JP2002092854A - 磁気記録媒体及び信号記録方式 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 従来の欠点がなく、高精度なサーボライト
と、より高い記録密度とを可能にする磁気記録媒体及び
信号記録方式を得る。 【解決手段】 支持体上に２層以上の磁性層が設けられ
た磁気記録媒体に於いて、最上層磁性層の磁化容易軸と
下層磁性層の磁化容易軸とが互いに直交する方向に配向
されていることを特徴とする磁気記録媒体。最上層磁性
層の磁化容易軸が幅方向に配向され、且つ下層磁性層の
磁化容易軸が長手方向に配向されていることが好まし
い。磁気記録媒体の最上層磁性層に幅方向に情報信号を
記録し、且つ下層磁性層に長手方向にサーボ信号を記録
することを特徴とする信号記録方式。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、情報記録とサーボ
ライトを行う磁気記録媒体並びに該磁気記録媒体を用い
た信号記録方式に関する。

【０００２】

【従来の技術】データーストレージ用磁気記録システム
ではトラック密度を向上させる為、媒体の位置決めの為
の信号（以下、サーボ信号とも云う）を記録することが
行われている。これらには、磁性層に穴を空けて光の反
射率の違いを検出する方法、磁性面にサーボ信号専用の
トラックを設ける方法、バック面に穴を空けて光の反射
率の違いを検出する方法が提案されているが、前２者は
サーボトラックによってデーターを記録する面積が減っ
て結果的に容量が低下したり、データートラックとサー
ボトラックの距離が離れて位置決め精度が低下したりす
る。又、後者はサーボの精度に難点がある。

【０００３】この問題を解決する為に、２層以上の磁性
層で上層Ｈｃ＜下層Ｈｃ（Ｈｃ：抗磁力、以下「抗磁
力」を単に「Ｈｃ」ともいう））に設定して異なる信号
を記録する提案がなされているが、開示されたＨｃの範
囲では上層Ｈｃが低く、高密度記録には適さない。上層
Ｈｃを充分に高くして情報記録信号のＳ／Ｎを大きくす
るには、下層のＨｃをさらに高くしなければならず、サ
ーボ信号の書き込むが困難となる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記した欠
点がなく、高精度なサーボライトと、より高い記録密度
とを可能にする磁気記録媒体を得、かつそれを用いた新
しい記録方式を得ることを課題とするものである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、高精度な
サーボライトと、より高い記録密度とを可能にする磁気
記録媒体について鋭意研究を進めた結果、本発明に到達
した。すなわち、本発明は、以下の手段により上記の課
題を解決した。 （１）支持体上に２層以上の磁性層が設けられた磁気記
録媒体に於いて、最上層磁性層の磁化容易軸と下層磁性
層の磁化容易軸とが互いに直交する方向に配向されてい
ることを特徴とする磁気記録媒体。 （２）最上層磁性層の磁化容易軸が幅方向に配向され、
且つ下層磁性層の磁化容易軸が長手方向に配向されてい
ることを特徴とする前記（１）記載の磁気記録媒体。

【０００６】（３）最上層磁性層の厚みが該最上層磁性
層に記録される情報信号の最短記録波長の１／１０〜１
倍であり、最上層磁性層の抗磁力Ｈｃが１５８ＫＡ／ｍ
〜３１６ＫＡ／ｍであり、且つ下層磁性層の残留磁束密
度Ｂｒが２５００〜５０００Ｇであることを特徴とする
前記（１）又は（２）記載の磁気記録媒体。 （４）前記２層以上の磁性層の下に非磁性粉末を含む非
磁性層が設けられていることを特徴とする前記（１）〜
（３）のいずれか１項記載の磁気記録媒体。 （５）前記（１）〜（４）のいずれか１項記載の磁気記
録媒体の最上層磁性層に幅方向に情報信号を記録し、且
つ下層磁性層に長手方向にサーボ信号を記録することを
特徴とする信号記録方式。

【０００７】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係わる磁気記録媒
体の好適な実施の形態について説明する。 ［最上層磁性層］最上層磁性層のＨｃは、好ましくは１
５８ＫＡ／ｍ〜３１６ＫＡ／ｍ、より好ましくは１７４
ＫＡ／ｍ〜２３７ＫＡ／ｍである。Ｈｃが低すぎると、
情報信号のＣ／Ｎが低くなる。Ｈｃが高すぎると、記録
ヘッドの磁界強度を大きくしなければならず、下層のサ
ーボ信号が消去され易くなる。最上層磁性層の厚みは、
好ましくは情報信号の最短記録波長の１／１０〜１倍、
より好ましくは１／８〜０．６倍である。最上層磁性層
の厚みが薄すぎると、情報信号強度が小さくなり、さら
に情報記録の時にサーボ信号を消去し易くなる。最上層
磁性層の厚みが厚すぎると、サーボ信号強度が小さくな
る。磁性層が２層の場合には、上層磁性層が最上層磁性
層であり、また磁性層が３層以上の場合には、一番上の
磁性層が最上層磁性層である。

【０００８】［下層磁性層］下層磁性層のＨｃは、最上
層磁性層のＨｃとほぼ同等とすることが好ましい。下層
磁性層の残留磁束密度Ｂｒ（以下、「残留磁束密度」を
単に「Ｂｒ」ということがある）は、サーボ信号の出力
を大きくする為に大きい方が好ましく、通常２５００〜
５０００Ｇとすることが好ましい。下層磁性層の厚み
は、好ましくは０．０５〜３μｍ、より好ましくは０．
０５〜２μｍ、さらにより好ましくは０．１〜１μｍで
ある。下層磁性層の厚みが薄すぎるとサーボ信号強度が
低下し、厚すぎると分解能が低下する。

【０００９】本発明に従って、最上層磁性層の磁化容易
軸と下層磁性層の磁化容易軸とを互いに直交する方向に
配向させることにより、例えば最上層磁性層の磁化容易
軸を幅方向に配向させ、且つ下層磁性層の磁化容易軸を
長手方向に配向させることにより、下層磁性層の磁化が
最上層磁性層に与える影響を少なくすることができる。

【００１０】［非磁性層］下層磁性層を薄くした場合
は、その下に非磁性粉末を含む厚み０．３〜３μｍの非
磁性層を設けることで磁性層を平滑にすることができ、
より高密度な記録が可能となる。

【００１１】［磁性体］最上層磁性層及び下層磁性層に
用いる磁性体は、Ｆｅを主体とする針状合金粉末、六方
晶フェライト粉末、ＳｍＣｏ、ＦｅＰｔ、ＭｎＡｌ等の
永久磁石材料の微粉末を使用することができる。磁性体
のサイズは、針状の場合に平均長軸長０．０３〜０．１
５μｍ、好ましくは０．０４〜０．１μｍ、結晶子サイ
ズ７０〜１８０Å、好ましくは８０〜１５０Åであり、
六方晶フェライト粉末の場合に板径１０〜５０ｎｍ、好
ましくは１５〜４０ｎｍ、板厚５〜１５ｎｍ、好ましく
は７〜１２ｎｍであり、粒状の場合に直径５〜５０ｎ
ｍ、好ましくは８〜３５ｎｍである。磁性層のＨｃなど
は、それに用いる磁性体の磁気的特性に左右されるもの
であるので、最上層磁性層のＨｃは、磁性体のＨｃでコ
ントロールする。また、下層磁性層のＢｒは、磁性体の
σｓと結合剤量でコントロールする。

