JP6158640B2 - 積層ポリエステルフィルムおよびそれを用いた塗布型磁気記録テープ - Google Patents

Description

本発明は、データストレージなどの塗布型磁気記録テープのベースフィルムに用いる積層ポリエステルフィルムに関する。

ポリエステルフィルムは、比較的安価で、優れた機械的特性を有することから磁気記録テープのベースフィルムに用いられてきた。そして、磁気記録テープのベースフィルムに用いる場合、ポリエステルフィルムには粗大な突起や欠点がない平坦な表面を有することが求められる。一方、磁性層をポリエステルフィルムに塗布して形成する塗布型磁気記録テープでは、ベースフィルムの巻取性や走行性が不安定であると、均一な磁性層を効率的に製造することができず、ポリエステルフィルムに滑剤としての粒子を含有させて、表面に突起などを形成することが求められる。この２つの要求は相反するものであり、これらの要求を満たすために、特許文献１〜５には、表面欠点を低減するために触媒種を特定のものにすること、フィルム中に含有させる粒子として粗大粒子の少ないものを用いること、およびそのような処理を行った表面欠点の少ないフィルムが提案されている。また特許文献６〜７には、空間周波数に着目したベースフィルムのウネリ成分を低減することで原反形状の安定化や磁気記録媒体としての電磁変換特性に優れた二軸配向ポリエステルフィルムの提案がなされている。

しかしながら、近年の高密度記録の要求はすさまじく、特にＭＲヘッド、ＧＭＲヘッドにおいては、その特性から、磁気記録媒体表面の突起物に触れることによって生じる瞬間的な温度上昇によって、信号を読み取ることができなくなる（サーマル・アスピリティー）現象が知られており、サーマル・アスピリティーに対する対策として、磁気記録媒体表面の平滑性が特に重視されており、特に記録容量が極めて高いデータストレージなどの塗布型磁気記録テープでは、前述の特許文献１〜５で表面欠点がないとされたフィルムや特許文献６〜７でウネリが少ないとされたフィルムでも十分に応えられなくなってきた。

特開２００４−１１４４９２号公報 特開２００３−２９１２８８号公報 特開２００２−３６３３１１号公報 特開２００２−３６３３１０号公報 特開２００２−０５９５２０号公報 特開２００１−３４１２６５号公報 特開２００４−０９１７５３号公報

本発明の目的は、フィルムとしての生産性に優れ、その後の搬送性などの加工性も有し、しかも塗布型磁気記録テープ、特にデータストレージのベースフィルムに用いたとき、優れた電磁変換特性と、エラーレートやドロップアウト、サーマルアスピリティを低減できる積層ポリエステルフィルムを提供することにある。

本発明者らは上記課題を解決しようと鋭意研究した結果、磁性層を形成する表面と磁性層を形成しない表面とに、それぞれ特定の同一粒子径の粒子を特定の割合で含有させ、かつ磁性層を形成する表面の粒子を含有させるポリエステルの分散性を向上させることで提供できることを見出し、本発明に到達した。

かくして本発明によれば、塗布型磁気記録テープに用いるベースフィルムであって、少なくとも磁性層を形成する側の表面を形成するＡ層と磁性層を形成しない側の表面を形成するＢ層の２層からなる積層ポリエステルフィルムであって、
Ａ層は、平均粒子径０．０６−０．２９μｍで、粒子径の相対標準偏差が２０％以下の粒子を０．００１−０．１９質量％含有し、該Ａ層の表面における地肌指数が８０〜９９．９９％の範囲であって、
他方磁性層を形成しない側のＢ層は、Ａ層と平均粒子径が同じで、粒子径の相対標準偏差が２０％以下の粒子を０．０３−０．９質量％含有し、かつその粒子含有量がＡ層の１．５倍以上であり、そして
Ａ層は粒子５個以上の凝集突起が３個／９ｃｍ^２以下であり、他方Ｂ層の粒子５個以上の凝集突起が１０個／９ｃｍ^２以下である積層ポリエステルフィルムが提供される。

また、本発明によれば、本発明の好ましい態様として、ポリエステルがエチレンテレフタレートまたはエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートを主たる繰り返し単位とすること、Ａ層の極限粘度が０．５０以上０．５４以下、Ｂ層の極限粘度が０．５０以上０．５４以下であり、Ａ層の極限粘度がＢ層のそれよりも大きいこと、含有粒子が球状シリカ粒子、架橋ポリスチレン粒子、シリコーン粒子、シリカーアクリル複合粒子のいずれかであることの少なくともいずれかを具備する積層フィルムも提供される。
さらに本発明によれば、上記本発明の積層ポリエステルフィルムと、その磁性層を形成する側の表面に塗布形成された磁性層とからなる塗布型磁気記録テープも提供される。

本発明の積層ポリエステルフィルムは、同一粒子径の粒子をいずれの層にも用いることから、フィルム生産時に製品にならなかった部分を回収して、いずれの層にも回収できるという優れた生産性を有しながらも、実用上必要な搬送性などの加工性を具備し、しかも塗布型磁気記録テープ、特にデータストレージのベースフィルムに用いたときに、エラーとなる微小な表面欠点までも低減されていることから、電磁変換特性に優れ、エラーレートやドロップアウト、サーマルアスピリティの少ないデータストレージを提供することができる。

以下、本発明について、詳述する。
本発明におけるポリエステルは、フィルムへの製膜が可能なものであれば、それ自体公知のものを採用できる。例えば、ジオール成分と芳香族ジカルボン酸成分との重縮合によって得られる芳香族ポリエステルが好ましい。かかる芳香族ジカルボン酸成分としては、例えばテレフタル酸、イソフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、４，４’−ジフェニルジカルボン酸、６，６’−（エチレンジオキシ）ジ−２−ナフトエ酸などの６，６’−（アルキレンジオキシ）ジ−２−ナフトエ酸が挙げられる。また、かかるジオール成分としては、例えばエチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、１，６−ヘキサンジオールが挙げられる。

これらの中でも、高温での加工時の寸法安定性の点からは、エチレンテレフタレートまたはエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートを主たる繰り返し単位とするものが好ましく、特にエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートを主たる繰り返し単位とするものが好ましい。ここでいう主たるとは、好ましくは６０モル％以上、７０モル％以上、８０モル％以上、さらに９０モル％以上を意味する。

また、より環境変化に対する寸法安定性を向上させる観点から、国際公開２００８／０９６６１２号パンフレットに記載された６，６’−（エチレンジオキシ）ジ−２−ナフトエ酸成分、６，６’−（トリメチレンジオキシ）ジ−２−ナフトエ酸成分および６，６’−（ブチレンジオキシ）ジ−２−ナフトエ酸成分などの６，６’−（アルキレンジオキシ）ジ−２−ナフトエ酸成分を共重合したものも挙げられる。好ましい（アルキレンジオキシ）ジ−２−ナフトエ酸成分の共重合量は、全ジカルボン酸成分のモル数を基準として、５〜４０モル％の範囲、さらに６〜３５モル％の範囲、特に７〜３０モル％の範囲である。なお、６，６’−（アルキレンジオキシ）ジ−２−ナフトエ酸成分を共重合する場合は、エチレンテレフタレートまたはエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレート成分と、６，６’−（アルキレンジオキシ）ジ−２−ナフトエ酸成分との合計量が、全酸成分の９０モル％以上であることが好ましい。

本発明におけるポリエステルは、６，６’−（アルキレンジオキシ）ジ−２−ナフトエ酸成分を含有しない場合はο−クロロフェノール中、３５℃において、６，６’−（アルキレンジオキシ）ジ−２−ナフトエ酸成分を含有する場合はＰ−クロロフェノール／１，１，２，２−テトラクロロエタン（４０／６０重量比）の混合溶媒中、３５℃において、測定したときの固有粘度が０．４０ｄｌ／ｇ以上であることが好ましく、０．４０〜１．０ｄｌ／ｇであることがさらに好ましい。固有粘度が０．４ｄｌ／ｇ未満ではフィルム製膜時に切断が多発したり、成形加工後の製品の強度が不足したりすることがある。一方、固有粘度が１．０ｄｌ／ｇを超える場合は重合時の生産性が低下する。

