JPH1186273A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】電磁変換特性、特に高密度記録特性が格段に改
良され、耐久性能が実用上充分な高密度記録用磁気記録
媒体を提供すること。 【解決手段】支持体上に実質的に非磁性である下層と強
磁性粉末を結合剤中に分散してなる磁性層をこの順に設
けた磁気記録媒体において、前記磁性層は抗磁力（Ｈ
ｃ）が１８００エルステッド（Ｏｅ）以上であり、かつ
中心面平均表面粗さＲａが０．５〜５．０ｎｍであり、
さらに前記磁性層中には平均粒径０．１０〜１．０μｍ
であるダイアモンド微粒子を強磁性粉末に対して０．０
１〜５重量％含有することを特徴とする磁気記録媒体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は塗布型の高記録密度
の磁気記録媒体に関する。特に磁性層と実質的に非磁性
の下層を有し、最上層に強磁性金属微粉末または六方晶
フェライト微粉末を含む高密度記録用の磁気記録媒体に
関するものである。

【０００２】

【従来の技術】磁気ディスクの分野において、Ｃｏ変性
酸化鉄を用いた２ＭＢのＭＦ−２ＨＤフロッピーディス
クがパーソナルコンピュータに標準搭載されようになっ
た。しかし扱うデータ容量が急激に増加している今日に
おいて、その容量は十分とは言えなくなり、フロッピー
ディスクの大容量化が望まれていた。

【０００３】また磁気テープの分野においても近年、ミ
ニコンピューター、パーソナルコンピューター、ワーク
ステーションなどのオフィスコンピューターの普及に伴
って、外部記憶媒体としてコンピューターデータを記録
するための磁気テープ（いわゆるバックアップテープ）
の研究が盛んに行われている。このような用途の磁気テ
ープの実用化に際しては、とくにコンピューターの小型
化、情報処理能力の増大と相まって、記録の大容量化、
小型化を達成するために、記録容量の向上が強く要求さ
れる。

【０００４】従来、磁気記録媒体には酸化鉄、Ｃｏ変性
酸化鉄、ＣｒＯ₂ 、強磁性金属粉末、六方晶系フェライ
ト粉末を結合剤中に分散した磁性層を非磁性支持体に塗
設したものが広く用いられる。この中でも強磁性金属微
粉末と六方晶系フェライト微粉末は高密度記録特性に優
れていることが知られている。デイスクの場合、高密度
記録特性に優れる強磁性金属微粉末を用いた大容量ディ
スクとしては１０ＭＢのＭＦ−２ＴＤ、２１ＭＢのＭＦ
−２ＳＤまたは六方晶フェライトを用いた大容量ディス
クとしては４ＭＢのＭＦ−２ＥＤ、２１ＭＢフロプティ
カルなどがあるが、容量、性能的に十分とは言えなかっ
た。このような状況に対し、高密度記録特性を向上させ
る試みが多くなされている。以下にその例を示す。

【０００５】ディスク状磁気記録媒体の特性を向上させ
るために、特開昭６４−８４４１８号公報には酸性基と
エポキシ基と水酸基を有する塩化ビニル樹脂を用いるこ
とが提案され、特公平３−１２３７４号公報にはＨｃ１
０００Oe以上、比表面積２５〜７０m²/gの金属微粉末を
用いることが提案され、特公平６ー２８１０６号公報に
は磁性体の比表面積と磁化量を定め、研磨剤を含ませる
ことが提案されている。

【０００６】ディスク状磁気記録媒体の耐久性を改善さ
せるために、特公平７−８５３０４には不飽和脂肪酸エ
ステルとエーテル結合を有する脂肪酸エステルを用いる
ことが提案され、特公平７ー７００４５には分岐脂肪酸
エステルとエーテル結合を有する脂肪酸エステルを用い
ることが提案され、特開昭５４−１２４７１６にはモー
ス硬度６以上の非磁性粉末と高級脂肪酸エステルを含ま
せることが提案され、特公平７−８９４０７には潤滑剤
を含む空孔の体積と表面粗さを０．００５〜０．０２５
μmとすることが提案され、特開昭６１−２９４６３７
には低融点と高融点の脂肪酸エステルを用いることが提
案され、特公平７ー３６２１６には磁性層厚みに対し１
／４〜３／４の粒径の研磨剤と低融点の脂肪酸エステル
を用いることが提案され、特開平３−２０３０１８には
Ａｌを含むメタル磁性体と酸化クロム用いることが提案
されている。

【０００７】非磁性の下層や中間層を有するディスク状
磁気記録媒体の構成として、特開平３ー１２０６１３に
は導電層と金属微粉末を含む磁性層を有する構成が提案
され、特開平６−２９０４４６には１μm以下の磁性層
と非磁性層を有する構成が提案され、特開昭６２−１５
９３３７にはカーボン中間層と潤滑剤を含む磁性層から
なる構成が提案され、特開平５−２９０３５８にはカー
ボンサイズを規定した非磁性層を有する構成が提案され
ている。

【０００８】一方、最近になり薄層磁性層と機能性非磁
性層からなるディスク状磁気記録媒体が開発され、１０
０ＭＢクラスのフロッピーディスクが登場している。こ
れらの特徴を示すものとして、特開平５−１０９０６１
にはＨｃが１４００Oe以上で厚さ０．５μm以下の磁性
層と導電性粒子を含む非磁性層を有する構成が提案さ
れ、特開平５−１９７９４６には磁性層厚より大きい研
磨剤を含む構成が提案され、特開平５−２９０３５４に
は磁性層厚が０．５μm以下で、磁性層厚の厚み変動を
±１５％以内とし、表面電気抵抗を規定した構成が、特
開平６−６８４５３には粒径の異なる２種の研磨剤を含
ませ、表面の研磨剤量を規定した構成が提案されてい
る。

【０００９】又テープ状の磁気記録媒体においても 近
年、ミニコンピュータ、パーソナルコンピュータなどの
オフィスコンピュータの普及に伴って、外部記憶媒体と
してコンピュータデータを記録するための磁気テープ
（所謂、バックアップテープ）の研究が盛んに行われて
いる。このような用途の磁気テープの実用化に際して
は、特にコンピュータの小型化、情報処理能力の増大と
相まって、記録の大容量化、小型化を達成するために記
録容量の向上が強く要求される。また磁気テープの使用
環境の広がりによる幅広い環境条件下（特に、変動の激
しい温湿度条件下など）での使用、データ保存に対する
信頼性、更に高速での繰り返し使用による多数回走行に
おけるデータの安定した記録、読み出し等の性能に対す
る信頼性なども従来に増して要求される。

【００１０】特開平６−５２５４１には研磨剤としてア
ルミナ、酸化クロム、ダイアモンドの内少なくとも１種
を含む磁気記録媒体が示され、これら高硬度粉末を添加
すると走行安定性が良好になるとしている。磁性層の厚
み損失による再生出力の低下を改良するために、磁性層
を薄層化することが知られており、例えば、特開平５ー
１８２１７８号公報には非磁性支持体上に無機質粉末を
含み、結合剤に分散してなる下層非磁性層と該非磁性層
が湿潤状態にある内に強磁性粉末を結合剤に分散してな
る１．０μｍ以下の厚みの上層磁性層を設けた磁気記録
媒体が開示されている。

【００１１】しかしながら、急速なディスク状やテープ
状の磁気記録媒体の大容量化、高密度化にともない、こ
のような技術をもってしても満足な特性を得ることが難
しくなってきていた。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】本発明は電磁変換特
性、特に高密度記録特性が格段に改良され、耐久性能が
実用上充分な高密度記録用磁気記録媒体を提供すること
を目的としている。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明者らは電磁変換特
性と耐久性が良好で特に高密度記録領域でのエラーレー
トが格段に改良された磁気記録媒体を得るために鋭意検
討した結果、以下のような媒体とすることで、本発明の
目的である優れた高密度記録特性が得られることを見い
だし、本発明に至ったものである。

【００１４】本発明は支持体上に実質的に非磁性である
下層と強磁性粉末を結合剤中に分散してなる磁性層をこ
の順に設けた磁気記録媒体において、前記磁性層は抗磁
力（Ｈｃ）が１８００エルステッド（Ｏｅ）以上であ
り、かつ中心面平均表面粗さ（Ｒａ）が０．５〜５．０
ｎｍであり、さらに前記磁性層中には平均粒径０．１０
〜１．０μｍであるダイアモンド微粒子を強磁性粉末に
対して０．０１〜５重量％含有することを特徴とする磁
気記録媒体とすることで、従来の技術では得ることがで
きなかった優れた高密度特性と優れた耐久性を併せ持ち
高密度記録領域でのＳＮ比が格段に改良された磁気記録
媒体を得ることができることを見いだしたものである。

【００１５】ここで実質的に非磁性である下層とは記録
に関与しない程度に磁性を持っていても良いという意味
であり、以降単に下層または非磁性層という。本発明
は、従来、高密度記録に適している下層を設けた上に薄
層磁性層を設けることと、磁性層のＨｃを高く、磁性層
表面性を平滑にした磁気記録媒体をもとに検討した結
果、なされたものである。このような磁気記録媒体を越
えて更に高密度記録を達成するためには出力向上よりノ
イズ低減の方が効果が大きく、改善余地も大きいと考え
た。

【００１６】塗布型磁気記録媒体のノイズには多くの要
因がある。その要因は磁性体の大きさ、磁性層の欠陥
（磁性層表面の凹凸、空隙、磁性体凝集、磁性層と下層
の界面乱れ、磁性層厚み変動、更に各種物理特性の分
布）等である。これらの要因とノイズへの寄与の大きさ
を見積もった結果、磁性層中に添加する非磁性粉体が空
隙、表面凹凸、磁性体凝集、下層と磁性層の界面の乱れ
等に大きく影響を及ぼしていることをつきとめた。

【００１７】本発明はこれら知見に基づいて検討され、
ダイアモンド微粒子を研磨剤とした場合、少量で耐久性
が確保できること、磁性体凝集、他の磁性層欠陥への悪
影響が極端に少なくなることを見いだした。結果的にノ
イズを格段に改良でき、更に出力も若干増加し、従来に
ない優れたＳＮ比と耐久性を両立する磁気記録媒体を得
ることができた。