【００１２】［結合剤］本発明に於いて磁性層（最上
層、下層）及び非磁性層に使用される結合剤としては、
従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂や
これらの混合物が使用される。熱可塑性樹脂としては、
ガラス転移温度が−１００〜１５０℃、数平均分子量が
１０００〜２０００００、好ましくは１００００〜１０
００００、重合度が約５０〜１０００程度のものを使用
することができる。このような例としては、塩化ビニ
ル、酢酸ビニル、ビニルアルコ−ル、マレイン酸、アク
リル酸、アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリ
ロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、ス
チレン、ブタジエン、エチレン、ビニルブチラ−ル、ビ
ニルアセタ−ル、ビニルエ−テル等を構成単位として含
む重合体または共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム
系樹脂がある。また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂と
してはフェノ−ル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹
脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、アクリ
ル樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコ−ン樹脂、エポ
キシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシアネ
−トプレポリマ−の混合物、ポリエステルポリオ−ルと
ポリイソシアネ−トの混合物、ポリウレタンとポリイソ
シアネートの混合物等があげられる。

【００１３】これらの樹脂については朝倉書店発行の
「プラスチックハンドブック」に詳細に記載されてい
る。また、公知の電子線硬化型樹脂を非磁性層、磁性層
に使用することも可能である。これらの例とその製造方
法については特開昭６２−２５６２１９号公報に詳細に
記載されている。以上の樹脂は単独または組合せて使用
できるが、好ましいものとして塩化ビニル樹脂、塩化ビ
ニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−
ビニルアルコ−ル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−
無水マレイン酸共重合体の中から選ばれる少なくとも１
種の塩化ビニル系共重合体と、ポリウレタン樹脂との組
合せ、またはこれらにポリイソシアネ−トを組み合わせ
たものがあげられる。ポリウレタン樹脂の構造はポリエ
ステルポリウレタン、ポリエ−テルポリウレタン、ポリ
エ−テルポリエステルポリウレタン、ポリカ−ボネ−ト
ポリウレタン、ポリエステルポリカ−ボネ−トポリウレ
タン、ポリカプロラクトンポリウレタンなど公知のもの
が使用できる。ここに示したすべての結合剤について、
より優れた分散性と耐久性を得るためには必要に応じ、
ＣＯＯＭ，ＳＯ₃ Ｍ、ＯＳＯ₃ Ｍ、Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂ 、
Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂ 、（以上につきＭは水素原子、ま
たはアルカリ金属塩基）、ＯＨ、ＮＲ₂ 、Ｎ⁺ Ｒ ₃ （Ｒ
は炭化水素基）、エポキシ基、ＳＨ、ＣＮなどから選ば
れる少なくともひとつ以上の極性基を共重合または付加
反応で導入したものを用いることが好ましい。このよう
な極性基の量は１０^-1〜１０^-8モル／ｇであり、好まし
くは１０^-2〜１０^-6モル／ｇである。

【００１４】本発明に用いられるこれらの結合剤の具体
的な例としては、ユニオンカ−バイト社製ＶＡＧＨ、Ｖ
ＹＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ，ＶＲＯＨ，Ｖ
ＹＥＳ，ＶＹＮＣ，ＶＭＣＣ，ＸＹＨＬ，ＸＹＳＧ，Ｐ
ＫＨＨ，ＰＫＨＪ，ＰＫＨＣ，ＰＫＦＥ，日信化学工業
社製 ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５，ＭＰＲ−ＴＡ
Ｌ，ＭＰＲ−ＴＳＮ，ＭＰＲ−ＴＭＦ，ＭＰＲ−ＴＳ、
ＭＰＲ−ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡＯ、電気化学社製 １００
０Ｗ、ＤＸ８０，ＤＸ８１，ＤＸ８２，ＤＸ８３、１０
０ＦＤ、日本ゼオン社製 ＭＲ−１０５、ＭＲ１１０、
ＭＲ１００、４００Ｘ−１１０Ａ、日本ポリウレタン社
製 ニッポランＮ２３０１、Ｎ２３０２、Ｎ２３０４、
大日本インキ化学工業社製 パンデックスＴ−５１０
５、Ｔ−Ｒ３０８０、Ｔ−５２０１、バ−ノックＤ−４
００、Ｄ−２１０−８０、クリスボン６１０９，７２０
９，東洋紡社製 バイロンＵＲ８２００，ＵＲ８３０
０、ＵＲ−８６００、ＵＲ−５５００、ＵＲ−４３０
０、ＲＶ５３０，ＲＶ２８０、大日精化社製 ダイフェ
ラミン４０２０，５０２０，５１００，５３００，９０
２０，９０２２，７０２０，三菱化成社製 ＭＸ５００
４，三洋化成社製 サンプレンＳＰ−１５０，ＴＩＭ−
３００３、ＴＩＭ−３００５、旭化成社製 サランＦ３
１０，Ｆ２１０などがあげられる。

【００１５】本発明の磁性層に用いられる結合剤は、強
磁性粉末に対し、２〜５０重量％の範囲、好ましくは１
０〜３０重量％の範囲で用いられる。塩化ビニル系共重
合体を用いる場合は５〜３０重量％、ポリウレタン樹脂
を用いる場合は２〜２０重量％、ポリイソシアネ−トは
２〜２０重量％の範囲でこれらを組み合わせて用いるの
が好ましい。本発明において、ポリウレタンを用いる場
合はガラス転移温度が−５０〜１００℃、破断伸びが１
００〜２０００％、破断応力は０．０５〜１０ｋｇ／ｃ
ｍ² 、降伏点は０．０５〜１０ｋｇ／ｃｍ² が好まし
い。本発明の磁気記録媒体は二層以上からなる。従っ
て、結合剤量、結合剤中に占める塩化ビニル系共重合
体、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネ−ト、あるいは
それ以外の樹脂の量、磁性層を形成する各樹脂の分子
量、極性基量、あるいは先に述べた樹脂の物理特性など
を必要に応じ非磁性層と最上層磁性層、その他磁性層と
で変えることはもちろん可能であり、多層磁性層に関す
る公知技術を適用できる。例えば、上下磁性層、非磁性
層でバインダー量を変更する場合、磁性層表面の擦傷を
減らすためには最上層磁性層のバインダー量を増量する
ことが有効であり、ヘッドに対するヘッドタッチを良好
にする為には、最上層以外の磁性層か非磁性層のバイン
ダー量を多くして柔軟性を持たせることにより達成され
る。

【００１６】本発明に用いるポリイソシアネ−トとして
は、トリレンジイソシアネ−ト、４−４’−ジフェニル
メタンジイソシアネ−ト、ヘキサメチレンジイソシアネ
−ト、キシリレンジイソシアネ−ト、ナフチレン−１，
５−ジイソシアネ−ト、ｏ−トルイジンジイソシアネ−
ト、イソホロンジイソシアネ−ト、トリフェニルメタン
トリイソシアネ−ト等のイソシアネ−ト類、また、これ
らのイソシアネ−ト類とポリアルコールとの反応物、ま
た、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソ
シアネ−ト等を使用することができる。これらのイソシ
アネート類の市販されている商品名としては、日本ポリ
ウレタン社製 コロネートＬ、コロネ−トＨＬ，コロネ
−ト２０３０、コロネ−ト２０３１、ミリオネ−トＭ
Ｒ、ミリオネ−トＭＴＬ、武田薬品社製 タケネ−トＤ
−１０２，タケネ−トＤ−１１０Ｎ、タケネ−トＤ−２
００、タケネ−トＤ−２０２、住友バイエル社製 デス
モジュ−ルＬ，デスモジュ−ルＩＬ、デスモジュ−ル
Ｎ、デスモジュ−ルＨＬ，等がありこれらを単独または
硬化反応性の差を利用して二つもしくはそれ以上の組合
せで非磁性層、磁性層とも用いることができる。