本発明におけるポリエステルの融点は、２００〜３００℃であることが好ましく、更に好ましくは２１０〜２９０℃、特に好ましくは２２０〜２８０℃である。融点が下限に満たないと二軸配向フィルムの耐熱性が不十分な場合があり、融点が上限を超える場合は溶融混練する際の温度が非常に高温になり、熱劣化などを引き起こしやすくなる。
なお、本発明におけるポリエステルは、本発明の効果を損なわない範囲で、それ自体公知の他の共重合成分をさらに共重合、例えば繰り返し単位のモル数に対して１０モル％以下、さらに５モル％以下の範囲で共重合していてもよいし、他の熱可塑性樹脂などを、例えば２０質量％以下、さらに１０質量％以下の範囲でブレンドしても良い。

ところで、本発明の積層ポリエステルフィルムは、上述のポリエステルから製造できるが、搬送や巻取りなどの特性を実用上問題ない範囲で維持しつつ、データストレージにしたときの電磁変換特性を高度に維持させる観点から、磁性層を形成する側の表面は、平均粒子径０．０６−０．２９μｍの粒子を０．００１−０．１９質量％含有している必要がある。平均粒子径がこの範囲より小さい場合や、含有量が少ない場合は、搬送性が悪化してフィルムにスクラッチと称されるキズが入りやすくなり、エラーレートやドロップアウトの悪化を招く。さらに、磁気ヘッドとの摩擦が高くなるためサーマルアスピリティが悪化する可能性がある。また、粒子径や含有量がこれらの範囲を超える場合、例えば記憶容量が３ＴＢ以上などの高記録密度のデータストレージのベースフィルムに用いると、表面が粗くなりすぎてしまい、電磁変換特性が悪化してしまう。好ましい平均粒子径の範囲は、０．０７−０．２９μｍ、更に好ましくは０．０８−０．２４μｍである。また、好ましい含有量の範囲は、０．００１−０．１９質量％、好ましくは０．００３−０．１５質量％、更に好ましくは０．００５−０．１０質量％、特に好ましくは０．００８−０．０６質量％である。

含有させる粒子としては、もともと粗大粒子を含まないか含有するとしても極めて少ない粒子が好ましい。そのため、粒径分布曲線がシャープなものにしやすく、一次粒子の状態で存在しやすい粒子が好ましく、シリコーン粒子、架橋アクリル樹脂粒子、架橋ポリエステル粒子、架橋ポリスチレン粒子などの有機高分子粒子および球状シリカ粒子、シリカと有機高分子の複合体粒子、からなる群から選ばれる少なくとも１種の粒子であることが好ましく、特にシリコーン粒子、架橋ポリスチレン粒子および球状シリカ粒子、シリカーアクリルの複合体粒子からなる群から選ばれる少なくとも１種の粒子であることが好ましい。もちろん、これらの粒子を含有させる場合は、さらに粗大粒子をなくすため、フィルターでのろ過を行ったり、分散剤で粒子の表面を処理したり、押出機での混練を強化することが好ましい。

これらの粒子は、Ａ層、Ｂ層で同じ粒子種類であることが好ましいが、平均粒子径が同じであるならばその種類は異なっていても差し支えない。なお、本発明における平均粒子径が同じとは、粒子の平均粒子径（μｍ）を算出する際に、小数点三桁目を四捨五入して算出した小数点以下２桁までの値が同じであること、すなわち、平均粒子径が０．０１μｍ以上の大きさで異ならないことを意味する。

ところで、上記粒子は、粒子の粒径分布曲線を見たときの全粒子の粒子径の相対標準偏差が２０％以下、さらに１５％以下であることが必要である。そういった観点から、粒径分布曲線を見たときに、単一のピークを有することが好ましい。ピークが単一かどうかは、横軸に粒子径、縦軸に粒子頻度の粒径分布曲線を作成し、横軸の粒子径の測定ピッチを０．０１μｍとしたとき、ピークが１つしかないか、ピークが複数あったとしても、ピークとピークとの間に低いピークの方の高さに対して５０％以下となる凹みが存在しないことを意味する。

また、Ｂ層中に含有させる粒子は、Ｂ層の質量を基準として、含有量が０．０３〜０．９質量％、好ましくは０．０５〜０．７質量％、さらに好ましくは０．１０〜０．６質量％の範囲で、Ａ層中に含有させる粒子に対して、含有量が質量比で１．５倍以上である。この比率を下回ると、電磁変換特性、搬送性、巻取り性のバランスを取ることができない。なお、好ましくは２倍以上、さらに３倍以上である。また、上限はＢ層中に含有させる粒子の含有量が上記範囲であればよく、特に制限されない。

ところで、本発明の特徴の一つは、不活性粒子を含有させつつ、後述の地肌指数を極めて高くしたとき、これまで問題にならなかったような５つ以上の不活性粒子により形成される突起の割合が多くなってしまうという新たな課題を見出したことにある。これらの突起は、ミッシングパルスやエラーレートを発生させるほど高くはないが、通常の突起よりも大きいために、サーマルアスピリティを悪化させる原因となることが判った。そして、磁性層を形成する側のＡ層における粒子５個以上の凝集突起を３個／９ｃｍ^２以下にすることで、これらの問題も解消できることを見出したのである。また、同様な観点から、磁性層を形成しない側のＢ層における凝集突起も少なからず影響し、Ｂ層の粒子５個以上の凝集突起は１０個／９ｃｍ^２以下であることが必要である。Ａ層における粒子５個以上の凝集突起が上限を超えるか、Ｂ層における５個以上の凝集突起が上限を超えると、サーマルアスピリティが悪化する。好ましいＡ層における粒子５個以上の凝集突起の上限は２個以下、さらに１個以下である。また、好ましいＢ層における粒子５個以上の凝集突起の上限は６個以下、さらに４個以下である。

このような凝集突起を抑制する方法としては、特に制限されないが、含有させる粒子の分散性を極めて高くする必要があり、含有させる粒子として分散性の良い粒子を選択すること、粒子を分散させるポリエステルとして粒子が分散しやすいポリエステルを選択すること、粒子の分散性を高めるために粒子を重合時に添加し、さらに再度分散性を高めるための溶融混練を別途行うことなどが挙げられ、これらを組合せて行うことが好ましい。

なお、重合時に粒子を添加したときに粒子が分散しやすいポリエステルとしては、その原因は不明だが、ポリエステルの触媒も影響し、例えば、マンガン化合物とアンチモン化合物とを用いて重合する反応系に、不活性粒子を添加して製造することが好ましい。そのため、本発明における磁性層を形成する側のＡ層は、上記マンガン化合物とアンチモン化合物とを含有することが好ましい。より好ましくは、Ａ層だけでなく、Ｂ層も上記マンガン化合物とアンチモン化合物とを含有することが粒子の分散性の点から好ましい。

なお、上記不活性粒子を添加して製造したポリエステル組成物は、そのままＡ層用の樹脂として用いてもよいが、不活性粒子を添加して製造したポリエステル組成物をマスターポリマーとして、不活性粒子を含有しないポリエステルで所望の不活性粒子量となるように希釈することがより分散性を高められることから好ましい。なお、希釈ポリマーの触媒系は、不活性粒子の分散性への影響は比較的小さいので特に制限されないが、マスターポリマーと同じマンガン化合物とアンチモン化合物を用いていることが好ましい。

そういった観点から、本発明の積層ポリエステルフィルムは、磁性層を形成する側のＡ層が、触媒残渣としてマンガン化合物とアンチモン化合物とを、該Ａ層の質量を基準として、下記式（Ｉ）〜（ＩＩ）の範囲で含有することが好ましい。
１≦Ｍｎ≦１００ （Ｉ）
５≦Ｓｂ≦３００ （ＩＩ）
（式（Ｉ）−（ＩＩ）中の、Ｍｎは触媒残渣として含有されるマンガン化合物のマンガン元素量（ｐｐｍ）、Ｓｂは触媒残渣として含有されるマンガン化合物のマンガン元素量（ｐｐｍ）である。）ＭｎまたはＳｂが下限未満では、粒子分散性の向上効果が発現されにくく、他方上限を超えると触媒残渣に起因する粗大異物などができやすい。

