
異方性や抗磁力の制御、磁化量の制御、分布の制御、腐
食に対する安定性の改善などを目的として所定の原子以
外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ，Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ，Ｃｒ、Ｃｕ，
Ｙ，Ｍｏ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂ
ａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、
Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ，Ｃｏ，Ｍｎ，Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓ
ｒ、Ｂ、Ｇｅ、Ｎｂなどの原子を含有させることができ
る。

【００１６】これらの強磁性粉末にはあとで述べる分散
剤、潤滑剤、界面活性剤、帯電防止剤などで分散前にあ
らかじめ処理を行ってもかまわない。具体的には、特公
昭４４−１４０９０号、特公昭４５−１８３７２号、特
公昭４７−２２０６２号報、特公昭４７−２２５１３号
報、特公昭４６−２８４６６号報、特公昭４６−３８７
５５号報、特公昭４７−４２８６号報、特公昭４７−１
２４２２号報、特公昭４７−１７２８４号報、特公昭４
７−１８５０９号報、特公昭４７−１８５７３号報、特
公昭３９−１０３０７号報、特公昭４８−３９６３９号
報、米国特許３０２６２１５号報、同３０３１３４１号
報、同３１００１９４号報、同３２４２００５号報、同
３３８９０１４号報などに記載されている。

【００１７】上記強磁性粉末の中で強磁性合金微粉末に
ついては少量の水酸化物、または酸化物を含んでもよ
い。強磁性合金微粉末の公知の製造方法により得られた
ものを用いることができ、下記の方法をあげることがで
きる。複合有機酸塩（主としてシュウ酸塩）と水素など
の還元性気体で還元する方法、酸化鉄を水素などの還元
性気体で還元してＦｅあるいはＦｅ−Ｃｏ粒子などを得
る方法、金属カルボニル化合物を熱分解する方法、強磁
性金属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、次亜リン酸
塩あるいはヒドラジンなどの還元剤を添加して還元する
方法、金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて微粉末を
得る方法などである。このようにして得られた強磁性合
金粉末は公知の徐酸化処理、すなわち有機溶剤に浸漬し
たのち乾燥させる方法、有機溶剤に浸漬したのち酸素含
有ガスを送り込んで表面に酸化膜を形成したのち乾燥さ
せる方法、有機溶剤を用いず酸素ガスと不活性ガスの分
圧を調整して表面に酸化皮膜を形成する方法のいずれを
施したものでも用いることができる。強磁性合金粉末は
焼結防止剤としてＹ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｎｄなどの酸化物を
用いることが好ましく、特にＹとＡｌの酸化物が好まし
く、その量はＦｅに対する原子比で１〜２０％、好まし
くは３〜１２％である。これら焼結防止剤は併用するの
が一般的でその比率は目的に応じ、最適に設定される。
強磁性粉末粒子をＢＥＴ法による比表面積で表せば２５
〜８０ｍ²／ｇであり、好ましくは４０〜７０ｍ²／ｇで
ある。２５ｍ²/g以下ではノイズが高くなり、８０ｍ²/g
以上では表面性が得にくく好ましくない。酸化鉄磁性粉
末のσ_sは５０ｅｍｕ／ｇ以上、好ましくは７０ｅｍｕ
／ｇ以上、であり、強磁性金属微粉末の場合は１００ｅ
ｍｕ／ｇ以上が好ましく、さらに好ましくは１１０emu/
g〜１７０emu/gである。抗磁力は５００〜３０００Oeが
好ましく、更に好ましくは８００〜２５００Oe以下であ
る。

【００１８】γ酸化鉄のタップ密度は０．５ｇ／ｃｃ以
上が好ましく、０．８ｇ／ｃｃ以上がさらに好ましい。
合金粉末の場合は０．２〜０．８g/ccが好ましく、０．
８g/cc以上に使用とすると強磁性粉末の圧密過程で酸化
が進みやすく、充分なσ_S を得ることが困難になる。
０．２ｇ／ｃｃ以下では分散が不十分になりやすい。γ
酸化鉄を用いる場合、２価の鉄の３価の鉄に対する比は
好ましくは０〜２０％でありさらに好ましくは５〜１０
％である。また鉄原子に対するコバルト原子の量は０〜
１５％、好ましくは２〜８％である。

【００１９】本発明の磁性層には六角板状の六方晶フェ
ライトを用いることができる。六方晶フェライトとして
バリウムフェライト、ストロンチウムフェライト、鉛フ
ェライト、カルシウムフェライトの各置換体、Ｃｏ置換
体、六方晶Ｃｏ粉末が使用できる。具体的にはマグネト
プランバイト型のバリウムフェライト及びストロンチウ
ムフェライト、更に一部スピネル相を含有したマグネト
プランバイト型のバリウムフェライト及びストロンチウ
ムフェライト等が挙げられ、その他、異方性の制御、磁
化量の制御、分布の制御、温度特性の制御などのため、
目的に応じ所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ，Ｓｃ、Ｔ
ｉ、Ｖ，Ｃｒ、Ｃｕ，Ｙ，Ｍｏ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ａｇ、Ｓ
ｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、
Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ，Ｃｏ，Ｍ
ｎ，Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂ、Ｇｅ、Ｎｂ等の原子を添加
することができる。一般にはＣｏ−Ｔｉ、Ｃｏ−Ｔｉ−
Ｚｒ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｎｉ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｉｒ−Ｚ
ｎなどの元素を添加したものを使用することができる
が、特に好ましいのはバリウムフェライト、ストロンチ
ウムフェライトの各ＣｏまたはＴｉ置換体である。磁性
層の長手方向のＳＦＤは０．３以下にすると抗磁力の分
布が小さくなり好ましい。抗磁力を制御するためには、
粒子径、粒子厚を制御する、六方晶フェライトのスピネ
ル相の厚みを一定にする、スピネル相の置換元素の量を
一定にする、スピネル相の置換サイトの場所を一定にす
る、などの方法がある。

【００２０】本発明に用いられる六方晶フェライトの粒
子径は六角板状の粒子の板の幅を意味し、電子顕微鏡を
使用して測定する。本発明では粒子径（板径）は、０．
０１〜０．２μｍ、特に好ましくは０．０３〜０．１μ
ｍの範囲に規定するものである。また、該微粒子の平均
厚さ（板厚）は、０．００１〜０．２μｍであるが特に
０．００３〜０．０５μｍが好ましい。更に板状比（粒
子径／板厚）は、１〜１５であり、好ましくは３〜７で
ある。また、これら六方晶フェライト磁性体のＢＥＴ法
による比表面積（Ｓ_BET ）は通常、２５〜１００ｍ² ／
ｇ、好ましくは４０〜７０ｍ² ／ｇである。２５ｍ² ／
ｇ以下ではノイズが高くなり、１００ｍ² ／ｇ以上では
表面性が得にくく、好ましくない。六方晶フェライト磁
性体の抗磁力は、１０００〜４０００Ｏｅが好ましく、
更に好ましくは、１２００〜３０００Ｏｅである。１０
００Ｏｅ未満では短波長出力が低下し、４０００Ｏｅ以
上ではヘッドによる記録がしにくく好ましくない。σ_S
は５０ｅｍｕ以上、好ましくは６０ｅｍｕ／ｇ以上であ
る。タップ密度は０．５ｇ／ｃｃ以上が好ましく、０．
８ｇ／ｃｃ以上がさらに好ましい。

