JP2003022514A - 磁気記録媒体 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高密度磁気記録においても充分なＳ／Ｎを示
し、かつ、ＭＲヘッドを使用した再生においてもＭＲヘ
ッドが静電破壊されにくい磁気記録媒体の提供。 【解決手段】 非磁性支持体の少なくとも一方の面に、
非磁性粉末及び結合剤を含む非磁性層と、強磁性金属粉
末又は六方晶系フェライト粉末である強磁性粉末及び結
合剤を含む磁性層と、をこの順に有する磁気記録媒体で
あって、前記非磁性層が、平均粒径１０〜３０ｎｍのカ
ーボンブラックを前記非磁性粉末１００質量部に対して
１０〜５０質量部含有し、前記磁性層の厚さが０．２μ
ｍ以下であり、電子線マイクロアナリシスによる前記強
磁性粉末に起因する元素の平均強度ａに対する該強度の
標準偏差ｂが０．０３≦ｂ／ａ≦０．４であり、かつ、
前記磁性層の中心面平均粗さＲａが５ｎｍ以下、１０点
平均粗さＲｚが５０ｎｍ以下であること。
し、かつ、ＭＲヘッドを使用した再生においてもＭＲヘ
ッドが静電破壊されにくい磁気記録媒体の提供。 【解決手段】 非磁性支持体の少なくとも一方の面に、
非磁性粉末及び結合剤を含む非磁性層と、強磁性金属粉
末又は六方晶系フェライト粉末である強磁性粉末及び結
合剤を含む磁性層と、をこの順に有する磁気記録媒体で
あって、前記非磁性層が、平均粒径１０〜３０ｎｍのカ
ーボンブラックを前記非磁性粉末１００質量部に対して
１０〜５０質量部含有し、前記磁性層の厚さが０．２μ
ｍ以下であり、電子線マイクロアナリシスによる前記強
磁性粉末に起因する元素の平均強度ａに対する該強度の
標準偏差ｂが０．０３≦ｂ／ａ≦０．４であり、かつ、
前記磁性層の中心面平均粗さＲａが５ｎｍ以下、１０点
平均粗さＲｚが５０ｎｍ以下であること。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、塗布型の磁気記録
媒体に関する。本発明は、特に薄層磁性層と非磁性層と
を有する高密度記録に適した磁気記録媒体に関する。 【０００２】 【従来の技術】近年高密度化と共に記録波長が短くなる
傾向にあり、磁性層が厚いと出力が低下する記録時の自
己減磁損失、再生時の厚み損失の問題が大きくなってい
る。このため、磁性層の薄層化が行われているが、２μ
ｍ以下の磁性層を直接支持体に塗布すると磁性層の表面
に非磁性支持体の影響が表れやすくなり、電磁変換特性
やドロップアウトの悪化傾向が見られる。このような状
況に対し、最近ではさらに記録密度を高めるために、ト
ラック幅を一段と狭くした記録再生システムが開発され
ている。これに対応して高感度の磁気抵抗型ヘッド（Ｍ
Ｒヘッド）を使用した再生システムが提案され、ハード
ディスク等で実現されている。しかしながら、既存の磁
気記録媒体では出力は充分に高くても高ノイズであり、
ＭＲヘッドを使用する場合、必ずしも良好なＳ／Ｎを得
ることができない。以下にその例を示す。 【０００３】例えば、特開平３−２１４４２２号公報に
は、非磁性支持体上に高分子樹脂と非磁性粒子を主成分
とするダミー層を設け、該ダミー層の表面をカレンダ処
理により平滑化した後に、前記ダミー層上に磁性層を形
成することで、良好な磁性層表面性を得て、再生出力が
高く、低ノイズの磁気記録媒体が得られる旨が開示され
ている。しかし、この方法により得られた磁気記録媒体
は、磁性体粉末としてガンマ酸化鉄（γ−Ｆｅ2Ｏ3等）
を使用し、かつ、磁性層の表面粗さが０．０１〜０．０
１５μｍと大きい値を示していたため、高密度記録用と
して必要なＳ／Ｎを確保することができない。さらに、
この磁気記録媒体は、静電気が溜まりやすい構造であっ
たため、ＭＲヘッド記録再生時に静電破壊を受けやすい
という問題があった。 【０００４】また、特開平２０００−１１３５４号公報
は、下層非磁性層を塗布し、乾燥した後に上層磁性層を
塗布するいわゆるwet on dry塗布方式で形成した磁気記
録媒体を開示する。しかし、この磁気記録媒体は、下層
の表面粗さが３．０ｎｍと大きい上、特にＭＲヘッドを
用いた場合に充分なＳ／Ｎを得ることができなかった。
また、この磁気記録媒体には、記録再生時にＭＲヘッド
が静電破壊を受けやすいという問題もあった。 【０００５】 【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明の目的
は、高密度磁気記録においても充分なＳ／Ｎを確保で
き、かつ、ＭＲヘッドを使用した記録再生においてもＭ
Ｒヘッドが静電破壊されにくい磁気記録媒体を提供する
ことにある。 【０００６】 【課題を解決するための手段】本発明者らは、塗布型の
磁気記録媒体において、磁性層上の表面状態を改善すべ
く鋭意検討を重ねた結果、高Ｓ／Ｎが確保でき、しかも
ＭＲヘッド記録再生時に静電破壊のない磁気記録媒体の
開発に成功し、本発明を完成するに至った。すなわち、
本発明は、非磁性支持体の少なくとも一方の面に、非磁
性粉末及び結合剤を含む非磁性層と、強磁性金属粉末又
は強磁性六方晶フェライト粉末及び結合剤を含む磁性層
と、をこの順に有する磁気記録媒体であって、前記非磁
性層が平均粒径１０〜３０ｎｍのカーボンブラックを前
記非磁性粉末１００質量部に対して１０〜５０質量部含
有し、前記磁性層の厚さが０．２μｍ以下であり、電子
線マイクロアナリシスによる前記強磁性粉末に起因する
元素の平均強度ａに対する該強度の標準偏差ｂが０．０
３≦ｂ／ａ≦０．４であり、かつ、前記磁性層の中心面
平均粗さＲａが５ｎｍ以下、１０点平均粗さＲｚが５０
ｎｍ以下であることを特徴とする磁気記録媒体に関す
る。 【０００７】本発明の好ましい態様は、次のとおりであ
る。 （１） 前記磁気記録媒体が、前記非磁性支持体上に非
磁性粉末及び結合剤を含有する非磁性層塗料を塗布し乾
燥して非磁性層を形成した後に、前記磁性層を形成する
前記磁気記録媒体。 （２） 前記非磁性層を形成した後に、前記非磁性層の
カレンダ処理を行う前記磁気記録媒体。 （３） 記録再生時にＭＲヘッドを用いるＭＲヘッド再
生用の磁気記録媒体。 【０００８】 【発明の実施の形態】以下、本発明の磁気記録媒体をさ
らに詳しく説明する。本発明の磁気記録媒体は、非磁性
層（以下、下層ともいう。）が平均粒径１０〜３０ｎｍ
のカーボンブラックを非磁性粉末１００質量部に対して
１０〜５０質量部含有することを第一の特徴とする。本
発明の非磁性層で使用するカーボンブラックの平均粒径
は、１０〜３０ｎｍであり、１５〜２５ｎｍであること
が好ましく、１８〜２２ｎｍであることがさらに好まし
い。 【０００９】また、下層におけるカーボンブラックの含
有量は、非磁性粉末１００質量部に対して１０〜５０質
量部、好ましくは２０〜４０質量部、さらに好ましくは
２０〜３０質量部含有させるようにする。カーボンブラ
ックの平均粒径を１０〜３０ｎｍ及びカーボンブラック
の含有量を非磁性粉末に対して１０〜５０質量部の範囲
にすることで、磁性層の表面電気抵抗を低下させ、静電
気の溜まりにくい構造にすることができ、かつＭＲヘッ
ドの静電破壊を抑制することができる。 【００１０】その他、下層にカーボンブラックを含有さ
せることにより、光透過率を小さくし、かつ、所望のマ
イクロビッカース硬度を得るという公知の効果を得るこ
とができる。また、下層にカーボンブラックを含ませる
ことで潤滑剤貯蔵の効果をもたらすことも可能である。 【００１１】下層で使用されるカーボンブラックの比表
面積は、通常１００〜５００ｍ2／ｇであり、１５０〜
４００ｍ2／ｇであることが好ましい。ＤＢＰ吸油量
は、２０〜４００ｍｌ／１００ｇであり３０〜４００ｍ
ｌ／１００ｇであることが好ましい。カーボンブラック
のｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タップ密
度は０．１〜１ｇ／ｍｌであることが好ましい。 【００１２】下層で使用できるカーボンブラックの具体
例としては、例えばＷＯ９８／３５３４５に記載のもの
が挙げられる。カーボンブラックは、単独又は組み合わ
せで使用することができる。本発明で使用できるカーボ
ンブラックは、例えば「カーボンブラック便覧」（カー
ボンブラック協会編）を参考にすることができる。 【００１３】本発明の磁気記録媒体は、磁性層の厚さが
０．２μｍ以下であり、電子線マイクロアナリシスによ
る前記強磁性粉末に起因する元素の平均強度ａに対する
該強度の標準偏差ｂが０．０３≦ｂ／ａ≦０．４である
ことを第二の特徴とする。磁性層の厚さは、０．２μｍ
以下とするが、０．０１〜０．１５μｍであることが好
ましく、０．０１〜０．１μｍであることがさらに好ま
しい。磁性層を０．２μｍ以下とすることで、自己減磁
損失が小さく出力を向上することができ、かつ良好なオ
ーバーライト特性（以下「ＰＷ５０」ともいう）が得ら
れ、高密度記録に有利となる。また、磁性層の厚さが
０．２μｍ以下であれば、表面電気抵抗が高くなり、Ｍ
Ｒヘッドが静電破壊されることはない。 【００１４】本発明の磁性層における電子線マイクロア
ナリシスによる前記強磁性粉末に起因する元素の平均強
度ａに対する該強度の標準偏差ｂは、０．０３≦ｂ／ａ
≦０．４とする。電子線マイクロアナリシス（ＥＰＭ
Ａ）は、磁性層内の各領域における強磁性粉末の充填度
の分布、すなわち、強磁性粉末の充填性を強磁性粉末に
起因する平均強度ａと該強度の標準偏差ｂとを用いて評
価することができる。すなわち、ｂ／ａ値が小さいほ
ど、強磁性粉末の凝集、非磁性層−磁性層間の界面変動
や界面の流れ等による充填性の不均一性が少ないことを
示す。本発明の磁気記録媒体では、ＥＰＭＡで評価した
際にｂ／ａ値が所定の範囲になるように強磁性粉末のサ
イズ等を制御する。そこで、先ずＥＰＭＡによる評価法
を以下に説明する。 【００１５】島津社製ＥＰＭＡ−１６００を使用し、電
子ビーム加速電圧１５ｋＶ、３０ｎＡ、ビーム径１μｍ
Φの条件で、磁性層表面から１００×１００μｍの範囲
を少なくとも５００×５００画素で目的の元素の強度マ
ッピングを測定する。強磁性粉末を構成する元素から固
有の元素、例えば、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｂａ等の何れかを選択
する。得られた元素強度マッピングの結果において、強
度を２５６段階に分割してＺＥＩＳＳ製画像解析装置Ｋ
Ｓ４００を用いて強度分布の標準偏差ｂ及び平均強度ａ
を求め、ｂ／ａ値を算出する。 【００１６】ｂ／ａ値を制御する手段は、公知の手段か
ら適宜選択し、必要に応じて最適化することができる。
このような制御手段としては、例えば、強磁性粉末、研
磨剤、カーボンブラックなどのサイズ及び形状の制御、
結合剤の選定、分散剤、潤滑剤、界面活性剤等の各種添
加剤等の選定、磁性塗布液の分散方法、並びに塗布方
法、配向方法等の選定、カレンダ処理条件の選定等が挙
げられる。中でも塗布方法による制御が好ましい。塗布
方法は、逐次重層塗布を挙げることができる。 【００１７】本発明においてｂ／ａ値は、０．０３≦ｂ
／ａ≦０．４、好ましくは０．０３≦ｂ／ａ≦０．３、
さらに好ましくは、０．０３≦ｂ／ａ≦０．２に制御さ
れる。ｂ／ａ値が０．０３≦ｂ／ａ≦０．４であれば、
自己減磁損失もなく、また強磁性粉末の充填性が均一と
なるため、Ｓ／Ｎを改善でき、所望のＳ／Ｎを得ること
ができる。 【００１８】本発明の磁気記録媒体は、磁性層の中心面
平均粗さＲａが５ｎｍ以下であり、１０点平均粗さＲｚ
が５０ｎｍ以下であることを第三の特徴とする。磁性層
の中心面平均粗さＲａ（以下、Ｒａともいう）は、磁性
層表面をＷＹＫＯ社製ＨＤ−２０００型を用いて測定す
ることにより求めることができる。Ｒａは、５ｎｍ以
下、好ましくは０．５〜４ｎｍ、さらに好ましは０．５
〜３ｎｍに制御する。Ｒａが５ｎｍ以下することによ
り、ヘッド−媒体間のスペーシングを低下させることが
でき、出力の向上とＰＷ５０の低減を達成することがで
きる。また、磁性層の１０点平均粗さＲｚ（以下、Ｒｚ
ともいう）は、Ｒａと同じ測定方法により測定すること
により求めることができる。Ｒｚは、５０ｎｍ以下、好
ましくは５〜４０ｎｍ、さらに好ましくは５〜３０ｎｍ
に制御する。１０点平均粗さＲｚが５０ｎｍ以下とする
ことにより、ヘッド−媒体間のスペーシングを低減させ
ることができ、特に媒体ノイズの低減を達成することが
できる。 【００１９】Ｒａ及びＲｚは、非磁性層に添加するカー
ボンブラックの平均粒径が１０〜３０ｎｍのものを選択
し、かつ、該カーボンブラックの含有量を非磁性粉末１
００質量部に対して１０〜５０質量部とするほか、次の
少なくとも１又は２以上の方法により、所定の値に制御
することができる。 （１）非磁性層に含有させる非磁性粉末の平均粒径を
０．２μｍ以下、好ましくは ０．０１〜０．１５μ
ｍ、さらに好ましくは０．０１〜０．１μｍとする。 （２）非磁性層を塗布した後、非磁性層表面のカレンダ
処理を行い、非磁性層のＲａを１０ｎｍ以下、好ましく
は１〜５ｎｍ、さらに好ましくは１〜３ｎｍとし、非磁
性層のＲｚを１００ｎｍ以下、好ましくは１０〜５０ｎ
ｍ、さらに好ましくは１０〜３０ｎｍに調整する。 （３）磁性層を形成した後に、処理温度７０℃以上、好
ましくは８０℃以上、処理線圧１９６ｋＮ／ｍ（２００
ｋｇ／ｃｍ）以上、好ましくは２９４ｋＮ／ｍ（３００
ｋｇ／ｃｍ）以上の条件でカレンダ処理を行う。 （４）その他、必要に応じて磁性塗料の分散時間を長く
設定する。 【００２０】次に、本発明の磁気記録媒体の磁性層、非
磁性層、非磁性支持体等の各層についてさらに詳しく説
明する。 【００２１】［磁性層］本発明の磁気記録媒体は、非磁
性支持体の少なくとも一方の面に磁性層（以下、単に上
層ともいう。）を有する。したがって、上層は非磁性支
持体の片面だけでも、あるいは両面に設けても構わな
い。また一方側に形成される上層は、単層でも互いに組
成の異なる複層であってもよい。さらに、本発明の磁気
記録媒体は、非磁性支持体と上層の間に実質的に非磁性
である下層（非磁性層）を有する。 【００２２】上層は、下層が乾燥した後に設けるwet on
dry（Ｗ／Ｄ）又は下層を同時又は逐次塗布後、下層が
湿潤状態の内に設けるwet on wet（Ｗ／Ｗ）のいずれの
塗布方法により形成することができる。磁性層の厚み分
布に起因するノイズを小さくする観点からは、乾燥後塗
布法（Ｗ／Ｄ）の方が好ましい。Ｗ／Ｄでは下層形成後
に下層表面をカレンダ処理等による表面処理工程を有効
に活用でき、薄層でも上層（磁性層）の表面粗さを良化
できる。磁性層に使用する強磁性粉末としては、強磁性
金属粉末又は六方晶系フェライト粉末が好ましい。 【００２３】＜強磁性金属粉末＞強磁性金属粉末として
は、α-Ｆｅを主成分とする強磁性金属粉末が好まし
い。強磁性金属粉末には所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、
Ｃａ、Ｍｇ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｂ
ａ、Ｗ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚ
ｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂなどの原子を含んでもかまわない。
特に、Ａｌ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｙ、Ｂａ、Ｌａ、Ｎｄ、Ｓ
ｍ、Ｃｏ、Ｎｉの少なくとも１つをα-Ｆｅ以外に含む
ことが好ましい。Ｃｏは、Ｆｅと合金を作ると飽和磁化
が増加し、かつ減磁が改良されるので特に好ましい。Ｃ
ｏの含有量はＦｅに対して１〜４０原子％が好ましく、
さらに好ましくは１５〜３５原子％、より好ましくは２
０〜３５原子％である。 【００２４】Ｙ等の希土類元素の含有量は、１．５〜１
２原子％であることが好ましく、３〜１０原子％である
ことがより好ましく、４〜９原子％であることがさらに
好ましい。Ａｌは１．５〜１２原子％であることが好ま
しく、３〜１０原子％であることがより好ましく、４〜
９原子％であることがさらに好ましい。Ｙを含む希土類
やＡｌは焼結防止剤として機能しており、組み合わせて
使用することでより高い焼結防止効果が得られる。これ
らの強磁性粉末にはあとで述べる分散剤、潤滑剤、界面
活性剤、帯電防止剤などで分散前にあらかじめ処理を行
ってもかまわない。具体的には、特公昭４４-１４０９
０号公報、特公昭４５-１８３７２号公報、特公昭４７-
２２０６２号公報、特公昭４７-２２５１３号公報、特
公昭４６-２８４６６号公報、特公昭４６-３８７５５号
公報、特公昭４７-４２８６号公報、特公昭４７-１２４
２２号公報、特公昭４７-１７２８４号公報、特公昭４
７-１８５０９号公報、特公昭４７-１８５７３号公報、
特公昭３９-１０３０７号公報、特公昭４６-３９６３９
号公報、米国特許第３０２６２１５号、同３０３１３４
１号、同３１００１９４号、同３２４２００５号、同３
３８９０１４号等の各公報に記載されている。 【００２５】強磁性金属粉末には少量の水酸化物又は酸
化物が含まれてもよい。強磁性金属粉末の公知の製造方
法により得られたものを用いることができ、下記の方法
を挙げることができる。焼結防止処理を行った含水酸化
鉄、酸化鉄を水素などの還元性気体で還元してＦｅ又は
Ｆｅ-Ｃｏ粒子などを得る方法、複合有機酸塩（主とし
てシュウ酸塩）と水素などの還元性気体で還元する方
法、金属カルボニル化合物を熱分解する方法、強磁性金
属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、次亜リン酸塩あ
るいはヒドラジンなどの還元剤を添加して還元する方
法、金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて粉末を得る
方法などである。このようにして得られた強磁性金属粉
末は、公知の徐酸化処理する。含水酸化鉄、酸化鉄を水
素などの還元性気体で還元し、酸素含有ガスと不活性ガ
スの分圧、温度、時間を制御して表面に酸化皮膜を形成
する方法が、減磁量が少なく好ましい。 【００２６】本発明の磁性層の強磁性金属粉末をＢＥＴ
法による比表面積（ＳBET）で表せば、４０〜８０ｍ2／
ｇであり、好ましくは４５〜７０ｍ2／ｇである。比表
面積（ＳBET）が４０〜８０ｍ2／ｇであれば、ノイズを
抑えることができ、かつ平滑な表面を得ることができる
ため好ましい。本発明の磁性層における強磁性金属粉末
の結晶子サイズは８０〜１８０Åであり、好ましくは１
００〜１７０Å、さらに好ましくは１１０〜１６５Åで
ある。強磁性金属粉末の平均長軸長は、０．０２〜０．
２５μｍであり、０．０３〜０．１５μｍであることが
好ましく、０．０３〜０．１２μｍであることがさらに
好ましい。 【００２７】強磁性金属粉末の平均針状比（（長軸長／
短軸長）の平均）は、３〜１５であることが好ましく、
３〜１０であることがさらに好ましい。強磁性金属粉末
の飽和磁化σｓは、通常、９０〜１７０Ａ・ｍ2／ｋｇ
であり、１００〜１６０Ａ・ｍ2／ｋｇであることが好
ましく、１１０〜１６０Ａ・ｍ2／ｋｇであることがさ
らに好ましい。強磁性金属粉末の抗磁力（Ｈｃ）は、１
３５〜２７９ｋＡ／ｍであることが好ましく、１４３〜
２３９ｋＡ／ｍであることがさらに好ましい。 【００２８】強磁性金属粉末の含水率は０．１〜２質量
％とするのが好ましい。結合剤の種類によって強磁性金
属粉末の含水率は最適化するのが好ましい。強磁性金属
粉末のｐＨは、用いる結合剤との組み合わせにより最適
化することが好ましい。その範囲は６〜１２であるが、
好ましくは７〜１１である。強磁性金属粉末のＳＡ（ス
テアリン酸）吸着量（表面の塩基性点の尺度）は１〜１
５μｍｏｌ／ｍ2であり、２〜１０μｍｏｌ／ｍ2である
ことが好ましく、３〜８μｍｏｌ／ｍ2であることがさ
らに好ましい。ステアリン酸吸着量が多い強磁性金属粉
末を使用する場合には、表面に強く吸着する有機物で表
面修飾して磁気記録媒体を作成することが好ましい。強
磁性金属粉末には可溶性のＮａ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｓ
ｒ、ＮＨ 4、ＳＯ4、Ｃｌ、ＮＯ2、ＮＯ3などの無機イオ
ンを含む場合がある。これらは、本質的にない方が好ま
しい。各イオンの総和が３００ｐｐｍ以下程度であれ
ば、特性には影響しない。また、本発明に用いられる強
磁性金属粉末は、空孔が少ないほうが好ましく、その値
は２０容量％以下であり、５容量％以下であることがさ
らに好ましい。形状については、先に示した粉体サイ
ズ、磁気特性を満足すれば針状、米粒状、紡錘状のいず
れでもかまわない。強磁性金属粉末自体のＳＦＤ（swit
ching field distribution）は小さい方が好ましく、
強磁性金属粉末の抗磁力（Ｈｃ）分布を小さくする必要
がある。テ-プのＳＦＤが小さいと、磁化反転がシャー
プでピークシフトが小さくなり、高密度デジタル磁気記
録に好適である。抗磁力（Ｈｃ）分布を小さくするため
には、強磁性金属粉末においてはゲ-タイトの粒度分布
をよくする、単分散α-Ｆｅ2Ｏ3を使用する、粒子間の
焼結を防止するなどの方法がある。 【００２９】＜六方晶系フェライト粉末＞本発明の磁性
層に含まれる六方晶系フェライトとしては、バリウムフ
