JP2002175615A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 電磁変換特性が良好な磁気記録媒体を提供す
ることであり、出力が高く、摩擦係数が低く走行性に優
れた磁気記録媒体を提供すること。 【解決手段】 支持体上の強磁性粉末と結合剤を含む磁
性層を少なくとも有する塗布層を設けてなる磁気記録媒
体において、塗布層の細孔表面積が塗布層の質量当たり
５〜２５ｍ²／ｇであることを特徴とする磁気記録媒
体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は磁気記録媒体、特に
デジタル信号を高密度で記録再生する磁気記録媒体に関
するものである。

【０００２】

【従来の技術】磁気記録媒体は、録音用テープ、ビデオ
テープ、コンピューターテープ、ディスク等として広く
用いられている。磁気記録媒体は年々高密度化され記録
波長が短くなっており、記録方式もアナログ方式からデ
ジタル方式まで検討されている。

【０００３】塗布型磁気記録媒体としては、強磁性酸化
鉄、Ｃｏ変性強磁性酸化鉄、ＣｒＯ ₂、強磁性金属（合
金を含む）等の強磁性粉末を結合剤中に分散した磁性層
を支持体に塗設したものが広く用いられる。

【０００４】塗布型磁気記録媒体の電磁変換特性の向上
には、強磁性粉末の磁気特性の改良、表面の平滑化など
がある。平滑な表面を得るためにはカレンダー処理で非
磁性下層、磁性層に含まれる細孔をつぶし成形する事が
有効な方法である。磁気記録媒体には走行性も重要であ
る。走行性に対しては表面の摩擦係数を下げる事が好ま
しい。摩擦係数を下げるために潤滑剤が添加されてお
り、潤滑剤は非磁性下層、磁性層に含まれる細孔を通し
て磁性層表面に供給される。従って細孔径を制御する事
は重要であり、磁性層表面の細孔径を制御する事が提案
されている（特開昭６２−１３７７１８，特開平１０−
３０２２４５）。また、磁性層の細孔分布を制御する事
も提案されている（特開平８−８７７３９，特開平９−
２１２８４７）。また、特開平８−２４９６４９号公報
には下層と磁性層の空隙率比を０．７５〜１．２５と
し、かつ下層における空隙に潤滑剤が占める割合を３５
〜８５％に特定した発明を開示している。

【０００５】特開平８−８７７３９号公報は、ｎ−ドデ
カンの結晶化時の吸熱カーブから細孔分布を求める方法
を開示しているが、この方法は予めｎ−ヘキサンでサン
プルを処理する必要があるため、ｎ−ヘキサンで潤滑
剤、遊離のバインダーを抽出する事から、これらに埋め
られた小さな細孔が測定される事になり、実際の細孔分
布より細孔径が小さい側にずれてしまうという問題があ
る。特開平９−２１２８４７号公報では、水銀圧入式細
孔分布測定装置を用いて細孔分布を求めているが、細孔
が微細になると細孔をつぶしながら測定する事になり、
実際の細孔分布より細孔径が小さい側にずれてしまうと
いう問題がある。また、特開平１０−３０２２４５号公
報は、窒素吸着法により磁性層表面に存在する細孔分布
のピーク値を求めているが、磁気記録媒体の塗布層全体
における細孔分布の情報は得ていない。このことについ
ては特開平９−２１２８４７号公報も同様であり、特開
平８−８７７３９号公報においては、磁性層を対象とし
ているが、その正確な値は求められない。特開平８−２
４９６４９号公報の方法も潤滑剤を用いて測定しなけれ
ばならず、測定が煩雑であるという問題もある。即ち、
塗布型磁気記録媒体においては、塗布層全体が潤滑剤の
供給源になっている事から、平滑な表面を持ち、かつ摩
擦係数が低い媒体を得るためには、磁性層表面および塗
布層全体の細孔分布の正確な情報が要望されている。ま
た、従来技術では、細孔表面積という概念を用いて塗布
層の細孔の態様を特定して磁気記録媒体を改善しようと
する発明は開示がない。即ち、電磁変換特性が優れかつ
摩擦係数が低く走行性に優れた磁気記録媒体を得るため
の塗布層における細孔表面積の最適な範囲を決定し得な
かった。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は電磁変換特性
が良好な磁気記録媒体を提供することであり、出力が高
く、摩擦係数が低く走行性に優れた磁気記録媒体を提供
することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、支持体
上の強磁性粉末と結合剤を含む磁性層を少なくとも有す
る塗布層を設けてなる磁気記録媒体において、塗布層の
細孔表面積が塗布層の質量当たり５〜２５ｍ²／ｇであ
ることを特徴とする磁気記録媒体より達成できた。

【０００８】

【発明の実施の形態】本発明において、磁性層を少なく
とも有する塗布層は支持体の片面に設けても良いし、両
面に設けても良い。従って、後者の場合は塗布層の細孔
表面積とは、その片側の塗布層の細孔表面積を指し、本
発明ではその両者が塗布層の質量当たり５〜２５ｍ²／
ｇに制御される。ここで細孔表面積とは、塗布層の表面
から内部に形成された細孔及び塗布層表面の表面積の総
和を意味する。本発明において、塗布層の細孔表面積
（以下、単に細孔表面積という）は、ＱＵＡＮＴＡ Ｃ
ＨＲＯＭＥ社製全自動ガス吸着量測定装置「ＡＵＴＯＳ
ＯＲＢ−１」を用いてＮ₂吸着法により得たものを言
う。尚、後述するバック層を設ける場合には、バック層
を溶剤にて脱膜したものを試料とする。

【０００９】細孔表面積が２５ｍ²／ｇを越えると表面
が平滑でなく十分な電磁変換特性が得られず、かつ摩擦
係数が高くなり走行耐久性が低下する。また、細孔表面
積が５ｍ²／ｇ未満では、表面が平滑でなく十分な電磁
変換特性が得られない。従って本発明の磁気記録媒体に
おいて、細孔表面積は５〜２５ｍ²／ｇである必要があ
り、好ましくは５〜２５ｍ²／ｇである。本発明では、
細孔表面積は製品と同じ状態の塗布層から得られる値で
ある。本発明の磁気記録媒体は、カレンダー処理を施し
たものでもそうでないものでよいが、それを施したもの
が好ましい。本発明において、細孔表面積が上記範囲で
上記効果を示す詳細なメカニズムは不明であるが、以下
のようなことと考えられる。塗布層に含まれている潤滑
剤は、塗布層の表面と内部の細孔を覆うように滲み出し
ている。従って、塗布層の表面の面積と細孔の表面積の
和、即ち、細孔表面積がなるべく小さい方が細孔表面積
の単位面積当たりの潤滑剤量が増えて摩擦係数を下げる
要因となっていると考えられる。また、塗布層の表面の
面積は、細孔の表面積に比べてきわめて小さいことか
ら、本発明の細孔表面積は細孔の表面積のみで代表する
ことができ、上記Ｎ₂吸着法によって測定することがで
きる。

【００１０】上記細孔表面積を得るための手段として
は、特に制限はないが、好ましくは次の手段が挙げられ
る。 １．塗布層に特定の結合剤を特定量使用する。 ２．塗布層に含有させる各種粉体のサイズ等を選定す
る。 ３．支持体上に塗布層を設けた後のカレンダー処理条件
を選定する。 上記手段の詳細は、後述されるが、これらは好ましくは
組み合わせて用いられる。

【００１１】本発明の塗布層の構成は、少なくとも磁性
層を最上層に有するものであれば特に制限はなく、任意
である。本発明の磁気記録媒体の磁性層の厚さは、例え
ば０．０５〜１μｍ、好ましくは０．０５〜０．５μ
ｍ、さらに好ましくは０．１〜０．３μｍにすることが
できる。また、磁性層と支持体の間に非磁性粉末と結合
剤を含む非磁性層（下層非磁性層ともいう）を設けた場
合、その非磁性層の厚さは、例えば０．５〜３μｍ、好
ましくは０．８〜３μｍにすることができる。非磁性層
の厚さは、磁性層よりも厚いのが好ましい。また、磁性
層を２層有する磁気記録媒体も好ましい。この場合は、
例えば上層を０．２〜２μｍ、好ましくは０．２〜１．
５μｍにし、下層を０．８〜３μｍにすることができ
る。なお、磁性層を単独で有する場合は、通常０．２〜
５μｍ、好ましくは０．５〜３μｍ、さらに好ましくは
０．５〜１．５μｍにする。また、支持体と磁性層の間
に軟磁性層を有する場合は、例えば磁性層を０．０５〜
１μｍ、好ましくは０．０５〜０．５μｍにし、軟磁性
層を０．８〜３μｍにすることができる。尚、支持体上
に特定の層、その上に磁性層を設けた多層構成の場合、
特定の層は単層でも多層構成でもよい。また、この特定
の層を総称する場合、単に下層と磁性層を上層ともい
う。

【００１２】液体潤滑剤の含有量は、下層には、磁性
体、非磁性無機粉末または軟磁性粉末１００質量部に対
して５〜１５質量部の範囲が好ましく、特に好ましくは
８〜１１質量部の範囲である。また、上層には、好まし
くは磁性体１００質量部に対して３〜１０質量部の範囲
である。

【００１３】本発明では、磁性層に平滑性が確保される
のであるが、磁性層表面の中心面平均表面粗さＲａは１
〜３ｎｍが好ましい。本発明の細孔表面積を得るための
磁性層に含まれる結合剤樹脂としてポリウレタン樹脂を
全結合剤樹脂の好ましくは５０〜１００質量％、更に好
ましくは７０〜１００質量％用い、かつ磁性層の強磁性
粉末に対して全結合剤樹脂量を好ましくは５〜３０質量
％、更に好ましくは５〜２０質量％とすることが挙げら
れる。