そのような観点から、上記式（Ｉ）のマンガン元素量は、１〜１００ｐｐｍの範囲が好ましく、さらに２０〜９０ｐｐｍ、特に４０〜８０ｐｐｍの範囲が好ましい。また、そのような範囲にすることで、反応速度を促進しつつ、触媒起因の粗大不溶性異物の生成を抑制でき、さらに得られる共重合芳香族ポリエステルの耐熱性を高度に維持できる。同様な観点からアンチモン元素量は、５〜３００ｐｐｍの範囲が好ましく、さらに５０〜２５０ｐｐｍ、特に１５０〜２５０ｐｐｍの範囲が好ましい。上記範囲にあることで、反応速度を促進しつつ、触媒起因の粗大不溶性異物の生成を抑制できる。なお、本発明における好ましいポリエステルは、上記式（Ｉ）と（ＩＩ）を満足するような触媒組成であればよく、本発明の目的を損なわない範囲で、他の触媒を併用しても構わないが、好ましくはこれらマンガン化合物とアンチモン化合物とを全触媒残渣の９０質量％以上となるように用いることが好ましい。
具体的なマンガン化合物としては、酢酸マンガンが挙げられる。また、具体的なアンチモン化合物としては、三酸化アンチモンが挙げられる。

つぎに、本発明の積層ポリエステルフィルムの製造方法について説明する。まず、本発明におけるポリエステルの製造方法は、例えば芳香族ジカルボン酸もしくはそのエステル形成性誘導体とアルキレングリコールとをエステル化反応もしくはエステル交換反応させてポリエステルの前駆体を合成する第一反応と、該前駆体を重縮合反応させる第二反応とからなり、それ自体公知の方法を採用できる。

好ましい第一反応の条件については、常圧下で行ってもよいが、０．０５ＭＰａ〜０．５ＭＰａの加圧下で行うことが反応速度をより速めやすいことから好ましい。また、第一反応の温度は、２１０℃〜２７０℃の範囲で行うことが好ましい。反応圧力を上記範囲内とすることで反応の進行を進みやすくしつつ、ジアルキレングリコールに代表される副生物の発生を抑制できる。このとき、アルキレングリコール成分は、第一反応を行う反応系に存在する酸成分に対し１．１〜６モル倍用いることが、反応速度及び樹脂の物性維持の点から好ましい。より好ましくは２〜５モル倍、さらに好ましくは３〜５モル倍である。

また、第一反応の反応速度をより早くするには、それ自体公知の触媒を用いることが好ましく、たとえばＬｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｍｎ、Ｃｏ、Ｔｉなどの金属成分を有する金属化合物が好ましく挙げられるが、前述のとおり、粒子の分散性を向上させる目的でＭｎ化合物を使用することが好ましい。

つぎに、第一反応で得られた前駆体を重縮合反応させる第二反応について説明する。
本発明では、得られるポリエステルに、高度の熱安定性を付与させる目的で、第二反応における重縮合反応の開始以前に、反応系にリン化合物からなる熱安定剤を添加することが好ましい。具体的なリン化合物としては、化合物中にリン元素を有するものであれば特に限定されず、例えば、リン酸、亜リン酸、リン酸トリメチルエステル、リン酸トリブチルエステル、リン酸トリフェニルエステル、リン酸モノメチルエステル、リン酸ジメチルエステル、フェニルホスホン酸、フェニルホスホン酸ジメチルエステル、フェニルホスホン酸ジエチルエステル、リン酸アンモニウム、トリエチルホスホノアセテート、メチルジエチルホスホノアセテートなどを挙げることができ、これらのリン化合物は二種以上を併用してもよい。なお、リン化合物の添加時期は、第一反応が実質的に終了してから第二反応である重縮合反応初期の間に行うことが好ましく、添加は一度に行ってもよいし、２回以上に分割して行ってもよい。

ところで、重縮合反応の温度は２７０℃〜３００℃の範囲で行い、重縮合反応中の圧力は５０Ｐａ以下の減圧下で行うのが好ましい。重縮合反応中の圧力が上限より高いと重縮合反応に要する時間が長くなり且つ重合度の高い共重合芳香族ポリエステルを得ることが困難になる。重縮合触媒としては、それ自体公知のＴｉ，Ａｌ，Ｓｂ，Ｇｅなどの金属化合物を好適に使用でき、それらの中でも不活性粒子の分散性を向上させる目的で、少なくともアンチモン化合物を使用することが好ましい。

また、粒子を含有させる方法については、粒子をアルキレングリコールのスラリー状態として、フィルターなどによって粗大粒子を低減し、それを前述の重合工程で添加して、所望の粒子含有量のポリエステルを作成するか、粒子含有量が０．０２〜１．０質量％の粒子含有マスターポリエステルを作成し、該マスターポリエステルを、粒子を含有しないポリエステルで希釈するのが、粒子の凝集による粗大突起を低減する上で好ましい。また、本発明では、極めて高度の粒子分散性が求められることから、上記方法によって得られた粒子を含有させたポリエステル組成物を、そのままフィルムに製膜するための溶融混練押し出し機に投入するのではなく、その前に別途溶融混練過程を経て、さらに粒子の分散性を高めておくことが好ましい。このような別途の溶融混練過程としては、粒子を含有させたポリエステル組成物を、溶融製膜前に、別途溶融混練する方法でもよいし、一旦溶融製膜した後、それを回収してポリエステル組成物として用いる方法であってもよい。この際、別途の溶融混練としては、より粒子の分散性を高めやすいことから、一軸混練押し出し機よりも二軸混練押し出し機を用いることが好ましい。

また、このように別途の溶融混練を行って粒子の分散性を高める観点から、得られるＡ層、さらに好ましくはＡ層とＢ層の両層は、該フィルム層を構成するポリエステルの極限粘度が、０．５０ｄｌ／ｇ以上０．５４ｄｌ／ｇ以下であることが好ましく、さらに０．５１ｄｌ／ｇ以上０．５３ｄｌ／ｇ以下であることが好ましい。なお、Ａ層のポリエステルの極限粘度は、溶融押出し時、高シェアがかかり粒子の分散に有利になるための観点から、Ｂ層の極限粘度よりも大きいことが好ましい。

このようにして得られるポリエステル組成物は、本発明の効果を阻害しない範囲で、紫外線吸収剤等の安定剤、酸化防止剤、可塑剤、ワックスなどの滑剤、難燃剤、離型剤、核剤、を必要に応じて配合しても良い。なお、磁性層を形成する側の表面における地肌指数を所望の範囲とする観点から、ポリエステルと非相溶な他の熱可塑性ポリマー、顔料、充填剤、ガラス繊維、炭素繊維、層状ケイ酸塩などは含有させないことが好ましい。

ところで、本発明の積層ポリエステルフィルムの磁性層を形成する表面の地肌指数は８０〜９９．９９％の範囲である。更に好ましくは８５〜９９．５％の範囲、特に好ましくは９０〜９９．５％の範囲、もっとも好ましくは９６〜９９．５％の範囲であることが好ましい。この地肌指数は、非接触式三次元表面粗さ計によって測定された値であり、フィルム表面における突起や凹み部分を除外した面の面積比率を示す数値である。この地肌指数が電磁変換特性やテープカートリッジ保存後のエラーレートと密接な関係にあることを見出したのが本発明の特徴の一つである。地肌指数が、上記範囲にあることで、高度の電磁変換特性やテープカートリッジ保存後のエラーレートの低減を図りつつ、搬送性などを高度に両立できる。

このような地肌指数を所望の範囲にするには、粗面層側の粒子を前述した範囲内で配合することが効果的であるが、それだけでなく該積層ポリエステルフィルムの製造工程において延伸温度を後述するような条件にて延伸させることも極めて効果的である。なお、地肌指数を大きくしたい場合は、フィルムの横延伸時に粘弾性ができるだけ低くなる温度で、なおかつ、その温度自体で結晶が瞬時に進まない比較的高い温度での延伸といった条件を選択すればよく、他方小さくしたい場合は、フィルムの横延伸時に粘弾性の低下が起き始める温度での延伸といった、延伸温度を低くする条件を選択すればよい。