【００１７】［非磁性粉末］本発明の非磁性層に用いら
れる非磁性粉末は、例えば金属酸化物、金属炭酸塩、金
属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物等の無
機質化合物から選択することができる。無機化合物とし
ては例えばα化率９０％以上のα−アルミナ、β−アル
ミナ、γ−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セ
リウム、α−酸化鉄、コランダム、窒化珪素、チタンカ
−バイト、酸化チタン、二酸化珪素、酸化スズ、酸化マ
グネシウム、酸化タングステン、酸化ジルコニウム、窒
化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸カルシウ
ム、硫酸バリウム、２硫化モリブデンなどが単独または
組合せで使用される。特に好ましいのは二酸化チタン、
酸化亜鉛、酸化鉄、硫酸バリウムであり、更に好ましい
のは二酸化チタンである。これら非磁性粉末の粒子サイ
ズは０．００５〜２μｍが好ましいが、必要に応じて粒
子サイズの異なる非磁性粉末を組み合わせたり、単独の
非磁性粉末でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせ
ることもできる。とりわけ好ましいのは０．０１μｍ〜
０．２μｍである。タップ密度は０．０５〜２ｇ／ｍ
ｌ、好ましくは０．２〜１．５ｇ／ｍｌである。含水率
は０．１〜５重量％好ましくは０．２〜３重量％であ
る。ｐＨは２〜１１であるが、６〜９の間が特に好まし
い。比表面積は１〜１００ｍ² ／ｇ、好ましくは５〜５
０m ² /g、更に好ましくは７〜４０m ² /gである。結晶
子サイズは０．０１μｍ〜２μｍが好ましい。DBP を用
いた吸油量は５〜１００ml/100g 、好ましくは１０〜８
０ml/100g 、更に好ましくは２０〜６０ml/100g であ
る。比重は１〜１２、好ましくは３〜６である。形状は
針状、球状、多面体状、板状のいずれでも良い。強熱減
量は２０重量％以下であることが好ましい。本発明に用
いられる上記無機粉末のモース硬度は４以上のものが好
ましい。これらの粉体表面のラフネスファクターは０．
８〜１．５が好ましく、更に好ましいのは０．９〜１．
２である。ステアリン酸（ＳＡ）吸着量は１〜２０μmo
l ／ｍ² 、更に好ましくは２〜１５μmol/ｍ² である。
非磁性粉体の２５℃での水への湿潤熱は２００erg/cm²
〜６００erg/cm² がの範囲にあることが好ましい。ま
た、この湿潤熱の範囲にある溶媒を使用することができ
る。１００〜４００℃での表面の水分子の量は１〜１０
個/100A が適当である。水中での等電点のｐＨは３〜６
の間にあることが好ましい。

【００１８】これらの粉体の表面にはＡｌ₂ Ｏ₃ 、Ｓｉ
Ｏ₂ 、ＴｉＯ₂ 、ＺｒＯ₂ 、ＳｎＯ ₂ 、Ｓｂ₂ Ｏ₃ 、Ｚ
ｎＯで表面処理することが好ましい。特に分散性に好ま
しいのはＡｌ₂ Ｏ₃ 、ＳｉＯ₂ 、ＴｉＯ₂ 、ＺｒＯ₂ で
あるが、更に好ましいのはＡｌ₂ Ｏ₃ 、ＳｉＯ₂ 、Ｚｒ
Ｏ₂ である。これらは組み合わせて使用しても良いし、
単独で用いることもできる。また、目的に応じて共沈さ
せた表面処理層を用いても良いし、先ずアルミナで処理
した後にその表層をシリカで処理する構造、その逆の構
造を取ることもできる。また、表面処理層は目的に応じ
て多孔質層にしても構わないが、均質で密である方が一
般には好ましい。

【００１９】本発明に用いられる非磁性粉末の具体的な
例としては、昭和電工製 UA5600、UA5605、住友化学製
AKP-20,AKP-30,AKP-50,HIT-55,HIT-100,ZA-G1 、日本
化学工業社製 G5,G7,S-1,戸田工業社製 TF-100,TF-12
0,TF-140,R516,石原産業製TTO-51B 、TTO-55A,TTO-55B
、TTO-55C 、TTO-55S 、TTO-55D 、FT-1000 、FT-2000
、FTL-100 、FTL-200 、M-1 ，S-1 ，SN-100,R-820、R
-830,R-930,R-550,CR-50,CR-80,R-680,TY-50,チタン工
業製 ECT-52、STT-4D、STT-30D 、STT-30、STT-65C 、
三菱マテリアル製 T-1 、日本触媒製 NS-O、NS-3Y,NS
-8Y 、テイカ製MT-100S 、MT-100T 、MT-150W 、MT-500
B 、MT-600B 、MT-100F 、堺化学製FINEX-25,BF-1,BF-1
0,BF-20,BF-1L,BF-10P、同和鉱業製 DEFIC-Y,DEFIC-R
、チタン工業製 Y-LOP 及びそれを焼成したものがあ
げられる。

【００２０】特に好ましい非磁性粉体は二酸化チタンで
あるので、二酸化チタンを例に製法を詳しく記す。これ
らの酸化チタンの製法は主に硫酸法と塩素法がある。硫
酸法はイルミナイトの原鉱石を硫酸で蒸解し、Ｔｉ，Ｆ
ｅなどを硫酸塩として抽出する。硫酸鉄を晶析分離して
除き、残りの硫酸チタニル溶液を濾過精製後、熱加水分
解を行なって、含水酸化チタンを沈澱させる。これを濾
過洗浄後、夾雑不純物を洗浄除去し、粒径調節剤などを
添加した後、８０〜１０００℃で焼成すれば粗酸化チタ
ンとなる。ルチル型とアナターゼ型は加水分解の時に添
加される核剤の種類によりわけられる。この粗酸化チタ
ンを粉砕、整粒、表面処理などを施して作成する。塩素
法の原鉱石は天然ルチルや合成ルチルが用いられる。鉱
石は高温還元状態で塩素化され、ＴｉはＴｉＣｌ₄ にＦ
ｅはＦｅＣｌ₂ となり、冷却により固体となった酸化鉄
は液体のＴｉＣｌ₄ と分離される。得られた粗ＴｉＣｌ
₄は精留により精製した後核生成剤を添加し、１０００
℃以上の温度で酸素と瞬間的に反応させ、粗酸化チタン
を得る。この酸化分解工程で生成した粗酸化チタンに顔
料的性質を与えるための仕上げ方法は硫酸法と同じであ
る。表面処理は上記酸化チタン素材を乾式粉砕後、水と
分散剤を加え、湿式粉砕、遠心分離により粗粒分級が行
なわれる。その後、微粒スラリーは表面処理槽に移さ
れ、ここで金属水酸化物の表面被覆が行なわれる。ま
ず、所定量のＡｌ，Ｓｉ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｓｂ，Ｓｎ，Ｚ
ｎなどの塩類水溶液を加え、これを中和する酸、または
アルカリを加えて、生成する含水酸化物で酸化チタン粒
子表面を被覆する。副生する水溶性塩類はデカンテーシ
ョン、濾過、洗浄により除去し、最終的にスラリーｐＨ
を調節して濾過し、純水により洗浄する。洗浄済みケー
キはスプレードライヤーまたはバンドドライヤーで乾燥
される。最後にこの乾燥物はジェットミルで粉砕され、
製品になる。また、水系ばかりでなく酸化チタン粉体に
ＡｌＣｌ₃ ，ＳｉＣｌ ₄ の蒸気を通じその後水蒸気を流
入してＡｌ，Ｓｉ表面処理を施すことも可能である。

