JPH05314457A - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体およびその製造方法Info
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- JPH05314457A JPH05314457A JP14647692A JP14647692A JPH05314457A JP H05314457 A JPH05314457 A JP H05314457A JP 14647692 A JP14647692 A JP 14647692A JP 14647692 A JP14647692 A JP 14647692A JP H05314457 A JPH05314457 A JP H05314457A
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- Japan
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- magnetic
- sqr
- recording medium
- recording
- resin
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 出力が高く記録密度の大きい垂直磁気記録媒
体と、これを容易に製造する方法とを提供する。 【構成】 実質的に六方晶系フェライト粒子から構成さ
れる磁性粉末とバインダとを含む塗布型の磁性層を有す
る磁気記録媒体において、記録トラック方向の角形比を
SQRx、磁性層面内で記録トラック方向に垂直な方向の角
形比をSQRy、磁性層に垂直な方向の角形比をSQRzとした
とき、SQRy≦０．３５、SQRz≧０．７、SQRz／SQRx≧
２．０とする。
体と、これを容易に製造する方法とを提供する。 【構成】 実質的に六方晶系フェライト粒子から構成さ
れる磁性粉末とバインダとを含む塗布型の磁性層を有す
る磁気記録媒体において、記録トラック方向の角形比を
SQRx、磁性層面内で記録トラック方向に垂直な方向の角
形比をSQRy、磁性層に垂直な方向の角形比をSQRzとした
とき、SQRy≦０．３５、SQRz≧０．７、SQRz／SQRx≧
２．０とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ビデオテープや磁気デ
ィスク等の高密度記録用塗布型磁気記録媒体とその製造
方法とに関する。
ィスク等の高密度記録用塗布型磁気記録媒体とその製造
方法とに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来からγ−Ｆｅ2 Ｏ3 等の針状強磁性
粉末を用いた塗布型磁気記録媒体が、オーディオテー
プ、ビデオテープ、磁気ディスク等に利用されている。
これらの塗布型磁気記録媒体では、磁化容易軸を磁性層
面内方向に配向し、面内磁化による磁気記録が行なわれ
る。しかし、面内磁化による記録では、記録密度が高く
なるにつれて自己減磁が大きくなるため、高記録密度化
には限界がある。
粉末を用いた塗布型磁気記録媒体が、オーディオテー
プ、ビデオテープ、磁気ディスク等に利用されている。
これらの塗布型磁気記録媒体では、磁化容易軸を磁性層
面内方向に配向し、面内磁化による磁気記録が行なわれ
る。しかし、面内磁化による記録では、記録密度が高く
なるにつれて自己減磁が大きくなるため、高記録密度化
には限界がある。
【０００３】このような事情から、磁性層に垂直な方向
に磁性粉末を配向させた媒体と単磁極ヘッドとの組み合
わせで、垂直磁化により磁気記録を行なう、いわゆる垂
直磁気記録方式が提案されている。垂直磁気記録方式で
は、記録密度が高くなるほど磁性層内の減磁界が零に近
づく性質があるため、記録密度の大幅な向上が可能であ
る。塗布型垂直磁気記録媒体用の磁性粉末としては、垂
直方向の配向が容易であることから、バリウムフェライ
ト粉末等の六角板状の六方晶系フェライト粉末が用いら
れている。
に磁性粉末を配向させた媒体と単磁極ヘッドとの組み合
わせで、垂直磁化により磁気記録を行なう、いわゆる垂
直磁気記録方式が提案されている。垂直磁気記録方式で
は、記録密度が高くなるほど磁性層内の減磁界が零に近
づく性質があるため、記録密度の大幅な向上が可能であ
る。塗布型垂直磁気記録媒体用の磁性粉末としては、垂
直方向の配向が容易であることから、バリウムフェライ
ト粉末等の六角板状の六方晶系フェライト粉末が用いら
れている。
【０００４】磁性層中の磁性粉末の配向を示すパラメー
タとしては、角形比（残留磁化／飽和磁化）や配向度
（配向方向の角形比／配向方向に垂直な方向の角形比）
があるが、垂直磁気記録媒体における好ましい角形比や
配向度の提案はなされていない。
タとしては、角形比（残留磁化／飽和磁化）や配向度
（配向方向の角形比／配向方向に垂直な方向の角形比）
があるが、垂直磁気記録媒体における好ましい角形比や
配向度の提案はなされていない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、垂直磁気記
録媒体において角形比および配向度を限定することによ
り、出力が高く記録密度の大きい垂直磁気記録媒体を提
供することを目的とし、また、このような垂直磁気記録
媒体を容易に製造することのできる方法を提供すること
を目的とする。
録媒体において角形比および配向度を限定することによ
り、出力が高く記録密度の大きい垂直磁気記録媒体を提
供することを目的とし、また、このような垂直磁気記録
媒体を容易に製造することのできる方法を提供すること
を目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
（１）〜（６）の本発明により達成される。
（１）〜（６）の本発明により達成される。
【０００７】（１）実質的に六方晶系フェライト粒子か
ら構成される磁性粉末とバインダとを含む塗布型の磁性
層を有する磁気記録媒体であって、記録トラック方向の
角形比をSQRx、磁性層面内で記録トラック方向に垂直な
方向の角形比をSQRy、磁性層に垂直な方向の角形比をSQ
Rzとしたとき、 SQRy≦０．３５、 SQRz≧０．７、 SQRz／SQRx≧２．０、 であることを特徴とする磁気記録媒体。
ら構成される磁性粉末とバインダとを含む塗布型の磁性
層を有する磁気記録媒体であって、記録トラック方向の
角形比をSQRx、磁性層面内で記録トラック方向に垂直な
方向の角形比をSQRy、磁性層に垂直な方向の角形比をSQ
Rzとしたとき、 SQRy≦０．３５、 SQRz≧０．７、 SQRz／SQRx≧２．０、 であることを特徴とする磁気記録媒体。
【０００８】（２）磁性層に垂直な方向の保磁力が１０
００ Oe 以上である上記（１）に記載の磁気記録媒体。