【００１４】上記ポリウレタン樹脂としては、ジオール
と有機ジイソシアネートを主要原料とした反応生成物で
あるポリウレタン樹脂からなり、ジオール成分として
は、環状構造を有する短鎖ジオール単位とエーテル基を
含む長鎖ジオール単位とを含むことが好ましい。そし
て、このポリウレタン樹脂は、環状構造を有する短鎖ジ
オール単位をポリウレタン樹脂中に１７〜４０質量％含
み、かつポリウレタン樹脂全体に対して、エーテル基を
１．０〜５．０ｍｍｏｌ／ｇを含む長鎖ジオール単位を
ポリウレタン樹脂中に１０〜５０質量％含む結合剤であ
ることが好ましい。

【００１５】環状構造を有する短鎖ジオールとは、飽和
又は不飽和の環状構造を有し、かつ分子量が５００未満
のジオールを意味する。例えば、ビスフェノールＡ、下
記の式１で示される水素化ビスフェノールＡ、ビスフェ
ノールＳ、ビスフェノールＰおよびこれらのエチレンオ
キシド、プロピレンオキシド付加物、シクロヘキサンジ
メタノール、シクロヘキサンジオール等の芳香族、脂環
族を有するジオールが好ましい。

【００１６】

【化１】

【００１７】さらに好ましくは、式１で示す水素化ビス
フェノールＡおよびそのエチレンオキシド、プロピレン
オキシド付加物が挙げられる。

【００１８】また、環状構造を有する短鎖ジオールは、
通常、分子量が５０〜５００未満のものから選ばれる。
また、前記環状構造を有する短鎖ジオールと共に、通
常、分子量５００未満の他のジオールを併用することが
できる。具体的には、エチレングリコール、１，３−プ
ロピレンジオール、１，２−プロピレングリコール、
１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、
１，６−ヘキサンジオール、２，２−ジメチルプロパン
ジオール、１，８−オクタンジオール、１，９−ノナン
ジオール、ジエチレングリコール、Ｎ−ジエタノールア
ミンのエチレンオキシドまたはプロピレンオキシド付加
物等の直鎖又は分枝のジオールを挙げることができる。

【００１９】これらを用いることによって、環状構造に
より高強度、高Ｔｇであって、高耐久性の塗布膜が得ら
れる。さらに分岐ＣＨ₃の導入により溶剤への溶解性に
優れるため高分散性が得られる。ポリウレタン樹脂中の
短鎖ジオール単位の含有量は、１７〜４０質量％が好ま
しく、さらに好ましくは２０〜３０質量％である。

【００２０】また、長鎖ジオールとは、分子量が５００
以上のジオールを意味し、具体的には、ビスフェノール
Ａ、水素化ビスフェノールＡ、ビスフェノールＳ又はビ
スフェノールＰにエチレンオキシド、プロピレンオキシ
ド又はこれらの両者を付加させたもの、ポリプロピレン
グリコール、ポリエチレングリコール、ポリテトラメチ
レングリコールが好ましく、とくに下記の式２で示され
る化合物が好ましい。

【００２１】

【化２】

【００２２】また、ｎおよびｍの値は、３〜２４が望ま
しい。また、長鎖ジオールにおいて、Ｒは、以下の、
が好ましく、

【００２３】

【化３】

【００２４】のものがより好ましい。また、式２の長
鎖ジオールにおいて、Ｘは、水素原子、またはメチル基
が好ましく、メチル基がより好ましい。なお、ｎ又はｍ
でくくられるカッコ内のＸはすべて同じである必要はな
く、水素原子とメチル基が混ざっていてもよい。本発明
の特に好ましい態様で使用されるポリウレタン樹脂は、
環状構造を有するので、塗膜強度が高く、耐久性に優
れ、プロピレンの分岐ＣＨ ₃を有するので、溶剤への溶
解性に富み分散性に優れる。

【００２５】長鎖ジオールの質量平均分子量（Ｍｗ）
は、通常、５００〜５０００であり、好ましくは７００
〜３０００の範囲から選ばれる。エーテル基を含む長鎖
ジオール単位の含有量は、ポリウレタン樹脂中１０〜５
０質量％であることが好ましく、さらに好ましくは３０
〜４０質量％である。該長鎖ジオール単位のエーテル基
の含有量は、ポリウレタン樹脂中に１．０〜５．０ｍｍ
ｏｌ／ｇであることが好ましく、より好ましくは２．０
〜４．０ｍｍｏｌ／ｇである。

【００２６】ポリウレタン樹脂の数平均分子量（Ｍｎ）
は、好ましくは、１８０００〜５６０００、更に好まし
くは２３０００〜３４０００であり、質量平均分子量
（Ｍｗ）は、好ましくは、３００００〜１０００００、
更に好ましくは４００００〜６００００である。

【００２７】ポリウレタン樹脂のガラス転移温度Ｔｇ
は、通常、０〜２００℃であり、好ましくは、３０〜１
５０℃、さらに好ましくは、３０〜１３０℃の範囲とさ
れる。

【００２８】上述したポリウレタン樹脂は、塩化ビニル
系樹脂等の合成樹脂を併用しても良い。併用することが
できる塩化ビニル系樹脂としては、その重合度は２００
〜６００が好ましく、２５０〜４５０が特に好ましい。
塩化ビニル系樹脂はビニル系モノマー、例えば酢酸ビニ
ル、ビニルアルコール、塩化ビニリデン、アクリロニト
リルなどを共重合させたものでもよい。また、ニトロセ
ルロース樹脂などのセルロース誘導体、アクリル樹脂、
ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチラール樹
脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂等を併用しても良
く、これらは、単独でも組み合わせでも使用することが
できる。

【００２９】尚、上記ポリウレタン樹脂は、塗布層全部
に配合することが好ましい。磁性層に強磁性粉末の表面
を改質する芳香族有機酸化合物を含有させ、含有量を強
磁性粉末１ｋｇに対して好ましくは０．１〜０．８ｍｏ
ｌ、更に好ましくは０．２〜０．５ｍｏｌとすることが
挙げられる。

【００３０】芳香族有機酸化合物は、少なくとも強磁性
粉末を含む各種粉体に強く吸着するものであって、ポリ
ウレタン樹脂との親和性が高いものが好ましい。従っ
て、芳香族有機酸化合物としては、なるべく解離定数の
大きな（強酸）が好ましく、ｐＫａ値が３以下の有機酸
もしくはその塩が適している。

【００３１】芳香族有機酸化合物は、遊離酸のほか、そ
の塩あるいはその誘導体、例えば、エステル等を含む概
念である。また、上記した粉体への吸着とは、物理吸着
の他、共有結合を含む化学吸着を包含する概念である。
ｐＫａ値が３以下の有機酸としては、α−ナフチルリン
酸、フェニルリン酸、ジフェニルリン酸、ｐ−エチルベ
ンゼンホスホン酸、フェニルホスホン酸、フェニルホス
フィン酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ
ートルエンスルホン酸、ナフタリン−α−スルホン酸、
ナフタリン−β−スルホン酸などもしくはそれらの塩が
ある。

【００３２】芳香族有機酸化合物の使用法としては、上
記特性が発揮できる態様であれば、特に制限はないが、
好ましくは、塗料調製において強磁性粉末と結合剤を混
練する時に同時に添加するか、あるいは強磁性粉末を結
合剤との混練の前に予め強磁性粉末に芳香族有機酸化合
物を表面処理することが挙げられる。このような芳香族
有機化合物は下層を設けた場合には、その下層にも含ま
せることが好ましく、非磁性無機粉末１ｋｇに対して、
通常、０．１〜０．５モル、好ましくは０．１〜０．３
５モルの範囲で用いられる。

【００３３】下層を設けた場合、本発明の細孔分布を得
るためには、下層の結合剤樹脂量（硬化剤も含む）を非
磁性無機粉体総量１００質量部に対して好ましくは２５
〜４０質量部、更に好ましくは２５〜３５質量部とする
ことが挙げられる。

【００３４】ここで、非磁性無機粉体としては、非磁性
無機粉末、カーボンブラック、研磨剤等を挙げることが
できる。

【００３５】また、下層の結合剤樹脂として、低分子の
塩化ビニル系樹脂、好ましくはゲルパーミエーションク
ロマトグラフィー（ＧＰＣ）による数平均分子量として
０．５万〜１．５万程度を用い、例えば、磁性層に上記
短鎖ジオールと長鎖ジオールからなるポリウレタン樹脂
のみを結合剤樹脂として使用するかあるいは該ポリウレ
タン樹脂を主体とした結合剤樹脂を使用し、かつ下層と
上層を同時重層塗布で設けると磁性層の表面付近に塩化
ビニル系樹脂を少量析出させることができる。これによ
り磁性層表層部のガラス転移点Ｔｇを適度に下げ、カレ
ンダー成形性を更に向上させることができるという効果
がある。この場合、下層にも短鎖ジオールと長鎖ジオー
ルからなるポリウレタン樹脂を併用することが好まし
く、下層の全結合剤樹脂（硬化剤を含む）に対して通
常、１０〜８０質量％、好ましくは１５〜６０質量％の
範囲で用いられる。

【００３６】但し、マイグレーションに関しては、ＧＰ
Ｃによる数平均分子量の測定で５，０００未満の分子量
成分寄与が大きいため、磁性層に塩化ビニル系樹脂を使
用する場合には下層の塩化ビニル系樹脂の使用量を低減
することにより当該マイグレーションを抑制すること
が、一段と効果的である。このような観点から、下層の
全結合剤樹脂に対する上記ポリウレタン樹脂の含有量は
２０質量％から１００質量％の範囲とするのが好まし
く、２０質量％から８０質量％の範囲が更に好ましい。

