JPH04113517A

JPH04113517A - 磁気ディスクの製造方法および磁気ディスク

Info

Publication number: JPH04113517A
Application number: JP2233591A
Authority: JP
Inventors: Keiji Koga; 啓治古賀; Junichi Sato; 純一佐藤; Kenji Yokoyama; 横山　研二; Akinori Nishizawa; 明憲西沢; Yasumichi Tokuoka; 保導徳岡
Original assignee: TDK Corp
Current assignee: TDK Corp
Priority date: 1990-09-04
Filing date: 1990-09-04
Publication date: 1992-04-15

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〈産業上の利用分野〉本発明は、ハードタイプの磁気ディスクの製造方法、特
にディスク表面加工方法および磁気ディスクに関する。

〈従来の技術〉計算機等に用いられる磁気ディスク駆動装置には、剛性
基板上に磁性層を設層したハードタイプの磁気ディスク
が用いられている。　ハードタイプの磁気ディスクに記
録再生を行なう磁気ヘッドとしては、各種浮上型磁気ヘ
ッドが用いられている。

従来、ハードタイプの磁気ディスクは、磁性粉とバイン
ダとを含有する磁性塗料を塗布して形成される塗布型磁
性層を有する塗布型磁気ディスクが一般的であった。

塗布型磁気ディスクは、通常磁性塗料をスピンコードし
た後、配向、硬化等を行なって製造されており、磁性粉
としては、信頼性が高いことがらγ−Ｆｅｚｅ３系磁性
粉末が多く用いられている。

また、このような塗布型磁気ディスクに組み合わされる
浮上型磁気ヘッドとしては、モノリシックタイプやコン
ポジットタイプのフェライト型磁気ヘッドが用いられて
いる、しかし、γ−Ｆｅ２０ｓ系磁性粉末は保磁性粉末００〜
８００Ｏｅ程度と低いため、高性能な薄膜型浮上型磁気
ヘッドと組み合わせても、記録密度を顕著に向上させる
ことは困難であった。

そこで、電磁変換特性に優れ高密度記録が可能であるこ
とから、スパッタ法やめっき法等により設層される連続
薄膜型の磁性層を有する薄膜型磁気ディスクが用いられ
るようになっている。

薄膜型磁気ディスクとしては、Ａρ系のディスク状金属
板にＮ１−Ｐ下地層をめっきにより設層するか、あるい
はこの金属板表面を酸化してアルマイトを形成したもの
を基板とし、この基板上にＣｒ層、Ｃ〇−Ｎｉ等の金属
磁性層、さらにＣ等の保護潤滑膜をスパッタ法により順
次設層して構成されるものが一般的である。

このような薄膜型磁気ディスクは電磁変換特性に優れ、
高密度記録が可能であるが、磁性層の表面エネルギーが
高く、硬度が低く、かつ潤滑層の形成が困難なため耐久
性が低（、Ｃ８５（コンタクト・スタート・ストップ）
の繰り返しにより磁性層に傷が発生し易い。

また、ディスクと磁気ヘッドとの間の摩擦が大きいため
吸着が生じ易く、信頼性が十分ではない。

そして、これらの問題は、浮上型磁気ヘッドの浮上量（
磁気ディスク表面と浮上型磁気ヘッド浮揚面との距離）
が小さくなるほど顕著となる。

さらに、薄膜型磁気ディスクは、磁性層構成材料が一般
に高価であり、しかも磁性層形成に真空槽などの高価な
装置を必要とするため、安価に製造することが困難であ
る。　また、薄膜型磁気ディスクは多層膜構造であるた
めに、成膜工程が複雑でかつ時間がかかるため、生産性
および量産性が低く、このためさらにコストが高くなる
。

このような事情から生産性や量産性が高（、耐久性や信
頼性が高く、加えて記録密度が高い磁気ディスクを得る
には、塗布型磁気ディスクにおいて、保磁力が高い磁性
粉、例えば強磁性金属微粒子やＢａフェライト、Ｓｒフ
ェライト等の六方晶系酸化物微粒子を用いることを考え
なければならない。

一方磁気ディスクには、デジタル信号記録が行なわれ、
通常、１ｆ信号と２ｆ信号にて飽和記録が行なわれてい
る。

このような記録・再生を行なうに際し、記録密度を向上
させるため、例えば２ｆ信号として１０〜３０　ｋＦＲ
ＰＩ程度の短波長信号波が用いられている。

しかし、短波長信号波を用いる場合は、磁性層の膜厚が
厚いと飽和記録が困難となり、オバーライト特性が悪く
、しかも記録密度特性が悪化する。

このため、磁気ディスクを高密度化するためには、磁性
層の保磁力を太き（するとともに、磁性層の膜厚を薄層
化し、かつ磁性層の表面を平滑化することが技術的に最
も重要な課題として要求されている。

従って、磁性層を薄層化かつ平滑化させるため、磁性層
を形成した後、磁性層表面に研磨加工を行なう。

磁性層を研磨するには、通常第５図に示される研磨装置
を用い、スピンドル部３０とクランプ３１とでディスク
を挾持し、これを空気圧で固定し、ディスクを１０００
　ｒｐｍ程度にて回転させる。

そして、研磨テープ３３５を有する研磨ヘッド３３をデ
ィスク１０１に圧接しながら、ディスク１０１の径方向
にて一定速度で揺動させて、磁性層を所定の膜厚および
表面粗さに研磨する。

この場合、ディスクの径方向の厚みむらをなくす方法と
して、特開昭５７−２０１１６３号公報にはディスク回
転角速度制御部を有するディスク研磨装置、特開昭５８
−２００４３２号公報には研磨ヘッドの揺動速度を変化
させる研磨方法が開示されている。

また、ディスクが高密度化され薄層化された場合、ディ
スクの周方向の厚みむらが、磁気ディスクシステムの性
能、特に電磁変換特性を著しく悪化させる。

周方向の厚みむらをなくすには、研磨装置のチャッキン
グの精度を向上させる必要がある。

〈発明が解決しようとする課題〉しかし、従来の研磨方法では、研磨装置のチャッキング
精度が不十分である。

例えば、図示のように、スピンドル部３０とクランプ部
３１とで空気圧によってディスク１０１を挾持する場合
には、特にクランプ部３１とディスク１０１のガタッキ
を極限的に小さくしても限界が生じる。

このため、スピンドル部３０およびクランプ部３１によ
って固定されているディスク１０１は一定の面内にて回
転しない。

このようにディスク１０１の回転にブレが生じるとディ
スクの周方向にて研磨ヘッド３３の押圧力が変化し、周
方向の磁性層の膜厚を一定にできない。

すなわち磁性層の周方向には、回転の際のディスクの面
ブレに応じた厚みむらが生じ、この厚みむらにより記録
・再生時のモジュレーションやノイズが悪化し、エラー
が増加してしまう。

本発明の主たる目的は、ディスク周方向の膜厚が均一で
あり、表面粗度が小さく、良好な電磁変換特性を有する
磁性“層を有する高密度記録および高信頼性を実現する
磁気ディスクの製造方法と、磁気ディスクとを提供する
ことにある。

く課題を解決するための手段〉このような目的は下記（１）〜（８）の本発明によって
達成される。

（１）ディスク状の剛性基板上に磁性層を形成した後、
前記基板を研磨装置のスピンドル部と、クランプ部との
間に挾持し、前記基板を回転させながら研磨ヘッドを圧
接して前記磁性層を研磨する磁気ディスクの製造方法に
おいて、前記基板を前記スピンドル部および／またはクランプ部
に対して滑らせながら回転させることを特徴とする磁気
ディスクの製造方法。