ェライト、ストロンチウムフェライト、鉛フェライト、
カルシウムフェライトの各置換体、Ｃｏ置換体等があ
る。具体的にはマグネトプランバイト型のバリウムフェ
ライト及びストロンチウムフェライト、スピネルで粒子
表面を被覆したマグネトプランバイト型フェライト、更
に一部スピネル相を含有したマグネトプランバイト型の
バリウムフェライト及びストロンチウムフェライト等が
挙げられる。その他、所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、
Ｓ，Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐ
ｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、
Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、
Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂ、Ｇｅ、Ｎｂな
どの原子を含んでもかまわない。一般にはＣｏ-Ｚｎ、
Ｃｏ-Ｔｉ、Ｃｏ-Ｔｉ-Ｚｒ、Ｃｏ-Ｔｉ-Ｚｎ、Ｎｉ-Ｔ
ｉ-Ｚｎ、Ｎｂ-Ｚｎ-Ｃｏ、ＳｂーＺｎ-Ｃｏ、Ｎｂ-Ｚ
ｎ等の元素を添加したものを使用することができる。原
料・製法によっては特有の不純物を含有するものもあ
る。 【００３０】本発明に用いる六方晶系フェライト粉末の
平均板径は、記録密度によって異なるが、通常、１０〜
５０ｎｍであり、１０〜４０ｎｍであることが好まし
く、１０〜３５ｎｍであることが特に好ましい。ここで
板径とは、六方晶系フェライト磁性粉の六角柱底面の六
角径の最大径を意味し、平均板径とはその算術平均であ
る。特にトラック密度を上げるため、磁気抵抗ヘッドで
再生する場合は、低ノイズにする必要があり、板径は３
５ｎｍ以下であることが好ましいが、１０〜５０ｎｍの
範囲であれば、熱揺らぎの影響を受けない安定な磁化が
望め、かつ、ノイズを抑えることができるため、高密度
磁気記録に好適となる。板状比（板径／板厚）は１〜１
５であることが望ましく、１〜７であることが好まし
い。板状比が１以上であれば、磁性層中の高充填性を維
持しつつ、充分な配向性が得られる。また板状比が１５
以下であれば、粒子間のスタッキングによる影響を受け
難くなり、ノイズが大きくなることもない。 【００３１】上記粒子サイズ範囲のＢＥＴ法による比表
面積は３０〜２００ｍ2／ｇを示す。比表面積は、概ね
粒子板径と板厚からの算術計算値と符号する。粒子板径
・板厚の分布は、通常、狭いほど好ましい。数値化は困
難であるが粒子ＴＥＭ写真より５００粒子を無作為に測
定することで比較できる。分布は正規分布ではない場合
が多いが、計算して平均サイズに対する標準偏差で表す
とσ／平均サイズ＝０．１〜２．０である。粒子サイズ
分布をシャープにするには粒子生成反応系をできるだけ
均一にすると共に、生成した粒子に分布改良処理を施す
ことも行われている。例えば、酸溶液中で超微細粒子を
選別的に溶解する方法等も知られている。 【００３２】磁性体で測定される抗磁力（Ｈｃ）は、３
９．８〜３９８ｋＡ／ｍ（５００〜５０００ Ｏｅ）程
度まで作成できる。抗磁力（Ｈｃ）は高い方が高密度記
録に有利であるが、記録ヘッドの能力で制限される。抗
磁力（Ｈｃ）は粒子サイズ（板径・板厚）、含有元素の
種類と量、元素の置換サイト、粒子生成反応条件等によ
り制御できる。飽和磁化（σｓ）は３０〜８０Ａ・ｍ2
／ｋｇであり、微粒子になるほど小さくなる傾向があ
る。製法では結晶化温度又は熱処理温度時間を小さくす
る方法、添加する化合物を増量する、表面処理量を多く
する方法等がある。またＷ型六方晶フェライトを用いる
ことも可能である。磁性体を分散する際に磁性体粒子表
面を分散媒、ポリマーに合った物質で処理することも行
われている。 【００３３】表面処理材は、無機化合物、有機化合物が
使用される。主な化合物としてはＳｉ、Ａｌ、Ｐ、等の
酸化物または水酸化物、各種シランカップリング剤、各
種チタンカップリング剤が代表例である。添加量は磁性
体に対して０．１〜１０％である。磁性体のｐＨも分散
に重要である。通常４〜１２程度で分散媒、ポリマーに
より最適値があるが、媒体の化学的安定性、保存性から
６〜１１程度が選択される。磁性体に含まれる水分も分
散に影響する。分散媒、ポリマーにより最適値があるが
通常０．０１〜２．０％が選ばれる。 【００３４】六方晶フェライトの製法としては、酸化
バリウム、酸化鉄、鉄を置換する金属酸化物とガラス形
成物質として酸化ホウ素等を所望のフェライト組成にな
るように混合した後溶融し、急冷して非晶質体とし、次
いで再加熱処理した後、洗浄・粉砕してバリウムフェラ
イト結晶粉体を得ガラス結晶化法、バリウムフェライ
ト組成金属塩溶液をアルカリで中和し、副生成物を除去
した後、１００℃以上で液相加熱し、洗浄、乾燥及び粉
砕してバリウムフェライト結晶粉体を得る水熱反応法、
バリウムフェライト組成金属塩溶液をアルカリで中和
し、副生成物を除去した後乾燥し１１００℃以下で処理
し、粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得る共沈法
等があるが、本発明は製法を選ばない。 【００３５】［非磁性層（下層）］次に非磁性層（下
層）に関する詳細な内容について説明する。非磁性層と
しては非磁性無機粉末と結合剤を主体とするものが好ま
しい。非磁性層に用いられる非磁性無機粉末としては、
例えば、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒
化物、金属炭化物、金属硫化物、等の無機質化合物から
選択することができる。無機化合物としては例えばα化
率９０％以上のα-アルミナ、β-アルミナ、γ-アルミ
ナ、θ-アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリ
ウム、α-酸化鉄、ヘマタイト、ゲータイト、コランダ
ム、窒化珪素、チタンカ-バイト、酸化チタン、二酸化
珪素、酸化スズ、酸化マグネシウム、酸化タングステ
ン、酸化ジルコニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カ
ルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、二硫化モリ
ブデンなどが単独又は組み合わせで使用される。特に好
ましいのは、粒度分布の小ささ、機能付与の手段が多い
こと等から、二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、硫酸バ
リウムであり、さらに好ましいのは二酸化チタン、α酸
化鉄である。これら非磁性無機粉末の平均粒子径は０．
００５〜２μｍであることが好ましい。必要に応じて平
均粒子径の異なる非磁性無機粉末を組み合わせたり、単
独の非磁性無機粉末でも粒径分布を広くして同様の効果
をもたせることもできる。とりわけ好ましいのは非磁性
無機粉末の平均粒子径は０．０１〜０．２μｍである。
特に、非磁性無機粉末が粒状金属酸化物である場合は、
平均粒子径０．０８μｍ以下であることが好ましく、針
状金属酸化物である場合には、平均長軸長が０．３μｍ
以下であることが好ましく、０．２μｍ以下であること
がさらに好ましい。 【００３６】タップ密度は通常、０．０５〜２ｇ／ｍ
ｌ、好ましくは０．２〜１．５ｇ／ｍｌである。非磁性
無機粉末の含水率は通常、０．１〜５質量％、好ましく
は０．２〜３質量％、さらに好ましくは０．３〜１．５
質量％である。非磁性無機粉末のｐＨは通常、２〜１１
であるが、ｐＨは５．５〜１０の間が特に好ましい。非
磁性無機粉末の比表面積は通常、１〜１００ｍ2／ｇで
あり、５〜８０ｍ2／ｇであることが好ましく、１０〜
７０ｍ2／ｇであることがさらに好ましい。非磁性無機
粉末の結晶子サイズは、０．００４〜１μｍであること
が好ましく、０．０４〜０．１μｍであることがさらに
好ましい。ＤＢＰ（ジブチルフタレート）を用いた吸油
量は通常、５〜１００ｍｌ／１００ｇであり、１０〜８
０ｍｌ／１００ｇであることが好ましく、２０〜６０ｍ
ｌ／１００ｇであることがさらに好ましい。比重は、通
常、１〜１２であり、３〜６であることがさらに好まし
い。形状は、針状、球状、多面体状、板状のいずれであ
ってもよい。モース硬度は、４〜１０であることが好ま
しい。非磁性無機粉末のＳＡ（ステアリン酸）吸着量
は、１〜２０μｍｏｌ／ｍ2であり、２〜１５μｍｏｌ
／ｍ2、であることがより好ましく、３〜８μｍｏｌ／
ｍ2であることがさらに好ましい。ｐＨは、３〜６の間
にあることが好ましい。 【００３７】これらの非磁性無機粉末の表面には、表面
処理によりＡｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、Ｓ
ｎＯ2、Ｓｂ2Ｏ3、ＺｎＯ、Ｙ2Ｏ3が存在することが好
ましい。特に分散性に好ましいのはＡｌ2Ｏ3、Ｓｉ
Ｏ2、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2であるが、さらに好ましいのは
Ａｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＺｒＯ2である。これらは組み合わ
せて使用してもよいし、単独で用いることもできる。ま
た、目的に応じて共沈させた表面処理層を用いてもよい
し、先ずアルミナを存在させた後にその表層にシリカを
存在させる方法、又はその逆の方法を採ることもでき
る。また、表面処理層は目的に応じて多孔質層にしても
構わないが、均質で密である方が一般には好ましい。本
発明の下層に用いられる非磁性無機粉末の具体的な例及
び製造法としては、ＷＯ９８／３５３４５に記載のもの
が例示される。 【００３８】下層にはさらに目的に応じて、有機質粉末
を添加することもできる。例えば、アクリルスチレン系
樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂
粉末、フタロシアニン系顔料が挙げられる。また、ポリ
オレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリ
アミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化
エチレン樹脂も使用することができる。その製法は特開
昭６２-１８５６４号公報、特開昭６０-２５５８２７号
公報に記されているようなものが使用できる。 【００３９】下層あるいは後述のバック層の結合剤、潤
滑剤、分散剤、添加剤、溶剤、分散方法その他は、以下
に記載する磁性層のそれが適用できる。特に、結合剤の
量、種類、添加剤、分散剤の添加量、種類に関しては磁
性層に関する公知技術が適用できる。 【００４０】［結合剤］本発明の磁気記録媒体の上層で
使用できる結合剤としては、従来公知の熱可塑性樹脂、
熱硬化性樹脂、反応型樹脂やこれらの混合物を挙げるこ
とができる。熱可塑性樹脂としては、ガラス転移温度が
-１００〜１５０℃、数平均分子量が１，０００〜２０
０，０００、好ましくは１０，０００〜１００，００
０、重合度が約５０〜１０００程度のものである。この
ような例としては、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルア
ルコール、マレイン酸、アクリル酸、アクリル酸エステ
ル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリル
酸、メタクリル酸エステル、スチレン、ブタジエン、エ
チレン、ビニルブチラール、ビニルアセタール、ビニル
エ-テル等を構成単位として含む重合体又は共重合体、
ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂がある。また、熱硬
化性樹脂又は反応型樹脂としては、フェノール樹脂、エ
ポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラ
ミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル系反応樹脂、ホルム
アルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ-ポリアミ
ド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポリマ
ーの混合物、ポリエステルポリオールとポリイソシアネ
ートの混合物、ポリウレタンとポリイソシアネートの混
合物等が挙げられる。これらの樹脂については朝倉書店
発行の「プラスチックハンドブック」に詳細に記載され
ている。また、公知の電子線硬化型樹脂を各層に使用す
ることも可能である。 【００４１】これらの例とその製造方法については特開
昭６２-２５６２１９号公報に詳細に記載されている。
以上の樹脂は単独又は組み合わせて使用できるが、好ま
しいものとして塩化ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル
共重合体、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコール共重
合体、塩化ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸共重合体か
ら選ばれる少なくとも１種とポリウレタン樹脂の組み合
わせ、又はこれらにポリイソシアネートを組み合わせた
ものが挙げられる。 【００４２】ポリウレタン樹脂の構造は、ポリエステル
ポリウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテ
ルポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウ
レタン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン、
ポリカプロラクトンポリウレタンなど公知のものが使用
できる。ここに示したすべての結合剤について、より優
れた分散性と耐久性を得るためには必要に応じ、-ＣＯ
ＯＭ、-ＳＯ3Ｍ、-ＯＳＯ3Ｍ、-Ｐ＝Ｏ(ＯＭ)2、-Ｏ-Ｐ
＝Ｏ(ＯＭ)2、（以上につき、Ｍは水素原子又はアルカ
リ金属塩基）、-ＮＲ2、-Ｎ+Ｒ3（Ｒは炭化水素基）、
エポキシ基、-ＳＨ、-ＣＮなどから選ばれる少なくとも
１つ以上の極性基を共重合又は付加反応で導入したもの
を用いることが好ましい。このような極性基の量は１０
-1〜１０-8モル／ｇであり、好ましくは１０-2〜１０-6
モル／ｇである。 【００４３】これら極性基以外にポリウレタン分子末端
に少なくとも１個ずつ、合計２個以上のＯＨ基を有する
ことが好ましい。ＯＨ基は硬化剤であるポリイソシアネ
ートと架橋して３次元の網状構造を形成するので、分子
中に多数含むほど好ましい。特にＯＨ基は分子末端にあ
る方が硬化剤との反応性が高いので好ましい。ポリウレ
タンは、分子末端にＯＨ基を３個以上有することが好ま
しく、４個以上有することが特に好ましい。本発明にお
いて、ポリウレタンを用いる場合はガラス転移温度が通
常、-５０〜１５０℃、好ましくは０〜１００℃、特に
好ましくは３０〜１００℃、破断伸びが１００〜２００
０％、破断応力は通常、０．４９〜９８ＭＰａ（０．０
５〜１０ｋｇ／ｍｍ2）、降伏点は０．４９〜９８ＭＰ
ａ（０．０５〜１０ｋｇ／ｍｍ2）が好ましい。このよ
うな物性を有することにより、良好な機械的特性を有す
る塗膜が得られる。 【００４４】本発明に用いられるこれらの結合剤の具体
例としては、塩化ビニル系共重合体としてユニオンカ-
バイト社製ＶＡＧＨ、ＶＹＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、
ＶＡＧＤ、ＶＲＯＨ、ＶＹＥＳ、ＶＹＮＣ、ＶＭＣＣ、
ＸＹＨＬ、ＸＹＳＧ、ＰＫＨＨ、ＰＫＨＪ、ＰＫＨＣ、
ＰＫＦＥ、日信化学工業社製ＭＰＲ-ＴＡ、ＭＰＲ-ＴＡ
５、ＭＰＲ-ＴＡＬ、ＭＰＲ-ＴＳＮ、ＭＰＲ-ＴＭＦ、
ＭＰＲ-ＴＳ、ＭＰＲ-ＴＭ、ＭＰＲ-ＴＡＯ、電気化学
社製１０００Ｗ、ＤＸ８０、ＤＸ８１、ＤＸ８２、ＤＸ
８３、１００ＦＤ、日本ゼオン社製ＭＲ-１０４、ＭＲ-
１０５、ＭＲ１１０、ＭＲ１００、ＭＲ５５５、４００
Ｘ-１１０Ａ、ポリウレタン樹脂として日本ポリウレタ
ン社製ニッポランＮ２３０１、Ｎ２３０２、Ｎ２３０
４、大日本インキ社製パンデックスＴ-５１０５、Ｔ-Ｒ
３０８０、Ｔ-５２０１、バ-ノックＤ-４００、Ｄ-２１
０-８０、クリスボン６１０９、７２０９、東洋紡社製
バイロンＵＲ８２００、ＵＲ８３００、ＵＲ-８７０
０、ＲＶ５３０、ＲＶ２８０、大日精化社製ポリカ-ボ
ネートポリウレタン、ダイフェラミン４０２０、５０２
０、５１００、５３００、９０２０、９０２２、７０２
０、三菱化成社製ポリウレタン、ＭＸ５００４、三洋化
成社製ポリウレタン、サンプレンＳＰ-１５０、旭化成
社製ポリウレタン、サランＦ３１０，Ｆ２１０などが挙
げられる。 【００４５】下層に用いられる結合剤は、非磁性無機粉
末１００質量部に対し、また磁性層に用いられる結合剤
は磁性粉末１００質量部に対し、５〜５０質量部の範
囲、好ましくは１０〜３０質量部の範囲で用いることが
できる。塩化ビニル系樹脂を結合剤として用いる場合
は、５〜３０質量部、ポリウレタン樹脂を用いる場合は
２〜２０質量部、ポリイソシアネートは２〜２０質量部
の範囲でこれらを組み合わせて用いることが好ましい
が、例えば、微量の脱塩素によりヘッド腐食が起こる場
合は、ポリウレタンのみまたはポリウレタンとイソシア
ネートのみを使用することも可能である。 【００４６】本発明の磁気記録媒体が二層以上で構成さ
れる場合、結合剤量、結合剤中に占める塩化ビニル系樹
脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネート若しくはそ
れ以外の樹脂の量、磁性層を形成する各樹脂の分子量、
極性基量、又は先に述べた樹脂の物理特性などを必要に
応じ各層とで変えることはもちろん可能であり、むしろ
各層で最適化すべきであり、多層磁性層に関する公知技
術を適用できる。例えば、各層で結合剤量を変更する場
合、磁性層表面の擦傷を減らすためには、磁性層の結合
剤量を増量することが有効であり、ヘッドに対するヘッ
ドタッチを良好にするためには、非磁性層のバインダー
量を多くして柔軟性を持たせることができる。 【００４７】本発明に用いられるポリイソシアネートと
しては、トリレンジイソシアネート、４，４’-ジフェ
ニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシ
アネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン-
１，５-ジイソシアネート、ｏ-トルイジンジイソシアネ
ート、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタ
ントリイソシアネート等のイソシアネート類、また、こ
れらのイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、
また、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイ
ソシアネート等が挙げられる。これらのイソシアネート
類の市販されている商品名としては、日本ポリウレタン
社製コロネートＬ、コロネートＨＬ、コロネート２０３
０、コロネート２０３１、ミリオネートＭＲ、ミリオネ
ートＭＴＬ、武田薬品社製タケネートＤ-１０２、タケ
ネートＤ-１１０Ｎ、タケネートＤ-２００、タケネート
Ｄ-２０２、住友バイエル社製デスモジュールＬ、デス
モジュールＩＬ、デスモジュールＮ、デスモジュールＨ
Ｌ等があり、これらを単独又は硬化反応性の差を利用し
て２つ若しくはそれ以上の組み合わせで各層とも用いる
ことができる。 【００４８】［カーボンブラック］本発明の磁気記録媒
体の磁性層で使用されるカーボンブラックは、ゴム用フ
ァーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチ
レンブラック等を用いることができる。比表面積は５〜
５００ｍ2／ｇ、ＤＢＰ吸油量は１０〜４００ｍｌ／１
００ｇ、平均粒子径は５〜３００ｎｍ、ｐＨは２〜１
０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は０．１〜１
ｇ／ｍｌ、が好ましい。具体的には、ＷＯ９８／３５３
４５に記載のもが挙げられる。 【００４９】カーボンブラックは磁性層の帯電防止、摩
擦係数低減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあ
り、これらは用いるカーボンブラックにより異なる。従
って、本発明が多層構成の場合には、各層でその種類、
量、組み合わせを変え、粒子径、吸油量、電導度、ｐＨ
などの先に示した諸特性をもとに目的に応じて使い分け
ることはもちろん可能であり、むしろ各層で最適化すべ
きものである。なお、非磁性層で使用されるカーボンブ
ラックについては、前述のとおりである。 【００５０】［研磨剤］本発明の磁気記録媒体は、研磨