００ Oe 以上である上記（１）に記載の磁気記録媒体。
【０００９】（３）前記六方晶系フェライト粒子がＢａ
フェライト粒子である上記（１）または（２）に記載の
磁気記録媒体。
フェライト粒子である上記（１）または（２）に記載の
磁気記録媒体。
【００１０】（４）記録トラック方向の磁界を印加して
配向を行なった後、磁性層に垂直な方向の磁界を印加し
て配向を行なう配向工程を経て製造された上記（１）な
いし（３）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
配向を行なった後、磁性層に垂直な方向の磁界を印加し
て配向を行なう配向工程を経て製造された上記（１）な
いし（３）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
【００１１】（５）垂直磁化による記録が行なわれる上
記（１）ないし（４）のいずれかに記載の磁気記録媒
体。
記（１）ないし（４）のいずれかに記載の磁気記録媒
体。
【００１２】（６）上記（１）ないし（５）のいずれか
に記載の磁気記録媒体を製造する方法であって、磁性塗
膜形成工程と配向工程と乾燥工程とをこの順で有し、前
記配向工程が面内配向工程とこれに続く垂直配向工程と
を有し、前記面内配向工程において記録トラック方向に
磁界を印加し、前記垂直配向工程において磁性塗膜に垂
直な方向に磁界を印加することを特徴とする磁気記録媒
体の製造方法。
に記載の磁気記録媒体を製造する方法であって、磁性塗
膜形成工程と配向工程と乾燥工程とをこの順で有し、前
記配向工程が面内配向工程とこれに続く垂直配向工程と
を有し、前記面内配向工程において記録トラック方向に
磁界を印加し、前記垂直配向工程において磁性塗膜に垂
直な方向に磁界を印加することを特徴とする磁気記録媒
体の製造方法。
【００１３】
【作用および効果】垂直磁気記録媒体では、SQRzを大き
くすることが望ましいが、本発明者らは、SQRzが高い場
合でもSQRyが０．３５を超えていると高出力が得られず
記録密度を高くすることができないこと、また、SQRyが
０．３５以下であれば高いSQRzが容易に実現すること、
また、SQRyが０．３５以下であっても、SQRzまたはSQRz
／SQRxが所定の範囲にない場合には、やはり高出力が得
られず、記録密度も高くできないことを見いだし、六方
晶系フェライト粉末を含有する磁性層について、角形比
を上記のように設定した。
くすることが望ましいが、本発明者らは、SQRzが高い場
合でもSQRyが０．３５を超えていると高出力が得られず
記録密度を高くすることができないこと、また、SQRyが
０．３５以下であれば高いSQRzが容易に実現すること、
また、SQRyが０．３５以下であっても、SQRzまたはSQRz
／SQRxが所定の範囲にない場合には、やはり高出力が得
られず、記録密度も高くできないことを見いだし、六方
晶系フェライト粉末を含有する磁性層について、角形比
を上記のように設定した。
【００１４】各方向の角形比および配向度を上記範囲と
するためには、磁性塗膜中の磁性粒子を配向する際に、
記録トラック方向の磁界を印加した後、磁性塗膜に垂直
な方向の磁界を印加することが好ましい。記録トラック
方向の磁界を印加することにより、磁性粒子の磁化容易
軸が記録トラック方向に揃ってSQRyが減少する。次いで
磁性塗膜に垂直な方向の磁界を印加することにより、SQ
Rzが増加すると共にSQRxおよびSQRyが減少する。最初に
記録トラック方向に配向させてSQRyを減少させることに
より垂直方向の配向が極めて容易になり、配向磁界の強
度が小さくて済む。また、最初に記録トラック方向に配
向させることにより、六角板状のフェライト粒子の揃い
がよくなり、良好なＳ／Ｎが得られる。しかもこの場
合、SQRxは、記録トラック方向の磁界を印加せずに垂直
方向の磁界だけを印加した場合に比べてより小さくな
り、SQRzの向上に寄与する。
するためには、磁性塗膜中の磁性粒子を配向する際に、
記録トラック方向の磁界を印加した後、磁性塗膜に垂直
な方向の磁界を印加することが好ましい。記録トラック
方向の磁界を印加することにより、磁性粒子の磁化容易
軸が記録トラック方向に揃ってSQRyが減少する。次いで
磁性塗膜に垂直な方向の磁界を印加することにより、SQ
Rzが増加すると共にSQRxおよびSQRyが減少する。最初に
記録トラック方向に配向させてSQRyを減少させることに
より垂直方向の配向が極めて容易になり、配向磁界の強
度が小さくて済む。また、最初に記録トラック方向に配
向させることにより、六角板状のフェライト粒子の揃い
がよくなり、良好なＳ／Ｎが得られる。しかもこの場
合、SQRxは、記録トラック方向の磁界を印加せずに垂直
方向の磁界だけを印加した場合に比べてより小さくな
り、SQRzの向上に寄与する。
【００１５】
【具体的構成】以下、本発明の具体的構成について詳細
に説明する。本発明の磁気記録媒体は、実質的に六方晶
系フェライト粒子から構成される磁性粉末とバインダと
を含む塗布型の磁性層を有し、垂直磁化により記録が行
なわれる垂直磁気記録媒体である。
に説明する。本発明の磁気記録媒体は、実質的に六方晶
系フェライト粒子から構成される磁性粉末とバインダと
を含む塗布型の磁性層を有し、垂直磁化により記録が行
なわれる垂直磁気記録媒体である。
【００１６】この磁性層では、記録トラック方向の角形
比をSQRx、磁性層面内で記録トラック方向に垂直な方向
の角形比をSQRy、磁性層に垂直な方向の角形比をSQRzと
したとき、 SQRy≦０．３５、好ましくはSQRy≦０．３３、 SQRz≧０．７、好ましくはSQRz≧０．８０、 SQRz／SQRx≧２．０、好ましくはSQRz／SQRx≧２．３ である。なお、本明細書において、SQRzは反磁界補正後
の値である。
比をSQRx、磁性層面内で記録トラック方向に垂直な方向
の角形比をSQRy、磁性層に垂直な方向の角形比をSQRzと
したとき、 SQRy≦０．３５、好ましくはSQRy≦０．３３、 SQRz≧０．７、好ましくはSQRz≧０．８０、 SQRz／SQRx≧２．０、好ましくはSQRz／SQRx≧２．３ である。なお、本明細書において、SQRzは反磁界補正後
の値である。
【００１７】SQRyが上記範囲を超えると垂直記録の際に
高出力および高記録密度が得られなくなり、また、SQRz
を上記範囲とすることが困難となる。SQRzまたはSQRz／
SQRxが上記範囲未満となると、垂直記録の際に高出力お
よび高記録密度が得られなくなる。
高出力および高記録密度が得られなくなり、また、SQRz
を上記範囲とすることが困難となる。SQRzまたはSQRz／
SQRxが上記範囲未満となると、垂直記録の際に高出力お
よび高記録密度が得られなくなる。
【００１８】なお、好ましくはSQRx≦０．４、より好ま