（２）前記剛性基板上に強磁性微粒子を含有する磁性塗
料を塗布して、前記磁性層を形成する上記（１）に記載
の磁気ディスクの製造方法・（３）前記磁性塗料を塗布し、次いで、前記剛性基板を
回転しながら、溶剤蒸気中にて磁界を印加して塗膜のレ
ベリングを行なった後、配向を行なう上記（２）に記載
の磁気ディスクの製造方法。

（４）前記剛性基板の径方向に前記研磨ヘッドを揺動し
、揺動範囲を変化させることにより、前記基板の内周部
での前記研磨／＼ラッド圧接時間を外周部での圧接時間
より短くする上記（１）ないしく３）のいずれかに記載
の磁気ディスクの製造方法。

（５）上記（１）ないしく４）のいずれかに記載の方法
にて製造されたことを特徴とする磁気ディスク。

（６）強磁性金属微粒子または六方晶系酸化物微粒子を
含有する磁性層を有する上記（５）に記載の磁気ディス
ク。

（７）０．５−以下の膜厚の磁性層を有する請求項５ま
たは６に記載の磁気ディスク。

（８）磁性層の有する保磁力が１１００Ｏｅ以上である
上記（５）ないしく７）のいずれかに記載の磁気ディス
ク。

〈作用〉本発明の磁気ディスクの製造方法では、磁性層を研磨す
る際、スピンドル部やクランプ部に対しディスクをすべ
らせながら回転させる。

このようにディスクをすべらせながら研磨することによ
り、ディスクの回転にブレが生じても研磨ヘッドからの
押圧力の最大位置および最小位置はずれてい（ので、デ
ィスク周方向の押圧力変化がほとんどなくなる。

このため、磁性層の研磨量をディスクの周方向において
一定にでき、磁性層の片へりや厚みむらが生じるのを防
止できる。

そして、周方向の膜厚が一定であり、高い電磁変換特性
を有する磁気ディスクが実現する。

加えて、研磨後の磁性層の膜厚の変動がほとんど生じな
いため、０．５−以下の非常に薄い均一な膜厚の磁性膜
を得ることができる。

しかも、研磨量を大きくしても膜厚の均一性が損なわれ
ないため、十分に深く研磨を行なうことができ、磁性膜
の表面を極限的に平滑化できる。

〈具体的構成〉以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。

第１図に、本発明の磁気ディスクの好適例を示す。

第１図において、磁気ディスク１０１は、剛性基板１０
２上に塗布型の磁性層１０３を有する。

本発明は、剛性基板１０２の片面だけに磁性層１０３を
有する片面記録型の磁気ディスクおよび剛性基板１０２
の両面に磁性層１０３を有する両面記録型の磁気ディス
クのいずれでもよい。

本発明に使用されるディスク状の剛性基板１０２は、例
えば、アルミニウム、アルミニウム合金等の金属、ガラ
ス、セラミックス、エンジニアリングプラスチックス等
の各種非磁性材料により構成すればよい。

この場合、これら、剛性基板の表面は、アルマイトの陽
極酸化膜、クロム酸等の酸化膜、Ｎ１−Ｐ−Ｃｕ等の無
電解メツキ膜、カップリング剤、硬化性樹脂などで処理
されていてもよい。

剛性基板の寸法は目的に応じて選定すればよいが、通常
、厚さ０．８〜１．９ｒｎｍ程度、直径６０〜１３０１
Ｘｌｒｎ程度である。

この場合の剛性基板の表面粗さ（Ｒａ　）は、０．００
７−以下、より好ましくは０．００６−以下とすること
が好ましい。

また、Ｒａの下限は、特に問題とならないが０．００２
−以上であることが好ましい。

ここで、表面粗さ（Ｒａ　）とは、ＪＩＳ　　Ｂ１２Ｏ
３の定義に従うものであり、カットオフ値０．１７ｍｍ
、測定長０．５ｍｍにおけるものである。

Ｒａを上記の値とすることにより、記録再生時のＳ／Ｎ
比およびＣ／Ｎ比が格段と向上する。

このようなＲａを得るには、公知の各種ポリッシング技
術を用いればよい。

本発明において、剛性基板１０２上に設層される磁性層
１０３には特に制限がな（、例えばスパッタリング等の
各種気相法で成膜した薄膜型磁性層等でもよい。

ただし、磁性層の耐久性や信頼性が高（、しかも生産性
や量産性が高く、低コストである点で、強磁性微粒子を
含有する磁性塗料の塗膜から形成されることが好ましい
。

磁性層に用いる強磁性微粒子には特に制限はなく、各種
酸化物磁性粉等も使用可能であるが、高保磁力の磁性微
粒子、例えば強磁性金属微粒子やバリウムフェライト、
ストロンチウムフェライト等の六方晶系酸化物微粒子が
好ましい。　強磁性金属微粒子等の高保磁力の磁性微粒
子を用いれば高い記録密度と、高い記録・再生感度が得
られる。

この場合、後記のような磁気特性の磁性層が得られるよ
うに選択することが好ましい。

強磁性金属微粒子としては、例えば、Ｆｅ。

Ｃｏ、Ｎｉの単体、これらの合金、またはこれらの単体
および合金に、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃ。

Ｎｉ　　さらにはＺｎ、Ｃｕ、Ｚｒ、ＡｌＴｉ、Ｂｉ、
Ａｇ、Ｐｔ等を添加した強磁性金属微粒子が使用できる
。

また、これらの金属にＢ、Ｃ，Ｓｉ、Ｐ、Ｎなどの非金
属元素を少量添加したものであってもよ（、Ｆ　ｅ　４
　Ｎ等、一部室化されたものであってもよい。

さらに、強磁性金属微粒子は、耐食性、耐候性の向上の
ために、表面に酸化物の被膜を有するものであってもよ
い。　このような酸化物としては、強磁性金属微粒子を
構成する金属の酸化物、Ａβ２０３等の各種セラミック
スが好ましい。

強磁性微粒子の形状に特に制限はないが、形状磁気異方
性を利用できることから針状形態のものを用いることが
好ましい。

また、強磁性微粒子の寸法は目的とする磁性層の構成に
応じて選定すればよいが、通常、長径０．１５〜０．３
０−程度、針状比６〜１０程度のものを用いることが好
ましい。

なお、強磁性金属微粒子を用いる場合は、ａ　−Ｆ　ｅ
　ＯＯＨ（Ｇｏｅｔｈｉｔｅ）を還元する方法など、公
知の各種方法により製造すればよく、また、市販のもの
を用いてもよい。

また、高保磁力の磁性微粒子としては、前記のとおりバ
リウムフェライト、ストロンチウムフェライト等の六方
晶系酸化物微粒子が好適である。

この場合、六方晶系酸化物微粒子の寸法は、目的とする
磁性層の構成に応じて選定すればよいが、電磁変換特性
上、平均粒径が０．１５μ以下、特に０．０２〜０．１
０−程度、板状比は２以上、特に３〜１０程度であるも
のが好ましい。

ここで、平均粒径とは、電子顕微鏡写真［走査型電子顕
微鏡（ＳＥＭ）および透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）］に
よって、例えば六方晶系のバリウムフェライト粒子の断
面５０個程度を観察し、粒径についての測定値を平均に
したものである。