剤を磁性層等に用いることができる。研磨剤としてはα
化率９０％以上のα-アルミナ、β-アルミナ、炭化ケイ
素、酸化クロム、酸化セリウム、α-酸化鉄、コランダ
ム、人造ダイヤモンド、窒化珪素、炭化珪素、チタンカ
ーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素、など
主としてモース硬度６以上の公知の材料が単独又は組み
合わせで使用される。また、これらの研磨剤同士の複合
体（研磨剤を他の研磨剤で表面処理したもの）を使用し
てもよい。 【００５１】本発明における研磨剤には主成分以外の化
合物又は元素が含まれる場合もあるが、主成分が９０％
以上であれば効果に変わりはない。これら研磨剤の平均
粒子径は、０．０１〜２μｍであることが好ましく、特
に電磁変換特性（Ｓ／Ｎ）を高めるためには、その粒度
分布が狭い方が好ましい。また耐久性を向上させるに
は、必要に応じて粒子径の異なる研磨剤を組み合わせた
り、単独の研磨剤でも粒径分布を広くして同様の効果を
もたせることも可能である。 【００５２】研磨剤のタップ密度は０．３〜２ｇ／ｍ
ｌ、含水率は０．１〜５％、ｐＨは２〜１１、比表面積
は１〜３０ｍ2／ｇであることが好ましい。本発明に用
いられる研磨剤の形状は、針状、球状及びサイコロ状の
いずれでもよいが、形状の一部に角を有するものが研磨
性が高くて好ましい。具体的には、ＷＯ９８／３５３４
５に記載のものが挙げられ、中でもダイヤモンドを同記
載のごとく用いると、走行耐久性及び電磁変換特性の改
善に有効である。磁性層、非磁性層に添加する研磨剤の
粒径、量はむろん最適値に設定すべきものである。 【００５３】［添加剤］本発明の磁性層と非磁性層に使
用される添加剤としては、潤滑効果、帯電防止効果、分
散効果、可塑効果などを有するものが使用され、組み合
わせることにより総合的な性能向上が図れる。潤滑効果
を示すものとしては、物質表面同士の摩擦により生じる
凝着に著しい作用を示す潤滑剤が使用される。潤滑剤に
は２つの型のものがある。磁気記録媒体に使用される潤
滑剤は、完全に流体潤滑か境界潤滑であるか判定するこ
とはできないが、一般的概念で分類すれば流体潤滑を示
す高級脂肪酸エステル、流動パラフィン、シリコン誘導
体などや境界潤滑を示す長鎖脂肪酸、フッ素系界面活性
剤、含フッ素系高分子などに分類される。塗布型媒体で
は、潤滑剤は結合剤に溶解した状態、また一部は強磁性
粉末表面に吸着した状態で存在するものであり、磁性層
表面に潤滑剤が移行してくるが、その移行速度は結合剤
と潤滑剤との相溶性の良否によって決まる。結合剤と潤
滑剤との相溶性が高いときは移行速度が小さく、相溶性
の低いときには早くなる。相溶性の良否に対する一つの
考え方として、両者の溶解パラメ-タ-の比較がある。流
体潤滑には非極性潤滑剤が有効であり、境界潤滑には極
性潤滑剤が有効である。 【００５４】本発明において、これら特性の異なる流体
潤滑を示す高級脂肪酸エステルと境界潤滑を示す長鎖脂
肪酸とを組み合わせることが好ましく、少なくとも３種
組み合わせることがさらに好ましい。これらに組み合わ
せて固体潤滑剤を使用することもできる。固体潤滑剤と
しては例えば二硫化モリブデン、二硫化タングステング
ラファイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛などが使用され
る。境界潤滑を示す長鎖脂肪酸としては、炭素数１０〜
２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分
岐していてもかまわない）、及びこれらの金属塩（Ｌ
ｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｕなど）が挙げられる。フッ素系界面
活性剤、含フッ素系高分子としてはフッ素含有シリコ-
ン、フッ素含有アルコール、フッ素含有エステル、フッ
素含有アルキル硫酸エステル及びそのアルカリ金属塩な
どが挙げられる。流体潤滑を示す高級脂肪酸エステルと
しては、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結
合を含んでも、また分岐していてもかまわない）と炭素
数２〜１２の一価、二価、三価、四価、五価、六価アル
コールのいずれか一つ（不飽和結合を含んでも、また分
岐していてもかまわない）とからなるモノ脂肪酸エステ
ル、ジ脂肪酸エステル又はトリ脂肪酸エステル、アルキ
レンオキシド重合物のモノアルキルエ-テルの脂肪酸エ
ステルなどが挙げられる。また流動パラフィン、そして
シリコン誘導体としてジアルキルポリシロキサン（アル
キルは炭素数１〜５個）、ジアルコキシポリシロキサン
（アルコキシは炭素数１〜４個）、モノアルキルモノア
ルコキシポリシロキサン（アルキルは炭素数１〜５個、
アルコキシは炭素数１〜４個）、フェニルポリシロキサ
ン、フロロアルキルポリシロキサン（アルキルは炭素数
１〜５個）などのシリコ-ンオイル、極性基をもつシリ
コ-ン、脂肪酸変性シリコ-ン、フッ素含有シリコ-ンな
どが挙げられる。 【００５５】その他の潤滑剤として炭素数１２〜２２の
一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコール（不飽
和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、
炭素数１２〜２２のアルコキシアルコール（不飽和結合
を含んでも、また分岐していてもかまわない）、フッ素
含有アルコールなどのアルコール、ポリエチレンワック
ス、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、エチレング
リコール、ポリエチレンオキシドワックスなどのポリグ
リコール、アルキル燐酸エステル及びそのアルカリ金属
塩、アルキル硫酸エステル及びそのアルカリ金属塩、ポ
リフェニルエ-テル、炭素数８〜２２の脂肪酸アミド、
炭素数８〜２２の脂肪族アミンなどが挙げられる。 【００５６】帯電防止効果、分散効果、可塑効果などを
示すものとして、フェニルホスホン酸、具体的には、日
産化学（株）社の「ＰＰＡ」など、αナフチル燐酸、フ
ェニル燐酸、ジフェニル燐酸、ｐ-エチルベンゼンホス
ホン酸、フェニルホスフィン酸、アミノキノン類、各種
シランカップリング剤、チタンカップリング剤、フッ素
含有アルキル硫酸エステル及びそのアルカリ金属塩、な
どが使用できる。 【００５７】本発明において使用される潤滑剤は、特に
脂肪酸と脂肪酸エステルであることが好ましく、具体的
にはＷＯ９８／３５３４５に記載のものが挙げられる。
これらに加えて別異の潤滑剤、添加剤も組み合わせて使
用することができる。 【００５８】また、アルキレンオキサイド系、グリセリ
ン系、グリシドール系、アルキルフェノールエチレンオ
キサイド付加体、等のノニオン界面活性剤、環状アミ
ン、エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダン
トイン誘導体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニ
ウム類等のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルフ
ォン酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基などの
酸性基を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノ
スルホン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エス
テル類、アルキルベダイン型、等の両性界面活性剤等も
使用できる。これらの界面活性剤については、「界面活
性剤便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載され
ている。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも１０
０％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副
反応物、分解物、酸化物等の不純分が含まれてもかまわ
ない。これらの不純分は３０％以下が好ましく、さらに
好ましくは１０％以下である。本発明は、脂肪酸エステ
ルとしてＷＯ９８／３５３４５に記載のようにモノエス
テルとジエステルを組み合わせて使用することも好まし
い。 【００５９】本発明の磁気記録媒体、特にディスク状磁
気記録媒体の磁性層表面のオージェ電子分光法によるＣ
／Ｆｅピーク比は、好ましくは５〜１００、特に好まし
くは５〜８０である。オージェ電子分光法の測定条件
は、以下の通りである。 装置：Φ社製ＰＨＩ-６６０型 測定条件：１次電子線加速電圧３ＫＶ 試料電流：１３０ｎＡ 倍率：２５０倍 傾斜角度：３０° 上記条件で、運動エネルギ-（Kinetic Energy）１３０
〜７３０ｅＶの範囲を３回積算し、炭素のＫＬＬピーク
と鉄のＬＭＭピークの強度を微分形で求め、Ｃ／Ｆｅの
比をとることで求める。 【００６０】一方、本発明の磁気記録媒体の上層及び下
層の各層に含まれる潤滑剤量は、それぞれ強磁性粉末又
は非磁性無機粉末１００質量部に対し５〜３０質量部が
好ましい。 【００６１】本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面
活性剤は個々に異なる物理的作用を有するものであり、
その種類、量及び相乗的効果を生み出す潤滑剤の併用比
率は、目的に応じ最適に定められるべきものである。非
磁性層、磁性層で融点の異なる脂肪酸を用い表面への滲
み出しを制御する、沸点、融点や極性の異なるエステル
類を用い表面への滲み出しを制御する、界面活性剤量を
調節することで塗布の安定性を向上させる、潤滑剤の添
加量を中間層で多くして潤滑効果を向上させるなど考え
られ、無論ここに示した例のみに限られるものではな
い。一般には潤滑剤の総量として磁性粉末または非磁性
粉末１００質量部に対し、０．１〜５０質量部、好まし
くは２〜２５質量部の範囲で選択される。 【００６２】また本発明で用いられる添加剤のすべて又
はその一部は、磁性塗料及び非磁性塗料製造のどの工程
で添加してもかまわない、例えば、混練工程前に磁性体
と混合する場合、磁性体と結合剤と溶剤による混練工程
で添加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添
加する場合、塗布直前に添加する場合などがある。ま
た、目的に応じて磁性層を塗布した後、同時または逐次
塗布で、添加剤の一部または全部を塗布することにより
目的が達成される場合がある。また、目的によってはカ
レンダした後、またはスリット終了後、磁性層表面に潤
滑剤を塗布することもできる。 【００６３】［支持体］本発明の磁気記録媒体に用いら
れる支持体は、非磁性可撓性支持体であることが好まし
く、支持体の面内各方向に対し、１００℃３０分での熱
収縮率が０．５％以下であり、８０℃３０分での熱収縮
率が０．５％以下、さらに好ましくは０．２％以下であ
ることが好ましい。さらに前記支持体の１００℃３０分
での熱収縮率及び８０℃３０分での熱収縮率が前記支持
体の面内各方向に対し、１０％以内の差で等しいことが
好ましい。支持体は非磁性であることが好ましい。これ
ら支持体はポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン
ナフタレート、等のポリエステル類、ポリオレフィン
類、セルロ-ストリアセテート、ポリカ-ボネート、芳香
族又は脂肪族ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミ
ド、ポリスルフォン、ポリアラミド、ポリベンゾオキサ
ゾールなどの公知のフィルムが使用できる。ポリエチレ
ンナフタレート、ポリアミドなどの高強度支持体を用い
ることが好ましい。また必要に応じ、磁性面とベ-ス面
の表面粗さを変えるため、特開平３-２２４１２７号公
報に示されるような積層タイプの支持体を用いることも
できる。これらの支持体にはあらかじめコロナ放電処
理、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理、な
どをおこなってもよい。また本発明の支持体としてアル
ミまたはガラス基板を適用することも可能である。 【００６４】本発明の目的を達成するには、支持体とし
てＷＹＫＯ社製ＨＤ−２０００型を用いて測定した中心
面平均表面粗さＲａは４．０ｎｍ以下、好ましくは２．
０ｎｍ以下のものを使用することが好ましい。これらの
支持体は単に中心面平均表面粗さが小さいだけではな
く、０．５μｍ以上の粗大突起がないことが好ましい。
また表面の粗さ形状は必要に応じて支持体に添加される
フィラーの大きさと量により自由にコントロールされる
ものである。これらのフィラーとしては一例としてはＣ
ａ，Ｓｉ、Ｔｉなどの酸化物や炭酸塩の他、アクリル系
などの有機粉末が挙げられる。支持体の最大高さＲｍａ
ｘは１μｍ以下、十点平均粗さＲｚは０．５μｍ以下、
中心面山高さＲｐは０．５μｍ以下、中心面谷深さＲｖ
は０．５μｍ以下、中心面面積率Ｓｒは１０％以上、９
０％以下、平均波長λａは５μｍ以上、３００μｍ以下
が好ましい。所望の電磁変換特性と耐久性を得るため、
これら支持体の表面突起分布をフィラーにより任意にコ
ントロールできるものであり、０．０１〜１μｍの大き
さのもの各々を０．１ｍｍ2当り０〜２０００個の範囲
でコントロールすることができる。 【００６５】本発明に用いられる支持体のＦ-５値は、
４９〜４９０ＭＰａ（５〜５０ｋｇ／ｍｍ2）であるこ
とが好ましい。また、支持体の１００℃３０分での熱収
縮率は、３％以下であることが好ましく、１．５％以下
であることがさらに好ましい。８０℃３０分での熱収縮
率は、１％以下であることが好ましく、０．５％以下で
あることがさらに好ましい。破断強度は、４９〜９８０
ＭＰａ（５〜１００ｋｇ／ｍｍ2）であることが好まし
い。また弾性率は、０．９８〜１９．６ＧＰａ（１００
〜２０００ｋｇ／ｍｍ2）であることが好ましい。温度
膨張係数は１０- 4〜１０-8／℃であり、１０-5〜１０-6
／℃であることが好ましい。湿度膨張係数は１０-4／Ｒ
Ｈ％以下であり、好ましくは１０-5／ＲＨ％以下であ
る。これらの熱特性、寸法特性、機械強度特性は、支持
体の面内各方向に対し１０％以内の差でほぼ等しいこと
が好ましい。 【００６６】［バックコート層］本発明の磁気記録媒体
は、上述のようにバックコート層を設けることもでき
る。磁気ディスクでもバックコート層を設けることはで
きるが、一般に、コンピュータデータ記録用の磁気テー
プは、ビデオテープ、オーディオテープに比較して、繰
り返し走行性が強く要求される。このような高い走行耐
久性を維持させるために、バックコート層には、カーボ
ンブラックと無機粉末が含有されていることが好まし
い。 【００６７】バックコート層で使用するカーボンブラッ
クは、平均粒子径の異なる二種類のものを組み合わせて
使用することが好ましい。この場合、平均粒子径が１０
〜２０ｎｍの微粒子状カーボンブラックと平均粒子径が
２３０〜３００ｎｍの粗粒子状カーボンブラックを組み
合わせて使用することが好ましい。一般に、上記のよう
な微粒子状のカーボンブラックの添加により、バック層
の表面電気抵抗を低く設定でき、また光透過率も低く設
定できる。磁気記録装置によっては、テープの光透過率
を利用し、動作の信号に使用しているものが多くあるた
め、このような場合には特に微粒子状のカーボンブラッ
クの添加は有効になる。また微粒子状カーボンブラック
は一般に液体潤滑剤の保持力に優れ、潤滑剤併用時、摩
擦係数の低減化に寄与する。一方、平均粒子径が２３０
〜３００ｎｍの粗粒子状カーボンブラックは、固体潤滑
剤としての機能を有しており、またバック層の表面に微
小突起を形成し、接触面積を低減化して、摩擦係数の低
減化に寄与する。 【００６８】本発明のバックコート層に用いられる微粒
子状カーボンブラック及び粗粒子状カーボンブラックと
して、市販のものを用いる場合、具体的な商品として
は、ＷＯ９８／３５３４５に記載のものを挙げることが
できる。バックコート層において、平均粒子径の異なる
二種類のものを使用する場合、１０〜２０ｎｍの微粒子
状カーボンブラックと２３０〜３００ｎｍの粗粒子状カ
ーボンブラックの含有比率（質量比）は、前者：後者＝
９８：２〜７５：２５の範囲にあることが好ましく、９
５：５〜８５：１５の範囲にあることがさらに好まし
い。バックコート層中のカーボンブラック（二種類のも
のを使用する場合には、その全量）の含有量は、結合剤
１００質量部に対して、通常３０〜８０質量部の範囲で
あり、好ましくは、４５〜６５質量部の範囲である。 【００６９】バックコート層で使用する無機粉末は、硬
さの異なる二種類のものを併用することが好ましい。具
体的には、モース硬度３〜４．５の軟質無機粉末とモー
ス硬度５〜９の硬質無機粉末とを使用することが好まし
い。モース硬度が３〜４．５の軟質無機粉末を添加する
ことで、繰り返し走行による摩擦係数の安定化を図るこ
とができる。しかもこの範囲の硬さでは、摺動ガイドポ
ールが削られることもない。またこの無機粉末の平均粒
子径は、３０〜５０ｎｍの範囲にあることが好ましい。
モース硬度が３〜４．５の軟質無機粉末としては、例え
ば、硫酸カルシウム、炭酸カルシウム、珪酸カルシウ
ム、硫酸バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸亜鉛、及び
酸化亜鉛を挙げることができる。これらは、単独で、あ
るいは二種以上を組み合わせて使用することができる。
バックコート層内の軟質無機粉末の含有量は、カーボン
ブラック１００質量部に対して１０〜１４０質量部の範
囲にあることが好ましく、３５〜１００質量部であるこ
とがさらに好ましい。 【００７０】モース硬度が５〜９の硬質無機粉末を添加
することにより、バック層の強度が強化され、走行耐久
性が向上する。これらの無機粉末をカーボンブラックや
前記軟質無機粉末と共に使用すると、繰り返し摺動に対
しても劣化が少なく、強いバックコート層となる。ま
た、この無機粉末の添加により、適度の研磨力が付与さ
れ、テープガイドポール等への削り屑の付着が低減す
る。特に軟質無機粉末と併用すると、表面の粗いガイド
ポールに対しての摺動特性が向上し、バックコート層の
摩擦係数の安定化も図ることができる。硬質無機粉末の
平均粒子径は８０〜２５０ｎｍの範囲にあることが好ま
しく、１００〜２１０ｎｍの範囲にあることがさらに好
ましい。モース硬度が５〜９の硬質無機質粉末として
は、例えば、α-酸化鉄、α-アルミナ、及び酸化クロム
（Ｃｒ2Ｏ3）を挙げることができる。これらの粉末は、
それぞれ単独で用いてもよいし、あるいは併用してもよ
い。これらの内では、α-酸化鉄又はα-アルミナが好ま
しい。硬質無機粉末の含有量は、カーボンブラック１０
０質量部に対して通常、３〜３０質量部であり、３〜２
０質量部であることが好ましい。 【００７１】バックコート層に前記軟質無機粉末と硬質
無機粉末とを併用する場合、軟質無機粉末と硬質無機粉
末との硬さの差が、２以上（さらに好ましくは、２．５
以上、特に、３以上）であるように軟質無機粉末と硬質
無機粉末とを選択して使用することが好ましい。バック
コート層には、前記それぞれ特定の平均粒子径を有する
モース硬度の異なる二種類の無機粉末と、前記平均粒子
径の異なる二種類のカーボンブラックとが含有されてい
ることが好ましい。 【００７２】バックコート層には、潤滑剤を含有させる
ことができる。潤滑剤は、前述した非磁性層、あるいは
磁性層に使用できる潤滑剤として挙げた潤滑剤の中から
適宜選択して使用できる。バック層において、潤滑剤
は、結合剤１００質量部に対して通常１〜５質量部の範
囲で添加される。 【００７３】［層構成］本発明の磁気記録媒体の厚み構
成は、非磁性支持体が通常、２〜１００μｍであり、２
〜８０μｍであることが好ましい。コンピューターテー
プの非磁性支持体は、３．０〜６．５μｍ（好ましく
は、３．０〜６．０μｍ、さらに好ましくは、４．０〜
５．５μｍ）の範囲の厚さのものが使用される。本発明
の磁気記録媒体は、前記支持体、好ましくは非磁性可撓
性支持体と非磁性層又は磁性層の間に密着性向上のため
の下塗層をさらに設けてもかまわない。この場合、下塗
層の厚みは０．０１〜０．５μｍとし、０．０２〜０．
５μｍであることが好ましい。また、本発明の磁気記録
媒体は、帯電防止やカール補正などの効果を出すために
磁性層が設けられている側と反対側の支持体にバックコ
ート層を設けてもかまわない。バックコート層の厚み
は、通常０．１〜４μｍであり、０．３〜２．０μｍで
あることが好ましい。これらの下塗層及びバックコート
層は公知のものが使用できる。 【００７４】本発明の磁気記録媒体の下層及び上層構成
の磁性層の厚みは、用いるヘッドの飽和磁化量やヘッド
ギャップ長、記録信号の帯域により最適化されるもので
あるが、本発明では０．２μｍ以下とする。また、下層
の厚みは、通常０．２〜５．０μｍであり、０．３〜
３．０μｍであることが好ましく、１．０〜２．５μｍ