本発明の積層ポリエステルフィルムは、例えば、ポリエステルＡ層用のポリマーと、反対面を形成するポリエステルＢ層用のポリマーとを用意し、これらを溶融状態で積層してダイからシート状に共押出する工程、得られたシート状物を冷却固化することで、積層未延伸ポリエステルフィルムとする工程、そして得られた積層未延伸ポリエステルフィルムを製膜方向と幅方向に延伸することで製造できる。溶融状態で押し出す工程での温度は、未溶融物がなく、過度にポリエステルの熱劣化が進まない温度であれば特に制限されず、例えば、ポリエステルの融点（Ｔｍ：℃）ないし（Ｔｍ＋７０）℃の温度で行うことが好ましい。つぎに、冷却については、得られる積層未延伸ポリエステルフィルムの平坦性を維持しつつ、厚み斑も少なくするために、フィルム製膜方向に沿ってダイの下方に設置された回転する冷却ドラムを用い、それにシート状物を密着させて冷却するのが好ましい。つづいて、延伸については、積層未延伸ポリエステルフィルムを、一軸方向（縦方向または横方向）に（ポリエステルのガラス転移温度（Ｔｇ）−１０）℃〜（Ｔｇ＋６０）℃の温度で２．５倍以上、好ましくは３倍以上の倍率で延伸し、次いで上記延伸方向と直交する方向にＴｇ〜（Ｔｇ＋６０）℃の温度で２．５倍以上、好ましくは３倍以上の倍率で延伸するのが好ましい。この際、前述した地肌指数を所望の範囲内に収めるため、横延伸温度は、（Ｔｇ＋２５）〜（Ｔｇ＋６０）℃の範囲で延伸させることが望ましい。更に好ましくは（Ｔｇ＋３０）〜（Ｔｇ＋６０）℃、特に好ましくは（Ｔｇ＋３０）〜（Ｔｇ＋５５）℃が望ましく、最も望ましくは（Ｔｇ＋３５）〜（Ｔｇ＋５５）℃の範囲である。この際、横延伸温度は、段階的に引き上げることが好ましく、いずれの温度も上記範囲内にあることが好ましい。横延伸温度がＴｇに対して低すぎたりすると過度な延伸時応力が粒子に集中し、その結果、粒子周辺のボイドが大きくなることで突起が高く且つ、大きなものとなる。一方、上述した温度領域でマイルドに横延伸させた場合、同時に横延伸倍率を通常よりも高くすることで粗面層側を平坦化させることができ、その結果、所望の高さと大きさを有する突起を形成することが可能になる。

さらに必要に応じて縦方向および／または横方向に再度延伸してもよい。このように延伸したときの全延伸倍率は、面積延伸倍率（縦方向の延伸倍率×横方向の延伸倍率）として９倍以上が好ましく、１２〜３５倍がさらに好ましく、１５〜３０倍が特に好ましい。さらにまた、二軸配向フィルムは、（Ｔｍ−７０）〜（Ｔｍ−１０）℃の温度で熱固定することができ、例えば１８０〜２５０℃で熱固定するのが好ましい。熱固定時間は０．１〜６０秒が好ましい。また、前述の延伸は逐次二軸延伸で説明したが、縦方向と横方向に同時に延伸する同時二軸延伸を用いても良い。

本発明の積層ポリエステルフィルムは、高密度磁気記録媒体のベースフィルムとして用いた際に優れた寸法安定性を発現するために、長手方向のヤング率が３〜１０ＧＰａ、さらに３．５〜９ＧＰａ、特に４〜８ＧＰａであることが好ましい。一方、幅方向のヤング率は、ベースフィルムでの温度膨張係数を後述の範囲とさせやすい観点から、４〜１５ＧＰａ、さらに５〜１４ＧＰａ、特に６〜１３ＧＰａ、もっとも好ましくは７〜１１ＧＰａの範囲であることが好ましい。幅方向のヤング率が下限未満では、磁気記録テープとしたときの温度膨張係数を小さくすることが困難となり、他方上限を超えると、磁気記録テープとしたときの温度膨張係数が過度に小さくなってしまう。

本発明の積層ポリエステルフィルムの全厚みは、２．０〜８．０μｍが好ましい。より好ましくは２．５〜７μｍ、さらに好ましくは３〜６μｍ、特に好ましくは３．０−４．５μｍである。厚みが下限より小さい場合は、テープに腰がなくなるため、電磁変換特性が低下する。厚みが上限を超える場合は、テープ１巻あたりのテープ長さが短くなるため、磁気テープの小型化、高容量化が困難になりやすい。

また、本発明の積層ポリエステルフィルムは、磁性層を形成する平坦層側の表面を形成するポリエステル層をＡ層とした場合、その厚みが、積層ポリエステルフィルムの厚みに対して、２０〜９９％、さらに３０〜９８％、特に４０〜９７％の範囲にあることが好ましい。Ａ層が全厚に対して下限未満の場合、磁性層を形成しない粗面層側のポリエステル層（Ｂ層）に含まれる粒子の突上げが発生し、電磁変換特性が悪化しやすくなる。他方、Ａ層の厚みを上限以下にすることで、Ａ層に含有される粒子の脱落を抑制できる。なお、通常であれば、回収した樹脂をＡ層の表面の平坦性を損なわずに再利用しようとすると、Ｂ層にしか用いられず、前述のようにＢ層の厚みを薄くすると再利用できる割合が極端に低下する。しかしながら、本発明では、Ａ層とＢ層がともに同一粒子径の粒子を含有することから、いずれの層にも用いることができ、Ａ層を厚く、Ｂ層を極めて薄くしても再利用できる割合は、極めて高度に維持できる。

本発明の積層ポリエステルフィルムは、高密度磁気記録テープ、特にディジタル記録型磁気記録テープのベースフィルムとして好ましく用いられる。そこで、本発明の積層ポリエステルフィルムを用いた磁気記録媒体について、さらに説明する。
本発明の磁気記録媒体は、上述の積層ポリエステルフィルムに磁性層を形成することで製造できる。なお、本発明の積層ポリエステルフィルムの表面には、磁性層などとの接着性を向上させるために、本発明の効果を損なわない範囲で、それ自体公知の易接着機能を有する塗膜層などを形成しても良い。

本発明の磁気記録テープにおける磁性層は、鉄または鉄を主成分とする針状微細磁性粉やバリウムフェライトをポリ塩化ビニル、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体等のバインダーに均一分散し、その塗液を塗布して形成したものであり、前述のとおり、本発明の積層ポリエステルフィルムを使用することで、寸法安定性と電磁変換特性やエラーレート性能に選りすぐれた磁気記録テープとすることができる。

なお、磁性層は、その厚みが１μｍ以下、さらに０．１〜１μｍとなるように塗布するのが、特に短波長領域での出力、Ｓ／Ｎ、Ｃ／Ｎ等の電磁変換特性に優れ、ドロップアウト、エラーレートの少ない高密度記録用塗布型磁気記録テープとする観点から好ましい。また、必要に応じて、塗布型磁性層の下地層として、微細な酸化チタン粒子等を含有する非磁性層を磁性層と同様の有機バインダー中に分散し、塗設することも好ましい。

また、磁性層の表面には、目的、用途、必要に応じてダイアモンドライクカーボン（ＤＬＣ）等の保護層、含フッ素カルボン酸系潤滑層を順次設け、さらに他方の表面に、公知のバックコート層を設けてもよい。
このようにして得られる塗布型磁気記録テープは、データ８ミリ、ＤＤＳＩＶ、ＤＬＴ、Ｓ−ＤＬＴ、ＬＴＯ等のデータ用途の磁気テープとして極めて有用である。

以下に実施例及び比較例を挙げ、本発明をより具体的に説明する。なお、本発明におけるポリエステル、積層ポリエステルフィルムおよびデータストレージの特性は、下記の方法で測定および評価した。