【００２１】本発明の磁性層に含まれる強磁性粉末のそ
の他の好ましい範囲は、ともに以下のとおりである。結
晶子サイズは５０〜４５０Å、好ましくは１００〜３５
０Åである。強磁性粉末のｒ１５００は１．５以下であ
ることが好ましい。更に好ましくはｒ１５００は１．０
以下である。ｒ１５００とは磁気記録媒体を飽和磁化し
たのち反対の向きに１５００Ｏｅの磁場をかけたとき反
転せずに残っている磁化量の％を示すものである。強磁
性粉末の含水率は０．０１〜２％とするのが好ましい。
結合剤の種類によって該強磁性粉末の含水率は最適化す
るのが好ましい。該強磁性粉末のｐＨは用いる結合剤と
の組合せにより最適化することが好ましい。その範囲は
４〜１２であるが、好ましくは６〜１０である。該強磁
性粉末は必要に応じ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｐまたはこれらの酸
化物などで表面処理を施してもかまわない。好ましくは
Ａｌ₂Ｏ₃またはＳｉＯ₂による表面処理であり、用いる
結合剤によってその量と比率を変えることが好ましい。
その量は強磁性粉末に対し０．１〜１０％であり表面処
理を施すと脂肪酸などの潤滑剤の吸着が１００ｍｇ／ｍ
²以下になり好ましい。強磁性粉末には可溶性のＮａ、
Ｃａ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｓｒなどの無機イオンを含む場合が
あるが５００ｐｐｍ以下であれば特に特性に影響を与え
ない。また、本発明に用いられる強磁性粉末は空孔が少
ないほうが好ましくその値は２０容量％以下、更に好ま
しくは、５容量％以下である。

【００２２】本発明の磁性層のＢｒは通常、１０００〜
４０００Ｇ、好ましくは１５００〜４０００Ｇであり、
ＳＦＤは０．６以下が好ましい。次に下層非磁性層につ
いて説明する。本発明の下層非磁性層に用いられる無機
質非磁性粉末は、例えば金属酸化物、金属炭酸塩、金属
硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物、等の無
機質化合物から選択することができる。無機質化合物と
しては例えばα化率９０％以上のα−アルミナ、β−ア
ルミナ、γ−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化
セリウム、α−酸化鉄、コランダム、窒化珪素、チタン
カ−バイト、酸化チタン、二酸化珪素、酸化スズ、酸化
マグネシウム、酸化タングステン、酸化ジルコニウム、
窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸カルシウ
ム、硫酸バリウム、２硫化モリブデンなどが単独または
組合せで使用される。特に好ましいのは二酸化チタン、
酸化亜鉛、酸化鉄、硫酸バリウムであり、更に好ましい
のは二酸化チタンである。これら非磁性粉末の粒子サイ
ズは０．００５〜２μが好ましいが、必要に応じて粒子
サイズの異なる非磁性粉末を組み合わせたり、単独の非
磁性粉末でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせる
こともできる。取分け好ましいのは０．０１μ〜０．２
μである。無機質非磁性粉末の結晶子サイズは１０〜１
０００Åが好ましい。タップ密度は０．０５〜２ｇ／ｃ
ｃ、好ましくは０．２〜１．５g/ccである。含水率は
０．１〜５％好ましくは０．２〜３％である。ｐＨは２
〜１１であるが、６〜９の間が特に好ましい。比表面積
は１〜１００ｍ²／ｇ、好ましくは５〜５０m²/g、更に
好ましくは７〜４０m²/gである。結晶子サイズは0.01μ
〜２μが好ましい。DBPを用いた吸油量は５〜１００ml/
100g、好ましくは10〜８０ml/100g、更に好ましくは２
０〜６０ml/100gである。比重は１〜１２、好ましくは
３〜６である。形状は針状、球状、多面体状、板状のい
ずれでも良い。強熱減量は２０％以下であることが好ま
しい。本発明に用いられる上記無機質非磁性粉末のモ−
ス硬度は４〜１０のものが好ましい。これらの粉体表面
のラフネスファクターは０．８〜１．５が好ましく、更
に好ましいのは０．９〜１．２である。ステアリン酸
（ＳＡ）吸着量は１〜２０μmol／ｍ² 、更に好ましく
は２〜１５μmol/ｍ² である。下層非磁性無機粉末の２
５℃での水への湿潤熱は２００erg/cm² 〜６００erg/cm
²の範囲にあることが好ましい。また、この湿潤熱の範
囲にある溶媒を使用することができる。１００〜４００
℃での表面の水分子の量は１〜１０個/100Åが適当であ
る。水中での等電点のｐＨは３〜６の間にあることが好
ましい。これらの粉体の表面はＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、Ｔ
ｉＯ₂、ＺｒＯ₂，ＳｎＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₃，ＺｎＯで表面処
理することが好ましい。特に分散性に好ましいのはＡｌ
₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、であるが、更に好
ましいのはＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＺｒＯ₂である。これら
は組み合わせて使用しても良いし、単独で用いることも
できる。また、目的に応じて共沈させた表面処理層を用
いても良いし、先ずアルミナで処理した後にその表層を
シリカで処理する構造、その逆の構造を取ることもでき
る。また、表面処理層は目的に応じて多孔質層にしても
構わないが、均質で密である方が一般には好ましい。

【００２３】本発明に用いられる無機質非磁性粉末の具
体的な例としては、昭和電工製ＵＡ５６００、ＵＡ５６
０５、ナノタイト、住友化学製ＡＫＰ−２０，ＡＫＰ−
３０，ＡＫＰ−５０，ＨＩＴ−５５，ＨＩＴ−１００，
ＺＡ−Ｇ１、日本化学工業社製、Ｇ５，Ｇ７，Ｓ−１，
戸田工業社製、ＴＦ−１００，ＴＦ−１２０，ＴＦ−１
４０，Ｒ５１６，ＤＰＮ２５０、ＤＰＮ２５０ＢＸ、石
原産業製ＴＴＯ−５１Ｂ、ＴＴＯ−５５Ａ，ＴＴＯ−５
５Ｂ、ＴＴＯ−５５Ｃ、ＴＴＯ−５５Ｓ、ＴＴＯ−５５
Ｄ、ＦＴ−１０００、ＦＴ−２０００、ＦＴＬ−１０
０、ＦＴＬ−２００、Ｍ−１，Ｓ−１，ＳＮ−１００，
Ｒ−８２０、Ｒ−８３０，Ｒ−９３０，Ｒ−５５０，Ｃ
Ｒ−５０，ＣＲ−８０，Ｒ−６８０，ＴＹ−５０，チタ
ン工業製ＥＣＴ−５２、ＳＴＴ−４Ｄ、ＳＴＴ−３０
Ｄ、ＳＴＴ−３０、ＳＴＴ−６５Ｃ、三菱マテリアル製
Ｔ−１、日本触媒ＮＳ−Ｏ、ＮＳ−３Ｙ，ＮＳ−８Ｙ、
テイカ製ＭＴ−１００Ｓ、ＭＴ−１００Ｔ、ＭＴ−１５
０Ｗ、ＭＴ−５００Ｂ、ＭＴ−６００Ｂ、ＭＴ−１００
Ｆ、堺化学製ＦＩＮＥＸ−２５，ＢＦ−１，ＢＦ−１
０，ＢＦ−２０，ＢＦ−１Ｌ，ＢＦ−１０Ｐ、同和鉱業
製ＤＥＦＩＣ−Ｙ，ＤＥＦＩＣ−Ｒ、チタン工業製Ｙ−
ＬＯＰ及びそれを焼成した物。

