JPH06267059A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 電磁変換特性が良好な磁気記録媒体を提供す
ることであり、かつ繰り返し走行によるエッジダメージ
の少ない走行耐久性に優れる磁気記録媒体を提供するこ
と。 【構成】 非磁性可撓性支持体上に主として非磁性粉末
と結合剤とを含む下層非磁性層を設け、その上に少なく
とも強磁性粉末と結合剤とを含む上層の磁性層を設けた
磁気記録媒体において、前記上層磁性層の厚みが１μｍ
以下であり、かつ上層磁性層に含まれるモース硬度６以
上の非磁性粉末Ａの平均一次粒子径が磁性層厚みより小
さく、その値が０．０２μｍ〜０．２２μｍであり、且
つ前記下層非磁性層の厚みが１μｍ以上であり、その中
に少なくとも非磁性粉末Ｂ：平均粒子径０．０１〜０．
０８μｍの無機質粉末、Ｃ：平均粒子径０．１５〜１．
０μｍ、モース硬度６以上の非磁性粉末の２種類を含む
ことを特徴とする磁気記録媒体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は磁気記録媒体、特に磁性
層厚みが１．０μｍ以下である非常に薄い磁気記録媒体
に関し、さらに詳しくは走行性に優れ、かつ電磁変換特
性が良好な塗布型磁気記録媒体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】磁気記録媒体は、録音用テープ、ビデオ
テープ、コンピューターテープ、ディスク等として広く
用いられている。磁気記録媒体は年々高密度化され記録
波長が短くなっており、記録方式もアナログ方式からデ
ジタル方式まで検討されている。 この高密度化の要求
に対して磁性層に金属薄膜を用いた磁気記録媒体が提案
されているが、生産性、腐食等の実用信頼性の点で強磁
性粉末を結合剤中に分散して、支持体上に塗布したいわ
ゆる塗布型の磁気記録媒体が優れる。しかしながら、金
属薄膜に対して塗布型媒体は磁性物の充填度が低い為
に、電磁変換特性が劣る。塗布型磁気記録媒体として
は、強磁性酸化鉄、Ｃｏ変性強磁性酸化鉄、ＣｒＯ₂、
強磁性合金粉末等を結合剤中に分散した磁性層を非磁性
支持体に塗設したものが広く用いられる。

【０００３】塗布型磁気記録媒体の電磁変換特性の向上
には、強磁性粉末の磁気特性の改良、表面の平滑化など
があり、種々の方法が提案されているが、高密度化に対
しては十分なものではない。また、近年高密度化と共に
記録波長が短くなる傾向にあり、磁性層の厚さが厚いと
出力が低下する記録時の自己減磁損失、再生時の厚み損
失の問題が大きくなっている。

【０００４】このため、磁性層を薄くすることが行われ
ているが、磁性層を約２μｍ以下に薄くすると磁性層の
表面に非磁性支持体の影響が表れやすくなり、電磁変換
特性やＤＯの悪化傾向が見られる。このため、特開昭５
７−１９８５３６号公報のごとく、支持体表面に非磁性
の厚い下塗層を設けてから磁性層を上層として設けるよ
うにすれば前記の支持体の表面粗さの影響は解消するこ
とができるが、ヘッド摩耗や耐久性が改善されないとい
う問題があった。これは、従来、非磁性下層として熱硬
化系樹脂を結合剤として用いているので、下層が硬化
し、磁性層とヘッドのとの接触や他の部材との接触が無
緩衝状態で行われることや、このような下層を有する磁
気記録媒体がやや可とう性に乏しい等のことに起因して
いると考えられる。

【０００５】これを解消するために、下層に非硬化系樹
脂を結合剤として用いることが考えられるが、従来の方
式では、下層を塗布乾燥後磁性層を上層として塗布する
場合、下層が上層の塗布液の有機溶剤により膨潤し、上
層の塗布液に乱流を起こさせる等の影響を与え磁性層の
表面性を悪くし、電磁変換特性を低下させる等の問題を
生じる。また、磁性層を薄層化するためには、塗布量を
減らすこととか、もしくは磁性塗布液に溶剤を多量に加
えて濃度を薄くするいことが考えられる。前者を取る場
合、塗布量を減らすと塗布後に十分なレベリングの時間
がなく、乾燥が始まるために、塗布欠陥、例えばスジや
刻印のパターンが残るといった問題が発生し、歩留まり
が非常に悪くなる。後者の方法を取った場合、磁性塗布
液の濃度が希薄であると、できあがった塗膜に空隙が多
く、十分な強磁性粉末充填性が得られないこと、また、
空隙が多いために塗膜の強度が不十分であること等、種
々の弊害をもたらす。特開昭６２−１５４２２５号公報
の発明ではこのように歩どまりが悪いことが大きな問題
であった。

【０００６】本出願人は、これらの問題を解決する一つ
の手段として、特開昭６３−１９１３１５号公報、特開
昭６３−１８７４１８号公報に記されているような同時
重層塗布方式を用いて下層に非磁性の層を設け、この下
層が湿潤状態の間に強磁性粉末を含有する上層磁性層を
設ける方法を採用することにより、塗布欠陥のない、生
産性に優れ、しかも再生出力、Ｃ／Ｎ等の電磁変換特
性、走行耐久性を改善できる磁気記録媒体を提案した。

【０００７】しかしながら、これらの従来の方法では、
近年の長時間化、高密度化に伴う磁気記録媒体の薄層
化、即ち磁性層を１μｍ以下の要請に答えることが困難
で、再び塗布欠陥等が見られるようになり、しかも電磁
変換特性と走行耐久性を両立する事が不十分となるとい
う問題が生じた。特に薄手テ−プで走行耐久性を向上さ
せるにはテ−プエッジダメージを少なくする事が必要で
あるが、従来の方法では不十分であった。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は電磁変
換特性が良好な磁気記録媒体を提供することであり、か
つ繰り返し走行によるエッジダメージの少ない走行耐久
性に優れる磁気記録媒体を提供することである。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明者らは各層に含ま
れる非磁性粉末の粒子径と各層の厚みとの関係について
鋭意検討した結果それらの間が一定の関係を満たしたと
きに優れたエッジダメ−ジの改良効果があることがわか
り本発明に至った。すなわち本発明の上記目的は非磁性
可撓性支持体上に主として非磁性粉末と結合剤とを含む
下層非磁性層を設け、その上に少なくとも強磁性粉末と
結合剤とを含む上層の磁性層を設けた磁気記録媒体にお
いて、前記上層磁性層の厚みが１μｍ以下であり、かつ
上層磁性層に含まれるモース硬度６以上の非磁性粉末Ａ
の平均一次粒子径が磁性層厚みより小さく、その値が
０．０２〜０．２２μｍであり、且つ前記下層非磁性層
の厚みが１μｍ以上であり、その中に少なくとも非磁性
粉末Ｂ：平均粒子径０．０１〜０．０８μｍの無機質粉
末、非磁性粉末Ｃ：平均粒子径０．１５〜１．０μｍ、
モース硬度６以上の２種類の非磁性粉末を含むことを特
徴とする磁気記録媒体によって達成することができる。

【００１０】本発明の構成要素の作用機構は以下のよう
に考えることができる。 磁性層厚みが１μｍ以下であること。：短波長記録で
は磁性層厚みが薄い方が、自己減磁損失、記録減磁損失
が少なくなり、出力を向上させることができる。また、
消去率も向上し、オーバーライト適性が向上する。

【００１１】下層非磁性層を設けること。：磁性層厚
みを薄くすることにより、上記のような損失が減らせら
れるが、同時に表面粗さが大きくなる。これはカレンダ
ー成型性が低下してくるためであるが、これを解消する
ためには非磁性層を設けることにより解決された。これ
は塗布層自体を厚くする事により、圧縮の余地を大きく
する事が寄与していると考えられる。また、下層非磁性
層は磁性層が薄くなる事による膜自体の強度低下を補う
裏打ち層の役割も果たしている。これらのような効果を
現すためには非磁性層の厚みは少なくとも１μｍ必要で
ある。

【００１２】磁性層に含まれるモース硬度６以上の非
磁性粉末の平均粒子径が０．０２〜０．２μｍであるこ
と。：磁性層を薄層化することにより、特に磁性層厚み
が１μｍ以下の薄層型磁気記録媒体では研磨材の粒子径
が０．２μｍ以上であると強磁性粉末自体の数が少ない
ために強磁性粉末の配向性が乱されたり、特に磁性層厚
みが０．５μｍ以下になると粒子径の大きい研磨材を用
いると場所によっては強磁性粉末の無い部分もあり、こ
れがノイズ上昇の原因となっている。モース硬度６以上
の研磨材を磁性層中から除去すると磁性層によるヘッド
クリーニング力が低下し、ヘッド汚れやクロッギングが
発生する。磁性層厚みが１μｍ以下の磁気記録媒体でこ
れを解消するためには平均粒子径が０．０２〜０．２μ
ｍの研磨材を用いると効果的である。

