JP2003132517A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】強磁性六方晶系フェライト粉末を含む磁性層を
有し、走行耐久性に優れ、しかも電磁変換特性が良好で
高密度記録に好適な磁気記録媒体を提供する。 【解決手段】非磁性支持体の面に、非磁性粉末および結
合剤を含む非磁性層と強磁性六方晶系フェライト粉末お
よび結合剤を含む磁性層とをこの順に有し、（１）強磁
性六方晶系フェライト粉末の平均板径が１０〜４０ｎｍ
であり、かつ該フェライト粉末の抗磁力が２０００〜５
０００Ｏｅ（≒１５９〜３９８ｋＡ／ｍ）であり、
（２）結合剤が電子線硬化性官能基を有する化合物の硬
化物を含み、（３）磁性層がダイヤモンドを含有し、か
つ磁性層の厚さが０．２０μｍ未満０．０１μｍ以上で
ある磁気記録媒体。

Description

【発明の詳細な説明】 【０００１】 【発明の属する技術分野】本発明は六方晶系フェライト
粉末を含む薄層磁性層を有する高密度記録用の塗布型磁
気記録媒体に関する。 【０００２】 【従来の技術】塗布型の磁気記録媒体は、ポリエチレン
テレフタレート等の非磁性支持体と、この支持体に、強
磁性粉末を樹脂バインダー液中に均一に分散した磁性塗
料を塗布してなる磁性層とで構成されている。上記磁性
粉末としては従来γ−Ｆｅ₂Ｏ₃等の針状強磁性粉末が用
いられてきたが、近年では記録密度の向上を狙って六方
晶フェライトの超微粒子磁性粉末を用いたものが開発さ
れており一部実用化も進められている。 【０００３】ところで、六方晶フェライトの微粒子を磁
性粉末に用いる場合は、当該微粒子の形状が板状である
ために磁気的相互作用が大きいこと、及び磁性粉末一つ
一つが単結晶であり、多結晶の集合体で形成される従来
の針状粒子に比べ粉末表面凹凸等の微細構造を取りにく
いことに起因する分散の困難さ、ならびに分散安定性の
低さがある。このために、塗布して得られる媒体の表面
は高記録密度に十分適した表面精度に仕上げることが困
難である。そこで、この問題に対処するために従来種々
の提案がなされてきており、特公平６−４０３７９号、
同６−２８１０９号、同７−６０５０６号、特開平５−
２７４６７０号などの各公報には、放射線硬化型樹脂を
磁性層に使用することにより表面性を向上させようとす
る技術が記載がされている。また、特開平６−５２５４
１号公報などにはモース硬度８以上の研磨剤を磁性層に
用い、その突起高さを規定し、走行耐久性を有した磁気
記録媒体が記載されている。 【０００４】しかしながら、上記従来技術では、磁気記
録媒体の耐久性が十分とは言えず、また高密度記録用と
しては電磁変換特性が不十分であった。例えば、上記特
公平７−６０５０６号公報では、粒径０．０２〜０．２
μｍ、板状比２〜６のバリウムフェライト磁性体と放射
性硬化型バインダーを含有する膜厚０．４〜１．８μｍ
の磁性層を有し、垂直方向の角形比と保磁力Ｈｃを規定
した高い記録密度特性、オーバーライト特性、耐久走行
性に優れた磁気記録媒体を提案しているが、用いられて
いるバリウムフェライト磁性体のＨｃは８００Ｏｅ未
満、特に４５０〜７５０Ｏｅが好ましいという記載があ
り、磁性層厚も０．４〜１．８μｍのため、記録密度特
性を表すＤ５０はせいぜい６５ＫＦＣＩと十分な値とな
っていない。 【０００５】 【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、強磁
性六方晶系フェライト粉末を含む磁性層を有し、走行耐
久性に優れ、しかも電磁変換特性が良好で高密度記録に
好適な磁気記録媒体を提供することにある。 【０００６】 【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、下
記構成の磁気記録媒体によって達成される。１．非磁性
支持体上の少なくとも一方の面に、非磁性粉末および結
合剤を含む非磁性層と強磁性体である強磁性六方晶系フ
ェライト粉末および結合剤を含む磁性層とをこの順に有
する磁気記録媒体であって、（１）強磁性六方晶系フェ
ライト粉末の平均板径が１０〜４０ｎｍであり、かつ該
フェライト粉末の抗磁力が２０００〜５０００Ｏｅ（≒
１５９〜３９８ｋＡ／ｍ）であり、（２）結合剤が電子
線硬化性官能基を有する化合物の硬化物を含み、（３）
磁性層がダイヤモンドを含有し、かつ磁性層の厚さが
０．２０μｍ未満０．０１μｍ以上である、ことを特徴
とする磁気記録媒体。２．支持体上に非磁性層用塗布液
を塗布・乾燥後、磁性層用塗布液を塗布することで、非
磁性層および磁性層が形成されたことを特徴とする上記
１に記載の磁気記録媒体。 【０００７】六方晶フェライト系磁性体の平均板径を１
０〜４０ｎｍ、かつ抗磁力を２０００〜５０００Ｏｅ
（≒１５９〜３９８ｋＡ／ｍ）に設定し、磁性層がダイ
ヤモンドを含有し、かつ磁性層の厚みを０．２０μｍ未
満に設定することにより、Ｄ５０及びオーバーライト特
性が大幅に向上し、高密度記録に優れる結果となる。高
い記録密度特性とオーバーライト特性を確保するために
は、磁性層厚は薄くするのが好ましいが、六方晶フェラ
イト系磁性体微粒子を極薄磁性層に塗布した場合、一般
には大幅な走行耐久性の劣化が起こる。そこで本発明で
は、下層に非磁性層を設け、さらにダイヤモンドを磁性
層に含有させることにより六方晶フェライト粉末の充填
度を向上させると共に、電子線硬化型化合物を磁性層形
成に用い、電子線照射処理による硬化を行うことで、磁
性層塗膜の物理的強度を向上させている。その結果とし
て、本発明では、大幅に走行耐久性が改善されるととも
に電磁変換特性が良好で高密度記録に優れた塗布型磁気
記録媒体を提供することができる。特にウェット・オン
・ドライ（wet on dry）方式で磁性層および非磁性層を
形成した場合にこの効果は大きくなる。 【０００８】 【発明の実施の形態】以下、本発明の磁気記録媒体の構
成要素を要素毎に詳細に説明する。 ［磁性層］本発明の磁気記録媒体は、磁性層を支持体の
片面だけでも、両面に設けてもよい。支持体上に設けら
れている磁性層は単層でも互いに組成の異なる複層でも
よい。また、本発明の磁気記録媒体は、支持体上に非磁
性層（下層ともいう）を設け、下層の上に磁性層を設け
た構成である。この場合の磁性層を上層または上層磁性
層ともいう。上層は下層を同時または逐次塗布後、下層
が湿潤状態の内に設けるウェット・オン・ウェット（Ｗ
／Ｗ）方式でも、下層が乾燥した後に設けるウェット・
オン・ドライ（Ｗ／Ｄ）方式でも形成できる。なかで
も、Ｗ／Ｄ方式は上層と下層の界面の変動が少なくＤ５
０などの性能が上昇し、好ましい。 【０００９】［六方晶系フェライト粉末］磁性層に使用
する強磁性六方晶系フェライト粉末について説明する。
本発明において六方晶系フェライトとしては、鉄あるい
は鉄を置換した金属の平均価数が３価であるＢａＦｅ₁₂
Ｏ₁₉に代表される結晶構造もしくは基本組成がＭ型マグ
ネトプランバイト六方晶系フェライト；２価金属（以下
Ｍという）の存在するＢａＭ₂Ｆｅ₁₆Ｏ₂₇に代表される
結晶構造もしくは基本組成がＷ型マグネトプランバイト
六方晶系フェライト；ＢａＭＦｅ₆Ｏ₁₁に代表される結
晶構造もしくは基本組成がＹ型マグネトプランバイト六
方晶系フェライト；Ｂａ₃Ｍ₂Ｆｅ ₂₄Ｏ₄₁に代表される結
晶構造もしくは基本組成がＺ型マグネトプランバイト六
方晶系フェライト；さらにはこれら六方晶系フェライト
の表面にスピネル系フェライトをエピタキシャルに複合
化させたいわゆる複合タイプの六方晶系フェライトが用
いられる。 【００１０】ここに六方晶フェライトの組成式中のＭ、
およびスピネル系フェライトを構成する２価の金属とし
ては、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｍｇ、ＣｕおよびＺｎ
が例示される。 【００１１】とりわけ、Ｗ型および複合タイプの六方晶
系フェライトでは、バルクの組成あるいは粉末表面の組
成において、アルカリ的な金属が少なく遷移金属および
酸素が豊富であるため、粉末表面とバインダーとの酸−
塩基による界面化学的相互作用が乏しくなり、かつ両系
とも磁化量が大きく磁気的凝集力に富んでいる。本発明
は、このような系に対しても有効に作用する。 【００１２】本発明に用いる六方晶系フェライト粉末の
平均板径は、１０〜４０ｎｍであり、好ましくは１５〜
３０ｎｍ、より好ましくは２０〜３０ｎｍである。平均
板径が１０ｎｍ未満では磁化量の低下が著しいため記録
媒体には適さず、４０ｎｍを越えるとノイズ成分が大き
くなり高密度記録には適さない。ここで板径とは六方晶
系フェライト磁性粉の六角柱底面の六角径の最大径を意
味し、平均板径とはその算術平均である。 【００１３】一方、六方晶系フェライト粉末の厚さに対
する板径の比で表わされる板状比の算術平均である平均
板状比は、通常２〜１０、好ましくは２〜７、さらに好
ましくは２〜５である。当該比が、２未満では磁性粉末
の製造が困難であり、１０を越えると磁気的凝集力が分
散力に比べて優勢となるため、分散が困難となるからで
ある。 【００１４】本発明で用いられる六方晶系フェライト粉
末は、高いＤ５０値を得るために、抗磁力Ｈｃが１５９
〜３９８ｋＡ／ｍ（２０００〜５０００Ｏｅ）、好まし
くは１５９〜３１８ｋＡ／ｍ（２０００〜４０００Ｏ
ｅ）、より好ましくは１９９〜２７９ｋＡ／ｍ（２５０
０〜３５００Ｏｅ）である。抗磁力Ｈｃが３９８ｋＡ／
ｍを超えるとヘッドにて十分な信号の書き込みができな
くなり、１５９ｋＡ／ｍ未満であると高い線記録密度に
おける出力が低下しＤ５０値が低下することとなり、い
ずれも好ましくない。 【００１５】上記六方晶フェライト粉末の製造方法とし
ては、ガラス結晶化法、水熱合成法、共沈法、フラック
ス法などいかなる方法によってもよい。いずれの方法に
おいても、形状分布および粒径分布がシャープになる条
件を見い出すことが高密度達成には重要である。六方晶
フェライト粉末は、飽和磁化σｓが４０〜８０Ａ・ｍ²