【００２１】本発明に於いて非磁性粉末に用いられる有
機質粉末としては、アクリルスチレン系樹脂粉末、ベン
ゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、フタロシ
アニン系顔料、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステ
ル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹
脂粉末、ポリフッ化エチレン樹脂が挙げられる。その製
法は特開昭62-18564号公報、特開昭60-255827 号公報に
記されているようなものが使用できる。

【００２２】これらの非磁性粉末は結合剤に対して、重
量比率で２０〜０．１、体積比率で１０〜０．１の範囲
で用いられる。特に好ましくは結合剤の体積比が下層に
含まれる粉体の体積に較べて２．０倍から０．３倍の範
囲である。

【００２３】［カーボンブラック］本発明の磁性層に使
用されるカ−ボンブラックは、ゴム用ファ−ネス、ゴム
用サ−マル、カラ−用ブラック、アセチレンブラック等
を用いることができる。比表面積は５〜５００ｍ² ／
ｇ、ＤＢＰ吸油量は１０〜４００ｍｌ／１００ｇ、粒子
径は５ｍμ〜３００ｍμ、ｐＨは２〜１０、含水率は
０．１〜１０重量％、タップ密度は０．１〜１ｇ／ｍｌ
が好ましい。本発明に用いられるカ−ボンブラックの具
体的な例としてはキャボット社製 ＢＬＡＣＫＰＥＡＲ
ＬＳ２０００、１３００、１０００、９００、８００，
７００、ＶＵＬＣＡＮＸＣ−７２、旭カ−ボン社製 ＃
８０、＃６０，＃５５、＃５０、＃３５、三菱化成工業
社製 ＃２４００Ｂ、＃２３００、＃９００，＃１００
０＃３０，＃４０、＃１０Ｂ、コンロンビアカ−ボン社
製 ＣＯＮＤＵＣＴＥＸＳＣ、ＲＡＶＥＮ１５０、５
０，４０，１５などがあげられる。

【００２４】カ−ボンブラックを分散剤などで表面処理
したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部
をグラファイト化したものを使用してもかまわない。ま
た、カ−ボンブラックを磁性塗料に添加する前にあらか
じめ結合剤で分散してもかまわない。これらのカ−ボン
ブラックは単独、または組合せで使用することができ
る。カ−ボンブラックを使用する場合は強磁性粉末に対
する量の０．１〜３０重量％で用いることが好ましい。
カ−ボンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦係数低減、
遮光性付与、膜強度向上などの働きがあり、これらは用
いるカ−ボンブラックにより異なる。従って本発明に使
用されるこれらのカ−ボンブラックは最上層磁性層、下
層非磁性層でその種類、量、組合せを変え、粒子サイ
ズ、吸油量、電導度、ｐＨなどの先に示した諸特性をも
とに目的に応じて使い分けることはもちろん可能であ
る。本発明の磁性層で使用できるカ−ボンブラックは例
えば「カ−ボンブラック便覧」カ−ボンブラック協会編
を参考にすることができる。

【００２５】本発明の非磁性層に使用されるカーボンブ
ラックとしては、ゴム用ファ−ネス、ゴム用サ−マル、
カラ−用ブラック、アセチレンブラック、等を用いるこ
とができる。比表面積は１００〜５００ｍ²／ｇ、好ま
しくは１５０〜４００m²/g、ＤＢＰ吸油量は２０〜４０
０ｍｌ／１００ｇ、好ましくは３０〜２００ml/100gで
ある。粒子径は５ｍμ〜８０ｍμ、好ましく１０〜５０
ｍμ、さらに好ましくは１０〜４０ｍμである。ｐＨは
２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は０．
１〜１ｇ／ｍｌが好ましい。本発明に用いられるカ−ボ
ンブラックの具体的な例としてはキャボット社製 ＢＬ
ＡＣＫＰＥＡＲＬＳ２０００、１３００、１０００、９
００、８００，８８０，７００、ＶＵＬＣＡＮＸＣ−７
２、三菱化成工業社製 ＃３０５０Ｂ，３１５０Ｂ，３
２５０Ｂ、＃３７５０Ｂ、＃３９５０Ｂ、＃９５０、＃
６５０Ｂ，＃９７０Ｂ、＃８５０Ｂ、ＭＡ−６００、コ
ンロンビアカ−ボン社製 ＣＯＮＤＵＣＴＥＸＳＣ、Ｒ
ＡＶＥＮ 8800,8000,7000,5750,5250,3500,2100,2000,1
800,1500,1255,1250、アクゾー社製 ケッチェンブラッ
クECなどがあげられる。

【００２６】カ−ボンブラックを分散剤などで表面処理
したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部
をグラファイト化したものを使用してもかまわない。ま
た、カ−ボンブラックを塗料に添加する前にあらかじめ
結合剤で分散してもかまわない。これらのカーボンブラ
ックは上記非磁性粉末に対して５０重量％を越えない範
囲、非磁性層総重量の４０％を越えない範囲で使用でき
る。これらのカ−ボンブラックは単独、または組合せで
使用することができる。本発明で使用できるカ−ボンブ
ラックは例えば「カ−ボンブラック便覧」カ−ボンブラ
ック協会編」を参考にすることができる。

【００２７】［研磨剤］本発明に於いて使用される研磨
剤としては、α化率９０％以上のα−アルミナ、β−ア
ルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−
酸化鉄、コランダム、人造ダイアモンド、窒化珪素、炭
化珪素、チタンカ−バイト、酸化チタン、二酸化珪素、
窒化ホウ素等主としてモ−ス硬度６以上の公知の材料が
単独または組合せで使用される。また、これらの研磨剤
どうしの複合体（研磨剤を他の研磨剤で表面処理したも
の）を使用してもよい。これらの研磨剤には主成分以外
の化合物または元素が含まれる場合もあるが主成分が９
０重量％以上であれば効果にかわりはない。これら研磨
剤の粒子サイズは０．０１〜２μｍが好ましいが、必要
に応じて粒子サイズの異なる研磨剤を組み合わせたり、
単独の研磨剤でも粒径分布を広くして同様の効果をもた
せることもできる。タップ密度は０．３〜２ｇ／ｍｌ、
含水率は０．１〜５重量％、ｐＨは２〜１１、比表面積
は１〜３０ｍ ² ／ｇが好ましい。本発明に用いられる研
磨剤の形状は針状、球状、サイコロ状、のいずれでも良
いが、形状の一部に角を有するものが研磨性が高く好ま
しい。本発明に用いられる研磨剤の具体的な例として
は、住友化学社製 ＡＫＰ−２０，ＡＫＰ−３０，ＡＫ
Ｐ−５０、ＨＩＴ−５０、HIT-100 、日本化学工業社製
Ｇ５，Ｇ７，Ｓ−１、戸田工業社製 ＴＦ−１００，Ｔ
Ｆ−１４０などがあげられる。本発明に用いられる研磨
剤は、磁性層（上下層）、非磁性層で種類、量および組
合せを変え、目的に応じて使い分けることはもちろん可
能である。これらの研磨剤はあらかじめ結合剤で分散処
理したのち磁性塗料中に添加してもかまわない。本発明
の磁気記録媒体の磁性層表面および磁性層端面に存在す
る研磨剤は５個／１００μｍ² 以上が好ましい。