【００１３】下層非磁性層に非磁性粉末Ｂの平均粒子
径０．０１〜０．０８μｍの無機質粉末と非磁性粉末Ｃ
の平均粒子径０．１５〜１．０μｍ、モース硬度６以上
の２種類の非磁性粉末を含むのは平均粒子径の小さい非
磁性粉末Ｂは下層非磁性層の平滑性を確保するのに役立
ち、平均粒子径の大きい非磁性粉末Ｃはエッジダメ−ジ
を改良するのに役立つ。つまり下層非磁性層は上層磁性
層よりも層の厚みが厚いので端面に対する寄与が大き
く、エッジでの摺動に効果がある。しかし非磁性粉末Ｃ
のみでは表面粗さが大となり、電磁変換特性が低下する
が、これに平均粒子径の小さい非磁性粉末Ｂを組み合わ
せることにより、凸凹を埋め適度な平滑性が得られるも
のと思われる。従って本発明によって電磁変換特性とエ
ッジダメ−ジが同時に改良されたものである。

【００１４】本発明の好ましい態様は次の通りである。 （１）前記下層非磁性層の厚みが前記上層磁性層の厚み
より厚く、前記下層非磁性層中に含まれる非磁性粉末Ｃ
の平均粒子径が磁性層中に含まれるモース硬度６以上の
非磁性粉末Ａの平均粒子径よりも０．０４μｍ以上大き
いことを特徴とする磁気記録媒体。 （２）前記下層非磁性層と少なくとも前記下層磁性層は
ウェットオンウェット塗布方式で形成されたものである
ことを特徴とする磁気記録媒体。 （３）前記下層非磁性層に含まれる非磁性粉末Ｂが二酸
化チタン、硫酸バリウム、酸化亜鉛、α酸化鉄の中の少
なくとも１種であることを特徴とする磁気記録媒体。 （４）前記上層磁性層中に含まれる非磁性粉末Ａがα−
Ａｌ₂Ｏ₃、γ−Ａｌ₂Ｏ₃、Ｃｒ₂Ｏ₃、ダイアモンドの中
から選ばれる１種を主成分とすることを特徴とする磁気
記録媒体。 （５）前記非磁性粉末ＡのＢＥＴ法による比表面積が１
０〜３０m²/gであり、前記非磁性粉末ＢのＢＥＴ法によ
る比表面積が２０〜１００m²/g、前記非磁性粉末ＣのＢ
ＥＴ法による比表面積が２〜１５m²/gであることを特徴
とする磁気記録媒体。 （６）前記上層磁性層に含まれる強磁性粉末がＦｅを主
体とする合金磁性粉末もしくはマグネトプランバイト型
六方晶フェライトであることを特徴とする磁気記録媒
体。 （７）前記上層磁性層に含まれる非磁性粉末Ａが強磁性
粉末１００重量部に対して１〜２０重量部含まれ、前記
下層磁性層に含まれる非磁性粉末Ｃが非磁性粉末Ｂ１０
０重量部に対して、３〜３０重量部含まれることを特徴
とする磁気記録媒体。

【００１５】次に下層非磁性層の詳細な内容について説
明する。本発明の下層非磁性層に用いられる非磁性粉末
Ｂは、例えば金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金
属窒化物、金属炭化物、金属硫化物、等の無機質化合物
から選択することができる。無機化合物としては例えば
α化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−
アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α
−酸化鉄、コランダム、窒化珪素、チタンカ−バイト、
酸化チタン、二酸化珪素、酸化スス゛、酸化マク゛ネシウム、酸化
タンク゛ステン、酸化シ゛ルコニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カ
ルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、２硫化モリフ゛
テ゛ンなどが単独または組合せで使用される。特に好まし
いのは二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、硫酸バリウム
であり、更に好ましいのは二酸化チタンである。

【００１６】これら非磁性粉末の粒子径は０．００５〜
２μｍが好ましいが、必要に応じて粒子径の異なる非磁
性粉末を組み合わせたり、単独の非磁性粉末でも粒径分
布を広くして同様の効果をもたせることもできる。とり
わけ好ましいのは０．０１μｍ〜０．２μｍである。タ
ップ密度は０．０５〜２ｇ／ｍｌ、好ましくは０．２〜
１．５ｇ／ｍｌである。含水率は０．１〜５重量％好ま
しくは０．２〜３重量％。ｐＨは２〜１１であるが、６
〜９の間が特に好ましい。比表面積は１〜１００ｍ²／
ｇ、好ましくは５〜５０m²/g、更に好ましくは７〜４０
m²/gである。結晶子サイス゛は0.01μｍ〜２μｍが好まし
い。DBPを用いた吸油量は５〜１００ml/100g、好ましく
は10〜８０ml/100g、更に好ましくは２０〜６０ml/100g
である。比重は１〜１２、好ましくは３〜６である。形
状は針状、球状、多面体状、板状のいずれでも良い。強
熱減量は２０重量％以下であることが好ましい。

【００１７】本発明に用いられる上記無機粉末のモース硬
度は４以上のものが好ましい。これらの粉末表面のラフ
ネスファクターは０．８〜１．５が好ましく、更に好ま
しいのは０．９〜１．２である。ＳＡ吸着量は１〜２０
μmol／m²、更に好ましくは２〜１５μmol/m²である。
下層非磁性粉末の２５℃での水への湿潤熱は２００〜６
００erg/cm²がの範囲にあることが好ましい。また、こ
の湿潤熱の範囲にある溶媒を使用することができる。１
００〜４００℃での表面の水分子の量は１〜１０個/100
Aが適当である。水中での等電点のｐＨは３〜６の間に
あることが好ましい。

【００１８】これらの粉末の表面にはAl₂O₃、SiO₂、TiO
₂、ZrO₂，SnO₂，Sb₂O₃，ZnOで表面処理することが好ま
しい。特に分散性に好ましいのはAl₂O₃、SiO₂、TiO₂、Z
rO₂であるが、更に好ましいのはAl₂O₃、SiO₂、ZrO₂であ
る。これらは組み合わせて使用しても良いし、単独で用
いることもできる。また、目的に応じて共沈させた表面
処理層を用いても良いし、先ずアルミナで処理した後に
その表層をシリカで処理する構造、その逆の構造を取る
こともできる。また、表面処理層は目的に応じて多孔質
層にしても構わないが、均質で密である方が一般には好
ましい。

【００１９】本発明に用いられる非磁性粉末Ｂの具体的
な例としては、昭和電工製ナノタイト、住友化学製HIT-100,ZA
-G1、戸田工業社製DPN-250，DPN-250BX、DPN-245,DPN-27
0BX石原産業製TTO-51B、TTO-55A,TTO-55B、TTO-55C、TTO-
55S、TTO-55D、SN-100,E270,E271 チタン工業製STT-4D、
STT-30D、STT-30、STT-65C、テイカ製MT-100S、MT-100T、
MT-150W、MT-500B、MT-600B、MT-100F、MT-500HD。堺化学製
FINEX-25,BF-1,BF-10,BF-20,ST-M、同和鉱業製DEFIC-Y,D
EFIC-R、日本アエロシ゛ル製AS2BM,TiO2P25,宇部興産製100A,50
0A。チタン工業製Y-LOP及びそれを焼成したものであ
る。

【００２０】特に好ましい非磁性粉末は二酸化チタンで
あるので、二酸化チタンを例に製法を詳しく記す。これ
らの酸化チタンの製法は主に硫酸法と塩素法がある。硫
酸法はイルミナイトの源鉱石を硫酸で蒸解し、Ｔｉ，Ｆ
ｅなどを硫酸塩として抽出する。硫酸鉄を晶析分離して
除き、残りの硫酸チタニル溶液を濾過精製後、熱加水分
解を行なって、含水酸化チタンを沈澱させる。これを濾
過洗浄後、夾雑不純物を洗浄除去し、粒径調節剤などを
添加した後、８０〜１０００℃で焼成すれば粗酸化チタ
ンとなる。ルチル型とアナターゼ型は加水分解の時に添
加される核剤の種類によりわけられる。この粗酸化チタ
ンを粉砕、整粒、表面処理などを施して作成する。塩素
法は原鉱石は天然ルチルや合成ルチルが用いられる。鉱
石は高温還元状態で塩素化され、ＴｉはＴｉＣｌ₄にＦ
ｅはＦｅＣｌ₂となり、冷却により固体となった酸化鉄
は液体のＴｉＣｌ₄と分離される。得られた粗ＴｉＣｌ₄
は精留により精製した後核生成剤を添加し、１０００℃
以上の温度で酸素と瞬間的に反応させ、粗酸化チタンを
得る。この酸化分解工程で生成した粗酸化チタンに顔料
的性質を与えるための仕上げ方法は硫酸法と同じであ
る。

【００２１】表面処理は上記酸化チタン素材を乾式粉砕
後、水と分散剤を加え、湿式粉砕、遠心分離により粗粒
分級が行なわれる。その後、微粒スラリーは表面処理槽
に移され、ここで金属水酸化物の表面被覆が行なわれ
る。まず、所定量のＡｌ，Ｓｉ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｓｂ，Ｓ
ｎ，Ｚｎなどの塩類水溶液を加え、これを中和する酸、
またはアルカリを加えて、生成する含水酸化物で酸化チ
タン粒子表面を被覆する。副生する水溶性塩類はデカン
テーション、濾過、洗浄により除去し、最終的にスラリ
ーｐＨを調節して濾過し、純水により洗浄する。洗浄済
みケーキはスプレードライヤーまたはバンドドライヤー
で乾燥される。最後にこの乾燥物はジェットミルで粉砕
され、製品になる。また、水系ばかりでなく酸化チタン
粉末にAlCl ₃,SiCl₄の蒸気を通じその後水蒸気を流入し
てAl,Si表面処理を施すことも可能である。その他の顔
料の製法についてはG.D.Parfitt and K.S.W. Sing”Cha
racterization of Powder Surfaces”Academic Press,1
976を参考にすることができる。