【００２４】特に好ましい無機質非磁性粉末は二酸化チ
タンであるので、二酸化チタンを例に製法を詳しく記
す。これらの酸化チタンの製法は主に硫酸法と塩素法が
ある。硫酸法はイルミナイトの源鉱石を硫酸で蒸解し、
Ｔｉ，Ｆｅなどを硫酸塩として抽出する。硫酸鉄を晶析
分離して除き、残りの硫酸チタニル溶液を濾過精製後、
熱加水分解を行なって、含水酸化チタンを沈澱させる。
これを濾過洗浄後、夾雑不純物を洗浄除去し、粒径調節
剤などを添加した後、８０〜１０００℃で焼成すれば粗
酸化チタンとなる。ルチル型とアナターゼ型は加水分解
の時に添加される核剤の種類によりわけられる。この粗
酸化チタンを粉砕、整粒、表面処理などを施して作成す
る。塩素法は原鉱石は天然ルチルや合成ルチルが用いら
れる。鉱石は高温還元状態で塩素化され、ＴｉはＴｉＣ
ｌ₄にＦｅはＦｅＣｌ₂となり、冷却により固体となった
酸化鉄は液体のＴｉＣｌ₄と分離される。得られた粗Ｔ
ｉＣｌ₄は精留により精製した後核生成剤を添加し、１
０００℃以上の温度で酸素と瞬間的に反応させ、粗酸化
チタンを得る。この酸化分解工程で生成した粗酸化チタ
ンに顔料的性質を与えるための仕上げ方法は硫酸法と同
じである。表面処理は上記酸化チタン素材を乾式粉砕
後、水と分散剤を加え、湿式粉砕、遠心分離により粗粒
分級が行なわれる。その後、微粒スラリーは表面処理槽
に移され、ここで金属水酸化物の表面被覆が行なわれ
る。まず、所定量のＡｌ，Ｓｉ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｓｂ，Ｓ
ｎ，Ｚｎなどの塩類水溶液を加え、これを中和する酸、
またはアルカリを加えて、生成する含水酸化物で酸化チ
タン粒子表面を被覆する。副生する水溶性塩類はデカン
テーション、濾過、洗浄により除去し、最終的にスラリ
ーｐＨを調節して濾過し、純水により洗浄する。洗浄済
みケーキはスプレードライヤーまたはバンドドライヤー
で乾燥される。最後にこの乾燥物はジェットミルで粉砕
され、製品になる。また、水系ばかりでなく酸化チタン
粉体にＡｌＣｌ₃，ＳｉＣｌ₄の蒸気を通じその後水蒸気
を流入してＡｌ，Ｓｉ表面処理を施すことも可能であ
る。その他の顔料の製法については”Ｃｈａｒａｃｔｅ
ｒｉｚａｔｉｏｎｏｆ Ｐｏｗｄｅｒ Ｓｕｒｆａｃｅ
ｓ”Ａｃａｄｅｍｉｃ Ｐｒｅｓｓを参考にすることが
できる。

【００２５】以上のような方法により球状の二酸化チタ
ンを得ることができる。

【００２６】また、下層にカ−ボンブラックを混合させ
て公知の効果であるＲｓを下げることができる。このた
めにはゴム用ファ−ネス、ゴム用サ−マル、カラ−用ブ
ラック、アセチレンブラック、等を用いることができ
る。比表面積は１００〜５００ｍ²／ｇ、好ましくは１
５０〜４００m²/g、ＤＢＰ吸油量は２０〜４００ｍｌ／
１００ｇ、好ましくは３０〜２００ml/100gである。粒
子径は５ｍμ〜８０ｍμ、好ましく１０〜５０ｍμ、さ
らに好ましくは１０〜４０ｍμである。ｐＨは２〜１
０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は０．１〜１
ｇ／cc、が好ましい。本発明に用いられるカ−ボンブラ
ックの具体的な例としてはキャボット社製、ＢＬＡＣＫ
ＰＥＡＲＬＳ ２０００、１３００、１０００、９０
０、８００，８８０，７００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７
２、三菱化成工業社製、＃３０５０Ｂ，３１５０Ｂ，３
２５０Ｂ、＃３７５０Ｂ、＃３９５０Ｂ、＃９５０、＃
６５０Ｂ，＃９７０Ｂ、＃８５０Ｂ、ＭＡ−６００、コ
ロンビアカ−ボン社製、ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ、Ｒ
ＡＶＥＮ ８８００，８０００，７０００，５７５０，
５２５０，３５００，２１００，２０００，１８００，
１５００，１２５５，１２５０、アクゾー社製ケッチェ
ンブラックＥＣなどがあげられる。カ−ボンブラックを
分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使
用しても、表面の一部をグラファイト化したものを使用
してもかまわない。また、カ−ボンブラックを塗料に添
加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。
これらのカーボンブラックは上記無機質粉末に対して５
０重量％を越えない範囲、非磁性層総重量の４０％を越
えない範囲で使用できる。これらのカ−ボンブラックは
単独、または組合せで使用することができる。本発明で
使用できるカ−ボンブラックは例えば「カ−ボンブラッ
ク便覧」カ−ボンブラック協会編」を参考にすることが
できる。

【００２７】本発明に用いられる有機質無機粉末はアク
リルスチレン系樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、
メラミン系樹脂粉末、フタロシアニン系顔料が挙げられ
るが、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂
粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、
ポリフッ化エチレン樹脂が使用される。その製法は特開
昭６２−１８５６４号、特開昭６０−２５５８２７号に
記されているようなものが使用できる。

【００２８】なお、一般の磁気記録媒体において下塗層
を設けることが行われているが、これは支持体と磁性層
等の接着力を向上させるために設けられるものであっ
て、厚さも０．５μ以下で本発明の下層とは異なるもの
である。本発明においても下層と支持体との接着性を向
上させるために下塗層を設けることが好ましい。下層非
磁性層のバインダー、潤滑剤、分散剤、添加剤、溶剤、
分散方法その他は磁性層のそれが適用できる。特に、バ
インダー量、種類、添加剤、分散剤の添加量、種類に関
しては磁性層に関する公知技術が適用できる。このよう
な下層非磁性層の厚みは０．２〜５μ、好ましくは１〜
３μである。

【００２９】なお、本発明における非磁性層とは上述し
た如く無機質非磁性粉末を主成分としたものであり、本
発明の効果が発揮される範囲において、少量の磁性体が
含まれる場合も本発明の非磁性層の範疇に属するもので
ある。少量の磁性体とは無機質非磁性粉末に対して２０
重量％以下である。２０重量％を越えると本発明の効果
は失われる。

【００３０】本発明の上層および下層に使用される結合
剤としては従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反
応型樹脂やこれらの混合物が使用される。熱可塑性樹脂
としては、ガラス転移温度が−１００〜１５０℃、数平
均分子量が１０００〜２０００００、好ましくは１００
００〜１０００００、重合度が約５０〜１０００程度の
ものである。このような例としては、塩化ビニル、酢酸
ビニル、ビニルアルコ−ル、マレイン酸、アクリル酸、
アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリ
ル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、
ブタジエン、エチレン、ビニルブチラ−ル、ビニルアセ
タ−ル、ビニルエ−テル、等を構成単位として含む重合
体または共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂
がある。

【００３１】また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂とし
てはフェノ−ル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化
型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アク
リル系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコ−ン樹
脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイ
ソシアネ−トプレポリマ−の混合物、ポリエステルポリ
オ−ルとポリイソシアネ−トの混合物、ポリウレタンと
ポリイソシアネートの混合物等があげられる。これらの
樹脂については朝倉書店発行の「プラスチックハンドブ
ック」に詳細に記載されている。また、公知の電子線硬
化型樹脂を各層に使用することも可能である。これらの
例とその製造方法については特開昭６２−２５６２１９
に詳細に記載されている。

【００３２】以上の樹脂は単独または組合せて使用でき
るが、好ましいものとして塩化ビニル樹脂、塩化ビニル
酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコ−
ル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸共重合
体、中から選ばれる少なくとも１種とポリウレタン樹脂
の組合せ、またはこれらにポリイソシアネ−トを組み合
わせたものがあげられる。

【００３３】ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポ
リウレタン、ポリエ−テルポリウレタン、ポリエ−テル
ポリエステルポリウレタン、ポリカ−ボネ−トポリウレ
タン、ポリエステルポリカ−ボネ−トポリウレタン、ポ
リカプロラクトンポリウレタンなど公知のものが使用で
きる。ここに示したすべての結合剤について、より優れ
た分散性と耐久性を得るためには必要に応じ、−ＣＯＯ
Ｍ，−ＳＯ₃Ｍ、−ＯＳＯ₃Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂、−
Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂、（以上につきＭは水素原子、ま
たはアルカリ金属塩基）、ＯＨ、ＮＲ₂、Ｎ⁺Ｒ₃（Ｒは
炭化水素基）、エポキシ基、ＳＨ、ＣＮ、などから選ば
れる少なくともひとつ以上の極性基を共重合または付加
反応で導入したものををもちいることが好ましい。この
ような極性基の量は１０^-1〜１０^-8モル／ｇであり、好ま
しくは１０^-2〜１０^-6モル／ｇである。