【００１８】本発明に使用するダイアモンド微粒子は、
平均粒径が０．１０〜１．０μｍで、好ましくは０．１
０〜０．８μｍである。平均粒径が０．１０μｍ未満で
は添加量に対する耐久性向上の効果が低くなる。１．０
μｍより大きいと耐久性は優れるもののノイズが高くな
り、本発明の目的は達成されない。本発明においては、
各ダイアモンド微粒子の最大径をもって粒径とし、平均
粒径とは電子顕微鏡から無作為に抽出される５００ケの
粒子の測定値の平均値を指す。

【００１９】ダイアモンド微粒子の添加量は、強磁性粉
末に対して０．０１〜５重量％、好ましくは０．０３〜
３．００重量％の範囲である。０．０１重量％未満で
は、耐久性の確保が困難になり、５重量％を越えるとダ
イアモンド添加によるノイズ低減効果が少なくなる。ノ
イズ、耐久性の観点からダイアモンド微粒子の添加量及
び平均粒径は、上記範囲に規定されるが、ノイズの観点
からは、ダイアモンドの添加量はできるだけ少ない方が
好ましく、本発明の磁気記録媒体は、磁気記録再生装置
にあったダイアモンドの添加量、その平均粒径を上記範
囲から適宜選定することが好ましい。

【００２０】また、ダイアモンド微粒子の粒度分布とし
ては、粒径が平均粒径の２００％以上の粒子個数がダイ
アモンド全個数中の５％以下であり、粒径が平均粒径の
５０％以下の粒子個数がダイアモンド全個数中の２０％
以下であることが好ましい。本発明に使用されるダイア
モンド微粒子の粒径の最大値は、３．００μｍ、好まし
くは２．００μｍ程度であり、その最小径は０．０１μ
ｍ、好ましくは０．０２μｍ程度である。

【００２１】粒度分布の測定は、上記の粒子径の測定の
際に平均粒径を基準にその個数を計数して求める。ダイ
アモンド微粒子は、その粒度分布も耐久性とノイズに影
響する。粒度分布が上記範囲より広いと前述したように
本発明において設定した平均粒径に相当する効果がずれ
る。即ち、粒径が大きすぎるものが多いとノイズを増大
させたり、ヘッドを傷つけたりする。また、微小なもの
が多いと研磨効果が不充分となる。また、極端に粒度分
布の狭いものはダイアモンド微粒子の価格が高くなり、
上記範囲とすることがコスト的にも有利である。ダイア
モンド粒子は、高硬度であり、且つ本発明のように粒度
分布がシャープで微粒子のダイアモンド粒子を使用する
と従来の研磨剤よりも含有量が少なくて同じ程度の研磨
効果を期待できるので、ノイズの観点から有利である。

【００２２】更に、本発明ではダイアモンド微粒子に、
従来使用されている研磨剤、例えば、アルミナ、ＳｉＣ
等の研磨剤を併用することもできる。耐久性とＳＮ比へ
の効果は、少量のダイアモンド微粒子のみの方が良好だ
が、コスト他の理由でアルミナ、ＳｉＣ等のダイアモン
ド微粒子以外の研磨剤を加えてもよい。この場合もダイ
アモンド微粒子を含むためにアルミナ単独で耐久性に必
要な添加量よりもかなり減量することができ、耐久性の
確保及びノイズの低減の観点からも好ましい。

【００２３】本発明の磁気記録媒体の磁性層の抗磁力
（Ｈｃ）は１８００Ｏｅ以上であり、好ましくは２００
０Ｏｅ以上であり、更に好ましくは２３００〜３５００
Ｏｅである。上限は明確ではないが、本発明による記録
ヘッド（Ｂｓ：１．８Ｔ（テスラ））での検討では３５
００Ｏｅ程度と思われる。１８００Ｏｅ未満では本発明
が指向する高記録密度は達成されない。

【００２４】本発明の磁性層の中心面平均表面粗さ（Ｒ
ａ）は、３Ｄ−ＭＩＲＡＵ法により測定される値であ
り、本発明では０．５〜５．０ｎｍ、好ましくは４ｎｍ
以下、更に好ましくは３ｎｍ以下である。５．０ｎｍを
越えると磁気記録媒体とヘッドのスペーシングロスが大
きくなり、出力が低く、ノイズが高くなり、本発明の磁
気記録媒体が有する媒体性能を発揮出来ない。０．５ｎ
ｍに満たないと磁性層が磁気ヘッドにより損傷を受けや
すくなるので好ましくない。

【００２５】

【発明の実施の形態】

［磁性層］本発明の磁気記録媒体では下層と、超薄層な
磁性層（以下、「上層」、「上層磁性層」ともいう）を
支持体の片面だけでも、両面に設けても良い。上下層は
下層を塗布後、下層が湿潤状態の内（Ｗ／Ｗ）でも、乾
燥した後（Ｗ／Ｄ）にでも上層磁性層を設けることが出
来る。生産得率の点から同時、又は逐次湿潤塗布が好ま
しいが、デイスクの場合は乾燥後塗布も十分使用でき
る。本発明の重層構成で同時、又は逐次湿潤塗布（Ｗ／
Ｗ）では上層／下層が同時に形成できるため、カレンダ
ー工程などの表面処理工程を有効に活用でき、超薄層で
も上層磁性層の表面粗さを良化できる。

【００２６】［強磁性金属粉末］本発明の上層磁性層に
使用する強磁性粉末としては、強磁性金属粉末または六
方晶フェライト粉末が好ましい。強磁性金属粉末として
は、α−Ｆｅを主成分とする強磁性合金粉末が好まし
い。これらの強磁性粉末には所定の原子以外にＡｌ、Ｓ
ｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｃａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍ
ｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔ
ａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、
Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓ
ｒ、Ｂなどの原子を含んでもかまわない。特に、Ａｌ、
Ｓｉ、Ｃａ、Ｙ、Ｂａ、Ｌａ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｃｏ、Ｎ
ｉ、Ｂの少なくとも１つをα−Ｆｅ以外に含むことが好
ましく、Ｃｏ、Ｙ、Ａｌ、Ｎｄ、Ｓｍの少なくとも一つ
を含むことがさらに好ましい。Ｃｏの含有量はＦｅに対
して０原子％以上４０原子％以下が好ましく、さらに好
ましくは１５原子％以上３５原子％以下、より好ましく
は２０原子％以上３５原子％以下である。Ｙの含有量は
１．５原子％以上１２原子％以下が好ましく、さらに好
ましくは３原子％以上１０原子％以下、より好ましくは
４原子％以上９原子％以下である。Ａｌは１．５原子％
以上１２原子％以下が好ましく、さらに好ましくは３原
子％以上１０原子％以下、より好ましくは４原子％以上
９原子％以下である。これらの強磁性粉末にはあとで述
べる分散剤、潤滑剤、界面活性剤、帯電防止剤などで分
散前にあらかじめ処理を行ってもかまわない。具体的に
は、特公昭４４−１４０９０号、特公昭４５−１８３７
２号、特公昭４７−２２０６２号、特公昭４７−２２５
１３号、特公昭４６−２８４６６号、特公昭４６−３８
７５５号、特公昭４７−４２８６号、特公昭４７−１２
４２２号、特公昭４７−１７２８４号、特公昭４７−１
８５０９号、特公昭４７−１８５７３号、特公昭３９−
１０３０７号、特公昭４６−３９６３９号、米国特許第
３０２６２１５号、同３０３１３４１号、同３１００１
９４号、同３２４２００５号、同３３８９０１４号など
に記載されている。

【００２７】強磁性金属粉末には少量の水酸化物、また
は酸化物が含まれてもよい。強磁性金属粉末の公知の製
造方法により得られたものを用いることができ、下記の
方法を挙げることができる。複合有機酸塩（主としてシ
ュウ酸塩）と水素などの還元性気体で還元する方法、酸
化鉄を水素などの還元性気体で還元してＦｅあるいはＦ
ｅ−Ｃｏ粒子などを得る方法、金属カルボニル化合物を
熱分解する方法、強磁性金属の水溶液に水素化ホウ素ナ
トリウム、次亜リン酸塩あるいはヒドラジンなどの還元
剤を添加して還元する方法、金属を低圧の不活性気体中
で蒸発させて微粉末を得る方法などである。このように
して得られた強磁性金属粉末は公知の徐酸化処理、すな
わち有機溶剤に浸漬したのち乾燥させる方法、有機溶剤
に浸漬したのち酸素含有ガスを送り込んで表面に酸化膜
を形成したのち乾燥させる方法、有機溶剤を用いず酸素
ガスと不活性ガスの分圧を調整して表面に酸化皮膜を形
成する方法のいずれを施したものでも用いることができ
る。

【００２８】本発明の磁性層の強磁性金属粉末をＢＥＴ
法による比表面積で表せば４５〜８０ｍ² ／ｇであり、
好ましくは５０〜７０ｍ²／ｇである。４５ｍ²／ｇ以下
ではノイズが高くなり、８０ｍ²／ｇ以上では表面性が
得にくく好ましくない。本発明の磁性層の強磁性金属粉
末の結晶子サイズは８０〜１８０Åであり、好ましくは
１００〜１８０Å、更に好ましくは１１０〜１７５Åで
ある。強磁性金属粉末の平均長軸長は、好ましくは３０
〜１５０ｎｍであり、さらに好ましくは３０〜１００ｎ
ｍである。強磁性金属粉末の針状比は３以上１５以下が
好ましく、さらには５以上１２以下が好ましい。強磁性
金属粉末の飽和磁化（σ_S ）は１００〜２００emu/gで
あり、好ましくは１２０emu/g 〜１８０emu/g である。

【００２９】強磁性金属粉末の含水率は０．０１〜２重
量％とするのが好ましい。結合剤の種類によって強磁性
金属粉末の含水率は最適化するのが好ましい。強磁性金
属粉末のｐＨは、用いる結合剤との組合せにより最適化
することが好ましい。その範囲は通常、４〜１２である
が、好ましくは６〜１０である。強磁性金属粉末は必要
に応じ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｐまたはこれらの酸化物などで表
面処理を施してもかまわない。その量は強磁性金属粉末
に対し通常、０．１〜１０重量％であり表面処理を施す
と脂肪酸などの潤滑剤の吸着が１００ｍｇ／ｍ² 以下に
なり好ましい。強磁性金属粉末には可溶性のＮａ、Ｃ
ａ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｓｒなどの無機イオンを含む場合があ
る。これらは、本質的に無い方が好ましいが、２００pp
m以下であれば特に特性に影響を与えることは少ない。
また、本発明に用いられる強磁性金属粉末は空孔が少な
いほうが好ましくその値は２０容量％以下、さらに好ま
しくは５容量％以下である。また形状については先に示
した粒子サイズについての特性を満足すれば針状、米粒
状、紡錘状のいずれでもかまわない。強磁性金属粉末自
体のＳＦＤ（switching field distribution) は小さい
方が好ましく、０．８以下が好ましい。強磁性金属粉末
のＨｃの分布を小さくする必要がある。尚、ＳＦＤが
０．８以下であると、電磁変換特性が良好で、出力が高
く、また、磁化反転がシャープでピークシフトも少なく
なり、高密度デジタル磁気記録に好適である。Ｈｃの分
布を小さくするためには、強磁性金属粉末においてはゲ
ータイトの粒度分布を良くする、焼結を防止するなどの
方法がある。