【００２８】［その他添加剤］本発明に於いて、磁性層
（最上層、下層）及び非磁性層に使用されるその他添加
剤としては、潤滑効果、帯電防止効果、分散効果、可塑
効果等をもつものが使用される。二硫化モリブデン、二
硫化タングステングラファイト、窒化ホウ素、フッ化黒
鉛、シリコ−ンオイル、極性基をもつシリコ−ン、脂肪
酸変性シリコ−ン、フッ素含有シリコ−ン、フッ素含有
アルコ−ル、フッ素含有エステル、ポリオレフィン、ポ
リグリコ−ル、アルキル燐酸エステルおよびそのアルカ
リ金属塩、、アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ
金属塩、ポリフェニルエ−テル、フッ素含有アルキル硫
酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、炭素数１０〜２
４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐
していてもかまわない）、および、これらの金属塩（Ｌ
ｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｕなど）または、炭素数１２〜２２の
一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコ−ル、（不
飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわな
い）、炭素数１２〜２２のアルコキシアルコ−ル、炭素
数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んで
も、また分岐していてもかまわない）と炭素数２〜１２
の一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコ−ルのい
ずれか一つ（不飽和結合を含んでも、また分岐していて
もかまわない）とからなるモノ脂肪酸エステルまたはジ
脂肪酸エステルまたはトリ脂肪酸エステル、アルキレン
オキシド重合物のモノアルキルエ−テルの脂肪酸エステ
ル、炭素数８〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の
脂肪族アミン等が使用できる。

【００２９】これらの具体例としてはラウリン酸、ミリ
スチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、ス
テアリン酸ブチル、オレイン酸、リノ−ル酸、リノレン
酸、エライジン酸、ステアリン酸オクチル、ステアリン
酸アミル、ステアリン酸イソオクチル、ミリスチン酸オ
クチル、ステアリン酸ブトキシエチル、アンヒドロソル
ビタンモノステアレ−ト、アンヒドロソルビタンジステ
アレ−ト、アンヒドロソルビタントリステアレ−ト、オ
レイルアルコ−ル、ラウリルアルコ−ルがあげられる。
また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリシ
ド−ル系、アルキルフェノ−ルエチレンオキサイド付加
体等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステルアミ
ド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導体、複
素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類等のカチオ
ン系界面活性剤、カルボン酸、スルフォン酸、燐酸、硫
酸エステル基、燐酸エステル基等の酸性基を含むアニオ
ン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミ
ノアルコ−ルの硫酸または燐酸エステル類、アルキルベ
ダイン型等の両性界面活性剤等も使用できる。

【００３０】これらの界面活性剤については、「界面活
性剤便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載され
ている。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも１０
０％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副
反応物、分解物、酸化物等の不純分がふくまれてもかま
わない。これらの不純分は３０％以下が好ましく、さら
に好ましくは１０％以下である。

【００３１】本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面
活性剤は非磁性層、磁性層でその種類、量を必要に応じ
使い分けることができる。例えば、非磁性層、磁性層で
融点の異なる脂肪酸を用い表面へのにじみ出しを制御す
る、沸点や極性の異なるエステル類を用い表面へのにじ
み出しを制御する、界面活性剤量を調節することで塗布
の安定性を向上させる、潤滑剤の添加量を非磁性層で多
くして潤滑効果を向上させるなど考えられ、無論ここに
示した例のみに限られるものではない。また本発明で用
いられる添加剤のすべてまたはその一部は、磁性塗料製
造のどの工程で添加してもかまわない。例えば、混練工
程前に強磁性粉末と混合する場合、強磁性粉末と結合剤
と溶剤による混練工程で添加する場合、分散工程で添加
する場合、分散後に添加する場合、塗布直前に添加する
場合などがある。また、目的に応じて磁性層を塗布した
後、同時または逐次塗布で、添加剤の一部または全部を
塗布することにより目的が達成される場合がある。ま
た、目的によってはカレンダーした後、またはスリット
終了後、磁性層表面に潤滑剤を塗布することもできる。

【００３２】本発明で使用されるこれら潤滑剤の商品例
としては、日本油脂社製 ＮＡＡ−１０２，ＮＡＡ−４
１５，ＮＡＡ−３１２，ＮＡＡ−１６０，ＮＡＡ−１８
０，ＮＡＡ−１７４，ＮＡＡ−１７５，ＮＡＡ−２２
２，ＮＡＡ−３４，ＮＡＡ−３５，ＮＡＡ−１７１，Ｎ
ＡＡ−１２２、ＮＡＡ−１４２、ＮＡＡ−１６０、ＮＡ
Ａ−１７３Ｋ，ヒマシ硬化脂肪酸、ＮＡＡ−４２，ＮＡ
Ａ−４４、カチオンＳＡ、カチオンＭＡ、カチオンＡ
Ｂ，カチオンＢＢ，ナイミ−ンＬ−２０１，ナイミ−ン
Ｌ−２０２，ナイミ−ンＳ−２０２，ノニオンＥ−２０
８，ノニオンＰ−２０８，ノニオンＳ−２０７，ノニオ
ンＫ−２０４，ノニオンＮＳ−２０２，ノニオンＮＳ−
２１０，ノニオンＨＳ−２０６，ノニオンＬ−２，ノニ
オンＳ−２，ノニオンＳ−４，ノニオンＯ−２、ノニオ
ンＬＰ−２０Ｒ，ノニオンＰＰ−４０Ｒ，ノニオンＳＰ
−６０Ｒ、ノニオンＯＰ−８０Ｒ、ノニオンＯＰ−８５
Ｒ，ノニオンＬＴ−２２１，ノニオンＳＴ−２２１，ノ
ニオンＯＴ−２２１，モノグリＭＢ，ノニオンＤＳ−６
０，アノンＢＦ，アノンＬＧ，ブチルステアレ−ト、ブ
チルラウレ−ト、エルカ酸、関東化学社製 オレイン
酸、竹本油脂社製 ＦＡＬ−２０５、ＦＡＬ−１２３、
新日本理化社製 エヌジェルブＬＯ、エヌジョルブＩＰ
Ｍ，サンソサイザ−Ｅ４０３０，、信越化学社製 ＴＡ
−３、ＫＦ−９６、ＫＦ−９６Ｌ、ＫＦ９６Ｈ、ＫＦ４
１０，ＫＦ４２０、ＫＦ９６５，ＫＦ５４，ＫＦ５０，
ＫＦ５６，ＫＦ９０７，ＫＦ８５１，Ｘ−２２−８１
９，Ｘ−２２−８２２，ＫＦ９０５，ＫＦ７００，ＫＦ
３９３，ＫＦ−８５７，ＫＦ−８６０，ＫＦ−８６５，
Ｘ−２２−９８０，ＫＦ−１０１，ＫＦ−１０２，ＫＦ
−１０３，Ｘ−２２−３７１０，Ｘ−２２−３７１５，
ＫＦ−９１０，ＫＦ−３９３５，ライオンア−マ−社製
ア−マイドＰ、ア−マイドＣ，ア−モスリップＣＰ、
ライオン油脂社製 デユオミンＴＤＯ、日清製油社製
ＢＡ−４１Ｇ、三洋化成社製 プロファン２０１２Ｅ、
ニュ−ポ−ルＰＥ６１、イオネットＭＳ−４００，イオ
ネットＭＯ−２００イオネットＤＬ−２００，イオネッ
トＤＳ−３００、イオネットＤＳ−１０００イオネット
ＤＯ−２００などがあげられる。