【００３７】また、非磁性層のある構成では、磁性層に
上記短鎖ジオールと長鎖ジオールからなるポリウレタン
樹脂を主体とした結合剤樹脂を用いると、磁性層の靱性
が確保され、かつ非磁性層に塑性が付与される結合剤樹
脂組成、例えば、上記ポリウレタン樹脂と、必要によ
り、極性基（例えばスルホ基、そのカリウム塩の基等）
を有する塩化ビニル系樹脂とを、ポリイソシアネート化
合物で硬化したものを用いることで、両層は塗膜として
押し込まれやすくなり、ヘッド等の接触時の接触点が増
加し、磁性層の応力集中が緩和され、スチルライフ等の
走行耐久性を向上させることができる。

【００３８】本発明に使用される強磁性粉末は、特に制
限はないが、強磁性金属粉末が好ましく、中でもＦｅま
たはＦｅを主成分とする合金が好ましい。これらの強磁
性金属粉末には所定の原子以外にＡｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、
Ｓ、Ｓｃ、Ｃａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒ
ｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、
Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎ
ｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂなどの原子
を含んでもかまわない。特に、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｃ
ａ、Ｙ、Ｂａ、Ｌａ、Ｎｄ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｂの少なくと
も１つがＦｅ以外に含まれるものが好ましい。

【００３９】これらの強磁性粉末にはあとで述べる分散
剤、潤滑剤、界面活性剤、帯電防止剤などで分散前にあ
らかじめ処理を行ってもかまわない。具体的には、特公
昭４４−１４０９０号、特公昭４５−１８３７２号、特
公昭４７−２２０６２号、特公昭４７−２２５１３号、
特公昭４６−２８４６６号、特公昭４６−３８７５５
号、特公昭４７−４２８６号、特公昭４７−１２４２２
号、特公昭４７−１７２８４号、特公昭４７−１８５０
９号、特公昭４７−１８５７３号、特公昭３９−１０３
０７号、特公昭４８−３９６３９号、米国特許３０２６
２１５号、同３０３１３４１号、同３１００１９４号、
同３２４２００５号、同３３８９０１４号などに記載さ
れている。

【００４０】強磁性金属粉末には少量の水酸化物、また
は酸化物を含んでもよい。強磁性金属粉末の公知の製造
方法により得られたものを用いることができ、下記の方
法を挙げることができる。複合有機酸塩（主としてシュ
ウ酸塩）と水素などの還元性気体で還元する方法、酸化
鉄を水素などの還元性気体で還元してＦｅあるいはＦｅ
−Ｃｏ粒子などを得る方法、金属カルボニル化合物を熱
分解する方法、強磁性金属の水溶液に水素化ホウ素ナト
リウム、次亜リン酸塩あるいはヒドラジンなどの還元剤
を添加して還元する方法、金属を低圧の不活性気体中で
蒸発させて微粉末を得る方法などである。このようにし
て得られた強磁性金属粉末は公知の徐酸化処理、すなわ
ち有機溶剤に浸漬したのち乾燥させる方法、有機溶剤に
浸漬したのち酸素含有ガスを送り込んで表面に酸化膜を
形成したのち乾燥させる方法、有機溶剤を用いず酸素ガ
スと不活性ガスの分圧を調整して表面に酸化皮膜を形成
する方法のいずれを施したものでも用いることができ
る。

【００４１】本発明の磁性層に使用される強磁性金属粉
末のＢＥＴ法による比表面積（Ｓ_{BE T}）は、好ましくは
３０〜５０ｍ²／ｇから選ばれる。これにより、良好な
表面性と低いノイズの両立が可能となる。本発明の細孔
表面積を得るためには強磁性粉末のサイズは、重要な因
子である。例えば、強磁性金属粉末の平均長軸長は、好
ましくは０．０３〜０．１２μｍ、更に好ましくは０．
０５〜０．１０μｍである。

【００４２】強磁性金属粉末の針状比｛長軸長／短軸長
（長軸に対して垂直方向の最大幅）｝は４〜１８が好ま
しく、更に好ましくは５〜１２である。強磁性金属粉末
の含水率は０．０１〜２％とするのが好ましい。結合剤
の種類によって強磁性金属粉末の含水率は最適化するの
が好ましい。

【００４３】強磁性金属粉末のｐＨは用いる結合剤との
組み合わせにより最適化することが好ましい。その範囲
は通常、４〜１２であるが、好ましくは７〜１０であ
る。強磁性金属粉末は必要に応じ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｐまた
はこれらの酸化物などを表面に存在させてもかまわな
い。その量は強磁性金属粉末に対し０．１〜１０質量％
であり表面処理を施すと脂肪酸などの潤滑剤の吸着が１
００ｍｇ／ｍ²以下になり好ましい。強磁性金属粉末に
は可溶性のＮａ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｓｒなどの無機イ
オンを含む場合があるが２００ｐｐｍ以下であれば特に
特性に影響を与える事は少ない。

【００４４】また、本発明に用いられる強磁性金属粉末
は空孔が少ないほうが好ましくその値は２０容量％以
下、さらに好ましくは５容量％以下である。また強磁性
金属粉末の形状については、針状が好ましいが、粒状、
米粒状、板状も許容し得る。磁性層に含まれる強磁性粉
末としては、飽和磁化量（σｓ）は、１１５〜１３０Ａ
・ｍ²／ｋｇ（更に好ましくは１１８Ａ・ｍ²／ｋｇ〜１
２８Ａ・ｍ²／ｋｇ）である。

【００４５】次に本発明の好ましい態様で使用される下
層の詳細な内容について説明する。本発明の下層に用い
られる非磁性無機粉末は、例えば、金属酸化物、金属炭
酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化
物等の無機質化合物から選択することができる。無機質
化合物としては例えばα化率９０％以上のα−アルミ
ナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、θ−アルミナ、炭化
ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、ゲー
タイト、コランダム、窒化珪素、チタンカーバイト、酸
化チタン、二酸化珪素、酸化スズ、酸化マグネシウム、
酸化タングステン、酸化ジルコニウム、窒化ホウ素、酸
化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウ
ム、二硫化モリブデンなどが単独または組み合わせで使
用される。特に好ましいのは二酸化チタン、酸化亜鉛、
酸化鉄、硫酸バリウムであり、更に好ましいのは二酸化
チタン、α酸化鉄である。

【００４６】これら非磁性無機粉末の粒子サイズも本発
明の細孔表面積を得るための重要な因子である。従っ
て、平均粒子サイズは３μｍ以下が好ましいが、とりわ
け好ましいのは非磁性無機粉末の平均粒子サイズは０．
０１μｍ〜０．２μｍである。

【００４７】非磁性無機粉末が粒状金属酸化物である場
合は、平均粒子径は０．０８μｍ以下が好ましく、針状
金属酸化物である場合は、平均長軸長は０．３μｍ以下
が好ましく、０．２μｍ以下が更に好ましい。必要に応
じて粒子サイズの異なる非磁性無機粉末を組み合わせた
り、単独の非磁性無機粉末でも粒径分布を広くして同様
の効果をもたせることもできる。タップ密度は通常、
０．０５〜２ｇ／ｍｌ、好ましくは０．２〜１．５ｇ／
ｍｌである。非磁性無機粉末の含水率は通常、０．１〜
５質量％、好ましくは０．２〜３質量％、更に好ましく
は０．３〜１．５質量％である。非磁性無機粉末のｐＨ
は通常、２〜１１であるが、ｐＨは７〜１０の間が特に
好ましい。非磁性無機粉末のＳ_BETは通常、１〜１００
ｍ²／ｇ、好ましくは５〜７０ｍ²／ｇ、更に好ましくは
１０〜６５ｍ²／ｇである。非磁性無機粉末の結晶子サ
イズは０．００４μｍ〜１μｍが好ましく、０．０４μ
ｍ〜０．１μｍが更に好ましい。ジブチルフタレート
（ＤＢＰ）を用いた吸油量は５〜１００ｍｌ／１００
ｇ、好ましくは１０〜８０ｍｌ／１００ｇ、更に好まし
くは２０〜６０ｍｌ／１００ｇである。比重は通常、１
〜１２、好ましくは３〜６である。形状は針状、球状、
多面体状、板状のいずれでも良い。

【００４８】強熱減量は２０質量％以下であることが好
ましく、本来ないことが最も好ましいと考えられる。本
発明に用いられる上記非磁性無機粉末のモース硬度は４
〜１０のものが好ましい。これらの粉体表面のラフネス
ファクターは０．８〜１．５が好ましく、更に好ましい
ラフネスファクターは０．９〜１．２である。非磁性無
機粉末のＳＡ（ステアリン酸）吸着量は１〜２０μｍｏ
ｌ／ｍ²、更に好ましくは２〜１５μｍｏｌ／ｍ²であ
る。非磁性無機粉末の２５℃での水への湿潤熱は２００
〜６００ｍＪ／ｍ²の範囲にあることが好ましい。ま
た、この湿潤熱の範囲にある溶媒を使用することができ
る。１００〜４００℃での表面の水分子の量は１〜１０
個／１００Åが適当である。水中での等電点のｐＨは３
〜９の間にあることが好ましい。

【００４９】これらの非磁性無機粉末の表面には表面処
理によりＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、Ｓｎ
Ｏ₂、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＺｎＯを存在させることが好ましい。
特に分散性に好ましいのはＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、Ｔｉ
Ｏ₂、ＺｒＯ₂であるが、更に好ましいのはＡｌ₂Ｏ₃、Ｓ
ｉＯ₂、ＺｒＯ₂である。これらは組み合わせて使用して
も良いし、単独で用いることもできる。また、目的に応
じて共沈させた表面処理層を用いても良いし、先ずアル
ミを表層に存在させた後でシリカを存在させる方法、ま
たはその逆の方法を採ることもできる。また、表面処理
層は目的に応じて多孔質層にしても構わないが、均質で
密である方が一般には好ましい。