平均厚みはＸ線回折による２θの半値巾によって測定す
ることが好ましい。　また板状比とは、平均粒径／平均
厚みの値である。

バリウムフェライトとしては、ＢａＦｅ＋□０１９等の六方晶系バリウムフェライトや
バリウムフェライトのＢａ、Ｆｅの一部をＣａ、Ｓｒ％
Ｐｂ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｚｎ、Ｉ　ｎ、Ｍｎ、
Ｃｕ、Ｇｅ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｓｎその他の金属から選ばれ
る１種以上で置換したもの等が挙げられる。

また、ストロンチウムフェライトとしては、六方晶系ス
トロンチウムフェライトＳ　ｒ　Ｆ　ｅ　＋ｚＯｒｅ、あるいはこれを上記に準
じて置換したものであってもよい。

さらに、六方晶系酸化物微粒子は、耐候性や分散性の向
上のために、表面に酸化物や有機化合物等の被膜を有す
るものであってもよい。

なお、これらの六方晶系酸化物微粒子は、必要に応じて
２種以上併用してもよい。

バリウムフェライト等の製法としては、セラミック法、
共沈−焼成法、水熱合成法、フラックス法、ガラス結晶
化法、アルコキシド法、プラズマジェット法等があり、
本発明ではいずれの方法を用いてもよい。　これらの方
法の詳細については小池吉康、久保修共著“セラミック
ス１８　（１９８３）　Ｎｏ、　　１０”などを参照す
ることができる。

また、塗布型の磁性層には、さらに非磁性無機微粒子よ
りなる研磨剤が含有されることによって、磁性層の耐久
性が格段と向上する。

なお、本発明に好適な研磨剤としては、アルミナα−Ａ
β２０３、非磁性酸イじロムＣｒ２Ｏ３、炭化ケイ素５
ｉＣ１酸化チタンＴ　ｉ　Ｏｘ　、シリカＳｉＯ□、ジ
ルコニアＺ　ｒ　０２等が挙げられる。

この場合、これらの研磨剤の表面は、界面活・膣剤やカ
ップリング剤、プラズマ重合膜、メツキ膜等の有機また
は無機化合物で被覆されていてもよい。

なお、これらは単独で用いても、２種以上を１井用して
用いてもよい。

本発明においては、磁性層の保磁力は１．１００Ｏｅ以上とすることが好ましい。

これにより、電磁変換特性が向上し、高密度記録が可能
となり、高い再生出力が得られる。

保磁力の上限は、組み合わせて使用する磁気ヘッドの性
能を考慮し、十分なオーバーライド特性を得るために、
通常、２０００Ｏｅ以下とすることが好ましい。

なお、磁性層の保磁力は、特に、１２００〜１５００　
Ｏｅとすることが好ましい。

また、磁性層の厚さは、０．５−以下、特に０．３−以
下とすることが好ましい。

磁性層の厚さが０．５−を超えると、十分なオーバーラ
イド特性が得られなくなる。　また、特に短波長記録に
おいて飽和記録が困難となり厚み損失が増大するため、
高密度記録が困難となる。

磁性層の厚さの下限は、十分な再生出力およびＳ／Ｎ比
を確保する上で、０．０５−以上とすることが好ましい
。

なお、磁性層の厚さの特に好ましい範囲は、０．０８〜
０．３−である。

本発明において、磁性層の表面粗さ（Ｒａ　）は０００
５−以下、より好ましくは０．００３以下、特に好ましくは０．００１〜０．００
３−とすることが好ましい。

なお、この場合のＲａは、前記と同様に測定されるもの
である。

Ｒａを上記の値とすることにより、配録・再生時のＳ／
Ｎ比およびＣ／Ｎ比が臨界的に向上する。

また、磁性層のＲａを上記値にするには、本発明の方法
により塗膜硬化後ないし予備硬化後に磁性層表面をポリ
ッシングすればよい。

このポリッシングは後述する研磨テープ等の各種研磨材
を用いて行なえばよい。

さらに、後述のように磁性層塗膜に潤滑剤を含浸させた
後、必要に応じて行なう本発明によるバニッシングによ
っても所望のＲａが実現する。

なお、磁性層を各種気相法により成膜した場合は、本発
明によるバニッシングを行なえばよい。

本発明における磁性層は、前記のとおり、強磁性微粒子
を含有する磁性塗料を塗布して形成されることが好まし
い。

用いる磁性塗料は、強磁性微粒子と、バインダと、溶剤
と、好ましくはさらに研磨剤とを混練して調製される。

用いるバインダに特に制限はな（、熱硬化性樹脂、反応
型樹脂、放射線硬化性樹脂等から目的に応じて選択すれ
ばよいが、薄層で十分な膜強度を確保し、高い耐久性を
得る必要があることがら熱硬化性樹脂あるいは放射線硬
化性樹脂を用いることが好ましい。

熱硬化性樹脂としては、例えば、フェノール樹脂、エポ
キシ樹脂、ビニル共重合系樹脂、ボッウレタン硬化型樹
脂、尿素樹脂、ブチラール樹脂、ホルマール樹脂、メラ
ミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコン樹脂、アクリル系
反応樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂
、飽和ポリエステル樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂な
どの縮重合系の樹脂あるいは高分子量ポリエステル樹脂
とイソシアネートプレポリマーの混合物、メタクリル酸
塩共重合体とジイソシアネートプレポリマーの混合物、
ポリエステルポリオールとポリイソシアネートの混合物
、低分子量グリコール／高分子量ジオール／トリフェニ
ルメタントリイソシアネートの混合物など、上記の縮重
合系樹脂とインシアネート化合物などの架橋剤との混合
物、ビニル共重合系樹脂と架橋剤との混合物、ニトロセ
ルロース、セルロースアセトブチレート等の繊維素系樹
脂と架橋剤との混合物、ブタジェン−アクリロニトリル
等の合成ゴム系と架橋剤との混合物、さらにはこれらの
混合物が好適である。

そして、特に、エポキシ樹脂とフェノール樹脂との混合
物、米国特許筒３，０５８，８４４号に記載のエポキシ
樹脂とポリビニルメチルエーテルとメチロールフェノー
ルエーテルとの混合物、また特開昭４９−１３１１０１
号に記載のビスフェノールＡ型エポキシ樹脂とアクリル
酸エステルまたはメタクリル酸エステル重合体との混合
物等が好ましい。

放射線硬化性化合物の具体例としては、ラジカル重合性
を有する不飽和二重結合を示すアクリル酸、メタクリル
酸、あるいはそれらのエステル化合物のようなアクリル
系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系二重
結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結合等
の放射線照射による架橋あるいは重合する基を熱可塑性
樹脂の分子中に含有または導入した樹脂である。　その
他放射線照射により架橋重合する不飽和二重結合を有す
る化合物であれば用いることができる。

放射線硬化性バインダーとして用いられる樹脂としては
、上記不飽和二重結合を樹脂の分子鎖中や末端、側鎖に
含有する飽和、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン
樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂
、ポリビニルブチラール系樹脂、エポキシ樹脂、フェノ
キシ樹脂、繊維素系樹脂、アクリロニトリル−ブタジェ
ン共重合体、ポリブタジェン等が好適である。