【００３４】本発明に用いられるこれらの結合剤の具体
的な例としてはユニオンカ−バイト社製ＶＡＧＨ、ＶＹ
ＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ，ＶＲＯＨ，ＶＹ
ＥＳ，ＶＹＮＣ，ＶＭＣＣ，ＸＹＨＬ，ＸＹＳＧ，ＰＫ
ＨＨ，ＰＫＨＪ，ＰＫＨＣ，ＰＫＦＥ，日信化学工業社
製、ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５，ＭＰＲ−ＴＡＬ，
ＭＰＲ−ＴＳＮ，ＭＰＲ−ＴＭＦ，ＭＰＲ−ＴＳ、ＭＰ
Ｒ−ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡＯ、電気化学社製１０００Ｗ、
ＤＸ８０，ＤＸ８１，ＤＸ８２，ＤＸ８３、１００Ｆ
Ｄ、日本ゼオン社製ＭＲ−１０５、ＭＲ１１０、ＭＲ１
００、４００Ｘ−１１０Ａ、日本ポリウレタン社製ニッ
ポランＮ２３０１、Ｎ２３０２、Ｎ２３０４、大日本イ
ンキ社製パンデックスＴ−５１０５、Ｔ−Ｒ３０８０、
Ｔ−５２０１、バ−ノックＤ−４００、Ｄ−２１０−８
０、クリスボン６１０９，７２０９，東洋紡社製バイロ
ンＵＲ８２００，ＵＲ８３００、ＵＲ−８６００、ＵＲ
−５５００、ＵＲ−４３００、ＲＶ５３０，ＲＶ２８
０、大日精化社製、ダイフェラミン４０２０，５０２
０，５１００，５３００，９０２０，９０２２，７０２
０，三菱化成社製、ＭＸ５００４，三洋化成社製サンプ
レンＳＰ−１５０，ＴＩＭ−３００３、ＴＩＭ−３００
５、旭化成社製サランＦ３１０，Ｆ２１０などが挙げら
れる。

【００３５】本発明の磁性層に用いられる結合剤は、強
磁性粉末に対し、また下層を設ける場合、その下層非磁
性層に用いられる結合剤は、無機質非磁性粉末に対し、
５〜５０重量％の範囲、好ましくは１０〜３０重量％の
範囲で用いられる。塩化ビニル系樹脂を用いる場合は５
〜３０重量％、ポリウレタン樹脂を用いる場合は２〜２
０重量％、ポリイソシアネ−トは２〜２０重量％の範囲
でこれらを組み合わせて用いるのが好ましい。本発明に
おいて、ポリウレタンを用いる場合はガラス転移温度が
−５０〜１００℃、破断伸びが１００〜２０００重量
％、破断応力は０．０５〜１０Ｋｇ／ｃｍ²、降伏点は
０．０５〜１０Ｋｇ／ｃｍ²が好ましい。

【００３６】本発明の磁気記録媒体が二層以上からなる
場合は、結合剤量、結合剤中に占める塩化ビニル系樹
脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネ−ト、あるいは
それ以外の樹脂の量、各樹脂の分子量、極性基量、ある
いは先に述べた樹脂の物理特性などを必要に応じ例え
ば、下層非磁性層、上層磁性層とで変えることはもちろ
ん可能であり、多層媒体に関する公知技術を適用でき
る。例えば、各層でバインダー量を変更する場合、上層
磁性層表面の擦傷を減らすためには上層磁性層のバイン
ダー量を増量することが有効であり、ヘッドに対するヘ
ッドタッチを良好にする為には、下層非磁性層のバイン
ダー量を多くして柔軟性を持たせることにより達成され
る。

【００３７】本発明の構成層に用いるポリイソシアネ−
トとしては、トリレンジイソシアネ−ト、４，４’−ジ
フェニルメタンジイソシアネ−ト、ヘキサメチレンジイ
ソシアネ−ト、キシリレンジイソシアネ−ト、ナフチレ
ン−１，５−ジイソシアネ−ト、ｏ−トルイジンジイソ
シアネ−ト、イソホロンジイソシアネ−ト、トリフェニ
ルメタントリイソシアネ−ト等のイソシアネ−ト類、ま
た、これらのイソシアネ−ト類とポリアルコールとの生
成物、また、イソシアネート類の縮合によって生成した
ポリイソシアネ−ト等を使用することができる。これら
のイソシアネート類の市販されている商品名としては、
日本ポリウレタン社製、コロネートＬ、コロネ−トＨ
Ｌ，コロネ−ト２０３０、コロネ−ト２０３１、ミリオ
ネ−トＭＲ、ミリオネ−トＭＴＬ、武田薬品社製、タケ
ネ−トＤ−１０２，タケネ−トＤ−１１０Ｎ、タケネ−
トＤ−２００、タケネ−トＤ−２０２、住友バイエル社
製、デスモジュ−ルＬ，デスモジュ−ルＩＬ、デスモジ
ュ−ルＮ、デスモジュ−ルＨＬ，等がありこれらを単独
または硬化反応性の差を利用して二つもしくはそれ以上
の組合せで各層とももちいることができる。

【００３８】本発明の磁性層に使用されるカ−ボンブラ
ックはゴム用ファ−ネス、ゴム用サ−マル、カラ−用ブ
ラック、アセチレンブラック、等を用いることができ
る。比表面積は５〜５００ｍ²／ｇ、ＤＢＰ吸油量は１
０〜４００ｍｌ／１００ｇ、粒子径は５ｍμ〜３００ｍ
μ、ｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タップ
密度は０．１〜１ｇ／CC、が好ましい。本発明に用いら
れるカ−ボンブラックの具体的な例としてはキャボット
社製、ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０００、１３００、
１０００、９００、８００，７００、ＶＵＬＣＡＮ Ｘ
Ｃ−７２、旭カ−ボン社製、＃８０、＃６０，＃５５、
＃５０、＃３５、三菱化成工業社製、＃２４００Ｂ、＃
２３００、＃９００，＃１０００、＃３０，＃４０、＃
１０Ｂ、コロンビアカ−ボン社製、ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ
ＳＣ、ＲＡＶＥＮ １５０、５０，４０，１５などが
あげられる。カ−ボンブラックを分散剤などで表面処理
したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部
をグラファイト化したものを使用してもかまわない。ま
た、カ−ボンブラックを磁性塗料に添加する前にあらか
じめ結合剤で分散してもかまわない。これらのカ−ボン
ブラックは単独、または組合せで使用することができ
る。カ−ボンブラックを使用する場合は強磁性粉末に対
する量の０．１〜３０重量％でもちいることが好まし
い。カ−ボンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦係数低
減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあり、これら
は用いるカ−ボンブラックにより異なる。従って本発明
に使用されるこれらのカ−ボンブラックは上層磁性層、
下層非磁性層でその種類、量、組合せを変え、粒子サイ
ズ、吸油量、電導度、ｐＨなどの先に示した諸特性をも
とに目的に応じて使い分けることはもちろん可能であ
る。本発明の磁性層で使用できるカ−ボンブラックは例
えば「カ−ボンブラック便覧」カ−ボンブラック協会編
を参考にすることができる。