【００５０】本発明の下層に用いられる非磁性無機粉末
の具体的な例としては、昭和電工製ナノタイト、住友化
学製ＨＩＴ−１００，ＺＡ−Ｇ１、戸田工業社製ＤＰＮ
−２５０，ＤＰＮ−２５０ＢＸ、ＤＰＮ−２４５，ＤＰ
Ｎ−２７０ＢＸ、ＤＰＢ−５５０ＢＸ、ＤＰＮ−５５０
ＲＸ、石原産業製酸化チタンＴＴＯ−５１Ｂ、ＴＴＯ−
５５Ａ，ＴＴＯ−５５Ｂ、ＴＴＯ−５５Ｃ、ＴＴＯ−５
５Ｓ、ＴＴＯ−５５Ｄ、ＳＮ−１００，ＭＪ−７ α−
酸化鉄Ｅ２７０，Ｅ２７１，Ｅ３００，チタン工業製Ｓ
ＴＴ−４Ｄ、ＳＴＴ−３０Ｄ、ＳＴＴ−３０、ＳＴＴ−
６５Ｃ、テイカ製ＭＴ−１００Ｓ、ＭＴ−１００Ｔ、Ｍ
Ｔ−１５０Ｗ、ＭＴ−５００Ｂ、ＭＴ−６００Ｂ、ＭＴ
−１００Ｆ、ＭＴ−５００ＨＤ、堺化学製ＦＩＮＥＸ−
２５，ＢＦ−１，ＢＦ−１０，ＢＦ−２０，ＳＴ−Ｍ、
同和鉱業製ＤＥＦＩＣ−Ｙ，ＤＥＦＩＣ−Ｒ、日本アエ
ロジル製ＡＳ２ＢＭ，ＴｉＯ２Ｐ２５，宇部興産製１０
０Ａ，５００Ａ、チタン工業製Ｙ−ＬＯＰ及びそれを焼
成したものが挙げられる。

【００５１】特に好ましい非磁性無機粉末は二酸化チタ
ンとα−酸化鉄である。α−酸化鉄（ヘマタイト）は以
下のような諸条件の基で実施される。α−Ｆｅ₂Ｏ₃粉末
は、通常の第一鉄水溶液に等量以上の水酸化アルカリ
水溶液を加えて得られる水酸化第一鉄コロイドを含む懸
濁液をｐＨ１１以上にて８０℃以下の温度で酸素を含有
ガスを通気して酸化反応を行う事により針状ゲータイト
粒子を生成させる方法、第一鉄塩水溶液と炭酸アルカ
リ水溶液とを反応させて得られるＦｅＣＯ₃を含む懸濁
液に酸素含有ガスを通気して酸化反応を行う事により紡
錘状を呈したゲータイト粒子を生成させる方法、第一
鉄水溶液に等量未満の水酸化アルカリ水溶液または炭酸
アルカリ水溶液を添加して得られる水酸化第一鉄コロイ
ドを含む第一鉄塩水溶液に酸素含有ガスを通気して酸化
反応を行う事により針状ゲータイト核粒子を生成させ、
次いで、該針状ケータイト該粒子を含む第一鉄塩水溶液
に、該第一鉄塩水溶液中のＦｅ²⁺に対し等量以上の水酸
化アルカリ水溶液を添加した後、酸素含有ガスを通気し
て前記針状ゲータイト核粒子を成長させる方法及び、
第一鉄水溶液に等量未満の水酸化アルカリ水溶液または
炭酸アルカリ水溶液を添加して得られる水酸化第一鉄コ
ロイドを含む第一鉄塩水溶液に酸素含有ガスを通気して
酸化反応を行う事により針状ゲータイト核粒子を生成さ
せ、次いで、酸性または中性領域で前記針状ゲータイト
核粒子を成長させる方法等により得られた針状ゲータイ
ト粒子を前駆体粒子とする。

【００５２】尚、ゲータイト粒子の生成反応中に粒子粉
末の特性向上等の為に通常添加されている、Ｎｉ、Ｚ
ｎ、Ｐ、Ｓｉ等の異種元素が添加されていても支障がな
い。前駆体粒子である針状ゲータイト粒子を２００〜５
００℃の温度範囲で脱水するか、必要に応じて、更に３
５０〜８００℃の温度範囲で加熱処理により焼き鈍しを
して針状α−Ｆｅ₂Ｏ₃の粒子を得る。

【００５３】尚、脱水または焼き鈍しされる針状ゲータ
イト粒子は表面にＰ、Ｓｉ、Ｂ、Ｚｒ、Ｓｂ等を含有す
る化合物である焼結防止剤が付着していても支障はな
い。３５０〜８００℃の温度範囲で加熱処理により焼き
鈍しをするのは、脱水されて得られた針状α−Ｆｅ₂Ｏ₃
粒子の粒子表面に生じている空孔を焼き鈍しにより、粒
子の極表面を溶融させて空孔をふさいで平滑な表面形態
とさせる事が好ましいからである。

【００５４】また、前記脱水または焼き鈍しをして得ら
れた針状α−Ｆｅ₂Ｏ₃粒子は水溶液中に分散して懸濁液
とし、例えば、Ａｌ化合物を添加しｐＨ調整をして前記
α−Ｆｅ₂Ｏ₃粒子の粒子表面に前記添加化合物を被覆し
た後、濾過、水洗、乾燥、粉砕、必要により更に脱気、
圧密処理等を施されてもよい。用いられるＡｌ化合物は
酢酸アルミニウム、硫酸アルミニウム、塩化アルミニウ
ム、硝酸アルミニウム等のアルミニウム塩やアルミン酸
ソーダ等のアルミン酸アルカリ塩を使用することが出来
る。この場合のＡｌ化合物添加量はα−Ｆｅ₂Ｏ₃粒子粉
末に対してＡｌ換算で通常、０．０１〜５０質量％であ
る。また、Ａｌ化合物とともにＳｉ化合物を始めとし
て、Ｐ、Ｔｉ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂか
ら選ばれる化合物の１種または２種以上を用いて被覆す
ることもできる。Ａｌ化合物とともに用いるこれらの化
合物の添加量はそれぞれα−Ｆｅ₂Ｏ₃粒子粉末に対して
通常、０．０１〜５０質量％の範囲である。

【００５５】二酸化チタンの製法に関しては以下の通り
である。これらの酸化チタンの製法は主に硫酸法と塩素
法がある。硫酸法はイルミナイトの源鉱石を硫酸で蒸解
し、Ｔｉ，Ｆｅなどを硫酸塩として抽出する。硫酸鉄を
晶析分離して除き、残りの硫酸チタニル溶液を濾過精製
後、熱加水分解を行って、含水酸化チタンを沈澱させ
る。これを濾過洗浄後、夾雑不純物を洗浄除去し、粒径
調節剤などを添加した後、８０〜１０００℃で焼成すれ
ば粗酸化チタンとなる。ルチル型とアナターゼ型は加水
分解の時に添加される核剤の種類によりわけられる。こ
の粗酸化チタンを粉砕、整粒、表面処理などを施して作
成する。塩素法は原鉱石は天然ルチルや合成ルチルが用
いられる。鉱石は高温還元状態で塩素化され、ＴｉはＴ
ｉＣｌ₄にＦｅはＦｅＣｌ₂となり、冷却により固体とな
った酸化鉄は液体のＴｉＣｌ₄と分離される。得られた
粗ＴｉＣｌ₄は精留により精製した後核生成剤を添加
し、１０００℃以上の温度で酸素と瞬間的に反応させ、
粗酸化チタンを得る。この酸化分解工程で生成した粗酸
化チタンに顔料的性質を与えるための仕上げ方法は硫酸
法と同じである。

【００５６】表面処理は上記酸化チタン素材を乾式粉砕
後、水と分散剤を加え、湿式粉砕、遠心分離により粗粒
分級が行なわれる。その後、微粒スラリーは表面処理槽
に移され、ここで金属水酸化物の表面被覆が行われる。
まず、所定量のＡｌ，Ｓｉ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｓｂ，Ｓｎ，
Ｚｎなどの塩類水溶液を加え、これを中和する酸、また
はアルカリを加えて、生成する含水酸化物で酸化チタン
粒子表面を被覆する。副生する水溶性塩類はデカンテー
ション、濾過、洗浄により除去し、最終的にスラリーｐ
Ｈを調節して濾過し、純水により洗浄する。洗浄済みケ
ーキはスプレードライヤーまたはバンドドライヤーで乾
燥される。最後にこの乾燥物はジェットミルで粉砕さ
れ、製品になる。また、水系ばかりでなく酸化チタン粉
体にＡｌＣｌ₃，ＳｉＣｌ₄の蒸気を通じその後水蒸気を
流入して表面処理を施すことも可能である。その他の顔
料の製法についてはG.D.Parfitt and K.S.W. Sing"Char
acterization of Powder Surfaces"Academic Press,197
6を参考にすることができる。

【００５７】下層にカーボンブラックを混合させて公知
の効果であるＲｓを下げること、光透過率を小さくする
ことができるとともに、所望のマイクロビッカース硬度
を得る事ができる。

【００５８】下層のマイクロビッカース硬度は通常、２
５〜６０Ｋｇ／ｍｍ²（２４５〜５８８ＭＰａ）、好ま
しくは３０〜５０Ｋｇ／ｍｍ²（２９４〜４９０ＭＰ
ａ）であり、ＮＥＣ製薄膜硬度計ＨＭＡ−４００を用い
て、稜角８０度、先端半径０．１μｍのダイヤモンド製
三角錐針を圧子先端に用いて、測定する。光透過率は一
般に波長９００ｎｍ程度の赤外線の吸収が３％以下、た
とえばＶＨＳでは０．８％以下であることが規格化され
ている。このためにはゴム用ファ−ネス、ゴム用サ−マ
ル、カラ−用ブラック、アセチレンブラック、等を用い
ることができる。