さらに、オリゴマー、モノマーとして本発明で用いられ
る放射線硬化性化合物としては、単官能また多官能のト
リアジン系アクリレート、多価アルコール系アクリレー
ト、ペンタエリスリトール系アクリレート、エステル系
アクリレート、ウレタン系アクリレートおよび上記系の
単官能または多官能のメタクリレート化合物等が好適で
ある。

磁性塗料中のバインダの含有量に特に制限はないが、磁
性微粒子１００重量部に対し、２０〜５０重量部程度と
することが好ましい。

用いる溶剤に特に制限はなく、シクロヘキサノン、イソ
ホロン等のケトン系、イソプロピルアルコール、ブチル
アルコール等のアルコール系、エチルセロソルブ、酢酸
セロソルブ等のセロソルブ系、トルエン等の芳香族系等
の各種溶剤を目的に応じて選択すればよい。

磁性塗料中の溶剤の含有量に特に制限はないが、磁性微
粒子１００重量部に対し、４００〜７００重量部程度と
することが好ましい。

さらに、磁性塗料中には潤滑剤を含有させることが好ま
しい。

潤滑剤としては、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸
、ミルスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン
酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リルン酸
、ステアロール酸等の脂肪酸；脂肪酸のアルコールエステル；シリコーンオイル；含フッ素荷機化合物脂肪酸のアルカリ金属塩やアルカリ土類金属塩からなる
金属石鹸：レシチン等亮級アルコール、およびこれらの硫酸エステル等が使用可能である。

本発明において、このような磁性塗料を剛性基板表面に
塗布して磁性層が形成されるが、磁性塗料の塗布には種
々の塗布法を適用することができる。

なかでも、均一な塗布が容易にできることから、スピン
コード法を用いることが好ましい。

スピンコードの際の回転数や回転時間等は、磁性層の厚
さに応じて適宜設定すればよい。

この場合、振り切り時の回転数は３０００ｒｐｍ以上が
好ましい。

また、磁性塗料の粘度は１００〜１０００ｃｐｓ程度と
することが好ましい。

本発明では必ずしも塗膜のレベリングは必要ではないが
、磁性塗膜を塗布した後、磁性塗膜の配向処理を行なう
前に、溶剤蒸気中で、基板面に直交させた直流磁界によ
って塗膜のレベリングを行なうことが好ましい。

この場合、レベリング用の装置がスピンコード用の装置
をも兼ねる場合等は、スピンコードを溶剤蒸気中にて行
なうことも可能である。

なお、塗布と同時にレベリングを行なうこともできるが
、通常は、磁性塗料を塗布した後、塗膜にレベリングを
行なう。

レベリングとしては、公知の種々の方法を用いることが
できるが、特に溶剤蒸気中で磁界を印加した状態で、基
板を回転させることによって行なうことが好ましい。

このような場合に用いるレベリング装置としては、例え
ば、第２図に示されるものが好適例として挙げられる。

第２図に示される装置は、剛性基板１０２上に形成され
た磁性塗料の塗膜１０４をレベリングするものである。

この装置は、図示のように、密閉容器２０１内に溶剤２
０５を注・封入して使用するもので、この容器２０１に
は主面に着磁した１対の棒状の磁石２０３．２０４が配
置されている。

また、上記基板１０２を回転させる回転軸２０６が設置
されている。

また、１対の磁石２０３．２０４は、図示のように、基
板１０２を挾んで互いに異極同士を対向させて配置する
ことが好ましい。

用いる磁石２０３，２０４は、永久磁石でも電磁石でも
よい。

また、用いる磁石２０３．２０４の最大エネルギー積（
ＢＨ）ｍａｘや大きさ等は、基板１０１の大きさ、印加
する磁界強度、基板と磁石間の距離等に応じて、適宜、
選択すればよい。

通常、磁石２０３．２０４の（ＢＨ）ｍａｘは１６〜３
０　ＭＧＯｅ程度、磁極の大きさはＩＯＸ６５ｍｍ程度
であり、磁石２０３．２０４と基板１０１との間の距離
は５〜２０ｍｍ程度とすればよい。

また、密閉容器２０１内に封入される溶剤２０５は、磁
性塗料を調製する際、使用できるものであればいずれの
ものも用いることができ、単独で用いても２種以上の溶
剤を併用してもよい。

上記構成にて、基板１０２を回転しながら、磁性塗料１
０４を塗布した基板１０２に、磁界を印加する。

印加磁界の方向は、通常基板１０２に垂直であるが、多
少の傾斜があってもよい。

ただし水平磁界では磁界が広がり、磁極の位置と１８０
°の方向の塗膜に力が働（ため均一なレベリングができ
ない。

また、磁界強度は、磁性塗料１０４中にて５００〜３０
００Ｇであることが好ましい。

このような磁界強度とすることにより、本発明における
レベリングの効果が十分高いものとなる。

この場合、図示のように１対の磁石２０３．２０４を配
置し、印加磁界の強度が、基板１０２の最外径部の磁性
塗料１０４中にて最小であり、最内径部の磁性塗料１０
４中にて最大であり、外径部から内径部にかけて連続的
あるいは段階的に増加するものであることが好ましい。

このようにするには、磁界の強い部分、つまり磁石のエ
ツジ部を基板の内径側へ、磁界の弱い部分、つまり磁石
の中央部を基板の外径側へ配置すればよい。

なお、本発明において、これら対向磁石２０３．２０４
は、１対のみでなく、２対〜６対程度設ける構成として
もよい。

また、磁界印加方法は、前記の方法に限定されるもので
はなく、例えば基板の片側にのみ磁極を配置して、垂直
方向の磁界を印加するなど種々の方法が可能である。

図示のように、本発明では、基板１０２を回転させつつ
、溶剤蒸気を溶存させた雰囲気中で磁界印加を行なって
いるが、この場合の基板１０２の回転速度は２００〜２
００　Ｏｒｐｍであることが好ましい。

また、回転時間は５秒以上、特に１０〜１２０秒である
ことが好ましい。

上記の回転条件とすることにより、スピンコード等の塗
布段階で内径側が薄く、外径側が厚くなっていた磁性塗
料の塗膜１０４は均一な膜厚となる。

すなわち、磁性層の最外周部と最内周部との膜厚差は１
０％以内とすることができる。

また、表面も平滑化される。

そして、レベリング後の磁性塗膜の均質性も良好である
。

これは、磁性塗料中の強磁性金属微粒子が、周期的に磁
界強度が高い内径側へ引かれ、それに伴って磁性塗料も
内径側へ移動するためである。

上記の磁界印加は溶剤蒸気を存在させた雰囲気中で行な
う。

図示例では、溶剤２０５として低沸点溶剤（例えばシク
ロヘキサノン）を用い、容器２０１内の空気中に溶剤を
自然蒸発させることによって溶剤蒸気を発生させ、所定
の雰囲気を得るような構成となっている。

この場合、雰囲気の温度は２０〜５０℃であってよい。

そして、雰囲気中の溶剤蒸気の含有量は３０〜９０体積
％であることが好ましい。

なお、雰囲気は、通常空気とするが、これのみならず窒
素、アルゴン等の不活性ガスとしてもよい。

また、溶剤蒸気を得るには、自然蒸発によるのみならず
、例えば超音波やバブリング等を用いてもよい。

このように、溶剤蒸気を存在させた雰囲気中で磁界印加
を行なうことによって、磁性塗料の乾燥が防止でき、あ
るいはすでに乾燥した部分も再度膨潤し、磁性塗料の表
面平滑性はより一層向上する。