／ｋｇ、抗磁力Ｈｃが１５９〜３９８ｋＡ／ｍ、ＢＥＴ
法による比表面積（Ｓ_BET）が４０〜８０ｇ／ｍ²とし、
該磁性粉のｐＨを用いる結合剤との組み合わせにより最
適化することが好ましいが、通常、ｐＨ４〜１２、好ま
しくは５．５〜１０である。 【００１６】［結合剤］ （電子線硬化性官能基を有する化合物）本発明の磁性層
形成用の塗布層は、架橋剤として電子線硬化性官能基を
有する化合物(以下、「電子線硬化型化合物」とも言う)
を含む。本発明で用いる電子線硬化型化合物は、電子線
によるエネルギーを与えない限り反応が進まない。その
ため電子線硬化型化合物を含む塗布液は、電子線を照射
しない限り粘度が安定しており、高い塗膜平滑性を得る
ことができる。また、電子線による高いエネルギーによ
り瞬時に反応が進むため架橋密度が高く、高い塗膜強度
を得ることができる。上記電子線硬化型化合物は、２官
能以上の電子線硬化性官能基を有することが、高密度の
架橋を形成できるため好ましい。また、分子量は、２０
０〜２０００の範囲であることが好ましい。分子量が上
記範囲であると、比較的低分子量であるので、カレンダ
ー工程において塗膜が流動し易く成形性が高く、平滑な
塗膜を実現することができる。 【００１７】２官能以上の電子線硬化型化合物として
は、アクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタク
リル酸エステル類、メタクリル酸アミド類、アリル化合
物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類等を挙げるこ
とができる。２官能の電子線硬化型化合物の具体例とし
ては、エチレングリコールジアクリレート、プロピレン
グリコールジアクリレート、ブタンジオールジアクリレ
ート、ヘキサンジオールジアクリレート、ジエチレング
リコールジアクリレート、トリエチレングリコールジア
クリレート、テトラエチレングリコールジアクリレー
ト、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリプロ
ピレングリコールジアクリレート、エチレングリコール
ジメタクリレート、プロピレングリコールジメタクリレ
ート、ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオ
ールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタク
リレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、
テトラエチレングリコールジメタクリレート、ネオペン
チルグリコールジメタクリレート、トリプロピレングリ
コールジメタクリレート等に代表される脂肪族ジオール
にアクリル酸、メタクリル酸を付加させたものを用いる
ことができる。また、ポリエチレングリコール、ポリプ
ロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等
のポリエーテルポリオールに、アクリル酸、メタクリル
酸を付加したポリエーテルアクリレート、ポリエーテル
メタクリレートや公知の二塩基酸グリコールから得られ
たポリエステルポリオールに、アクリル酸、メタクリル
酸を付加させたポリエステルアクリレート、ポリエステ
ルメタクリレートも用いることができる。公知のポリオ
ール、ジオールとポリイソシアネートを反応させたポリ
ウレタンにアクリル酸、メタクリル酸を付加させたポリ
ウレタンアクリレート、ポリウレタンメタクリレートを
用いてもよい。ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、
水素化ビスフェノールＡ、水素化ビスフェノールＦやこ
れらのアルキレンオキサイド付加物にアクリル酸、メタ
クリル酸を付加させたものや、イソシアヌル酸アルキレ
ンオキサイド変性ジアクリレート、イソシアヌル酸アル
キレンオキサイド変性ジメタクリレート、トリシクロデ
カンジメタノールジアクリレート、トリシクロデカンジ
メタノールジメタクリレート等の環状構造を有するもの
も用いることができる。 【００１８】３官能の電子線硬化型化合物の具体例とし
ては、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリ
メチロールエタントリアクリレート、トリメチロールプ
ロパンのアルキレンオキサイド変成トリアクリレート、
ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリ
スリトールトリアクリレート、イソシアヌル酸アルキレ
ンオキサイド変成トリアクリレート、プロピオン酸ジペ
ンタエリスリトールトリアクリレート、ヒドロキシピバ
ルアルデヒド変成ジメチロールプロパントリアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリ
メチロールプロパンのアルキレンオキサイド変成トリメ
タクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレー
ト、ジペンタエリスリトールトリメタクリレート、イソ
シアヌル酸アルキレンオキサイド変成トリメタクリレー
ト、プロピオン酸ジペンタエリスリトールトリメタクリ
レート、ヒドロキシピバルアルデヒド変成ジメチロール
プロパントリメタクリレート等を用いることができる。 【００１９】４官能以上の電子線硬化型化合物の具体例
としては、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、
ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジペン
タエリスリトールペンタアクリレート、プロピオン酸ジ
ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエ
リスリトールヘキサアクリレート、フォスファゼンのア
ルキレンオキサイド変成ヘキサアクリレート等を用いる
ことができる。 【００２０】中でも、具体例として好ましいものは、分
子量２００〜２０００の３官能以上のアクリレート化合
物であり、更に好ましいものはトリメチロールプロパン
トリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリ
レート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートである。 【００２１】本発明に使用される電子線硬化型化合物
は、ポリマー型の結合剤と併用されることが好ましい。
併用される結合剤としては従来公知の熱可塑性樹脂、熱
硬化性樹脂、反応型樹脂やこれらの混合物が使用され
る。熱可塑性樹脂としては、ガラス転移温度が−１００
〜１５０℃、数平均分子量が１，０００〜２００，００
０、好ましくは１０，０００〜１００，０００、重合度
が約５０〜１０００程度のものである。このような例と
しては、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルアルコール、
マレイン酸、アクリル酸、アクリル酸エステル、塩化ビ
ニリデン、アクリロニトリル、メタクリル酸、メタクリ
ル酸エステル、スチレン、ブタジエン、エチレン、ビニ
ルブチラール、ビニルアセタール、ビニルエ−テル等を
構成単位として含む重合体または共重合体、ポリウレタ
ン樹脂、各種ゴム系樹脂がある。また、熱硬化性樹脂ま
たは反応型樹脂としてはフェノール樹脂、エポキシ樹
脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹
脂、アルキド樹脂、アクリル系反応樹脂、ホルムアルデ
ヒド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ−ポリアミド樹
脂、ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポリマーの
混合物、ポリエステルポリオールとポリイソシアネート
の混合物、ポリウレタンとポリイソシアネートの混合物
等があげられる。これらの樹脂については朝倉書店発行
の「プラスチックハンドブック」に詳細に記載されてい
る。以上の樹脂は単独または組み合わせて使用できる
が、好ましいものとして塩化ビニル樹脂、塩化ビニル酢
酸ビニル共重合体、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコ
ール共重合体、塩化ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸共
重合体、から選ばれる少なくとも１種とポリウレタン樹
脂の組み合わせたものがあげられる。 【００２２】ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポ
リウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテル
ポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレ
タン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン、ポ
リカプロラクトンポリウレタンなど公知のものが使用で
きる。ここに示したすべての結合剤について、より優れ
た分散性と耐久性を得るためには必要に応じ、−ＣＯＯ
Ｍ，−ＳＯ₃Ｍ、−ＯＳＯ₃Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂、−
Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂、（以上につきＭは水素原子また
はアルカリ金属塩基）、−ＮＲ₂、−Ｎ⁺Ｒ₃（Ｒは炭化
水素基）、エポキシ基、−ＳＨ、−ＣＮ、などから選ば
れる少なくともひとつ以上の極性基を共重合または付加