【００３０】［六方晶フェライト粉末］六方晶フェライ
トとしては、バリウムフェライト、ストロンチウムフェ
ライト、鉛フェライト、カルシウムフェライトの各置換
体、Ｃｏ置換体等がある。具体的にはマグネトプランバ
イト型のバリウムフェライト及びストロンチウムフェラ
イト、スピネルで粒子表面を被覆したマグネトプランバ
イト型フェライト、更に一部スピネル相を含有したマグ
ネトプランバイト型のバリウムフェライト及びストロン
チウムフェライト等が挙げられ、その他所定の原子以外
にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ，Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ，Ｃｒ、Ｃｕ，Ｙ，
Ｍｏ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔ
ａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、
Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ，Ｃｏ，Ｍｎ，Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂ、
Ｇｅ、Ｎｂなどの原子を含んでもかまわない。一般には
Ｃｏ−Ｚｎ、Ｃｏ−Ｔｉ，Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｒ、Ｃｏ−Ｔ
ｉ−Ｚｎ，Ｎｉ−Ｔｉ−Ｚｎ，Ｎｂ−Ｚｎ−Ｃｏ、Ｓｂ
ーＺｎ−Ｃｏ、Ｎｂ−Ｚｎ等の元素を添加した物を使用
することができる。原料・製法によっては特有の不純物
を含有するものもある。六方晶フェライト粉末の粉体サ
イズは、六角板の最大長径の平均（以下、「平均板径」
という）で、好ましくは１０〜３５nmである。

【００３１】特にトラック密度を上げるため磁気抵抗ヘ
ッド（ＭＲヘッド）で再生する場合、低ノイズにする必
要があり、板径は３５nm以下が好ましいが、１０nm未満
では熱揺らぎのため安定な磁化が望めない。３５nmを越
えるとノイズが高く、いずれも高密度磁気記録には向か
ない。板状比（板径／板厚）は１〜１５が望ましい。好
ましくは１〜７である。板状比が小さいと磁性層中の充
填性は高くなり好ましいが、十分な配向性が得られな
い。１５より大きいと粒子間のスタッキングによりノイ
ズが大きくなる。この粒子サイズ範囲のＢＥＴ法による
比表面積は３０〜２００ｍ²/gを示す。比表面積は概ね
粒子板径と板厚からの算術計算値と符号する。粒子板径
・板厚の分布は通常狭いほど好ましい。数値化は困難で
あるが粒子ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）写真より５００
粒子を無作為に測定する事で比較できる。分布は正規分
布ではない場合が多いが、計算して平均サイズに対する
標準偏差で表すとσ／平均サイズ＝０．１〜２．０であ
る。粒子サイズ分布をシャープにするには粒子生成反応
系をできるだけ均一にすると共に、生成した粒子に分布
改良処理を施すことも行われている。たとえば酸溶液中
で超微細粒子を選別的に溶解する方法等も知られてい
る。磁性体で測定される抗磁力Ｈｃは５００Oe〜５００
０Oe程度まで作成できる。Ｈｃは高い方が高密度記録に
有利であるが、記録ヘッドの能力で制限される。Ｈｃは
粒子サイズ（板径・板厚）、含有元素の種類と量、元素
の置換サイト、粒子生成反応条件等により制御できる。
飽和磁化（σ_S ）は３０emu/g〜８０emu/gである。微粒
子になるほど小さくなる傾向がある。製法では結晶化温
度、または熱処理温度時間を小さくする方法、添加する
化合物を増量する、表面処理量を多くする方法等があ
る。またＷ型六方晶フェライトを用いることも可能であ
る。磁性体を分散する際に磁性体粒子表面を分散媒、ポ
リマーに合った物質で処理することも行われている。表
面処理材は無機化合物、有機化合物が使用される。主な
化合物としてはＳｉ、Ａｌ、Ｐ、等の酸化物または水酸
化物、各種シランカップリング剤、各種チタンカップリ
ング剤が代表例である。量は磁性体に対して０．１〜１
０重量％である。磁性体のｐＨも分散に重要である。通
常４〜１２程度で分散媒、ポリマーにより最適値がある
が、媒体の化学的安定性、保存性から６〜１１程度が選
択される。磁性体に含まれる水分も分散に影響する。分
散媒、ポリマーにより最適値があるが通常０．０１〜
２．０重量％が選ばれる。六方晶フェライトの製法とし
ては、酸化バリウム・酸化鉄・鉄を置換する金属酸化
物とガラス形成物質として酸化ホウ素等を所望のフェラ
イト組成になるように混合した後溶融し、急冷して非晶
質体とし、次いで再加熱処理した後、洗浄・粉砕してバ
リウムフェライト結晶粉体を得るガラス結晶化法、バ
リウムフェライト組成金属塩溶液をアルカリで中和し、
副生成物を除去した後１００℃以上で液相加熱した後洗
浄・乾燥・粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得る
水熱反応法、バリウムフェライト組成金属塩溶液をア
ルカリで中和し、副生成物を除去した後乾燥し１１００
℃以下で処理し、粉砕してバリウムフェライト結晶粉体
を得る共沈法等があるが、本発明は製法を選ばない。

【００３２】［下層］次に下層に関する詳細な内容につ
いて説明する。本発明の下層は実質的に非磁性であれば
その構成は制限されるべきものではないが、通常、少な
くとも樹脂からなり、好ましくは、粉体、例えば、無機
粉末あるいは有機粉末が樹脂中に分散されたものが挙げ
られる。該無機粉末は、通常、好ましくは非磁性粉末で
あるが、下層が実質的に非磁性である範囲で磁性粉末も
使用され得るものである。下層が実質的に非磁性である
とは、上層の電磁変換特性を実質的に低下させない範囲
で下層が磁性を有することを許容するということであ
る。

【００３３】該非磁性粉末としては、例えば、金属酸化
物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化
物、金属硫化物等の無機化合物から選択することができ
る。無機化合物としては例えばα化率９０％以上のα−
アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、θ−アルミ
ナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化
鉄、ヘマタイト、ゲータイト、コランダム、窒化珪素、
チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、酸化ス
ズ、酸化マグネシウム、酸化タングステン、酸化ジルコ
ニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸
カルシウム、硫酸バリウム、二硫化モリブデンなどが単
独または組合せで使用される。特に好ましいのは、粒度
分布の小ささ、機能付与の手段が多いこと等から、二酸
化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、硫酸バリウムであり、更
に好ましいのは二酸化チタン、α酸化鉄である。これら
非磁性粉末の平均粒子径は０．００５〜２μｍが好まし
いが、必要に応じて粒子サイズの異なる非磁性粉末を組
み合わせたり、単独の非磁性粉末でも粒径分布を広くし
て同様の効果をもたせることもできる。とりわけ好まし
いのは非磁性粉末の平均粒子径は０．０１μｍ〜０．２
μｍである。特に、非磁性粉末が粒状金属酸化物である
場合は、平均粒子径０．０８μｍ以下が好ましく、針状
金属酸化物である場合は、平均長軸長が０．３μm以下
が好ましく、０．２μｍ以下がさらに好ましい。タップ
密度は０．０５〜２g/ml、好ましくは０．２〜１．５g/
mlである。非磁性粉末の含水率は０．１〜５重量％、好
ましくは０．２〜３重量％、更に好ましくは０．３〜
１．５重量％である。非磁性粉末のｐＨは通常、２〜１
１であるが、ｐＨは３〜１０の間が特に好ましい。非磁
性粉末の比表面積は１〜１００m² /g、好ましくは５〜
８０m² /g、更に好ましくは１０〜７０m² /gである。非
磁性粉末の結晶子サイズは０．００４μｍ〜１μｍが好
ましく、０．０４μｍ〜０．１μｍが更に好ましい。Ｄ
ＢＰ（ジブチルフタレート）を用いた吸油量は５〜１０
０ml/100g、好ましくは１０〜８０ml/100g、更に好まし
くは２０〜６０ml/100gである。比重は１〜１２、好ま
しくは３〜６である。形状は針状、球状、多面体状、板
状のいずれでも良い。モース硬度は４以上、１０以下の
ものが好ましい。非磁性粉末のＳＡ（ステアリン酸）吸
着量は１〜２０μmol／ m² 、好ましくは２〜１５μmol
/m² 、さらに好ましくは３〜８μmol/m² である。これ
らの非磁性粉末の表面は表面処理が施されＡｌ₂Ｏ₃ 、
ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂ 、ＺｒＯ₂ 、ＳｎＯ₂ 、Ｓｂ₂Ｏ₃ 、
ＺｎＯ、Ｙ₂Ｏ₃ が存在することが好ましい。特に分散
性に好ましいのはＡｌ₂Ｏ₃ 、ＳｉＯ₂ 、ＴｉＯ₂ 、Ｚ
ｒＯ₂ であるが、更に好ましいのはＡｌ₂Ｏ₃ 、ＳｉＯ₂
、ＺｒＯ₂ である。これらは組み合わせて使用しても
良いし、単独で用いることもできる。また、目的に応じ
て共沈させた表面処理層を用いても良いし、先ずアルミ
ナを存在させた後にその表層にシリカを存在させる方
法、またはその逆の方法を採ることもできる。また、表
面処理層は目的に応じて多孔質層にしても構わないが、
均質で密である方が一般には好ましい。