【００２２】また、非磁性下層にカ−ボンブラックを混
合させて公知の効果であるＲｓを下げることができる。
このためにはゴム用ファ−ネス、ゴム用サ−マル、カラ
−用ブラック、アセチレンブラック、等を用いることが
できる。比表面積は１００〜５００ｍ²／ｇ、好ましく
は１５０〜４００m²/g、ＤＢＰ吸油量は２０〜４００ｍ
ｌ／１００ｇ、好ましくは３０〜２００ml/100gであ
る。粒子径は５ｍμ〜８０ｍμ、好ましく１０〜５０ｍ
μ、さらに好ましくは１０〜４０ｍμである。ｐＨは２
〜１０、含水率は０．１〜１０重量％、タップ密度は
０．１〜１ｇ／ml、が好ましい。

【００２３】本発明に用いられるカ−ボンブラックの具
体的な例としてはキャボット社製、ＢＬＡＣＫＰＥＡＲ
ＬＳ ２０００、１３００、１０００、９００、８０
０，８８０，７００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２、三菱
化成工業社製、＃３０５０Ｂ，３１５０Ｂ，３２５０
Ｂ、＃３７５０Ｂ、＃３９５０Ｂ、＃９５０、＃６５０
Ｂ，＃９７０Ｂ、＃８５０Ｂ、ＭＡ−６００、コンロン
ビアカ−ボン社製、ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ、ＲＡＶ
ＥＮ 8800,8000,7000,5750,5250,3500,2100,2000,180
0,1500,1255,1250、アクソ゛ー社製ケッチェンフ゛ラックECなどがあげ
られる。カ−ボンブラックを分散剤などで表面処理した
り、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部をグ
ラファイト化したものを使用してもかまわない。また、
カ−ボンブラックを塗料に添加する前にあらかじめ結合
剤で分散してもかまわない。これらのカーホ゛ンフ゛ラックは上記
無機質粉末に対して５０重量％を越えない範囲、非磁性
層総重量の４０％を越えない範囲で使用できる。これら
のカ−ボンブラックは単独、または組合せで使用するこ
とができる。

【００２４】本発明で使用できるカ−ボンブラックは例
えば「カ−ボンブラック便覧」カ−ボンブラック協会編
を参考にすることができる。本発明に用いられる無機質
粉末Ｂには有機質粉末はアクリルスチレン系樹脂粉末、ヘ゛ンソ゛ク゛ア
ナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、フタロシアニン系顔料が挙げら
れるが、ホ゜リオレフィン系樹脂粉末、ホ゜リエステル系樹脂粉末、ホ゜リ
アミト゛系樹脂粉末、ホ゜リイミト゛系樹脂粉末、ホ゜リフッ化エチレン樹脂
も使用することができる。その製法は特開昭62-18564号
公報、特開昭60-255827号公報に記されているようなも
のが使用できる。

【００２５】非磁性粉末Ｂはハ゛インタ゛ーに対して、重量比
率で２０〜０．１、体積比率で１０〜０．１の範囲で用
いられる。特に好ましくはバインダーの体積比が下層に
含まれる粉末の体積に較べて２．０倍から０．３倍の範
囲である。

【００２６】なお、一般の磁気記録媒体において下塗層
を設けることが行われているが、これは支持体と磁性層
等の接着力を向上させるために設けられるものであっ
て、厚さも０．５μｍ以下で本発明の下層とは異なるも
のである。本発明においても下層と支持体との接着性を
向上させるために下塗層を設けることが好ましい。非磁
性層のバインダー、潤滑剤、分散剤、添加剤、溶剤、分
散方法その他は磁性層のそれが適用できる。特に、バイ
ンダー量、種類、添加剤、分散剤の添加量、種類に関し
ては磁性層に関する公知技術が適用できる。

【００２７】次に本発明の磁性層に関して詳細に説明す
る。本発明に使用する強磁性粉末としてはγ−ＦｅＯx
（x＝１．３３〜１．５）、Ｃｏ変性γ−ＦｅＯx（x＝
１．３３〜１．５）、ＦｅまたはＮｉまたはＣｏを主成
分（７５％以上）とする強磁性合金微粉末、バリウムフ
ェライト、ストロンチウムフェライトなど公知の強磁性
粉末が使用できるが、α−Ｆｅを主成分とする強磁性合
金粉末が好ましい。これらの強磁性粉末には所定の原子
以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ，Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ，Ｃｒ、Ｃｕ，
Ｙ，Ｍｏ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂ
ａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、
Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ，Ｃｏ，Ｍｎ，Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓ
ｒ、Ｂなどの原子を含んでもかまわない。

【００２８】これらの強磁性微粉末にはあとで述べる分
散剤、潤滑剤、界面活性剤、帯電防止剤などで分散前に
あらかじめ処理を行ってもかまわない。具体的には、特
公昭44-14090号公報、特公昭45-18372号公報、特公昭47
-22062号公報、特公昭47-22513号公報、特公昭46-28466
号公報、特公昭46-38755号公報、特公昭47-4286号公
報、特公昭47-12422号公報、特公昭47-17284号公報、特
公昭47-18509号公報、特公昭47-18573号公報、特公昭39
-10307号公報、特公昭48-39639号公報、米国特許302621
5号明細書、同3031341号明細書、同3100194号明細書、
同3242005号明細書、同3389014号明細書などに記載され
ている。

【００２９】上記強磁性粉末の中で強磁性合金微粉末に
ついては少量の水酸化物、または酸化物を含んでもよ
い。強磁性合金微粉末の公知の製造方法により得られた
ものを用いることができ、下記の方法をあげることがで
きる。複合有機酸塩（主としてシュウ酸塩）と水素など
の還元性気体で還元する方法、酸化鉄を水素などの還元
性気体で還元してＦｅあるいはＦｅ−Ｃｏ粒子などを得
る方法、金属カルボニル化合物を熱分解する方法、強磁
性金属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、次亜リン酸
塩あるいはヒドラジンなどの還元剤を添加して還元する
方法、金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて微粉末を
得る方法などである。このようにして得られた強磁性合
金粉末は公知の徐酸化処理、すなわち有機溶剤に侵漬し
たのち乾燥させる方法、有機溶剤に浸漬したのち酸素含
有ガスを送り込んで表面に酸化膜を形成したのち乾燥さ
せる方法、有機溶剤を用いず酸素ガスと不活性ガスの分
圧を調整して表面に酸化皮膜を形成する方法のいずれを
施したものでも用いることができる。

【００３０】本発明の磁性層の強磁性粉末をＢＥＴ法に
よる比表面積で表せば２５〜８０ｍ ²／ｇであり、好ま
しくは４０〜７０ｍ²／ｇである。比表面積が２５ｍ²／
ｇ以下ではノイズが高くなり、比表面積が８０ｍ²／ｇ
以上では表面性が得にくく好ましくない。本発明の磁性
層の強磁性粉末の結晶子サイス゛は４５０〜１００オングス
トロ−ムであり、好ましくは３５０〜１００オングスト
ロ−ムである。酸化鉄磁性粉末のσsは５０ｅｍｕ／ｇ
以上、好ましくは７０ｅｍｕ／ｇ以上、であり、強磁性
金属微粉末の場合は１００ｅｍｕ／ｇ以上が好ましく、
さらに好ましくは１１０emu/g〜１７０emu/gである。抗
磁力は１１００〜３０００Oeが好ましく、更に好ましく
は１４００〜２５００Oeである。

【００３１】強磁性粉末の針状比は４〜１８が好まし
く、更に好ましくは５〜１２である。強磁性粉末の含水
率は０．０１〜２重量％とするのが好ましい。結合剤の
種類によって強磁性粉末の含水率は最適化するのが好ま
しい。γ酸化鉄のタップ密度は０．５ｇ／ｍｌ以上が好
ましく、０．８ｇ／ｍｌ以上がさらに好ましい。合金粉
末の場合は０．２〜０．８ｇ／ｍｌが好ましく、０．８
ｇ／ｍｌ以上に使用とすると強磁性粉末の圧密過程で酸
化が進みやすく、充分なσSを得ることが困難になる。
タップ密度が０．２ｇ／ｍｌ以下では分散が不十分にな
りやすい。γ酸化鉄を用いる場合、２価の鉄の３価の鉄
に対する比は好ましくは０〜２０％でありさらに好まし
くは５〜１０％である。また鉄原子に対するコバルト原
子の量は０〜１５％、好ましくは２〜８％である。

【００３２】強磁性粉末のｐＨは用いる結合剤との組合
せにより最適化することが好ましい。その範囲は４〜１
２であるが、好ましくは６〜１０である。強磁性粉末は
必要に応じ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｐまたはこれらの酸化物など
で表面処理を施してもかまわない。その量は強磁性粉末
に対し０．１〜１０％であり表面処理を施すと脂肪酸な
どの潤滑剤の吸着が１００ｍｇ／ｍ²以下になり好まし
い。強磁性粉末には可溶性のＮａ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｎｉ、
Ｓｒなどの無機イオンを含む場合があるが５００ｐｐｍ
以下であれば特に特性に影響を与えない。