（１）固有粘度
得られたポリエステルの固有粘度は、前述のとおり、ｏ−クロロフェノール、３５℃で測定し、ｏ−クロロフェノールでは均一に溶解するのが困難な場合は、ｐ−クロロフェノール／１，１，２，２−テトラクロロエタン（４０／６０重量比）の混合溶媒を用いて３５℃で測定して求めた。

（２）フィルム中の粒子の粒径、平均粒子径、粒子径の相対標準偏差
フィルム表面層のポリエステルをプラズマ低温灰化処理法（例えばヤマト科学製、ＰＲ−５０３型）で除去し、粒子を露出させる。処理条件は、ポリエステルは灰化されるが粒子はダメージを受けない条件を選択する。これをＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）にて１万倍程度の倍率で粒子を観察し、粒子の画像（粒子によってできる光の濃淡）をイメージアナライザー（例えば、ケンブリッジインストルメント製、ＱＴＭ９００）に結びつけ、観察箇所を変えて少なくとも５，０００個の粒子の面積円相当径（Ｄｉ）を求める。この結果から粒子の粒径分布曲線を作成し、数平均を平均粒子径とし、粒子径の標準偏差を前記平均粒子径で割った値を相対標準偏差とした。なお、粒子種の同定はＳＥＭ−ＸＭＡ、ＩＣＰによる金属元素の定量分析などを使用して行うことができる。また、添加する粒子の平均粒子径も、同様な測定を行って算出した。

（３）凝集突起数
フィルム表面層のポリエステルをプラズマ低温灰化処理法（例えばヤマト科学製、ＰＲ−５０３型）で除去し、粒子を露出させる。処理条件は、ポリエステルは灰化されるが粒子はダメージを受けない条件を選択する。これをＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）にて１万倍程度の倍率で粒子を観察する。フィルム表面上の突起は、延伸により粒子の周辺にボイドが発生する。ボイドの中に１つの粒子がある場合は凝集ではない。ボイドの中に５つ以上の粒子がある場合に凝集による突起とし、粒子５個以上の凝集突起する。そして、１００個のボイドを確認し、それに要した測定面積から９ｃｍ^２あたりに存在する粒子５個以上の凝集突起数を算出した。

（４）触媒残渣
触媒残渣としてのマンガン、アンチモン原子のフィルム中の濃度は、蛍光Ｘ線装置（理学電機工業３２７０Ｅ型）にて定量分析した。

（５）粒子の含有量
（５−１）各層中の粒子の総含有量
積層二軸配向ポリエステルフィルムからポリエステルＡ層、ポリエステルＢ層を各々１００ｇ程度削り採ってサンプリングし、ポリエステルは溶解し粒子は溶解させない溶媒を選択して、サンプルを溶解した後、粒子をポリエステルから遠心分離し、サンプル重量に対する粒子の比率（質量％）をもって各層中の粒子総含有量とする。

（５−２）各層中の無機粒子の総含有量
積層ポリエステルフィルムの無機粒子が存在する場合は、ポリエステルＡ層、ポリエステルＢ層を各々削り採って１００ｇ程度サンプリングし、これを白金ルツボ中にて１，０００℃程度の炉の中で３時間以上燃焼させ、次いでルツボ中の燃焼物をテレフタル酸（粉体）と混合し５０グラムの錠型のプレートを作成する。このプレートを、波長分散型蛍光Ｘ線を用いて各元素のカウント値をあらかじめ作成してある元素毎の検量線より換算し各層中の無機粒子の総含有量を決定する。蛍光Ｘ線を測定する際のＸ線管はＣｒ管が好ましくＲｈ管で測定してもよい。Ｘ線出力は４ＫＷと設定し分光結晶は測定する元素毎に変更する。材質の異なる無機粒子が複数種類存在する場合は、この測定により各材質の無機粒子の含有量を決定する。

（５−３）各層中の各種粒子の含有量（無機粒子が存在しない場合）
層中に無機粒子が存在しない場合は、前記（２）により求めたピークを構成する各粒子の個数割合と平均粒子径と粒子の密度から各ピーク領域に存在する粒子の重量割合を算出し、これと前記（５−１）で求めた各層中の粒子の総含有量とから、各ピーク領域に存在する粒子の含有量（質量％）を求める。
なお、代表的な微粒子の密度は下記のとおりである。
架橋シリコーン樹脂の密度 ： １．３５ｇ／ｃｍ^３
架橋ポリスチレン樹脂の密度： １．０５ｇ／ｃｍ^３
架橋アクリル樹脂の密度 ： １．２０ｇ／ｃｍ^３
なお、樹脂の密度は（５−１）の方法でポリエステルから遠心分離した粒子をさらに分別し、例えば、ピクノメーターにより「微粒子ハンドブック：朝倉書店、１９９１年版、１５０頁」に記載の方法で測定することができる。

（５−４）各層中の各種粒子の含有量（無機粒子が存在する場合）
層中に無機粒子が存在する場合は、前記（５−１）で求めた各層中の粒子の総含有量と前記（５−２）で求めた各層中の無機粒子の総含有量とから層中の有機粒子と無機粒子の含有量をそれぞれ算出し、有機粒子の含有量は上記（５−３）の方法で、無機粒子の含有量は上記（５−２）の方法で、それぞれ含有量（質量％）を求める。

（６）フィルムおよび各ポリエステル層の厚み
（６−１）フィルムの厚み
ゴミが入らないようにフィルムを１０枚重ね、打点式電子マイクロメータにて厚みを測定し、１枚当たりのフィルム厚みを計算する。

（６−２）各ポリエステル層の厚み
２次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）を用いて、表層から深さ３，０００ｎｍ迄の範囲のフィルム中の粒子の内もっとも高濃度の粒子に起因する元素とポリエステルの炭素元素の濃度比（Ｍ＋／Ｃ＋）を粒子濃度とし、表面から深さ３，０００ｎｍまで厚さ方向の分析を行う。表層では表面という界面のために粒子濃度は低く表面から遠ざかるにつれて粒子濃度は高くなる。そして一旦極大値となった粒子濃度がまた減少し始める。この濃度分布曲線をもとに表層粒子濃度が極大値の１／２となる深さ（この深さは極大値となる深さよりも深い）を求め、これを表層厚さとする。そして、先ほどのフィルムの厚みと表層厚みとから、各層の厚みを算出する。
条件は次のとおりである。
（ａ）測定装置：２次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）
（ｂ）測定条件
１次イオン種 ：Ｏ^２＋
１次イオン加速電圧：１２ＫＶ
１次イオン電流：２００ｎＡ
ラスター領域 ：４００μｍ□
分析領域 ：ゲート３０％
測定真空度 ：０．８Ｐａ（６．０×１０^−３Ｔｏｒｒ）
Ｅ−ＧＵＮ ：０．５ＫＶ−３．０Ａ
なお、表層から深さ３０００ｎｍ迄の範囲にもっとも多く含有する粒子が有機高分子粒子の場合はＳＩＭＳでは測定が難しいので、表面からエッチングしながらＸＰＳ（Ｘ線光電子分光法）、ＩＲ（赤外分光法）などで上記同様のデプスプロファイルを測定し、表層厚さを求めてもよい。

（７）ヤング率
フィルムを試料幅１０ｍｍ、長さ１５ｃｍに切り、チャック間１００ｍｍにして、引張速度１０ｍ／ｍｉｎ、チャート速度５００ｍｍ／ｍｉｎの条件でインストロンタイプの万能引張試験装置にて引っ張る。得られる荷重−伸び曲線の立上り部の接線よりヤング率を計算する。

（８）表面粗さ（Ｒａ）
非接触式三次元表面粗さ計（ＺＹＧＯ社製：Ｎｅｗ Ｖｉｅｗ５０２２）を用いて測定倍率２５倍、測定面積２８３μｍ×２１３μｍ（＝０．０６０３ｍｍ^２）の条件にて測定し、該粗さ計に内蔵された表面解析ソフトＭｅｔｒｏ Ｐｒｏにより中心面平均粗さ（Ｒａ）を求め、これを表面粗さ（Ｒａ）とした。なお、測定は測定箇所を変えて１０回行い、それらの平均値を中心面平均粗さ（Ｒａ）とした。また積層ポリエステルフィルムの平坦な側（Ａ層側）の表面の表面粗さをＲａＡ、粗い側（Ｂ層側）の表面の粗さをＲａＢとした。