であることがさらに好ましい。なお、下層は、実質的に
非磁性であればその効果を発揮するものであり、たとえ
ば不純物として、或いは意図的に少量の磁性粉を含んで
も、本発明の効果を示すものであるかぎり、本発明と実
質的に同一の構成と見なすことができることは言うまで
もない。ここで、実質的に非磁性層とは、下層の残留磁
束密度が１０ｍＴ以下又は抗磁力Ｈｃが７．９６ｋＡ／
ｍ（１００ Ｏｅ）以下であることを示し、好ましくは
残留磁束密度と抗磁力をもたないことを示す。また、下
層に磁性粉を含む場合は、下層の全無機粉末の１／２未
満含むことが好ましい。さらに下層として、非磁性層に
代えて軟磁性粉末と結合剤を含む軟磁性層を形成しても
よい。軟磁性層の厚みは上記下層と同様である。 【００７５】磁性層を２層有する磁気記録媒体の場合、
非磁性層や軟磁性層は設けても設けなくともよく、例え
ば、支持体から遠い側の磁性層の厚さを０．０１〜０．
１μｍ、好ましくは０．０１〜０．０５μｍとして、支
持体から近い側の磁性層の厚さを０．０５〜０．１５μ
ｍとすることができる。なお、磁性層を単独で有する場
合、上述したように磁性層の厚さを０．２μｍ以下とす
る。 【００７６】［製法］本発明の磁気記録媒体の磁性塗料
を製造する工程は、少なくとも混練工程、分散工程、及
びこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程か
らなる。個々の工程は、それぞれ２段階以上に別れてい
てもかまわない。本発明の磁気記録媒体に使用する磁性
粉末、非磁性粉末、結合剤、カーボンブラック、研磨
剤、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤などのすべての原料は、
どの工程の最初又は途中で添加してもかまわない。ま
た、個々の原料を２つ以上の工程で分割して添加しても
かまわない。例えば、ポリウレタンを混練工程、分散工
程、分散後の粘度調整のための混合工程で分割して投入
してもよい。本発明の目的を達成するためには、従来の
公知の製造技術を一部の工程として用いることができ
る。混練工程ではオープンニーダ、連続ニーダ、加圧ニ
ーダ、エクストルーダなど強い混練力をもつものを使用
することが好ましい。ニーダを用いる場合は磁性粉末又
は非磁性粉末と結合剤のすべて又はその一部（但し、全
結合剤の３０％以上が好ましい）及び磁性粉末１００質
量部に対し１５〜５００質量部の範囲で混練処理され
る。これらの混練処理の詳細については特開平１-１０
６３３８号公報、特開平１-７９２７４号公報に記載さ
れている。また、磁性層液及び非磁性層液を分散させる
には、ガラスビーズを用いることができるが、高比重の
分散メディアであるジルコニアビーズ、チタニアビー
ズ、スチールビーズが好適である。これら分散メディア
の粒径と充填率は最適化して用いられる。分散機は公知
のものを使用することができる。 【００７７】本発明で重層構成の磁気記録媒体を塗布す
る場合、磁性層の厚み分布に起因するノイズを小さくす
るために、下層を塗布し乾燥させた後、その上に磁性層
を設ける乾燥後塗布法（wet on dry塗布法）を用いるこ
とが好ましい。なお、本発明で重層構成の磁気記録媒体
を塗布する場合、以下のような方式を用いることが好ま
しい。 （１）磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗
布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗
布装置等により、まず下層を塗布し、下層がウェット状
態のうちに特公平１-４６１８６号公報や特開昭６０-２
３８１７９号公報，特開平２-２６５６７２号公報に開
示されている支持体加圧型エクストルージョン塗布装置
により上層を塗布する方法。 （２）特開昭６３-８８０８０号公報、特開平２-１７９
７１号公報，特開平２-２６５６７２号公報に開示され
ているような塗布液通液スリットを二つ内蔵する一つの
塗布ヘッドにより上下層をほぼ同時に塗布する方法。 （３）特開平２-１７４９６５号公報に開示されている
バックアップロール付きエクストルージョン塗布装置に
より上下層をほぼ同時に塗布する方法。 【００７８】なお、磁性粒子の凝集による磁気記録媒体
の電磁変換特性等の低下を防止するため、特開昭６２-
９５１７４号公報や特開平１-２３６９６８号公報に開
示されているような方法により塗布ヘッド内部の塗布液
にせん断を付与することが望ましい。さらに、塗布液の
粘度については、特開平３-８４７１号公報に開示され
ている数値範囲を満足する必要がある。 【００７９】ディスクの場合、配向装置を用いず無配向
でも十分に等方的な配向性が得られることもあるが、コ
バルト磁石を斜めに交互に配置すること、ソレノイドで
交流磁場を印加するなど公知のランダム配向装置を用い
ることが好ましい。六方晶系フェライトは、一般的に面
内及び垂直方向の３次元ランダムになりやすいが、面内
２次元ランダムとすることも可能である。また異極対向
磁石など公知の方法を用い、垂直配向とすることで円周
方向に等方的な磁気特性を付与することもできる。特に
高密度記録を行う場合は垂直配向が好ましい。また、ス
ピンコートを用い円周配向としてもよい。 【００８０】磁気テープの場合は、コバルト磁石やソレ
ノイドを用いて長手方向に配向する。乾燥風の温度、風
量、塗布速度を制御することで塗膜の乾燥位置を制御で
きるようにすることが好ましく、塗布速度は２０〜１０
００ｍ／分、乾燥風の温度は６０℃以上が好ましい。ま
た磁石ゾ-ンに入る前に適度の予備乾燥を行うこともで
きる。カレンダ処理ロールとしてエポキシ、ポリイミ
ド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐熱性のあるプ
ラスチックロールまたは金属ロールで処理するが、特に
両面磁性層とする場合は金属ロール同志で処理すること
が好ましい。処理温度は、好ましくは５０℃以上、さら
に好ましくは１００℃以上である。線圧力は好ましくは
１９６ｋＮ／ｍ（２００ｋｇ／ｃｍ）以上、さらに好ま
しくは２９４ｋＮ／ｍ（３００ｋｇ／ｃｍ）以上であ
る。 【００８１】［物理特性］磁気ディスクの場合、角形比
は２次元ランダムの場合、通常、０．５５〜０．６７で
あり、０．５８〜０．６４であることが好ましい。ま
た、３次元ランダムの場合、角形比は０．４５〜０．５
５であることが好ましい。垂直配向の場合、角形比は垂
直方向に通常０．６以上であり、０．７以上であること
が好ましい。また、反磁界補正を行った場合は、通常
０．７以上であり、０．８以上であることが好ましい。
２次元ランダム及び３次元ランダムとも配向度比は０．
８以上であることが好ましい。２次元ランダムの場合、
垂直方向の角形比、垂直方向のＢｒおよび垂直方向のＨ
ｃは面内方向の０．１〜０．５倍以内とすることが好ま
しい。磁気テープの場合、角型比は０．７以上、好まし
くは０．８以上である。 【００８２】本発明の磁気記録媒体のヘッドに対する摩
擦係数は、温度-１０〜４０℃、湿度０〜９５％の範囲
において、通常０．５以下であり、０．３以下であるこ
とが好ましい。表面固有抵抗は、磁性面１０4〜１０12
Ω／ｓｑであることが好ましく、帯電位は-５００Ｖ〜
＋５００Ｖであることが好ましい。磁性層の０．５％伸
びでの弾性率は、面内各方向で９８０〜１９６００ＭＰ
ａ（１００〜２０００ｋｇ／ｍｍ2）であることが好ま
しく、破断強度は、９８〜６８６ＭＰａ（１０〜７０ｋ
ｇ／ｍｍ2）であることが好ましい。磁気記録媒体の弾
性率は、面内各方向で９８０〜１４７００ＭＰａ（１０
０〜１５００ｋｇ／ｍｍ2）であることが好ましい。残
留伸びは、０．５％以下であることが好ましく、１００
℃以下のあらゆる温度での熱収縮率は、１％以下である
ことが好ましく、０．５％以下であることがより好まし
く、０．１％以下であることがさらに好ましい。磁性層
のガラス転移温度（１１０Ｈｚで測定した動的粘弾性測
定の損失弾性率の極大点）は、５０〜１２０℃であるこ
とが好ましく、下層のそれは０〜１００℃であることが
好ましい。損失弾性率は、１×１０5〜８×１０8Ｐａの
範囲にあることが好ましく、損失正接は０．２以下であ
ることが好ましい。損失正接が大きすぎると粘着故障が
発生しやすい。これらの熱特性や機械特性は媒体の面内
各方向で１０％以内であり、かつ、ほぼ等しいことが好
ましい。磁性層中に含まれる残留溶媒は、１００ｍｇ／
ｍ2以下であることが好ましく、１０ｍｇ／ｍ2以下であ
ることがさらに好ましい。塗布層が有する空隙率は、下
層、上層とも３０容量％以下であることが好ましく、２
０容量％以下であることがさらに好ましい。空隙率は、
高出力を果たすためには小さい方が好ましいが、目的に
よってはある値を確保した方が良い場合がある。例え
ば、繰り返し用途が重視されるディスク媒体では空隙率
が大きい方が走行耐久性は好ましいことが多い。 【００８３】本発明の磁性層における中心面平均表面粗
さＲａ及び１０点平均粗さＲｚは、前記のとおり、それ
ぞれ５ｎｍ以下及び５０ｎｍ以下である。また、磁性層
の最大高さＲmaxは０．５μｍ以下、中心面山高さＲｐ
は０．３μｍ以下、中心面谷深さＲｖは０．３μｍ以
下、中心面面積率Ｓｒは２０〜８０％、平均波長λａは
５〜３００μｍが好ましい。磁性層の表面突起は０．０
１〜１μｍの大きさのものを０〜２０００個の範囲で任
意に設定することが可能であり、これにより電磁変換特
性、摩擦係数を最適化することが好ましい。これらは支
持体のフィラーによる表面性のコントロールや磁性層に
添加する粉体の粒径と量、カレンダ処理のロール表面形
状などで容易にコントロールすることができる。カール
は±３ｍｍ以内とすることが好ましい。本発明の磁気記
録媒体は、目的に応じ下層と上層でこれらの物理特性を
変えることができるのは容易に推定されることである。
例えば、上層の弾性率を高くし走行耐久性を向上させる
と同時に下層の弾性率を上層より低くして磁気記録媒体
のヘッドへの当りを良くするなどである。 【００８４】 【実施例】以下、本発明の具体的実施例を説明するが、
本発明はこれに限定されるべきものではない。なお、以
下の「部」とは別段断らない限り「質量部」のことであ
る。 【００８５】磁性塗料Ａ 六方晶バリウムフェライト １００部 表面処理：Al2O3 ５重量％、SiO2 ２重量％ 抗磁力(Ｈｃ)：１９９ｋＡ／ｍ（２５００ Ｏｅ） 板径：３０ｎｍ 板状比：３ 飽和磁化(σｓ)：５６Ａ・ｍ2／ｋｇ（５６ｅｍｕ／ｇ） 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） ６部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ３部 α−アルミナ ＨＩＴ６０（住友化学社製） ４部 ダイヤモンド（平均粒径１００ｎｍ） ２部 カーボンブラック ＃５０（旭カーボン社製） １部 イソセチルステアレート ５部 ステアリン酸 １部 オレイン酸 １部 メチルエチルケトン ８０部 シクロヘキサノン １２０部 【００８６】磁性塗料Ｂ 強磁性金属粉末 １００部 組成：Ｆｅ７０％、Ｃｏ３０％、 抗磁力(Ｈｃ)：１８３ｋＡ／ｍ（２３００ Ｏｅ） 長軸長：０．０４５μｍ 結晶サイズ：１１５Å 飽和磁化(σｓ)：１１０Ａ・ｍ2／ｋｇ（１１０ｅｍｕ／ｇ） 焼結防止剤 Ａｌ化合物（Ａｌ／Ｆｅ 原子比 １４％） Ｙ化合物 （Ｙ／Ｆｅ 原子比 ７％） 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １０部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ４部 α−アルミナ ＨＩＴ６０（住友化学社製） ４部 ダイヤモンド（平均粒径１００nm） ２部 カーボンブラック ＃５０（旭カーボン社製） １部 フェニルホスホン酸 ３部 ｎ−ブチルステアレート １部 ブトキシエチルステアレート １部 イソセチルステアレート ２部 ステアリン酸 １部 オレイン酸 １部 メチルエチルケトン １４０部 シクロヘキサノン ２００部 【００８７】非磁性塗料 α−Ｆｅ２Ｏ３ ヘマタイト １００部 長軸長 ０．０７μｍ、短軸長 ０．０１４μｍ ＢＥＴ法による比表面積 ５５ｍ２／ｇ ｐＨ ９ 表面処理剤 Ａｌ２Ｏ３ ８質量％ カーボンブラック（平均粒径２０ｎｍ） コンダクテックスＳＣ−Ｕ(コロンビアンカーボン社製) ２５部 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１０４（日本ゼオン社製） １５部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ５５００（東洋紡社製） ７部 フェニルホスホン酸 ４部 イソセチルステアレート ６部 オレイン酸 １．３部 ステアリン酸 １．３部 メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（８／２混合溶剤） ２５０部 【００８８】（実施例１）上記磁性塗料Ａと非磁性塗料
のそれぞれについて、各成分をニーダで混練した後、サ
ンドミルを用いて分散させた。得られた磁性液Ａと非磁
性塗料の分散液にポリイソシアネートを非磁性層の塗布
液には１３部、磁性塗料Ａの塗布液には４部を加え、さ
らにそれぞれにシクロヘキサノン３０部を加え、１μｍ
の平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、非磁性
層形成用及び磁性層形成用の塗布液をそれぞれ調製し
た。得られた非磁性層形成用塗布液を厚さ６２μｍで中
心面平均表面粗さが３ｎｍのポリエチレンテレフタレー
ト支持体上に乾燥後の厚さが１．５μｍになるように塗
布し乾燥した。乾燥後、７段のカレンダで温度９０℃、
線圧２９４ｋＮ／ｍ（３００ｋｇ／ｃｍ）で処理を行っ
た。その後、磁性層の厚さが０．１μｍになるように非
磁性層上に塗布を行い、乾燥後、７段のカレンダで温度
９０℃、線圧２９４ｋＮ／ｍ（３００ｋｇ／ｃｍ）で処
理を行い、３．７吋に打ち抜き、表面研磨処理を施し
た。 【００８９】（実施例２〜７）実施例１の非磁性塗料中
に添加するカーボンブラックを表１に記したような平均
粒子径又は添加量に変更したことを除き、実施例１と同
様に作成した。 【００９０】（実施例８〜１１）実施例１の非磁性層用
塗布液を支持体上に塗布・乾燥した後に行ったカレンダ
処理の線圧及び温度を表１に記載した条件に変更したこ
とを除き、実施例１と同様に作成した。 【００９１】（実施例１２）実施例１の磁性層厚を０．
１μｍから０．１５μｍに変更したことを除いて、実施
例１と同様に作成した。 【００９２】（実施例１３）実施例１の磁性層厚を０．
１μｍから０．２μｍに変更したことを除いて、実施例
１と同様に作成した。 【００９３】（実施例１４）実施例１の非磁性塗布液を
支持体上に塗布してから乾燥した後に、カレンダ処理を
行わなかったこと以外は、実施例１と同様に作成した。 【００９４】（実施例１５）実施例１の磁性塗料をＡか
らＢに変更し、さらに磁性層厚を０．１μｍから０．０
７μｍに変更したことを除いて、実施例１と同様に作成
した。 【００９５】（実施例１６〜２１）実施例１５の非磁性
塗料中に添加するカーボンブラックを表１に記したよう
な平均粒子径及び添加量に変更したことを除いて、実施
例１５と同様に作成した。 【００９６】（実施例２２）実施例１５の非磁性塗布液
を支持体上に塗布してから乾燥した後に、カレンダ処理
を行わなかったこと以外は、実施例１と同様に作成し
た。 【００９７】（比較例１）実施例１と同様な方法で、磁
性塗料と非磁性塗料を調製し、得られた非磁性層用塗布
液を乾燥後の厚さが１．５μｍになるように、さらにそ
の直後にその上に磁性層の厚さが０．１μｍになるよう
に、厚さ６２μｍで中心面平均表面粗さが３ｎｍのポリ
エチレンテレフタレート支持体上に同時重層塗布（wet
on wet）を行った。両層がまだ湿潤状態にあるうちにラ
ンダム配向処理を行い、乾燥後、７段のカレンダで温度
９０℃、線圧２９４ｋＮ／ｍ（３００ｋｇ／ｃｍ）で処
理を行い、３．７吋に打ち抜き、表面研磨処理を施し
た。 【００９８】（比較例２〜５）実施例１の非磁性塗料中
に添加するカーボンブラックを表１に記したような平均
粒子径、添加量に変更したことを除いて、実施例１と同
様に作成した。 【００９９】（比較例６）実施例１の磁性層の厚さを
０．１μｍから０．２５μｍに変更したことを除き、実
施例１と同様の方法により作成した。 【０１００】（比較例７）比較例１の磁性塗料をＡから
Ｂに変更し、磁性層厚を０．１μｍから０．０７μｍに
変更したことを除いて、比較例１と同様に作成した。 【０１０１】（比較例８〜１１）実施例１５の非磁性塗
料中に添加するカーボンブラックを表１に記したような
平均粒子径及び添加量に変更したことを除いて、実施例
１５と同様に作成した。 【０１０２】［Ｒａ及びＲｚの測定］ＷＹＫＯ社製ＨＤ
−２０００型を用い、以下の条件で測定した。 対物レンズ：×５０ 中間レンズ：×０．５ 測定範囲：２４２μｍ×１８４μｍ データに傾き補正及び円筒補正を施した後、中心面平均
粗さ（Ｒａ）と１０点平均粗さ（Ｒｚ）を測定した。 【０１０３】［ｂ／ａ値の測定］島津社製ＥＰＭＡ−１
６００を使用し、電子ビーム加速電圧１５ｋＶ、３０ｎ
Ａ、ビーム径１μｍφの条件で磁性層表面から１００×
１００μｍの範囲を少なくとも５００×５００画素で目
的の元素の強度マッピング測定した。強磁性金属粉末の
場合にはＣｏ、Ｙ等を磁性層固有の元素として選択でき
るが、本実施例ではＣｏを選択した。六方晶系フェライ
ト磁性体の場合には、Ｂａを磁性層固有の元素として選
択した。得られた元素強度マッピングの結果において強
度を２５６段階に分割し、ＺＥＩＳＳ製画像解析装置Ｋ
Ｓ４００にて強度分布の標準偏差（ｂ）及び、平均値
（ａ）を求め、ｂ／ａ値を算出した。 【０１０４】［Ｓ／Ｎの測定］Ｓ／Ｎの測定は、米ＧＵ
ＺＩＫ社製のＲＷＡ１００１型ディスク評価装置及び協
同電子システム（株）製スピンスタンドＬＳ−９０に
て、トラック幅５μｍでギャップ長０．２μｍのメタル
インギャップヘッド用い、半径２４．６ｍｍの位置にお
いて線記録密度１００ＫＦＣＩの信号を書き込み、トラ
ック幅が２．６μｍのＭＲヘッドで再生し、その再生出
力（ＴＡＡ）とＤＣイレーズ後のノイズレベルを測定
し、Ｓ／Ｎ値を求めた。なお、比較例４、６及び１０
は、測定中にＭＲヘッドが静電破壊され、測定すること
ができなかった。 【０１０５】［ＰＷ５０の測定］ＰＷ５０の測定は、米
ＧＵＺＩＫ社製のＲＷＡ１００１型ディスク評価装置及
び協同電子システム（株）製スピンスタンドＬＳ−９０
にて、トラック幅５μｍでギャップ長０．２μｍのメタ
ルインギャップヘッド用い、半径２４．６ｍｍの位置に
おいて孤立反転波形信号を書き込み、トラック幅が２．
６μｍのＭＲヘッドで再生し、そのＰＷ５０を測定し
た。なお、比較例４、６及び１０は、測定中にＭＲヘッ
ドが静電破壊され、測定することができなかった。 【０１０６】 【表１】【０１０７】表１に示されるように、カーボンブラック
の平均粒径については、カーボンブラックの含有量を固
定した場合、平均粒径１０〜３０μｍの範囲内であれ
ば、いずれも高Ｓ／Ｎを得ることができた（実施例１〜
３、１５〜１７）。これに対して、カーボンブラックの
平均粒径が１０μｍより小さい場合（比較例２、８）及
び大きい場合（比較例３、９）には、いずれも充分なＳ
／Ｎが得られなかった。また、カーボンブラックの含有
量については、カーボンブラックの平均粒径を固定した
場合、１０〜５０質量部の範囲内であれば、いずれも高
Ｓ／Ｎを得ることができた（実施例４〜７、１８〜２
１）。これに対して、１０部より少ない場合（比較例
４、１０）又は多い場合（比較例５、１１）にはいずれ
も充分なＳ／Ｎが得られなかった。なお、カーボンブラ
ックの含有量が１０部より少なくなると、ＭＲヘッドの
静電破壊が起こった（比較例４、１０）。これより所定
質量のカーボンブラックを含有すると磁性層の表面電気
抵抗を下げられることが分かる。 【０１０８】また、下層塗設後にカレンダ処理したもの
の方がカレンダ処理しないものよりも高いＳ／Ｎを得る
ことができた（実施例１４及び２２）。またカレンダ処
理条件については、線圧が高く、かつ、温度が高いほど
高Ｓ／Ｎ値を得ることができた（実施例９〜１１）。さ
らに、Ｒａ値及びＲｚ値については、小さい値を示すも
のほど高Ｓ／Ｎを得ることができた。これより、磁性層
の表面が平滑な磁気記録媒体ほど高いＳ／Ｎを示すこと
が分かった。また、塗布方式については、Ｗ／Ｄの方が
Ｗ／Ｗよりも高Ｓ／Ｎを得ることができた（実施例１〜
２２、比較例１及び７）。これより磁性層の厚み分布に
起因するノイズを小さくするためには、wet on dry 塗
布が有効であることが分かった。また、wet on dry 塗
布を行う場合、非磁性層の表面状態が磁性層及び非磁性
層の界面の乱れに大きく影響し、非磁性層の表面が平滑
なもの程、高いＳ／Ｎを得ることができることが分かっ
た。また、磁性層の厚さが０．２５μｍである場合には
静電破壊が起こった（比較例６）。これより、磁性層の
厚さが０．２μｍ以下であれば静電破壊を防ぐことがで
きる。 【０１０９】 【発明の効果】以上述べたように、本発明の磁気記録媒