しくはSQRx≦０．３５とする。また、通常、SQRx≧０．
１、SQRy≧０．１およびSQRz≦０．９５である。
しくはSQRx≦０．３５とする。また、通常、SQRx≧０．
１、SQRy≧０．１およびSQRz≦０．９５である。
【００１９】磁性層に垂直な方向の保磁力は、１０００
Oe 以上とすることが好ましく、また、磁気ヘッドの記
録能力との関係から、通常、４０００ Oe 以下とするこ
とが好ましい。
Oe 以上とすることが好ましく、また、磁気ヘッドの記
録能力との関係から、通常、４０００ Oe 以下とするこ
とが好ましい。
【００２０】本発明で用いる六方晶フェライト粒子に特
に制限はなく、Ｂａフェライト、Ｓｒフェライト、Ｃａ
フェライト、Ｐｂフェライト等の各種フェライト粒子か
ら適宜選択すればよく、また、これらの２種以上を混合
して使用してもよいが、好ましくはＢａフェライトを用
いる。Ｂａフェライトは、通常、ＢａＦｅ12Ｏ19で表わ
される組成を有する六方晶系酸化物であるが、ＢａやＦ
ｅの一部を、Ｃａ、Ｓｒ、Ｐｂ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｃ
ｒ、Ｚｎ、Ｉｎ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｇｅ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｓｎ
その他の金属から選ばれる１種以上で置換したものであ
ってもよい。
に制限はなく、Ｂａフェライト、Ｓｒフェライト、Ｃａ
フェライト、Ｐｂフェライト等の各種フェライト粒子か
ら適宜選択すればよく、また、これらの２種以上を混合
して使用してもよいが、好ましくはＢａフェライトを用
いる。Ｂａフェライトは、通常、ＢａＦｅ12Ｏ19で表わ
される組成を有する六方晶系酸化物であるが、ＢａやＦ
ｅの一部を、Ｃａ、Ｓｒ、Ｐｂ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｃ
ｒ、Ｚｎ、Ｉｎ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｇｅ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｓｎ
その他の金属から選ばれる１種以上で置換したものであ
ってもよい。
【００２１】六方晶系フェライト粒子の寸法は目的に応
じて適宜選定すればよいが、電磁変換特性上、平均粒径
が０．１５μm 以下、特に０．０２〜０．１０μm 程
度、板状比は２以上、特に３〜１０程度であるものが好
ましい。この場合の平均粒径とは、電子顕微鏡写真｛走
査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）および透過型電子顕微鏡（Ｔ
ＥＭ）｝によって、例えば５０個程度以上の粒子を観察
し、粒径の測定値を平均したものである。また板状比と
は、平均粒径／平均厚さである。
じて適宜選定すればよいが、電磁変換特性上、平均粒径
が０．１５μm 以下、特に０．０２〜０．１０μm 程
度、板状比は２以上、特に３〜１０程度であるものが好
ましい。この場合の平均粒径とは、電子顕微鏡写真｛走
査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）および透過型電子顕微鏡（Ｔ
ＥＭ）｝によって、例えば５０個程度以上の粒子を観察
し、粒径の測定値を平均したものである。また板状比と
は、平均粒径／平均厚さである。
【００２２】なお、磁化量増大や温度特性改善のため、
六方晶系フェライト粒子の表面をスピネルフェライトで
変成してもよい。さらに、耐候性や分散性の向上のため
に、粒子表面に酸化物や有機化合物の被膜を形成しても
よい。
六方晶系フェライト粒子の表面をスピネルフェライトで
変成してもよい。さらに、耐候性や分散性の向上のため
に、粒子表面に酸化物や有機化合物の被膜を形成しても
よい。
【００２３】六方晶系フェライト粒子の製法としては、
セラミック法、共沈−焼成法、水熱合成法、フラックス
法、ガラス結晶化法、アルコキシド法、プラズマジェッ
ト法等があるが、いずれの方法を用いてもよい。これら
の方法の詳細については小池吉康、久保修共著“セラミ
ックス１８（１９８３）No. １０”などに記載されてい
る。
セラミック法、共沈−焼成法、水熱合成法、フラックス
法、ガラス結晶化法、アルコキシド法、プラズマジェッ
ト法等があるが、いずれの方法を用いてもよい。これら
の方法の詳細については小池吉康、久保修共著“セラミ
ックス１８（１９８３）No. １０”などに記載されてい
る。
【００２４】磁性層形成に用いるバインダは特に限定さ
れず、通常のバインダ用各種樹脂から適宜選択すればよ
い。
れず、通常のバインダ用各種樹脂から適宜選択すればよ
い。
【００２５】磁性層が形成される非磁性基体は、磁気デ
ィスクや磁気テープ等の用途に応じて各種樹脂フィルム
や金属、セラミックス、ガラスなどから適宜選択すれば
よい。
ィスクや磁気テープ等の用途に応じて各種樹脂フィルム
や金属、セラミックス、ガラスなどから適宜選択すれば
よい。
【００２６】以下、剛性基板の主面に塗布型の磁性層を
有する磁気ディスクに本発明を適用する場合の製造方法
について説明する。
有する磁気ディスクに本発明を適用する場合の製造方法
について説明する。
【００２７】ディスク状の剛性基板は、例えば、アルミ
ニウムやアルミニウム合金等の金属、ガラス、セラミッ
クス、エンジニアリングプラスチックス等の各種非磁性
材料により構成すればよい。これらの中では、機械的剛
性が高く加工性が良好なアルミニウムやアルミニウム合
金などを用いることが好ましい。基板の寸法は目的に応
じて選定すればよいが、通常、厚さ０．５〜１．９mm程
度、直径４０〜１３０mm程度である。また、基板のＲma
x は０．００５〜０．０７０μm 程度であることが好ま
しい。
ニウムやアルミニウム合金等の金属、ガラス、セラミッ
クス、エンジニアリングプラスチックス等の各種非磁性
材料により構成すればよい。これらの中では、機械的剛
性が高く加工性が良好なアルミニウムやアルミニウム合
金などを用いることが好ましい。基板の寸法は目的に応
じて選定すればよいが、通常、厚さ０．５〜１．９mm程
度、直径４０〜１３０mm程度である。また、基板のＲma
x は０．００５〜０．０７０μm 程度であることが好ま
しい。
【００２８】磁性塗膜は、磁性粉末とバインダとを含有
する磁性塗料を塗布して形成される。磁性塗料は、少な
くとも磁性粉末とバインダと溶剤とを混練して調製され
る。磁性粉末には上記した六方晶系フェライト粒子から
構成される磁性粉末を用いる。バインダに特に制限はな
く、熱硬化性樹脂、反応型樹脂、放射線硬化性樹脂等か
ら目的に応じて選択すればよいが、薄層で十分な膜強度