【００３４】本発明の下層に用いられる非磁性粉末の具
体的な例としては、昭和電工製ナノタイト、住友化学製
ＨＩＴ−１００，ＺＡ−Ｇ１、戸田工業社製αヘマタイ
トＤＰＮ−２５０，ＤＰＮ−２５０ＢＸ，ＤＰＮ−２４
５，ＤＰＮ−２７０ＢＸ，ＤＰＮ−５００ＢＸ，ＤＢＮ
−ＳＡ１，ＤＢＮ−ＳＡ３、石原産業製酸化チタンＴＴ
Ｏ−５１Ｂ，ＴＴＯ−５５Ａ，ＴＴＯ−５５Ｂ，ＴＴＯ
−５５Ｃ，ＴＴＯ−５５Ｓ，ＴＴＯ−５５Ｄ，ＳＮ−１
００、αヘマタイトＥ２７０，Ｅ２７１，Ｅ３００，Ｅ
３０３、チタン工業製酸化チタンＳＴＴ−４Ｄ，ＳＴＴ
−３０Ｄ，ＳＴＴ−３０，ＳＴＴ−６５Ｃ、αヘマタイ
トα−４０、テイカ製ＭＴ−１００Ｓ，ＭＴ−１００
Ｔ，ＭＴ−１５０Ｗ，ＭＴ−５００Ｂ，ＭＴ−６００
Ｂ，ＭＴ−１００Ｆ，ＭＴ−５００ＨＤ、堺化学製ＦＩ
ＮＥＸ−２５，ＢＦ−１，ＢＦ−１０，ＢＦ−２０，Ｓ
Ｔ−Ｍ、同和鉱業製ＤＥＦＩＣ−Ｙ，ＤＥＦＩＣ−Ｒ、
日本アエロジル製ＡＳ２ＢＭ，ＴｉＯ２Ｐ２５、宇部興
産製１００Ａ，５００Ａ、及びそれを焼成したものが挙
げられる。特に好ましい非磁性粉末は二酸化チタンとα
−酸化鉄である。

【００３５】下層にカ−ボンブラックを混合させて公知
の効果である表面電気抵抗Ｒｓを下げること、光透過率
を小さくすることができるとともに、所望のマイクロビ
ッカース硬度を得る事ができる。また、下層にカーボン
ブラックを含ませることで潤滑剤貯蔵の効果をもたらす
ことも可能である。カーボンブラックの種類はゴム用フ
ァ−ネス、ゴム用サ−マル、カラ−用ブラック、アセチ
レンブラック、等を用いることができる。下層のカーボ
ンブラックは所望する効果によって、以下のような特性
を最適化すべきであり、併用することでより効果が得ら
れることがある。

【００３６】下層のカ−ボンブラックの比表面積は１０
０〜５００m²／ｇ、好ましくは１５０〜４００m²／ｇ、
ＤＢＰ吸油量は２０〜４００ml/100g、好ましくは３０
〜４００ml/100gである。カ−ボンブラックの平均粒子
径は５ｎｍ〜８０ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍ、さ
らに好ましくは１０〜４０ｎｍである。カ−ボンブラッ
クのｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０重量％、タ
ップ密度は０．１〜１ｇ／mlが好ましい。本発明に用い
られるカ−ボンブラックの具体的な例としてはキャボッ
ト社製 ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０００，１３０
０，１０００，９００，８００，８８０，７００、ＶＵ
ＬＣＡＮ ＸＣ−７２、三菱化成工業社製＃３０５０
Ｂ，＃３１５０Ｂ，＃３２５０Ｂ，＃３７５０Ｂ，＃３
９５０Ｂ，＃９５０，＃６５０Ｂ，＃９７０Ｂ，＃８５
０Ｂ，ＭＡ−６００，ＭＡ−２３０，＃４０００，＃４
０１０、コロンビアンカ−ボン社製 ＣＯＮＤＵＣＴＥ
ＸＳＣ、ＲＡＶＥＮ ８８００，８０００，７０００，
５７５０，５２５０，３５００，２１００，２０００，
１８００，１５００，１２５５，１２５０、アクゾー社
製ケッチェンブラックＥＣなどがあげられる。カ−ボン
ブラックを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフ
ト化して使用しても、表面の一部をグラファイト化した
ものを使用してもかまわない。また、カ−ボンブラック
を塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもか
まわない。これらのカーボンブラックは上記無機質粉末
に対して５０重量％を越えない範囲、非磁性層総重量の
４０重量％を越えない範囲で使用できる。これらのカ−
ボンブラックは単独、または組合せで使用することがで
きる。本発明で使用できるカ−ボンブラックは例えば
「カ−ボンブラック便覧」（カ−ボンブラック協会編）
を参考にすることができる。

【００３７】また下層には有機質粉末を目的に応じて、
添加することもできる。例えば、アクリルスチレン系樹
脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉
末、フタロシアニン系顔料が挙げられるが、ポリオレフ
ィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド
系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化エチレ
ン樹脂も使用することができる。その製法は特開昭６２
−１８５６４号、特開昭６０−２５５８２７号に記され
ているようなものが使用できる。

【００３８】［結合剤］本発明の磁性層と下層、バック
層のバインダー、潤滑剤、分散剤、添加剤、溶剤、分散
方法その他は磁性層、下層、バック層のそれが適用でき
る。特に、バインダー量、種類、添加剤、分散剤の添加
量、種類に関しては磁性層に関する公知技術が適用でき
る。

【００３９】本発明に使用される結合剤としては従来公
知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂やこれら
の混合物が使用される。熱可塑性樹脂としては、ガラス
転移温度が−１００〜１５０℃、数平均分子量が１,０
００〜２００,０００、好ましくは１０,０００〜１０
０,０００、重合度が約５０〜１０００程度のものであ
る。

【００４０】このような例としては、塩化ビニル、酢酸
ビニル、ビニルアルコ−ル、マレイン酸、アクリル酸、
アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリ
ル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、
ブタジエン、エチレン、ビニルブチラ−ル、ビニルアセ
タ−ル、ビニルエ−テル、等を構成単位として含む重合
体または共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂
がある。また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂としては
フェノ−ル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹
脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル
系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコ−ン樹脂、
エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシ
アネ−トプレポリマ−の混合物、ポリエステルポリオ−
ルとポリイソシアネ−トの混合物、ポリウレタンとポリ
イソシアネートの混合物等があげられる。これらの樹脂
については朝倉書店発行の「プラスチックハンドブッ
ク」に詳細に記載されている。また、公知の電子線硬化
型樹脂を各層に使用することも可能である。これらの例
とその製造方法については特開昭６２−２５６２１９に
詳細に記載されている。以上の樹脂は単独または組合せ
て使用できるが、好ましいものとして塩化ビニル樹脂、
塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル酢酸ビニル
ビニルアルコ−ル共重合体、塩化ビニル酢酸ビニル無水
マレイン酸共重合体、から選ばれる少なくとも１種とポ
リウレタン樹脂の組合せ、またはこれらにポリイソシア
ネ−トを組み合わせたものがあげられる。

【００４１】ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポ
リウレタン、ポリエ−テルポリウレタン、ポリエ−テル
ポリエステルポリウレタン、ポリカ−ボネ−トポリウレ
タン、ポリエステルポリカ−ボネ−トポリウレタン、ポ
リカプロラクトンポリウレタンなど公知のものが使用で
きる。ここに示したすべての結合剤について、より優れ
た分散性と耐久性を得るためには必要に応じ、−ＣＯＯ
Ｍ，−ＳＯ₃ Ｍ、−ＯＳＯ₃ Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂ 、
−Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂ 、（以上につきＭは水素原子、
またはアルカリ金属塩基）、−ＯＨ、−ＮＲ₂ 、−Ｎ⁺
Ｒ₃ （Ｒは炭化水素基）、エポキシ基、−ＳＨ、−Ｃ
Ｎ、などから選ばれる少なくともひとつ以上の極性基を
共重合または付加反応で導入したものを用いることが好
ましい。このような極性基の量は１０^-1〜１０^-8モル／ｇ
であり、好ましくは１０^-2〜１０^-6モル／ｇである。

【００４２】本発明に用いられるこれらの結合剤の具体
的な例としてはユニオンカ−バイト社製ＶＡＧＨ、ＶＹ
ＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ，ＶＲＯＨ，ＶＹ
ＥＳ，ＶＹＮＣ，ＶＭＣＣ，ＸＹＨＬ，ＸＹＳＧ，ＰＫ
ＨＨ，ＰＫＨＪ，ＰＫＨＣ，ＰＫＦＥ，日信化学工業社
製、ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５，ＭＰＲ−ＴＡＬ，
ＭＰＲ−ＴＳＮ，ＭＰＲ−ＴＭＦ，ＭＰＲ−ＴＳ、ＭＰ
Ｒ−ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡＯ、電気化学社製１０００Ｗ、
ＤＸ８０，ＤＸ８１，ＤＸ８２，ＤＸ８３、１００Ｆ
Ｄ、日本ゼオン社製ＭＲ−１０４、ＭＲ−１０５、ＭＲ
１１０、ＭＲ１００、ＭＲ５５５、４００Ｘ−１１０
Ａ、日本ポリウレタン社製ニッポランＮ２３０１、Ｎ２
３０２、Ｎ２３０４、大日本インキ社製パンデックスＴ
−５１０５、Ｔ−Ｒ３０８０、Ｔ−５２０１、バ−ノッ
クＤ−４００、Ｄ−２１０−８０、クリスボン６１０
９，７２０９，東洋紡社製バイロンＵＲ８２００，ＵＲ
８３００、ＵＲ−８７００、ＲＶ５３０，ＲＶ２８０、
大日精化社製、ダイフェラミン４０２０，５０２０，５
１００，５３００，９０２０，９０２２、７０２０，三
菱化成社製、ＭＸ５００４，三洋化成社製サンプレンＳ
Ｐ−１５０、旭化成社製サランＦ３１０，Ｆ２１０など
が挙げられる。

【００４３】本発明の下層、磁性層に用いられる結合剤
は非磁性粉末または磁性粉末に対し、５〜５０重量％の
範囲、好ましくは１０〜３０重量％の範囲で用いられ
る。塩化ビニル系樹脂を用いる場合は５〜３０重量％、
ポリウレタン樹脂を用いる場合は２〜２０重量％、ポリ
イソシアネ−トは２〜２０重量％の範囲でこれらを組み
合わせて用いることが好ましいが、例えば、微量の脱塩
素によりヘッド腐食が起こる場合は、ポリウレタンのみ
またはポリウレタンとイソシアネートのみを使用するこ
とも可能である。本発明において、ポリウレタンを用い
る場合はガラス転移温度が−５０〜１５０℃、好ましく
は０℃〜１００℃、破断伸びが１００〜２０００％、破
断応力は０．０５〜１０Kg/mm² 、降伏点は０．０５〜
１０Kg/mm²が好ましい。