反応で導入したものを用いることが好ましい。このよう
な極性基の量は１０^-1〜１０^-8モル／ｇであり、好まし
くは１０^-2〜１０^-6モル／ｇである。本発明において、
ポリウレタンを用いる場合はガラス転移温度が通常、−
５０〜１５０℃、好ましくは０〜１００℃、特に好まし
くは３０〜１００℃、破断伸びが１００〜２０００％、
破断応力は通常、０．０５〜１０Ｋｇ／ｍｍ²（≒０．
４９〜９８ＭＰａ）、降伏点は０．０５〜１０Ｋｇ／ｍ
ｍ²（≒０．４９〜９８ＭＰａ）が好ましい。このよう
な物性を有することにより、良好な機械的特性を有する
塗膜が得られる。 【００２３】本発明に用いられるこれらの結合剤の具体
的な例としては塩化ビニル系共重合体としてユニオンカ
ーバイト社製ＶＡＧＨ，ＶＹＨＨ，ＶＭＣＨ，ＶＡＧ
Ｆ，ＶＡＧＤ，ＶＲＯＨ，ＶＹＥＳ，ＶＹＮＣ，ＶＭＣ
Ｃ，ＸＹＨＬ，ＸＹＳＧ，ＰＫＨＨ，ＰＫＨＪ，ＰＫＨ
Ｃ，ＰＫＦＥ、日信化学工業社製ＭＰＲ−ＴＡ，ＭＰＲ
−ＴＡ５，ＭＰＲ−ＴＡＬ，ＭＰＲ−ＴＳＮ，ＭＰＲ−
ＴＭＦ，ＭＰＲ−ＴＳ，ＭＰＲ−ＴＭ，ＭＰＲ−ＴＡ
Ｏ、電気化学社製１０００Ｗ，ＤＸ８０，ＤＸ８１，Ｄ
Ｘ８２，ＤＸ８３，１００ＦＤ、日本ゼオン社製ＭＲ−
１０４，ＭＲ−１０５，ＭＲ１１０，ＭＲ１００，ＭＲ
５５５，４００Ｘ−１１０Ａ、ポリウレタン樹脂として
日本ポリウレタン社製ニッポランＮ２３０１，Ｎ２３０
２，Ｎ２３０４、大日本インキ社製パンデックスＴ−５
１０５，Ｔ−Ｒ３０８０，Ｔ−５２０１、バーノックＤ
−４００，Ｄ−２１０−８０、クリスボン６１０９，７
２０９、東洋紡社製バイロンＵＲ８２００，ＵＲ８３０
０，ＵＲ−８７００，ＲＶ５３０，ＲＶ２８０、大日精
化社製ポリカーボネートポリウレタン、ダイフェラミン
４０２０，５０２０，５１００，５３００，９０２０，
９０２２，７０２０、三菱化成社製ポリウレタン、ＭＸ
５００４、三洋化成社製ポリウレタン、サンプレンＳＰ
−１５０、旭化成社製ポリウレタン、サランＦ３１０，
Ｆ２１０などが挙げられる。 【００２４】磁性層の形成のために用いられる結合剤
は、六方晶系フェライト粉末に対し、そして本発明では
非磁性層も設けられるが、その形成のために用いられる
結合剤は、非磁性無機粉末に対し、５〜５０質量％の範
囲、好ましくは１０〜３０質量％の範囲で用いられる。
結合剤全量に対して、電子線硬化型化合物は１〜３０質
量％、これらを組み合わせて用いることが好ましいが、
例えば、微量の脱塩素によりヘッド腐食が起こる場合
は、ポリウレタンと電子線硬化型化合物のみを使用する
ことも可能である。 【００２５】本発明の磁気記録媒体は二層以上で構成さ
れているが、結合剤量、結合剤中に占める塩化ビニル系
樹脂、ポリウレタン樹脂、電子線硬化型化合物、あるい
はそれ以外の樹脂の量、磁性層を形成する各樹脂の分子
量、極性基量、あるいは先に述べた樹脂の物理特性など
を必要に応じ各層とで変えることはもちろん可能であ
り、むしろ各層で最適化すべきであり、多層磁性層に関
する公知技術を適用できる。例えば、各層でバインダー
量を変更する場合、磁性層表面の擦傷を減らすためには
磁性層のバインダー量を増量することが有効であり、ヘ
ッドに対するヘッドタッチを良好にするためには、非磁
性層のバインダー量を多くして柔軟性を持たせることが
できる。 【００２６】［研磨剤］本発明の磁気記録媒体には、研
磨剤として、ダイヤモンドを用いる。ダイヤモンドの少
量の使用で耐久性が確保でき、磁性体凝集、他の磁性層
欠陥への悪影響が極端に少なくなる。結果的にノイズを
格段に改良でき、更に出力も若干増加し、従来にない優
れたＳＮ比と耐久性を両立する磁気記録媒体を得ること
ができる。 【００２７】研磨剤として使用するダイヤモンドは、平
均粒径が好ましくは０．０３〜１．０μｍで、更に好ま
しくは０．０５〜０．３μｍである。平均粒径が０．０
３μｍ未満では添加量に対する耐久性向上の効果が低く
なる。１．０μｍより大きいと耐久性は優れるもののノ
イズが高くなる。本発明においては、各ダイヤモンドの
最大径をもって粒径とし、平均粒径とは電子顕微鏡から
無作為に抽出される５００個の粒子に対する測定値の平
均値を指す。 【００２８】ダイヤモンドの添加量は、強磁性六方晶フ
ェライト粉末に対して、好ましくは０．０１〜５質量
％、更に好ましくは０．０３〜３．００質量％の範囲で
ある。０．０１質量％未満では、耐久性の確保が困難に
なり、５質量％を越えるとダイヤモンド添加によるノイ
ズ低減効果が少なくなる。ノイズ、耐久性の観点からダ
イヤモンドの添加量及び平均粒径は、上記範囲が好まし
いが、ノイズの観点からは、ダイヤモンドの添加量はで
きるだけ少ない方が好ましく、本発明の磁気記録媒体
は、磁気記録再生装置にあったダイヤモンドの添加量、
その平均粒径を上記範囲から適宜選定することが好まし
い。 【００２９】また、ダイヤモンドの粒度分布としては、
粒径が平均粒径の２００％以上の粒子個数がダイヤモン
ド全個数中の５％以下であり、粒径が平均粒径の５０％
以下の粒子個数がダイヤモンド全個数中の２０％以下で
あることが好ましい。本発明に使用されるダイヤモンド
の粒径の最大値は、通常、３．００μｍ、好ましくは
２．００μｍ程度であり、その最小径は通常、０．００
５μｍ、好ましくは０．０１μｍ程度である。 【００３０】粒度分布の測定は、上記の粒子径の測定の
際に平均粒径を基準にその個数を計数して求める。ダイ
ヤモンドは、その粒度分布も耐久性とノイズに影響す
る。粒度分布が上記範囲より広いと前述の平均粒径に相
当する効果がずれる。即ち、粒径が大きすぎるものが多
いとノイズを増大させたり、ヘッドを傷つけたりする。
また、微小なものが多いと研磨効果が不充分となる。ま
た、極端に粒度分布の狭いものはダイヤモンドの価格が
高くなり、上記範囲とすることがコスト的にも有利であ
る。ダイヤモンド粒子は、高硬度であり、且つ粒度分布
がシャープで微粒子のダイヤモンド粒子を使用すると従
来の研磨剤よりも含有量が少なくて同じ程度の研磨効果
を期待できるので、ノイズの観点から有利である。 【００３１】更に、本発明ではダイヤモンドに、従来使
用されている研磨剤、例えば、アルミナ、ＳｉＣ等の研
磨剤を併用することもできるが、ダイヤモンドに対して
５００質量％以下とすることが好ましい。耐久性とＳＮ
比への効果は、少量のダイヤモンドのみの方が良好だ
が、コスト他の理由でアルミナ、ＳｉＣ等のダイヤモン
ド以外の研磨剤を加えてもよい。この場合もダイヤモン
ドを含むためにアルミナ単独で耐久性に必要な添加量よ
りもかなり減量することができ、耐久性の確保及びノイ
ズの低減の観点からも好ましい。 【００３２】本発明に用いられるダイヤモンドとして
は、天然ダイヤモンドは高価であり通常人工ダイヤモン
ドが使用される。ダイヤモンドの製法としては、黒鉛と
鉄、Ｃｏ、Ｎｉ等を介し高温高圧下で生成する方法、黒
鉛またはフラン樹脂炭素を高温高圧下で反応させる静的
合成法と呼ばれるものの他動的合成法、気相合成法等が
ある。本発明はダイヤモンドの製法を選ばない。工業的
には切削、研磨として使用したダイヤモンドを不純物を
弁別洗浄したものを用い、２次使用することも可能であ
る。本発明ではダイヤモンド粒子の分布が上記範囲であ
ることが好ましい。ダイヤモンド粒子を分級する方法と
しては分散液から遠心力を用いる方法、特殊なメッシュ
フィルターを用いる方法等がある。 【００３３】ダイヤモンドは、上述したように他の研磨
剤と組み合わすこともできる。他の研磨剤として、上記
アルミナ研磨剤、例えば、α化率９０％以上のα−アル
ミナ、β−アルミナ、その他、炭化ケイ素、酸化クロ
ム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダム、窒化珪
素、炭化珪素、チタンカ−バイト、酸化チタン、二酸化
珪素、窒化ホウ素、など主としてモース硬度６以上の公
知の材料が単独または組み合わせで使用される。また、
これらの研磨剤同士の複合体（研磨剤を他の研磨剤で表
面処理したもの）を使用してもよい。これらの研磨剤に
は主成分以外の化合物または元素が含まれる場合もある
が主成分が９０％以上であれば効果にかわりはない。こ
れら研磨剤の粒子サイズは０．０１〜２μｍが好まし
く、特に電磁変換特性を高めるためには、その粒度分布
が狭い方が好ましい。また耐久性を向上させるには必要
に応じて粒子サイズの異なる研磨剤を組み合わせたり、
単独の研磨剤でも粒径分布を広くして同様の効果をもた
せることも可能である。タップ密度は０．３〜２ｇ／ｃ
ｃ、含水率は０．１〜５％、ｐＨは２〜１１、比表面積
は１〜３０ｍ²／ｇ、が好ましい。本発明に用いられる
研磨剤の形状は針状、球状、サイコロ状、のいずれでも
良いが、形状の一部に角を有するものが研磨性が高く好
ましい。具体的には住友化学社製ＡＫＰ−１２，ＡＫＰ
−１５，ＡＫＰ−２０，ＡＫＰ−３０，ＡＫＰ−５０，
ＨＩＴ２０，ＨＩＴ−３０，ＨＩＴ−５５，ＨＩＴ６
０，ＨＩＴ７０，ＨＩＴ８０，ＨＩＴ１００、レイノル
ズ社製ＥＲＣ−ＤＢＭ，ＨＰ−ＤＢＭ，ＨＰＳ−ＤＢ
Ｍ、不二見研磨剤社製ＷＡ１００００、上村工業社製Ｕ
Ｂ２０、日本化学工業社製Ｇ−５，クロメックスＵ２，
クロメックスＵ１、戸田工業社製ＴＦ１００，ＴＦ１４
０、イビデン社製ベータランダムウルトラファイン、昭
和鉱業社製Ｂ−３などが挙げられる。これらの研磨剤は
必要に応じ非磁性層に添加することもできる。非磁性層
に添加することで表面形状を制御したり、研磨剤の突出
状態を制御したりすることができる。これら磁性層、非
磁性層の添加する研磨剤の粒径、量はむろん最適値に設
定すべきである。 【００３４】［カーボンブラック］本発明の磁性層に使
用されるカーボンブラックはゴム用ファーネス、ゴム用
サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラック、等
を用いることができる。Ｓ _BETは５〜５００ｍ²／ｇ、Ｄ
ＢＰ吸油量は１０〜４００ｍｌ／１００ｇ、平均粒子径