体であれば、磁性層の表面粗さに起因するノイズを低減
することができ、優れた電磁変換特性、特に高Ｓ／Ｎを
得ることができる。また、本発明の磁気記録媒体であれ
ば、ＭＲヘッドと媒体間のスペーシングを低減できるた
め、ＭＲヘッドを用いた磁気記録においても静電破壊を
起こすことのない好適な磁気記録媒体を提供することが
できる。
媒体に関する。本発明は、特に薄層磁性層と非磁性層と
を有する高密度記録に適した磁気記録媒体に関する。 【０００２】 【従来の技術】近年高密度化と共に記録波長が短くなる
傾向にあり、磁性層が厚いと出力が低下する記録時の自
己減磁損失、再生時の厚み損失の問題が大きくなってい
る。このため、磁性層の薄層化が行われているが、２μ
ｍ以下の磁性層を直接支持体に塗布すると磁性層の表面
に非磁性支持体の影響が表れやすくなり、電磁変換特性
やドロップアウトの悪化傾向が見られる。このような状
況に対し、最近ではさらに記録密度を高めるために、ト
ラック幅を一段と狭くした記録再生システムが開発され
ている。これに対応して高感度の磁気抵抗型ヘッド（Ｍ
Ｒヘッド）を使用した再生システムが提案され、ハード
ディスク等で実現されている。しかしながら、既存の磁
気記録媒体では出力は充分に高くても高ノイズであり、
ＭＲヘッドを使用する場合、必ずしも良好なＳ／Ｎを得
ることができない。以下にその例を示す。 【０００３】例えば、特開平３−２１４４２２号公報に
は、非磁性支持体上に高分子樹脂と非磁性粒子を主成分
とするダミー層を設け、該ダミー層の表面をカレンダ処
理により平滑化した後に、前記ダミー層上に磁性層を形
成することで、良好な磁性層表面性を得て、再生出力が
高く、低ノイズの磁気記録媒体が得られる旨が開示され
ている。しかし、この方法により得られた磁気記録媒体
は、磁性体粉末としてガンマ酸化鉄（γ−Ｆｅ2Ｏ3等）
を使用し、かつ、磁性層の表面粗さが０．０１〜０．０
１５μｍと大きい値を示していたため、高密度記録用と
して必要なＳ／Ｎを確保することができない。さらに、
この磁気記録媒体は、静電気が溜まりやすい構造であっ
たため、ＭＲヘッド記録再生時に静電破壊を受けやすい
という問題があった。 【０００４】また、特開平２０００−１１３５４号公報
は、下層非磁性層を塗布し、乾燥した後に上層磁性層を
塗布するいわゆるwet on dry塗布方式で形成した磁気記
録媒体を開示する。しかし、この磁気記録媒体は、下層
の表面粗さが３．０ｎｍと大きい上、特にＭＲヘッドを
用いた場合に充分なＳ／Ｎを得ることができなかった。
また、この磁気記録媒体には、記録再生時にＭＲヘッド
が静電破壊を受けやすいという問題もあった。 【０００５】 【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明の目的
は、高密度磁気記録においても充分なＳ／Ｎを確保で
き、かつ、ＭＲヘッドを使用した記録再生においてもＭ
Ｒヘッドが静電破壊されにくい磁気記録媒体を提供する
ことにある。 【０００６】 【課題を解決するための手段】本発明者らは、塗布型の
磁気記録媒体において、磁性層上の表面状態を改善すべ
く鋭意検討を重ねた結果、高Ｓ／Ｎが確保でき、しかも
ＭＲヘッド記録再生時に静電破壊のない磁気記録媒体の
開発に成功し、本発明を完成するに至った。すなわち、
本発明は、非磁性支持体の少なくとも一方の面に、非磁
性粉末及び結合剤を含む非磁性層と、強磁性金属粉末又
は強磁性六方晶フェライト粉末及び結合剤を含む磁性層
と、をこの順に有する磁気記録媒体であって、前記非磁
性層が平均粒径１０〜３０ｎｍのカーボンブラックを前
記非磁性粉末１００質量部に対して１０〜５０質量部含
有し、前記磁性層の厚さが０．２μｍ以下であり、電子
線マイクロアナリシスによる前記強磁性粉末に起因する
元素の平均強度ａに対する該強度の標準偏差ｂが０．０
３≦ｂ／ａ≦０．４であり、かつ、前記磁性層の中心面
平均粗さＲａが５ｎｍ以下、１０点平均粗さＲｚが５０
ｎｍ以下であることを特徴とする磁気記録媒体に関す
る。 【０００７】本発明の好ましい態様は、次のとおりであ
る。 （１） 前記磁気記録媒体が、前記非磁性支持体上に非
磁性粉末及び結合剤を含有する非磁性層塗料を塗布し乾
燥して非磁性層を形成した後に、前記磁性層を形成する
前記磁気記録媒体。 （２） 前記非磁性層を形成した後に、前記非磁性層の
カレンダ処理を行う前記磁気記録媒体。 （３） 記録再生時にＭＲヘッドを用いるＭＲヘッド再
生用の磁気記録媒体。 【０００８】 【発明の実施の形態】以下、本発明の磁気記録媒体をさ
らに詳しく説明する。本発明の磁気記録媒体は、非磁性
層（以下、下層ともいう。）が平均粒径１０〜３０ｎｍ
のカーボンブラックを非磁性粉末１００質量部に対して
１０〜５０質量部含有することを第一の特徴とする。本
発明の非磁性層で使用するカーボンブラックの平均粒径
は、１０〜３０ｎｍであり、１５〜２５ｎｍであること
が好ましく、１８〜２２ｎｍであることがさらに好まし
い。 【０００９】また、下層におけるカーボンブラックの含
有量は、非磁性粉末１００質量部に対して１０〜５０質
量部、好ましくは２０〜４０質量部、さらに好ましくは
２０〜３０質量部含有させるようにする。カーボンブラ
ックの平均粒径を１０〜３０ｎｍ及びカーボンブラック
の含有量を非磁性粉末に対して１０〜５０質量部の範囲
にすることで、磁性層の表面電気抵抗を低下させ、静電
気の溜まりにくい構造にすることができ、かつＭＲヘッ
ドの静電破壊を抑制することができる。 【００１０】その他、下層にカーボンブラックを含有さ
せることにより、光透過率を小さくし、かつ、所望のマ
イクロビッカース硬度を得るという公知の効果を得るこ
とができる。また、下層にカーボンブラックを含ませる
ことで潤滑剤貯蔵の効果をもたらすことも可能である。 【００１１】下層で使用されるカーボンブラックの比表
面積は、通常１００〜５００ｍ2／ｇであり、１５０〜
４００ｍ2／ｇであることが好ましい。ＤＢＰ吸油量
は、２０〜４００ｍｌ／１００ｇであり３０〜４００ｍ
ｌ／１００ｇであることが好ましい。カーボンブラック
のｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タップ密
度は０．１〜１ｇ／ｍｌであることが好ましい。 【００１２】下層で使用できるカーボンブラックの具体
例としては、例えばＷＯ９８／３５３４５に記載のもの
が挙げられる。カーボンブラックは、単独又は組み合わ
せで使用することができる。本発明で使用できるカーボ
ンブラックは、例えば「カーボンブラック便覧」（カー
ボンブラック協会編）を参考にすることができる。 【００１３】本発明の磁気記録媒体は、磁性層の厚さが
０．２μｍ以下であり、電子線マイクロアナリシスによ
る前記強磁性粉末に起因する元素の平均強度ａに対する
該強度の標準偏差ｂが０．０３≦ｂ／ａ≦０．４である
ことを第二の特徴とする。磁性層の厚さは、０．２μｍ
以下とするが、０．０１〜０．１５μｍであることが好
ましく、０．０１〜０．１μｍであることがさらに好ま
しい。磁性層を０．２μｍ以下とすることで、自己減磁
損失が小さく出力を向上することができ、かつ良好なオ
ーバーライト特性（以下「ＰＷ５０」ともいう）が得ら
れ、高密度記録に有利となる。また、磁性層の厚さが
０．２μｍ以下であれば、表面電気抵抗が高くなり、Ｍ
Ｒヘッドが静電破壊されることはない。 【００１４】本発明の磁性層における電子線マイクロア
ナリシスによる前記強磁性粉末に起因する元素の平均強
度ａに対する該強度の標準偏差ｂは、０．０３≦ｂ／ａ
≦０．４とする。電子線マイクロアナリシス（ＥＰＭ
Ａ）は、磁性層内の各領域における強磁性粉末の充填度
の分布、すなわち、強磁性粉末の充填性を強磁性粉末に
起因する平均強度ａと該強度の標準偏差ｂとを用いて評
価することができる。すなわち、ｂ／ａ値が小さいほ
ど、強磁性粉末の凝集、非磁性層−磁性層間の界面変動
や界面の流れ等による充填性の不均一性が少ないことを
示す。本発明の磁気記録媒体では、ＥＰＭＡで評価した
際にｂ／ａ値が所定の範囲になるように強磁性粉末のサ
イズ等を制御する。そこで、先ずＥＰＭＡによる評価法
を以下に説明する。 【００１５】島津社製ＥＰＭＡ−１６００を使用し、電
子ビーム加速電圧１５ｋＶ、３０ｎＡ、ビーム径１μｍ
Φの条件で、磁性層表面から１００×１００μｍの範囲
を少なくとも５００×５００画素で目的の元素の強度マ
ッピングを測定する。強磁性粉末を構成する元素から固
有の元素、例えば、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｂａ等の何れかを選択
する。得られた元素強度マッピングの結果において、強
度を２５６段階に分割してＺＥＩＳＳ製画像解析装置Ｋ
Ｓ４００を用いて強度分布の標準偏差ｂ及び平均強度ａ
を求め、ｂ／ａ値を算出する。 【００１６】ｂ／ａ値を制御する手段は、公知の手段か
ら適宜選択し、必要に応じて最適化することができる。
このような制御手段としては、例えば、強磁性粉末、研
磨剤、カーボンブラックなどのサイズ及び形状の制御、
結合剤の選定、分散剤、潤滑剤、界面活性剤等の各種添
加剤等の選定、磁性塗布液の分散方法、並びに塗布方
法、配向方法等の選定、カレンダ処理条件の選定等が挙
げられる。中でも塗布方法による制御が好ましい。塗布
方法は、逐次重層塗布を挙げることができる。 【００１７】本発明においてｂ／ａ値は、０．０３≦ｂ
／ａ≦０．４、好ましくは０．０３≦ｂ／ａ≦０．３、
さらに好ましくは、０．０３≦ｂ／ａ≦０．２に制御さ
れる。ｂ／ａ値が０．０３≦ｂ／ａ≦０．４であれば、
自己減磁損失もなく、また強磁性粉末の充填性が均一と
なるため、Ｓ／Ｎを改善でき、所望のＳ／Ｎを得ること
ができる。 【００１８】本発明の磁気記録媒体は、磁性層の中心面
平均粗さＲａが５ｎｍ以下であり、１０点平均粗さＲｚ
が５０ｎｍ以下であることを第三の特徴とする。磁性層
の中心面平均粗さＲａ（以下、Ｒａともいう）は、磁性
層表面をＷＹＫＯ社製ＨＤ−２０００型を用いて測定す
ることにより求めることができる。Ｒａは、５ｎｍ以
下、好ましくは０．５〜４ｎｍ、さらに好ましは０．５
〜３ｎｍに制御する。Ｒａが５ｎｍ以下することによ
り、ヘッド−媒体間のスペーシングを低下させることが
でき、出力の向上とＰＷ５０の低減を達成することがで
きる。また、磁性層の１０点平均粗さＲｚ（以下、Ｒｚ
ともいう）は、Ｒａと同じ測定方法により測定すること
により求めることができる。Ｒｚは、５０ｎｍ以下、好
ましくは５〜４０ｎｍ、さらに好ましくは５〜３０ｎｍ
に制御する。１０点平均粗さＲｚが５０ｎｍ以下とする
ことにより、ヘッド−媒体間のスペーシングを低減させ
ることができ、特に媒体ノイズの低減を達成することが
できる。 【００１９】Ｒａ及びＲｚは、非磁性層に添加するカー
ボンブラックの平均粒径が１０〜３０ｎｍのものを選択
し、かつ、該カーボンブラックの含有量を非磁性粉末１
００質量部に対して１０〜５０質量部とするほか、次の
少なくとも１又は２以上の方法により、所定の値に制御
することができる。 （１）非磁性層に含有させる非磁性粉末の平均粒径を
０．２μｍ以下、好ましくは ０．０１〜０．１５μ
ｍ、さらに好ましくは０．０１〜０．１μｍとする。 （２）非磁性層を塗布した後、非磁性層表面のカレンダ
処理を行い、非磁性層のＲａを１０ｎｍ以下、好ましく
は１〜５ｎｍ、さらに好ましくは１〜３ｎｍとし、非磁
性層のＲｚを１００ｎｍ以下、好ましくは１０〜５０ｎ
ｍ、さらに好ましくは１０〜３０ｎｍに調整する。 （３）磁性層を形成した後に、処理温度７０℃以上、好
ましくは８０℃以上、処理線圧１９６ｋＮ／ｍ（２００
ｋｇ／ｃｍ）以上、好ましくは２９４ｋＮ／ｍ（３００
ｋｇ／ｃｍ）以上の条件でカレンダ処理を行う。 （４）その他、必要に応じて磁性塗料の分散時間を長く
設定する。 【００２０】次に、本発明の磁気記録媒体の磁性層、非
磁性層、非磁性支持体等の各層についてさらに詳しく説
明する。 【００２１】［磁性層］本発明の磁気記録媒体は、非磁
性支持体の少なくとも一方の面に磁性層（以下、単に上
層ともいう。）を有する。したがって、上層は非磁性支
持体の片面だけでも、あるいは両面に設けても構わな
い。また一方側に形成される上層は、単層でも互いに組
成の異なる複層であってもよい。さらに、本発明の磁気
記録媒体は、非磁性支持体と上層の間に実質的に非磁性
である下層（非磁性層）を有する。 【００２２】上層は、下層が乾燥した後に設けるwet on
dry（Ｗ／Ｄ）又は下層を同時又は逐次塗布後、下層が
湿潤状態の内に設けるwet on wet（Ｗ／Ｗ）のいずれの
塗布方法により形成することができる。磁性層の厚み分
布に起因するノイズを小さくする観点からは、乾燥後塗
布法（Ｗ／Ｄ）の方が好ましい。Ｗ／Ｄでは下層形成後
に下層表面をカレンダ処理等による表面処理工程を有効
に活用でき、薄層でも上層（磁性層）の表面粗さを良化
できる。磁性層に使用する強磁性粉末としては、強磁性
金属粉末又は六方晶系フェライト粉末が好ましい。 【００２３】＜強磁性金属粉末＞強磁性金属粉末として
は、α-Ｆｅを主成分とする強磁性金属粉末が好まし
い。強磁性金属粉末には所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、
Ｃａ、Ｍｇ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｂ
ａ、Ｗ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚ
ｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂなどの原子を含んでもかまわない。
特に、Ａｌ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｙ、Ｂａ、Ｌａ、Ｎｄ、Ｓ
ｍ、Ｃｏ、Ｎｉの少なくとも１つをα-Ｆｅ以外に含む
ことが好ましい。Ｃｏは、Ｆｅと合金を作ると飽和磁化
が増加し、かつ減磁が改良されるので特に好ましい。Ｃ
ｏの含有量はＦｅに対して１〜４０原子％が好ましく、
さらに好ましくは１５〜３５原子％、より好ましくは２
０〜３５原子％である。 【００２４】Ｙ等の希土類元素の含有量は、１．５〜１
２原子％であることが好ましく、３〜１０原子％である
ことがより好ましく、４〜９原子％であることがさらに
好ましい。Ａｌは１．５〜１２原子％であることが好ま
しく、３〜１０原子％であることがより好ましく、４〜
９原子％であることがさらに好ましい。Ｙを含む希土類
やＡｌは焼結防止剤として機能しており、組み合わせて
使用することでより高い焼結防止効果が得られる。これ
らの強磁性粉末にはあとで述べる分散剤、潤滑剤、界面
活性剤、帯電防止剤などで分散前にあらかじめ処理を行
ってもかまわない。具体的には、特公昭４４-１４０９
０号公報、特公昭４５-１８３７２号公報、特公昭４７-
２２０６２号公報、特公昭４７-２２５１３号公報、特
公昭４６-２８４６６号公報、特公昭４６-３８７５５号
公報、特公昭４７-４２８６号公報、特公昭４７-１２４
２２号公報、特公昭４７-１７２８４号公報、特公昭４
７-１８５０９号公報、特公昭４７-１８５７３号公報、
特公昭３９-１０３０７号公報、特公昭４６-３９６３９
号公報、米国特許第３０２６２１５号、同３０３１３４
１号、同３１００１９４号、同３２４２００５号、同３
３８９０１４号等の各公報に記載されている。 【００２５】強磁性金属粉末には少量の水酸化物又は酸
化物が含まれてもよい。強磁性金属粉末の公知の製造方
法により得られたものを用いることができ、下記の方法
を挙げることができる。焼結防止処理を行った含水酸化
鉄、酸化鉄を水素などの還元性気体で還元してＦｅ又は
Ｆｅ-Ｃｏ粒子などを得る方法、複合有機酸塩（主とし
てシュウ酸塩）と水素などの還元性気体で還元する方
法、金属カルボニル化合物を熱分解する方法、強磁性金
属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、次亜リン酸塩あ
るいはヒドラジンなどの還元剤を添加して還元する方
法、金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて粉末を得る
方法などである。このようにして得られた強磁性金属粉
末は、公知の徐酸化処理する。含水酸化鉄、酸化鉄を水
素などの還元性気体で還元し、酸素含有ガスと不活性ガ
スの分圧、温度、時間を制御して表面に酸化皮膜を形成
する方法が、減磁量が少なく好ましい。 【００２６】本発明の磁性層の強磁性金属粉末をＢＥＴ
法による比表面積（ＳBET）で表せば、４０〜８０ｍ2／
ｇであり、好ましくは４５〜７０ｍ2／ｇである。比表
面積（ＳBET）が４０〜８０ｍ2／ｇであれば、ノイズを
抑えることができ、かつ平滑な表面を得ることができる
ため好ましい。本発明の磁性層における強磁性金属粉末
の結晶子サイズは８０〜１８０Åであり、好ましくは１
００〜１７０Å、さらに好ましくは１１０〜１６５Åで
ある。強磁性金属粉末の平均長軸長は、０．０２〜０．
２５μｍであり、０．０３〜０．１５μｍであることが
好ましく、０．０３〜０．１２μｍであることがさらに
好ましい。 【００２７】強磁性金属粉末の平均針状比（（長軸長／
短軸長）の平均）は、３〜１５であることが好ましく、
３〜１０であることがさらに好ましい。強磁性金属粉末
の飽和磁化σｓは、通常、９０〜１７０Ａ・ｍ2／ｋｇ
であり、１００〜１６０Ａ・ｍ2／ｋｇであることが好
ましく、１１０〜１６０Ａ・ｍ2／ｋｇであることがさ
らに好ましい。強磁性金属粉末の抗磁力（Ｈｃ）は、１
３５〜２７９ｋＡ／ｍであることが好ましく、１４３〜
２３９ｋＡ／ｍであることがさらに好ましい。 【００２８】強磁性金属粉末の含水率は０．１〜２質量
％とするのが好ましい。結合剤の種類によって強磁性金
属粉末の含水率は最適化するのが好ましい。強磁性金属
粉末のｐＨは、用いる結合剤との組み合わせにより最適
化することが好ましい。その範囲は６〜１２であるが、
好ましくは７〜１１である。強磁性金属粉末のＳＡ（ス
テアリン酸）吸着量（表面の塩基性点の尺度）は１〜１
５μｍｏｌ／ｍ2であり、２〜１０μｍｏｌ／ｍ2である
ことが好ましく、３〜８μｍｏｌ／ｍ2であることがさ
らに好ましい。ステアリン酸吸着量が多い強磁性金属粉
末を使用する場合には、表面に強く吸着する有機物で表
面修飾して磁気記録媒体を作成することが好ましい。強
磁性金属粉末には可溶性のＮａ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｓ
ｒ、ＮＨ 4、ＳＯ4、Ｃｌ、ＮＯ2、ＮＯ3などの無機イオ
ンを含む場合がある。これらは、本質的にない方が好ま
しい。各イオンの総和が３００ｐｐｍ以下程度であれ
ば、特性には影響しない。また、本発明に用いられる強
磁性金属粉末は、空孔が少ないほうが好ましく、その値
は２０容量％以下であり、５容量％以下であることがさ
らに好ましい。形状については、先に示した粉体サイ
ズ、磁気特性を満足すれば針状、米粒状、紡錘状のいず
れでもかまわない。強磁性金属粉末自体のＳＦＤ（swit
ching field distribution）は小さい方が好ましく、
強磁性金属粉末の抗磁力（Ｈｃ）分布を小さくする必要
がある。テ-プのＳＦＤが小さいと、磁化反転がシャー
プでピークシフトが小さくなり、高密度デジタル磁気記
録に好適である。抗磁力（Ｈｃ）分布を小さくするため
には、強磁性金属粉末においてはゲ-タイトの粒度分布
をよくする、単分散α-Ｆｅ2Ｏ3を使用する、粒子間の
焼結を防止するなどの方法がある。 【００２９】＜六方晶系フェライト粉末＞本発明の磁性
層に含まれる六方晶系フェライトとしては、バリウムフ
ェライト、ストロンチウムフェライト、鉛フェライト、
カルシウムフェライトの各置換体、Ｃｏ置換体等があ
る。具体的にはマグネトプランバイト型のバリウムフェ
ライト及びストロンチウムフェライト、スピネルで粒子
表面を被覆したマグネトプランバイト型フェライト、更
に一部スピネル相を含有したマグネトプランバイト型の
バリウムフェライト及びストロンチウムフェライト等が
挙げられる。その他、所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、
Ｓ，Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐ
ｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、
Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、
Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂ、Ｇｅ、Ｎｂな
どの原子を含んでもかまわない。一般にはＣｏ-Ｚｎ、
Ｃｏ-Ｔｉ、Ｃｏ-Ｔｉ-Ｚｒ、Ｃｏ-Ｔｉ-Ｚｎ、Ｎｉ-Ｔ
ｉ-Ｚｎ、Ｎｂ-Ｚｎ-Ｃｏ、ＳｂーＺｎ-Ｃｏ、Ｎｂ-Ｚ
ｎ等の元素を添加したものを使用することができる。原
料・製法によっては特有の不純物を含有するものもあ
る。 【００３０】本発明に用いる六方晶系フェライト粉末の
平均板径は、記録密度によって異なるが、通常、１０〜
５０ｎｍであり、１０〜４０ｎｍであることが好まし
く、１０〜３５ｎｍであることが特に好ましい。ここで