を確保し、高い耐久性を得る必要があることから熱硬化
性樹脂あるいは放射線硬化性樹脂を用いることが好まし
い。熱硬化性樹脂としては、例えば、フェノール樹脂、
エポキシ樹脂、ビニル共重合系樹脂、ポリウレタン硬化
型樹脂、尿素樹脂、ブチラール樹脂、ホルマール樹脂、
メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコン樹脂、アクリ
ル系反応樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ−ポリアミド
樹脂、飽和ポリエステル樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹
脂などの縮重合系の樹脂あるいは高分子量ポリエステル
樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合物、メタクリ
ル酸塩共重合体とジイソシアネートプレポリマーの混合
物、ポリエステルポリオールとポリイソシアネートの混
合物、低分子量グリコール／高分子量ジオール／トリフ
ェニルメタントリイソシアネートの混合物など、上記の
縮重合系樹脂とイソシアネート化合物などの架橋剤との
混合物、ビニル共重合系樹脂と架橋剤との混合物、ニト
ロセルロース、セルロースアセトブチレート等の繊維素
系樹脂と架橋剤との混合物、ブタジエン−アクリロニト
リル等の合成ゴム系と架橋剤との混合物、さらにはこれ
らの混合物が好適である。特に、エポキシ樹脂とフェノ
ール樹脂との混合物、米国特許第３，０５８，８４４号
に記載のエポキシ樹脂とポリビニルメチルエーテルとメ
チロールフェノールエーテルとの混合物、また特開昭４
９−１３１１０１号に記載のビスフェノールＡ型エポキ
シ樹脂とアクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステ
ル重合体との混合物等が好ましい。
する磁性塗料を塗布して形成される。磁性塗料は、少な
くとも磁性粉末とバインダと溶剤とを混練して調製され
る。磁性粉末には上記した六方晶系フェライト粒子から
構成される磁性粉末を用いる。バインダに特に制限はな
く、熱硬化性樹脂、反応型樹脂、放射線硬化性樹脂等か
ら目的に応じて選択すればよいが、薄層で十分な膜強度
を確保し、高い耐久性を得る必要があることから熱硬化
性樹脂あるいは放射線硬化性樹脂を用いることが好まし
い。熱硬化性樹脂としては、例えば、フェノール樹脂、
エポキシ樹脂、ビニル共重合系樹脂、ポリウレタン硬化
型樹脂、尿素樹脂、ブチラール樹脂、ホルマール樹脂、
メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコン樹脂、アクリ
ル系反応樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ−ポリアミド
樹脂、飽和ポリエステル樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹
脂などの縮重合系の樹脂あるいは高分子量ポリエステル
樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合物、メタクリ
ル酸塩共重合体とジイソシアネートプレポリマーの混合
物、ポリエステルポリオールとポリイソシアネートの混
合物、低分子量グリコール／高分子量ジオール／トリフ
ェニルメタントリイソシアネートの混合物など、上記の
縮重合系樹脂とイソシアネート化合物などの架橋剤との
混合物、ビニル共重合系樹脂と架橋剤との混合物、ニト
ロセルロース、セルロースアセトブチレート等の繊維素
系樹脂と架橋剤との混合物、ブタジエン−アクリロニト
リル等の合成ゴム系と架橋剤との混合物、さらにはこれ
らの混合物が好適である。特に、エポキシ樹脂とフェノ
ール樹脂との混合物、米国特許第３，０５８，８４４号
に記載のエポキシ樹脂とポリビニルメチルエーテルとメ
チロールフェノールエーテルとの混合物、また特開昭４
９−１３１１０１号に記載のビスフェノールＡ型エポキ
シ樹脂とアクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステ
ル重合体との混合物等が好ましい。
【００２９】放射線硬化性化合物の具体例としては、ラ
ジカル重合性を示す不飽和二重結合を有するアクリル
酸、メタクリル酸、あるいはそれらのエステル化合物の
ようなアクリル系二重結合、ジアリルフタレートのよう
なアリル系二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等
の不飽和結合等の放射線照射による架橋あるいは重合す
る基を熱可塑性樹脂の分子中に含有または導入した樹脂
である。その他放射線照射により架橋重合する不飽和二
重結合を有する化合物であれば用いることができる。放
射線硬化性バインダーとして用いられる樹脂としては、
上記不飽和二重結合を樹脂の分子鎖中や末端、側鎖に有
する飽和、不飽和のポリエステル樹脂、ポリウレタン樹
脂、塩化ビニル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、
ポリビニルブチラール系樹脂、エポキシ樹脂、フェノキ
シ樹脂、繊維素系樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン
共重合体、ポリブタジエン等が好適である。さらに、オ
リゴマー、モノマーとして用いられる放射線硬化性化合
物としては、単官能また多官能のトリアジン系アクリレ
ート、多価アルコール系アクリレート、ペンタエリスリ
トール系アクリレート、エステル系アクリレート、ウレ
タン系アクリレートおよび上記系の単官能または多官能
のメタクリレート化合物等が好適である。
ジカル重合性を示す不飽和二重結合を有するアクリル
酸、メタクリル酸、あるいはそれらのエステル化合物の
ようなアクリル系二重結合、ジアリルフタレートのよう
なアリル系二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等
の不飽和結合等の放射線照射による架橋あるいは重合す
る基を熱可塑性樹脂の分子中に含有または導入した樹脂
である。その他放射線照射により架橋重合する不飽和二
重結合を有する化合物であれば用いることができる。放
射線硬化性バインダーとして用いられる樹脂としては、
上記不飽和二重結合を樹脂の分子鎖中や末端、側鎖に有
する飽和、不飽和のポリエステル樹脂、ポリウレタン樹
脂、塩化ビニル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、
ポリビニルブチラール系樹脂、エポキシ樹脂、フェノキ
シ樹脂、繊維素系樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン
共重合体、ポリブタジエン等が好適である。さらに、オ
リゴマー、モノマーとして用いられる放射線硬化性化合
物としては、単官能また多官能のトリアジン系アクリレ
ート、多価アルコール系アクリレート、ペンタエリスリ
トール系アクリレート、エステル系アクリレート、ウレ
タン系アクリレートおよび上記系の単官能または多官能
のメタクリレート化合物等が好適である。
【００３０】磁性塗料中のバインダの含有量に特に制限
はないが、磁性粉末１００重量部に対し、１０〜５０重
量部程度とすることが好ましい。
はないが、磁性粉末１００重量部に対し、１０〜５０重
量部程度とすることが好ましい。
【００３１】磁性塗料の調製に用いる溶剤に特に制限は
なく、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン系、イ
ソプロピルアルコール、ブチルアルコール等のアルコー
ル系、エチルセロソルブ、酢酸セロソルブ等のセロソル
ブ系、トルエン等の芳香族系等の各種溶剤を目的に応じ
て選択すればよい。磁性塗料中の溶剤の含有量に特に制
限はないが、磁性粉末１００重量部に対し、４００〜７
００重量部程度とすることが好ましい。磁性塗料には、
必要に応じα−Ａｌ2 Ｏ3 等の研磨剤、シリコーンオイ
ル等の潤滑剤、その他の各種添加物を添加してもよい。
なく、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン系、イ
ソプロピルアルコール、ブチルアルコール等のアルコー
ル系、エチルセロソルブ、酢酸セロソルブ等のセロソル
ブ系、トルエン等の芳香族系等の各種溶剤を目的に応じ
て選択すればよい。磁性塗料中の溶剤の含有量に特に制
限はないが、磁性粉末１００重量部に対し、４００〜７
００重量部程度とすることが好ましい。磁性塗料には、
必要に応じα−Ａｌ2 Ｏ3 等の研磨剤、シリコーンオイ
ル等の潤滑剤、その他の各種添加物を添加してもよい。
【００３２】磁性塗料は、ポリッシングなどにより平滑
化された基板表面に塗布される。基板の表面は、アルマ
イト等の陽極酸化膜、クロム酸等の酸化膜、Ｎｉ−Ｐ−
Ｃｕ等の無電解めっき膜、カップリング剤、硬化性樹脂
などで処理されていてもよい。
化された基板表面に塗布される。基板の表面は、アルマ
イト等の陽極酸化膜、クロム酸等の酸化膜、Ｎｉ−Ｐ−
Ｃｕ等の無電解めっき膜、カップリング剤、硬化性樹脂
などで処理されていてもよい。
【００３３】磁性塗膜はスピンコート法により形成する
ことが好ましい。スピンコート法による磁性塗膜の形成
工程は、基本的には、比較的低い回転数での磁性塗料の
塗布と、より高い回転数での振り切りとで構成される。
塗布および振り切りの際の基板の回転数やその回転数に
保持する時間は、目的とする塗膜厚さ、塗料の粘度、塗
料の組成、スピンコート時の雰囲気などの各種条件によ
って大きく異なるため、これらの条件に応じて適宜設定
すればよく特に制限はないが、通常、塗布時の回転数お
よびその保持時間は２００〜２０００rpm 程度で１秒間
〜１分間程度であり、振り切り時の回転数およびその保
持時間は１０００〜７０００rpm 程度で５秒間〜１分間
程度である。
ことが好ましい。スピンコート法による磁性塗膜の形成
工程は、基本的には、比較的低い回転数での磁性塗料の
塗布と、より高い回転数での振り切りとで構成される。
塗布および振り切りの際の基板の回転数やその回転数に
保持する時間は、目的とする塗膜厚さ、塗料の粘度、塗
料の組成、スピンコート時の雰囲気などの各種条件によ
って大きく異なるため、これらの条件に応じて適宜設定
すればよく特に制限はないが、通常、塗布時の回転数お
よびその保持時間は２００〜２０００rpm 程度で１秒間
〜１分間程度であり、振り切り時の回転数およびその保
持時間は１０００〜７０００rpm 程度で５秒間〜１分間
程度である。
【００３４】磁性塗膜形成後、磁性粒子の配向を行なう
が、配向工程の前に、塗膜の平滑化のためのレベリング
工程を設けてもよい。レベリング工程では、基板を２０
０〜３０００rpm 程度の低回転数で回転させ、この回転
を１秒間〜５分間程度保持することが好ましい。
が、配向工程の前に、塗膜の平滑化のためのレベリング
工程を設けてもよい。レベリング工程では、基板を２０
０〜３０００rpm 程度の低回転数で回転させ、この回転
を１秒間〜５分間程度保持することが好ましい。
【００３５】磁性塗膜の形成は空気中で行なってもよい
が、溶剤蒸気を含む雰囲気中で行なうことが好ましい。
この場合に用いる溶剤は、磁性塗料を調製する際に使用
可能なものであれば特に制限はなく、２種以上を用いて
もよい。この場合、雰囲気の温度は２０〜５０℃程度と
することが好ましい。このように溶剤蒸気を含む雰囲気
中で磁性塗膜を形成すれば磁性塗膜の乾燥を防止できる
ため、配向工程において磁性粉末を十分に配向させるこ
とができ、高い保磁力角形比Ｓ* を有する磁性層を形成
できる。なお、レベリング工程を設ける場合には、レベ
リング工程も溶剤を含む雰囲気中で行なうことが好まし
い。
が、溶剤蒸気を含む雰囲気中で行なうことが好ましい。
この場合に用いる溶剤は、磁性塗料を調製する際に使用
可能なものであれば特に制限はなく、２種以上を用いて
もよい。この場合、雰囲気の温度は２０〜５０℃程度と
することが好ましい。このように溶剤蒸気を含む雰囲気
中で磁性塗膜を形成すれば磁性塗膜の乾燥を防止できる
ため、配向工程において磁性粉末を十分に配向させるこ
とができ、高い保磁力角形比Ｓ* を有する磁性層を形成
できる。なお、レベリング工程を設ける場合には、レベ
リング工程も溶剤を含む雰囲気中で行なうことが好まし
い。
【００３６】磁性塗膜形成後、あるいはレベリング工程
後、磁性塗膜中の磁性粒子の配向処理を行なう。塗膜中
の磁性粒子は、その磁化容易軸が垂直方向成分をもつよ
うに配向され、これにより、磁性塗膜乾燥後の各方向の
角形比は、上記した関係となる。このような配向を行な
うためには、面内配向工程とこれに続く垂直配向工程と
から配向工程を構成することが好ましい。面内配向工程
では磁性塗膜面内の記録トラック方向に磁界を印加し、
垂直配向工程では磁性塗膜に垂直な方向に磁界を印加す
る。記録トラック方向、すなわちディスク周方向の磁界
を印加する方法は特に限定されず、例えば、磁性塗膜を
挟んで同極同士が対向するように少なくとも一対の配向
用磁石を設け、これらの磁石間で基板を回転させること
が好ましい。また、磁性塗膜に垂直な方向の磁界を印加
するためには、磁性塗膜を挟んで異極同士が対向するよ
うに少なくとも一対の配向用磁石を設け、これらの磁石
間で基板を回転させればよい。また、このような磁石対
を２対以上設け、周方向において隣り合う磁石が異極と
なるように配設してもよい。
後、磁性塗膜中の磁性粒子の配向処理を行なう。塗膜中
の磁性粒子は、その磁化容易軸が垂直方向成分をもつよ