【００４４】本発明の磁気記録媒体は二層以上から構成
されてもよい。従って、結合剤量、結合剤中に占める塩
化ビニル系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネ−
ト、あるいはそれ以外の樹脂の量、磁性層を形成する各
樹脂の分子量、極性基量、あるいは先に述べた樹脂の物
理特性などを必要に応じ下層、各磁性層とで変えること
はもちろん可能であり、むしろ各層で最適化すべきであ
り、多層磁性層に関する公知技術を適用できる。例え
ば、各層でバインダー量を変更する場合、磁性層表面の
擦傷を減らすためには磁性層のバインダー量を増量する
ことが有効であり、ヘッドに対するヘッドタッチを良好
にするためには、下層のバインダー量を多くして柔軟性
を持たせることができる。

【００４５】本発明に用いるポリイソシアネ−トとして
は、トリレンジイソシアネ−ト、４，４’−ジフェニル
メタンジイソシアネ−ト、ヘキサメチレンジイソシアネ
−ト、キシリレンジイソシアネ−ト、ナフチレン−１，
５−ジイソシアネ−ト、ｏ−トルイジンジイソシアネ−
ト、イソホロンジイソシアネ−ト、トリフェニルメタン
トリイソシアネ−ト等のイソシアネ−ト類、また、これ
らのイソシアネ−ト類とポリアルコールとの生成物、ま
た、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソ
シアネ−ト等を使用することができる。これらのイソシ
アネート類の市販されている商品名としては、日本ポリ
ウレタン社製、コロネートＬ、コロネ−トＨＬ，コロネ
−ト２０３０、コロネ−ト２０３１、ミリオネ−トＭ
Ｒ，ミリオネ−トＭＴＬ、武田薬品社製、タケネ−トＤ
−１０２，タケネ−トＤ−１１０Ｎ、タケネ−トＤ−２
００、タケネ−トＤ−２０２、住友バイエル社製、デス
モジュ−ルＬ，デスモジュ−ルＩＬ、デスモジュ−ル
Ｎ，デスモジュ−ルＨＬ，等がありこれらを単独または
硬化反応性の差を利用して二つもしくはそれ以上の組合
せで各層とも用いることができる。

【００４６】［カーボンブラック、研磨剤］本発明の磁
性層に使用されるカ−ボンブラックはゴム用ファ−ネ
ス、ゴム用サ−マル、カラ−用ブラック、アセチレンブ
ラック、等を用いることができる。比表面積は５〜５０
０m²／ｇ、ＤＢＰ吸油量は１０〜４００mｌ／１００
ｇ、平均粒子径は５ｎｍ〜３００ｎｍ、ｐＨは２〜１
０、含水率は０．１〜１０重量％、タップ密度は０．１
〜１ｇ／cc、が好ましい。本発明に用いられるカ−ボン
ブラックの具体的な例としてはキャボット社製、ＢＬＡ
ＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０００、１３００、１０００、９
００、９０５、８００，７００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−
７２、旭カ−ボン社製、＃８０、＃６０，＃５５、＃５
０、＃３５、三菱化成工業社製、＃２４００Ｂ、＃２３
００、＃９００，＃１０００，＃３０，＃４０、＃１０
Ｂ、コロンビアンカ−ボン社製、ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ
ＳＣ、ＲＡＶＥＮ １５０、５０，４０，１５、ＲＡＶ
ＥＮ−ＭＴ−Ｐ、日本ＥＣ社製、ケッチェンブラックＥ
Ｃ、などがあげられる。カ−ボンブラックを分散剤など
で表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、
表面の一部をグラファイト化したものを使用してもかま
わない。また、カ−ボンブラックを磁性塗料に添加する
前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。これら
のカ−ボンブラックは単独、または組合せで使用するこ
とができる。カ−ボンブラックを使用する場合は磁性体
に対する量の０．１〜３０重量％で用いることが好まし
い。カ−ボンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦係数低
減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあり、これら
は用いるカ−ボンブラックにより異なる。従って本発明
に使用されるこれらのカ−ボンブラックは上層磁性層、
下層でその種類、量、組合せを変え、粒子サイズ、吸油
量、電導度、ｐＨなどの先に示した諸特性をもとに目的
に応じて使い分けることはもちろん可能であり、むしろ
各層で最適化すべきものである。本発明の磁性層で使用
できるカ−ボンブラックは，例えば（「カ−ボンブラッ
ク便覧」カ−ボンブラック協会編）を参考にすることが
できる。

【００４７】本発明に用いられる研磨剤としては少なく
ともダイアモンド微粒子が用いられる。ダイアモンドで
あれば、本発明の目的を達成できるが、天然ダイアモン
ドは高価であり、通常、人工ダイヤモンドが使用され
る。ダイアモンドの製法としては、黒鉛と鉄、Ｃｏ、Ｎ
ｉ等を介して高温高圧下で生成する方法、黒鉛またはフ
ラン樹脂炭素を高温高圧下で反応させる静的合成法と呼
ばれるものの他、動的合成法、気相合成法がある。本発
明はダイアモンドの製法を選ばない。

【００４８】工業的には切削、研磨として使用したダイ
アモンドを不純物を弁別洗浄したものを用い、２次使用
することも可能である。本発明はダイアモンド粒子の分
布を規定する。ダイアモンド粒子を分級する方法として
は、分散液から遠心力を用いる、特殊なメッシュフィル
ターを用いる方法等がある。本発明においては、ダイア
モンド微粒子と他の研磨剤を組み合わすこともできる。
他の研磨剤としてはα化率９０％以上のα−アルミナ、
β−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウ
ム、α−酸化鉄、コランダム、窒化珪素、炭化珪素、チ
タンカ−バイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ
素、など主としてモ−ス硬度６以上の公知の材料が単独
または組合せで使用される。また、これらの研磨剤同士
の複合体（研磨剤を他の研磨剤で表面処理したもの）を
使用してもよい。これらの研磨剤には主成分以外の化合
物または元素が含まれる場合もあるが主成分が９０重量
％以上であれば効果にかわりはない。これら研磨剤の平
均粒径は０．０１〜２μｍが好ましく、特に電磁変換特
性を高めるためには、その粒度分布が狭い方が好まし
い。また耐久性を向上させるには必要に応じて粒子サイ
ズの異なる研磨剤を組み合わせたり、単独の研磨剤でも
粒径分布を広くして同様の効果をもたせることも可能で
ある。タップ密度は０．３〜２g/cc、含水率は０．１〜
５重量％、ｐＨは２〜１１、比表面積は１〜３０m²/gが
好ましい。本発明に用いられる研磨剤の形状は針状、球
状、サイコロ状、のいずれでも良いが、形状の一部に角
を有するものが研磨性が高く好ましい。具体的には住友
化学社製ＡＫＰ−１２、ＡＫＰ−１５、ＡＫＰ−２０、
ＡＫＰ−３０、ＡＫＰ−５０、ＨＩＴ−２０、ＨＩＴ−
３０、ＨＩＴ−５５、ＨＩＴ−６０、ＨＩＴ−７０、Ｈ
ＩＴ−８０、ＨＩＴ−１００、レイノルズ社製、ＥＲＣ
−ＤＢＭ、ＨＰ−ＤＢＭ、ＨＰＳ−ＤＢＭ、不二見研磨
剤社製、ＷＡ１００００、上村工業社製、ＵＢ２０、日
本化学工業社製、Ｇ−５、クロメックスＵ２、クロメッ
クスＵ１、戸田工業社製、ＴＦ１００、ＴＦ１４０、イ
ビデン社製、ベータランダムウルトラファイン、昭和鉱
業社製、Ｂ−３などが挙げられる。これらの研磨剤は必
要に応じ下層に添加することもできる。下層に添加する
ことで表面形状を制御したり、研磨剤の突出状態を制御
したりすることができる。これら磁性層、下層の添加す
る研磨剤の粒径、量はむろん最適値に設定すべきもので
ある。

【００４９】［添加剤］本発明の磁性層と下層に使用さ
れる、添加剤としては潤滑効果、帯電防止効果、分散効
果、可塑効果、などをもつものが使用される。二硫化モ
リブデン、二硫化タングステングラファイト、窒化ホウ
素、フッ化黒鉛、シリコーンオイル、極性基をもつシリ
コーン、脂肪酸変性シリコーン、フッ素含有シリコー
ン、フッ素含有アルコール、フッ素含有エステル、ポリ
オレフィン、ポリグリコール、アルキル燐酸エステルお
よびそのアルカリ金属塩、アルキル硫酸エステルおよび
そのアルカリ金属塩、ポリフェニルエーテル、フェニル
ホスホン酸、αナフチル燐酸、フェニル燐酸、ジフェニ
ル燐酸、ｐ−エチルベンゼンホスホン酸、フェニルホス
フィン酸、アミノキノン類、各種シランカップリング
剤、チタンカップリング剤、フッ素含有アルキル硫酸エ
ステルおよびそのアルカリ金属塩、炭素数１０〜２４の
一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐して
いてもかまわない）、および、これらの金属塩（Ｌｉ、
Ｎａ、Ｋ、Ｃｕなど）または、炭素数１２〜２２の一
価、二価、三価、四価、五価、六価アルコール（不飽和
結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、炭
素数１２〜２２のアルコキシアルコール（不飽和結合を
含んでも、また分岐していてもかまわない）、炭素数１
０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、ま
た分岐していてもかまわない）と炭素数２〜１２の一
価、二価、三価、四価、五価、六価アルコールのいずれ
か一つ（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもか
まわない）とからなるモノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪
酸エステルまたはトリ脂肪酸エステル、アルキレンオキ
シド重合物のモノアルキルエーテルの脂肪酸エステル、
炭素数８〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の脂肪
族アミン、などが使用できる。