【００３３】［有機溶媒］本発明に於いて、磁性層（最
上層、下層）及び非磁性層形成用塗布液には、任意の比
率で、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イ
ソホロン、テトラヒドロフラン等のケトン類、メタノ−
ル、エタノ−ル、プロパノ−ル、ブタノ−ル、イソブチ
ルアルコ−ル、イソプロピルアルコール、メチルシクロ
ヘキサノール等のアルコ−ル類、酢酸メチル、酢酸ブチ
ル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチル、
酢酸グリコ−ル等のエステル類、グリコ−ルジメチルエ
ーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサン等
のグリコールエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、クレゾール、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素
類、メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化
炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロ
ルベンゼン等の塩素化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド、ヘキサン等の有機溶媒を使用することがで
きる。これら有機溶媒は必ずしも１００％純粋ではな
く、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解
物、酸化物、水分等の不純分がふくまれてもかまわな
い。これらの不純分は３０％以下が好ましく、さらに好
ましくは１０％以下である。本発明で用いる有機溶媒は
磁性層（最上層、下層）と非磁性層でその種類は同じで
あることが好ましい。その添加量は変えてもかまわな
い。非磁性層に表面張力の高い溶媒（シクロヘキサノ
ン、ジオキサンなど）を用い塗布の安定性をあげる、具
体的には最上層溶剤組成の算術平均値が下層溶剤組成の
算術平均値を下回らないことが肝要である。分散性を向
上させるためにはある程度極性が強い方が好ましく、溶
剤組成の内、誘電率が１５以上の溶剤が５０％以上含ま
れることが好ましい。また、溶解パラメ−タは８〜１１
であることが好ましい。

【００３４】［厚み構成］本発明の磁気記録媒体の厚み
構成は、非磁性可撓性支持体が１〜１００μｍ、好まし
くは４〜８０μｍ、磁性層と非磁性層を合わせた厚みは
非磁性可撓性支持体の厚みの１／１００〜２倍の範囲で
用いられる。また、非磁性可撓性支持体と非磁性層の間
に密着性向上のためのの下塗り層を設けてもかまわな
い。下塗層厚みは０．０１〜２μｍ、好まししくは０．
０２〜０．５μｍである。また、非磁性支持体の磁性層
側と反対側にバックコ−ト層を設けてもかまわない。こ
の厚みは０．１〜２μｍ、好ましくは０．３〜１．０μ
ｍである。これらの下塗層、バックコ−ト層は公知のも
のが使用できる。

【００３５】［支持体］本発明に用いられる支持体は、
磁気記録媒体に使用できる支持体であればいずれも使用
することができる。支持体は、磁性層を支持する関係
で、非磁性のものであることが好ましい。磁気記録媒体
がテープの場合には、可撓性のものである必要があるの
で、通常非磁性可撓性支持体が使用される。本発明の記
録方式では実際上磁気テープの形態で行われるから、実
際には非磁性可撓性支持体が使用される。本発明に用い
られる非磁性可撓性支持体はポリエチレンテレフタレ−
ト、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル類、ポ
リオレフィン類、セルロ−ストリアセテ−ト、ポリカ−
ボネ−ト、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミ
ド、ポリスルフォン、アラミド、芳香族ポリアミドなど
の公知のフィルムが使用できる。

【００３６】これらの支持体にはあらかじめコロナ放電
処理、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理、
などをおこなっても良い。本発明の目的を達成するに
は、非磁性可撓性支持体として中心線平均表面粗さ（カ
ットオフ値０．２５ｍｍ）が０．０３μｍ以下、好まし
くは０．０２μｍ以下、さらに好ましくは０．０１μｍ
以下のものを使用する必要がある。また、これらの非磁
性支持体は単に中心線平均表面粗さが小さいだけではな
く、１μｍ以上の粗大突起がないことが好ましい。また
表面の粗さ形状は必要に応じて支持体に添加されるフィ
ラ−の大きさと量により自由にコントロ−ルされるもの
である。これらのフィラ−としては一例としてはＣａ，
Ｓｉ、Ｔｉなどの酸化物や炭酸塩の他、アクリル系など
の有機微粉末があげられる。本発明に用いられる非磁性
支持体のテ−プ走行方向のＦ−５値は好ましくは５〜５
０ｋｇ／ｍｍ² 、テ−プ幅方向のＦ−５値は好ましくは
３〜３０ｋｇ／ｍｍ² であり、テ−プ長い手方向のＦ−
５値がテ−プ幅方向のＦ−５値より高いのが一般的であ
るが、特に幅方向の強度を高くする必要があるときはそ
の限りでない。

【００３７】また、支持体のテ−プ走行方向および幅方
向の１００℃、３０分での熱収縮率は好ましくは３％以
下、さらに好ましくは１．５％以下、８０℃、３０分で
の熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに好ましくは
０．５％以下である。破断強度は両方向とも５〜１００
ｋｇ／ｍｍ² 、弾性率は１００〜２０００ｋｇ／ｍ
ｍ²、が好ましい。

【００３８】［塗布液製造工程］本発明の磁気記録媒体
の磁性層（最上層、下層）形成用塗布液及び非磁性層形
成用塗布液を製造する工程は、少なくとも混練工程、分
散工程、およびこれらの工程の前後に必要に応じて設け
た混合工程からなる。個々の工程はそれぞれ２段階以上
にわかれていてもかまわない。本発明に使用する強磁性
粉末、非磁性粉末、結合剤、カ−ボンブラック、研磨
剤、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤などすべての原料はどの
工程の最初または途中で添加してもかまわない。また、
個々の原料を２つ以上の工程で分割して添加してもかま
わない。例えば、ポリウレタン樹脂を混練工程、分散工
程、分散後の粘度調整のための混合工程で分割して投入
してもよい。

【００３９】本発明の目的を達成するためには、従来の
公知の製造技術を工程の一部としてを用いることができ
ることはもちろんであるが、混練工程では連続ニ−ダや
加圧ニ−ダなど強い混練力をもつものを使用することに
より、本発明の磁気記録媒体の高い残留磁束密度（Ｂ
ｒ）を得ることができる。連続ニ−ダまたは加圧ニ−ダ
を用いる場合は強磁性粉末と結合剤のすべてまたはその
一部（ただし全結合剤の３０％以上が好ましい）および
強磁性粉末１００重量部に対し１５〜５００重量部の範
囲で混練処理される。これらの混練処理の詳細について
は特開平１−１０６３３８号公報、特開昭６４−７９２
７４号公報に記載されている。また、非磁性層形成用塗
布液を調整する場合には高比重の分散メディアを用いる
ことが望ましく、ジルコニアビーズが好適である。

【００４０】［塗布装置及び塗布方法］本発明のような
重層構成の磁気記録媒体を塗布する装置、方法の例とし
て以下のような構成を提案できる。 １，磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗
布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗
布装置等により、まず下層を塗布し、下層がウェット状
態のうちに特公平1-46186 号公報や特開昭60-238179 号
公報，特開平2-265672号公報に開示されている支持体加
圧型エクストルージョン塗布装置により上層を塗布す
る。 ２，特開昭63-88080号公報、特開平2-17971 号公報，特
開平2-265672号公報に開示されているような塗布液通液
スリットを二つ内蔵する一つの塗布ヘッドにより上下層
をほぼ同時に塗布する。 ３，特開平2-174965号公報に開示されているバックアッ
プロール付きエクストルージョン塗布装置により上下層
をほぼ同時に塗布する。