【００３３】また、本発明に用いられる強磁性粉末は空
孔が少ないほうが好ましくその値は２０容量％以下、さ
らに好ましくは５容量％以下である。また形状について
は先に示した粒子径についての特性を満足すれば針状、
粒状、米粒状、板状いずれでもかまわない。針状強磁性
粉末の場合、針状比は１２以下が好ましい。この強磁性
粉末のＳＦＤ０．６以下を達成するためには、強磁性粉
末のＨｃの分布を小さくする必要がある。そのために
は、ゲ−タイトの粒度分布をよくする、γ−ヘマタイト
の焼結を防止する、コバルト変性の酸化鉄についてはコ
バルトの被着速度を従来より遅くするなどの方法があ
る。

【００３４】本発明にはまた、板状六方晶フェライトと
してバリウムフェライト、ストロンチウムフェライト、
鉛フェライト、カルシウムフェライトの各置換体、Ｃｏ
置換体等、六方晶Ｃｏ粉末が使用できる。具体的にはマ
グネトプランバイト型のバリウムフェライト及びストロ
ンチウムフェライト、更に一部スピネル相を含有したマ
グネトプランバイト型のバリウムフェライト及びストロ
ンチウムフェライト等が挙げられ、特に好ましいものと
してはバリウムフェライト、ストロンチウムフェライト
の各Ｃｏ置換体である。また、抗磁力を制御するために
上記六方晶フェライトにＣｏ−Ｔｉ，Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚ
ｒ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｎ，Ｎｉ−Ｔｉ−Ｚｎ，Ｉｒ−Ｚｎ
等の元素を添加した物を使用することができる。

【００３５】六方晶フェライトは、通常、六角板状の粒
子であり、その粒子径は六角板状の粒子の板の幅を意味
し、電子顕微鏡を使用して測定する。 本発明ではこの
粒子径０．０１〜０．２μｍ、特に好ましくは０．０３
〜０．１μｍの範囲に規定するものである。また、該微
粒子の平均厚さ（板厚）は０．００１〜０．２μｍ程度
であるが、特に０．００３〜０．０５μｍが好ましい。
更に板状比（粒子径／板厚）は１〜１０であり、好まし
くは３〜７である。また、これら六方晶フェライト微粉
末のＢＥＴ法による比表面積（ＳBET）は２５〜７０ｍ²
／ｇが好ましい。

【００３６】本発明に使用される結合剤としては従来公
知の熱可塑系樹脂、熱硬化系樹脂、反応型樹脂やこれら
の混合物が使用される。熱可塑系樹脂としては、ガラス
転移温度が−１００〜１５０℃、数平均分子量が１００
０〜２０００００、好ましくは１００００〜１００００
０、重合度が約５０〜１０００程度のものである。この
ような例としては、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルア
ルコ−ル、マレイン酸、アクルリ酸、アクリル酸エステ
ル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリル
酸、メタクリル酸エステル、スチレン、ブタジエン、エ
チレン、ビニルブチラ−ル、ビニルアセタ−ル、ビニル
エ−テル、等を構成単位として含む重合体または共重合
体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂がある。

【００３７】また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂とし
てはフェノ−ル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化
型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アク
リル系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコ−ン樹
脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイ
ソシアネ−トプレポリマ−の混合物、ポリエステルポリ
オ−ルとポリイソシアネ−トの混合物、ポリウレタンと
ポリイソシアネートの混合物等があげられる。これらの
樹脂については朝倉書店発行の「プラスチックハンドブ
ック」に詳細に記載されている。また、公知の電子線硬
化型樹脂を下層非磁性層、または上層磁性層に使用する
ことも可能である。これらの例とその製造方法について
は特開昭６２−２５６２１９に詳細に記載されている。
以上の樹脂は単独または組合せて使用できるが、好まし
いものとして塩化ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル樹
脂、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコ−ル樹脂、塩化
ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸共重合体、中から選ば
れる少なくとも１種とポリウレタン樹脂の組合せ、また
はこれらにポリイソシアネ−トを組み合わせたものがあ
げられる。＄ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポ
リウレタン、ポリエ−テルポリウレタン、ポリエ−テル
ポリエステルポリウレタン、ポリカ−ボネ−トポリウレ
タン、ポリエステルポリカ−ボネ−トポリウレタン、ポ
リカプロラクトンポリウレタンポリオレフィンポリウレ
タンなど公知のものが使用できる。ここに示したすべて
の結合剤について、より優れた分散性と耐久性を得るた
めには必要に応じ、ＣＯＯＭ，ＳＯ₃Ｍ、ＯＳＯ₃Ｍ、Ｐ
＝Ｏ（ＯＭ）₂、 Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂、（以上につき
Ｍは水素原子、またはアルカリ金属塩基）、ＯＨ、ＮＲ
₂、Ｎ⁺Ｒ₃（Ｒは炭化水素基）エポキシ基、ＳＨ、Ｃ
Ｎ、などから選ばれる少なくともひとつ以上の極性基を
共重合または付加反応で導入したものををもちいること
が好ましい。このような極性基の量は１０^-1〜１０^-8モル
／ｇであり、好ましくは１０^-2〜１０^-6モル／ｇである。

【００３８】本発明に用いられるこれらの結合剤の具体
的な例としてはユニオンカ−バイト社製 ＶＡＧＨ、Ｖ
ＹＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ，ＶＲＯＨ，Ｖ
ＹＥＳ，ＶＹＮＣ，ＶＭＣＣ，ＸＹＨＬ，ＸＹＳＧ，Ｐ
ＫＨＨ，ＰＫＨＪ，ＰＫＨＣ，ＰＫＦＥ，日信化学工業
社製、ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５，ＭＰＲ−ＴＡ
Ｌ，ＭＰＲ−ＴＳＮ，ＭＰＲ−ＴＭＦ，ＭＰＲ−ＴＳ、
ＭＰＲ−ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡＯ、電気化学社製１０００
Ｗ、ＤＸ８０，ＤＸ８１，ＤＸ８２，ＤＸ８３、１００
ＦＤ、日本ゼオン社製ＭＲ−１０５、ＭＲ１１０、ＭＲ
１００、４００Ｘ−１１０Ａ、日本ポリウレタン社製ニ
ッポランＮ２３０１、Ｎ２３０２、Ｎ２３０４、大日本
インキ社製パンデックスＴ−５１０５、Ｔ−Ｒ３０８
０、Ｔ−５２０１、バ−ノックＤ−４００、Ｄ−２１０
−８０、クリスボン６１０９，７２０９，東洋紡社製バ
イロンＵＲ８２００，ＵＲ８３００、ＵＲ−８６００、
ＵＲ−５５００、ＵＲ−４３００、ＲＶ５３０，ＲＶ２
８０、大日精化社製、ダイフェラミン４０２０，５０２
０，５１００，５３００，９０２０，９０２２，７０２
０，三菱化成社製、ＭＸ５００４，三洋化成社製サンプ
レンＳＰ−１５０，ＴＩＭ−３００３、ＴＩＭ−３００
５、旭化成社製サランＦ３１０，Ｆ２１０などがあげら
れる。

【００３９】本発明の磁性層に用いられる結合剤は強磁
性粉末に対し、５〜５０重量％の範囲、好ましくは１０
〜３０重量％の範囲で用いられる。塩化ビニル系樹脂を
用いる場合は５〜３０重量％、ポリウレタン樹脂合を用
いる場合は２〜２０重量％、ポリイソシアネ−トは２〜
２０重量％の範囲でこれらを組み合わせて用いるのが好
ましい。本発明において、ポリウレタンを用いる場合は
ガラス転移温度が−５０〜１００℃、破断伸びが１００
〜２０００％、破断応力は０．０５〜１０Ｋｇ／ｃ
ｍ²、降伏点は０．０５〜１０Ｋｇ／ｃｍ²が好ましい。

【００４０】本発明の磁気記録媒体は二層以上からな
る。従って、結合剤量、結合剤中に占める塩化ビニル系
樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネ−ト、あるい
はそれ以外の樹脂の量、磁性層を形成する各樹脂の分子
量、極性基量、あるいは先に述べた樹脂の物理特性など
を必要に応じ中間層と第二磁性層、その他磁性層とで変
えることはもちろん可能であり、多層磁性層に関する公
知技術を適用できる。例えば、上下層、中間層でバイン
ダー量を変更する場合、磁性層表面の擦傷を減らすため
には上層磁性層のバインダー量を増量することが有効で
あり、ヘッドに対するヘッドタッチを良好にする為に
は、上層以外の磁性層か中間層のバインダー量を多くし
て柔軟性を持たせることにより達成される。