【００５０】これらの具体例としては脂肪酸では、カプ
リン酸、カプリル酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パル
ミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、エラ
イジン酸、リノール酸、リノレン酸、イソステアリン酸
などが挙げられる。エステル類ではブチルステアレー
ト、オクチルステアレート、アミルステアレート、イソ
オクチルステアレート、ブチルミリステート、オクチル
ミリステート、ブトキシエチルステアレート、ブトキシ
ジエチルステアレート、２ーエチルヘキシルステアレー
ト、２ーオクチルドデシルパルミテート、２ーヘキシル
ドデシルパルミテート、イソヘキサデシルステアレー
ト、オレイルオレエート、ドデシルステアレート、トリ
デシルステアレート、エルカ酸オレイル、ネオペンチル
グリコールジデカノエート、エチレングリコールジオレ
イル、アルコール類ではオレイルアルコ−ル、ステアリ
ルアルコール、ラウリルアルコ−ルなどがあげられる。
また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリシ
ド−ル系、アルキルフェノ−ルエチレンオキサイド付加
体、等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステルア
ミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導体、
複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類等のカチ
オン系界面活性剤、カルボン酸、スルフォン酸、燐酸、
硫酸エステル基、燐酸エステル基、などの酸性基を含む
アニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホン酸
類、アミノアルコ−ルの硫酸または燐酸エステル類、ア
ルキルベダイン型、等の両性界面活性剤等も使用でき
る。これらの界面活性剤については、「界面活性剤便
覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載されてい
る。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも１００％
純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応
物、分解物、酸化物等の不純分が含まれてもかまわな
い。これらの不純分は３０重量％以下が好ましく、さら
に好ましくは１０重量％以下である。

【００５１】本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面
活性剤は個々に異なる物理的作用を有するものであり、
その種類、量、および相乗的効果を生み出す潤滑剤の併
用比率は目的に応じ最適に定められるべきものである。
下層、磁性層で融点の異なる脂肪酸を用い表面への滲み
出しを制御する、沸点、融点や極性の異なるエステル類
を用い表面への滲み出しを制御する、界面活性剤量を調
節することで塗布の安定性を向上させる、潤滑剤の添加
量を下層で多くして潤滑効果を向上させるなど考えら
れ、無論ここに示した例のみに限られるものではない。
一般には潤滑剤の総量として磁性層の強磁性粉末または
下層の非磁性粉末に対し、０．１重量％〜５０重量％、
好ましくは２重量％〜２５重量％の範囲で選択される。

【００５２】また本発明で用いられる添加剤のすべてま
たはその一部は、磁性および非磁性塗料製造のどの工程
で添加してもかまわない、例えば、混練工程前に磁性体
と混合する場合、磁性体と結合剤と溶剤による混練工程
で添加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添
加する場合、塗布直前に添加する場合などがある。ま
た、目的に応じて磁性層を塗布した後、同時または逐次
塗布で、添加剤の一部または全部を塗布することにより
目的が達成される場合がある。また、目的によってはカ
レンダー処理（カレンダーロールによる加熱加圧処理）
した後、またはスリット終了後、磁性層表面に潤滑剤を
塗布することもできる。

【００５３】本発明で用いられる有機溶剤は公知のもの
が使用でき、例えば特開平６−６８４５３に記載の溶剤
を用いることができる。

【００５４】［層構成］本発明の磁気記録媒体の厚み構
成は支持体が２〜１００μm、好ましくは２〜８０μmで
ある。コンピューターテープの支持体は、３．０〜６．
５μｍ（好ましくは、３．０〜６．０μｍ、更に好まし
くは、４．０〜５．５μｍ）の範囲の厚さのものが使用
される。

【００５５】支持体と下層との間に密着性向上のための
下塗り層を設けてもかまわない。本下塗層厚みは０．０
１〜０．５μm、好ましくは０．０２〜０．５μmであ
る。本発明は通常、支持体両面に下層と磁性層を設けて
なる両面磁性層ディスク状媒体であっても、片面のみに
それらを設けたディスク状媒体又はテープ状媒体であっ
てもよい。後者の場合、帯電防止やカール補正などの効
果を出すために下層、磁性層側と反対側にバックコ−ト
層を設けてもかまわない。この厚みは０．１〜４μm、
好ましくは０．３〜２．０μmである。これらの下塗
層、バックコ−ト層は公知のものが使用できる。

【００５６】本発明の媒体の磁性層の厚みは用いるヘッ
ドの飽和磁化量やヘッドギャップ長、記録信号の帯域に
より最適化されるものであるが、好ましくは０．０５〜
０．５μｍ、更に好ましくは０．１〜０．２５μｍであ
る。磁性層を異なる磁気特性を有する２層以上に分離し
てもかまわず、公知の重層磁性層に関する構成が適用で
きる。

【００５７】本発明になる媒体の下層の厚みは０．２μ
ｍ以上５．０μｍ以下、好ましくは０．３μｍ以上３．
０μｍ以下、さらに好ましくは１．０μｍ以上２．５μ
ｍ以下である。なお、本発明媒体の下層は実質的に非磁
性であればその効果を発揮するものであり、たとえば不
純物としてあるいは意図的に少量の磁性体を含んでも、
本発明の効果を示すものであり、本発明と実質的に同一
の構成と見なすことができることは言うまでもない。実
質的に非磁性とは下層の残留磁束密度が１００ガウス
（Ｇ）以下または抗磁力が１００Oe以下であることを示
し、好ましくは残留磁束密度と抗磁力をもたないことを
示す。

【００５８】［支持体］本発明に用いられる支持体は非
磁性であることが好ましい。非磁性支持体としてはポリ
エチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、
等のポリエステル類、ポリオレフィン類、セルロ−スト
リアセテート、ポリカ−ボネート、ポリアミド（脂肪族
ポリアミドやアラミド等の芳香族ポリアミドを含む）、
ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリスルフォン、ポリ
ベンゾオキサゾールなどの公知のフィルムが使用でき
る。ポリエチレンナフタレート、ポリアミドなどの高強
度支持体を用いることが好ましい。また必要に応じ、磁
性面とベ−ス面の表面粗さを変えるため特開平３−２２
４１２７に示されるような積層タイプの支持体を用いる
こともできる。これらの支持体にはあらかじめコロナ放
電処理、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処
理、などをおこなっても良い。また本発明の支持体とし
てアルミまたはガラス基板を適用することも可能であ
る。

【００５９】本発明の目的を達成するには、支持体とし
てＷＹＫＯ社製の表面粗さ計ＴＯＰＯ−３ＤのＭＩＲＡ
Ｕ法で測定した中心面平均表面粗さ（Ｒａ）は８．０nm
以下、好ましくは４．０nm以下、さらに好ましくは２．
０nm以下のものを使用することが好ましい。支持体は単
に中心面平均表面粗さが小さいだけではなく、０．５μ
m以上の粗大突起がないことが好ましい。また表面の粗
さ形状は必要に応じて支持体に添加されるフィラ−の大
きさと量により自由にコントロ−ルされるものである。
これらのフィラ−としては一例としてはＣａ，Ｓｉ、Ｔ
ｉなどの酸化物や炭酸塩の他、アクリル系などの有機微
粉末があげられる。支持体の最大高さＳＲmaxは１μm以
下、十点平均粗さＳＲzは０．５μm以下、中心面山高さ
はＳＲpは０．５μm以下、中心面谷深さＳＲvは０．５
μm以下、中心面面積率ＳＳr は１０％以上、９０％以
下、平均波長Ｓλaは５μm以上、３００μm以下が好ま
しい。所望の電磁変換特性と耐久性を得るため、これら
支持体の表面突起分布をフィラーにより任意にコントロ
ールできるものであり、０．０１μmから１μmの大きさ
のもの各々を０．１mm² あたり０個から２０００個の範
囲でコントロ−ルすることができる。

【００６０】本発明に用いられる非磁性支持体のＦ−５
値は好ましくは５〜５０Kg/mm²、また、支持体の１００
℃３０分での熱収縮率は好ましくは３％以下、さらに好
ましくは１．５％以下、８０℃３０分での熱収縮率は好
ましくは０．５％以下、さらに好ましくは０．１％以下
である。破断強度は５〜１００Kg/mm²、弾性率は１００
〜２０００Kg/mm² が好ましい。温度膨張係数は１０^-4
〜１０^-8/℃であり、好ましくは１０^-5〜１０^-6／℃で
ある。湿度膨張係数は１０^-4/RH%以下であり、好ましく
は１０^-5/RH％以下である。これらの熱特性、寸法特
性、機械強度特性は支持体の面内各方向に対し１０％以
内の差でほぼで等しいことが好ましい。

【００６１】［製法］本発明の磁気記録媒体の磁性塗料
又は下層塗料を製造する工程は、少なくとも混練工程、
分散工程、およびこれらの工程の前後に必要に応じて設
けた混合工程からなる。個々の工程はそれぞれ２段階以
上にわかれていてもかまわない。本発明に使用する強磁
性粉末、非磁性粉末、結合剤、カ−ボンブラック、研磨
剤、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤などすべての原料はどの
工程の最初または途中で添加してもかまわない。また、
個々の原料を２つ以上の工程で分割して添加してもかま
わない。例えば、ポリウレタンを混練工程、分散工程、
分散後の粘度調整のための混合工程で分割して投入して
もよい。本発明の目的を達成するためには、従来の公知
の製造技術を一部の工程として用いることができる。混
練工程ではオープンニーダ、連続ニーダ、加圧ニーダ、
エクストルーダなど強い混練力をもつものを使用するこ
とが好ましい。ニーダを用いる場合は磁性粉末または非
磁性粉末と結合剤のすべてまたはその一部（ただし全結
合剤の３０重量％以上が好ましい）および磁性粉末１０
０重量部に対し１５〜５００重量部の範囲で混練処理さ
れる。これらの混練処理の詳細については特開平１−１
０６３３８、特開平１−７９２７４に記載されている。
また、磁性層液および下層液を分散させるにはガラスビ
ーズを用ることができるが、高比重の分散メディアであ
るジルコニアビーズ、チタニアビーズ、スチールビーズ
が好適である。これら分散メディアの粒径と充填率は最
適化して用いられる。分散機は公知のものを使用するこ
とができる。