【００４１】なお、磁性粒子の凝集による磁気記録媒体
の電磁変換特性等の低下を防止するため、特開昭62-951
74号公報や特開平1-236968号公報に開示されているよう
な方法により塗布ヘッド内部の塗布液にせん断を付与す
ることが望ましい。さらに、塗布液の粘度については、
特開平3-8471号公報に開示されている数値範囲を満足す
る必要がある。本発明の磁気記録媒体を得るためには強
力な配向を行う必要がある。１０００Ｇ以上のソレノイ
ドと２０００Ｇ以上のコバルト磁石を同極対向で併用す
ることが好ましく、さらには乾燥後の配向性が最も高く
なるように配向前に予め適度の乾燥工程を設けることが
好ましい。また、ディスク媒体として本発明を適用する
場合はむしろ配向をランダマイズするような配向法が必
要である。また、最上層磁性層と下層磁性層の配向方向
を変更するために配向する方向は必ずしも長手方向で面
内方向である必要はなく、垂直方向、幅方向にも配向で
きる。

【００４２】さらに、カレンダ処理ロ−ルとしてエポキ
シ、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐
熱性のあるプラスチックロ−ルを使用する。また、金属
ロ−ル同志で処理することも出来る。処理温度は、好ま
しくは７０℃以上、さらに好ましくは８０℃以上であ
る。線圧力は好ましくは２００ｋｇ／ｃｍ、さらに好ま
しくは３００ｋｇ／ｃｍ以上である。本発明の磁気記録
媒体の磁性層面およびその反対面のＳＵＳ４２０Ｊに対
する摩擦係数は好ましくは０．５以下、さらに０．３以
下、表面固有抵抗は好ましくは１０⁴ 〜１０¹²オ−ム／
ｓｑ、磁性層の０．５％伸びでの弾性率は走行方向、幅
方向とも好ましくは１００〜２０００ｋｇ／ｍｍ² 、破
断強度は好ましくは１〜３０ｋｇ／ｃｍ² 、磁気記録媒
体の弾性率は走行方向、長い方向とも好ましくは１００
〜１５００ｋｇ／ｍｍ² 、残留のびは好ましくは０．５
％以下、１００℃以下のあらゆる温度での熱収縮率は好
ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下、も
っとも好ましくは０．１％以下である。磁性層のガラス
転移温度(110Hzで測定した動的粘弾性測定の損失弾性率
の極大点) は５０℃以上１２０℃以下が好ましく、非磁
性層のそれは０℃〜１００℃が好ましい。損失弾性率は
１×１０⁸ 〜８×１０⁹ dyne/cm ² の範囲にあることが
好ましく、損失正接は０．２以下であることが好まし
い。損失正接が大きすぎると粘着故障が出やすい。

【００４３】磁性層中に含まれる残留溶媒は好ましくは
１００ｍｇ／ｍ² 以下、さらに好ましくは１０ｍｇ／ｍ
² 以下であり、第二層に含まれる残留溶媒が第一層に含
まれる残留溶媒より少ないほうが好ましい。空隙率は非
磁性層、磁性層とも好ましくは３０容量％以下、さらに
好ましくは２０容量％以下である。空隙率は高出力を果
たすためには小さい方が好ましいが、目的によってはあ
る値を確保した方が良い場合がある。例えば、繰り返し
用途が重視されるデータ記録用磁気記録媒体では空隙率
が大きい方が走行耐久性は好ましいことが多い。本発明
の磁気記録媒体の磁気特性は磁場５ＫＯｅで測定した場
合、テ−プ走行方向の角形比は０．７０以上であり、好
ましくは０．８０以上さらに好ましくは０．９０以上で
ある。テ−プ走行方向に直角な二つの方向の角型比は走
行方向の角型比の８０％以下となることが好ましい。磁
性層のＳＦＤ（Swiching Field Distribution ）は０．
６以下であることが好ましい。磁性層の中心線表面粗さ
（カットオフ値０．２５ｍｍ）Ｒａは１ｎｍ〜１０ｎｍ
が好ましいが、その値は目的により適宜設定されるべき
である。電磁変換特性を良好にする為にはＲａは小さい
ほど好ましいが、走行耐久性を良好にするためには逆に
大きいほど好ましい。ＡＦＭ（Atomic ForceMicro Scop
e）による評価で求めたＲＭＳ（２乗平均）表面粗さＲR
MS は２ｎｍ〜１５ｎｍの範囲にあることが好ましい。

【００４４】本発明の磁気記録媒体は上下磁性層と、必
要に応じて非磁性層を有するが、目的に応じ非磁性層と
磁性層でこれらの物理特性を変えることができる。例え
ば、磁性層の弾性率を高くし走行耐久性を向上させると
同時に非磁性層の弾性率を磁性層より低くして磁気記録
媒体のヘッドへの当りを良くするなどである。２層以上
の磁性層にそれぞれどのような物理特性をもたらすか
は、公知の磁性層重層に関する技術を参考にすることが
できる。

【００４５】

【実施例】次に、実施例によって本発明の詳細な内容を
具体的に説明する。実施例中「部」との表示は「質量
部」を意味する。

【００４６】 実施例１〜７及び比較例１ （１）最上層磁性層 強磁性金属微粉末 １００部 組成 Ｆｅ／Ｃｏ＝８０／２０原子％ Ｈｃ １９０ＫＡ／ｍ、ＢＥＴ法による比表面積 ５４ｍ² ／ｇ Ｙ；４．５質量％／Ｆｅ含有、Ａｌ；３．５質量％／Ｆｅ含有 平均長軸長 ０．０７μｍ、結晶子サイズ １２０Å （針状比 ５．８）、σｓ；１２０Ａｍ² ／ｋｇ 塩化ビニル系共重合体 １２部 日本ゼオン社製 ＭＲ−１１０ ポリエステルポリウレタン樹脂 ５部 ネオヘ゜ンチルク゛リコール / カフ゜ロラクトンホ゜リオール/MDI=0.9/2.6/1 -SO ₃ Na基 1 ×10^-4eq/g含有 α−アルミナ（粒子サイズ０．１８μｍ） ５部 カーボンブラック（粒子サイズ０．１０μｍ） ０．５部 ブチルステアレート １部 ステアリン酸 ２部 メチルエチルケトン ９０部 シクロヘキサノン ３０部 トルエン ６０部

【００４７】 （２）下層磁性層 強磁性金属微粉末 １００部 組成 Ｆｅ／Ｃｏ＝８０／２０原子％ Ｈｃ １９０ＫＡ／ｍ、ＢＥＴ法による比表面積 ５４ｍ² ／ｇ Ｙ；４．５重量％／Ｆｅ含有、Ａｌ；３．５重量％／Ｆｅ含有 平均長軸長 ０．１μｍ、結晶子サイズ １６０Å （針状比 ６．３）、σｓ；１４５Ａｍ² ／ｋｇ 塩化ビニル系共重合体 １２部 日本ゼオン社製 ＭＲ−１１０ ポリエステルポリウレタン樹脂 ５部 ネオヘ゜ンチルク゛リコール / カフ゜ロラクトンホ゜リオール/MDI=0.9/2.6/1 -SO ₃ Na基 1 ×10^-4eq/g含有 ブチルステアレート １部 ステアリン酸 ２部 メチルエチルケトン ９０部 シクロヘキサノン ３０部 トルエン ６０部