そして、レベリングの後に行なわれる配向の直前まで磁
性塗料の乾燥を防止できるため、強磁性微粒子を十分に
配向させることができ、高い角形比Ｓや高い保磁力角形
比Ｓ°を有する磁性層を形成できる。

また、磁性層表面を、前記した範囲Ｒａに規制する作業
も容易となる。

この後、磁性層では強磁性微粒子の配向が行なわれる。

磁性層中では、強磁性微粒子の磁化容易軸がディスク周
方向に向（ように配向されることが好ましい。　このよ
うな配向を行なうためには、磁性層を挟んで同極同士が
対向するように一対の磁石を設け、これらの磁石間で磁
気ディスクを回転させることが好ましい。

配向磁石の磁界は、塗膜中にて２０００〜４０００Ｇ程
度とし、配向磁石は、１対〜６対程度設けてもよい。

この際、回転数は１００〜５００　ｒｐｍ程度とする。

また、配向雰囲気には、溶剤蒸気を存在させても、させ
な（でもよい。

配向後、磁性塗料硬化のために硬化処理を行なう。

バインダが熱硬化性樹脂の場合、熱処理温度、熱処理時
間等の各種条件はバインダの種類に応じて適宜設定すれ
ばよいが、通常１５０〜３００℃程度にて１〜５時間程
度である。

また、放射線硬化性樹脂の場合には、常温において、３
〜１０　Ｍｒａｄの線量に設定すればよい。

硬化処理時の雰囲気は不活性ガス雰囲気中、特に窒素雰
囲気中であることが好ましい。

このように磁性層にて磁性塗料を硬化した後、前記のよ
うに磁性層表面は研磨（ポリッシング）され、前記した
所定の厚さと、所定の表面粗さ（Ｒａ）とされる。

本発明で用いる研磨装置は、ディスクをスピンドル部お
よび／またはクランプ部に対してすべらせることができ
る構成であれば特に制限はないが、好適例を第３図に示
し以下図示例に従って説明する。

第３図に示される研磨装置は、磁気ディスク１０１を回
転させるスピンドル部３０を有する。　そして、このス
ピンドル部３０に対向して、その回転軸上にクランプ部
３１を配置し、このクランプ部３１とスピンドル部３０
とでディスク１０１を挾持する。

さらに、ディスク１０１の磁性層を研磨するために、研
磨ヘッド３３．３３とを配置する。

研磨ヘッド３３は、従来公知の種々のものでよいが、図
示されるような研磨テープ３３５を用いたテープ方式の
ものが好ましい。

テープ方式の研磨ヘッドは、押圧ローラ３３１と、研磨
テープ３３５とを有する。

そして、研磨テープ３３５は、図示しない送出リールか
ら送り出され、巻き取りリールに巻き取られる走行経路
の途中で、押圧ローラ３３１によりディスク１０１の磁
性層に押し付けられ、この研磨テープ３３５の走行と、
ディスク１０１の回転により、研磨が行なわれる。

スピンドル部３０は、スピンドル３０１の先端にディス
ク１０１を内周部の孔部に嵌入して、ディスク１０１を
係止する係止部３０５を有している。　そして、駆動源
により、図示矢印ａ方向に回転する。

クランプ部３１は、例えば図示されるように、押圧装置
３１７を有し、その押圧力にてディスク１０１をスピン
ドル部３０に押し付けるものである。

図示される抑圧装置３１７は空気圧式のものであり、こ
の押圧装置３１７により、スピンドル部３０と同一軸線
上にて、筒状のクランプ３１１の先端をスピンドル部３
０側に押圧している。

このクランプ３１１の後方には、回転プランジャ３１２
がスプリング３１３、ニードルベアリング３１４を介し
て嵌着されている。　この際、押圧装置３１７の空気圧
による押圧力の変動があったときでも、これらスプリン
グ３１３、ニードルベアリング３１４により、この変動
は吸収される。

さらに、この回転プランジャ３１２の後方には、ベアリ
ング３１６を介し、押圧プランジャ３１５が嵌着されて
いる。

そして、押圧プランジャ３１５の後端は、押圧装置３１
７の軸承部３１８に槽動可能に嵌入され、押圧装置３１
７からの空気圧によって、図示矢印す方向に押圧される
。

そして、ディスク１０１をスピンドル部３０およびクラ
ンプ部３１内に装着した状態で、押圧装置３１７により
空気圧を印加すると、押圧プランジャ３１５、回転プラ
ンジャ３１２およびクランプ３１１は、図示矢印す方向
に押圧される。

そして、ディスク１０１の回転が行なわれると、ディス
ク１０１に圧接されたクランプ３１１および回転プラン
ジャ３１２が図示矢印ａ方向に回転するものである。

このようなりランプ部３１のクランプ３１１の先端部に
はスリップリング３５が設けられている。

スリップリング３５の材質は、スベリ性をもちディスク
に対してすべりながら回転できるものであれば何れでも
よいが、例えば、ボリン、ソ化エチレン系樹脂等が好適
である。

このような構成により、ディスク１０１中夫の孔部をス
ピンドル３０１に装着し、スピンドル部３０と、クラン
プ部３１とでディスク１０１を挾持し、スピンドル部３
０を図示矢印ａ方向に回転すると、ディスク１０１も図
示矢印ａ方向にスピンドル３０１と同期して回転するが
、ディスク１０１とスリップリング３５との間ですべり
が生じ、クランプ３１１は、ディスク１０１およびスピ
ンドル３０１に対しすべりながら図示矢印ａ方向にそれ
らより遅い速度で回転する。

従って、例えばクランプ３１１とディスク１０１の接合
状態が悪く、ディスク１０１が定の面内にて回転しない
場合でも、磁性層の周方向の膜厚を均一にできる。

また、図示される研磨装置では、クランプ３１１と押圧
プランジャ３１２との間にスプリング３１３が設けられ
ているため、前記のとおりディスク１０１を押し付ける
押圧力をほぼ一定値に保持でき、クランプ３１１のディ
スク１０１に対するすべりおよびクランプ３１１の回転
数を一定値に保持できる。

なお、本発明ではクランプ３１１の回転数は一定値であ
っても脈動していてもよいが、制御の容易性と、研磨量
の均一性の点で一定値であることが好ましい。

研磨時のスピンドル３０１の回転数は、２５０〜２５０
　Ｏｒｐｍ程度とする。

そして、クランプ３１１は、スピンドル３０１の回転数
の５〜２０％程度の遅れをもってすべるようにすること
が好ましい。

また、ディスクを挾持する際には、磁性層を保護するた
め、ディスク１０１とスピンドル３０１問および／また
はディスク１０１とクランプ３１１間には、保護リング
３６や保護シートを設けることが好ましい。

保護リング３６には、通常摩擦係数μが大きい材質、す
なわち研磨時にディスクに対してすべらない材質を用い
る。

本発明に好適な材質としては、ポリエチレン、ポリエス
テル等が挙げられる。

保護リング３６は、ディスク１０１に直接接着したり、
あるいはスピンドル３０１やクランプ３１１に嵌装すれ
ばよい。

磁気ディスク１０１を研磨装置に装着した後、ディスク
１０１を回転させながら、研磨ヘッド３３をディスク１
０１の径方向に往復運動させ、同時に研磨テープ３３５
を移送させて磁性層を研磨する。