【００６２】本発明で重層構成の磁気記録媒体を塗布す
る場合、以下のような方式を用いることが好ましい。第
一に磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗
布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗
布装置等により、まず下層を塗布し、下層がウェット状
態のうちに特公平１−４６１８６や特開昭６０−２３８
１７９，特開平２−２６５６７２に開示されている支持
体加圧型エクストルージョン塗布装置により上層を塗布
する方法。第二に特開昭６３−８８０８０、特開平２−
１７９７１，特開平２−２６５６７２に開示されている
ような塗布液通液スリットを二つ内蔵する一つの塗布ヘ
ッドにより上下層をほぼ同時に塗布する方法。第三に特
開平２−１７４９６５に開示されているバックアップロ
ール付きエクストルージョン塗布装置により上下層をほ
ぼ同時に塗布する方法である。なお、磁性粒子の凝集に
よる磁気記録媒体の電磁変換特性等の低下を防止するた
め、特開昭６２−９５１７４や特開平１−２３６９６８
に開示されているような方法により塗布ヘッド内部の塗
布液にせん断を付与することが望ましい。さらに、塗布
液の粘度については、特開平３−８４７１に開示されて
いる数値範囲を満足する必要がある。本発明の構成を実
現するには下層を塗布し乾燥させたのち、その上に磁性
層を設ける逐次重層塗布を用いてもむろんかまわず、本
発明の効果が失われるものではない。ただし、塗布欠陥
を少なくし、ドロップアウトなどの品質を向上させるた
めには、前述の同時重層塗布を用いることが好ましい。

【００６３】デイスクの場合、配向装置を用いず無配向
でも十分に等方的な配向性が得られることもあるが、コ
バルト磁石を斜めに交互に配置すること、ソレノイドで
交流磁場を印加するなど公知のランダム配向装置を用い
ることが好ましい。等方的な配向とは強磁性金属粉末の
場合、一般的には面内２次元ランダムが好ましいが、垂
直成分をもたせて３次元ランダムとすることもできる。
六方晶フェライトの場合は一般的に面内および垂直方向
の３次元ランダムになりやすいが、面内２次元ランダム
とすることも可能である。また異極対向磁石など公知の
方法を用い、垂直配向とすることで円周方向に等方的な
磁気特性を付与することもできる。特に高密度記録を行
う場合は垂直配向が好ましい。また、スピンコートを用
い円周配向してもよい。

【００６４】磁気テープの場合はコバルト磁石やソレノ
イドを用いて長手方向に配向する。乾燥風の温度、風
量、塗布速度を制御することで塗膜の乾燥位置を制御で
きる様にすることが好ましく、塗布速度は２０m/分〜１
０００m/分、乾燥風の温度は６０℃以上が好ましい、ま
た磁石ゾ−ンに入る前に適度の予備乾燥を行なうことも
できる。

【００６５】カレンダ処理ロ−ルとしてエポキシ、ポリ
イミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐熱性のあ
るプラスチックロ−ルまたは金属ロ−ルで処理するが、
特に両面磁性層とする場合は金属ロ−ル同志で処理する
ことが好ましい。処理温度は、好ましくは５０℃以上、
さらに好ましくは１００℃以上である。線圧力は好まし
くは２００Kg/cm以上、さらに好ましくは３００Kg/cm以
上である。

【００６６】［物理特性］本発明になる磁気記録媒体の
磁性層の飽和磁束密度は強磁性金属粉末を用いた場合２
０００Ｇ以上６０００Ｇ以下である。抗磁力の分布は狭
い方が好ましく、ＳＦＤおよびＳＦＤｒは０．６以下が
好ましい。角形比はディスクの場合、ランダム配向で
０．４５〜０．５５、２次元ランダムの場合は０．６以
上０．６７以下で、配向テープの場合は０．８以上であ
る。垂直配向した場合は、０．５以上である。

【００６７】六方晶系フェライトを用いた場合、磁性層
の飽和磁束密度は１０００Ｇ以上３０００Ｇ以下であ
る。角形比はディスクの場合、ランダム配向で０．４５
〜０．５５、２次元ランダムの場合は０．５〜０．６４
以下である。配向テープの場合は０．５以上である。垂
直配向した場合は、０．５以上である。本発明の磁気記
録媒体のヘッドに対する摩擦係数は温度−１０℃から４
０℃、湿度０％から９５％の範囲において０．５以下、
好ましくは０．３以下、表面固有抵抗は好ましくは磁性
面１０⁴〜１０¹²オ−ム/sq、帯電位は−５００Vから＋
５００V以内が好ましい。磁性層の０．５％伸びでの弾
性率は面内各方向で好ましくは１００〜２０００Kg/mm²
、破断強度は好ましくは１０〜７０Kg/mm² 、磁気記録
媒体の弾性率は面内各方向で好ましくは１００〜１５０
０Kg/mm² 、残留のびは好ましくは０．５％以下、１０
０℃以下のあらゆる温度での熱収縮率は好ましくは１％
以下、さらに好ましくは０．５％以下、もっとも好まし
くは０．１％以下である。磁性層のガラス転移温度(１
１０Hzで測定した動的粘弾性測定の損失弾性率の極大
点)は５０℃以上１２０℃以下が好ましく、下層のそれ
は０℃〜１００℃が好ましい。損失弾性率は１×１０⁸
〜８×１０⁹ dyne/cm²の範囲にあることが好ましく、損
失正接は０．２以下であることが好ましい。損失正接が
大きすぎると粘着故障が発生しやすい。これらの熱特性
や機械特性は媒体の面内各方向で１０％以内でほぼ等し
いことが好ましい。磁性層中に含まれる残留溶媒は好ま
しくは１００mg/m² 以下、さらに好ましくは１０mg/m²
以下である。塗布層が有する空隙率は非磁性下層、磁性
層とも好ましくは３０容量％以下、さらに好ましくは２
０容量％以下である。空隙率は高出力を果たすためには
小さい方が好ましいが、目的によってはある値を確保し
た方が良い場合がある。例えば、繰り返し用途が重視さ
れるディスク媒体では空隙率が大きい方が走行耐久性は
好ましいことが多い。

【００６８】磁性層のＲａは前記した通りであり、磁性
層の最大高さＳＲmaxは０．５μm以下、十点平均粗さＳ
Ｒzは０．３μm以下、中心面山高さＳＲpは０．３μm以
下、中心面谷深さＳＲvは０．３μm以下、中心面面積率
ＳＳrは２０％以上、８０％以下、平均波長Ｓλaは５μ
m以上、３００μm以下が好ましい。磁性層の表面突起は
０．０１μmから１μmの大きさのものを０個から２００
０個の範囲で任意に設定することが可能であり、これに
より電磁変換特性、摩擦係数を最適化することが好まし
い。これらは支持体のフィラ−による表面性のコントロ
−ルや磁性層に添加する粉体の粒径と量、カレンダ処理
のロ−ル表面形状などで容易にコントロ−ルすることが
できる。カールは±３mm以内とすることが好ましい。

【００６９】本発明の磁気記録媒体において、目的に応
じ下層と磁性層でこれらの物理特性を変えることができ
るのは容易に推定されることである。例えば、磁性層の
弾性率を高くし走行耐久性を向上させると同時に下層の
弾性率を磁性層より低くして磁気記録媒体のヘッドへの
当りを良くするなどである。

【００７０】

【実施例】以下、本発明の具体的実施例を説明するが、
本発明はこれに限定されるべきものではない。なお、以
下の「部」とは「重量部」のことである。実施例に使用
した磁性体の特性を表１と表２に示す。

【００７１】

【表１】

【００７２】

【表２】

【００７３】表１及び２に記載の磁性体を用いて磁気デ
ィスク及び磁気テープを以下のように作成した。 ＜塗料の作成＞ 磁性塗料１ （六方晶フェライト：ディスク） バリウムフェライト磁性粉：ＢａＦ〜ＢａＦ １００部 塩化ビニル共重合体 ＭＲ５５５（日本ゼオン社製） ５部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ３部 カ−ボンブラック ＃５０（旭カーボン社製） １部 フェニルホスホン酸 ２部 ブチルステアレート １０部 ブトキシエチルステアレート ５部 イソヘキサデシルステアレート ３部 ステアリン酸 ２部 メチルエチルケトン １２５部 シクロヘキサノン １２５部 磁性塗料２ （六方晶フェライト：テープ） バリウムフェライト磁性粉：ＢａＦ、 １００部 塩化ビニル系共重合体 ＭＲ５５５（日本ゼオン社製） ６部 ポリウレタン樹脂 ３部 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ３部 カ−ボンブラック（粒子サイズ０．０１５μｍ） ＃５５（旭カーボン社製） ５部 フェニルホスホン酸 ２部 ブチルステアレート １部 ステアリン酸 ２部 メチルエチルケトン １２５部 シクロヘキサノン １２５部 ＜塗料の作成＞ 磁性塗料３ （強磁性金属：ディスク） 強磁性金属粉末：ＭＰ〜ＭＰ １００部 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １２部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ３部 カ−ボンブラック ＃５０（旭カーボン社製） ５部 フェニルホスホン酸 ３部 ブチルステアレート １０部 ブトキシエチルステアレート ５部 イソヘキサデシルステアレート ３部 ステアリン酸 ２部 メチルエチルケトン １８０部 シクロヘキサノン １８０部 磁性塗料４ （強磁性金属：テープ） 強磁性金属粉末：ＭＰ、ＭＰ １００部 塩化ビニル系共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １２部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ３部 カ−ボンブラック ＃５５（旭カーボン社製） １部 ブチルステアレート １部 ステアリン酸 ５部 メチルエチルケトン １００部 シクロヘキサノン ２０部 トルエン ６０部 非磁性塗料（下層：ディスク） 非磁性粉末 ＴｉＯ₂ 結晶系ルチル ８０部 平均粒子径０．０３５μm 、ＢＥＴ法による比表面積 ４０ｍ² ／ｇ ｐＨ ７ ＴｉＯ₂ 含有量９０％以上、 ＤＢＰ吸油量２７〜３８g/100g、 表面にＡｌ₂ Ｏ₃ が粒子全体に対して８重量％存在 カ−ボンブラック コンダクテックスＳＣ−Ｕ（コロンビアンカーボン社製） ２０部 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １２部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ５部 フェニルホスホン酸 ４部 ブチルステアレート １０部 ブトキシエチルステアレート ５部 イソヘキサデシルステアレート ２部 ステアリン酸 ３部 メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（８／２混合溶剤） ２５０部 非磁性塗料（下層：テープ） 非磁性粉末 ＴｉＯ₂ 結晶系ルチル ８０部 平均粒子径０．０３５μm 、ＢＥＴ法による比表面積 ４０ｍ² ／ｇ ｐＨ ７ ＴｉＯ₂ 含有量９０％以上、 ＤＢＰ吸油量２７〜３８g/100g、 表面にＡｌ₂ Ｏ₃ が粒子全体に対して８重量％存在 カ−ボンブラック コンダクテックスＳＣ−Ｕ（コロンビアンカーボン社製） ２０部 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １２部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ５部 フェニルホスホン酸 ４部 ブチルステアレート １部 ステアリン酸 ３部 メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（８／２混合溶剤） ２５０部 製法１ ディスク 上記の塗料のそれぞれについて、各成分をニ−ダで混練
したのち、表３及び４に記載のように所定のダイアモン
ド微粒子を加え（または加えず）、サンドミルを用いて
分散させた。得られた分散液に、αアルミナ（住友化学
社製ＨＩＴ５５）を塩化ビニル共重合体（日本ゼオン社
製ＭＲ１１０）に分散したペースト（住友化学社製ＳＬ
Ｈ５５）をαアルミナの量として表３及び表４に記載の
所定量を加えるか、加えず、更にポリイソシアネートを
下層の塗布液には１０部、磁性層の塗布液には１０部を
加え、さらにそれぞれにシクロヘキサノン４０部を加
え，１μm の平均孔径を有するフィルターを用いて濾過
し、下層形成用および磁性層形成用の塗布液をそれぞれ
調製した。