【００４８】 （３）非磁性層 非磁性粉末 α−Ｆｅ₂ Ｏ₃ ８０部 平均長軸長 ０．１μｍ ＢＥＴ法による比表面積 ４８ｍ² ／ｇ ＰＨ ８ Ｆｅ₂ Ｏ₃ 含有量 ９０％以上 ＤＢＰ吸油量 ２７〜３８ｍｌ／１００ｇ 表面処理剤 Ａｌ₂ Ｏ₃ カーボンブラック ２０部 平均一次粒子径 １６ｍμ ＤＢＰ吸油量 ８０ｍｌ／１００ｇ ＰＨ ８．０ ＢＥＴ法による比表面積 ２５０ｍ²／ｇ 揮発分 １．５％ 塩化ビニル系共重合体 １２部 日本ゼオン社製 ＭＲ−１１０ ポリエステルポリウレタン樹脂 ５部 ネオヘ゜ンチルク゛リコール / カフ゜ロラクトンホ゜リオール/MDI=0.9/2.6/1 -SO ₃ Na基 1 ×10^-4eq/g含有 ブチルステアレート １部 ステアリン酸 １部 メチルエチルケトン １００部 シクロヘキサノン ５０部 トルエン ５０部

【００４９】上記３つの配合のそれぞれについて、各成
分を連続ニーダで混練した後、サンドミルを用いて分散
させた。得られた非磁性層の分散液にはコロネートＬ
（商品名、日本ポリウレタン社製、ポリイソシアネー
ト）を１部、最上層磁性層及び下層磁性層の分散液には
コロネートＬを３部加え、さらにそれぞれにメチルエチ
ルケトン、シクロヘキサノン１：１混合溶媒４０部を加
え、１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過
し、非磁性層、最上層磁性層及び下層磁性層形成用塗布
液を得た。次いで、厚さ６μｍで中心線表面粗さ（カッ
トオフ値０．２５ｎｍ）が０．０１μｍのポリエチレン
テレフタレート支持体上に、得られた非磁性層形成用塗
布液を乾燥後の厚みが表１に示す厚みとなるように塗布
し、更にその直後にその上に下層磁性層形成用塗布液を
乾燥後の厚みが表１に示す厚みとなるように塗布し、ソ
レノイドとコバルト磁石とを同極対向で併用することに
よって磁化容易軸を長手方向に配向させ、乾燥させた
後、最上層磁性層形成用塗布液を乾燥後の厚みが表１に
示す厚みとなるように塗布し、ソレノイドとコバルト磁
石とを同極対向で併用することによって磁化容易軸を幅
方向に配向させ、乾燥させた。得られた塗布後のウェブ
を金属ロールで構成される７段のカレンダーで温度９０
℃にて処理を行い、１／２インチ幅に裁断し、テープを
製造した。

【００５０】具体的には、最上層磁性層については磁性
体Ｈｃと、下層磁性層については磁性体σｓ及び結合剤
総量（ただし各成分の比率は一定とする）を変更するこ
とにより、実施例１〜７及び比較例１の試料のテープを
製造した。これらの中、実施例２は、最上層磁性層のＨ
ｃが３００ｋＡ／ｍと最大値３１６ｋＡ／ｍに近い値を
有するものである。実施例３は、下層磁性層にσｓが１
５０Ａｍ² ／ｋｇの磁性体を用いてＢｒを大きくし、か
つ最上層磁性層の厚みが０．４μｍと大きいものであ
る。実施例４は、下層磁性層にσｓが１２５Ａｍ² ／ｋ
ｇの磁性体を用いてＢｒを小さくしたものである。実施
例５は、最上層磁性層の厚みが０．０３μｍと小さく
し、下層磁性層のＢｒを小さくしたものであり、実施例
６は、最上層磁性層の厚みが０．６μｍと大きくし、下
層磁性層のＢｒを大きくしたものであり、実施例７は、
非磁性下層がないものである。また、比較例１は最上層
磁性層及び下層磁性層の磁化容易軸の配向方向がいずれ
も長手方向とした従来例のものであり、記録再生に当た
ってはサーボ信号、データー信号ともに長手方向に行っ
たものである。

【００５１】［評価方法］ （１）Ｈｃ 最上層磁性層及び下層磁性層形成用塗布液をそれぞれ単
層に塗布したサンプルを作成し、振動資料型磁束計（東
英工業社製）を用い、Ｈｍ ７９０ＫＡ／ｍ（１０ｋＯ
ｅ）を磁化容易軸方向に印加し測定した。

【００５２】（２）データー信号Ｃ／Ｎ比及びサーボ誤
り率 サーボ信号は、Ｂｓが１．７Ｔ、ギャップ長が０．５μ
ｍ、トラック幅が８０μｍの薄膜ヘッドを用いて記録波
長が１０μｍの信号を表１に示す方向に記録した。サー
ボ信号の再生には、素子厚が２０ｎｍ、シールドギャッ
プが０．４μｍ、トラック幅が５０μｍのシールド型Ｍ
Ｒヘッドを用いた。データー信号は、Ｂｓが１．２Ｔ、
キャップ長が０．２５μｍ、トラック幅が１０μｍのＭ
ＩＧヘッドを搭載した回転ドラムを用い、テープ／ヘッ
ド相対速度１０ｍ／秒で記録波長０．５μｍの信号を表
１に示す方向に記録した。データー信号の再生は、素子
厚が２０ｎｍ、シールドギャップが０．３μｍ、トラッ
ク幅が１０μｍのシールド型ＭＲヘッドを同様の回転ド
ラムに装着して行った。

【００５３】０．５μｍのデーター信号のＣ／Ｎをシバ
ソク製スペクトラムアナライザーを用いて測定した。サ
ーボ信号については誤りを測定した。その結果を示す
と、表１の通りである。

【００５４】

【表１】

【００５５】表１によれば、実施例１は高いデーター信
号のＣ／Ｎ比と、低いサーボ信号の誤り率の両立を達成
している。実施例１〜４は、いずれもデーター信号のＣ
／Ｎ比と、サーボ信号の誤り率が特に優れている。実施
例５〜７は、いずれも本発明の効果を奏しており、比較
例と比べると十分良好な特性を示すが、前記した実施例
１〜４よりは劣る。表１から明らかなように、本発明に
係わる磁気記録媒体は、データー信号のＣ／Ｎ比を高く
することができるとともにサーボ信号の誤り率を低くす
ることができる。

【００５６】

【発明の効果】本発明に係わる磁気記録媒体は、高精度
なサーボライトと、より高い記録密度とを両立させるこ
とができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 杉崎 力 神奈川県小田原市扇町２丁目12番１号 富 士写真フイルム株式会社内 Ｆターム(参考） 5D006 BA19 BA20 CA04 FA00 5D042 FA05 GA01

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持体上に２層以上の磁性層が設けられ
   た磁気記録媒体に於いて、最上層磁性層の磁化容易軸と
   下層磁性層の磁化容易軸とが互いに直交する方向に配向
   されていることを特徴とする磁気記録媒体。
2. 【請求項２】 最上層磁性層の磁化容易軸が幅方向に配
   向され、且つ下層磁性層の磁化容易軸が長手方向に配向
   されていることを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒
   体。
3. 【請求項３】 最上層磁性層の厚みが該最上層磁性層に
   記録される情報信号の最短記録波長の１／１０〜１倍で
   あり、最上層磁性層の抗磁力Ｈｃが１５８ＫＡ／ｍ〜３
   １６ＫＡ／ｍであり、且つ下層磁性層の残留磁束密度Ｂ
   ｒが２５００〜５０００Ｇであることを特徴とする請求
   項１又は請求項２記載の磁気記録媒体。
4. 【請求項４】 前記２層以上の磁性層の下に非磁性粉末
   を含む非磁性層が設けられていることを特徴とする請求
   項１〜３のいずれか１項記載の磁気記録媒体。
5. 【請求項５】 請求項１〜４のいずれか１項記載の磁気
   記録媒体の最上層磁性層に幅方向に情報信号を記録し、
   且つ下層磁性層に長手方向にサーボ信号を記録すること
   を特徴とする信号記録方式。