（９）地肌指数
非接触式三次元表面粗さ計（ＺＹＧＯ社製：Ｎｅｗ Ｖｉｅｗ５０２２）を用いて、上述（６）の条件にてＲａを測定後、該粗さ計に内蔵されたソフトＭｅｔｒｏ Ｐｒｏにより、表面のセンターラインから高さ方向に凸側と凹側にそれぞれ５ｎｍずつ離れたラインを引き、それ以上の高さを有するものを突起と認識させ、さらに０．５μｍ^２以上の面積を有する突起を突起数としてカウントした。この突起全ての突起面積を合計し、測定面積２８３μｍ×２１３μｍ＝（０．０６０３ｍｍ^２）から差し引いた値を測定面積に対する百分率で表した数値を本発明でいう地肌指数として求めた。なお、測定は測定箇所を変えて１０回行い、それらの平均値を地肌指数とした。

（１０）フィルムの静摩擦係数
ポリエステルＡ層側の表面とポリエステルＢ層側の表面とを重ね合せた２枚のフィルム（それぞれ縦方向２０ｃｍ×横方向１０ｃｍ）の下側に固定したアクリル板を置き、重ね合せた２枚のフィルムの上側の中央部にスレッドを配置し、重ね合せたフィルムの表面粗さが大きい側を下にしてアクリル板に固定し、アクリル板を低速ロールにて引取り（１０ｃｍ／ｍｉｎ）、上側のフィルムの一端（下側フィルムの引取り方向と逆端）に検出器を固定してフィルム／フィルム間のスタート時の引張力を検出する。なお、そのときに用いるスレッドは重さ２００ｇ、下側面積５０ｃｍ^２（縦方向１０ｃｍ×横方向５ｃｍの長方形）のものを使用する。
なお、静摩擦係数（μｓ）は次式より求めた。
μｓ＝（スタート時の引張力ｇ）／（荷重２００ｇ）
フィルムの静摩擦係数が大きくなると、滑り性が低下し、フィルムをロール状に巻き取る際、シワや欠陥が出やすくなる。

（１１）走行フィルム貼りつき試験
市販のフリクションテスターを用いて、幅１２．７ｍｍ、長さ３０ｃｍのフィルムを試験片として準備し、荷重１００ｇ、速度１０ｍｍ／秒、走行長さ１０ｃｍ、繰り返し回数３０回の条件下で、粗さ１９ｎｍ、直径６ｍｍのクロムメッキ性の金属ガイドローラーに抱き角９０°でフィルムの平坦面側を走行させた。走行させた際に、走行は安定していたが、走行後のフィルムを実体顕微鏡で観察したときに長さ１ｃｍ以上の傷が５本以下だった場合を△、フィルムが金属ガイドローラーに貼りついて走行が不安定になったり、傷が５本から無数に入ったりしたものを×として評価した。
○：貼りつきが起こらずフィルム搬送が安定し、長さ１ｃｍ以上の傷がない
△：貼りつきが起こらずフィルム搬送が安定し、長さ１ｃｍ以上の傷が５本以下
×：貼りつきが起こり、フィルム搬送が不安定、もしくは傷が５本以上

（１２）磁気テープの作成
各実施例及び比較例で得られた幅１０００ｍｍ、長さ１０００ｍの積層二軸配向ポリエステルフィルムの粗面層（Ａ層）側表面に、下記組成のバックコート層塗料をダイコータ（加工時の張力：２０ＭＰａ、温度：１２０℃、速度：２００ｍ／分）で、塗布し、乾燥させた後、フィルムの平坦層（Ｂ層）側表面に下記組成の非磁性塗料、磁性塗料をダイコータで同時に膜厚を変えて塗布し、磁気配向させて乾燥させる。さらに、小型テストカレンダ−装置（スチ−ルロール／ナイロンロール、５段）で、温度：７０℃、線圧：２００ｋｇ／ｃｍでカレンダ−処理した後、７０℃、４８時間キュアリングする。上記テ−プを１２．６５ｍｍにスリットし、カセットに組み込み磁気記録テープとした。なお、乾燥後のバックコート層、非磁性層および磁性層の厚みは、それぞれ０．５μｍ、１．２μｍおよび０．１μｍとなるように塗布量を調整した。
＜非磁性塗料の組成＞
・二酸化チタン微粒子 ：１００重量部
・エスレックＡ（積水化学製塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体 ：１０重量部
・ニッポラン２３０４（日本ポリウレタン 製ポリウレタンエラストマ）：１０重量部
・コロネートＬ（日本ポポリウレタン製ポリイソシアネート） ： ５重量部
・レシチン ： １重量部
・メチルエチルケトン ：７５重量部
・メチルイソブチルケトン ：７５重量部
・トルエン ：７５重量部
・カーボンブラック ： ２重量部
・ラウリン酸 ：１．５重量部
＜磁性塗料の組成＞
・鉄（長軸：０．０３７μｍ、針状比：３．５、２３５０エルステッド）：１００重量部
・エスレックＡ（積水化学製塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体 ：１０重量部
・ニッポラン２３０４（日本ポリウレタン 製ポリウレタンエラストマ）：１０重量部
・コロネートＬ（日本ポリウレタン製ポリイソシアネート） ： ５重量部
・レシチン ： １重量部
・メチルエチルケトン ：７５重量部
・メチルイソブチルケトン ：７５重量部
・トルエン ：７５重量部
・カーボンブラック ： ２重量部
・ラウリン酸 ：１．５重量部
＜バックコート層塗料の組成：＞
カーボンブラック ：１００重量部
熱可塑性ポリウレタン樹脂 ：６０重量部
イソシアネート化合物 ：１８重量部
（日本ポリウレタン工業社製コロネートＬ）
シリコーンオイル ：０．５重量部
メチルエチルケトン ：２５０重量部
トルエン ：５０重量部

（１３）電磁変換特性
電磁変換特性測定には、ヘッドを固定した１／２インチリニアシステムを用いた。記録は、電磁誘導型ヘッド（トラック幅２５μｍ、ギャップ０．１μｍ）を用い、再生はＭＲヘッド（８μｍ）を用いた。ヘッド／テープの相対速度は１０ｍ／秒とし、記録波長０．２μｍの信号を記録し、再生信号をスペクトラムアナライザーで周波数分析し、キャリア信号（波長０．２μｍ）の出力Ｃと、スペクトル全域の積分ノイズＮの比をＣ／Ｎ比とし、上記１０の方法で作成した実施例９を０ｄＢとした相対値を求め、以下の基準で、評価した。
◎ ： ＋１ｄＢ以上
○ ： −１ｄＢ以上、＋１ｄＢ未満
× ： −１ｄＢ未満

（１４）エラーレート
上記（１２）で作製したテープ原反を１２．６５ｍｍ（１／２インチ）幅にスリットし、それをＬＴＯ用のケースに組み込み、磁気記録テープの長さが８５０ｍのデータストレージカートリッジを作成した。このデータストレージを、ＩＢＭ社製ＬＴＯ５ドライブを用いて２３℃５０％ＲＨの環境で記録し（記録波長０．５５μｍ）、次に、カートリッジを５０℃、８０％ＲＨ環境下に７日間保存した。カートリッジを１日常温に保存した後、全長の再生を行い、再生時の信号のエラーレートを測定した。エラーレートはドライブから出力されるエラー情報（エラービット数）から次式にて算出する。次の基準でエラーレートを評価する。
エラーレート＝（エラービット数）／（書き込みビット数）
◎：エラーレートが１．０×１０^−６未満
○：エラーレートが１．０×１０^−６以上、１．０×１０^−４未満
×：エラーレートが１．０×１０^−４以上