は５ｎｍ〜３００ｎｍ、ｐＨは２〜１０、含水率は０．
１〜１０％、タップ密度は０．１〜１ｇ／ｃｃ、が好ま
しい。具体的には、ＷＯ９８／３５３４５に記載のもが
挙げられる。 【００３５】カーボンブラックは磁性層の帯電防止、摩
擦係数低減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあ
り、これらは用いるカーボンブラックにより異なる。従
って、本発明が多層構成の場合には各層でその種類、
量、組み合わせを変え、粒子径、吸油量、電導度、ｐＨ
などの先に示した諸特性をもとに目的に応じて使い分け
ることはもちろん可能であり、むしろ各層で最適化すべ
きものである。 【００３６】［非磁性層（下層）］次に、本発明の磁気
記録媒体で、支持体と磁性層との間に設けられる非磁性
層（下層）に関する詳細な内容について説明する。下層
は非磁性無機粉末と結合剤を主体とする。下層に用いら
れる非磁性無機粉末としては、例えば、金属酸化物、金
属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属
硫化物、等の無機質化合物から選択することができる。
無機化合物としては例えばα化率９０％以上のα−アル
ミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、θ−アルミナ、炭
化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、ヘ
マタイト、ゲータイト、コランダム、窒化珪素、チタン
カ−バイト、酸化チタン、二酸化珪素、酸化スズ、酸化
マグネシウム、酸化タングステン、酸化ジルコニウム、
窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸カルシウ
ム、硫酸バリウム、二硫化モリブデンなどが単独または
組み合わせで使用される。特に好ましいのは、粒度分布
の小ささ、機能付与の手段が多いこと等から、二酸化チ
タン、酸化亜鉛、酸化鉄、硫酸バリウムであり、更に好
ましいのは二酸化チタン、α−酸化鉄である。これら非
磁性無機粉末の平均粒子径は０．００５〜２μｍが好ま
しいが、必要に応じて平均粒子径の異なる非磁性無機粉
末を組み合わせたり、単独の非磁性無機粉末でも粒径分
布を広くして同様の効果をもたせることもできる。とり
わけ好ましいのは非磁性無機粉末の平均粒子径は０．０
１μｍ〜０．２μｍである。特に、非磁性無機粉末が粒
状金属酸化物である場合は、平均粒子径０．０８μｍ以
下が好ましく、針状金属酸化物である場合は、平均長軸
長が０．３μｍ以下が好ましく、０．２μｍ以下がさら
に好ましい。タップ密度は通常、０．０５〜２ｇ／ｍ
ｌ、好ましくは０．２〜１．５ｇ／ｍｌである。非磁性
無機粉末の含水率は通常、０．１〜５質量％、好ましく
は０．２〜３質量％、更に好ましくは０．３〜１．５質
量％である。非磁性無機粉末のｐＨは通常、２〜１１で
あるが、ｐＨは５．５〜１０の間が特に好ましい。非磁
性無機粉末のＳ_BETは通常、１〜１００ｍ²／ｇ、好まし
くは５〜８０ｍ²／ｇ、更に好ましくは１０〜７０ｍ²／
ｇである。非磁性無機粉末の結晶子サイズは０．００４
μｍ〜１μｍが好ましく、０．０４μｍ〜０．１μｍが
更に好ましい。ＤＢＰ（ジブチルフタレート）を用いた
吸油量は通常、５〜１００ｍｌ／１００ｇ、好ましくは
１０〜８０ｍｌ／１００ｇ、更に好ましくは２０〜６０
ｍｌ／１００ｇである。比重は通常、１〜１２、好まし
くは３〜６である。形状は針状、球状、多面体状、板状
のいずれでも良い。モース硬度は４以上、１０以下のも
のが好ましい。非磁性無機粉末のＳＡ（ステアリン酸）
吸着量は１〜２０μｍｏｌ／ｍ²、好ましくは２〜１５
μｍｏｌ／ｍ²、さらに好ましくは３〜８μｍｏｌ／ｍ²
である。ｐＨは３〜６の間にあることが好ましい。 【００３７】これらの非磁性無機粉末の表面には表面処
理によりＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、Ｓｎ
Ｏ₂、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＺｎＯ、Ｙ₂Ｏ₃が存在するが好まし
い。特に分散性に好ましいのはＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、Ｔ
ｉＯ₂、ＺｒＯ₂であるが、更に好ましいのはＡｌ₂Ｏ₃、
ＳｉＯ₂、ＺｒＯ₂である。これらは組み合わせて使用し
ても良いし、単独で用いることもできる。また、目的に
応じて共沈させた表面処理層を用いても良いし、先ずア
ルミナを存在させた後にその表層をシリカを存在させる
方法、またはその逆の方法を採ることもできる。また、
表面処理層は目的に応じて多孔質層にしても構わない
が、均質で密である方が一般には好ましい。本発明の下
層に用いられる非磁性無機粉末の具体的な例および製造
法としては、ＷＯ９８／３５３４５に記載のものが例示
される。 【００３８】下層にカーボンブラックを混合させて公知
の効果である表面電気抵抗Ｒｓを下げること、光透過率
を小さくすることができるとともに、所望のマイクロビ
ッカース硬度を得る事ができる。また、下層にカーボン
ブラックを含ませることで潤滑剤貯蔵の効果をもたらす
ことも可能である。カーボンブラックの種類はゴム用フ
ァーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチ
レンブラック、等を用いることができる。下層のカーボ
ンブラックは所望する効果によって、以下のような特性
を最適化すべきであり、併用することでより効果が得ら
れることがある。 【００３９】下層のカーボンブラックのＳ_BETは通常、
１００〜５００ｍ²／ｇ、好ましくは１５０〜４００ｍ²
／ｇ、ＤＢＰ吸油量は２０〜４００ｍｌ／１００ｇ、好
ましくは３０〜４００ｍｌ／１００ｇである。カーボン
ブラックの平均粒子径は通常、５ｎｍ〜８０ｎｍ、好ま
しくは１０〜５０ｎｍ、さらに好ましくは１０〜４０ｎ
ｍである。平均粒子径が８０ｎｍより大きいカーボンブ
ラックを少量含んでもかまわない。カーボンブラックの
ｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度
は０．１〜１ｇ／ｍｌが好ましい。 【００４０】下層に用いられるカーボンブラックの具体
的な例は、ＷＯ９８／３５３４５に記載のものが挙げら
れる。これらのカーボンブラックは上記非磁性無機粉末
（カーボンブラックは包含しない）に対して５０質量％
を越えない範囲、非磁性層総質量の４０％を越えない範
囲で使用できる。これらのカーボンブラックは単独、ま
たは組み合わせで使用することができる。本発明で使用
できるカーボンブラックは例えば「カーボンブラック便
覧」（カーボンブラック協会編）を参考にすることがで
きる。 【００４１】また下層には有機質粉末を目的に応じて、
添加することもできる。例えば、アクリルスチレン系樹
脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉
末、フタロシアニン系顔料が挙げられるが、ポリオレフ
ィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド
系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化エチレ
ン樹脂も使用することができる。その製法は特開昭６２
−１８５６４号、特開昭６０−２５５８２７号に記され
ているようなものが使用できる。 【００４２】下層あるいは後述のバック層の結合剤、潤
滑剤、分散剤、添加剤、溶剤、分散方法その他は以下に
記載する磁性層のそれが適用できる。特に、結合剤量、
種類、添加剤、分散剤の添加量、種類に関しては磁性層
に関する公知技術が適用できる。 【００４３】［添加剤］本発明の磁性層と非磁性層に使
用される、添加剤としては潤滑効果、帯電防止効果、分
散効果、可塑効果などをもつものが使用され、組み合わ
せることにより総合的な性能向上が図れる。潤滑効果を
示すものとしては物質の表面同士の摩擦の際、生じる凝
着を妨げる作用が著しいものを示す潤滑剤が使用され
る。潤滑剤には２つの型のものがある。磁気記録媒体に
使用される潤滑剤は完全に流体潤滑か境界潤滑であるか
判定することはできないが、一般的概念で分類すれば流
体潤滑を示す高級脂肪酸エステル、流動パラフィン、シ
リコン誘導体などや境界潤滑を示す長鎖脂肪酸、フッ素
系界面活性剤、含フッ素系高分子などに分類される。塗
布型媒体では潤滑剤は結合剤に溶解した状態また一部は
六方晶系フェライト粉末表面に吸着した状態で存在する
ものであり、磁性層表面に潤滑剤が移行してくるが、そ
の移行速度は結合剤と潤滑剤との相溶性の良否によって
決まる。結合剤と潤滑剤との相溶性が高いときは移行速
度が小さく、相溶性の低いときには早くなる。相溶性の
良否に対する一つの考え方として両者の溶解パラメータ
ーの比較がある。流体潤滑には非極性潤滑剤が有効であ
り、境界潤滑には極性潤滑剤が有効である。 【００４４】本発明においてはこれら特性の異なる流体
潤滑を示す高級脂肪酸エステルと境界潤滑を示す長鎖脂
肪酸とを組み合わせることが好ましく、少なくとも３種
組み合わせることが更に好ましい。これらに組み合わせ
て固体潤滑剤を使用することもできる。固体潤滑剤とし
ては、例えば二硫化モリブデン、二硫化タングステン、
グラファイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛などが使用され
る。境界潤滑を示す長鎖脂肪酸としては、炭素数１０〜
２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分
岐していてもかまわない）、および、これらの金属塩
（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｕなど）が挙げられる。フッ素系