【００４１】本発明にもちいるポリイソシアネ−トとし
ては、トリレンジイソシアネ−ト、４−４’−ジフェニ
ルメタンジイソシアネ−ト、ヘキサメチレンジイソシア
ネ−ト、キシリレンジイソシアネ−ト、ナフチレン−
１，５−ジイソシアネ−ト、ｏ−トルイジンジイソシア
ネ−ト、イソホロンジイソシアネ−ト、トリフェニルメ
タントリイソシアネ−ト等のイソシアネ−ト類、また、
これらのイソシアネ−ト類とポリアルコールとの生成
物、また、イソシアネート類の縮合によって生成したポ
リイソシアネ−ト等を使用することができる。これらの
イソシアネート類の市販されている商品名としては、日
本ポリウレタン社製、コロネートＬ、コロネ−トＨＬ，
コロネ−ト２０３０、コロネ−ト２０３１、ミリオネ−
トＭＲミリオネ−トＭＴＬ、武田薬品社製、タケネ−ト
Ｄ−１０２，タケネ−トＤ−１１０Ｎ、タケネ−トＤ−
２００、タケネ−トＤ−２０２、住友バイエル社製、デ
スモジュ−ルＬ，デスモジュ−ルＩＬ、デスモジュ−ル
Ｎデスモジュ−ルＨＬ，等がありこれらを単独または硬
化反応性の差を利用して二つもしくはそれ以上の組合せ
で下層非磁性層、上層磁性層とも用いることができる。

【００４２】本発明の磁性層に使用されるカ−ボンブラ
ックはゴム用ファ−ネス、ゴム用サ−マル、カラ−用ブ
ラック、アセチレンブラック、等を用いることができ
る。比表面積は５〜５００ｍ²／ｇ、ＤＢＰ吸油量は１
０〜４００ｍｌ／１００ｇ、粒子径は５ｍμ〜３００ｍ
μ、ｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０重量％、タ
ップ密度は０．１〜１ｇ／CC、が好ましい。本発明に用
いられるカ−ボンブラックの具体的な例としてはキャボ
ット社製、ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０００、１３０
０、１０００、９００、８００，７００、ＶＵＬＣＡＮ
ＸＣ−７２、旭カ−ボン社製、＃８０、＃６０，＃５
５、＃５０、＃３５、三菱化成工業社製、＃２４００
Ｂ、＃２３００、＃９００，＃１０００＃３０，＃４
０、＃１０Ｂ、コンロンビアカ−ボン社製、ＣＯＮＤＵ
ＣＴＥＸ ＳＣ、ＲＡＶＥＮ １５０、５０，４０，１
５などがあげられる。カ−ボンブラックを分散剤などで
表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表
面の一部をグラファイト化したものを使用してもかまわ
ない。また、カ−ボンブラックを磁性塗料に添加する前
にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。

【００４３】これらのカ−ボンブラックは単独、または
組合せで使用することができる。カ−ボンブラックを使
用する場合は強磁性粉末に対する量の０．１〜３０重量
％で用いることが好ましい。カ−ボンブラックは磁性層
の帯電防止、摩擦係数低減、遮光性付与、膜強度向上な
どの働きがあり、これらは用いるカ−ボンブラックによ
り異なる。従って本発明に使用されるこれらのカ−ボン
ブラックは上層磁性層、下層非磁性層でその種類、量、
組合せを変え、粒子径、吸油量、電導度、ｐＨなどの先
に示した諸特性をもとに目的に応じて使い分けることは
もちろん可能である。本発明の磁性層で使用できるカ−
ボンブラックは例えば「カ−ボンブラック便覧」カ−ボ
ンブラック協会編 を参考にすることができる。

【００４４】本発明に用いられる研磨剤、非磁性粉末
Ａ，Ｃとしてはα化率９０％以上のα−アルミナ、β−
アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α
−酸化鉄、コランダム、人造ダイアモンド、窒化珪素、
炭化珪素チタンカ−バイト、酸化チタン、二酸化珪素、
窒化ホウ素、など主としてモ−ス６以上の公知の材料が
単独または組合せで使用される。また、これらの研磨剤
どうしの複合体（研磨剤を他の研磨剤で表面処理したも
の）を使用してもよい。これらの研磨剤には主成分以外
の化合物または元素が含まれる場合もあるが主成分が９
０％以上であれば効果にかわりはない。これら研磨剤の
粒子径は０．０１〜２μｍが好ましいが、必要に応じて
粒子径の異なる研磨剤を組み合わせたり、単独の研磨剤
でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせることもで
きる。タップ密度は０．３〜２ｇ／ｍｌ、含水率は０．
１〜５重量％、ｐＨは２〜１１、比表面積は１〜３０ｍ
²／ｇ、が好ましい。本発明に用いられる研磨剤の形状
は針状、球状、サイコロ状、のいずれでも良いが、形状
の一部に角を有するものが研磨性が高く好ましい。

【００４５】本発明に用いられる研磨剤の具体的な例と
しては、住友化学社製、ＡＫＰ−２０，ＡＫＰ−３０，
ＡＫＰ−５０、ＨＩＴ−５０、ＨＩＴ−６０，ＨＩＴ−
８０，ＨＩＴ−８０Ｇ，ＨＩＴ−１００、日本化学工業
社製、Ｇ５，Ｇ７，Ｓ−１、戸田工業社製、ＴＦ−１０
０，ＴＦ−１４０などがあげられる。本発明に用いられ
る研磨剤は下層非磁性層、上層磁性層で種類、量および
組合せを変え、目的に応じて使い分けることはもちろん
可能である。これらの研磨剤はあらかじめ結合剤で分散
処理したのち磁性塗料中に添加してもかまわない。本発
明の磁気記録媒体の磁性層表面および磁性層端面に存在
する研磨剤は５個／１００μｍ²以上が好ましい。

【００４６】本発明に使用される、添加剤としては潤滑
効果、帯電防止効果、分散効果、可塑効果、などをもつ
ものが使用される。二硫化モリブデン、二硫化タングス
テングラファイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコ−
ンオイル、極性基をもつシリコ−ン、脂肪酸変性シリコ
−ン、フッ素含有シリコ−ン、フッ素含有アルコ−ル、
フッ素含有エステル、ポリオレフィン、ポリグリコ−
ル、アルキル燐酸エステルおよびそのアルカリ金属
塩、、アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属
塩、ポリフェニルエ−テル、フッ素含有アルキル硫酸エ
ステルおよびそのアルカリ金属塩、炭素数１０〜２４の
一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐して
いてもかまわない）、および、これらの金属塩（Ｌｉ、
Ｎａ、Ｋ、Ｃｕなど）または、炭素数１２〜２２の一
価、二価、三価、四価、五価、六価アルコ−ル、（不飽
和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、
炭素数１２〜２２のアルコキシアルコ−ル、炭素数１０
〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また
分岐していてもかまわない）と炭素数２〜１２の一価、
二価、三価、四価、五価、六価アルコ−ルのいずれか一
つ（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわ
ない）とからなるモノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪酸エ
ステルまたはトリ脂肪酸エステル、アルキレンオキシド
重合物のモノアルキルエ−テルの脂肪酸エステル、炭素
数８〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の脂肪族ア
ミン、などが使用できる。

【００４７】これらの具体例としてはラウリン酸、ミリ
スチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、ス
テアリン酸ブチル、オレイン酸、リノ−ル酸、リノレン
酸、エライジン酸、ステアリン酸オクチル、ステアリン
酸アミル、ステアリン酸イソオクチル、ミリスチン酸オ
クチル、ステアリン酸ブトキシエチル、アンヒドロソル
ビタンモノステアレ−ト、アンヒドロソルビタンジステ
アレ−ト 、アンヒドロソルビタントリステアレ−ト、
オレイルアルコ−ル、ラウリルアルコ−ル、があげられ
る。また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グ
リシド−ル系、アルキルフェノ−ルエチレンオキサイド
付加体、等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステ
ルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導
体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類、等
のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルフォン酸、
燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基、などの酸性基
を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホ
ン酸類、アミノアルコ−ルの硫酸または燐酸エステル
類、アルキルベダイン型、等の両性界面活性剤等も使用
できる。これらの界面活性剤については、「界面活性剤
便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載されてい
る。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも１００％
純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応
物、分解物、酸化物 等の不純分がふくまれてもかまわ
ない。これらの不純分は３０％以下が好ましく、さらに
好ましくは１０％以下である。

【００４８】本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面
活性剤は中間層、磁性層でその種類、量を必要に応じ使
い分けることができる。例えば、中間層、磁性層で融点
のことなる脂肪酸を用い表面へのにじみ出しを制御す
る、沸点や極性の異なるエステル類を用い表面へのにじ
み出しを制御する、界面活性剤量を調節することで塗布
の安定性を向上させる、潤滑剤の添加量を中間層で多く
して潤滑効果を向上させるなど考えられ、無論ここに示
した例のみに限られるものではない。