板径とは、六方晶系フェライト磁性粉の六角柱底面の六
角径の最大径を意味し、平均板径とはその算術平均であ
る。特にトラック密度を上げるため、磁気抵抗ヘッドで
再生する場合は、低ノイズにする必要があり、板径は３
５ｎｍ以下であることが好ましいが、１０〜５０ｎｍの
範囲であれば、熱揺らぎの影響を受けない安定な磁化が
望め、かつ、ノイズを抑えることができるため、高密度
磁気記録に好適となる。板状比（板径／板厚）は１〜１
５であることが望ましく、１〜７であることが好まし
い。板状比が１以上であれば、磁性層中の高充填性を維
持しつつ、充分な配向性が得られる。また板状比が１５
以下であれば、粒子間のスタッキングによる影響を受け
難くなり、ノイズが大きくなることもない。 【００３１】上記粒子サイズ範囲のＢＥＴ法による比表
面積は３０〜２００ｍ2／ｇを示す。比表面積は、概ね
粒子板径と板厚からの算術計算値と符号する。粒子板径
・板厚の分布は、通常、狭いほど好ましい。数値化は困
難であるが粒子ＴＥＭ写真より５００粒子を無作為に測
定することで比較できる。分布は正規分布ではない場合
が多いが、計算して平均サイズに対する標準偏差で表す
とσ／平均サイズ＝０．１〜２．０である。粒子サイズ
分布をシャープにするには粒子生成反応系をできるだけ
均一にすると共に、生成した粒子に分布改良処理を施す
ことも行われている。例えば、酸溶液中で超微細粒子を
選別的に溶解する方法等も知られている。 【００３２】磁性体で測定される抗磁力（Ｈｃ）は、３
９．８〜３９８ｋＡ／ｍ（５００〜５０００ Ｏｅ）程
度まで作成できる。抗磁力（Ｈｃ）は高い方が高密度記
録に有利であるが、記録ヘッドの能力で制限される。抗
磁力（Ｈｃ）は粒子サイズ（板径・板厚）、含有元素の
種類と量、元素の置換サイト、粒子生成反応条件等によ
り制御できる。飽和磁化（σｓ）は３０〜８０Ａ・ｍ2
／ｋｇであり、微粒子になるほど小さくなる傾向があ
る。製法では結晶化温度又は熱処理温度時間を小さくす
る方法、添加する化合物を増量する、表面処理量を多く
する方法等がある。またＷ型六方晶フェライトを用いる
ことも可能である。磁性体を分散する際に磁性体粒子表
面を分散媒、ポリマーに合った物質で処理することも行
われている。 【００３３】表面処理材は、無機化合物、有機化合物が
使用される。主な化合物としてはＳｉ、Ａｌ、Ｐ、等の
酸化物または水酸化物、各種シランカップリング剤、各
種チタンカップリング剤が代表例である。添加量は磁性
体に対して０．１〜１０％である。磁性体のｐＨも分散
に重要である。通常４〜１２程度で分散媒、ポリマーに
より最適値があるが、媒体の化学的安定性、保存性から
６〜１１程度が選択される。磁性体に含まれる水分も分
散に影響する。分散媒、ポリマーにより最適値があるが
通常０．０１〜２．０％が選ばれる。 【００３４】六方晶フェライトの製法としては、酸化
バリウム、酸化鉄、鉄を置換する金属酸化物とガラス形
成物質として酸化ホウ素等を所望のフェライト組成にな
るように混合した後溶融し、急冷して非晶質体とし、次
いで再加熱処理した後、洗浄・粉砕してバリウムフェラ
イト結晶粉体を得ガラス結晶化法、バリウムフェライ
ト組成金属塩溶液をアルカリで中和し、副生成物を除去
した後、１００℃以上で液相加熱し、洗浄、乾燥及び粉
砕してバリウムフェライト結晶粉体を得る水熱反応法、
バリウムフェライト組成金属塩溶液をアルカリで中和
し、副生成物を除去した後乾燥し１１００℃以下で処理
し、粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得る共沈法
等があるが、本発明は製法を選ばない。 【００３５】［非磁性層（下層）］次に非磁性層（下
層）に関する詳細な内容について説明する。非磁性層と
しては非磁性無機粉末と結合剤を主体とするものが好ま
しい。非磁性層に用いられる非磁性無機粉末としては、
例えば、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒
化物、金属炭化物、金属硫化物、等の無機質化合物から
選択することができる。無機化合物としては例えばα化
率９０％以上のα-アルミナ、β-アルミナ、γ-アルミ
ナ、θ-アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリ
ウム、α-酸化鉄、ヘマタイト、ゲータイト、コランダ
ム、窒化珪素、チタンカ-バイト、酸化チタン、二酸化
珪素、酸化スズ、酸化マグネシウム、酸化タングステ
ン、酸化ジルコニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カ
ルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、二硫化モリ
ブデンなどが単独又は組み合わせで使用される。特に好
ましいのは、粒度分布の小ささ、機能付与の手段が多い
こと等から、二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、硫酸バ
リウムであり、さらに好ましいのは二酸化チタン、α酸
化鉄である。これら非磁性無機粉末の平均粒子径は０．
００５〜２μｍであることが好ましい。必要に応じて平
均粒子径の異なる非磁性無機粉末を組み合わせたり、単
独の非磁性無機粉末でも粒径分布を広くして同様の効果
をもたせることもできる。とりわけ好ましいのは非磁性
無機粉末の平均粒子径は０．０１〜０．２μｍである。
特に、非磁性無機粉末が粒状金属酸化物である場合は、
平均粒子径０．０８μｍ以下であることが好ましく、針
状金属酸化物である場合には、平均長軸長が０．３μｍ
以下であることが好ましく、０．２μｍ以下であること
がさらに好ましい。 【００３６】タップ密度は通常、０．０５〜２ｇ／ｍ
ｌ、好ましくは０．２〜１．５ｇ／ｍｌである。非磁性
無機粉末の含水率は通常、０．１〜５質量％、好ましく
は０．２〜３質量％、さらに好ましくは０．３〜１．５
質量％である。非磁性無機粉末のｐＨは通常、２〜１１
であるが、ｐＨは５．５〜１０の間が特に好ましい。非
磁性無機粉末の比表面積は通常、１〜１００ｍ2／ｇで
あり、５〜８０ｍ2／ｇであることが好ましく、１０〜
７０ｍ2／ｇであることがさらに好ましい。非磁性無機
粉末の結晶子サイズは、０．００４〜１μｍであること
が好ましく、０．０４〜０．１μｍであることがさらに
好ましい。ＤＢＰ（ジブチルフタレート）を用いた吸油
量は通常、５〜１００ｍｌ／１００ｇであり、１０〜８
０ｍｌ／１００ｇであることが好ましく、２０〜６０ｍ
ｌ／１００ｇであることがさらに好ましい。比重は、通
常、１〜１２であり、３〜６であることがさらに好まし
い。形状は、針状、球状、多面体状、板状のいずれであ
ってもよい。モース硬度は、４〜１０であることが好ま
しい。非磁性無機粉末のＳＡ（ステアリン酸）吸着量
は、１〜２０μｍｏｌ／ｍ2であり、２〜１５μｍｏｌ
／ｍ2、であることがより好ましく、３〜８μｍｏｌ／
ｍ2であることがさらに好ましい。ｐＨは、３〜６の間
にあることが好ましい。 【００３７】これらの非磁性無機粉末の表面には、表面
処理によりＡｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、Ｓ
ｎＯ2、Ｓｂ2Ｏ3、ＺｎＯ、Ｙ2Ｏ3が存在することが好
ましい。特に分散性に好ましいのはＡｌ2Ｏ3、Ｓｉ
Ｏ2、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2であるが、さらに好ましいのは
Ａｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＺｒＯ2である。これらは組み合わ
せて使用してもよいし、単独で用いることもできる。ま
た、目的に応じて共沈させた表面処理層を用いてもよい
し、先ずアルミナを存在させた後にその表層にシリカを
存在させる方法、又はその逆の方法を採ることもでき
る。また、表面処理層は目的に応じて多孔質層にしても
構わないが、均質で密である方が一般には好ましい。本
発明の下層に用いられる非磁性無機粉末の具体的な例及
び製造法としては、ＷＯ９８／３５３４５に記載のもの
が例示される。 【００３８】下層にはさらに目的に応じて、有機質粉末
を添加することもできる。例えば、アクリルスチレン系
樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂
粉末、フタロシアニン系顔料が挙げられる。また、ポリ
オレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリ
アミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化
エチレン樹脂も使用することができる。その製法は特開
昭６２-１８５６４号公報、特開昭６０-２５５８２７号
公報に記されているようなものが使用できる。 【００３９】下層あるいは後述のバック層の結合剤、潤
滑剤、分散剤、添加剤、溶剤、分散方法その他は、以下
に記載する磁性層のそれが適用できる。特に、結合剤の
量、種類、添加剤、分散剤の添加量、種類に関しては磁
性層に関する公知技術が適用できる。 【００４０】［結合剤］本発明の磁気記録媒体の上層で
使用できる結合剤としては、従来公知の熱可塑性樹脂、
熱硬化性樹脂、反応型樹脂やこれらの混合物を挙げるこ
とができる。熱可塑性樹脂としては、ガラス転移温度が
-１００〜１５０℃、数平均分子量が１，０００〜２０
０，０００、好ましくは１０，０００〜１００，００
０、重合度が約５０〜１０００程度のものである。この
ような例としては、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルア
ルコール、マレイン酸、アクリル酸、アクリル酸エステ
ル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリル
酸、メタクリル酸エステル、スチレン、ブタジエン、エ
チレン、ビニルブチラール、ビニルアセタール、ビニル
エ-テル等を構成単位として含む重合体又は共重合体、
ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂がある。また、熱硬
化性樹脂又は反応型樹脂としては、フェノール樹脂、エ
ポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラ
ミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル系反応樹脂、ホルム
アルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ-ポリアミ
ド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポリマ
ーの混合物、ポリエステルポリオールとポリイソシアネ
ートの混合物、ポリウレタンとポリイソシアネートの混
合物等が挙げられる。これらの樹脂については朝倉書店
発行の「プラスチックハンドブック」に詳細に記載され
ている。また、公知の電子線硬化型樹脂を各層に使用す
ることも可能である。 【００４１】これらの例とその製造方法については特開
昭６２-２５６２１９号公報に詳細に記載されている。
以上の樹脂は単独又は組み合わせて使用できるが、好ま
しいものとして塩化ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル
共重合体、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコール共重
合体、塩化ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸共重合体か
ら選ばれる少なくとも１種とポリウレタン樹脂の組み合
わせ、又はこれらにポリイソシアネートを組み合わせた
ものが挙げられる。 【００４２】ポリウレタン樹脂の構造は、ポリエステル
ポリウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテ
ルポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウ
レタン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン、
ポリカプロラクトンポリウレタンなど公知のものが使用
できる。ここに示したすべての結合剤について、より優
れた分散性と耐久性を得るためには必要に応じ、-ＣＯ
ＯＭ、-ＳＯ3Ｍ、-ＯＳＯ3Ｍ、-Ｐ＝Ｏ(ＯＭ)2、-Ｏ-Ｐ
＝Ｏ(ＯＭ)2、（以上につき、Ｍは水素原子又はアルカ
リ金属塩基）、-ＮＲ2、-Ｎ+Ｒ3（Ｒは炭化水素基）、
エポキシ基、-ＳＨ、-ＣＮなどから選ばれる少なくとも
１つ以上の極性基を共重合又は付加反応で導入したもの
を用いることが好ましい。このような極性基の量は１０
-1〜１０-8モル／ｇであり、好ましくは１０-2〜１０-6
モル／ｇである。 【００４３】これら極性基以外にポリウレタン分子末端
に少なくとも１個ずつ、合計２個以上のＯＨ基を有する
ことが好ましい。ＯＨ基は硬化剤であるポリイソシアネ
ートと架橋して３次元の網状構造を形成するので、分子
中に多数含むほど好ましい。特にＯＨ基は分子末端にあ
る方が硬化剤との反応性が高いので好ましい。ポリウレ
タンは、分子末端にＯＨ基を３個以上有することが好ま
しく、４個以上有することが特に好ましい。本発明にお
いて、ポリウレタンを用いる場合はガラス転移温度が通
常、-５０〜１５０℃、好ましくは０〜１００℃、特に
好ましくは３０〜１００℃、破断伸びが１００〜２００
０％、破断応力は通常、０．４９〜９８ＭＰａ（０．０
５〜１０ｋｇ／ｍｍ2）、降伏点は０．４９〜９８ＭＰ
ａ（０．０５〜１０ｋｇ／ｍｍ2）が好ましい。このよ
うな物性を有することにより、良好な機械的特性を有す
る塗膜が得られる。 【００４４】本発明に用いられるこれらの結合剤の具体
例としては、塩化ビニル系共重合体としてユニオンカ-
バイト社製ＶＡＧＨ、ＶＹＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、
ＶＡＧＤ、ＶＲＯＨ、ＶＹＥＳ、ＶＹＮＣ、ＶＭＣＣ、
ＸＹＨＬ、ＸＹＳＧ、ＰＫＨＨ、ＰＫＨＪ、ＰＫＨＣ、
ＰＫＦＥ、日信化学工業社製ＭＰＲ-ＴＡ、ＭＰＲ-ＴＡ
５、ＭＰＲ-ＴＡＬ、ＭＰＲ-ＴＳＮ、ＭＰＲ-ＴＭＦ、
ＭＰＲ-ＴＳ、ＭＰＲ-ＴＭ、ＭＰＲ-ＴＡＯ、電気化学
社製１０００Ｗ、ＤＸ８０、ＤＸ８１、ＤＸ８２、ＤＸ
８３、１００ＦＤ、日本ゼオン社製ＭＲ-１０４、ＭＲ-
１０５、ＭＲ１１０、ＭＲ１００、ＭＲ５５５、４００
Ｘ-１１０Ａ、ポリウレタン樹脂として日本ポリウレタ
ン社製ニッポランＮ２３０１、Ｎ２３０２、Ｎ２３０
４、大日本インキ社製パンデックスＴ-５１０５、Ｔ-Ｒ
３０８０、Ｔ-５２０１、バ-ノックＤ-４００、Ｄ-２１
０-８０、クリスボン６１０９、７２０９、東洋紡社製
バイロンＵＲ８２００、ＵＲ８３００、ＵＲ-８７０
０、ＲＶ５３０、ＲＶ２８０、大日精化社製ポリカ-ボ
ネートポリウレタン、ダイフェラミン４０２０、５０２
０、５１００、５３００、９０２０、９０２２、７０２
０、三菱化成社製ポリウレタン、ＭＸ５００４、三洋化
成社製ポリウレタン、サンプレンＳＰ-１５０、旭化成
社製ポリウレタン、サランＦ３１０，Ｆ２１０などが挙
げられる。 【００４５】下層に用いられる結合剤は、非磁性無機粉
末１００質量部に対し、また磁性層に用いられる結合剤
は磁性粉末１００質量部に対し、５〜５０質量部の範
囲、好ましくは１０〜３０質量部の範囲で用いることが
できる。塩化ビニル系樹脂を結合剤として用いる場合
は、５〜３０質量部、ポリウレタン樹脂を用いる場合は
２〜２０質量部、ポリイソシアネートは２〜２０質量部
の範囲でこれらを組み合わせて用いることが好ましい
が、例えば、微量の脱塩素によりヘッド腐食が起こる場
合は、ポリウレタンのみまたはポリウレタンとイソシア
ネートのみを使用することも可能である。 【００４６】本発明の磁気記録媒体が二層以上で構成さ
れる場合、結合剤量、結合剤中に占める塩化ビニル系樹
脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネート若しくはそ
れ以外の樹脂の量、磁性層を形成する各樹脂の分子量、
極性基量、又は先に述べた樹脂の物理特性などを必要に
応じ各層とで変えることはもちろん可能であり、むしろ
各層で最適化すべきであり、多層磁性層に関する公知技
術を適用できる。例えば、各層で結合剤量を変更する場
合、磁性層表面の擦傷を減らすためには、磁性層の結合
剤量を増量することが有効であり、ヘッドに対するヘッ
ドタッチを良好にするためには、非磁性層のバインダー
量を多くして柔軟性を持たせることができる。 【００４７】本発明に用いられるポリイソシアネートと
しては、トリレンジイソシアネート、４，４’-ジフェ
ニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシ
アネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン-
１，５-ジイソシアネート、ｏ-トルイジンジイソシアネ
ート、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタ
ントリイソシアネート等のイソシアネート類、また、こ
れらのイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、
また、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイ
ソシアネート等が挙げられる。これらのイソシアネート
類の市販されている商品名としては、日本ポリウレタン
社製コロネートＬ、コロネートＨＬ、コロネート２０３
０、コロネート２０３１、ミリオネートＭＲ、ミリオネ
ートＭＴＬ、武田薬品社製タケネートＤ-１０２、タケ
ネートＤ-１１０Ｎ、タケネートＤ-２００、タケネート
Ｄ-２０２、住友バイエル社製デスモジュールＬ、デス
モジュールＩＬ、デスモジュールＮ、デスモジュールＨ
Ｌ等があり、これらを単独又は硬化反応性の差を利用し
て２つ若しくはそれ以上の組み合わせで各層とも用いる
ことができる。 【００４８】［カーボンブラック］本発明の磁気記録媒
体の磁性層で使用されるカーボンブラックは、ゴム用フ
ァーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチ
レンブラック等を用いることができる。比表面積は５〜
５００ｍ2／ｇ、ＤＢＰ吸油量は１０〜４００ｍｌ／１
００ｇ、平均粒子径は５〜３００ｎｍ、ｐＨは２〜１
０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は０．１〜１
ｇ／ｍｌ、が好ましい。具体的には、ＷＯ９８／３５３
４５に記載のもが挙げられる。 【００４９】カーボンブラックは磁性層の帯電防止、摩
擦係数低減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあ
り、これらは用いるカーボンブラックにより異なる。従
って、本発明が多層構成の場合には、各層でその種類、
量、組み合わせを変え、粒子径、吸油量、電導度、ｐＨ
などの先に示した諸特性をもとに目的に応じて使い分け
ることはもちろん可能であり、むしろ各層で最適化すべ
きものである。なお、非磁性層で使用されるカーボンブ
ラックについては、前述のとおりである。 【００５０】［研磨剤］本発明の磁気記録媒体は、研磨
剤を磁性層等に用いることができる。研磨剤としてはα
化率９０％以上のα-アルミナ、β-アルミナ、炭化ケイ
素、酸化クロム、酸化セリウム、α-酸化鉄、コランダ
ム、人造ダイヤモンド、窒化珪素、炭化珪素、チタンカ
ーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素、など
主としてモース硬度６以上の公知の材料が単独又は組み
合わせで使用される。また、これらの研磨剤同士の複合
体（研磨剤を他の研磨剤で表面処理したもの）を使用し
てもよい。 【００５１】本発明における研磨剤には主成分以外の化
合物又は元素が含まれる場合もあるが、主成分が９０％
以上であれば効果に変わりはない。これら研磨剤の平均
粒子径は、０．０１〜２μｍであることが好ましく、特
に電磁変換特性（Ｓ／Ｎ）を高めるためには、その粒度
分布が狭い方が好ましい。また耐久性を向上させるに
は、必要に応じて粒子径の異なる研磨剤を組み合わせた
り、単独の研磨剤でも粒径分布を広くして同様の効果を
もたせることも可能である。 【００５２】研磨剤のタップ密度は０．３〜２ｇ／ｍ
ｌ、含水率は０．１〜５％、ｐＨは２〜１１、比表面積
は１〜３０ｍ2／ｇであることが好ましい。本発明に用
いられる研磨剤の形状は、針状、球状及びサイコロ状の
いずれでもよいが、形状の一部に角を有するものが研磨
性が高くて好ましい。具体的には、ＷＯ９８／３５３４
５に記載のものが挙げられ、中でもダイヤモンドを同記
載のごとく用いると、走行耐久性及び電磁変換特性の改
善に有効である。磁性層、非磁性層に添加する研磨剤の