界面活性剤、含フッ素系高分子としてはフッ素含有シリ
コーン、フッ素含有アルコール、フッ素含有エステル、
フッ素含有アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金
属塩などが挙げられる。流体潤滑を示す高級脂肪酸エス
テルとしては、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不
飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）
と炭素数２〜１２の一価、二価、三価、四価、五価、六
価アルコールのいずれか一つ（不飽和結合を含んでも、
また分岐していてもかまわない）とからなるモノ脂肪酸
エステルまたはジ脂肪酸エステルまたはトリ脂肪酸エス
テル、アルキレンオキシド重合物のモノアルキルエーテ
ルの脂肪酸エステルなどが挙げられる。また流動パラフ
ィン、そしてシリコン誘導体としてジアルキルポリシロ
キサン（アルキルは炭素数１〜５個）、ジアルコキシポ
リシロキサン（アルコキシは炭素数１〜４個）、モノア
ルキルモノアルコキシポリシロキサン（アルキルは炭素
数１〜５個、アルコキシは炭素数１〜４個）、フェニル
ポリシロキサン、フロロアルキルポリシロキサン（アル
キルは炭素数１〜５個）などのシリコーンオイル、極性
基をもつシリコーン、脂肪酸変性シリコーン、フッ素含
有シリコーンなどが挙げられる。 【００４５】その他の潤滑剤として炭素数１２〜２２の
一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコール（不飽
和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、
炭素数１２〜２２のアルコキシアルコール（不飽和結合
を含んでも、また分岐していてもかまわない）、フッ素
含有アルコールなどのアルコール、ポリエチレンワック
ス、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、エチレング
リコール、ポリエチレンオキシドワックスなどのポリグ
リコール、アルキル燐酸エステルおよびそのアルカリ金
属塩、アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属
塩、ポリフェニルエーテル、炭素数８〜２２の脂肪酸ア
ミド、炭素数８〜２２の脂肪族アミンなどが挙げられ
る。 【００４６】帯電防止効果、分散効果、可塑効果などを
示すものとしてフェニルホスホン酸、具体的には日産化
学（株）社の「ＰＰＡ」など、α−ナフチル燐酸、フェ
ニル燐酸、ジフェニル燐酸、ｐ−エチルベンゼンホスホ
ン酸、フェニルホスフィン酸、アミノキノン類、各種シ
ランカップリング剤、チタンカップリング剤、フッ素含
有アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩など
が使用できる。 【００４７】本発明において使用される潤滑剤は特に脂
肪酸と脂肪酸エステルが好ましく、具体的にはＷＯ９８
／３５３４５に記載のものが挙げられる。これらに加え
て別異の潤滑剤、添加剤も組み合わせて使用することが
できる。 【００４８】また、アルキレンオキサイド系、グリセリ
ン系、グリシドール系、アルキルフェノールエチレンオ
キサイド付加体等のノニオン界面活性剤、環状アミン、
エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイ
ン誘導体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム
類等のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルフォン
酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基などの酸性
基を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスル
ホン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル
類、アルキルベダイン型、等の両性界面活性剤等も使用
できる。これらの界面活性剤については、「界面活性剤
便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載されてい
る。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも１００％
純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応
物、分解物、酸化物等の不純分が含まれてもかまわな
い。これらの不純分は３０％以下が好ましく、さらに好
ましくは１０％以下である。本発明は脂肪酸エステルと
してＷＯ９８／３５３４５に記載のようにモノエステル
とジエステルを組み合わせて使用することも好ましい。 【００４９】本発明の磁気記録媒体、特にディスク状磁
気記録媒体の磁性層表面のオージェ電子分光法によるＣ
／Ｆｅピーク比は、好ましくは５〜１００、特に好まし
くは５〜８０である。オージェ電子分光法の測定条件
は、以下の通りである。 装置：Φ社製ＰＨＩ−６６０型 測定条件：１次電子線加速電圧３ＫＶ 試料電流１３０ｎＡ 倍率２５０倍 傾斜角度３０° 上記条件で、運動エネルギ−（Ｋｉｎｅｔｉｃ Ｅｎｅ
ｒｇｙ）１３０〜７３０ｅＶの範囲を３回積算し、炭素
のＫＬＬピークと鉄のＬＭＭピークの強度を微分形で求
め、Ｃ／Ｆｅの比をとることで求める。 【００５０】一方、本発明の磁気記録媒体の上層および
下層の各層に含まれる潤滑剤量は、それぞれ六方晶系フ
ェライト粉末または非磁性無機粉末１００質量部に対し
５〜３０質量部が好ましい。 【００５１】本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面
活性剤は個々に異なる物理的作用を有するものであり、
その種類、量、および相乗的効果を生み出す潤滑剤の併
用比率は目的に応じ最適に定められるべきものである。
非磁性層、磁性層で融点の異なる脂肪酸を用い表面への
滲み出しを制御する、沸点、融点や極性の異なるエステ
ル類を用い表面への滲み出しを制御する、界面活性剤量
を調節することで塗布の安定性を向上させる、潤滑剤の
添加量を中間層で多くして潤滑効果を向上させるなど考
えられ、無論ここに示した例のみに限られるものではな
い。一般には潤滑剤の総量として六方晶系フェライト粉
末または非磁性粉末に対し、０．１質量％〜５０質量
％、好ましくは２〜２５質量％の範囲で選択される。 【００５２】また、本発明で用いられる添加剤のすべて
またはその一部は、磁性塗料および非磁性塗料製造のど
の工程で添加してもかまわない、例えば、混練工程前に
磁性体と混合する場合、磁性体と結合剤と溶剤による混
練工程で添加する場合、分散工程で添加する場合、分散
後に添加する場合、塗布直前に添加する場合などがあ
る。また、目的に応じて磁性層を塗布した後、同時また
は逐次塗布で、添加剤の一部または全部を塗布すること
により目的が達成される場合がある。また、目的によっ
てはカレンダーした後、またはスリット終了後、磁性層
表面に潤滑剤を塗布することもできる。 【００５３】［層構成］本発明の磁気記録媒体の厚み構
成は支持体が通常、２〜１００μｍ、好ましくは２〜８
０μｍである。コンピューターテープの支持体は、３．
０〜６．５μｍ（好ましくは、３．０〜６．０μｍ、更
に好ましくは、４．０〜５．５μｍ）の範囲の厚さのも
のが使用される。支持体、好ましくは非磁性可撓性支持
体と非磁性層または磁性層の間に密着性向上のための下
塗り層を設けてもかまわない。本下塗層厚みは０．０１
〜０．５μｍ、好ましくは０．０２〜０．５μｍであ
る。帯電防止やカール補正などの効果を出すために磁性
層が設けられている側と反対側の支持体にバック層を設
けてもかまわない。この厚みは通常、０．１〜４．０μ
ｍ、好ましくは０．３〜２．０μｍである。これらの下
塗層、バック層は公知のものが使用できる。 【００５４】本発明の磁気記録媒体の上層としての磁性
層の厚みは、高い記録密度特性とオーバーライト特性を
確保する点から、０．２０μｍ未満０．０１μｍ以上、
好ましくは０．１５μｍ以下０．０５μｍ以上、より好
ましくは０．０８μｍ以上０．１２μｍ以下である。磁
性層の厚みが０．２０μｍ以上の場合、Ｄ５０値および
オーバーライト特性が低下して好ましくない。また、
０．０１μｍ未満であると大幅にＳＮ比が劣化して好ま
しくない。下層の厚みは、通常０．２〜５．０μｍ、好
ましくは０．３〜３．０μｍ、さらに好ましくは１．０
〜２．５μｍである。なお、下層は実質的に非磁性であ
ればその効果を発揮する。たとえば不純物としてあるい
は意図的に少量の磁性粉を含んでも、本発明の効果を示
すので、本発明と実質的に同一の構成である。ここで、
実質的に非磁性層とは下層の残留磁束密度が１０ｍＴ以
下または抗磁力が１００Ｏｅ（≒８ｋＡ／ｍ）以下であ
ることを示し、好ましくは残留磁束密度と抗磁力をもた
ないことを示す。また、下層に磁性粉を含む場合は、下
層の全無機粉末の１／２未満含むことが好ましい。ま
た、下層として、非磁性層に代えて軟磁性粉末と結合剤
を含む軟磁性層を形成してもよい。軟磁性層の厚みは上
記下層と同様である。 【００５５】［バック層］本発明の磁気記録媒体は、バ
ック層を設けることができる。磁気ディスクでもバック
層を設けることはできるが、一般に、コンピュータデー
タ記録用の磁気テープは、ビデオテープ、オーディオテ
ープに比較して、繰り返し走行性が強く要求されるの
で、高い走行耐久性を維持させるためにバック層を設
け、バック層にカーボンブラックと無機粉末が含有され
ていることが好ましい。 【００５６】カーボンブラックは、平均粒子径の異なる
二種類のものを組み合わせて使用することが好ましい。