うに配向され、これにより、磁性塗膜乾燥後の各方向の
角形比は、上記した関係となる。このような配向を行な
うためには、面内配向工程とこれに続く垂直配向工程と
から配向工程を構成することが好ましい。面内配向工程
では磁性塗膜面内の記録トラック方向に磁界を印加し、
垂直配向工程では磁性塗膜に垂直な方向に磁界を印加す
る。記録トラック方向、すなわちディスク周方向の磁界
を印加する方法は特に限定されず、例えば、磁性塗膜を
挟んで同極同士が対向するように少なくとも一対の配向
用磁石を設け、これらの磁石間で基板を回転させること
が好ましい。また、磁性塗膜に垂直な方向の磁界を印加
するためには、磁性塗膜を挟んで異極同士が対向するよ
うに少なくとも一対の配向用磁石を設け、これらの磁石
間で基板を回転させればよい。また、このような磁石対
を２対以上設け、周方向において隣り合う磁石が異極と
なるように配設してもよい。
【００３７】配向用磁石による磁界は、塗膜中にて１０
００〜１００００G 程度、基板の回転数は１００〜５０
０rpm 程度、配向時間は１０秒間〜１０分間程度とする
ことが好ましい。配向時の雰囲気中には、前述した溶剤
蒸気を存在させてもさせなくてもよい。
００〜１００００G 程度、基板の回転数は１００〜５０
０rpm 程度、配向時間は１０秒間〜１０分間程度とする
ことが好ましい。配向時の雰囲気中には、前述した溶剤
蒸気を存在させてもさせなくてもよい。
【００３８】配向後、磁性塗膜を乾燥させる。乾燥は自
然乾燥であっても加熱による強制乾燥であってもよい
が、加熱する場合には１００℃程度以下の温度で乾燥さ
せることが好ましい。
然乾燥であっても加熱による強制乾燥であってもよい
が、加熱する場合には１００℃程度以下の温度で乾燥さ
せることが好ましい。
【００３９】乾燥後、硬化処理を行なって磁性塗膜を硬
化し、磁性層とする。バインダが熱硬化性樹脂の場合、
熱処理温度、熱処理時間等の各種条件はバインダの種類
に応じて適宜設定すればよいが、通常、１５０〜３００
℃程度にて１〜５時間程度である。また、放射線硬化性
樹脂の場合には、常温において３〜１０Mradの線量に設
定すればよい。硬化処理時の雰囲気は不活性ガス雰囲気
中、特に窒素雰囲気中であることが好ましい。磁性塗膜
硬化後の磁性層の膜厚は、０．６μm 以下、特に０．３
μm 以下とすることが好ましい。
化し、磁性層とする。バインダが熱硬化性樹脂の場合、
熱処理温度、熱処理時間等の各種条件はバインダの種類
に応じて適宜設定すればよいが、通常、１５０〜３００
℃程度にて１〜５時間程度である。また、放射線硬化性
樹脂の場合には、常温において３〜１０Mradの線量に設
定すればよい。硬化処理時の雰囲気は不活性ガス雰囲気
中、特に窒素雰囲気中であることが好ましい。磁性塗膜
硬化後の磁性層の膜厚は、０．６μm 以下、特に０．３
μm 以下とすることが好ましい。
【００４０】硬化後、磁性層表面のポリッシングを行な
うことが好ましい。ポリッシングは研磨テープ等の各種
研磨材により行なえばよい。このポリッシングにより磁
性層の表面粗さを所望の値とすることができ、また、こ
れにより磁性層の厚さを調整することも可能である。
うことが好ましい。ポリッシングは研磨テープ等の各種
研磨材により行なえばよい。このポリッシングにより磁
性層の表面粗さを所望の値とすることができ、また、こ
れにより磁性層の厚さを調整することも可能である。
【００４１】研磨後、磁性層表面に液体潤滑剤を塗布
し、磁性層中に含浸させることが好ましい。用いる液体
潤滑剤に特に制限はないが、潤滑性が良好であることか
ら、フッ素を含む有機化合物を含有する液体潤滑剤を用
いることが好ましい。液体潤滑剤の塗布方法に制限はな
く、例えば、ディップ法、スピンコート法等を用いれば
よい。なお、このような液体潤滑剤は、磁性塗料に含有
させてもよい。
し、磁性層中に含浸させることが好ましい。用いる液体
潤滑剤に特に制限はないが、潤滑性が良好であることか
ら、フッ素を含む有機化合物を含有する液体潤滑剤を用
いることが好ましい。液体潤滑剤の塗布方法に制限はな
く、例えば、ディップ法、スピンコート法等を用いれば
よい。なお、このような液体潤滑剤は、磁性塗料に含有
させてもよい。
【００４２】液体潤滑剤の含浸後、バニッシングを行な
うことにより、磁気ディスク表面の平滑性をさらに向上
させることが好ましい。
うことにより、磁気ディスク表面の平滑性をさらに向上
させることが好ましい。
【００４３】以上では本発明を磁気ディスクに適用する
場合の製造方法について説明したが、磁気テープなどに
ついても上記した配向方法に準じて製造することによ
り、各方向の角形比および配向度を上記した関係とする
ことができる。
場合の製造方法について説明したが、磁気テープなどに
ついても上記した配向方法に準じて製造することによ
り、各方向の角形比および配向度を上記した関係とする
ことができる。
【００４４】
【実施例】以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明
をさらに詳細に説明する。 ＜実施例１＞下記表１に示される磁気ディスクサンプル
を下記のようにして作製した。
をさらに詳細に説明する。 ＜実施例１＞下記表１に示される磁気ディスクサンプル
を下記のようにして作製した。
【００４５】磁性塗料用組成物 磁性粒子 １００重量部 組成 ：Ｂａフェライト（９４０ Oe ） 平均粒径：０．０５μm 板状比 ：３ α−Ａｌ2 Ｏ3 ３重量部 エポキシ樹脂 １４重量部 （エピコート1004、シェル化学社製） フェノール樹脂 ６重量部 （スミラックPC25、住友ベークライト社製） 溶剤 ２８０重量部 シクロヘキサノン／イソホロン （１／１混合）
【００４６】上記磁性塗料用組成物をボールミル中にて
１４０時間混合、分散し、磁性塗料を調製した。塗料の
粘度は４００cps であった。
１４０時間混合、分散し、磁性塗料を調製した。塗料の
粘度は４００cps であった。
【００４７】次に、スピンコーターを用いて基板の両主
面に磁性塗膜を形成した。基板には、外径９５mm、内径
２５mm、厚さ１．２８mmのアルミニウム板を用いた。基
板の回転数を１０００rpm として１０秒間磁性塗料を塗
布し、次いで、基板の回転数を４０００rpm まで上昇さ
せて５秒間保ち、磁性塗料を振り切った。なお、塗膜形
成は、空気中にシクロヘキサノン蒸気を存在させた雰囲
気中で行なった。
面に磁性塗膜を形成した。基板には、外径９５mm、内径
２５mm、厚さ１．２８mmのアルミニウム板を用いた。基
板の回転数を１０００rpm として１０秒間磁性塗料を塗
布し、次いで、基板の回転数を４０００rpm まで上昇さ
せて５秒間保ち、磁性塗料を振り切った。なお、塗膜形
成は、空気中にシクロヘキサノン蒸気を存在させた雰囲
気中で行なった。
【００４８】次に、磁性塗膜中の磁性粒子を配向した。