【００５９】下層に用いられるカーボンブラックのＳ
_BETは通常、１００〜５００ｍ²／ｇ、好ましくは１５０
〜４００ｍ²／ｇ、ＤＢＰ吸油量は通常、２０〜４００
ｍｌ／１００ｇ、好ましくは３０〜２００ｍｌ／１００
ｇである。カーボンブラックの平均粒子径は通常、５ｎ
ｍ〜８０ｎｍ、好ましく１０〜５０ｎｍ、さらに好まし
くは１０〜４０ｎｍである。通常、カーボンブラックの
ｐＨは、２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タップ密
度は０．１〜１ｇ／ｍｌ、が好ましい。本発明に用いら
れるカーボンブラックの具体的な例としてはキャボット
社製、ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０００、１３００、
１０００、９００、８００，８８０，７００、ＶＵＬＣ
ＡＮＸＣ−７２、三菱化学社製、＃３０５０Ｂ，３１５
０Ｂ，３２５０Ｂ、＃３７５０Ｂ、＃３９５０Ｂ、＃９
５０、＃６５０Ｂ，＃９７０Ｂ、＃８５０Ｂ、ＭＡ−６
００、コロンビアンカーボン社製、ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ
ＳＣ、ＲＡＶＥＮ８８００，８０００，７０００，５
７５０，５２５０，３５００，２１００，２０００，１
８００，１５００，１２５５，１２５０、アクゾー社製
ケッチェンブラックＥＣなどがあげられる。カーボンブ
ラックを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト
化して使用しても、表面の一部をグラファイト化したも
のを使用してもかまわない。また、カーボンブラックを
塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかま
わない。これらのカーボンブラックは上記非磁性無機粉
末に対して５０質量％を越えない範囲、非磁性層総質量
の４０％を越えない範囲で使用できる。これらのカーボ
ンブラックは単独、または組み合わせで使用することが
できる。

【００６０】下層で使用できるカーボンブラックは例え
ば「カーボンブラック便覧」カーボンブラック協会編」
を参考にすることができる。また下層には有機質粉末を
目的に応じて、添加することもできる。例えば、アクリ
ルスチレン系樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メ
ラミン系樹脂粉末、フタロシアニン系顔料が挙げられる
が、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉
末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポ
リフッ化エチレン樹脂も使用することができる。その製
法は特開昭６２−１８５６４号、特開昭６０−２５５８
２７号に記されているようなものが使用できる。

【００６１】下塗層は一般の磁気記録媒体において設け
ることが行われているが、これは支持体と磁性層又は下
層との接着力を向上させるために設けられるものであっ
て、溶剤可溶性のポリエステルが使用される。厚さも
０．５μｍ以下が一般的である。下層の結合剤樹脂、潤
滑剤、分散剤、添加剤、溶剤、分散方法その他は磁性層
のそれが適用できる。特に、結合剤樹脂量、種類、添加
剤、分散剤の添加量、種類に関しては磁性層に関する公
知技術が適用できる。

【００６２】磁性層及び下層に使用し得る熱可塑性樹脂
としては、ガラス転移温度が−１００〜１５０℃、数平
均分子量が１，０００〜２００，０００、好ましくは１
０，０００〜１００，０００、重合度が約５０〜１，０
００程度のものである。このような例としては、塩化ビ
ニル、酢酸ビニル、ビニルアルコール、マレイン酸、ア
クリル酸、アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アク
リロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、
スチレン、ブタジエン、エチレン、ビニルブチラール、
ビニルアセタール、ビニルエーテル、等を構成単位とし
て含む重合体または共重合体、ポリウレタン樹脂、各種
ゴム系樹脂がある。

【００６３】また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂とし
てはフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化
型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アク
リル系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹
脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイ
ソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリ
オールとポリイソシアネートの混合物、ポリウレタンと
ポリイソシアネートの混合物等があげられる。これらの
樹脂については朝倉書店発行の「プラスチックハンドブ
ック」に詳細に記載されている。また、公知の電子線硬
化型樹脂を下層、または上層に使用することも可能であ
る。

【００６４】これらの例とその製造方法については特開
昭６２−２５６２１９号に詳細に記載されている。以上
の樹脂は単独または組み合わせて使用できるが、好まし
いものとして塩化ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル樹
脂、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコール樹脂、塩化
ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸共重合体の中から選ば
れる少なくとも１種とポリウレタン樹脂の組み合わせ、
またはこれらにポリイソシアネートを組み合わせたもの
があげられる。ポリウレタン樹脂の構造はポリエステル
ポリウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエ−テ
ルポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウ
レタン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン、
ポリカプロラクトンポリウレタン、ポリオレフィンポリ
ウレタン、など公知のものが使用できる。特に、前記し
た環状構造を有する短鎖ジオールとエーテル基を含む長
鎖ジオールからなるポリウレタンが好ましい。ここに示
したすべての結合剤について、より優れた分散性と耐久
性を得るためには必要に応じ、−ＣＯＯＭ、−ＳＯ
₃Ｍ、−ＯＳＯ₃Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂、−Ｏ−Ｐ＝Ｏ
（ＯＭ）₂、（以上につきＭは水素原子、またはアルカ
リ金属塩基）、−ＯＨ、−ＮＲ₂、−Ｎ⁺Ｒ₃（Ｒは炭化
水素基）、エポキシ基、−ＳＨ、−ＣＮ、スルホベタイ
ン、ホスホベタイン、カルボキシベタインなどから選ば
れる少なくともひとつ以上の極性基を共重合または付加
反応で導入したものを用いることが好ましい。このよう
な極性基の量は１０^-1〜１０^-8モル／ｇであり、好まし
くは１０^-2〜１０^-6モル／ｇである。

【００６５】本発明に用いられるこれらの結合剤の具体
的な例としてはユニオンカーバイト社製ＶＡＧＨ、ＶＹ
ＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ，ＶＲＯＨ，ＶＹ
ＥＳ，ＶＹＮＣ，ＶＭＣＣ，ＸＹＨＬ，ＸＹＳＧ，ＰＫ
ＨＨ，ＰＫＨＪ，ＰＫＨＣ，ＰＫＦＥ，日信化学工業社
製、ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５，ＭＰＲ−ＴＡＬ，
ＭＰＲ−ＴＳＮ，ＭＰＲ−ＴＭＦ，ＭＰＲ−ＴＳ、ＭＰ
Ｒ−ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡＯ、電気化学社製１０００Ｗ、
ＤＸ８０，ＤＸ８１，ＤＸ８２，ＤＸ８３、１００Ｆ
Ｄ、日本ゼオン社製のＭＲ−１０４、ＭＲ−１０５、Ｍ
Ｒ１１０、ＭＲ１００、４００Ｘ−１１０Ａ、日本ポリ
ウレタン社製ニッポランＮ２３０１、Ｎ２３０２、Ｎ２
３０４、大日本インキ社製パンデックスＴ−５１０５、
Ｔ−Ｒ３０８０、Ｔ−５２０１、バーノックＤ−４０
０、Ｄ−２１０−８０、クリスボン６１０９，７２０
９，東洋紡社製バイロンＵＲ８２００、ＵＲ８３００、
ＲＶ５３０、ＲＶ２８０、大日精化社製、ダイフェラミ
ン４０２０、５０２０、５１００、５３００、９０２
０、９０２２、７０２０、三菱化成社製、ＭＸ５００
４、三洋化成社製サンプレンＳＰ−１５０、ＴＩＭ−３
００３、旭化成社製サランＦ３１０、Ｆ２１０などがあ
げられる。この中でＭＲ−１０４、ＭＲ１１０、ＵＲ−
８２００、ＵＲ８３００、ＵＲ−８７００、およびジオ
ールと有機ジイソシアネートを主原料とした反応生成物
であり、環状構造とエーテル基を持つポリウレタンが好
ましい。

【００６６】本発明において、ポリウレタン樹脂を用い
る場合は，破断伸びが１００〜２，０００％、破断応力
は０．０５〜１０Ｋｇ／ｍｍ²（０．４５〜９８ＭＰ
ａ）、降伏点は０．０５〜１０Ｋｇ／ｍｍ²（０．４５
〜９８ＭＰａ）が好ましい。

【００６７】本発明に用いるポリイソシアネートとして
は、トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニル
メタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，
５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジイソシアネー
ト、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタン
トリイソシアネート等のイソシアネート類、また、これ
らのイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、ま
た、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソ
シアネート等が好ましい。これらのイソシアネート類の
市販されている商品名としては、日本ポリウレタン社
製、コロネートＬ、コロネートＨＬ，コロネート２０３
０、コロネート２０３１、ミリオネートＭＲ、ミリオネ
ートＭＴＬ、武田薬品社製、タケネートＤ−１０２，タ
ケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２００、タケネ
ートＤ−２０２、住友バイエル社製、デスモジュール
Ｌ，デスモジュールＩＬ、デスモジュールＮ、デスモジ
ュールＨＬ，等がありこれらを単独または硬化反応性の
差を利用して二つもしくはそれ以上の組み合わせで下
層、上層とも用いることができる。これらポリイソシア
ネートは、上層の全結合剤樹脂に対し、通常、０〜５０
質量％、好ましくは０〜３０質量％用いられ、下層の全
結合剤樹脂に対し通常、０〜４０質量％、好ましくは０
〜２５質量％用いられる。

【００６８】本発明の磁気記録媒体を二層以上から構成
した場合は、結合剤樹脂量、結合剤中に占める塩化ビニ
ル系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネート、あ
るいはそれ以外の樹脂の量、磁性層を形成する各樹脂の
分子量、極性基量、あるいは先に述べた樹脂の物理特性
などを必要に応じ各層とで変えることはもちろん可能で
あり、多層磁性層に関する公知技術を適用できる。