【００３９】本発明に用いられる研磨剤は、具体的に
は、α化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、
炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、
コランダム、人造ダイアモンド、窒化珪素、炭化珪素、
チタンカ−バイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ
素、など主としてモ−ス硬度６以上の公知の材料が単独
または組合せで使用される。また、これらの研磨剤どう
しの複合体（研磨剤を他の研磨剤で表面処理したもの）
を使用してもよい。これらの研磨剤には主成分以外の化
合物または元素が含まれる場合もあるが主成分が９０％
以上であれば効果にかわりはない。これら研磨剤の粒子
サイズは０．０１〜２μが好ましいが、特に好ましくは
０．１〜０．３μｍである。必要に応じて粒子サイズの
異なる研磨剤を組み合わせたり、単独の研磨剤でも粒径
分布を広くして同様の効果をもたせることもできる。タ
ップ密度は０．３〜２ｇ／ｃｃ、含水率は０．１〜５
％、ｐＨは２〜１１、比表面積は１〜３０ｍ²／ｇ、が
好ましい。本発明に用いられる研磨剤の形状は針状、粒
状、球状、サイコロ状のいずれでも良いが、形状の一部
に角を有するものが研磨性が高く好ましい。本発明に用
いられる研磨剤の具体的な例としては、住友化学社製：
ＡＫＰ−２０，ＡＫＰ−３０，ＡＫＰ−５０，ＨＩＴ−
５０、ＨＩＴ１００、日本化学工業社製：Ｇ５，Ｇ７，
Ｓ−１、戸田工業社製：ＴＦ−１００、ＴＦ−１４０な
どがあげられる。これらの研磨剤はあらかじめ結合剤で
分散処理したのち磁性塗料中に添加してもかまわない。
本発明の磁気記録媒体の磁性層表面および磁性層端面に
存在する研磨剤は５個／１００μｍ² 以上が好ましい。

【００４０】本発明の磁性層あるいは非磁性層に使用さ
れるその他の添加剤としては潤滑効果、帯電防止効果、
分散効果、可塑効果、などをもつものが使用される。二
硫化モリブデン、二硫化タングステン、グラフアイト、
窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコーンオイル、極性基を
もつシリコーン、脂肪酸変性シリコーン、フッ素含有シ
リコーン、フッ素含有アルコール、フッ素含有エステ
ル、ポリオレフイン、ポリグリコール、アルキル燐酸エ
ステルおよびそのアルカリ金属塩、アルキル硫酸エステ
ルおよびそのアルカリ金属塩、ポリフエニルエーテル、
フッ素含有アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金
属塩、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合
を含んでも、また分岐していてもかまわない）、およ
び、これらの金属塩（Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｃｕなど）また
は、炭素数１２〜２２の一価、二価、三価、四価、五
価、六価アルコール（不飽和結合を含んでも、また分岐
していてもかまわない）、炭素数１２〜２２のアルコキ
シアルコール、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不
飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）
と炭素数２〜１２の一価、二価、三価、四価、五価、六
価アルコールのいずれか一つ（不飽和結合を含んでも、
また分岐していてもかまわない）とからなるモノ脂肪酸
エステルまたはジ脂肪酸エステルまたはトリ脂肪酸エス
テル、アルキレンオキシド重合物のモノアルキルエーテ
ルの脂肪酸エステル、炭素数８〜２２の脂肪酸アミド、
炭素数８〜２２の脂肪族アミン、などが使用できる。こ
れらの具体例としてはラウリン酸、ミリスチン酸、パル
ミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、ステアリン酸ブチ
ル、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、エライジン
酸、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸アミル、ステ
アリン酸イソオクチル、ミリスチン酸オクチル、ステア
リン酸ブトキシエチル、アンヒドロソルビタンモノステ
アレート、アンヒドロソルビタンジステアレート、アン
ヒドロソルビタントリステアレート、オレイルアルコー
ル、ラウリルアルコール、があげられる。

【００４１】また、アルキレンオキサイド系、グリセリ
ン系、グリシドール系、アルキルフエノールエチレンオ
キサイド付加体、等のノニオン界面活性剤、環状アミ
ン、エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダン
トイン誘導体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニ
ウム類、等のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スル
フォン酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基、な
どの酸性基を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、ア
ミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸
エステル類、アルキルベダイン型、等の両性界面活性剤
等も使用できる。これらの界面活性剤については、「界
面活性剤便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載
されている。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも
１００％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応
物、副反応物、分解物、酸化物、等の不純分が含まれて
もかまわない。これらの不純分は３０％以下が好まし
く、さらに好ましくは１０％以下である。

【００４２】本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面
活性剤は非磁性層、磁性層でその種類、量を必要に応じ
使い分けることができる。例えば、非磁性層、磁性層で
融点の異なる脂肪酸を用い表面へのにじみ出しを制御す
る、沸点や極性の異なるエステル類を用い表面へのにじ
み出しを制御する、界面活性剤量を調節することで塗布
の安定性を向上させる、潤滑剤の添加量を非磁性層で多
くして潤滑効果を向上させるなどが考えられ、無論ここ
に示した例のみに限られるものではない。

【００４３】また本発明で用いられる添加剤のすべてま
たはその一部は、磁性および非磁性塗料製造のどの工程
で添加してもかまわない、例えば、混練工程前に強磁性
粉末と混合する場合、強磁性粉末と結合剤と溶剤による
混練工程で添加する場合、分散工程で添加する場合、分
散後に添加する場合、塗布直前に添加する場合などがあ
る。また、目的に応じて磁性層を塗布した後、同時また
は逐次塗布で、添加剤の一部または全部を塗布すること
により目的が達成される場合がある。また、目的によっ
てはカレンダ−した後、またはスリット終了後、磁性層
表面に潤滑剤を塗布することもできる。

【００４４】本発明で使用されるこれら潤滑剤の商品例
としては、日本油脂社製、ＮＡＡ−１０２，ＮＡＡ−４
１５，ＮＡＡ−３１２，ＮＡＡ−１６０，ＮＡＡ−１８
０，ＮＡＡ−１７４，ＮＡＡ−１７５，ＮＡＡ−２２
２，ＮＡＡ−３４，ＮＡＡ−３５，ＮＡＡ−１７１，Ｎ
ＡＡ−１２２、ＮＡＡ−１４２、ＮＡＡ−１６０、ＮＡ
Ａ−１７３Ｋ，ヒマシ硬化脂肪酸、ＮＡＡ−４２，ＮＡ
Ａ−４４、カチオンＳＡ、カチオンＭＡ、カチオンＡ
Ｂ，カチオンＢＢ，ナイミ−ンＬ−２０１，ナイミ−ン
Ｌ−２０２，ナイミ−ンＳ−２０２，ノニオンＥ−２０
８，ノニオンＰ−２０８，ノニオンＳ−２０７，ノニオ
ンＫ−２０４，ノニオンＮＳ−２０２，ノニオンＮＳ−
２１０，ノニオンＨＳ−２０６，ノニオンＬ−２，ノニ
オンＳ−２，ノニオンＳ−４，ノニオンＯ−２、ノニオ
ンＬＰ−２０Ｒ，ノニオンＰＰ−４０Ｒ，ノニオンＳＰ
−６０Ｒ、ノニオンＯＰ−８０Ｒ、ノニオンＯＰ−８５
Ｒ，ノニオンＬＴ−２２１，ノニオンＳＴ−２２１，ノ
ニオンＯＴ−２２１，モノグリＭＢ，ノニオンＤＳ−６
０，アノンＢＦ，アノンＬＧ，ブチルステアレ−ト、ブ
チルラウレ−ト、エルカ酸、関東化学社製、オレイン
酸、竹本油脂社製、ＦＡＬ−２０５、ＦＡＬ−１２３、
新日本理化社製、エヌジェルブＬＯ、エヌジョルブＩＰ
Ｍ，サンソサイザ−Ｅ４０３０，、信越化学社製、ＴＡ
−３、ＫＦ−９６、ＫＦ−９６Ｌ、ＫＦ９６Ｈ、ＫＦ４
１０，ＫＦ４２０、ＫＦ９６５，ＫＦ５４，ＫＦ５０，
ＫＦ５６，ＫＦ９０７，ＫＦ８５１，Ｘ−２２−８１
９，Ｘ−２２−８２２，ＫＦ９０５，ＫＦ７００，ＫＦ
３９３，ＫＦ−８５７，ＫＦ−８６０，ＫＦ−８６５，
Ｘ−２２−９８０，ＫＦ−１０１，ＫＦ−１０２，ＫＦ
−１０３，Ｘ−２２−３７１０，Ｘ−２２−３７１５，
ＫＦ−９１０，ＫＦ−３９３５，ライオンア−マ−社
製、ア−マイドＰ、ア−マイドＣ，ア−モスリップＣ
Ｐ、ライオン油脂社製、デユオミンＴＤＯ、日清製油社
製、ＢＡ−４１Ｇ、三洋化成社製、プロファン２０１２
Ｅ、ニュ−ポ−ルＰＥ６１、イオネットＭＳ−４００，
イオネットＭＯ−２００ イオネットＤＬ−２００，イ
オネットＤＳ−３００、イオネットＤＳ−１０００イオ
ネットＤＯ−２００などがあげられる。