そして、研磨時には、磁気ディスク１０１の表面を滑性
化させ、かつ研磨カスを除去したり、温度上昇を抑える
ため、研磨面には研磨液が流される。

研磨液としてはアニオン系界面活性剤等が好適である。

研磨ヘッド３３を外周部−内周部間を、通常径方向へ往
復運動させる時の揺動速度は１０〜６０秒／往復程度と
する。

また、研磨ヘッド３３が磁気ディスク１０１を押し付け
る押圧力は０．２５〜１．５ｋｇ程度とする。

以上では、主に磁性層の周方向の膜厚を均一化するため
の好適な諸条件を挙げて説明してきたが、さらに研磨ヘ
ッド３３の揺動範囲をディスク１０１の外周部から内周
部にかけて段階的ないし連続的に変化させることが好ま
しい。

例えば、揺動範囲を段階的に外周側に移動させることに
より、研磨ヘッドの圧接時間を外周部から内周部にかけ
て段階的に減少させることかできる。

このようにして、揺動範囲を変化させることにより、ス
ピンコードによって内周部の膜厚が薄（、外周部の膜厚
が厚く形成された磁性層の径方向の膜厚を均一化できる
。

研磨ヘッド３３の揺動範囲は、磁性層の外周部と内周部
との膜厚差や研磨量等により適宜決定すればよいが、磁
性層の最外周部の圧接時間（最大圧接時間）が最内周部
の圧接時間（最小圧接時間）より２０〜８０％程度大き
いものとすることが好ましい。

また、このほか、研磨ヘッド３３の揺動速度をディスク
１０１の外周部から内周部にかけて段階的または連続的
に増加させたり、研磨ヘッド３３の揺動速度を一定にし
て、研磨ヘッド３３が、ディスク１０１の外周部から内
周部に移動するに従い、ディスクの回転速度を段階的ま
たは連続的に増加させて、径方向の研磨レートを一定に
することもできるが、ディスク１０１をすべらせながら
研磨する本発明では、このような方法では磁性層に回転
むら等が生じやすいため、前記の研磨ヘッド３３の揺動
範囲を変化させる方法が最も効果がある。

この場合、研磨ヘッドの揺動範囲を段階的ないしステッ
プ状に変化させると、より一層平滑化した磁性層が得ら
れる。

なお、研磨ヘッドの揺動範囲を変化させる方法では、研
磨ヘッドの位置を規制するだけでよいため、制御が容易
である。

本発明では前記の研磨方法により、塗膜のレベリングを
行なわない場合でも磁性層の膜厚と表面粗度（Ｒａ　）
とを前記の所定値にでき、しかも径方向の膜厚と周方向
の膜厚をそれぞれ均一化できる。

例えば、磁性層の膜厚が０．５μ以下、特に０．３−以
下においても径方向の膜厚差は１０％以内、周方向の膜
厚差は５％以内とすることができる。

以上では、第３図に示される研磨装置、すなわちスリッ
プリング３５がクランプ３１１にのみ設けられている装
置を例に挙げて説明してきたが、この他、例えば第４図
に示されるように、スリップリング３５がクランプ３１
１と、スピンドル３０１とに設けられている装置でも前
記と同様に高い効果が得られる。

この場合は、スピンドル３０１に設けられているスリッ
プリング３５によって、ディスク１０１は、スピンドル
３０１に対しすべりながら回転する。

そして、クランプ３１１に設けられているスリップリン
グ３６によって、クランプ３１１は、ディスク１０１に
対しすべりながら回転する。

この場合には、ディスク１０１はスピンドル３０１に対
してもすべりながら回転するため、スピンドルとディス
クとの接合精度が低い場合でも、周方向に均一な膜厚の
磁性層を形成できる。

研磨後は、磁性層表面に液体潤滑剤を塗布し、磁性層の
空孔中に含浸させるようにする。

用いる液体潤滑剤に特に制限はなく、前記の潤滑剤はい
ずれも使用可能である。

液体潤滑剤の塗布方法に制限はなく、例えば、デイツプ
法、スピンコード法等を用いればよい。

このように、液体潤滑剤を含浸した後、本発明の方法を
用いてバニッシングを行なってもよく、これによってよ
り小さなＲａを得ることができる。

このように製造される磁気ディスクの残留磁束密度Ｂｒ
は１２００〜２５００程度、角形比Ｓは０．７５〜０．
９５程度、保磁力角形比Ｓ０は０．７０〜０．９５程度
である。

以上のように詳述してきた本発明の磁気ディスクを用い
て、磁気記録・再生が行なわれる。

この場合、磁気ディスクと組合わせて用いられる磁気ヘ
ッドは、浮上型磁気ヘッドである。

この浮上型磁気ヘッドは、少な（ともギヤツブ部付近が
飽和磁束密度０．７Ｔ以上の軟磁性材料で形成されてい
ればよく、その他の構成に特に制限はない。

このような構成を有する浮上型磁気ヘッドとしては、メ
タル・イン・ギャップ（ＭＩＧ）型の磁気ヘッドまたは
薄膜型の磁気ヘッドが好適である。

ＭＩＧ型磁気ヘッドは、一対のコアの少な（とも一方の
ギャップ部対向面に、これらのコアよりも飽和磁束密度
の高い軟磁性薄膜を有する磁気ヘッドである。　ＭＩＧ
型磁気ヘッドでは、軟磁性薄膜から強力な磁束を磁性層
に印加できるため、高い保磁力を有する磁性層に有効な
記録を行なうことができる。

また、本発明では、ＭＩＧ型の磁気ヘッドの１種である
いわゆるエンハンスト・デュアルギャップ・レングス（
ＥＤＧ）型の磁気ヘッドを用いてもよい。

本発明において、浮上型磁気ヘッドの浮上量は、０．２
μ以下とすることが好ましい。　浮上量がこの範囲を超
えるとオーバーライド特性が不十分となり、また、高い
記録密度を得ることが困難となる。

なお、浮上量のより好ましい範囲は、０．１７μｓ以下である。

また、浮上量の下限は特になく、浮上型磁気ヘッドの浮
揚面と磁気ディスク表面とが準接触状態となるまで浮上
量を小さ（することができる。

なお、浮上量とは浮上型磁気ヘッドの浮揚面と磁気ディ
スク表面との距離である。

浮上量は、スライダの形状変更、ジンバル、サスペンシ
ョン等の荷重変更、磁気ディスクの回転数の変更などに
より種々の値に設定することができる。

配録再生時の磁気ディスクの回転数に特に制限はなく、
目的とする転送レート、浮上量、記録密度等に応じて適
宜設定すればよいが、例えば１５００〜４０００ｒｐｒ
ｎ程度である。

本発明では通常、デジタル信号を記録するので、飽和記
録を行なう。

また、飽和記録を行なうので、オーバーライド記録が可
能である。

本発明で実現する記録密度は、磁性層の保磁力および厚
さ、浮上型磁気ヘッドのギャップ長および浮上量等の各
種条件によっても異なるが、Ｄｓｏで表わしたとき、３
０　ｋＦＲＰＩ（ｋｉｌ。

Ｆｌｕｘ　Ｒｅｖｅｒｓｅ　Ｐｅｒ　Ｉｎｃｈ）以上、
特に３２ｋＦＲＰＩ以上が得られる。　なお、Ｄ、。と
は、再生出力が孤立波再生出力の５０％となるときの記
録密度である。