【００６９】本発明の磁性層に使用されるカーボンブラ
ックは非磁性層で例示したものを適用できる。カーボン
ブラックは磁性塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で
分散してもかまわない。これらのカーボンブラックは単
独、または組み合わせで使用することができる。カーボ
ンブラックを使用する場合は強磁性金属粉末に対する量
の０．１〜１０質量％、好ましくは０．１〜３質量％、
更に好ましくは０．５〜１．５質量％でもちいることが
好ましい。カーボンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦
係数低減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあり、
これらは用いるカーボンブラックにより異なる。従って
本発明に使用されるこれらのカーボンブラックは上層、
下層でその種類、量、組み合わせを変え、粒子サイズ、
吸油量、電導度、ｐＨなどの先に示した諸特性をもとに
目的に応じて使い分けることはもちろん可能である。本
発明の磁性層で使用できるカーボンブラックは例えば
「カーボンブラック便覧」カーボンブラック協会編を参
考にすることができる。

【００７０】本発明に用いられる研磨剤としてはα化率
９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、炭化ケイ
素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダ
ム、人造ダイヤモンド、窒化珪素、炭化珪素，チタンカ
ーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素、など
主としてモース６以上の公知の材料が単独または組み合
わせで使用される。また、これらの研磨剤どうしの複合
体（研磨剤を他の研磨剤で表面処理したもの）を使用し
てもよい。これらの研磨剤には主成分以外の化合物また
は元素が含まれる場合もあるが主成分が９０％以上であ
れば効果にかわりはない。これら研磨剤の平均粒子サイ
ズは０．０１〜２μｍが好ましいが、必要に応じて粒子
サイズの異なる研磨剤を組み合わせたり、単独の研磨剤
でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせることもで
きる。タップ密度は０．３〜２ｇ／ｃｃ、含水率は０．
１〜５％、ｐＨは２〜１１、Ｓ_BETは１〜３０ｍ²／ｇ、
が好ましい。

【００７１】本発明に用いられる研磨剤の形状は針状、
球状、サイコロ状、のいずれでも良いが、形状の一部に
角を有するものが研磨性が高く好ましい。本発明に用い
られる研磨剤の具体的な例としては、住友化学社製、Ａ
ＫＰ−２０，ＡＫＰ−３０，ＡＫＰ−５０、ＨＩＴ−５
０、ＨＩＴ−６０，ＨＩＴ−７０、ＨＩＴ−８０，ＨＩ
Ｔ−８０Ｇ，ＨＩＴ−１００、日本化学工業社製、Ｇ
５，Ｇ７，Ｓ−１、戸田工業社製、ＴＦ−１００，ＴＦ
−１４０などがあげられる。本発明に用いられる研磨剤
は下層、上層で種類、量および組み合わせを変え、目的
に応じて使い分けることはもちろん可能である。これら
の研磨剤はあらかじめ結合剤で分散処理したのち磁性塗
料中に添加してもかまわない。本発明の磁気記録媒体の
磁性層表面および磁性層端面に存在する研磨剤は５個／
１００μｍ²以上が好ましい。

【００７２】本発明に使用される、添加剤としては潤滑
効果、帯電防止効果、分散効果、可塑効果、などをもつ
ものが使用される。二硫化モリブデン、二硫化タングス
テン、グラファイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコ
ーンオイル、極性基をもつシリコーン、脂肪酸変性シリ
コーン、フッ素含有シリコーン、フッ素含有アルコー
ル、フッ素含有エステル、ポリオレフィン、ポリグリコ
ール、アルキル燐酸エステルおよびそのアルカリ金属
塩、アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、
ポリフェニルエーテル、フッ素含有アルキル硫酸エステ
ルおよびそのアルカリ金属塩、炭素数１０〜２４の一塩
基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐していて
もかまわない）、および、これらの金属塩（Ｌｉ、Ｎ
ａ、Ｋ、Ｃｕなど）または、炭素数１２〜２２の一価、
二価、三価、四価、五価、六価アルコール（不飽和結合
を含んでも、また分岐していてもかまわない）、炭素数
１２〜２２のアルコキシアルコール（不飽和結合を含ん
でも、また分岐していてもかまわない）、炭素数１０〜
２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分
岐していてもかまわない）と炭素数２〜１２の一価、二
価、三価、四価、五価、六価アルコールのいずれか一つ
（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわな
い）とからなるモノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪酸エス
テルまたはトリ脂肪酸エステル、アルキレンオキシド重
合物のモノアルキルエーテルの脂肪酸エステル、炭素数
８〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の脂肪族アミ
ン、などが使用できる。

【００７３】これらの具体例としてはラウリン酸、ミリ
スチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、ス
テアリン酸ブチル、オレイン酸、リノール酸、リノレン
酸、エライジン酸、ステアリン酸オクチル、ステアリン
酸アミル、ステアリン酸イソオクチル、ミリスチン酸オ
クチル、ステアリン酸ブトキシエチル、アンヒドロソル
ビタンモノステアレート、アンヒドロソルビタンジステ
アレート、アンヒドロソルビタントリステアレート、オ
レイルアルコール、ラウリルアルコール、があげられ
る。また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グ
リシドール系、アルキルフェノールエチレンオキサイド
付加体、等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステ
ルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導
体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類、等
のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルフォン酸、
燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基、などの酸性基
を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホ
ン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル
類、アルキルベダイン型、等の両性界面活性剤等も使用
できる。これらの界面活性剤については、「界面活性剤
便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載されてい
る。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも１００％
純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応
物、分解物、酸化物等の不純分がふくまれてもかまわな
い。これらの不純分は３０質量％以下が好ましく、さら
に好ましくは１０質量％以下である。

【００７４】本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面
活性剤は下層、磁性層でその種類、量を必要に応じ使い
分けることができる。例えば、下層、磁性層で融点のこ
となる脂肪酸を用い表面へのにじみ出しを制御する、沸
点や極性の異なるエステル類を用い表面へのにじみ出し
を制御する、界面活性剤量を調節することで塗布の安定
性を向上させる、潤滑剤の添加量を下層で多くして潤滑
効果を向上させるなど考えられ、無論ここに示した例の
みに限られるものではない。

【００７５】また本発明で用いられる添加剤のすべてま
たはその一部は、磁性塗料製造のどの工程で添加しても
かまわない、例えば、混練工程前に強磁性金属粉末と混
合する場合、強磁性金属粉末と結合剤と溶剤による混練
工程で添加する場合、分散工程で添加する場合、分散後
に添加する場合、塗布直前に添加する場合などがある。
また、目的に応じて磁性塗布層を塗布した後、同時また
は逐次塗布で、添加剤の一部または全部を塗布すること
により目的が達成される場合がある。また、目的によっ
てはカレンダーした後、またはスリット終了後、磁性層
表面に潤滑剤を塗布することもできる。

【００７６】本発明で使用されるこれら潤滑剤の商品例
としては、日本油脂社製、ＮＡＡ−１０２，ＮＡＡ−４
１５，ＮＡＡ−３１２，ＮＡＡ−１６０，ＮＡＡ−１８
０，ＮＡＡ−１７４，ＮＡＡ−１７５，ＮＡＡ−２２
２，ＮＡＡ−３４，ＮＡＡ−３５，ＮＡＡ−１７１，Ｎ
ＡＡ−１２２、ＮＡＡ−１４２、ＮＡＡ−１６０、ＮＡ
Ａ−１７３Ｋ，ヒマシ硬化脂肪酸、ＮＡＡ−４２，ＮＡ
Ａ−４４、カチオンＳＡ、カチオンＭＡ、カチオンＡ
Ｂ，カチオンＢＢ，ナイミーンＬ−２０１，ナイミーン
Ｌ−２０２，ナイミーンＳ−２０２，ノニオンＥ−２０
８，ノニオンＰ−２０８，ノニオンＳ−２０７，ノニオ
ンＫ−２０４，ノニオンＮＳ−２０２，ノニオンＮＳ−
２１０，ノニオンＨＳ−２０６，ノニオンＬ−２，ノニ
オンＳ−２，ノニオンＳ−４，ノニオンＯ−２、ノニオ
ンＬＰ−２０Ｒ，ノニオンＰＰ−４０Ｒ，ノニオンＳＰ
−６０Ｒ、ノニオンＯＰ−８０Ｒ、ノニオンＯＰ−８５
Ｒ，ノニオンＬＴ−２２１，ノニオンＳＴ−２２１，ノ
ニオンＯＴ−２２１，モノグリＭＢ，ノニオンＤＳ−６
０，アノンＢＦ，アノンＬＧ，ブチルステアレート、ブ
チルラウレート、エルカ酸、関東化学社製、オレイン
酸、竹本油脂社製、ＦＡＬ−２０５、ＦＡＬ−１２３、
新日本理化社製、エヌジェルブＬＯ、エヌジョルブＩＰ
Ｍ，サンソサイザ−Ｅ４０３０，、信越化学社製、ＴＡ
−３、ＫＦ−９６、ＫＦ−９６Ｌ、ＫＦ９６Ｈ、ＫＦ４
１０，ＫＦ４２０、ＫＦ９６５，ＫＦ５４，ＫＦ５０，
ＫＦ５６，ＫＦ９０７，ＫＦ８５１，Ｘ−２２−８１
９，Ｘ−２２−８２２，ＫＦ９０５，ＫＦ７００，ＫＦ
３９３，ＫＦ−８５７，ＫＦ−８６０，ＫＦ−８６５，
Ｘ−２２−９８０，ＫＦ−１０１，ＫＦ−１０２，ＫＦ
−１０３，Ｘ−２２−３７１０，Ｘ−２２−３７１５，
ＫＦ−９１０，ＫＦ−３９３５，ライオンアーマー社
製、アーマイドＰ、アーマイドＣ，アーモスリップＣ
Ｐ、ライオン油脂社製、デユオミンＴＤＯ、日清製油社
製、ＢＡ−４１Ｇ、三洋化成社製、プロファン２０１２
Ｅ、ニューポールＰＥ６１、イオネットＭＳ−４００，
イオネットＭＯ−２００、イオネットＤＬ−２００、イ
オネットＤＳ−３００、イオネットＤＳ−１０００、イ
オネットＤＯ−２００などが挙げられる。