【００４５】本発明で用いられる有機溶媒は任意の比率
でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホ
ロン、テトラヒドロフラン、等のケトン類、メタノ−
ル、エタノ−ル、プロパノ−ル、ブタノ−ル、イソブチ
ルアルコ−ル、イソプロピルアルコール、メチルシクロ
ヘキサノール、などのアルコ−ル類、酢酸メチル、酢酸
ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチ
ル、酢酸グリコ−ル等のエステル類、グリコ−ルジメチ
ルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサ
ン、などのグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン、などの芳
香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロラ
イド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒド
リン、ジクロルベンゼン、等の塩素化炭化水素類、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサン等のものが使用で
きる。これら有機溶媒は必ずしも１００％純粋ではな
く、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解
物、酸化物、水分等の不純分がふくまれてもかまわな
い。これらの不純分は３０％以下が好ましく、さらに好
ましくは１０％以下である。本発明で用いる有機溶媒は
下層を設ける場合、上層と下層でその種類は同じである
ことが好ましい。その添加量は変えてもかまわない。下
層に表面張力の高い溶媒（シクロヘキサノン、ジオキサ
ンなど）を用い塗布の安定性をあげる、具体的には上層
溶剤組成の算術平均値が下層溶剤組成の算術平均値を下
回らないことが肝要である。分散性を向上させるために
はある程度極性が強い方が好ましく、溶剤組成の内、誘
電率が１５以上の溶剤が５０％以上含まれることが好ま
しい。また、溶解パラメ−タは８〜１１であることが好
ましい。

【００４６】本発明に用いられる非磁性支持体（単に
「支持体」ともいう）はポリエチレンテレフタレ−ト、
ポリエチレンナフタレート等のポリエステル類、ポリオ
レフィン類、セルロ−ストリアセテ−ト、ポリカ−ボネ
−ト、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポ
リスルフォン、アラミド、芳香族ポリアミド、ポリベン
ゾオキサゾ−ルなどの公知のフィルムが使用できるが、
特に１０μｍ以下の厚さの薄い支持体を用いる場合は、
ポリエチレンナフタレ−ト、ポリアミドなどの高強度支
持体を用いることが好ましい。また必要に応じ、磁性面
とベ−ス面の表面粗さを変えるため特開平３−２２４１
２７に示されるような積層タイプの支持体を用いること
もできる。これらの支持体にはあらかじめコロナ放電処
理、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理、な
どをおこなっても良い。

【００４７】また、非磁性支持体と下層の間に密着性向
上のための下塗り層を設けてもかまわない。本下塗層厚
みは０．０１〜２μｍ、好ましくは０．０２〜０．５μ
ｍである。また、非磁性支持体の磁性層側と反対側にバ
ックコ−ト層を設けてもかまわない。この厚みは０．１
〜２μｍ、好ましくは０．３〜１．０μｍである。これ
らの下塗層、バックコ−ト層は公知のものが使用でき
る。

【００４８】本発明に使用される非磁性支持体として
は、１μｍ以上の粗大突起がないことが好ましい。また
表面の粗さ形状は必要に応じて支持体に添加されるフィ
ラ−の大きさと量により自由にコントロ−ルされるもの
である。これらのフィラ−としては一例としてはＣａ，
Ｓｉ、Ｔｉなどの酸化物や炭酸塩の他、アクリル系など
の有機微粉末があげられる。該支持体の最大高さＲｍａ
ｘは１μｍ以下、十点平均粗さＲｚは０．５μｍ以下、
中心面山高さはＲｐは０．５μｍ以下、中心線谷深さＲ
ｖは０．５μｍ以下が好ましい。これら支持体の表面突
起はフィラ−により０．０１μｍから１μｍの大きさの
ものを０．１ｍｍ²あたり０個から２０００個の範囲で
コントロ−ルすることができる。

【００４９】また、該支持体のテ−プ走行方向および幅
方向の１００℃３０分での熱収縮率は好ましくは３％以
下、さらに好ましくは１．５％以下、８０℃３０分での
熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．
５％以下である。破断強度は両方向とも５〜１００Ｋｇ
／ｍｍ²、弾性率は１００〜２０００Ｋｇ／ｍｍ²が好ま
しい。

【００５０】本発明の磁気記録媒体の磁性塗料を製造す
る工程は、少なくとも混練工程、分散工程、およびこれ
らの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程からな
る。個々の工程はそれぞれ２段階以上にわかれていても
かまわない。本発明に使用する強磁性粉末、無機質非磁
性粉末、結合剤、カ−ボンブラック、研磨剤、帯電防止
剤、潤滑剤、溶剤などすべての原料はどの工程の最初ま
たは途中で添加してもかまわない。また、個々の原料を
２つ以上の工程で分割して添加してもかまわない。例え
ば、ポリウレタンを混練工程、分散工程、分散後の粘度
調整のための混合工程で分割して投入してもよい。本発
明の目的を達成するためには、従来の公知の製造技術の
を一部の工程としてを用いることができることはもちろ
んであるが、混練工程では連続ニ−ダや加圧ニ−ダなど
強い混練力をもつものを使用することが好ましい。連続
ニーダーまたは加圧ニーダーを用いる場合は、強磁性粉
末または無機質非磁性粉末と結合剤の全てまたはその一
部（ただし全結合剤の３０重量％以上が好ましい）およ
び強磁性粉末１００重量部に対し１５〜５００重量部の
範囲で混練処理される。これらの混練処理の詳細につい
ては特開平１−１６６３３８、特開昭６４−７９２７４
に記載されている。また、非磁性層液を調整する場合に
は高比重の分散媒体を用いることが望ましく、ジルコニ
アビーズが好適である。

【００５１】本発明のような重層構成の磁気記録媒体を
塗布する装置、方法の例として以下のような構成を提案
できる。 １，磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗
布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗
布装置等により、まず下層を塗布し、下層がウェット状
態のうちに特公平１−４６１８６や特開昭６０−２３８
１７９，特開平２−２６５６７２に開示されている支持
体加圧型エクストルージョン塗布装置により上層を塗布
する。

【００５２】２，特開昭６３−８８０８０、特開平２−
１７９７１，特開平２−２６５６７２に開示されている
ような塗布液通液スリットを二つ内蔵する一つの塗布ヘ
ッドにより上下層をほぼ同時に塗布する。 ３，特開平２−１７４９６５に開示されているバックア
ップロール付きエクストルージョン塗布装置により上下
層をほぼ同時に塗布する。

【００５３】なお、強磁性粉末の凝集による磁気記録媒
体の電磁変換特性等の低下を防止するため、特開昭６２
−９５１７４や特開平１−２３６９６８に開示されてい
るような方法により塗布ヘッド内部の塗布液に剪断を付
与することが望ましい。さらに、塗布液の粘度について
は、特開平３−８４７１に開示されている数値範囲を満
足する必要がある。