粒径、量はむろん最適値に設定すべきものである。 【００５３】［添加剤］本発明の磁性層と非磁性層に使
用される添加剤としては、潤滑効果、帯電防止効果、分
散効果、可塑効果などを有するものが使用され、組み合
わせることにより総合的な性能向上が図れる。潤滑効果
を示すものとしては、物質表面同士の摩擦により生じる
凝着に著しい作用を示す潤滑剤が使用される。潤滑剤に
は２つの型のものがある。磁気記録媒体に使用される潤
滑剤は、完全に流体潤滑か境界潤滑であるか判定するこ
とはできないが、一般的概念で分類すれば流体潤滑を示
す高級脂肪酸エステル、流動パラフィン、シリコン誘導
体などや境界潤滑を示す長鎖脂肪酸、フッ素系界面活性
剤、含フッ素系高分子などに分類される。塗布型媒体で
は、潤滑剤は結合剤に溶解した状態、また一部は強磁性
粉末表面に吸着した状態で存在するものであり、磁性層
表面に潤滑剤が移行してくるが、その移行速度は結合剤
と潤滑剤との相溶性の良否によって決まる。結合剤と潤
滑剤との相溶性が高いときは移行速度が小さく、相溶性
の低いときには早くなる。相溶性の良否に対する一つの
考え方として、両者の溶解パラメ-タ-の比較がある。流
体潤滑には非極性潤滑剤が有効であり、境界潤滑には極
性潤滑剤が有効である。 【００５４】本発明において、これら特性の異なる流体
潤滑を示す高級脂肪酸エステルと境界潤滑を示す長鎖脂
肪酸とを組み合わせることが好ましく、少なくとも３種
組み合わせることがさらに好ましい。これらに組み合わ
せて固体潤滑剤を使用することもできる。固体潤滑剤と
しては例えば二硫化モリブデン、二硫化タングステング
ラファイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛などが使用され
る。境界潤滑を示す長鎖脂肪酸としては、炭素数１０〜
２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分
岐していてもかまわない）、及びこれらの金属塩（Ｌ
ｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｕなど）が挙げられる。フッ素系界面
活性剤、含フッ素系高分子としてはフッ素含有シリコ-
ン、フッ素含有アルコール、フッ素含有エステル、フッ
素含有アルキル硫酸エステル及びそのアルカリ金属塩な
どが挙げられる。流体潤滑を示す高級脂肪酸エステルと
しては、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結
合を含んでも、また分岐していてもかまわない）と炭素
数２〜１２の一価、二価、三価、四価、五価、六価アル
コールのいずれか一つ（不飽和結合を含んでも、また分
岐していてもかまわない）とからなるモノ脂肪酸エステ
ル、ジ脂肪酸エステル又はトリ脂肪酸エステル、アルキ
レンオキシド重合物のモノアルキルエ-テルの脂肪酸エ
ステルなどが挙げられる。また流動パラフィン、そして
シリコン誘導体としてジアルキルポリシロキサン（アル
キルは炭素数１〜５個）、ジアルコキシポリシロキサン
（アルコキシは炭素数１〜４個）、モノアルキルモノア
ルコキシポリシロキサン（アルキルは炭素数１〜５個、
アルコキシは炭素数１〜４個）、フェニルポリシロキサ
ン、フロロアルキルポリシロキサン（アルキルは炭素数
１〜５個）などのシリコ-ンオイル、極性基をもつシリ
コ-ン、脂肪酸変性シリコ-ン、フッ素含有シリコ-ンな
どが挙げられる。 【００５５】その他の潤滑剤として炭素数１２〜２２の
一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコール（不飽
和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、
炭素数１２〜２２のアルコキシアルコール（不飽和結合
を含んでも、また分岐していてもかまわない）、フッ素
含有アルコールなどのアルコール、ポリエチレンワック
ス、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、エチレング
リコール、ポリエチレンオキシドワックスなどのポリグ
リコール、アルキル燐酸エステル及びそのアルカリ金属
塩、アルキル硫酸エステル及びそのアルカリ金属塩、ポ
リフェニルエ-テル、炭素数８〜２２の脂肪酸アミド、
炭素数８〜２２の脂肪族アミンなどが挙げられる。 【００５６】帯電防止効果、分散効果、可塑効果などを
示すものとして、フェニルホスホン酸、具体的には、日
産化学（株）社の「ＰＰＡ」など、αナフチル燐酸、フ
ェニル燐酸、ジフェニル燐酸、ｐ-エチルベンゼンホス
ホン酸、フェニルホスフィン酸、アミノキノン類、各種
シランカップリング剤、チタンカップリング剤、フッ素
含有アルキル硫酸エステル及びそのアルカリ金属塩、な
どが使用できる。 【００５７】本発明において使用される潤滑剤は、特に
脂肪酸と脂肪酸エステルであることが好ましく、具体的
にはＷＯ９８／３５３４５に記載のものが挙げられる。
これらに加えて別異の潤滑剤、添加剤も組み合わせて使
用することができる。 【００５８】また、アルキレンオキサイド系、グリセリ
ン系、グリシドール系、アルキルフェノールエチレンオ
キサイド付加体、等のノニオン界面活性剤、環状アミ
ン、エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダン
トイン誘導体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニ
ウム類等のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルフ
ォン酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基などの
酸性基を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノ
スルホン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エス
テル類、アルキルベダイン型、等の両性界面活性剤等も
使用できる。これらの界面活性剤については、「界面活
性剤便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載され
ている。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも１０
０％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副
反応物、分解物、酸化物等の不純分が含まれてもかまわ
ない。これらの不純分は３０％以下が好ましく、さらに
好ましくは１０％以下である。本発明は、脂肪酸エステ
ルとしてＷＯ９８／３５３４５に記載のようにモノエス
テルとジエステルを組み合わせて使用することも好まし
い。 【００５９】本発明の磁気記録媒体、特にディスク状磁
気記録媒体の磁性層表面のオージェ電子分光法によるＣ
／Ｆｅピーク比は、好ましくは５〜１００、特に好まし
くは５〜８０である。オージェ電子分光法の測定条件
は、以下の通りである。 装置：Φ社製ＰＨＩ-６６０型 測定条件：１次電子線加速電圧３ＫＶ 試料電流：１３０ｎＡ 倍率：２５０倍 傾斜角度：３０° 上記条件で、運動エネルギ-（Kinetic Energy）１３０
〜７３０ｅＶの範囲を３回積算し、炭素のＫＬＬピーク
と鉄のＬＭＭピークの強度を微分形で求め、Ｃ／Ｆｅの
比をとることで求める。 【００６０】一方、本発明の磁気記録媒体の上層及び下
層の各層に含まれる潤滑剤量は、それぞれ強磁性粉末又
は非磁性無機粉末１００質量部に対し５〜３０質量部が
好ましい。 【００６１】本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面
活性剤は個々に異なる物理的作用を有するものであり、
その種類、量及び相乗的効果を生み出す潤滑剤の併用比
率は、目的に応じ最適に定められるべきものである。非
磁性層、磁性層で融点の異なる脂肪酸を用い表面への滲
み出しを制御する、沸点、融点や極性の異なるエステル
類を用い表面への滲み出しを制御する、界面活性剤量を
調節することで塗布の安定性を向上させる、潤滑剤の添
加量を中間層で多くして潤滑効果を向上させるなど考え
られ、無論ここに示した例のみに限られるものではな
い。一般には潤滑剤の総量として磁性粉末または非磁性
粉末１００質量部に対し、０．１〜５０質量部、好まし
くは２〜２５質量部の範囲で選択される。 【００６２】また本発明で用いられる添加剤のすべて又
はその一部は、磁性塗料及び非磁性塗料製造のどの工程
で添加してもかまわない、例えば、混練工程前に磁性体
と混合する場合、磁性体と結合剤と溶剤による混練工程
で添加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添
加する場合、塗布直前に添加する場合などがある。ま
た、目的に応じて磁性層を塗布した後、同時または逐次
塗布で、添加剤の一部または全部を塗布することにより
目的が達成される場合がある。また、目的によってはカ
レンダした後、またはスリット終了後、磁性層表面に潤
滑剤を塗布することもできる。 【００６３】［支持体］本発明の磁気記録媒体に用いら
れる支持体は、非磁性可撓性支持体であることが好まし
く、支持体の面内各方向に対し、１００℃３０分での熱
収縮率が０．５％以下であり、８０℃３０分での熱収縮
率が０．５％以下、さらに好ましくは０．２％以下であ
ることが好ましい。さらに前記支持体の１００℃３０分
での熱収縮率及び８０℃３０分での熱収縮率が前記支持
体の面内各方向に対し、１０％以内の差で等しいことが
好ましい。支持体は非磁性であることが好ましい。これ
ら支持体はポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン
ナフタレート、等のポリエステル類、ポリオレフィン
類、セルロ-ストリアセテート、ポリカ-ボネート、芳香
族又は脂肪族ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミ
ド、ポリスルフォン、ポリアラミド、ポリベンゾオキサ
ゾールなどの公知のフィルムが使用できる。ポリエチレ
ンナフタレート、ポリアミドなどの高強度支持体を用い
ることが好ましい。また必要に応じ、磁性面とベ-ス面
の表面粗さを変えるため、特開平３-２２４１２７号公
報に示されるような積層タイプの支持体を用いることも
できる。これらの支持体にはあらかじめコロナ放電処
理、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理、な
どをおこなってもよい。また本発明の支持体としてアル
ミまたはガラス基板を適用することも可能である。 【００６４】本発明の目的を達成するには、支持体とし
てＷＹＫＯ社製ＨＤ−２０００型を用いて測定した中心
面平均表面粗さＲａは４．０ｎｍ以下、好ましくは２．
０ｎｍ以下のものを使用することが好ましい。これらの
支持体は単に中心面平均表面粗さが小さいだけではな
く、０．５μｍ以上の粗大突起がないことが好ましい。
また表面の粗さ形状は必要に応じて支持体に添加される
フィラーの大きさと量により自由にコントロールされる
ものである。これらのフィラーとしては一例としてはＣ
ａ，Ｓｉ、Ｔｉなどの酸化物や炭酸塩の他、アクリル系
などの有機粉末が挙げられる。支持体の最大高さＲｍａ
ｘは１μｍ以下、十点平均粗さＲｚは０．５μｍ以下、
中心面山高さＲｐは０．５μｍ以下、中心面谷深さＲｖ
は０．５μｍ以下、中心面面積率Ｓｒは１０％以上、９
０％以下、平均波長λａは５μｍ以上、３００μｍ以下
が好ましい。所望の電磁変換特性と耐久性を得るため、
これら支持体の表面突起分布をフィラーにより任意にコ
ントロールできるものであり、０．０１〜１μｍの大き
さのもの各々を０．１ｍｍ2当り０〜２０００個の範囲
でコントロールすることができる。 【００６５】本発明に用いられる支持体のＦ-５値は、
４９〜４９０ＭＰａ（５〜５０ｋｇ／ｍｍ2）であるこ
とが好ましい。また、支持体の１００℃３０分での熱収
縮率は、３％以下であることが好ましく、１．５％以下
であることがさらに好ましい。８０℃３０分での熱収縮
率は、１％以下であることが好ましく、０．５％以下で
あることがさらに好ましい。破断強度は、４９〜９８０
ＭＰａ（５〜１００ｋｇ／ｍｍ2）であることが好まし
い。また弾性率は、０．９８〜１９．６ＧＰａ（１００
〜２０００ｋｇ／ｍｍ2）であることが好ましい。温度
膨張係数は１０- 4〜１０-8／℃であり、１０-5〜１０-6
／℃であることが好ましい。湿度膨張係数は１０-4／Ｒ
Ｈ％以下であり、好ましくは１０-5／ＲＨ％以下であ
る。これらの熱特性、寸法特性、機械強度特性は、支持
体の面内各方向に対し１０％以内の差でほぼ等しいこと
が好ましい。 【００６６】［バックコート層］本発明の磁気記録媒体
は、上述のようにバックコート層を設けることもでき
る。磁気ディスクでもバックコート層を設けることはで
きるが、一般に、コンピュータデータ記録用の磁気テー
プは、ビデオテープ、オーディオテープに比較して、繰
り返し走行性が強く要求される。このような高い走行耐
久性を維持させるために、バックコート層には、カーボ
ンブラックと無機粉末が含有されていることが好まし
い。 【００６７】バックコート層で使用するカーボンブラッ
クは、平均粒子径の異なる二種類のものを組み合わせて
使用することが好ましい。この場合、平均粒子径が１０
〜２０ｎｍの微粒子状カーボンブラックと平均粒子径が
２３０〜３００ｎｍの粗粒子状カーボンブラックを組み
合わせて使用することが好ましい。一般に、上記のよう
な微粒子状のカーボンブラックの添加により、バック層
の表面電気抵抗を低く設定でき、また光透過率も低く設
定できる。磁気記録装置によっては、テープの光透過率
を利用し、動作の信号に使用しているものが多くあるた
め、このような場合には特に微粒子状のカーボンブラッ
クの添加は有効になる。また微粒子状カーボンブラック
は一般に液体潤滑剤の保持力に優れ、潤滑剤併用時、摩
擦係数の低減化に寄与する。一方、平均粒子径が２３０
〜３００ｎｍの粗粒子状カーボンブラックは、固体潤滑
剤としての機能を有しており、またバック層の表面に微
小突起を形成し、接触面積を低減化して、摩擦係数の低
減化に寄与する。 【００６８】本発明のバックコート層に用いられる微粒
子状カーボンブラック及び粗粒子状カーボンブラックと
して、市販のものを用いる場合、具体的な商品として
は、ＷＯ９８／３５３４５に記載のものを挙げることが
できる。バックコート層において、平均粒子径の異なる
二種類のものを使用する場合、１０〜２０ｎｍの微粒子
状カーボンブラックと２３０〜３００ｎｍの粗粒子状カ
ーボンブラックの含有比率（質量比）は、前者：後者＝
９８：２〜７５：２５の範囲にあることが好ましく、９
５：５〜８５：１５の範囲にあることがさらに好まし
い。バックコート層中のカーボンブラック（二種類のも
のを使用する場合には、その全量）の含有量は、結合剤
１００質量部に対して、通常３０〜８０質量部の範囲で
あり、好ましくは、４５〜６５質量部の範囲である。 【００６９】バックコート層で使用する無機粉末は、硬
さの異なる二種類のものを併用することが好ましい。具
体的には、モース硬度３〜４．５の軟質無機粉末とモー
ス硬度５〜９の硬質無機粉末とを使用することが好まし
い。モース硬度が３〜４．５の軟質無機粉末を添加する
ことで、繰り返し走行による摩擦係数の安定化を図るこ
とができる。しかもこの範囲の硬さでは、摺動ガイドポ
ールが削られることもない。またこの無機粉末の平均粒
子径は、３０〜５０ｎｍの範囲にあることが好ましい。
モース硬度が３〜４．５の軟質無機粉末としては、例え
ば、硫酸カルシウム、炭酸カルシウム、珪酸カルシウ
ム、硫酸バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸亜鉛、及び
酸化亜鉛を挙げることができる。これらは、単独で、あ
るいは二種以上を組み合わせて使用することができる。
バックコート層内の軟質無機粉末の含有量は、カーボン
ブラック１００質量部に対して１０〜１４０質量部の範
囲にあることが好ましく、３５〜１００質量部であるこ
とがさらに好ましい。 【００７０】モース硬度が５〜９の硬質無機粉末を添加
することにより、バック層の強度が強化され、走行耐久
性が向上する。これらの無機粉末をカーボンブラックや
前記軟質無機粉末と共に使用すると、繰り返し摺動に対
しても劣化が少なく、強いバックコート層となる。ま
た、この無機粉末の添加により、適度の研磨力が付与さ
れ、テープガイドポール等への削り屑の付着が低減す
る。特に軟質無機粉末と併用すると、表面の粗いガイド
ポールに対しての摺動特性が向上し、バックコート層の
摩擦係数の安定化も図ることができる。硬質無機粉末の
平均粒子径は８０〜２５０ｎｍの範囲にあることが好ま
しく、１００〜２１０ｎｍの範囲にあることがさらに好
ましい。モース硬度が５〜９の硬質無機質粉末として
は、例えば、α-酸化鉄、α-アルミナ、及び酸化クロム
（Ｃｒ2Ｏ3）を挙げることができる。これらの粉末は、
それぞれ単独で用いてもよいし、あるいは併用してもよ
い。これらの内では、α-酸化鉄又はα-アルミナが好ま
しい。硬質無機粉末の含有量は、カーボンブラック１０
０質量部に対して通常、３〜３０質量部であり、３〜２
０質量部であることが好ましい。 【００７１】バックコート層に前記軟質無機粉末と硬質
無機粉末とを併用する場合、軟質無機粉末と硬質無機粉
末との硬さの差が、２以上（さらに好ましくは、２．５
以上、特に、３以上）であるように軟質無機粉末と硬質
無機粉末とを選択して使用することが好ましい。バック
コート層には、前記それぞれ特定の平均粒子径を有する
モース硬度の異なる二種類の無機粉末と、前記平均粒子
径の異なる二種類のカーボンブラックとが含有されてい
ることが好ましい。 【００７２】バックコート層には、潤滑剤を含有させる
ことができる。潤滑剤は、前述した非磁性層、あるいは
磁性層に使用できる潤滑剤として挙げた潤滑剤の中から
適宜選択して使用できる。バック層において、潤滑剤
は、結合剤１００質量部に対して通常１〜５質量部の範
囲で添加される。 【００７３】［層構成］本発明の磁気記録媒体の厚み構
成は、非磁性支持体が通常、２〜１００μｍであり、２
〜８０μｍであることが好ましい。コンピューターテー
プの非磁性支持体は、３．０〜６．５μｍ（好ましく
は、３．０〜６．０μｍ、さらに好ましくは、４．０〜
５．５μｍ）の範囲の厚さのものが使用される。本発明
の磁気記録媒体は、前記支持体、好ましくは非磁性可撓
性支持体と非磁性層又は磁性層の間に密着性向上のため
の下塗層をさらに設けてもかまわない。この場合、下塗
層の厚みは０．０１〜０．５μｍとし、０．０２〜０．
５μｍであることが好ましい。また、本発明の磁気記録
媒体は、帯電防止やカール補正などの効果を出すために
磁性層が設けられている側と反対側の支持体にバックコ
ート層を設けてもかまわない。バックコート層の厚み
は、通常０．１〜４μｍであり、０．３〜２．０μｍで
あることが好ましい。これらの下塗層及びバックコート
層は公知のものが使用できる。 【００７４】本発明の磁気記録媒体の下層及び上層構成
の磁性層の厚みは、用いるヘッドの飽和磁化量やヘッド
ギャップ長、記録信号の帯域により最適化されるもので
あるが、本発明では０．２μｍ以下とする。また、下層
の厚みは、通常０．２〜５．０μｍであり、０．３〜
３．０μｍであることが好ましく、１．０〜２．５μｍ
であることがさらに好ましい。なお、下層は、実質的に
非磁性であればその効果を発揮するものであり、たとえ
ば不純物として、或いは意図的に少量の磁性粉を含んで
も、本発明の効果を示すものであるかぎり、本発明と実
質的に同一の構成と見なすことができることは言うまで
もない。ここで、実質的に非磁性層とは、下層の残留磁
束密度が１０ｍＴ以下又は抗磁力Ｈｃが７．９６ｋＡ／
ｍ（１００ Ｏｅ）以下であることを示し、好ましくは
残留磁束密度と抗磁力をもたないことを示す。また、下
層に磁性粉を含む場合は、下層の全無機粉末の１／２未
満含むことが好ましい。さらに下層として、非磁性層に
代えて軟磁性粉末と結合剤を含む軟磁性層を形成しても
よい。軟磁性層の厚みは上記下層と同様である。 【００７５】磁性層を２層有する磁気記録媒体の場合、
非磁性層や軟磁性層は設けても設けなくともよく、例え
ば、支持体から遠い側の磁性層の厚さを０．０１〜０．
１μｍ、好ましくは０．０１〜０．０５μｍとして、支
持体から近い側の磁性層の厚さを０．０５〜０．１５μ
ｍとすることができる。なお、磁性層を単独で有する場
合、上述したように磁性層の厚さを０．２μｍ以下とす
る。 【００７６】［製法］本発明の磁気記録媒体の磁性塗料
を製造する工程は、少なくとも混練工程、分散工程、及
びこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程か
らなる。個々の工程は、それぞれ２段階以上に別れてい
てもかまわない。本発明の磁気記録媒体に使用する磁性
粉末、非磁性粉末、結合剤、カーボンブラック、研磨