【００４９】また本発明で用いられる添加剤のすべてま
たはその一部は、磁性塗料製造のどの工程で添加しても
かまわない、例えば、混練工程前に強磁性粉末と混合す
る場合、強磁性粉末と結合剤と溶剤による混練工程で添
加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添加す
る場合、塗布直前に添加する場合などがある。また、目
的に応じて磁性層を塗布した後、同時または逐次塗布
で、添加剤の一部または全部を塗布することにより目的
が達成される場合がある。また、目的によってはカレン
ダーした後、またはスリット終了後、磁性層表面に潤滑
剤を塗布することもできる。＄本発明で使用されるこれ
ら潤滑剤の商品例としては、日本油脂社製、ＮＡＡ−１
０２，ＮＡＡ−４１５，ＮＡＡ−３１２，ＮＡＡ−１６
０，ＮＡＡ−１８０，ＮＡＡ−１７４，ＮＡＡ−１７
５，ＮＡＡ−２２２，ＮＡＡ−３４，ＮＡＡ−３５，Ｎ
ＡＡ−１７１，ＮＡＡ−１２２、ＮＡＡ−１４２、ＮＡ
Ａ−１６０、ＮＡＡ−１７３Ｋ，ヒマシ硬化脂肪酸、Ｎ
ＡＡ−４２，ＮＡＡ−４４、カチオンＳＡ、カチオンＭ
Ａ、カチオンＡＢ，カチオンＢＢ，ナイミ−ンＬ−２０
１，ナイミ−ンＬ−２０２，ナイミ−ンＳ−２０２，ノ
ニオンＥ−２０８，ノニオンＰ−２０８，ノニオンＳ−
２０７，ノニオンＫ−２０４，ノニオンＮＳ−２０２，
ノニオンＮＳ−２１０，ノニオンＨＳ−２０６，ノニオ
ンＬ−２，ノニオンＳ−２，ノニオンＳ−４，ノニオン
Ｏ−２、ノニオンＬＰ−２０Ｒ，ノニオンＰＰ−４０
Ｒ，ノニオンＳＰ−６０Ｒ、ノニオンＯＰ−８０Ｒ、ノ
ニオンＯＰ−８５Ｒ，ノニオンＬＴ−２２１，ノニオン
ＳＴ−２２１，ノニオンＯＴ−２２１，モノグリＭＢ，
ノニオンＤＳ−６０，アノンＢＦ，アノンＬＧ，ブチル
ステアレ−ト、ブチルラウレ−ト、エルカ酸、関東化学
社製、オレイン酸、竹本油脂社製、ＦＡＬ−２０５、Ｆ
ＡＬ−１２３、新日本理化社製、エヌジェルブＬＯ、エ
ヌジョルブＩＰＭ，サンソサイザ−Ｅ４０３０，、信越
化学社製、ＴＡ−３、ＫＦ−９６、ＫＦ−９６Ｌ、ＫＦ
９６Ｈ、ＫＦ４１０，ＫＦ４２０、ＫＦ９６５，ＫＦ５
４，ＫＦ５０，ＫＦ５６，ＫＦ９０７，ＫＦ８５１，Ｘ
−２２−８１９，Ｘ−２２−８２２，ＫＦ９０５，ＫＦ
７００，ＫＦ３９３，ＫＦ−８５７，ＫＦ−８６０，Ｋ
Ｆ−８６５，Ｘ−２２−９８０，ＫＦ−１０１，ＫＦ−
１０２，ＫＦ−１０３，Ｘ−２２−３７１０，Ｘ−２２
−３７１５，ＫＦ−９１０，ＫＦ−３９３５，ライオン
ア−マ−社製、ア−マイドＰ、ア−マイドＣ，ア−モス
リップＣＰ、ライオン油脂社製、デユオミンＴＤＯ、日
清製油社製、ＢＡ−４１Ｇ、三洋化成社製、プロファン
２０１２Ｅ、ニュ−ポ−ルＰＥ６１、イオネットＭＳ−
４００，イオネットＭＯ−２００ イオネットＤＬ−２
００，イオネットＤＳ−３００、イオネットＤＳ−１０
００イオネットＤＯ−２００などがあげられる。

【００５０】本発明で用いられる有機溶媒は任意の比率
でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホ
ロン、テトラヒドロフラン、等のケトン類、メタノ−
ル、エタノ−ル、プロパノ−ル、ブタノ−ル、イソブチ
ルアルコ−ル、イソプロピルアルコール、メチルシクロ
ヘキサノール、などのアルコ−ル類、酢酸メチル、酢酸
ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチ
ル、酢酸グリコ−ル等のエステル類、グリコ−ルジメチ
ルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサ
ン、などのグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン、などの芳
香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロラ
イド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒド
リン、ジクロルベンゼン、等の塩素化炭化水素類、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサン等のものが使用で
きる。これら有機溶媒は必ずしも１００％純粋ではな
く、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解
物、酸化物、水分等の不純分がふくまれてもかまわな
い。これらの不純分は３０％以下が好ましく、さらに好
ましくは１０％以下である。本発明で用いる有機溶媒は
磁性層と中間層でその種類は同じであることが好まし
い。その添加量は変えてもかまわない。中間層に表面張
力の高い溶媒（シクロヘキサノン、ジオキサンなど）を
用い塗布の安定性をあげる、具体的には上層溶剤組成の
算術平均値が下層溶剤組成の算術平均値を下回らないこ
とが肝要である。分散性を向上させるためにはある程度
極性が強い方が好ましく、溶剤組成の内、誘電率が１５
以上の溶剤が５０重量％以上含まれることが好ましい。
また、溶解パラメ−タは８〜１１であることが好まし
い。

【００５１】本発明の磁気記録媒体の厚み構成は非磁性
可撓性支持体が１〜１００μｍ、好ましくは４〜８０μ
ｍである。磁性層と中間層を合わせた厚みは非磁性可撓
性支持体の厚みの１／１００〜２倍の範囲で用いられ
る。また、非磁性可撓性支持体性と非磁性下層の間に密
着性向上のためのの下塗り層、を設けてもかまわない。
本下塗層厚みは０．０１〜２μｍ、このましくは０．０
２〜０．５μｍである。また、非磁性支持体性の磁性層
側と反対側にバックコ−ト層を設けてもかまわない。こ
の厚みは０．１〜２μｍ、好ましくは０．３〜１．０μ
ｍである。これらの下塗層、バックコ−ト層は公知のも
のが使用できる。

【００５２】本発明に用いられる非磁性可撓性支持体は
ポリエチレンテレフタレ−ト、ポリエチレンナフタレー
ト、等のポリエステル類、ポリオレフィン類、セルロ−
ストリアセテ−ト、ポリカ−ボネ−ト、ポリアミド、ポ
リイミド、ポリアミドイミド、ポリスルフォン、アラミ
ド、芳香族ホ゜リアミト゛などの公知のフィルムが使用でき
る。これらの支持体にはあらかじめコロナ放電処理、プ
ラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理、などをお
こなっても良い。本発明の目的を達成するには、非磁性
可撓性支持体として中心線平均表面粗さが０．０３μｍ
以下、好ましくは０．０２以下、さらに好ましくは０．
０１μｍ以下のものを使用する必要がある。

【００５３】また、これらの非磁性支持体は単に中心線
平均表面粗さが小さいだけではなく、１μｍ以上の粗大
突起がないことが好ましい。また表面の粗さ形状は必要
に応じて支持体に添加されるフィラ−の大きさと量によ
り自由にコントロ−ルされるものである。これらのフィ
ラ−としては一例としてはＣａ，Ｓｉ、Ｔｉなどの酸化
物や炭酸塩の他、アクリル系などの有機微粉末があげら
れる。本発明に用いられる非磁性支持体のテ−プ走行方
向のＦ−５値は好ましくは５〜５０Ｋｇ／ｍｍ ²、テ−
プ幅方向のＦ−５値は好ましくは３〜３０Ｋｇ／ｍｍ²
であり、テ−プ長い手方向のＦ−５値がテ−プ幅方向の
Ｆ−５値より高いのが一般的であるが、特に幅方向の強
度を高くする必要があるときはその限りでない。また、
支持体のテ−プ走行方向および幅方向の１００℃、３０
分での熱収縮率は好ましくは３％以下、さらに好ましく
は１．５％以下、８０℃、３０分での熱収縮率は好まし
くは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下である。
破断強度は両方向とも５〜１００Ｋｇ／ｍｍ²、弾性率
は１００〜２０００Ｋｇ／ｍｍ²、が好ましい。

【００５４】本発明の磁気記録媒体の磁性塗料を製造す
る工程は、少なくとも混練工程、分散工程、およびこれ
らの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程からな
る。個々の工程はそれぞれ２段階以上にわかれていても
かまわない。本発明に使用する強磁性粉末、結合剤、カ
−ボンブラック、研磨剤、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤な
どすべての原料はどの工程の最初または途中で添加して
もかまわない。また、個々の原料を２つ以上の工程で分
割して添加してもかまわない。例えば、ポリウレタンを
混練工程、分散工程、分散後の粘度調整のための混合工
程で分割して投入してもよい。

【００５５】本発明の目的を達成するためには、従来の
公知の製造技術のを一部の工程としてを用いることがで
きることはもちろんであるが、混練工程では連続ニ−ダ
や加圧ニ−ダなど強い混練力をもつものを使用すること
により初めて本発明の磁気記録媒体の高いＢｒを得るこ
とができた。連続ニ−ダまたは加圧ニ−ダを用いる場合
は強磁性粉末と結合剤のすべてまたはその一部（ただし
全結合剤の３０重量％以上が好ましい）および強磁性粉
末１００重量部に対し１５〜５００重量部の範囲で混練
処理される。これらの混練処理の詳細については特開昭
１−１０６３３８号公報、特開昭１−７９２７４号公報
に記載されている。また、下層非磁性層液を調整する場
合には高比重の分散メディアを用いることが望ましく、
ジルコニアビーズが好適である。