（１５）ドロップアウト（ＤＯ）
上記（１４）でエラーレートを測定したデータストレージカートリッジを、ＩＢＭ社製ＬＴＯ５ドライブに装填してデータ信号を１４ＧＢ記録し、それを再生した。平均信号振幅に対して５０％以下の振幅（Ｐ−Ｐ値）の信号をミッシングパルスとし、４個以上連続したミッシングパルスをドロップアウトとして検出した。なお、ドロップアウトは８５０ｍ長１巻を評価し、１ｍ当たりの個数に換算して、下記の基準で判定する。
◎：ドロップアウト ３個／ｍ未満
○：ドロップアウト ３個／ｍ以上、９個／ｍ未満
×：ドロップアウト ９個／ｍ以上

（１６）サーマルアスペリティ
上記で作成したデータストレージテープをエラーレートと同様にＩＢＭ社製ＬＴＯ５ドライブを用いて再生信号を読み取る。読み取ったそれぞれの再生波形のうち５００ｋＨｚ以下の低域成分が発生した場合、その低域成分をサーマルアスピリティ成分としてカウントし、次式にて算出する。次の基準で、サーマルアスピリティを評価する。
サーマルアスピリティ＝（サーマルアスピリティ数）／（再生波形数）
◎：サーマルアスピリティが１．０×１０^−４未満
○：サーマルアスピリティが１．０×１０^−４以上、１．０×１０^−２未満
×：サーマルアスピリティが１．０×１０^−２以上

［実施例１］
２，６−ジメチルナフタレート１００部とエチレングリコール５６部の混合物に、酢酸マンガン・４水和物０．０３１３部を加圧反応が可能なＳＵＳ（ステンレス）製容器に仕込み、０．０７ＭＰａの加圧を行い１４０℃から２４０℃に昇温しながらエステル交換反応させた後、トリエチルホスホノアセテート０．０４２部を添加し、エステル交換反応を終了させた。
その後、反応生成物を重合容器に移し、２９０℃まで昇温して３酸化アンチモン０．０２３９部を添加し１００Ｐａの高真空にて重縮合反応を行い、固有粘度０．６２、ジエチレングリコール量１．５モル％（２，６−エチレンナフタレート成分対比）の希釈用ポリエチレン−２，６−ナフタレート樹脂組成物（ＰＥＮ−０）を得た。

また、上記と同様に２，６−ジメチルナフタレート１００部とエチレングリコール５６部の混合物に、酢酸マンガン・４水和物０．０３１３部を加圧反応が可能なＳＵＳ（ステンレス）製容器に仕込み、０．０７ＭＰａの加圧を行い１４０℃から２４０℃に昇温しながらエステル交換反応させた後、トリエチルホスホノアセテート０．０４２部を添加し、エステル交換反応を終了させた。
その後、反応生成物を重合容器に移し、滑剤として平均粒子径０．１２μｍの真球状シリカ粒子を０．０１質量％を添加し、２９０℃まで昇温して３酸化アンチモン０．０２３９部を添加し１００Ｐａの高真空にて重縮合反応を行い、固有粘度０．６２、ジエチレングリコール量１．５モル％（２，６−エチレンナフタレート成分対比）のＡ層用ポリエチレン−２，６−ナフタレート樹脂組成物（ＰＥＮ−Ａ１）を得た。さらに、二軸混練押出機（（株）神戸製鋼所、機種名：ＨＹＰＥＲＫＴＸ）を使用して、ＰＥＮ−Ａ１を再度溶融押出し、真球状シリカの分散性を向上させたＰＥＮ−Ａ１ａを得た。
さらに、上記ＰＥＮ−Ａ１と含有させる真球状シリカ粒子の量を１．０質量％に変更加する以外は同様にしてＢ層用ポリエチレン−２，６−ナフタレート樹脂組成物（ＰＥＮ−Ｂ１）を得た。さらに、二軸混練押出機（（株）神戸製鋼所、機種名；ＨＹＰＥＲＫＴＸ）を使用して、ＰＥＮ−Ｂ１を再度溶融押出し、真球状シリカの分散性を向上させたＰＥＮ−Ｂ１ａを得た。

そして、Ａ層用はＰＥＮ−Ａ１を単独で、Ｂ層用はＰＥＮ−Ｂ１とＰＥＮ−０のペレットを配合して粒子量が０．４重量％になるように配合した。これらのチップを１７０℃で６時間乾燥した後、２台の押出機ホッパーにそれぞれ供給し、溶融温度３１０℃で、Ａ層：Ｂ層＝４２：５８の厚み比率でダイから冷却ドラム上にシート状に共押出し、積層未延伸ポリエステルフィルムを得た。この積層未延伸フィルムをスプリットカッターで粉砕し再度押出機（（株）神戸製鋼所、機種名；ＨＹＰＥＲＫＴＸ）にて溶融押出を行い、ペレットを作成した。このペレットをＰＥＮ−Ｃ１とする。そして、ＰＥＮ−Ｃ１および、希釈用のＰＥＮ−０を配合して、合計の真球状シリカ粒子濃度０．０１質量％のＡ層用のチップを作成した。さらに、ＰＥＮ−Ｃ１をとＰＥＮ−Ｂ１を合計の真球状シリカ粒子濃度０．４質量％となるように配合して、Ｂ層用のチップを作成した。これらのチップを使用して、１７０℃で６時間乾燥した後、２台の押出機ホッパーにそれぞれ供給し、溶融温度３１０℃で、Ａ層：Ｂ層＝４２：５８の厚み比率でダイから冷却ドラム上にシート状に共押出し、積層未延伸ポリエステルフィルムを得た。

このようにして得られた積層未延伸ポリエステルフィルムを、１２０℃に予熱し、上方よりＩＲヒーターにてフィルム表面温度が１４０℃になるように加熱し、延伸倍率５．０倍で縦方向（製膜方向）の延伸を行った。続いて、１５５℃に加熱されたステンター内に供給し、１６５℃、１７０℃に段階的に温度を上げながら、横方向に５．３倍に延伸（第１段）後、更に１８０℃に加熱されたステンター内に供給して再度横方向に１．２倍に延伸した後、２１０℃の熱風で４秒間熱固定し、厚み３．８μｍの積層二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた積層二軸配向ポリエステルフィルムのヤング率は縦方向６．０ＧＰａ、横方向９．１ＧＰａであった。ポリエステルＡ層の地肌指数は９９．００％であった。
得られた積層二軸配向ポリエステルフィルムの特性を表１に示す。

［実施例２］
二軸混練押出機（（株）神戸製鋼所、機種名：ＨＹＰＥＲＫＴＸ）を使用して、実施例１におけるＰＥＮ−Ａ１を再度溶融押出し、真球状シリカの分散性を向上させたＰＥＮ−Ａ１ａを得た。また、二軸混練押出機（（株）神戸製鋼所、機種名；ＨＹＰＥＲＫＴＸ）を使用して、実施例１におけるＰＥＮ−Ｂ１を再度溶融押出し、真球状シリカの分散性を向上させたＰＥＮ−Ｂ１ａを得た。
そして、実施例１において、ＰＥＮ−Ａ１の代りにＰＥＮ−Ａ１ａを用い、ＰＥＮ−Ｂ１の代りにＰＥＮ−Ｂ１ａを用いた以外はと同様な操作を繰り返した。得られた積層二軸配向ポリエステルフィルムの特性を表１に示す。

［実施例３］
実施例２において、真球状シリカ粒子の代りに、平均粒子径０．１５μｍのシリカーアクリル粒子を用い、その粒子含有量を表１に示す量となるように変更したほかは同様な操作を繰り返した。なお、シリカーアクリル粒子は日本触媒製ソリオスターＳＰ−０１（固形分５％の水分散体）の分散媒をエチレングリコールに置換し手から用いた。また、粒子含有量の調整は、Ａ層は重合時に添加する粒子量で調整し、Ｂ層は希釈するＰＥＮ−０との配合比で調整した。
得られた積層二軸配向ポリエステルフィルムの特性を表１に示す。

［実施例４］
実施例２において、真球状シリカ粒子の代りに、平均粒子径０．１５μｍの架橋ポリスチレン粒子を用い、その粒子含有量を表１に示す量となるように変更したほかは同様な操作を繰り返した。また、粒子含有量の調整は、Ａ層は重合時に添加する粒子量で調整し、Ｂ層は希釈するＰＥＮ−０との配合比で調整した。
得られた積層二軸配向ポリエステルフィルムの特性を表１に示す。