この場合、平均粒子径が１０〜２０ｎｍの微粒子状カー
ボンブラックと平均粒子径が２３０〜３００ｎｍの粗粒
子状カーボンブラックを組み合わせて使用することが好
ましい。一般に、上記のような微粒子状のカーボンブラ
ックの添加により、バック層の表面電気抵抗を低く設定
でき、また光透過率も低く設定できる。磁気記録装置に
よっては、テープの光透過率を利用し、動作の信号に使
用しているものが多くあるため、このような場合には特
に微粒子状のカーボンブラックの添加は有効になる。ま
た微粒子状カーボンブラックは一般に液体潤滑剤の保持
力に優れ、潤滑剤併用時、摩擦係数の低減化に寄与す
る。一方、平均粒子径が２３０〜３００ｎｍの粗粒子状
カーボンブラックは、固体潤滑剤としての機能を有して
おり、またバック層の表面に微小突起を形成し、接触面
積を低減化して、摩擦係数の低減化に寄与する。 【００５７】本発明に用いられる微粒子状カーボンブラ
ックおよび粗粒子状カーボンブラックとして、市販のも
のを用いる場合、具体的な商品としては、ＷＯ９８／３
５３４５に記載のものを挙げることができる。バック層
において、平均粒子径の異なる二種類のものを使用する
場合、１０〜２０ｎｍの微粒子状カーボンブラックと２
３０〜３００ｎｍの粗粒子状カーボンブラックの含有比
率（質量比）は、前者：後者＝９８：２〜７５：２５の
範囲にあることが好ましく、更に好ましくは、９５：５
〜８５：１５の範囲である。バック層中のカーボンブラ
ック（二種類のものを使用する場合には、その全量）の
含有量は、結合剤１００質量部に対して、通常３０〜８
０質量部の範囲であり、好ましくは、４５〜６５質量部
の範囲である。 【００５８】バック層に含有される無機粉末は、硬さの
異なる二種類のものを併用することが好ましい。具体的
には、モース硬度３〜４．５の軟質無機粉末とモース硬
度５〜９の硬質無機粉末とを使用することが好ましい。
モース硬度が３〜４．５の軟質無機粉末を添加すること
で、繰り返し走行による摩擦係数の安定化を図ることが
できる。しかもこの範囲の硬さでは、摺動ガイドポール
が削られることもない。またこの無機粉末の平均粒子径
は、３０〜５０ｎｍの範囲にあることが好ましい。モー
ス硬度が３〜４．５の軟質無機粉末としては、例えば、
硫酸カルシウム、炭酸カルシウム、珪酸カルシウム、硫
酸バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸亜鉛、および酸化
亜鉛を挙げることができる。これらは、単独で、あるい
は二種以上を組み合わせて使用することができる。バッ
ク層内の軟質無機粉末の含有量は、カーボンブラック１
００質量部に対して１０〜１４０質量部の範囲にあるこ
とが好ましく、更に好ましくは、３５〜１００質量部で
ある。 【００５９】モース硬度が５〜９の硬質無機粉末を添加
することにより、バック層の強度が強化され、走行耐久
性が向上する。これらの無機粉末をカーボンブラックや
前記軟質無機粉末と共に使用すると、繰り返し摺動に対
しても劣化が少なく、強いバック層となる。またこの無
機粉末の添加により、適度の研磨力が付与され、テープ
ガイドポール等への削り屑の付着が低減する。特に軟質
無機粉末と併用すると、表面の粗いガイドポールに対し
ての摺動特性が向上し、バック層の摩擦係数の安定化も
図ることができる。硬質無機粉末の平均粒子径は８０〜
２５０ｎｍが好ましく、１００〜２１０ｎｍの範囲にあ
ることが更に好ましい。モース硬度が５〜９の硬質無機
質粉末としては、例えば、α−酸化鉄、α−アルミナ、
および酸化クロム（Ｃｒ₂Ｏ₃）を挙げることができる。
これらの粉末は、それぞれ単独で用いても良いし、ある
いは併用しても良い。これらの内では、α−酸化鉄また
はα−アルミナが好ましい。硬質無機粉末の含有量は、
カーボンブラック１００質量部に対して通常３〜３０質
量部であり、好ましくは、３〜２０質量部である。 【００６０】バック層に前記軟質無機粉末と硬質無機粉
末とを併用する場合、軟質無機粉末と硬質無機粉末との
硬さの差が、２以上（更に好ましくは、２．５以上、特
に、３以上）であるように軟質無機粉末と硬質無機粉末
とを選択して使用することが好ましい。バック層には、
前記それぞれ特定の平均粒子径を有するモース硬度の異
なる二種類の無機粉末と、前記平均粒子径の異なる二種
類のカーボンブラックとが含有されていることが好まし
い。 【００６１】バック層には、潤滑剤を含有させることが
できる。潤滑剤は、前述した非磁性層、あるいは磁性層
に使用できる潤滑剤として挙げた潤滑剤の中から適宜選
択して使用できる。バック層において、潤滑剤は、結合
剤１００質量部に対して通常１〜５質量部の範囲で添加
される。 【００６２】［支持体］本発明に用いられる支持体は、
非磁性支持体であり、可撓性であることが好ましい。支
持体の面内各方向に対し、１００℃３０分での熱収縮率
が０．５％以下であり、８０℃３０分での熱収縮率が
０．５％以下、更に好ましくは０．２％以下であること
が好ましい。更に前記支持体の１００℃３０分での熱収
縮率および８０℃３０分での熱収縮率が前記支持体の面
内各方向に対し、１０％以内の差で等しいことが好まし
い。これら支持体はポリエチレンテレフタレート、ポリ
エチレンナフタレート等のポリエステル類、ポリオレフ
ィン類、セルローストリアセテート、ポリカーボネー
ト、芳香族または脂肪族ポリアミド、ポリイミド、ポリ
アミドイミド、ポリスルフォン、ポリアラミド、ポリベ
ンゾオキサゾールなどの公知のフィルムが使用できる。
ポリエチレンナフタレート、ポリアミドなどの高強度支
持体を用いることが好ましい。また必要に応じ、磁性面
とベース面の表面粗さを変えるため特開平３−２２４１
２７号公報に示されるような積層タイプの支持体を用い
ることもできる。これらの支持体にはあらかじめコロナ
放電処理、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処
理などをおこなっても良い。また本発明の支持体として
アルミまたはガラス基板を適用することも可能である。 【００６３】本発明の目的を達成するには、支持体とし
てＷＹＫＯ社製の表面粗さ計ＴＯＰＯ−３Ｄで測定した
中心面平均表面粗さＲａが４．０ｎｍ以下、好ましくは
２．０ｎｍ以下のものを使用することが好ましい。これ
らの支持体は単に中心面平均表面粗さが小さいだけでは
なく、０．５μｍ以上の粗大突起がないことが好まし
い。また表面の粗さ形状は必要に応じて支持体に添加さ
れるフィラーの大きさと量により自由にコントロールさ
れるものである。これらのフィラーとしては一例として
はＣａ，Ｓｉ、Ｔｉなどの酸化物や炭酸塩の他、アクリ
ル系などの有機粉末があげられる。支持体の最大高さＲ
ｍａｘは１μｍ以下、十点平均粗さＲｚは０．５μｍ以
下、中心面山高さＲｐは０．５μｍ以下、中心面谷深さ
Ｒｖは０．５μｍ以下、中心面面積率Ｓｒは１０％以
上、９０％以下、平均波長λａは５μｍ以上、３００μ
ｍ以下が好ましい。所望の電磁変換特性と耐久性を得る
ため、これら支持体の表面突起分布をフィラーにより任
意にコントロールできるものであり、０．０１〜１μｍ
の大きさのもの各々を０．１ｍｍ²あたり０〜２０００
個の範囲でコントロールすることができる。 【００６４】本発明に用いられる支持体のＦ−５値は好
ましくは５〜５０Ｋｇ／ｍｍ²（≒４９〜４９０ＭＰ
ａ）、また、支持体の１００℃３０分での熱収縮率は好
ましくは３％以下、さらに好ましくは１．５％以下、８
０℃３０分での熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに
好ましくは０．５％以下である。破断強度は５〜１００
Ｋｇ／ｍｍ²（≒４９〜９８０ＭＰａ）、弾性率は１０
０〜２０００Ｋｇ／ｍｍ²（≒０．９８〜１９．６ＧＰ
ａ）が好ましい。温度膨張係数は１０^-4〜１０^-8／℃で
あり、好ましくは１０^-5〜１０^-6／℃である。湿度膨張
係数は１０^-4／ＲＨ％以下であり、好ましくは１０^-5／
ＲＨ％以下である。これらの熱特性、寸法特性、機械強
度特性は支持体の面内各方向に対し１０％以内の差でほ
ぼ等しいことが好ましい。 【００６５】［製法］本発明の磁気記録媒体の磁性塗料
を製造する工程は、少なくとも混練工程、分散工程、お
よびこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程
からなる。個々の工程はそれぞれ２段階以上にわかれて
いてもかまわない。本発明に使用する磁性粉末、結合
剤、カーボンブラック、研磨剤、帯電防止剤、潤滑剤、
溶剤などすべての原料はどの工程の最初または途中で添
加してもかまわない。また、個々の原料を２つ以上の工
程で分割して添加してもかまわない。例えば、ポリウレ
タンを混練工程、分散工程、分散後の粘度調整のための
混合工程で分割して投入してもよい。本発明の目的を達
成するためには、従来の公知の製造技術を一部の工程と
して用いることができる。混練工程ではオープンニー
ダ、連続ニーダ、加圧ニーダ、エクストルーダなど強い
混練力をもつものを使用することが好ましい。ニーダを
用いる場合は磁性粉末または非磁性粉末と結合剤のすべ
てまたはその一部（ただし全結合剤の３０％以上が好ま
しい）および磁性粉末１００部に対し１５〜５００部の
範囲で混練処理される。これらの混練処理の詳細につい
ては特開平１−１０６３３８号公報、特開平１−７９２
７４号公報に記載されている。また、磁性層液および非
磁性層液を分散させるにはガラスビーズを用いることが
できるが、高比重の分散メディアであるジルコニアビー
ズ、チタニアビーズ、スチールビーズが好適である。こ
れら分散メディアの粒径と充填率は最適化して用いられ
る。分散機は公知のものを使用することができる。 【００６６】本発明で重層構成の磁気記録媒体を塗布す
る場合、以下のような方式を用いることが好ましい。第
一に磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗
布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗
布装置等により、まず下層を塗布し、下層がウェット状
態のうちに特公平１−４６１８６や特開昭６０−２３８
１７９号公報、特開平２−２６５６７２号公報に開示さ
れている支持体加圧型エクストルージョン塗布装置によ
り上層を塗布する方法。第二に特開昭６３−８８０８０
号公報、特開平２−１７９７１号公報、特開平２−２６
５６７２号公報に開示されているような塗布液通液スリ
ットを二つ内蔵する一つの塗布ヘッドにより上下層をほ
ぼ同時に塗布する方法。第三に特開平２−１７４９６５
号公報に開示されているバックアップロール付きエクス
トルージョン塗布装置により上下層をほぼ同時に塗布す
る方法である。なお、磁性粒子の凝集による磁気記録媒
体の電磁変換特性等の低下を防止するため、特開昭６２
−９５１７４号公報や特開平１−２３６９６８号公報に
開示されているような方法により塗布ヘッド内部の塗布
液にせん断を付与することが望ましい。さらに、塗布液
の粘度については、特開平３−８４７１号公報に開示さ
れている数値範囲を満足する必要がある。既に、述べた
ように、下層が湿潤状態の内に上層を設けるウェット・
オン・ウェット（Ｗ／Ｗ）方式でも、下層が乾燥した後
に上層を設けるウェット・オン・ドライ（Ｗ／Ｄ）方式
でも形成できる。なかでも、Ｗ／Ｄ方式は上層と下層の
界面の変動が少なくＤ５０などの性能が上昇し、好まし
い。 【００６７】ディスクの場合、配向装置を用いず無配向
でも十分に等方的な配向性が得られることもあるが、コ
バルト磁石を斜めに交互に配置すること、ソレノイドで
交流磁場を印加するなど公知のランダム配向装置を用い
ることが好ましい。六方晶フェライトは、一般的に面内
および垂直方向の３次元ランダムになりやすいが、面内
２次元ランダムとすることも可能である。また異極対向
磁石など公知の方法を用い、垂直配向とすることで円周
方向に等方的な磁気特性を付与することもできる。特に
高密度記録を行う場合は垂直配向が好ましい。また、ス
ピンコートを用い円周配向としてもよい。 【００６８】磁気テープの場合は、コバルト磁石やソレ
ノイドを用いて長手方向に配向する。乾燥風の温度、風
量、塗布速度を制御することで塗膜の乾燥位置を制御で
きる様にすることが好ましく、塗布速度は２０ｍ／分〜
１０００ｍ／分、乾燥風の温度は６０℃以上が好まし
い、また磁石ゾーンに入る前に適度の予備乾燥を行うこ
ともできる。カレンダー処理ロールとしてエポキシ、ポ
リイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐熱性の
あるプラスチックロールまたは金属ロールで処理する
が、特に両面磁性層とする場合は金属ロール同志で処理
することが好ましい。処理温度は、好ましくは５０℃以
上、さらに好ましくは１００℃以上である。線圧力は好
ましくは２００ｋｇ／ｃｍ（≒１９６ｋＮ／ｍ）以上、
さらに好ましくは３００ｋｇ／ｃｍ（≒２９４ｋＮ／
ｍ）以上である。電子線硬化型化合物を硬化させるため
の放射線照射は上記配向の前、配向と同時、配向の後、
カレンダー処理の後の少なくとも何れか１つの時期に行
うことが必要であるが、好ましくはカレンダー処理の後
に行うことが好ましい。放射線量は総量で０．５〜２０
Ｍｒａｄが好ましく、２〜１５Ｍｒａｄが更に好まし
い。 【００６９】［物理特性］本発明の磁気記録媒体の磁性
層厚みは、既に述べたように、０．２０μｍ未満０．０
１μｍ以上であり、好ましくは０．１５μｍ以下０．０
５μｍ以上である。また、残留磁束密度×磁性層厚み
が、５〜２００ｍＴ・μｍが好ましい。抗磁力Ｈｃは２
０００〜５０００Ｏｅ（≒１５９〜３９８ｋＡ／ｍ）が
好ましく、２０００〜４０００Ｏｅ（≒１５９〜３１８
ｋＡ／ｍ）が更に好ましい。抗磁力の分布は狭い方が好
ましく、ＳＦＤ（スイッチング・フィールド・ディスト
リビューション）およびＳＦＤｒは０．６以下が好まし
い。 【００７０】磁気ディスクの場合、角形比は２次元ラン
ダムの場合、通常、０．５５〜０．６７で、好ましくは
０．５８〜０．６４、３次元ランダムの場合は０．４５
〜０．５５が好ましく、垂直配向の場合は垂直方向に通
常、０．６以上、好ましくは０．７以上、反磁界補正を
行った場合は通常、０．７以上、好ましくは０．８以上
である。２次元ランダム、３次元ランダムとも配向度比
は０．８以上が好ましい。２次元ランダムの場合、垂直
方向の角形比、垂直方向のＢｒおよび垂直方向のＨｃは
面内方向の０．１〜０．５倍以内とすることが好まし
い。磁気テープの場合、角型比は０．７以上、好ましく
は０．８以上である。 【００７１】本発明の磁気記録媒体のヘッドに対する摩
擦係数は、温度−１０〜４０℃、湿度０〜９５％の範囲
において通常０．５以下、好ましくは０．３以下、表面
固有抵抗は好ましくは磁性面１０⁴〜１０¹²オ−ム／ｓ
ｑ、帯電位は−５００Ｖ〜＋５００Ｖが好ましい。磁性
層の０．５％伸びでの弾性率は面内各方向で好ましくは
１００〜２０００Ｋｇ／ｍｍ²（≒９８〜１９６０ＭＰ
ａ）、破断強度は好ましくは１０〜７０Ｋｇ／ｍｍ
²（≒９．８〜６８．６ＭＰａ）、磁気記録媒体の弾性
率は面内各方向で好ましくは１００〜１５００Ｋｇ／ｍ
ｍ²（≒９８〜１４７０ＭＰａ）、残留のびは好ましく
は０．５％以下、１００℃以下のあらゆる温度での熱収
縮率は好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％
以下、もっとも好ましくは０．１％以下である。磁性層
のガラス転移温度（１１０Ｈｚで測定した動的粘弾性測
定の損失弾性率の極大点）は５０℃以上１２０℃以下が
好ましく、下層のそれは０℃〜１００℃が好ましい。損
失弾性率は１×１０⁵〜８×１０⁸Ｐａの範囲にあること
が好ましく、損失正接は０．２以下であることが好まし
い。損失正接が大きすぎると粘着故障が発生しやすい。
これらの熱特性や機械特性は媒体の面内各方向で１０％
以内でほぼ等しいことが好ましい。磁性層中に含まれる
残留溶媒は好ましくは１００ｍｇ／ｍ²以下、さらに好
ましくは１０ｍｇ／ｍ²以下である。塗布層が有する空
隙率は下層、上層とも好ましくは３０容量％以下、さら
に好ましくは２０容量％以下である。空隙率は高出力を
果たすためには小さい方が好ましいが、目的によっては
ある値を確保した方が良い場合がある。例えば、繰り返
し用途が重視されるディスク媒体では空隙率が大きい方
が走行耐久性は好ましいことが多い。 【００７２】磁性層の表面をＷＹＫＯ社製の光干渉式表
面粗さ計ＴＯＰＯ−３Ｄで測定した中心面平均表面粗さ
Ｒａは好ましくは５．０ｎｍ以下、更に好ましくは４．
０ｎｍ以下、特に好ましくは３．５ｎｍ以下である。磁
性層の最大高さＲｍａｘは０．５μｍ以下、十点平均粗
さＲｚは０．３μｍ以下、中心面山高さＲｐは０．３μ
ｍ以下、中心面谷深さＲｖは０．３μｍ以下、中心面面
積率Ｓｒは２０％以上、８０％以下、平均波長λａは５
μｍ以上、３００μｍ以下が好ましい。磁性層の表面突
起は０．０１〜１μｍの大きさのものを０〜２０００個
の範囲で任意に設定することが可能であり、これにより
電磁変換特性、摩擦係数を最適化することが好ましい。
これらは支持体のフィラーによる表面性のコントロール
や磁性層に添加する粉体の粒径と量、カレンダー処理の
ロール表面形状などで容易にコントロールすることがで
きる。カールは±３ｍｍ以内とすることが好ましい。本
発明の磁気記録媒体は、目的に応じ重層構成とし、下層
と上層でこれらの物理特性を変えることができるのは容
易に推定されることである。例えば、上層の弾性率を高
くし走行耐久性を向上させると同時に下層の弾性率を上
層より低くして磁気記録媒体のヘッドへの当りを良くす
るなどである。 【００７３】 【実施例】以下に、実施例を用いてさらに本発明を詳細
に説明するが、本発明はこれに限定されるものではな
い。なお、「部」は特に断りのない限り「質量部」を意
味する。まず、下記方法で３．７吋径の磁気記録媒体の
サンプル１〜２１を作成した。 サンプル１（比較）の作成 下記磁性塗料Ａと非磁性塗料それぞれについて、各成分
をニーダで混練したのち、サンドミルをもちいて分散さ
せた。得られた磁性液Ａと非磁性塗料の分散液にポリイ
ソシアネート（日本ポリウレタン社製コロネートＬ）を
非磁性層の塗布液には１３部、磁性塗料Ａの塗布液には
４部を加え、さらにそれぞれにシクロヘキサノン３０部
を加え、１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて
濾過し、非磁性層形成用および磁性層形成用の塗布液を
それぞれ調製した。得られた非磁性層塗布液を、厚さ６
２μｍで中心面平均表面粗さが３ｎｍのポリエチレンテ
レフタレート支持体上に乾燥後の厚さが１．５μｍにな
るように塗布し乾燥後に、磁性層の厚さが０．１μｍに
なるように磁性層形成用塗布液の重層塗布をおこない、
乾燥後、７段のカレンダーで温度９０℃、線圧３００ｋ
ｇ／ｃｍにて処理を行い、３．７吋に打ち抜き表面研磨
処理施し、サンプル１を作成した。 【００７４】サンプル２（本発明）の作成 下記磁性塗料Ａと非磁性塗料それぞれについて、各成分
をニーダで混練したのち、サンドミルをもちいて分散さ
せた。得られた磁性液Ａと非磁性塗料の分散液に電子線
硬化型化合物Ａ（ジペンタエリスリトールヘキサアクリ
レート）を非磁性層の塗布液には１３部、磁性塗料Ａの
塗布液には４部を加え、さらにそれぞれにシクロヘキサ
ノン３０部を加え、１μｍの平均孔径を有するフィルタ
ーを用いて濾過し、非磁性層形成用および磁性層形成用
の塗布液をそれぞれ調製した。得られた非磁性層塗布液
を、厚さ６２μｍで中心面平均表面粗さが３ｎｍのポリ
エチレンテレフタレート支持体上に乾燥後の厚さが１．
５μｍになるように塗布し乾燥後に、磁性層の厚さが
０．１μｍになるように磁性層形成用塗布液の重層塗布
をおこない、乾燥後、７段のカレンダーで温度９０℃、