【００５６】本発明のような重層構成の磁気記録媒体を
塗布する装置、方法の例として以下のような構成を提案
できる。 １，磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗
布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルーシ゛ョン塗布装置等
により、まず下層を塗布し、下層がウェット状態にのう
ちに特公平1-46186号公報や特開昭60-238179号公報，特
開平2-265672号公報に開示されている支持体加圧型エクスト
ルーシ゛ョン塗布装置により上層を塗布する。

【００５７】２，特開昭63-88080号公報、特開平2-17971
号公報，特開平2-265672号公報に開示されているような
塗布液通液スリットを二つ内蔵する一つの塗布ヘッドに
より上下層をほぼ同時に塗布する。

【００５８】３，特開平2-174965号公報に開示されてい
るハ゛ックアッフ゜ロール付きエクストルーシ゛ョン塗布装置により上下層を
ほぼ同時に塗布する。なお、磁性粒子の凝集による磁気
記録媒体の電磁変換特性等の低下を防止するため、特開
昭62-95174号公報や特開平1-236968号公報に開示されて
いるような方法により塗布ヘッド内部の塗布液にせん断
を付与することが望ましい。さらに、塗布液の粘度につ
いては、特開平３−８４７１号公報に開示されている数
値範囲を満足する必要がある。

【００５９】本発明の媒体を得るためには強力な配向を
行う必要がある。１０００Ｇ以上のソレノイドと２００
０Ｇ以上のコバルト磁石を同極対向で併用することが好
ましく、さらには乾燥後の配向性が最も高くなるように
配向前に予め適度の乾燥工程を設けることが好ましい。
また、ディスク媒体として本発明を適用する場合はむし
ろ配向をランダマイズするような配向法が必要である。
また、第二磁性層と第一磁性層の配向方向を変更するた
めに配向する方向は必ずしも塗布方向で面内方向である
必要はなく、垂直方向、幅方向にも配向できる。

【００６０】さらに、カレンダ処理ロ−ルとしてエポキ
シ、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐
熱性のあるプラスチックロ−ルを使用する。また、金属
ロ−ル同志で処理することも出来る。処理温度は、好ま
しくは７０℃以上、さらに好ましくは８０℃以上であ
る。線圧力は好ましくは２００Ｋｇ／ｃｍ、さらに好ま
しくは３００Ｋｇ／ｃｍ以上である。

【００６１】本発明の磁気記録媒体の磁性層面およびそ
の反対面のＳＵＳ４２０Ｊに対する摩擦係数は好ましく
は０．５以下、さらに０．３以下、表面固有抵抗は好ま
しくは１０⁴〜１０¹²オ−ム／ｓｑ、磁性層の０．５％
伸びでの弾性率は走行方向、幅方向とも好ましくは１０
０〜２０００Ｋｇ／ｍｍ²、破断強度は好ましくは１〜
３０Ｋｇ／ｃｍ²、磁気記録媒体の弾性率は走行方向、
長い方向とも好ましくは１００〜１５００Ｋｇ／ｍ
ｍ²、残留のびは好ましくは０．５％以下、１００℃以
下のあらゆる温度での熱収縮率は好ましくは１％以下、
さらに好ましくは０．５％以下、もっとも好ましくは
０．１％以下である。

【００６２】磁性層のガラス転移温度(110HZで測定した
動的粘弾性測定の損失弾性率の極大点)は５０℃以上１
２０℃以下が好ましく、下層非磁性層のそれは０℃〜１
００℃が好ましい。損失弾性率は１×１０⁸〜８×１０⁹
dyne/cm²の範囲にあることが好ましく、損失正接は０．
２以下であることが好ましい。損失正接が大きすぎると
粘着故障が出安い。磁性層中に含まれる残留溶媒は好ま
しくは１００ｍｇ／ｍ ²以下、さらに好ましくは１０ｍ
ｇ／ｍ²以下であり、上層磁性層に含まれる残留溶媒が
下層非磁性層に含まれる残留溶媒より少ないほうが好ま
しい。磁性層が有する空隙率は非磁性下層、磁性層とも
好ましくは３０容量％以下、さらに好ましくは２０容量
％以下である。空隙率は高出力を果たすためには小さい
方が好ましいが、目的によってはある値を確保した方が
良い場合がある。例えば、繰り返し用途が重視されるデ
ータ記録用磁気記録媒体では空隙率が大きい方が走行耐
久性は好ましいことが多い。

【００６３】本発明の磁気記録媒体の磁気特性は磁場５
ＫＯｅで測定した場合、テ−プ走行方向の角形比は０．
７０以上であり、好ましくは０．８０以上さらに好まし
くは０．９０以上である。テ−プ走行方向に直角な二つ
の方向の角型比は走行方向の角型比の８０％以下となる
ことが好ましい。磁性層のＳＦＤは０．６以下であるこ
とが好ましい。

【００６４】磁性層の中心線表面粗さＲａは１ｎｍ〜１
０ｎｍが好ましいが、その値は目的により適宜設定され
るべきである。電磁変換特性を良好にする為にはＲａは
小さいほど好ましいが、走行耐久性を良好にするために
は逆に大きいほど好ましい。ＡＦＭによる評価で求めた
ＲＭＳ表面粗さＲRMSは２〜１５ｎｍの範囲にあること
が好ましい。

【００６５】本発明の磁気記録媒体は下層非磁性層と上
層磁性層を有するが、目的に応じ非磁性層と磁性層でこ
れらの物理特性を変えることができるのは容易に推定さ
れることである。例えば、磁性層の弾性率を高くし走行
耐久性を向上させると同時に非磁性層の弾性率を磁性層
より低くして磁気記録媒体のヘッドへの当りを良くする
などである。

【００６６】

【実施例】 非磁性中間層 非磁性粉末 ＴｉＯ₂ 結晶系ルチル ８０部 平均一次粒子径：０．０３５μｍ BET法による比表面積：４０ｍ²／ｇ ｐＨ：７、ＴｉＯ₂含有量：90%以上 DBP吸油量：27〜38g/100g 表面処理剤：Al₂O₃ カーボンブラック ２０部 平均一次粒子径：１６ｍμ ＤＢＰ吸油量：８０ml/100g ｐＨ：８．０ ＢＥＴ法による比表面積：２５０m²/g 揮発分：１．５重量％ 塩化ビニルー酢酸ビニル-ビニルアルコール共重合体 １２部 −N(CH₃)₃ ⁺Cl^-の極性基を５×１０^-6eq/g含む 組成比：８６：１３：１ 重合度：400 ポリエステルポリウレタン樹脂 ５部 ネオヘ゜ンチルク゛リコール/カフ゜ロラクトンホ゜リオール/MDI=０．９／２．６／１ -SO₃Na基：１×１０^-4eq/g含有 α−Ａｌ₂Ｏ₃ １０部 ブチルステアレート １部 ステアリン酸 １部 メチルエチルケトン １００部 シクロヘキサノン ５０部 トルエン ５０部

【００６７】 磁性層（上層） 強磁性金属微粉末 組成：Fe/Zn/Ni=92/4/4 １００部 Ｈｃ：１８００Oe、 BET法による比表面積：５４m²/g 結晶子サイズ：１９５A 表面処理剤：Al₂O₃,SiO₂ 粒子径（長軸径）：０．１８μｍ 針状比：１０ σs:１３０emu/g 塩化ビニル系共重合体 １２部 -SO₃Na含有量:1ｘ10^-4eq/g、 重合度：３００ ポリエステルポリウレタン樹脂 ３部 ネオヘ゜ンチルク゛リコール/カフ゜ロラクトンホ゜リオール/MDI=０．９／２．６／１ -SO₃Na基：１×10^-4eq/g含有 α−Ａｌ₂Ｏ₃（粒子径０．１５μｍ） １０部 カ−ボンブラック（粒子径０．１０μｍ） ０．５部 ブチルステアレート １部 ステアリン酸 ５部 メチルエチルケトン ９０部 シクロヘキサノン ３０部 トルエン ６０部

【００６８】上記２つの塗料のそれぞれについて、各成
分を連続ニ−ダで混練したのち、サンドミルをもちいて
分散させた。得られた分散液にポリイソシアネ−トを下
層非磁性層の塗布液には１部、上層磁性層、磁性層の塗
布液には３部を加え、さらにそれぞれにメチルエチルケ
トン、シクロヘキサノン混合溶媒４０部を加え，１μｍ
の平均孔径を有するフィルタ-を用いて濾過し、下層非磁性
層および上層磁性層形成用の塗布液をそれぞれ調整し
た。得られた下層非磁性層塗布液を、乾燥後の厚さが２
μｍになるようにさらにその直後にその上に磁性層の厚
さが０．５μｍになるように、厚さ７μｍで中心線表面
粗さが０．０１μｍのポリエチレンテレフタレ−ト支持
体上に同時重層塗布をおこない、両層がまだ湿潤状態に
あるうちに３０００Ｇの磁力をもつコバルト磁石と１５
００Ｇの磁力をもつソレノイドにより配向させ乾燥後、
金属ロ−ルのみから構成される７段のカレンダで温度９
０℃にて分速２００m/min.で処理を行い、８ｍｍの幅に
スリットし、８ｍｍビデオテ−プを製造した。