［実施例５］
実施例２において、真球状シリカ粒子の含有量を表１に示す量となるように変更したほかは同様な操作を繰り返した。また、粒子含有量の調整は、Ａ層は重合時に添加する粒子量で調整し、Ｂ層は希釈するＰＥＮ−０との配合比で調整した。
得られた積層二軸配向ポリエステルフィルムの特性を表１に示す。

［実施例６］
実施例２において、真球状シリカ粒子の代りに、平均粒子径０．０６μｍの架橋ポリスチレン粒子を用い、その粒子含有量を表１に示す量となるように変更したほかは同様な操作を繰り返した。また、粒子含有量の調整は、Ａ層は重合時に添加する粒子量で調整し、Ｂ層は希釈するＰＥＮ−０との配合比で調整した。
得られた積層二軸配向ポリエステルフィルムの特性を表１に示す。

［実施例７］
実施例２において、真球状シリカ粒子の代りに、平均粒子径０．２４μｍの架橋ポリスチレン粒子を用い、その粒子含有量を表１に示す量となるように変更したほかは同様な操作を繰り返した。また、粒子含有量の調整は、Ａ層は重合時に添加する粒子量で調整し、Ｂ層は希釈するＰＥＮ−０との配合比で調整した。
得られた積層二軸配向ポリエステルフィルムの特性を表１に示す。

［実施例８］
実施例２において、Ａ層の真球状シリカ粒子の含有量を表１に示す量となるように変更したほかは同様な操作を繰り返した。なお、粒子含有量の調整は、重合時に添加する粒子量で調整した。
得られた積層二軸配向ポリエステルフィルムの特性を表１に示す。

［実施例９、１０］
実施例２において、Ｂ層の真球状シリカ粒子の含有量を表１に示す量となるように、ＰＥＮ−０との配合比を変更したほかは同様な操作を繰り返した。
得られた積層二軸配向ポリエステルフィルムの特性を表１に示す。

［実施例１１］
実施例２において、触媒量を変更したほかは同様な操作を繰り返した。なお、ＰＥＮ−０、ＰＥＮ−Ａ１、ＰＥＮ−Ｂ１の固有粘度はそれぞれ０．６０ｄｌ／ｇであった。
得られた積層二軸配向ポリエステルフィルムの特性を表１に示す。

［比較例１］
２，６−ジメチルナフタレート１００部とエチレングリコール５６部の混合物に、テトラ−ｎ−ブチルチタネート０．０１１部を加圧反応が可能なＳＵＳ（ステンレス）製容器に仕込み、０．０７ＭＰａの加圧を行い１４０℃から２４０℃に昇温しながらエステル交換反応させた後、トリエチルホスホノアセテート０．０４２部を添加し、エステル交換反応を終了させた。
その後、反応生成物を重合容器に移し、滑剤として平均粒子径０．１２μｍの真球状シリカ粒子を０．０１質量％を添加し、２９０℃まで昇温して１００Ｐａの高真空にて重縮合反応を行い、固有粘度０．６２、ジエチレングリコール量１．５モル％（２，６−エチレンナフタレート成分対比）のＡ層用ポリエチレン−２，６−ナフタレート樹脂（ＰＥＮーＡ２）組成物を得た。また上記と同様に、滑剤として平均粒子径０．１２μｍの真球状シリカ粒子１．０質量％を添加する以外は同様にしてＢ層用ポリエチレン−２，６−ナフタレート樹脂（ＰＥＮーＢ２）組成物を得た。そして、ＰＥＮ−Ａ１の代りにＰＥＮ−Ａ２を、ＰＥＮ−Ｂ１の代りにＰＥＮ−Ｂ２を用いる以外は、実施例１と同様な操作を繰り返した。
得られた積層二軸配向ポリエステルフィルムの特性を表２に示す。

［比較例２］
実施例２において、ＰＥＮ−Ａ１の代りに、ＰＥＮ−０を用い、真球状シリカ粒子を含有させなかったほかは実施例２と同様な操作を繰り返した。
得られた積層二軸配向ポリエステルフィルムの特性を表２に示す。

［比較例３］
実施例２において、真球状シリカ粒子として、平均粒子径０．０８μｍの粒子を用い、その粒子含有量を表１に示す量となるように変更したほかは同様な操作を繰り返した。また、粒子含有量の調整は、Ａ層は重合時に添加する粒子量で調整し、Ｂ層は希釈するＰＥＮ−０との配合比で調整した。
得られた積層二軸配向ポリエステルフィルムの特性を表２に示す。

［比較例４］
実施例３において、Ａ層の粒子含有量を表１に示す量となるように変更したほかは同様な操作を繰り返した。また、粒子含有量の調整は、重合時に添加する粒子量で調整した。
得られた積層二軸配向ポリエステルフィルムの特性を表２に示す。

［比較例５］
実施例４において、ＰＥＮ−Ｂ１の代りに、平均粒径０．１２μｍの架橋ポリスチレン粒子を１質量％含有するＰＥＮ−Ｂ３と、平均粒子径０．３μｍの架橋ポリスチレン粒子を１質量％含有するＰＥＮ−Ｂ４とを用意し、これらをＰＥＮ−Ｂ１の代りに、表１の粒子含有量となるように配合したほかは、実施例４と同様な操作を繰り返した。
得られた積層二軸配向ポリエステルフィルムの特性を表２に示す。

［比較例６］
実施例１において、Ｂ層の真球状シリカ粒子の含有量を表１に示す量となるように、ＰＥＮ−０との配合比を変更したほかは同様な操作を繰り返した。
得られた積層二軸配向ポリエステルフィルムの特性を表２に示す。

［比較例７］
実施例１において、延伸条件について、再度横延伸する前の横延伸温度を１２５℃、１３０℃、１６０℃に段階的に温度を上げる条件に変更する以外は同様な操作を繰り返した。得られた積層二軸配向ポリエステルフィルムの特性を表２に示す。

表１および２中の、真球状シリカは真球状シリカ粒子、シリカ−アクリルはシリカ−アクリル複合粒子、架橋ポリスチレンは架橋ポリスチレン粒子を意味する。

本発明の二軸配向積層ポリエステルフィルムは、磁気記録媒体としたときにエラーやドロップアウトが少なく、かつ優れた電磁変換特性を発現できることから、高密度磁気記録媒体、特にディジタル記録型磁気記録テープのベースフィルムとして好適に用いることができる。

Claims (5)

1. 塗布型磁気記録テープに用いるベースフィルムであって、少なくとも磁性層を形成する側の表面を形成するＡ層と磁性層を形成しない側の表面を形成するＢ層の２層からなる積層ポリエステルフィルムであって、
   Ａ層は、平均粒子径０．０６−０．２９μｍで、粒子径の相対標準偏差が２０％以下の粒子を０．００１−０．１９質量％含有し、該Ａ層の表面における地肌指数が８０〜９９．９９％の範囲であり、
   他方磁性層を形成しない側のＢ層は、Ａ層と平均粒子径が同じで、粒子径の相対標準偏差が２０％以下の粒子を０．０３−０．９質量％含有し、かつその粒子含有量がＡ層の１．５倍以上であり、そして
   Ａ層の粒子５個以上の凝集突起が３個／９ｃｍ^２以下であり、Ｂ層の粒子５個以上の凝集突起が１０個／９ｃｍ^２以下である積層ポリエステルフィルム。
2. ポリエステルがエチレンテレフタレートまたはエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートを主たる繰り返し単位とする請求項１記載の積層ポリエステルフィルム。
3. Ａ層の極限粘度が０．５０以上０．５４以下、Ｂ層の極限粘度が０．５０以上０．５４以下であり、Ａ層の極限粘度がＢ層のそれよりも大きい請求項１記載の積層ポリエステルフィルム。
4. 含有粒子が球状シリカ粒子、架橋ポリスチレン粒子、シリコーン粒子、シリカーアクリル複合粒子のいずれかである請求項１記載の積層ポリエステルフィルム。
5. 請求項１〜４のいずれかに記載の積層ポリエステルフィルムと、その磁性層を形成する側の表面に塗布形成された磁性層とからなる塗布型磁気記録テープ。