まず、同極同士を対向させた一対の磁石間で基板を回転
させ、磁性粒子の磁化容易軸を基板の周方向に配向させ
た。次いで、異極同士を対向させた一対の磁石間で基板
を回転させて、磁性塗膜に垂直な方向に磁界を印加し
た。磁性塗膜中の配向磁界強度を表１に示す。表１にお
いて、ｘ方向とは基板の周方向であり、ｚ方向とは塗膜
に垂直な方向である。磁界印加時間はｘ方向で２０秒
間、ｚ方向で６０秒間とした。サンプルNo. １−２およ
び２−２はｚ方向の配向だけを行なった比較サンプルで
あり、それぞれサンプルNo. １−１および２−１と同強
度のｚ方向磁界を印加している。なお、基板の回転数は
２００rpm とした。
まず、同極同士を対向させた一対の磁石間で基板を回転
させ、磁性粒子の磁化容易軸を基板の周方向に配向させ
た。次いで、異極同士を対向させた一対の磁石間で基板
を回転させて、磁性塗膜に垂直な方向に磁界を印加し
た。磁性塗膜中の配向磁界強度を表１に示す。表１にお
いて、ｘ方向とは基板の周方向であり、ｚ方向とは塗膜
に垂直な方向である。磁界印加時間はｘ方向で２０秒
間、ｚ方向で６０秒間とした。サンプルNo. １−２およ
び２−２はｚ方向の配向だけを行なった比較サンプルで
あり、それぞれサンプルNo. １−１および２−１と同強
度のｚ方向磁界を印加している。なお、基板の回転数は
２００rpm とした。
【００４９】次に、磁性塗膜を乾燥させ、窒素気流中で
２００℃にて３時間熱処理を施し、磁性塗膜を硬化して
磁性層とした。この後、研磨テープWA10000 （日本ミク
ロコーティング社製）を用いて研磨量が約０．０５μm
となるように磁性層を研磨して、磁性層の厚さを調整す
ると共に表面を平滑化した。各サンプルの磁性層の厚さ
を表１に示す。
２００℃にて３時間熱処理を施し、磁性塗膜を硬化して
磁性層とした。この後、研磨テープWA10000 （日本ミク
ロコーティング社製）を用いて研磨量が約０．０５μm
となるように磁性層を研磨して、磁性層の厚さを調整す
ると共に表面を平滑化した。各サンプルの磁性層の厚さ
を表１に示す。
【００５０】次いで、基板表面および磁性層表面を洗浄
し、濃度０．１％のフルオロカーボン（KRITOX 143CZ：
デュポン社製）のフロン溶液をディップ法により塗布し
て含浸させた。
し、濃度０．１％のフルオロカーボン（KRITOX 143CZ：
デュポン社製）のフロン溶液をディップ法により塗布し
て含浸させた。
【００５１】各サンプルについて、表１に示される磁気
特性を測定した。SQRxおよびＨcxはそれぞれ基板の周方
向の角形比および保磁力、SQRyおよびＨcyはそれぞれ基
板の径方向の角形比および保磁力、SQRzおよびＨczはそ
れぞれ磁性層に垂直な方向の角形比および保磁力であ
る。測定は振動試料型磁力計（ＶＳＭ）により行なっ
た。なお、SQRzは反磁界補正後の値である。
特性を測定した。SQRxおよびＨcxはそれぞれ基板の周方
向の角形比および保磁力、SQRyおよびＨcyはそれぞれ基
板の径方向の角形比および保磁力、SQRzおよびＨczはそ
れぞれ磁性層に垂直な方向の角形比および保磁力であ
る。測定は振動試料型磁力計（ＶＳＭ）により行なっ
た。なお、SQRzは反磁界補正後の値である。
【００５２】また、各サンプルについて下記の特性を測
定した。結果を表１に示す。
定した。結果を表１に示す。
【００５３】（１）Ｓ／Ｎ 各サンプルの最内周でＳ／Ｎを測定した。記録・再生に
は、ギャップ長０．６μm のモノリシックタイプのＭＩ
Ｇ型浮上型ヘッドを有する磁気ディスク装置を用いた。
サンプルの回転数は３６００rpm 、ヘッドの浮上量は
０．２５μm とした。まず、記録周波数３．３MHz で書
き込んだ後、再生出力(Vrms)を１０MHz の帯域の交流電
圧計にて測定した。次に、このトラックで直流消去を３
回行なった後、交流電圧計で再生出力(VDCrms)を測定し
た。また、ヘッドをオンロードし、システムノイズ(Vno
ise)を測定した。そしてＳ／Ｎを下記式から求めた。 Ｓ／Ｎ＝Vrms／(VDCrms2−Vnoise2)1/2
は、ギャップ長０．６μm のモノリシックタイプのＭＩ
Ｇ型浮上型ヘッドを有する磁気ディスク装置を用いた。
サンプルの回転数は３６００rpm 、ヘッドの浮上量は
０．２５μm とした。まず、記録周波数３．３MHz で書
き込んだ後、再生出力(Vrms)を１０MHz の帯域の交流電
圧計にて測定した。次に、このトラックで直流消去を３
回行なった後、交流電圧計で再生出力(VDCrms)を測定し
た。また、ヘッドをオンロードし、システムノイズ(Vno
ise)を測定した。そしてＳ／Ｎを下記式から求めた。 Ｓ／Ｎ＝Vrms／(VDCrms2−Vnoise2)1/2
【００５４】（２）再生出力 ディスク回転数３６００rpm 、記録周波数３．３MHz の
ときのＰ−Ｐ値であり、単位は、kFRPI(kilo Flux Reve
rse Per Inch) である。
ときのＰ−Ｐ値であり、単位は、kFRPI(kilo Flux Reve
rse Per Inch) である。
【００５５】（３）Ｄ50 再生出力のＰ−Ｐ（peak to peak）値が孤立波再生出力
のＰ−Ｐ値の５０％まで減少したときの記録密度であ
る。記録密度は、記録信号の周波数を変えることにより
変更した。
のＰ−Ｐ値の５０％まで減少したときの記録密度であ
る。記録密度は、記録信号の周波数を変えることにより
変更した。
【００５６】
【表１】
【００５７】表１に示される結果から、本発明の効果が
明らかである。すなわち、基板の周方向（SQRx測定方
向）の配向を行なったサンプルNo. １−１および２−１
では、周方向の配向を行なわなかったサンプルNo. １−
２および２−２に比べ、それぞれSQRyが小さくSQRzが大
きくなっており、また、SQRxも小さくなっている。そし
て、SQRy≦０．３５、SQRz≧０．７およびSQRz／SQRx≧
２の全てを満足するサンプルNo. １−１および２−１
は、サンプルNo. １−２および２−２に比べ良好な磁気
特性が得られている。
明らかである。すなわち、基板の周方向（SQRx測定方
向）の配向を行なったサンプルNo. １−１および２−１
では、周方向の配向を行なわなかったサンプルNo. １−
２および２−２に比べ、それぞれSQRyが小さくSQRzが大
きくなっており、また、SQRxも小さくなっている。そし
て、SQRy≦０．３５、SQRz≧０．７およびSQRz／SQRx≧
２の全てを満足するサンプルNo. １−１および２−１
は、サンプルNo. １−２および２−２に比べ良好な磁気
特性が得られている。
【００５８】以上の実施例の結果から、本発明の効果が
明らかである。
明らかである。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成５年３月２日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正内容】