【００６９】評価方法 ＜磁性層の厚み測定方法＞磁気記録媒体の長手方向に渡
ってダイアモンドカッターで約０．１μｍの厚みに切り
出し、透過型電子顕微鏡で倍率３万倍で観察し、その写
真撮影を行った。写真のプリントサイズはＡ４版であ
る。その後、磁性層、非磁性層の強磁性粉末や非磁性粉
末の形状差に着目して界面を目視判断して黒く縁どり、
かつ磁性層表面も同様に黒く縁どった。その後、Ｚｅｉ
ｓｓ社製画像処理装置ＩＢＡＳ２にて縁とりした線の間
隔を測定した。試料写真の長さが２１ｃｍの範囲に渡
り、測定点を点取って測定した。その際の測定値の単純
加算平均値を磁性層の厚みとした。

【００７０】＜ＢＥＴ法による比表面積＞カンターソー
プ（ＵＳカンタークロム社製）を用いた。２５０℃，３
０分間窒素雰囲気で脱水後ＢＥＴ一点法（分圧０．３
０）で測定した。

【００７１】＜磁気特性Ｈｃ，Ｂｒ、角型比＞振動資料
型磁束計（東英工業製）を用い、Ｈｍ１０ｋOeで測定し
た。

【００７２】＜中心線平均表面粗さ＞ＷＹＫＯ社製ＴＯ
ＰＯ３Ｄを用いて、媒体表面をＭＩＲＡＵ法で約２５０
ｎｍ×２５０ｎｍの面積のＲａを測定した。測定波長は
約６５０ｎｍで球面補正、円筒補正を加えている。本方
式は光干渉にて測定する非接触の表面粗さ計である。

【００７３】＜ＳＴＭｒｍｓ平均表面粗さ＞ＳＴＭの測
定はDigital Instrument社のNanoscopeIIを用い、トン
ネル電流が10nA、ハ゛イアス電圧が400mVの条件で、６μm×
６μmの範囲をスキャンした。表面粗さはこの範囲のＲr
msを以下の式１により求めて比較した。

【００７４】

【数１】

【００７５】＜ラフネスファクター＞透過型電子顕微鏡
により求めた平均粒子径による表面積Ｓで、ＢＥＴ法に
よるＮ₂吸着比表面積ＳBETを除した値である。

【００７６】＜強磁性粉末、非磁性粉末の粒子径＞透過
型電子顕微鏡写真を撮影し、その写真から強磁性粉末の
短軸径と長軸径とを直接読みとる方法と画像解析装置カ
ールツァイス社製ＩＢＡＳＳ１で透過型顕微鏡写真をト
レースして読みとる方法とを適宜併用して平均粒子径を
求めた。

【００７７】＜強磁性粉末結晶子サイズ＞Ｘ線回折によ
り（４，４，０）面と（２，２，０）面の回折線の半値
幅のひろがり分から求めた。

【００７８】＜電磁変換特性＞ （１）７ＭＨｚ出力 富士写真フィルム（株）製FUJIX８、８ｍｍヒ゛テ゛オテ゛ッキを用い
て７MHz信号を記録し、この信号を再生したときの７MHz
信号再生出力をオシロスコーフ゜で測定した。レファレンスは富
士写真フィルム（株）製８ミリテープＳＡＧ、Ｐ６−１
２０である。 （２）Ｃ／Ｎ比 富士写真フィルム（株）製FUJIX８、８ｍｍヒ゛テ゛オテ゛ッキを用い
て７MHz信号を記録し、この信号をを再生したときの６M
Hzで発生するノイズをスヘ゜クトラムアナライサ゛-で測定し、このノ
イズに対する再生信号の比を測定した。

【００７９】＜走行耐久性＞試料を２３℃、７０％ＲＨ
雰囲気で富士写真フィルム社製８ｍｍビデオデッキＦＵＪＩ
Ｘ８、１０台で１００回走行させた。 その間、出力低
下を測定し、また、走行後のデッキ内各部の汚れとエッ
ジダメージを評価した。 ○：出力低下が３ｄＢ以内であり、デッキ内各部の汚れ
が目視で認められない。 △：出力低下が３ｄＢ以内で
あるが、デッキ内各部の汚れが目視で明らかに多いと認
められる。 ×：出力低下が３ｄ以上であり、デッキ内各部の汚れも
多い。 以上より得られた結果を表１から表３にまとめた。

【００８０】

【表１】

【００８１】

【表２】

【００８２】

【表３】

【００８３】表１から表３の結果からわかるように、本
発明の磁気記録媒体はいずれも７ＭＨｚの出力が７ＭＨ
ｚ以上と高く、Ｃ／Ｎ比も６．５以上で良好な電磁変換
特性を示し、かつ走行耐久性も２３℃、７０％ＲＨ雰囲
気で８ｍｍビデオデッキ、１０台で１００回走行させて
も、出力低下が３ｄＢ以内であり、デッキ内各部の汚れ
が目視で認められず良好であった。

【００８４】

【発明の効果】本発明は非磁性可撓性支持体上に主とし
て非磁性粉末と結合剤とを含む下層非磁性層を設け、そ
の上に少なくとも強磁性粉末と結合剤とを含む上層の磁
性層を設けた磁気記録媒体において、前記上層磁性層の
厚みが１μｍ以下であり、かつ上層磁性層に含まれるモ
ース硬度６以上の非磁性粉末Ａの平均一次粒子径が磁性
層厚みより小さく、その値が０．０２μｍ以上０．２２
μｍ以下であり、且つ前記下層非磁性層の厚みが１μｍ
以上であり、その中に少なくとも非磁性粉末Ｂ：平均粒
子径０．０１〜０．０８μｍの無機質粉末、Ｃ：平均粒
子径０．１５〜１．０μｍ、モース硬度６以上の非磁性
粉末の２種類を含むことにより７ＭＨｚの出力やＣ／Ｎ
比などの電磁変換特性が良好で、かつ繰り返し走行によ
るエッジダメージの少ない走行耐久性に優れた磁気記録
媒体が得られる。

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 非磁性可撓性支持体上に主として非磁性
   粉末と結合剤とを含む下層非磁性層を設け、その上に少
   なくとも強磁性粉末と結合剤とを含む上層の磁性層を設
   けた磁気記録媒体において、前記上層磁性層の厚みが１
   μｍ以下であり、かつ上層磁性層に含まれるモース硬度
   ６以上の非磁性粉末Ａの平均一次粒子径が磁性層厚みよ
   り小さく、その値が０．０２〜０．２２μｍであり、且
   つ前記下層非磁性層の厚みが１μｍ以上であり、その中
   に少なくとも非磁性粉末Ｂ：平均粒子径０．０１〜０．
   ０８μｍの無機質粉末、非磁性粉末Ｃ：平均粒子径０．
   １５〜１．０μｍ、モース硬度６以上の２種類の非磁性
   粉末を含むことを特徴とする磁気記録媒体。
2. 【請求項２】 前記下層非磁性層の厚みが前記上層磁性
   層の厚みより厚く、前記下層非磁性層中に含まれる非磁
   性粉末Ｃの平均粒子径が磁性層中に含まれるモース硬度
   ６以上の非磁性粉末Ａの平均粒子径よりも０．０４μｍ
   以上大きいことを特徴とする請求項第１項記載の磁気記
   録媒体。
3. 【請求項３】 前記下層非磁性層と少なくとも前記下層
   磁性層はウェットオンウェット塗布方式で形成されたも
   のであることを特徴とする請求項第１項記載の磁気記録
   媒体。
4. 【請求項４】 前記下層非磁性層に含まれる非磁性粉末
   Ｂが二酸化チタン、硫酸バリウム、酸化亜鉛、α酸化鉄
   の中の少なくとも１種であることを特徴とする請求項第
   １項記載の磁気記録媒体。
5. 【請求項５】 前記上層磁性層中に含まれる非磁性粉末
   Ａがα−Ａｌ₂Ｏ₃、γ−Ａｌ₂Ｏ₃、Ｃｒ₂Ｏ₃、ダイアモ
   ンドの中から選ばれる１種を主成分とすることを特徴と
   する請求項第１項記載の磁気記録媒体。
6. 【請求項６】 前記非磁性粉末ＡのＢＥＴ法による比表
   面積が１０〜３０m²/gであり、前記非磁性粉末ＢのＢＥ
   Ｔ法による比表面積が２０〜１００m²/g、前記非磁性粉
   末ＣのＢＥＴ法による比表面積が２〜１５m²/gであるこ
   とを特徴とする請求項第１項記載の磁気記録媒体。
7. 【請求項７】 前記上層磁性層に含まれる強磁性粉末が
   Ｆｅを主体とする合金磁性粉末もしくはマグネトプラン
   バイト型六方晶フェライトであることを特徴とする請求
   項第１項記載の磁気記録媒体。
8. 【請求項８】 前記上層磁性層に含まれる非磁性粉末Ａ
   が強磁性粉末１００重量部に対して１〜２０重量部含ま
   れ、前記下層磁性層に含まれる非磁性粉末Ｃが非磁性粉
   末Ｂ１００重量部に対して、３〜３０重量部含まれるこ
   とを特徴とする請求項第１項記載の磁気記録媒体。