また、本発明では、−３０ｄＢ以下の実用上十分なオー
バーライド特性が得られる。

〈実施例〉以下、本発明を実施例によって具体的に説明する。

実施例１下記のとおり磁性塗料を調製した。

磁性粉　　　　　　　　　　　１００重！部組成：α−
Ｆｅ保磁カニ１３４０Ｏｅ長径：０．２５）ｕ＋＋針状比＝８ α−八へ□０３　　　　　　　　１０重量部エポキシ樹
脂　　　　　　　　　２８重量部（エピコート１００４
、シェル化学社製）フェノール樹脂　　　　　　１２重
量部（スミラックＰＣ２５、住人ベークライト社製）シ
リコーンオイル　　　　０．４重量部シクロヘキサノン
／イソホロン（ｌ／１の混合溶剤）　　３４０重量部または５７０重
量部上記組成物をボールミル中にて１４０時間混合、分散さ
せた。　塗料の粘度は６００〜９００　ｃｐｓであった
。

このようにして得られた磁性塗料をポリッシングして、
表面粗さ（Ｒａ　）が０．００２１Ｊの３．５″径のデ
ィスク状アルミ基板の両面に、スピンコード法により平
均塗膜厚０．４または１．０ｐとなるように塗設した。

スピンコード条件は、回転速度４０００ｒｐｍ　、　　
５秒間とした。

次に、本発明のサンプルＮｏ、　９．１０および比較サ
ンプルＮｏ、Ｉ５．１６には、塗膜のレベリングを行な
った。

レベリングは、空気中にシクロヘキサノン蒸気を存在さ
せた雰囲気中にて、第２図に示される棒状のＮＳ対向磁
石を配したレベリング装置を用いてディスクを回転させ
、室温２３℃にて行なった。

この場合、磁性塗膜中の磁界強度は、最外周部が９７０
　Ｇ、最内周部が１５３０Ｇであった。

また、レベリング時のディスクの回転速度は、１１００
０ｒｐ、時間は２０秒間とした。

次に、対向磁石を配した配向装置によりディスク円周方
向に配向処理を行なった後、塗料を乾燥させた。

配向磁界は、塗料中にて３０００Ｇ、回転数２００　ｒ
ｐｍ　、配向時間は４５秒とした。

次に窒素気流中、２００℃で３時間硬化処理を行なった
後、所定のテープ研磨装置により研磨テープＷＡ１００
ＯＯ（日本ミクロコーティング社製）を用いて研磨（ポ
リッシング）を行なった。

この場合、本発明のサンプルＮｏ、　　１〜６．９およ
び１０は、第３図に示されるテープ研磨装置を用い、デ
ィスク１０１およびスピンドル３０１の回転数に対し、
クランプ３１１の回転数を１０％遅らせた。

また、本発明のサンプルＮｏ、　７および８は、第４図
に示されるテープ研磨装置を用い、スピンドル３０１の
回転数に対し、ディスク１０１の回転数を遅らせ、さら
に、ディスク１０１の回転数に対し、クランプ３１１の
回転数を遅らせた。

この場合、スピンドル３０１の回転数に対するクランプ
３１１の回転数の遅れは、１０％とした。

また、サンプルＮｏ、　４〜１０は、研磨時に、さらに
、研磨ヘッド３３の揺動範囲を変化させ、研磨ヘッドの
圧接時間を外周部から内周部へ段階的に減少させた。

なお、スリップリング３５の材質は、ポリフッ化エチレ
ン樹脂、保護リング３６の材質は、ポリエステル樹脂と
した。

これに対し、比較サンプルＮｏ、１１〜１６は、第５図
に示されるテープ研磨装置を用い、スピンドル３０１と
、ディスク１０１と、クランプ３１１とをすべて同一の
回転数にて回転させながら研磨を行なった。

各種サンプルの研磨前後の磁性層の平均膜厚ｔ、表面粗
さＲａおよび膜厚変動は、表１に示されるとおりである
。

磁性層の厚さは、あらかじめ被測定ディスクに磁性層の
無い領域を設け、触針式段差針（タリーステップ）を用
いてその場所の段差から求め、表面粗さＲａはＪＩＳ　
　Ｂ　　０６０１に記載されている方法にて求めた。

この場合、表面粗さＲａは、ディスク最内周および最外
周の各４点、合計８点の測定点のＲａの最大値であり、
平均膜厚ｔは、合計８点の測定点の膜厚の平均値であり
、膜厚変動は、合計８点の測定点の膜厚の最大値をｔｍ
ａｘ、最小値ｔ　ｍｉｎとし、下記式から求めた。

膜厚変動＝　（ｔ　ｒｎａｘ　−ｔ　ｍ１ｎ）／　ｔＸ
ｌｏｏ　（％）次いで、ディスクを洗浄し、濃度０．１％のフルオロカ
ーボン（ＫＲＹＴＯＸ　１４３ＣＺ　：デュポン社製）
のフロン溶液をデイツプ法により塗布し、含浸させ、各
種磁気ディスクサンプルを作製した。

本発明のサンプルＮｏ、　　１〜１０の磁性層の保磁力
Ｈｃ、飽和磁束密度Ｂｍ、角形比Ｓ、保磁力角形比Ｓ°
をＶＳＭを用い最大印加磁界１０ｋＧで測定したところ
下記のとおりであった。

Ｈｃ：１３１０ＯｅＢｍ　　：　　１　８００〜２０００ＧＳ：０．８９〜
０　、９３Ｓ”　　：０．　７２〜０　、７５各サンプルに対して浮上型磁気ヘッドを搭載した磁気デ
ィスク装置を用いて記録・再生を行なった。

この場合、磁気ヘッドには、ギャップ長０．６−のモノ
リシックタイプのＭＩＧヘッドを用い、記録・再生時の
ヘッド浮上量は０．１４−とじた。

ヘッド浮上量は、磁気ディスク表面と磁気ヘッド浮揚面
のギャップ部との距離であり、自動浮上量テスタ（ＰＰ
Ｌ社製）を用いて下記のようにして求めた。

測定用の石英製ディスクを下記各測定と同様の条件にて
回転させてディスク表面に浮上型磁気ヘッドを浮上させ
、そのとき石英製ディスクの裏面側から白色光を浮上型
磁気ヘッドのギャップ部に照射し、その反射光とディス
ク表面からの反射光との干渉を検出して浮上量を算出し
た。

また、言己録電流は、飽和記録特性の再生出力の最大値
の９０％に相当する記録電流値をＩ　ｓ。

としたとき、Ｉ　ｅｏｘ　２とした。

なお、評価特性は以下の定義とし、以下のようにして求
めた。

（１）モジュレーション（ＭＯＤ）ディスク最内周に３．３ＭＨｚの単波長の信号を言己録
し、その１周分の出力波形エンベロープより、出力のＰ
　−Ｐ　（ｐｅａｋ　ｔｏ　ｐｅａｋ）値の最大値をＡ
、最小値をＢとし下記式から算出した。

ＭＯＤ　＝　（Ａ−Ｂ）　／　（Ａ＋Ｂ）　ｘ　　１０
０　　（％）（２）エラーレートエラーレートは、記録周波数３．３ＭＨｚ、トラック送
りピッチ１５−でディスク全面についてサーテイファイ
を行ない、その信号欠陥の個数で評価をおこなった。