線圧３００ｋｇ／ｃｍにて処理を行い、次いで１０Ｍｒ
ａｄの電子線照射を行い、３．７吋に打ち抜き表面研磨
処理施し、サンプル２を作成した。 【００７５】サンプル３（本発明）の作成 下記磁性塗料Ａと非磁性塗料の分散液に添加したポリイ
ソシアネートの代わりに、電子線硬化型化合物Ｂ（イソ
シアヌレート型３官能基アクリレート）を同量添加する
以外は、サンプル２と同様な方法でサンプル３を作成し
た。 【００７６】サンプル４（本発明）の作成 下記磁性塗料Ａと非磁性塗料の分散液に添加したポリイ
ソシアネートの代わりに、電子線硬化型化合物Ｃ（ペン
タエリスリトールテトラアクリレート）を同量添加する
以外は、サンプル２と同様な方法でサンプル４を作成し
た。 【００７７】サンプル５〜１０の作成 下記磁性塗料Ａに採用している六方晶バリウムフェライ
トの抗磁力を表１に記載した値に変更した以外は、サン
プル２と同様な方法でサンプル５〜１０を作成した。サ
ンプル４〜９は本発明のサンプルであり、サンプル５お
よび１０は比較サンプルである。 【００７８】サンプル１１〜１４の作成 下記磁性塗料Ａに採用している六方晶バリウムフェライ
トの平均板径を表１に記載した値に変更した以外は、サ
ンプル２と同様な方法でサンプル１１〜１４を作成し
た。サンプル１１および１３は本発明のサンプルであ
り、サンプル１２および１４は比較サンプルである。 【００７９】サンプル１５（本発明）、１６（比較）の
作成 磁性層厚を０．１μｍから表１に記載された値に変更し
た以外は、サンプル２と同様な方法でサンプル１５、１
６を作成した。 【００８０】サンプル１７（比較）の作成 下記磁性塗料Ａと非磁性塗料それぞれについて、各成分
をニーダで混練したのち、サンドミルをもちいて分散さ
せた。得られた磁性液Ａと非磁性塗料の分散液にポリイ
ソシアネート（日本ポリウレタン社製コロネートＬ）を
非磁性層の塗布液には１３部、磁性塗料Ａの塗布液には
４部を加え、さらにそれぞれにシクロヘキサノン３０部
を加え、１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて
濾過し、非磁性層形成用および磁性層形成用の塗布液を
それぞれ調製した。得られた非磁性層塗布液を、厚さ６
２μｍで中心面平均表面粗さが３ｎｍのポリエチレンテ
レフタレート支持体上に乾燥後の厚さが１．５μｍにな
るように塗布しさらにその直後にその上に磁性層の厚さ
が０．１μｍになるように、同時重層塗布をおこない、
両層がまだ湿潤状態にあるうちに、ランダム配向処理を
おこない乾燥後、７段のカレンダーで温度９０℃、線圧
３００ｋｇ／ｃｍにて処理を行い、３．７吋に打ち抜き
表面研磨処理施し、サンプル１７を作成した。 【００８１】サンプル１８〜２０（本発明）の作成 下記磁性塗料Ａと非磁性塗料それぞれについて、各成分
をニーダで混練したのち、サンドミルをもちいて分散さ
せた。得られた磁性液Ａと非磁性塗料の分散液に表１に
記載した電子線硬化型化合物をを非磁性層の塗布液には
１３部、磁性塗料Ａの塗布液には４部を加え、さらにそ
れぞれにシクロヘキサノン３０部を加え、１μｍの平均
孔径を有するフィルターを用いて濾過し、非磁性層形成
用および磁性層形成用の塗布液をそれぞれ調製した。得
られた非磁性層塗布液を、厚さ６２μｍで中心面平均表
面粗さが３ｎｍのポリエチレンテレフタレート支持体上
に乾燥後の厚さが１．５μｍになるように塗布しさらに
その直後にその上に磁性層の厚さが０．１μｍになるよ
うに、同時重層塗布をおこない、両層がまだ湿潤状態に
あるうちに、ランダム配向処理をおこない乾燥後、７段
のカレンダーで温度９０℃、線圧３００ｋｇ／ｃｍにて
処理を行い、次いで１０Ｍｒａｄの電子線照射を行い、
３．７吋に打ち抜き表面研磨処理施し、サンプル１８〜
２０を作成した。 【００８２】サンプル２１（比較）の作成 下記磁性塗料Ａについて、各成分をニーダで混練したの
ち、サンドミルをもちいて分散させた。得られた磁性液
Ａの分散液に電子線硬化型化合物Ａを４部を加え、さら
にシクロヘキサノン３０部を加え、１μｍの平均孔径を
有するフィルターを用いて濾過し、磁性層形成用の塗布
液をそれぞれ調製した。得られた磁性層塗布液を、厚さ
６２μｍで中心面平均表面粗さが３ｎｍのポリエチレン
テレフタレ−ト支持体上に乾燥後の厚さが０．２μｍに
なるように塗布し乾燥後、７段のカレンダーで温度９０
℃、線圧３００ｋｇ／ｃｍにて処理を行い、次いで１０
Ｍｒａｄの電子線照射を行い、３．７吋に打ち抜き表面
研磨処理施し、サンプル２１を作成した。 【００８３】 （磁性塗料Ａ） 六方晶バリウムフェライト １００部 表面処理：Ａｌ₂Ｏ₃ ５質量％、ＳｉＯ₂ ２質量％ Ｈｃ：２１００Ｏｅ 板径：２５ｎｍ 板状比：３ σｓ：５６ｅｍｕ／ｇ 塩化ビニル共重合体 ７部 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） ポリウレタン樹脂 ３部 ＵＲ８２００（東洋紡社製） α−アルミナ ４部 ＨＩＴ６０（住友化学社製） ダイヤモンド（平均粒径１００ｎｍ） ２部 カーボンブラック １部 ＃５０（旭カーボン社製） イソセチルステアレート ５部 ステアリン酸 １部 オレイン酸 １部 メチルエチルケトン ８０部 シクロヘキサノン １２０部 【００８４】 （非磁性塗料） α−Ｆｅ₂Ｏ₃ ヘマタイト １００部 長軸長 ０．０７μｍ、短軸長 ０．０１４μｍ ＢＥＴ法による比表面積 ５５ｍ²／ｇ ｐＨ９、表面処理剤Ａｌ₂Ｏ₃ ８質量％ カーボンブラック（平均粒径２０ｎｍ） ２５部 コンダクテックスＳＣ−Ｕ（コロンビアンカーボン社製） 塩化ビニル共重合体 １５部 ＭＲ１０４（日本ゼオン社製） ポリウレタン樹脂 ７部 ＵＲ５５００（東洋紡社製） フェニルホスホン酸 ４部 イソセチルステアレート ６部 オレイン酸 １．３部 ステアリン酸 １．３部 メチルエチルケトン／シクロヘキサノン ２５０部 （８／２混合溶剤） 【００８５】以上で作成したサンプル１〜２１につい
て、Ｄ５０特性、オーバーライト特性、および走行耐久
性について測定し、表１に示した。 （Ｄ５０特性の測定）米国ＧＵＺＩＫ社製のＲＷＡ１０
０１型ディスク評価装置及び協同電子システム（株）製
スピンスタンドＬＳ−９０にて、トラック幅５μｍでギ
ャップ長０．２μｍのメタルインギャップヘッド用い記
録、トラック幅が２．６μｍのＭＲヘッドで再生し、半
径２４．６ｍｍの位置において、低記録密度領域での出
力を１とした場合に、線記録密度が上がるとともに出力
は低下するが、出力が１／２となる線記録密度をＤ５０
として算出した。 【００８６】（オーバーライト特性の測定）米国ＧＵＺ
ＩＫ社製のＲＷＡ１００１型ディスク評価装置及び協同
電子システム（株）製スピンスタンドＬＳ−９０にて、
トラック幅５μｍでギャップ長０．２μｍのメタルイン
ギャップヘッド用い２５ｋＦＣＩの信号を書き込み、そ
の上に９０ｋＦＣＩの信号を重ね書きした。その後、ト
ラック幅が２．６μｍのＭＲヘッドで再生し、２５ｋＦ
ＣＩの再生信号に対する９０ｋＦＣＩの再生出力の比を
オーバーライト特性として算出した。 【００８７】（走行耐久性評価）フロッピー（登録商
標）ディスクドライブ（米国ｏｍｅｇａ社製 ＺＩＰ１
００：回転数２９６８ｒｐｍ）を用い半径３８ｍｍ位置
にヘッドを固定し記録密度３４ｋｆｃｉで記録を行った
後その信号を再生し１００％とした。その後、５０℃１
０％環境下で１５００時間走行させた。走行２４時間お
きに出力をモニターしその出力が初期の値の７０％以下
となった時点をＮＧとした。 【００８８】 【表１】 【００８９】表１に示される結果より以下のことが明ら
かである。本発明の磁気記録媒体は、Ｄ５０、オーバー
ライトおよび走行耐久性特性すべてにおいて優れてい
る。一方、結合剤に電子線硬化性官能基を有する化合物
の硬化物を含まない比較サンプル１および１７は、走行
耐久性に劣る。六方晶系フェライト粉末の平均板径が４
０ｎｍを超える比較サンプル１２はＤ５０特性に劣り、
１０ｎｍに満たない比較サンプル１４はＤ５０およびオ
ーバーライト特性に劣る。六方晶系フェライト粉末のの
抗磁力が２０００Ｏｅ（≒１５９ｋＡ／ｍ）に満たない
比較サンプル５はＤ５０特性に劣り、５０００Ｏｅ（≒
３９８ｋＡ／ｍ）を越す比較サンプル１０はＤ５０およ
びオーバーライト特性に劣る。磁性層の厚さが０．２０
μｍ以上の比較サンプル１６はＤ５０およびオーバーラ
イト特性に劣る。また、非磁性層を有さない比較サンプ
ル２１はＤ５０、オーバーライトおよび走行耐久性のい
ずれにも劣る。さらに、磁性層と非磁性層の形成方法を
比較すると、ウェット・オン・ドライ方式は、ウェット
・オン・ウェット方式よりＤ５０およびオーバーライト
特性に優れる。 【００９０】 【発明の効果】本発明の強磁性六方晶系フェライト粉末
を含む磁性層を有する磁気記録媒体は、走行耐久性に優
れ、しかも電磁変換特性が良好で高密度記録に好適であ
る。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 斉藤 真二 神奈川県小田原市扇町２丁目12番１号 富 士写真フイルム株式会社内 Ｆターム(参考） 5D006 BA06 BA08 BA10 BA13 CA01

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 【請求項１】 非磁性支持体上の少なくとも一方の面
   に、非磁性粉末および結合剤を含む非磁性層と強磁性体
   である強磁性六方晶系フェライト粉末および結合剤を含
   む磁性層とをこの順に有する磁気記録媒体であって、
   （１）強磁性六方晶系フェライト粉末の平均板径が１０
   〜４０ｎｍであり、かつ該フェライト粉末の抗磁力が２
   ０００〜５０００Ｏｅであり、（２）結合剤が電子線硬
   化性官能基を有する化合物の硬化物を含み、（３）磁性
   層がダイヤモンドを含有し、かつ磁性層の厚さが０．２
   ０μｍ未満０．０１μｍ以上である、ことを特徴とする
   磁気記録媒体。