【００５４】本発明の製造において使用される配向装置
は公知のものを用いることができるが、一般には１００
０〜１００００Ｇのコバルト磁石またはソレノイドが用
いられる。具体的には、同極対向コバルト磁石、ソレノ
イド磁石、超伝導磁石が好ましい。また、配向磁石ゾー
ン出口付近で塗膜が乾燥するように、適度の予備乾燥を
行うことが好ましい。塗布速度は２０〜１０００ｍ／
分、乾燥風の温度は６０℃以上が好ましい。

【００５５】本発明の製造に使用されるカレンダ処理ロ
−ルとしては、エポキシ、ポリイミド、ポリアミド、ポ
リイミドアミド等の耐熱性のあるプラスチックロ−ルま
たは金属ロ−ルが挙げられ、プラスチックロ−ル同志、
金属ロール同志、またはプラスチックと金属ロールの組
み合わせが使用される。処理温度は好ましくは７０℃以
上、さらに好ましくは８０℃以上である。線圧力は好ま
しくは２００Ｋｇ／ｃｍ〜５００Ｋｇ／ｃｍ、さらに好
ましくは３００Ｋｇ／ｃｍ〜５００Ｋｇ／ｃｍである。

【００５６】本発明の磁性層の０．５％伸びでの弾性率
は走行方向、幅方向とも好ましくは１００〜２０００Ｋ
ｇ／ｍｍ²、破断強度は好ましくは１〜３０Ｋｇ／ｃ
ｍ²、磁気記録媒体の弾性率は走行方向、幅方向とも好
ましくは１００〜１５００Ｋｇ／ｍｍ²、残留のびは好
ましくは０．５％以下、１００℃以下のあらゆる温度で
の熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに好ましくは
０．５％以下、もっとも好ましくは０．１％以下であ
る。磁性層のガラス転移温度(１１０Ｈｚで測定した動
的粘弾性測定の損失弾性率の極大点)は５０℃以上１２
０℃以下が好ましく、下層非磁性層のそれは０℃〜１０
０℃が好ましい。損失弾性率は１×１０⁸〜８×１０⁹dy
ne/cm²の範囲にあることが好ましく、損失正接は０．２
以下であることが好ましい。損失正接が大きすぎると粘
着故障が出安い。磁性層中に含まれる残留溶媒は好まし
くは１００ｍｇ／ｍ²以下、さらに好ましくは１０ｍｇ
／ｍ²以下である。上層に含まれる残留溶媒が下層に含
まれる残留溶媒より少ないほうが好ましい。空隙率は下
層非磁性層、磁性層ともに好ましくは３０容量％以下、
さらに好ましくは２０容量％以下である。空隙率は高出
力を果たすためには小さい方が好ましいが、目的によっ
てはある値を確保した方が良い場合がある。例えば、繰
り返し用途が重視されるデータ記録用磁気記録媒体では
空隙率が大きい方が走行耐久性は好ましいことが多い。

【００５７】磁性層の最大高さＲｍａｘは０．５μｍ以
下、十点平均粗さＲｚは０．３μｍ以下、中心線山高さ
Ｒｐは０．３μｍ以下、中心線谷深さＲｖは０．３μｍ
以下、磁性層の表面突起は０．０１μｍから１μｍの大
きさのものを１ｍｍ₂ 当たり０個から２０００個の範囲
で必要に応じて変えることができる。これらは支持体の
フィラ−による表面性のコントロ−ルやカレンダ処理の
ロ−ル表面形状などで容易にコントロ−ルすることがで
きる。

【００５８】本発明の磁気記録媒体は下層非磁性層と上
層磁性層を有することが好ましいが、目的に応じ下層と
上層でこれらの物理特性を変えることができるのは容易
に推定されることである。例えば、上層の弾性率を高く
し走行耐久性を向上させると同時に下層の弾性率を上層
より低くして磁気記録媒体のヘッドへの当りを良くする
などである。

【００５９】

【実施例】以下、本発明の具体的実施例を説明するが、
本発明はこれに限定されるものではない。 下層非磁性塗料Ｘ： 無機質非磁性粉末：ＴｉＯ₂ 結晶系ルチル ８０部 平均一次粒子径０．０２０μｍ 、ＢＥＴ法による比表面積 ６０ｍ² ／ｇ ｐＨ ７ ＴｉＯ₂含有量９０％以上、 表面処理剤Ａｌ₂Ｏ₃ ８重量％ カーボンブラック ２０部 平均一次粒子径 １６ｎｍ ＤＢＰ吸油量 ８０ml/100g ｐＨ ８．０ ＢＥＴ法による比表面積 ２５０ｍ²/g 揮発分 １．５％ 塩化ビニル系共重合体 １２部 −ＳＯ₃Ｎａ含有量：１×１０^-4eq/g 重合度３００ ポリエステルポリウレタン樹脂 ５部 ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ ＝０．９／２．６／１ −ＳＯ₃Ｎａ基 １×１０^-4eq/g含有 ブチルステアレート １部 ステアリン酸 １部 メチルエチルケトン １００部 シクロヘキサノン ５０部 トルエン ５０部 磁性塗料Ｙ： 強磁性金属微粉末 １００部 組成 Ｆｅ／Ｃｏ＝８０／２０ Ｈｃ ２１００Ｏｅ、ＢＥＴ法による比表面積 ６１ｍ² ／ｇ 結晶子サイズ １９５Å、 焼結防止剤 Ｙ₂ Ｏ₃ ８重量％、Ａｌ₂ Ｏ₃ ６重量％、ＳｉＯ₂ ０． ２重量％ 粒子サイズ（長軸長）０．０８μｍ、針状比 ４、σ_S １４０ｅｍｕ／ｇ 塩化ビニル系共重合体 １２部 −ＳＯ₃Ｎａ含有量:１×１０^-4eq/g 、重合度３００ ポリエステルポリウレタン樹脂 ３部 ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ ＝０．９／２．６／１ −ＳＯ₃Ｎａ基 １×１０^-4eq/g含有 α−アルミナ（粒子サイズ０．１５μｍ） ５部 カ−ボンブラック（粒子サイズ０．１０μｍ） ０．５部 ブチルステアレート １部 ステアリン酸 ５部 メチルエチルケトン ９０部 シクロヘキサノン ３０部 トルエン ６０部 磁性塗料Ｚ： 六方晶バリムムフェライト １００部 Ｈｃ ２１００Ｏｅ、ＢＥＴ法による比表面積 ４０ｍ² ／ｇ 平均粒径（板径） ０．０５μｍ、平均板厚 ０．０１μｍ σ_S ６０ｅｍｕ／ｇ、 表面処理剤 Ａｌ₂ Ｏ₃ ５重量％、ＳｉＯ₂ ２重量％ 塩化ビニル系共重合体 １２部 −ＳＯ₃Ｎａ含有量:１×１０^-4eq/g 、重合度３００ ポリエステルポリウレタン樹脂 ３部 ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ ＝０．９／２．６／１ −ＳＯ₃Ｎａ基 １×１０^-4eq/g含有 α−アルミナ（粒子サイズ０．３μｍ） ５部 カ−ボンブラック（粒子サイズ０．０１５μｍ） ５部 ブチルステアレート １部 ステアリン酸 ２部 メチルエチルケトン ９０部 シクロヘキサノン ３０部 トルエン ６０部 上記３つの塗料のそれぞれについて、各成分を連続ニ−
ダで混練したのち、サンドミルを用いて分散させた。得
られた分散液にポリイソシアネ−トを下層非磁性塗料Ｘ
の塗布液には５部、磁性塗料Ｙ、磁性塗料Ｚには各４部
を加え、さらにそれぞれにメチルエチルケトン、シクロ
ヘキサノン混合溶媒４０部を加え、１μｍの平均孔径を
有するフィルタ−を用いて濾過し、非磁性塗料Ｘ、磁性
層形成用塗料ＹおよびＺをそれぞれ調製した。