【００７４】得られた下層塗布液を、乾燥後の厚さが
１．５μm になるようにさらにその直後にその上に磁性
層の厚さが０．２μm になるように、厚さ６２μm で中
心面平均表面粗さが３ｎｍのポリエチレンテレフタレー
ト支持体上に同時重層塗布をおこない、強磁性金属磁性
体を用いた場合は両層がまだ湿潤状態にあるうちに周波
数５０Hz、磁場強度２５０ガウスまた周波数５０Hz、１
２０ガウスの２つの磁場強度交流磁場発生装置の中を通
過させランダム配向処理行った。もう片方の支持体面に
も同様に塗布、配向し、乾燥後、７段のカレンダで温度
９０℃、線圧３００Kg/cm にて処理を行い、３．５吋に
打ち抜き表面研磨処理を施してディスク媒体を得た。ま
た、六方晶フェライト磁性体を用いた場合は、ランダム
配向処理を行わなかった以外は上記工程と同一の工程で
ディスク媒体を得た。 製法１−２（ディスク） 表３、表４記載の媒体Ｎｏ１６、Ｎｏ２９は、前記製法
１の内、ポリエチレンテレフタレート支持体の中心面平
均表面粗さが７ｎｍのものを用いた他は製法１と同様に
ディスク媒体を得た。 製法２ コンピューターテープ 上記の塗料について、各成分をニ−ダで混練したのち、
表５に記載のように所定のダイアモンド微粒子を加え
（または加えず）、αアルミナ（住友化学社製ＨＩＴ５
５）を塩化ビニル共重合体（日本ゼオン社製ＭＲ１１
０）に分散したペースト（住友化学社製ＳＬＨ５５）を
αアルミナの量として表５に記載の所定量を加えるか、
加えず、サンドミルを用いて分散させた。得られた分散
液にポリイソシアネートを下層の塗布液には２．５部、
磁性層の塗布液には３部を加え、さらにそれぞれにシク
ロヘキサノン４０部を加え，１μm の平均孔径を有する
フィルターを用いて濾過し、下層形成用および磁性層形
成用の塗布液をそれぞれ調製した。

【００７５】得られた下層塗布液を、乾燥後の下層の厚
さが１．７μm になるようにさらにその直後にその上に
磁性層の厚さが０．１５μm になるように、厚さ４．４
μmで中心面平均表面粗さが２ｎｍのアラミド支持体
（商品名：ミクトロン）上に同時重層塗布をおこない、
両層がまだ湿潤状態にあるうちに６０００Ｇの磁力を持
つコバルト磁石と６０００Ｇの磁力を持つソレノイドに
より配向させた。乾燥後、金属ロ−ルのみから構成され
る７段のカレンダ−で温度８５℃にて分速２００ｍ／ｍ
ｉｎ．で処理を行い、その後、厚み０．５μｍのバック
層（カ−ボンブラック 平均粒子径：１７ｎｍ １００
部、炭酸カルシウム 平均粒子径：４０ｎｍ ８０部、
αアルミナ 平均粒子径：２００ｎｍ ５部をニトロセ
ルロ−ス樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネート
に分散）を塗布した。３．８ｍｍの幅にスリットし、ス
リット品の送り出し、巻き取り装置を持った装置に不織
布とカミソリブレ−ドが磁性面に押し当たるように取り
付け、テ−プクリ−ニング装置で磁性層の表面のクリ−
ニングを行い、テープ試料を得た。

【００７６】上記作成した磁性体、磁気ディスク及びコ
ンピューターテープの各々の性能を下記の測定法により
評価した。 測定法 （１）磁気特性（Ｈｃ、σ_S ）：振動試料型磁束計（東
英工業社製）を用い、Ｈｍ１０ＫＯｅで測定した。 （２）ダイアモンド微粒子（粒径分布）：ダイアモンド
粉を適量とり、その電子顕微鏡写真から無作為に抽出し
た５００ケの粒子を測定して平均粒径φ、粒径が平均粒
径φの２００％以上の粒子個数がダイアモンド全個数中
に占める割合（ΔＮ₂₀₀ ）（％）、粒径が平均粒径φの
５０％以下の粒子個数がダイアモンド全個数中に占める
割合（ΔＮ₅₀）（％）を求めた。 （３）中心面平均表面粗さ（Ｒａ）：ＷＹＫＯ社製ＴＯ
ＰＯ３Ｄを用いて、３Ｄ−ＭＩＲＡＵ法で約２５０μｍ
×２５０μｍの面積のＲａ値を測定した。測定波長約６
５０ｎｍにて球面補正、円筒補正を加えている。本方式
は光干渉にて測定する非接触表面粗さ計である。 （４）ディスク電磁変換特性 出力：再生出力の測定は、国際電子工業社製（旧東京エ
ンジニアリング）製のディスク試験装置とＳＫ６０６Ｂ
型評価装置を用いギャップ長０．３μｍのメタルインギ
ャップヘッドを用い、半径２４．６ｍｍの位置において
記録波長９０ＫＦＣＩで記録した後、ヘッド増幅機の再
生出力をテクトロニクス社製オシロスコープ７６３３型
で測定した。

【００７７】ＳＮ比：再生出力を測定したディスクをＤ
Ｃ消去した後、アドバンテスト社製ＴＲ４１７１型スペ
クトロアナライザーで再生出力（ノイズ）を測定した。
ＳＮ比＝−２０ｌｏｇ（ノイズ／再生出力）とし、媒体
Ｎｏ１、１９のＳＮ比を０ｄＢとして相対値で示した。 （５）テープ電磁変換特性 ＣＮ比（テープ）：記録ヘッド（MIG 、ギャップ0.15μ
ｍ、１．８Ｔ）をドラムテスターに取り付けてデジタル
信号を記録再生した。ヘッド−メディア相対速度３ｍ／
ｓｅｃ、記録波長０．３５μｍ、ノイズは変調ノイズを
測定した。 （６）耐久性： 磁気ディスク耐久性：フロッピーディスクドライブ
（米 Ｉｏｍｅｇａ社製ＺＩＰ１００：回転数２９６８
ｒｐｍ）を用い半径３８ｍｍ位置にヘッドを固定した。
その後、以下のフローを１サイクルとするサーモサイク
ル環境で走行させた。目視で試料表面にキズがついた時
点をＮＧとした。媒体Ｎｏ１、１９の耐久時間を１００
％とした。 （サーモサイクルフロー） ２５℃、５０％ＲＨ １時間→（昇温 ２時間）→６０
℃、２０％ＲＨ ７時間→（降温 ２時間）→２５℃、
５０％ＲＨ １時間→（降温 ２時間）→５℃、１０％
ＲＨ ７時間→（昇温 ２時間）→＜これを繰り返す＞ コンピューターテープ耐久性：ＤＤＳドライブを用
い、所定の信号を記録した後、再生信号をモニターしつ
つ５０℃、１０％ＲＨで走行させた。初期再生出力の７
０％になった時点でＮＧとした。媒体Ｎｏ３２の耐久性
を１００％として表示した。

【００７８】表３、表４に磁気ディスク評価結果を、表
５に磁気テープ評価結果を示した。

【００７９】

【表３】

【００８０】

【表４】

【００８１】

【表５】

【００８２】

【発明の効果】本発明は支持体上に実質的に非磁性であ
る下層と強磁性粉末を結合剤中に分散してなる磁性層を
この順に設けた磁気記録媒体において、好ましくは磁性
層の厚みを０．０５〜０．５μｍ、前記磁性層の抗磁力
（Ｈｃ）を１８００エルステッド（Ｏｅ）以上、中心面
平均表面粗さＲａを０．５〜５．０ｎｍとし、さらに前
記磁性層中に平均粒径０．１０〜１．０μｍであるダイ
アモンド微粒子を強磁性粉末に対して０．０１〜５重量
％含有させることにより、耐久性を確保しつつ、その電
磁変換特性におけるノイズを改善することができる。

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持体上に実質的に非磁性である下層と
   強磁性粉末を結合剤中に分散してなる磁性層をこの順に
   設けた磁気記録媒体において、前記磁性層は抗磁力（Ｈ
   ｃ）が１８００エルステッド（Ｏｅ）以上であり、かつ
   中心面平均表面粗さ（Ｒａ）が０．５〜５．０ｎｍであ
   り、さらに前記磁性層中には平均粒径０．１０〜１．０
   μｍであるダイアモンド微粒子を強磁性粉末に対して
   ０．０１〜５重量％含有することを特徴とする磁気記録
   媒体。
2. 【請求項２】 前記磁性層の厚みが０．０５〜０．５μ
   ｍであることを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒
   体。
3. 【請求項３】 前記ダイアモンド微粒子は粒径が平均粒
   径の２００％以上の粒子個数がダイアモンド全個数中の
   ５％以下であり、粒径が平均粒径の５０％以下の粒子個
   数がダイアモンド全個数中の２０％以下であることを特
   徴とする請求項１または２記載の磁気記録媒体。
4. 【請求項４】 前記強磁性粉末が平均板径１０〜３５ｎ
   ｍの六方晶フェライト粉末であることを特徴とする請求
   項１〜３の何れか１項に記載の磁気記録媒体。
5. 【請求項５】 前記強磁性粉末が平均長軸長３０〜１５
   ０ｎｍの強磁性金属粉末であることを特徴とする請求項
   １〜４の何れか１項に記載の磁気記録媒体。