剤、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤などのすべての原料は、
どの工程の最初又は途中で添加してもかまわない。ま
た、個々の原料を２つ以上の工程で分割して添加しても
かまわない。例えば、ポリウレタンを混練工程、分散工
程、分散後の粘度調整のための混合工程で分割して投入
してもよい。本発明の目的を達成するためには、従来の
公知の製造技術を一部の工程として用いることができ
る。混練工程ではオープンニーダ、連続ニーダ、加圧ニ
ーダ、エクストルーダなど強い混練力をもつものを使用
することが好ましい。ニーダを用いる場合は磁性粉末又
は非磁性粉末と結合剤のすべて又はその一部（但し、全
結合剤の３０％以上が好ましい）及び磁性粉末１００質
量部に対し１５〜５００質量部の範囲で混練処理され
る。これらの混練処理の詳細については特開平１-１０
６３３８号公報、特開平１-７９２７４号公報に記載さ
れている。また、磁性層液及び非磁性層液を分散させる
には、ガラスビーズを用いることができるが、高比重の
分散メディアであるジルコニアビーズ、チタニアビー
ズ、スチールビーズが好適である。これら分散メディア
の粒径と充填率は最適化して用いられる。分散機は公知
のものを使用することができる。 【００７７】本発明で重層構成の磁気記録媒体を塗布す
る場合、磁性層の厚み分布に起因するノイズを小さくす
るために、下層を塗布し乾燥させた後、その上に磁性層
を設ける乾燥後塗布法（wet on dry塗布法）を用いるこ
とが好ましい。なお、本発明で重層構成の磁気記録媒体
を塗布する場合、以下のような方式を用いることが好ま
しい。 （１）磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗
布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗
布装置等により、まず下層を塗布し、下層がウェット状
態のうちに特公平１-４６１８６号公報や特開昭６０-２
３８１７９号公報，特開平２-２６５６７２号公報に開
示されている支持体加圧型エクストルージョン塗布装置
により上層を塗布する方法。 （２）特開昭６３-８８０８０号公報、特開平２-１７９
７１号公報，特開平２-２６５６７２号公報に開示され
ているような塗布液通液スリットを二つ内蔵する一つの
塗布ヘッドにより上下層をほぼ同時に塗布する方法。 （３）特開平２-１７４９６５号公報に開示されている
バックアップロール付きエクストルージョン塗布装置に
より上下層をほぼ同時に塗布する方法。 【００７８】なお、磁性粒子の凝集による磁気記録媒体
の電磁変換特性等の低下を防止するため、特開昭６２-
９５１７４号公報や特開平１-２３６９６８号公報に開
示されているような方法により塗布ヘッド内部の塗布液
にせん断を付与することが望ましい。さらに、塗布液の
粘度については、特開平３-８４７１号公報に開示され
ている数値範囲を満足する必要がある。 【００７９】ディスクの場合、配向装置を用いず無配向
でも十分に等方的な配向性が得られることもあるが、コ
バルト磁石を斜めに交互に配置すること、ソレノイドで
交流磁場を印加するなど公知のランダム配向装置を用い
ることが好ましい。六方晶系フェライトは、一般的に面
内及び垂直方向の３次元ランダムになりやすいが、面内
２次元ランダムとすることも可能である。また異極対向
磁石など公知の方法を用い、垂直配向とすることで円周
方向に等方的な磁気特性を付与することもできる。特に
高密度記録を行う場合は垂直配向が好ましい。また、ス
ピンコートを用い円周配向としてもよい。 【００８０】磁気テープの場合は、コバルト磁石やソレ
ノイドを用いて長手方向に配向する。乾燥風の温度、風
量、塗布速度を制御することで塗膜の乾燥位置を制御で
きるようにすることが好ましく、塗布速度は２０〜１０
００ｍ／分、乾燥風の温度は６０℃以上が好ましい。ま
た磁石ゾ-ンに入る前に適度の予備乾燥を行うこともで
きる。カレンダ処理ロールとしてエポキシ、ポリイミ
ド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐熱性のあるプ
ラスチックロールまたは金属ロールで処理するが、特に
両面磁性層とする場合は金属ロール同志で処理すること
が好ましい。処理温度は、好ましくは５０℃以上、さら
に好ましくは１００℃以上である。線圧力は好ましくは
１９６ｋＮ／ｍ（２００ｋｇ／ｃｍ）以上、さらに好ま
しくは２９４ｋＮ／ｍ（３００ｋｇ／ｃｍ）以上であ
る。 【００８１】［物理特性］磁気ディスクの場合、角形比
は２次元ランダムの場合、通常、０．５５〜０．６７で
あり、０．５８〜０．６４であることが好ましい。ま
た、３次元ランダムの場合、角形比は０．４５〜０．５
５であることが好ましい。垂直配向の場合、角形比は垂
直方向に通常０．６以上であり、０．７以上であること
が好ましい。また、反磁界補正を行った場合は、通常
０．７以上であり、０．８以上であることが好ましい。
２次元ランダム及び３次元ランダムとも配向度比は０．
８以上であることが好ましい。２次元ランダムの場合、
垂直方向の角形比、垂直方向のＢｒおよび垂直方向のＨ
ｃは面内方向の０．１〜０．５倍以内とすることが好ま
しい。磁気テープの場合、角型比は０．７以上、好まし
くは０．８以上である。 【００８２】本発明の磁気記録媒体のヘッドに対する摩
擦係数は、温度-１０〜４０℃、湿度０〜９５％の範囲
において、通常０．５以下であり、０．３以下であるこ
とが好ましい。表面固有抵抗は、磁性面１０4〜１０12
Ω／ｓｑであることが好ましく、帯電位は-５００Ｖ〜
＋５００Ｖであることが好ましい。磁性層の０．５％伸
びでの弾性率は、面内各方向で９８０〜１９６００ＭＰ
ａ（１００〜２０００ｋｇ／ｍｍ2）であることが好ま
しく、破断強度は、９８〜６８６ＭＰａ（１０〜７０ｋ
ｇ／ｍｍ2）であることが好ましい。磁気記録媒体の弾
性率は、面内各方向で９８０〜１４７００ＭＰａ（１０
０〜１５００ｋｇ／ｍｍ2）であることが好ましい。残
留伸びは、０．５％以下であることが好ましく、１００
℃以下のあらゆる温度での熱収縮率は、１％以下である
ことが好ましく、０．５％以下であることがより好まし
く、０．１％以下であることがさらに好ましい。磁性層
のガラス転移温度（１１０Ｈｚで測定した動的粘弾性測
定の損失弾性率の極大点）は、５０〜１２０℃であるこ
とが好ましく、下層のそれは０〜１００℃であることが
好ましい。損失弾性率は、１×１０5〜８×１０8Ｐａの
範囲にあることが好ましく、損失正接は０．２以下であ
ることが好ましい。損失正接が大きすぎると粘着故障が
発生しやすい。これらの熱特性や機械特性は媒体の面内
各方向で１０％以内であり、かつ、ほぼ等しいことが好
ましい。磁性層中に含まれる残留溶媒は、１００ｍｇ／
ｍ2以下であることが好ましく、１０ｍｇ／ｍ2以下であ
ることがさらに好ましい。塗布層が有する空隙率は、下
層、上層とも３０容量％以下であることが好ましく、２
０容量％以下であることがさらに好ましい。空隙率は、
高出力を果たすためには小さい方が好ましいが、目的に
よってはある値を確保した方が良い場合がある。例え
ば、繰り返し用途が重視されるディスク媒体では空隙率
が大きい方が走行耐久性は好ましいことが多い。 【００８３】本発明の磁性層における中心面平均表面粗
さＲａ及び１０点平均粗さＲｚは、前記のとおり、それ
ぞれ５ｎｍ以下及び５０ｎｍ以下である。また、磁性層
の最大高さＲmaxは０．５μｍ以下、中心面山高さＲｐ
は０．３μｍ以下、中心面谷深さＲｖは０．３μｍ以
下、中心面面積率Ｓｒは２０〜８０％、平均波長λａは
５〜３００μｍが好ましい。磁性層の表面突起は０．０
１〜１μｍの大きさのものを０〜２０００個の範囲で任
意に設定することが可能であり、これにより電磁変換特
性、摩擦係数を最適化することが好ましい。これらは支
持体のフィラーによる表面性のコントロールや磁性層に
添加する粉体の粒径と量、カレンダ処理のロール表面形
状などで容易にコントロールすることができる。カール
は±３ｍｍ以内とすることが好ましい。本発明の磁気記
録媒体は、目的に応じ下層と上層でこれらの物理特性を
変えることができるのは容易に推定されることである。
例えば、上層の弾性率を高くし走行耐久性を向上させる
と同時に下層の弾性率を上層より低くして磁気記録媒体
のヘッドへの当りを良くするなどである。 【００８４】 【実施例】以下、本発明の具体的実施例を説明するが、
本発明はこれに限定されるべきものではない。なお、以
下の「部」とは別段断らない限り「質量部」のことであ
る。 【００８５】磁性塗料Ａ 六方晶バリウムフェライト １００部 表面処理：Al2O3 ５重量％、SiO2 ２重量％ 抗磁力(Ｈｃ)：１９９ｋＡ／ｍ（２５００ Ｏｅ） 板径：３０ｎｍ 板状比：３ 飽和磁化(σｓ)：５６Ａ・ｍ2／ｋｇ（５６ｅｍｕ／ｇ） 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） ６部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ３部 α−アルミナ ＨＩＴ６０（住友化学社製） ４部 ダイヤモンド（平均粒径１００ｎｍ） ２部 カーボンブラック ＃５０（旭カーボン社製） １部 イソセチルステアレート ５部 ステアリン酸 １部 オレイン酸 １部 メチルエチルケトン ８０部 シクロヘキサノン １２０部 【００８６】磁性塗料Ｂ 強磁性金属粉末 １００部 組成：Ｆｅ７０％、Ｃｏ３０％、 抗磁力(Ｈｃ)：１８３ｋＡ／ｍ（２３００ Ｏｅ） 長軸長：０．０４５μｍ 結晶サイズ：１１５Å 飽和磁化(σｓ)：１１０Ａ・ｍ2／ｋｇ（１１０ｅｍｕ／ｇ） 焼結防止剤 Ａｌ化合物（Ａｌ／Ｆｅ 原子比 １４％） Ｙ化合物 （Ｙ／Ｆｅ 原子比 ７％） 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １０部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ４部 α−アルミナ ＨＩＴ６０（住友化学社製） ４部 ダイヤモンド（平均粒径１００nm） ２部 カーボンブラック ＃５０（旭カーボン社製） １部 フェニルホスホン酸 ３部 ｎ−ブチルステアレート １部 ブトキシエチルステアレート １部 イソセチルステアレート ２部 ステアリン酸 １部 オレイン酸 １部 メチルエチルケトン １４０部 シクロヘキサノン ２００部 【００８７】非磁性塗料 α−Ｆｅ２Ｏ３ ヘマタイト １００部 長軸長 ０．０７μｍ、短軸長 ０．０１４μｍ ＢＥＴ法による比表面積 ５５ｍ２／ｇ ｐＨ ９ 表面処理剤 Ａｌ２Ｏ３ ８質量％ カーボンブラック（平均粒径２０ｎｍ） コンダクテックスＳＣ−Ｕ(コロンビアンカーボン社製) ２５部 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１０４（日本ゼオン社製） １５部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ５５００（東洋紡社製） ７部 フェニルホスホン酸 ４部 イソセチルステアレート ６部 オレイン酸 １．３部 ステアリン酸 １．３部 メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（８／２混合溶剤） ２５０部 【００８８】（実施例１）上記磁性塗料Ａと非磁性塗料
のそれぞれについて、各成分をニーダで混練した後、サ
ンドミルを用いて分散させた。得られた磁性液Ａと非磁
性塗料の分散液にポリイソシアネートを非磁性層の塗布
液には１３部、磁性塗料Ａの塗布液には４部を加え、さ
らにそれぞれにシクロヘキサノン３０部を加え、１μｍ
の平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、非磁性
層形成用及び磁性層形成用の塗布液をそれぞれ調製し
た。得られた非磁性層形成用塗布液を厚さ６２μｍで中
心面平均表面粗さが３ｎｍのポリエチレンテレフタレー
ト支持体上に乾燥後の厚さが１．５μｍになるように塗
布し乾燥した。乾燥後、７段のカレンダで温度９０℃、
線圧２９４ｋＮ／ｍ（３００ｋｇ／ｃｍ）で処理を行っ
た。その後、磁性層の厚さが０．１μｍになるように非
磁性層上に塗布を行い、乾燥後、７段のカレンダで温度
９０℃、線圧２９４ｋＮ／ｍ（３００ｋｇ／ｃｍ）で処
理を行い、３．７吋に打ち抜き、表面研磨処理を施し
た。 【００８９】（実施例２〜７）実施例１の非磁性塗料中
に添加するカーボンブラックを表１に記したような平均
粒子径又は添加量に変更したことを除き、実施例１と同
様に作成した。 【００９０】（実施例８〜１１）実施例１の非磁性層用
塗布液を支持体上に塗布・乾燥した後に行ったカレンダ
処理の線圧及び温度を表１に記載した条件に変更したこ
とを除き、実施例１と同様に作成した。 【００９１】（実施例１２）実施例１の磁性層厚を０．
１μｍから０．１５μｍに変更したことを除いて、実施
例１と同様に作成した。 【００９２】（実施例１３）実施例１の磁性層厚を０．
１μｍから０．２μｍに変更したことを除いて、実施例
１と同様に作成した。 【００９３】（実施例１４）実施例１の非磁性塗布液を
支持体上に塗布してから乾燥した後に、カレンダ処理を
行わなかったこと以外は、実施例１と同様に作成した。 【００９４】（実施例１５）実施例１の磁性塗料をＡか
らＢに変更し、さらに磁性層厚を０．１μｍから０．０
７μｍに変更したことを除いて、実施例１と同様に作成
した。 【００９５】（実施例１６〜２１）実施例１５の非磁性
塗料中に添加するカーボンブラックを表１に記したよう
な平均粒子径及び添加量に変更したことを除いて、実施
例１５と同様に作成した。 【００９６】（実施例２２）実施例１５の非磁性塗布液
を支持体上に塗布してから乾燥した後に、カレンダ処理
を行わなかったこと以外は、実施例１と同様に作成し
た。 【００９７】（比較例１）実施例１と同様な方法で、磁
性塗料と非磁性塗料を調製し、得られた非磁性層用塗布
液を乾燥後の厚さが１．５μｍになるように、さらにそ
の直後にその上に磁性層の厚さが０．１μｍになるよう
に、厚さ６２μｍで中心面平均表面粗さが３ｎｍのポリ
エチレンテレフタレート支持体上に同時重層塗布（wet
on wet）を行った。両層がまだ湿潤状態にあるうちにラ
ンダム配向処理を行い、乾燥後、７段のカレンダで温度
９０℃、線圧２９４ｋＮ／ｍ（３００ｋｇ／ｃｍ）で処
理を行い、３．７吋に打ち抜き、表面研磨処理を施し
た。 【００９８】（比較例２〜５）実施例１の非磁性塗料中
に添加するカーボンブラックを表１に記したような平均
粒子径、添加量に変更したことを除いて、実施例１と同
様に作成した。 【００９９】（比較例６）実施例１の磁性層の厚さを
０．１μｍから０．２５μｍに変更したことを除き、実
施例１と同様の方法により作成した。 【０１００】（比較例７）比較例１の磁性塗料をＡから
Ｂに変更し、磁性層厚を０．１μｍから０．０７μｍに
変更したことを除いて、比較例１と同様に作成した。 【０１０１】（比較例８〜１１）実施例１５の非磁性塗
料中に添加するカーボンブラックを表１に記したような
平均粒子径及び添加量に変更したことを除いて、実施例
１５と同様に作成した。 【０１０２】［Ｒａ及びＲｚの測定］ＷＹＫＯ社製ＨＤ
−２０００型を用い、以下の条件で測定した。 対物レンズ：×５０ 中間レンズ：×０．５ 測定範囲：２４２μｍ×１８４μｍ データに傾き補正及び円筒補正を施した後、中心面平均
粗さ（Ｒａ）と１０点平均粗さ（Ｒｚ）を測定した。 【０１０３】［ｂ／ａ値の測定］島津社製ＥＰＭＡ−１
６００を使用し、電子ビーム加速電圧１５ｋＶ、３０ｎ
Ａ、ビーム径１μｍφの条件で磁性層表面から１００×
１００μｍの範囲を少なくとも５００×５００画素で目
的の元素の強度マッピング測定した。強磁性金属粉末の
場合にはＣｏ、Ｙ等を磁性層固有の元素として選択でき
るが、本実施例ではＣｏを選択した。六方晶系フェライ
ト磁性体の場合には、Ｂａを磁性層固有の元素として選
択した。得られた元素強度マッピングの結果において強
度を２５６段階に分割し、ＺＥＩＳＳ製画像解析装置Ｋ
Ｓ４００にて強度分布の標準偏差（ｂ）及び、平均値
（ａ）を求め、ｂ／ａ値を算出した。 【０１０４】［Ｓ／Ｎの測定］Ｓ／Ｎの測定は、米ＧＵ
ＺＩＫ社製のＲＷＡ１００１型ディスク評価装置及び協
同電子システム（株）製スピンスタンドＬＳ−９０に
て、トラック幅５μｍでギャップ長０．２μｍのメタル
インギャップヘッド用い、半径２４．６ｍｍの位置にお
いて線記録密度１００ＫＦＣＩの信号を書き込み、トラ
ック幅が２．６μｍのＭＲヘッドで再生し、その再生出
力（ＴＡＡ）とＤＣイレーズ後のノイズレベルを測定
し、Ｓ／Ｎ値を求めた。なお、比較例４、６及び１０
は、測定中にＭＲヘッドが静電破壊され、測定すること
ができなかった。 【０１０５】［ＰＷ５０の測定］ＰＷ５０の測定は、米
ＧＵＺＩＫ社製のＲＷＡ１００１型ディスク評価装置及
び協同電子システム（株）製スピンスタンドＬＳ−９０
にて、トラック幅５μｍでギャップ長０．２μｍのメタ
ルインギャップヘッド用い、半径２４．６ｍｍの位置に
おいて孤立反転波形信号を書き込み、トラック幅が２．
６μｍのＭＲヘッドで再生し、そのＰＷ５０を測定し
た。なお、比較例４、６及び１０は、測定中にＭＲヘッ
ドが静電破壊され、測定することができなかった。 【０１０６】 【表１】【０１０７】表１に示されるように、カーボンブラック
の平均粒径については、カーボンブラックの含有量を固
定した場合、平均粒径１０〜３０μｍの範囲内であれ
ば、いずれも高Ｓ／Ｎを得ることができた（実施例１〜
３、１５〜１７）。これに対して、カーボンブラックの
平均粒径が１０μｍより小さい場合（比較例２、８）及
び大きい場合（比較例３、９）には、いずれも充分なＳ
／Ｎが得られなかった。また、カーボンブラックの含有
量については、カーボンブラックの平均粒径を固定した
場合、１０〜５０質量部の範囲内であれば、いずれも高
Ｓ／Ｎを得ることができた（実施例４〜７、１８〜２
１）。これに対して、１０部より少ない場合（比較例
４、１０）又は多い場合（比較例５、１１）にはいずれ
も充分なＳ／Ｎが得られなかった。なお、カーボンブラ
ックの含有量が１０部より少なくなると、ＭＲヘッドの
静電破壊が起こった（比較例４、１０）。これより所定
質量のカーボンブラックを含有すると磁性層の表面電気
抵抗を下げられることが分かる。 【０１０８】また、下層塗設後にカレンダ処理したもの
の方がカレンダ処理しないものよりも高いＳ／Ｎを得る
ことができた（実施例１４及び２２）。またカレンダ処
理条件については、線圧が高く、かつ、温度が高いほど
高Ｓ／Ｎ値を得ることができた（実施例９〜１１）。さ
らに、Ｒａ値及びＲｚ値については、小さい値を示すも
のほど高Ｓ／Ｎを得ることができた。これより、磁性層
の表面が平滑な磁気記録媒体ほど高いＳ／Ｎを示すこと
が分かった。また、塗布方式については、Ｗ／Ｄの方が
Ｗ／Ｗよりも高Ｓ／Ｎを得ることができた（実施例１〜
２２、比較例１及び７）。これより磁性層の厚み分布に
起因するノイズを小さくするためには、wet on dry 塗
布が有効であることが分かった。また、wet on dry 塗
布を行う場合、非磁性層の表面状態が磁性層及び非磁性
層の界面の乱れに大きく影響し、非磁性層の表面が平滑
なもの程、高いＳ／Ｎを得ることができることが分かっ
た。また、磁性層の厚さが０．２５μｍである場合には
静電破壊が起こった（比較例６）。これより、磁性層の
厚さが０．２μｍ以下であれば静電破壊を防ぐことがで
きる。 【０１０９】 【発明の効果】以上述べたように、本発明の磁気記録媒
体であれば、磁性層の表面粗さに起因するノイズを低減
することができ、優れた電磁変換特性、特に高Ｓ／Ｎを
得ることができる。また、本発明の磁気記録媒体であれ
ば、ＭＲヘッドと媒体間のスペーシングを低減できるた
め、ＭＲヘッドを用いた磁気記録においても静電破壊を
起こすことのない好適な磁気記録媒体を提供することが
できる。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 斉藤 真二
神奈川県小田原市扇町２丁目12番１号 富
士写真フイルム株式会社小田原工場内
Ｆターム(参考） 5D006 BA02 BA04 BA06 BA19 CA04
CA05
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】 非磁性支持体の少なくとも一方の面に、
非磁性粉末及び結合剤を含む非磁性層と、強磁性金属粉
末又は六方晶系フェライト粉末である強磁性粉末及び結
合剤を含む磁性層と、をこの順に有する磁気記録媒体で
あって、 前記非磁性層が、平均粒径１０〜３０ｎｍのカーボンブ
ラックを前記非磁性粉末１００質量部に対して１０〜５
０質量部含有し、 前記磁性層の厚さが０．２μｍ以下であり、電子線マイ
クロアナリシスによる前記強磁性粉末に起因する元素の
平均強度ａに対する該強度の標準偏差ｂが０．０３≦ｂ
／ａ≦０．４であり、かつ、前記磁性層の中心面平均粗
さＲａが５ｎｍ以下、１０点平均粗さＲｚが５０ｎｍ以
下であることを特徴とする磁気記録媒体。
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