【００７７】本発明で用いられる有機溶媒は任意の比率
でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホ
ロン、テトラヒドロフラン、等のケトン類、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソブチ
ルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルシクロ
ヘキサノール、などのアルコール類、酢酸メチル、酢酸
ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチ
ル、酢酸グリコール等のエステル類、グリコールジメチ
ルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサ
ン、などのグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン、などの芳
香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロラ
イド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒド
リン、ジクロルベンゼン、等の塩素化炭化水素類、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘ
キサン等のものが使用できる。これら有機溶媒は必ずし
も１００％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応
物、副反応物、分解物、酸化物、水分等の不純分がふく
まれてもかまわない。これらの不純分は３０質量％以下
が好ましく、さらに好ましくは１０質量％以下である。
本発明で用いる有機溶媒は磁性層と下層でその種類は同
じであることが好ましい。その添加量は変えてもかまわ
ない。下層に表面張力の高い溶媒（シクロヘキサノン、
ジオキサンなど）を用い塗布の安定性をあげる、具体的
には上層溶剤組成の算術平均値が下層溶剤組成の算術平
均値を下回らないことが肝要である。分散性を向上させ
るためにはある程度極性が強い方が好ましく、溶剤組成
の内、誘電率が１５〜２０の溶剤が５０質量％以上含ま
れることが好ましい。また、溶解パラメータは８〜１１
であることが好ましい。

【００７８】本発明の磁気記録媒体の厚み構成は支持体
が１〜１００μｍであるが、特に、１〜８μｍの薄い支
持体を用いる場合に有効である。磁性層と下層を合わせ
た厚みは支持体の厚みの１／１００〜２倍の範囲で用い
られる。また、支持体と下層の間に密着性向上のための
接着層を設けることが好ましい。

【００７９】接着層の厚みは０．０１〜２μｍ、このま
しくは０．０２〜０．５μｍである。また、支持体の磁
性層側と反対側にバックコート層を設けてもかまわな
い。この厚みは０．１〜２μｍ、好ましくは０．３〜
１．０μｍである。これらの接着層、バックコート層は
公知のものが使用できる。本発明に用いられる支持体
は、マイクロビッカース硬度が７５Ｋｇ／ｍｍ²（７３
５ＭＰａ）以上のものであり、二軸延伸を行ったポリエ
チレンナフタレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリア
ミドイミド、芳香族ポリアミド、ポリベンズオキシダゾ
ールなどの公知のフィルムが使用できる。特に、東レ社
製「アラミド」又は旭化成製「アラミカ」として入手で
きる芳香族ポリアミドもしくはポリエチレンナフタレー
トを用いた支持体が好ましい。

【００８０】これらの支持体にはあらかじめコロナ放電
処理、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理、
などをおこなっても良い。本発明の目的を達成するに
は、支持体の磁性層を塗する面の中心面平均表面粗さが
１０〜０．１ｎｍ、好ましくは６〜０．２ｎｍ、さらに
好ましくは４〜０．５ｎｍのものを使用することが好ま
しい。また、これらの支持体は単に中心面平均表面粗さ
が小さいだけではなく、１μｍ以上の粗大突起がないこ
とが好ましい。また表面の粗さ形状は必要に応じて支持
体に添加されるフィラーの大きさと量により自由にコン
トロールされるものである。これらのフィラーとしては
一例としてはＡｌ，Ｃａ，Ｓｉ、Ｔｉなどの酸化物や炭
酸塩で結晶性、非晶質を問わない他、アクリル系、メラ
ミン系などの有機微粉末があげられる。また、走行耐久
性との両立を図るためには、バック層を塗布する面の粗
さは磁性層を塗布する面の粗さより粗い事が好ましい。
バック層塗布面の中心線平均表面粗さは好ましくは１〜
２０ｎｍ、更に好ましくは２〜８ｎｍである。磁性層塗
布面とバック層塗布面との粗さを変える場合には、デュ
アル構成の支持体を用いても良いし、コーテイング層を
設ける事によって変えても構わない。

【００８１】本発明に用いられる支持体のテープ走行方
向のＦ−５値は好ましくは１０〜５０Ｋｇ／ｍｍ²（９
８〜４９０ＭＰａ）、テープ幅方向のＦ−５値は好まし
くは１０〜３０Ｋｇ／ｍｍ²（９８〜２９４ＭＰａ）で
あり、テープの長手方向のＦ−５値がテープ幅方向のＦ
−５値より高いのが一般的であるが、特に幅方向の強度
を高くする必要があるときはその限りでない。また、支
持体のテープ走行方向および幅方向の１００℃３０分で
の熱収縮率は好ましくは３％以下、さらに好ましくは
１．５％以下、８０℃３０分での熱収縮率は好ましくは
１％以下、さらに好ましくは０．５％以下である。破断
強度は両方向とも５〜１００Ｋｇ／ｍｍ²（４９〜９８
０ＭＰａ）、弾性率は１００〜２，０００Ｋｇ／ｍｍ²
（０．９８〜１９．６ＧＰａ）、が好ましい。また、本
発明での９００ｎｍでの光透過率は３０％以下が好まし
く、更に好ましくは３％以下である。

【００８２】本発明の磁気記録媒体の磁性塗料を製造す
る工程は、少なくとも混練工程、分散工程、およびこれ
らの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程からな
る。個々の工程はそれぞれ２段階以上にわかれていても
かまわない。本発明に使用する強磁性金属粉末、結合
剤、カーボンブラック、研磨剤、帯電防止剤、潤滑剤、
溶剤などすべての原料はどの工程の最初または途中で添
加してもかまわない。また、個々の原料を２つ以上の工
程で分割して添加してもかまわない。例えば、ポリウレ
タン樹脂を混練工程、分散工程、分散後の粘度調整のた
めの混合工程で分割して投入してもよい。本発明の目的
を達成するためには、従来の公知の製造技術を一部の工
程として用いることができることはもちろんであるが、
混練工程では連続ニーダや加圧ニーダなど強い混練力を
もつものを使用することにより高いＢｒを得ることがで
きるので好ましい。連続ニーダまたは加圧ニーダを用い
る場合は強磁性金属粉末と結合剤のすべてまたはその一
部（ただし全結合剤の３０質量％以上が好ましい）およ
び強磁性粉末１００部に対し１５〜５００部の範囲で混
練処理される。これらの混練処理の詳細については特開
平１−１６６３３８号、特開昭６４−７９２７４号に記
載されている。また、磁性層液、非磁性層液、あるいは
研磨剤分散液等を調製する場合には高比重の分散メディ
アを用いることが望ましく、ジルコニアビーズが好適で
ある。

【００８３】本発明において重層構成の磁気記録媒体を
同時重層塗布する装置、方法の例として以下のような構
成を提案できる。 １，磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗
布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗
布装置等により、まず下層塗布層を塗布し、下層塗布層
がウェット状態にのうちに特公平１−４６１８６号や特
開昭６０−２３８１７９号，特開平２−２６５６７２号
に開示されている支持体加圧型エクストルージョン塗布
装置により上層磁性層を塗布する。

【００８４】２，特開昭６３−８８０８０号、特開平２
−１７９７１号，特開平２−２６５６７２号に開示され
ているような塗布液通液スリットを二つ内蔵する一つの
塗布ヘッドにより上下層をほぼ同時に塗布する。 ３，特開平２−１７４９６５号に開示されているバック
アップロール付きエクストルージョン塗布装置により上
下層をほぼ同時に塗布する。

【００８５】なお、磁性粒子の凝集による磁気記録媒体
の電磁変換特性等の低下を防止するため、特開昭６２−
９５１７４号や特開平１−２３６９６８号に開示されて
いるような方法により塗布ヘッド内部の塗布液にせん断
を付与することが望ましい。さらに、塗布液の粘度につ
いては、特開平３−８４７１号に開示されている数値範
囲を満足することが好ましい。

【００８６】本発明の磁気記録媒体を得るためには強力
な配向を行うことが好ましい。磁気テープの場合は長手
方向に配向されるが、１００ｍＴ以上、好ましくは３０
０ｍＴ以上のソレノイドとコバルト磁石を同極対向で２
００ｍＴ以上、好ましくは４００ｍＴ以上、さらに好ま
しくは６００ｍＴ以上の磁場を併用することが好まし
く、さらには乾燥後の配向性が最も高くなるように配向
前に予め適度の乾燥工程を設けることが好ましい。ま
た、フロッピー（登録商標）ディスクの場合は、ランダ
ム配向が施される。配向条件としては、磁気テープの場
合と同じようにテープ長手方向に配向したのち、例えば
周波数５０Ｈｚで磁場強度２５ｍＴまた周波数５０Ｈｚ
で磁場強度１２ｍＴの二つの磁場強度等の交流磁場発生
装置の中を通過させて、ランダム配向される。

【００８７】また、非磁性層、磁性層を同時重層塗布す
る以前にポリマーを主成分とする接着層を設けることや
コロナ放電、紫外線（ＵＶ）照射、電子線照射すること
により接着性を高める公知の手法を組み合わせることが
好ましい。カレンダー処理は本発明の細孔表面積を得る
のには重要な工程である。ロールとしてエポキシ、ポリ
イミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐熱性のあ
るプラスチックロール、または金属ロールを使用する。
また、金属ロール同志、プラシチックロール同志または
金属ロールとプラスチックロールの対ロールで処理する
ことが出来る。本発明の細孔表面積を得るには処理温度
は、好ましくは８０〜１１０℃、さらに好ましくは９０
〜１００℃以上である。線圧力は好ましくは２００〜５
００Ｋｇ／ｃｍ（１９６〜４９６ｋＮ／ｍ）、さらに好
ましくは３００〜４００Ｋｇ／ｃｍ（２９４〜３９２ｋ
Ｎ／ｍ）以上である。これらカレンダー条件は、塗布層
の層構成、各層組成等により適宜選定される。