【００６０】実施例１〜３ 下層非磁性塗料Ｘを乾燥後の膜厚が、２．０μｍとなる
ように、また磁性塗料Ｙを乾燥後の磁性層の厚さが０．
２μｍとなるように、厚さ５μｍで中心線表面粗さが
０．００５μｍのポリエチレンナフタレ−ト支持体上に
エクストルージョン方式での同時重層塗布を４００ｍ／
分で行った（この塗布方式をＡとする）。この非磁性支
持体は０．２μｍの球形シリカをフィラーとして含み、
製膜時に横方向の延伸を強く行ったもので、Ｆ５値は長
手方向１４Ｋｇ／ｍｍ² 、幅方向１６Ｋｇ／ｍｍ² であ
った。続いて２０００Ｇの磁力をもつ同極対向コバルト
磁石により長手配向させたのち乾燥させた。その後、金
属ロールのみから構成される７段のカレンダで温度９０
℃にて処理を行い、８ｍｍの幅にスリットし、８ｍｍビ
デオテ−プを製造した。得られたサンプルをＡ−１（表
１記載）とした。次に、実施例１の磁性塗料Ｙの強磁性
金属微粉末の針状比を６、８とした以外は実施例１と同
様にして得られたサンプルをＡ−２、Ａ−３とした。

【００６１】比較例１ 実施例１で強磁性金属微粉末の針状比を１０とした以外
は実施例１と同様にして得られたサンプルをＢ−１とし
た。 実施例４、５ 実施例１で配向磁石の強度を４０００Ｇ、１０００Ｇと
した以外は実施例１と同様にして得られたサンプルをＡ
−４、Ａ−５とした。

【００６２】実施例６、７ 実施例１で下層非磁性塗料Ｘの無機質非磁性粉末として
球形のα酸化鉄（平均一次粒子径 ０．０４μｍ、ＢＥ
Ｔ法による比表面積 ４０ｍ² ／ｇ、ｐＨ ７、表面処
理剤 Ａｌ₂ Ｏ₃ ２重量％）を用いた以外は実施例１
と同様にして得られたサンプルをＡ−６、針状のα酸化
鉄（長軸長 ０．１５μｍ、短軸長 ０．０３μｍ、Ｂ
ＥＴ法による比表面積 ５０ｍ² ／ｇ、ｐＨ ７、表面
処理剤Ａｌ₂ Ｏ₃ ４重量％）を用いた以外は実施例１
と同様にして得られたサンプルをＡ−７とした。

【００６３】実施例８、９ 実施例１で幅方向の延伸をさらに強めＦ５値を長手方向
１３Ｋｇ／ｍｍ² 、幅方向１７Ｋｇ／ｍｍ² とした支持
体、長手方向１２Ｋｇ／ｍｍ² 、幅方向１８Ｋｇ／ｍｍ
² とした支持体を用いた以外は実施例１と同様にして得
られたサンプルをＡ−８、Ａ−９とした。

【００６４】比較例２、３ 実施例１で長手方向と幅方向の延伸を同等に行いＦ５値
を長手方向１５Ｋｇ／ｍｍ² 、幅方向１５Ｋｇ／ｍｍ²
とした支持体、長手方向の延伸を強めＦ５値を長手方向
１７Ｋｇ／ｍｍ² 、幅方向１３Ｋｇ／ｍｍ² とした支持
体を用いた以外は実施例１と同様にして得られたサンプ
ルをＢ−２、Ｂ−３とした。

【００６５】実施例１０、１１ 実施例１で該塗料Ｘを用いずに磁性塗料Ｙを乾燥膜厚が
２．５μｍになるように支持体上にドクター塗布方式
（この塗布方式をＢとする）を用いて直接塗布した以外
は実施例１と同様にして得られたサンプルをＡ−１０と
し、比較例１のエクストルージョン塗布ヘッドの上層の
スリットクリアランスに±５以内の周期的微小変動をも
たせた以外は比較例１と同様にして得られたサンプルを
Ａ−１１とした（この塗布方式をＣとする）。

【００６６】実施例１２ 実施例１の磁性塗料Ｙのかわりに磁性塗料Ｚを用いた以
外は実施例１と同様にして得られたサンプルをＡ−１２
とした。 比較例４ 実施例１０の磁性塗料Ｙのかわりに磁性塗料Ｚを用いた
以外は実施例１０と同様にして得られたサンプルをＢ−
４とした。

【００６７】実施例１３ 実施例１において、非磁性支持体の厚さを２．５μｍ、
下層の厚さを１．０μｍとした以外は、実施例１と同一
の条件で磁気記録媒体の試料を作成した。得られたサン
プルをＡ−１３した。上記得られたサンプルを下記によ
り評価し、その結果を表１に示した。

【００６８】

【表１】 〔評価方法〕 （中心線平均表面粗さ）触針式の三次元表面粗さ計（小
坂研究所製）を用いて、カットオフ０．０８ｍｍ、針径
２μｍ、針圧７０ｍｇ、速度０．１ｍｍ／ｓ、測定長
（Ｒａ１の場合は、長手方向に、Ｒａ２の場合は幅方向
に測定）０．５ｍｍで２０回測定し、その平均値を求め
た。 （電磁変換特性）ＳＯＮＹ社製８ｍｍビデオデッキＥＶ
Ｓ９００を用い、７．６ＭＨｚキャリア信号の出力とキ
ャリアより１ＭＨｚ離れたノイズを測定し、出力とＣ／
Ｎを求めた。基準は富士写真フイルム社製８ミリテープ
ＳＡＧＰ６−１２０を用いた。 （走行性）ＳＯＮＹ社製８ｍｍビデオデッキＥＶＳ９０
０を用い、テープを全長走行させ、２０パス毎にテープ
を観察、著しいテープ端部の損傷が見られる走行回数を
求めた。

【００６９】表１より、本発明の磁気記録媒体は優れた
電磁変換特性を示すとともに走行性も極めて良好である
ことがわかる。

【００７０】

【発明の効果】本発明は該磁性層表面の長手方向の中心
線平均表面粗さＲａ１と該磁性層表面の幅方向の中心線
平均表面粗さＲａ２の比（Ｒａ２／Ｒａ１）を１．２〜
２．０としたことにより、特に媒体層厚を３〜１０μｍ
と極めて薄くしても電磁変換特性と走行性を確保するこ
とができるので、民生用ディジタルＶＴＲシステムに用
いられる高密度記録媒体の長時間記録を可能にすること
ができる。

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 非磁性支持体上に少なくとも一層の磁性
   層を設けて成る磁気記録媒体において、触針式表面粗さ
   計を用いカットオフ０．０８ｍｍで測定した該磁性層表
   面の長手方向の中心線平均表面粗さＲａ１と該磁性層表
   面の幅方向の中心線平均表面粗さＲａ２の比（Ｒａ２／
   Ｒａ１）が１．２〜２．０であることを特徴とする磁気
   記録媒体。
2. 【請求項２】 非磁性支持体上に非磁性層と磁性層とが
   この順で形成されている磁気記録媒体において、触針式
   表面粗さ計を用いカットオフ０．０８ｍｍで測定した該
   磁性層表面の長手方向の中心線平均表面粗さＲａ１と該
   磁性層表面の幅方向の中心線平均表面粗さＲａ２の比
   （Ｒａ２／Ｒａ１）が１．２〜２．０であることを特徴
   とする磁気記録媒体。
3. 【請求項３】 非磁性支持体上に非磁性層と磁性層とが
   この順で形成されている磁気記録媒体において、該磁性
   層の厚さが０．０５〜１μｍであって、触針式表面粗さ
   計を用いカットオフ０．０８ｍｍで測定した該磁性層表
   面の長手方向の中心線平均表面粗さＲａ１と該磁性層表
   面の幅方向の中心線平均表面粗さＲａ２の比（Ｒａ２／
   Ｒａ１）が１．２〜２．０であり、かつ磁気記録媒体の
   全厚が３〜１０μｍであることを特徴とする磁気記録媒
   体。