ミッシングパルスエラー（ＭＰ）は信号をディスクに記
録し、その再生信号の出力が全周の平均出力（ＴＡＡ）
の６５％以下まで低下したときのエラーである。

エキストラパルスエラー（ＥＰ）は信号をディスクに書
き込んだ後、直流消去を行ない、その消え残りの信号が
ＴＡＡの２５％以上になったときのエラーである。

（３）Ｄ、。

磁気ディスフサ−ティファイアを用いて測定した。　記
録周波数を変更することにより記録密度を変化させた。

ＤＩＩＯは再生出力のＰ　−Ｐ　（ｐｅａｋ　ｔｏ　ｐ
ｅａｋ）値が孤立波再生出力Ｐ−Ｐ値の５０％まで減少
したときの記録密度である。

なお、測定時のディスク回転数は３６００ｒｐｍとした
。

（４）オーバーライド特性（０／Ｗ）１Ｆ信号（１，６５ＭＨｚ）に２Ｆ信号（３，３ＭＨｚ
）を重ね書きしたときのＩＦ倍信号減衰量で評価し、こ
れはスペクトラムアナライザ（ヒユーレットパラカード
社製）で測定した。

このときの磁気ディスク回転数は３６００ｒｐｍとした
。

（５）摩擦係数μ 摩擦係数μはＡＮＳＩ規格に基づき測定した。　ヘッド
荷重は１５ｇ、相対速度は５ｍｍ／ｓｅｃとした。

（６）Ｃ３Ｓ耐久性Ｃ３Ｓ　（コンタクト・スタート・ストップ）耐久性の
測定には、プラス社製３．５″磁気デイスクドライブを
用いた。

Ｃ８Ｓの１サイクルは、静止時間１０秒−立ち上がり時
間５秒一定常回転の時間１０秒−立ち下がり時間３０秒
とし、定常状態のディスクの回転数は３６００　ｒｐｍ
とした。　また、Ｃ８Ｓはディスク中心から２２ｍｍの
位置で行なった。

そして、ディスクの摩擦係数が１，０以上になったとき
、または、磁性層に傷が発生したときのＣ８Ｓサイクル
数で評価した。

（７）Ｓ／Ｎ比Ｓ／Ｎ比の測定は、ディスクの最内周で下記のとおり行
なった。

記録周波数３．３ＭＨｚで書き込んだ後、再生出力（Ｖ
ｒｍｓ）を１０ＭＨｚの帯域の交流電圧計にて測定した
。　次に、このトラックで直流消去を３回行なった後、
交流電圧計で再生出力（ＶｏｃｒｍＳ）を測定した。

また、ヘッドをオンロードし、システムノイズ（Ｖｎｏ
ｉｓｅ）を測定した。

そしてＳ／Ｎ比を下記式から求めた。

Ｓ／Ｎ比＝　Ｖｒｍｓ／（ＶＩ、ｃｒｍｓ２−　Ｖｎｏ
ｉｓｅ”）　””結果は表１に示されるとおりである。

表１に示される結果から、本発明の効果が明らかである
。

なお、本発明のサンプルＮｏ、　　１〜１０のＭＯＤ以
外の評価結果は下記のとおりであった。

ＭＰ：５（個／枚）以下ＥＰ：５（個／枚）以下Ｄ５゜＝３５〜４０　（ｋＦＲＰＩ）０／Ｗ＋−３２〜−４０（ｄＢ） μ：０．２以下ＣＳＳ：３ＸＩＯ’　　（サイクル）以上Ｓ／Ｎ　：　
３２〜３５　（ｄＢ）また、浮上量を０．２〇−超とした他は同様にして各サ
ンプルに対し上記測定を行なったところ、Ｄ、。および
オーバーライド特性の低下がみられた。

また、磁性微粒子をＢａフェライトにかえたり、バイン
ダを放射線硬化性樹脂にかえたところ上記と同等の結果
が得られた。

〈発明の効果〉本発明の磁気ディスクの製造方法では、磁性層の膜厚を
０．５μ以下にする場合でもディスクの周方向の磁性層
の膜厚を一定にでき、しかも表面を平滑化できる。

加えて、研磨ヘッドの揺動範囲を変化させることにより
、ディスクの径方向の磁性層の膜厚も一定にできる。

しかも本発明の製造方法では、−度最終膜厚の１３０〜
４００％程度の膜厚の厚い磁性層を形成した後に、所定
の均一な膜厚に研磨すればよいので配向時の塗膜の乾燥
を防止できる。

そして、十分に磁性粒子を配向させることができ、高い
保磁力を有する薄層かつ均一な膜厚の磁性層を形成でき
る。

また、本発明の磁気ディスクの磁性層は、ディスクの周
方向の膜厚が均一であるためモジュレーションやエラー
レートが小さい等電磁変換特性が良好である。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の磁気ディスクの好適例を示す部分断
面図である。第２図は、本発明の磁気ディスクの製造方法の１製造工
程を説明するための断面図である。第３図および第４図は、それぞれ本発明の磁気ディスク
の製造方法に用いられる研磨装置の１例が示される断面
図である。第５図は、従来の研磨装置を示す断面図である。符号の説明１０１・・・磁気ディスク１０２・・・剛性基板１０３・・・磁性層１０４・・・磁性塗料の塗膜２０１・・・容器２０３．２０４・・・磁石２０５・・・溶剤２０６・・・回転軸３０・・・スピンドル部３０１・・・スピンドル３０５・・・係止部３１・・・クランプ部３１１・・・クランプ３１２・・・回転プランジャ３１３・・・スプリング３１４・・・ニードルベアリング３１５・・・押圧プランジャ３１６・・・ベアリング３１７・・・押圧装置３１８・・・軸承部３３・・・研磨ヘッド３３１・・・押圧ローラ３３５・・・研磨テープ３５・・・スリップリング３６・・・保護リングＦ ■ ＩＧ／

Claims

【特許請求の範囲】

（１）ディスク状の剛性基板上に磁性層を形成した後、
前記基板を研磨装置のスピンドル部と、クランプ部との
間に挾持し、前記基板を回転させながら研磨ヘッドを圧
接して前記磁性層を研磨する磁気ディスクの製造方法に
おいて、前記基板を前記スピンドル部および／またはクランプ部
に対して滑らせながら回転させることを特徴とする磁気
ディスクの製造方法。
（２）前記剛性基板上に強磁性微粒子を含有する磁性塗
料を塗布して、前記磁性層を形成する請求項１に記載の
磁気ディスクの製造方法。
（３）前記磁性塗料を塗布し、次いで、前記剛性基板を
回転しながら、溶剤蒸気中にて磁界を印加して塗膜のレ
ベリングを行なった後、配向を行なう請求項２に記載の
磁気ディスクの製造方法。
（４）前記剛性基板の径方向に前記研磨ヘッドを揺動し
、揺動範囲を変化させることにより、前記基板の内周部
での前記研磨ヘッドの圧接時間を外周部での圧接時間よ
り短くする請求項１ないし３のいずれかに記載の磁気デ
ィスクの製造方法。
（５）請求項１ないし４のいずれかに記載の方法にて製
造されたことを特徴とする磁気ディスク。
（６）強磁性金属微粒子または六方晶系酸化物微粒子を
含有する磁性層を有する請求項５に記載の磁気ディスク
。
（７）０．５μｍ以下の膜厚の磁性層を有する請求項５
または６に記載の磁気ディスク。
（８）磁性層の有する保磁力が１１００Ｏｅ以上である
請求項５ないし７のいずれかに記載の磁気ディスク。