【００８８】本発明の磁気記録媒体の磁性層面およびそ
の反対面のＳＵＳ４２０Ｊに対する摩擦係数は好ましく
は０．１〜０．３、さらに好ましくは０．２〜０．３で
ある。表面固有抵抗は好ましくは１０⁴〜１０¹²オーム
／ｓｑ、磁性層の０．５％伸びでの弾性率は走行方向、
幅方向とも好ましくは１００〜２，０００Ｋｇ／ｍｍ ²
（０．９８〜１９．６ＧＰａ）、破断強度は好ましくは
１〜３０Ｋｇ／ｍｍ²（９．８〜２９４ＭＰａ）、磁気
記録媒体の弾性率は走行方向、幅方向とも好ましくは１
００〜１，５００Ｋｇ／ｍｍ²（０．９８〜１４．７Ｇ
Ｐａ）、残留伸びは好ましくは０．５％以下、１００℃
以下のあらゆる温度での熱収縮率は好ましくは１％以
下、さらに好ましくは０．５％以下、もっとも好ましく
は０．１％以下で、０％が理想である。磁性層のガラス
転移温度（１１０Ｈｚで測定した動的粘弾性測定の損失
弾性率の極大点）は３０〜１５０℃が好ましく、下層の
それは０℃〜１００℃が好ましい。損失弾性率は１×１
０⁷〜８×１０⁸Ｐａの範囲にあることが好ましく、損失
正接は０．２以下であることが好ましい。

【００８９】損失正接が大きすぎると粘着故障がでやす
い。磁性層中に含まれる残留溶媒は好ましくは１００ｍ
ｇ／ｍ²以下、さらに好ましくは１０ｍｇ／ｍ²以下であ
り、上層に含まれる残留溶媒が下層に含まれる残留溶媒
より少ないほうが好ましい。磁性層が有する空隙率は下
層、磁性層とも好ましくは３０容量％以下、さらに好ま
しくは２０容量％以下である。空隙率は高出力を果たす
ためには小さい方が好ましいが、目的によってはある値
を確保した方が良い場合がある。例えば、繰り返し用途
が重視されるデータ記録用磁気記録媒体では空隙率が大
きい方が走行耐久性は好ましいことが多い。

【００９０】本発明の磁気記録媒体の磁性層の磁気特
性、即ち、Ｈｃ及びＳＦＤ、更にＢｍ、Ｂｒは、特に断
らない限り、振動試料型磁束計（ＶＳＭ）を用いて磁場
１０ｋＯｅ〔Ｏｅ＝｛１／（４π）｝ｋＡ／ｍ〕で磁性
層面内方向で測定した値を言う。磁気テープの場合、テ
ープ走行方向において、Ｈｃは前述した通りであり、角
形比（ＳＱ）は通常、０．８５以上であり、好ましくは
０．８５〜０．９５である。テープ走行方向に直角な二
つの方向の角型比、即ち、テープ面に平行かつテープ走
行方向に直交する方向とテープ面に垂直な方向の二つの
各角形比は、走行方向の角型比の８０％以下となること
が好ましい。長手方向のレマネンス抗磁力Ｈｒも１８０
０〜３０００Ｏｅ（≒１４４〜２４０ｋＡ／ｍ）が好ま
しい。垂直方向のＨｃ及びＨｒは１０００〜５０００Ｏ
ｅ（≒８０〜４００ｋＡ／ｍ）であることが好ましい。

【００９１】磁性層の原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）による
評価で求めた２乗平均粗さＲ_RMSは２〜１５ｎｍの範囲
にあることが好ましい。

【００９２】本発明の磁気記録媒体は下層と上層を有す
ることが好ましいが、目的に応じ下層と磁性層でこれら
の物理特性を変えることができるのは容易に推定される
ことである。例えば、磁性層の弾性率を高くし走行耐久
性を向上させると同時に下層の弾性率を磁性層より低く
して磁気記録媒体のヘッドへの当りを良くするなどであ
る。また、支持体のテンシライズ方法を変更して、ヘッ
ド当たりを改良することが本発明においても有効であ
り、テープ長手方向に対し、直角な方向にテンシライズ
した支持体の方がヘッド当たりが良好になる場合が多
い。

【００９３】

【実施例】以下の記載の「部」は「質量部」を示し、％
は質量％を示す。 （上層用磁性塗料の調製） 強磁性金属微粉末 １００部 組成：Ｆｅ／Ｃｏ＝７０／３０（原子比） Ｈｃ：２２５０Ｏｅ（≒１８０ｋＡ／ｍ）、 Ｓ_BET：４５ｍ²／ｇ 結晶子サイズ：１７０Å 表面処理層：Ａｌ₂Ｏ₃，Ｙ₂Ｏ₃ 平均長軸長：０．０９μｍ 平均針状比：８ ポリウレタン樹脂（東洋紡製 ＵＲ−５５００） １０部 α−Ａｌ₂Ｏ₃（平均粒子径：０．１５μｍ） ５部 カーボンブラック（平均粒子径：０．０８μｍ） ０．５部 ブチルステアレート １部 ステアリン酸 ５部 メチルエチルケトン ９０部 シクロヘキサノン ３０部 トルエン ６０部

【００９４】 下層（非磁性） 非磁性無機粉末 αFe₂O₃ ヘマタイト ８５部 平均長軸長：０．１５μｍ Ｓ_BET：５２ｍ²／ｇ ｐＨ：９ タップ密度：０．８ 表面にＡｌ₂Ｏ₃及びＳｉＯ₂を施した。 カーボンブラック ２０部 平均粒子径：１６ｎｍ ＤＢＰ吸油量：１２０ｍｌ／１００ｇ ｐＨ：８．０ Ｓ_BET：２５０ｍ²／ｇ 揮発分：１．５％ 塩化ビニル系共重合体 表1記載の量 日本ゼオン製ＭＲ−１０４ ポリウレタン樹脂（東洋紡製 UR-5500） 表１記載の量 α−Ａｌ₂Ｏ₃（平均粒子径：０．２μｍ） １部 エチルステアレート １部 ステアリン酸 １部 メチルエチルケトン １００部 シクロヘキサノン ５０部 トルエン ５０部

【００９５】実施例１、２，比較例１〜３の作製 上記の塗料のそれぞれについて、各成分をオープンニー
ダで混練したのち、サンドミルを用いて分散させた。得
られた各分散液にポリイソシアネート（日本ポリウレタ
ン（株）製コロネートＬ）を５部加え、さらにそれぞれ
にメチルエチルケトン、シクロヘキサノン混合溶媒４０
部を加え、１μｍの平均孔径を有するフィルターを用い
て濾過し、下層、磁性層形成用の塗布液をそれぞれ調製
した。ポリエチレンテレフタレート支持体上に、下層塗
布液を乾燥後の塗布厚が１．７μｍになるよう塗布し、
その直後にその上に磁性層を乾燥後の塗布厚が０．２μ
ｍになるよう塗布した。両層がまだ湿潤状態にあるうち
に５００ｍＴの磁力をもつコバルト磁石と４００ｍＴの
磁力をもつソレノイドにより配向させ乾燥後、厚み０．
５μｍバック層を塗布した。その後、金属ロールとエポ
キシ樹脂ロールから構成される７段のカレンダーで表１
記載の温度にて速度２００ｍ／ｍｉｎで処理を行った。
その後、８ｍｍの幅にスリットし、サンプルを作成し
た。得られたサンプルを下記により評価し、結果を表1
に示した。

【００９６】・細孔表面積：ＱＵＡＮＴＡ ＣＨＲＯＭ
Ｅ社製、全自動ガス吸着量測定装置「ＡＵＴＯＳＯＲＢ
−１」を用いてＮ₂吸着法により測定した。

【００９７】・磁性層表面の中心線平均表面粗さＲａ：
デジタルオプチカルプロフィメーター（ＷＹＫＯ製）を
用いた光干渉法によりカットオフ０．２５ｍｍ、測定面
積２４２．４μｍ×１８４．２μｍの条件で測定した。 ・磁性層の摩擦係数μ：接触材料を４ｍｍφのＳＵＳ４
２０Ｊ、磁気テープのラップ角を１８０度、荷重１０
ｇ、速度１８ｍｍ／ｍｉｎの条件で、張力（Ｔ₂）を測
定し次式により摩擦係数を求めた。 μ＝（１／π）・ｌｎ（Ｔ₂／１０） ・電磁変換特性：ＲＦ出力とＣ／Ｎ；８ｍｍビデオデッ
キＦＵＪＩＸ−Ｍ８６０ＨＫを用いて７ＭＨｚ単一周波
数の正弦波を最適記録電流で記録し、シバソク製スペク
トルアナライザーを用いてスペクトルを測定、７ＭＨｚ
のキャリア出力を求めた。比較例１の出力を０ｄＢと
し、相対比較で表した。Ｃ／Ｎは、６ＭＨｚのノイズレ
ベルと７ＭＨｚのキャリア出力の比を求めることにより
測定した。表１より本発明の細孔表面積を持つ磁気記録
媒体は、出力が高くかつ摩擦係数が低いことがわかる。
一方、比較例は出力及び摩擦係数の改善が両立しない。

【００９８】

【表１】

【００９９】

【発明の効果】本発明は支持体上に強磁性粉末と結合剤
を含む磁性層を少なくとも有する塗布層を設けてなる磁
気記録媒体の塗布層の細孔をＮ₂吸着法で測定したとき
の細孔表面積を特定範囲に制御したことにより、走行性
及び電磁変換特性の優れた磁気記録媒体を提供できる。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】支持体上の強磁性粉末と結合剤を含む磁性
   層を少なくとも有する塗布層を設けてなる磁気記録媒体
   において、塗布層の細孔表面積が塗布層の質量当たり５
   〜２５ｍ²／ｇであることを特徴とする磁気記録媒体。
2. 【請求項２】非磁性粉末と結合剤を含む非磁性層を磁性
   層と支持体の間に設けたことを特徴とする請求項１に記
   載の磁気記録媒体。