【００３１】磁性塗料の調製に用いる溶剤に特に制限は
なく、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン系、イ
ソプロピルアルコール、ブチルアルコール等のアルコー
ル系、エチルセロソルブ、酢酸セロソルブ等のセロソル
ブ系、トルエン等の芳香族系等の各種溶剤を目的に応じ
て選択すればよい。磁性塗料中の溶剤の含有量に特に制
眼はないが、磁性粉末１００重量部に対し、２００〜７
００重量部程度とすることが好ましい。磁性塗料には、
必要に応じα−Ａｌ２Ｏ３等の研磨剤、シリコーンオイ
ル等の潤滑剤、その他の各種添加物を添加してもよい。
なく、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン系、イ
ソプロピルアルコール、ブチルアルコール等のアルコー
ル系、エチルセロソルブ、酢酸セロソルブ等のセロソル
ブ系、トルエン等の芳香族系等の各種溶剤を目的に応じ
て選択すればよい。磁性塗料中の溶剤の含有量に特に制
眼はないが、磁性粉末１００重量部に対し、２００〜７
００重量部程度とすることが好ましい。磁性塗料には、
必要に応じα−Ａｌ２Ｏ３等の研磨剤、シリコーンオイ
ル等の潤滑剤、その他の各種添加物を添加してもよい。
フロントページの続き (72)発明者 徳岡 保導 東京都中央区日本橋一丁目13番１号 ティ ーディーケイ株式会社内
Claims (6)
- 【請求項１】 実質的に六方晶系フェライト粒子から構
成される磁性粉末とバインダとを含む塗布型の磁性層を
有する磁気記録媒体であって、 記録トラック方向の角形比をSQRx、磁性層面内で記録ト
ラック方向に垂直な方向の角形比をSQRy、磁性層に垂直
な方向の角形比をSQRzとしたとき、 SQRy≦０．３５、 SQRz≧０．７、 SQRz／SQRx≧２．０、 であることを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項２】 磁性層に垂直な方向の保磁力が１０００
Oe 以上である請求項１に記載の磁気記録媒体。 - 【請求項３】 前記六方晶系フェライト粒子がＢａフェ
ライト粒子である請求項１または２に記載の磁気記録媒
体。 - 【請求項４】 記録トラック方向の磁界を印加して配向
を行なった後、磁性層に垂直な方向の磁界を印加して配
向を行なう配向工程を経て製造された請求項１ないし３
のいずれかに記載の磁気記録媒体。 - 【請求項５】 垂直磁化による記録が行なわれる請求項
１ないし４のいずれかに記載の磁気記録媒体。 - 【請求項６】 請求項１ないし５のいずれかに記載の磁
気記録媒体を製造する方法であって、 磁性塗膜形成工程と配向工程と乾燥工程とをこの順で有
し、前記配向工程が面内配向工程とこれに続く垂直配向
工程とを有し、前記面内配向工程において記録トラック
方向に磁界を印加し、前記垂直配向工程において磁性塗
膜に垂直な方向に磁界を印加することを特徴とする磁気
記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14647692A JPH05314457A (ja) | 1992-05-13 | 1992-05-13 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14647692A JPH05314457A (ja) | 1992-05-13 | 1992-05-13 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05314457A true JPH05314457A (ja) | 1993-11-26 |
Family
ID=15408508
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14647692A Pending JPH05314457A (ja) | 1992-05-13 | 1992-05-13 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05314457A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2017125981A1 (ja) * | 2016-01-20 | 2017-07-27 | ソニー株式会社 | 磁気記録媒体 |
| WO2018199105A1 (ja) * | 2017-04-28 | 2018-11-01 | ソニー株式会社 | 磁気記録媒体 |
| WO2018203468A1 (ja) * | 2017-05-01 | 2018-11-08 | ソニー株式会社 | 磁気記録媒体 |
-
1992
- 1992-05-13 JP JP14647692A patent/JPH05314457A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2017125981A1 (ja) * | 2016-01-20 | 2017-07-27 | ソニー株式会社 | 磁気記録媒体 |
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| US11355145B2 (en) | 2016-01-20 | 2022-06-07 | Sony Corporation | Magnetic recording medium |
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| JPWO2018199105A1 (ja) * | 2017-04-28 | 2020-03-12 | ソニー株式会社 | 磁気記録媒体 |
| US11798588B2 (en) | 2017-04-28 | 2023-10-24 | Sony Corporation | Magnetic recording medium |
| WO2018203468A1 (ja) * | 2017-05-01 | 2018-11-08 | ソニー株式会社 | 磁気記録媒体 |
| JPWO2018203468A1 (ja) * | 2017-05-01 | 2020-03-12 | ソニー株式会社 | 磁気記録媒体 |
| US11217277B2 (en) | 2017-05-01 | 2022-01-04 | Sony Corporation | Magnetic recording medium having controlled coercive force ratio |
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