JP2021532547A - 高輝度x線反射源 - Google Patents
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Abstract
Description
本願は、2018年7月26日に出願された米国仮出願第62/703,836号に対する優先権の利益を主張し、その全体を本明細書に引用により援用する。
分野
本願は、概してX線源に関する。
実験用のX線源は、一般に、電子によって金属ターゲットに衝撃を与え、これらの電子の減速により、ゼロから電子の運動エネルギーまでのすべてのエネルギーの制動放射X線が生成される。さらに、金属ターゲットはターゲット原子の内側コア電子軌道に正孔を作ることによってX線を生成し、正孔はその後、内側コア電子軌道よりも低い結合エネルギーを有するターゲットの電子で充填され、ターゲット原子に特徴的なエネルギーを有するX線が付随して発生する。ターゲットを照射する電子のパワーの大半は熱(たとえば約60%)および後方散乱電子(たとえば約39%)に変換され、X線に変換される入射パワーは約1%に過ぎない。この熱に起因するX線ターゲットの溶融は、X線源が達成可能な最終輝度(たとえば、光子/秒/面積/ステラジアン)の制限因子となり得る。
本明細書に記載の特定の実施形態は、X線ターゲットを提供する。上記X線ターゲットは、表面を含む熱伝導性基板と、上記表面の少なくとも一部の上の、または上記表面の少なくとも一部に埋め込まれた少なくとも1つの構造とを含む。上記少なくとも1つの構造は、上記基板と熱的に連通する熱伝導性の第1の材料を含む。上記第1の材料は、上記表面の上記一部に平行な第1の方向に沿った、1ミリメートル超の範囲の長さと、上記表面の上記一部に平行であり上記第1の方向に垂直な第2の方向に沿った幅とを有する。上記幅は0.2ミリメートル〜3ミリメートルの範囲である。上記少なくとも1つの構造はさらに、上記第1の材料の上の少なくとも1つの層を含む。上記少なくとも1つの層は上記第1の材料とは異なる少なくとも1つの第2の材料を含む。上記少なくとも1つの層は2ミクロン〜50ミクロンの範囲の厚みを有する。上記少なくとも1つの第2の材料は、0.5keV〜160keVのエネルギー範囲のエネルギーを有する電子を照射するとX線を発生させるように構成される。
本明細書に記載の特定の実施形態は、透過型X線源で用いられる電子ビームスポットサイズよりも大きい電子ビームスポットサイズを用いつつ(たとえば、透過型X線源で用いられる電子ビーム集束ほど厳密でない電子ビーム集束を利用しつつ)小さいX線スポットサイズを有利に達成する反射型X線源を提供する。
Claims (26)
- X線ターゲットであって、
表面を含む熱伝導性基板と、
前記表面の少なくとも一部の上の、または前記表面の少なくとも一部に埋め込まれた少なくとも1つの構造とを備え、前記少なくとも1つの構造は、
前記基板と熱的に連通する熱伝導性の第1の材料を備え、前記第1の材料は、前記表面の前記一部に平行な第1の方向に沿った、1ミリメートル超の範囲の長さと、前記表面の前記一部に平行であり前記第1の方向に垂直な第2の方向に沿った幅とを有し、前記幅は0.2ミリメートル〜3ミリメートルの範囲であり、前記少なくとも1つの構造はさらに、
前記第1の材料の上に少なくとも1つの層を備え、前記少なくとも1つの層は前記第1の材料とは異なる少なくとも1つの第2の材料を含み、前記少なくとも1つの層は2ミクロン〜50ミクロンの範囲の厚みを有し、前記少なくとも1つの第2の材料は、0.5keV〜160keVのエネルギー範囲のエネルギーを有する電子を照射するとX線を発生させるように構成される、X線ターゲット。 - 前記表面は銅を含む、請求項1に記載のX線ターゲット。
- 前記第1の材料は前記基板にろう付けされる、請求項1に記載のX線ターゲット。
- 前記第1の材料は、ダイヤモンド、炭化ケイ素、ベリリウム、およびサファイア、のうちの少なくとも1つを含む、請求項1に記載のX線ターゲット。
- 前記第1の材料は、20W/m−K〜2500W/m−Kの範囲の熱伝導率を有し、14以下の原子番号の元素を含む、請求項1に記載のX線ターゲット。
- 前記第1の材料は、前記表面の前記一部に垂直な方向における、0.2mm〜1mmの範囲の厚みを有する、請求項1に記載のX線ターゲット。
- 前記少なくとも1つの第2の材料は、タングステン、クロム、銅、アルミニウム、ロジウム、モリブデン、金、白金、イリジウム、コバルト、タンタル、チタン、レニウム、炭化ケイ素、炭化タンタル、炭化チタン、炭化ホウ素、およびそれらの1つ以上を含む合金または組み合わせ、のうちの少なくとも1つを含む、請求項1に記載のX線ターゲット。
- 前記少なくとも1つの層は、前記第1の材料と前記少なくとも1つの第2の材料との間に少なくとも1つの第3の材料をさらに含み、前記少なくとも1つの第3の材料は前記第1の材料および前記少なくとも1つの第2の材料とは異なる、請求項1に記載のX線ターゲット。
- 前記少なくとも1つの第3の材料は、窒化チタン、イリジウム、および酸化ハフニウム、のうちの少なくとも1つを含む、請求項8に記載のX線ターゲット。
- 前記少なくとも1つの第3の材料は、2ナノメートル〜50ナノメートルの範囲の厚みを有する、請求項8に記載のX線ターゲット。
- 前記少なくとも1つの構造は、互いに別個の複数の構造を含む、請求項1に記載のX線ターゲット。
- 前記複数の構造は、前記第2の方向に沿って0.02ミリメートル超の分離距離だけ互いに離間している、請求項11に記載のX線ターゲット。
- 前記構造のうちの2つ以上の前記少なくとも1つの第2の材料は互いに異なる、請求項11に記載のX線ターゲット。
- 前記構造のうちの2つ以上の前記第1の材料は互いに同一である、請求項11に記載のX線ターゲット。
- 前記構造のうちの2つ以上によって発生する前記X線は、互いに異なるエネルギーの関数としての強度分布を有する、請求項11に記載のX線ターゲット。
- 前記少なくとも1つの第2の材料は導電性であり、電位と電気的に連通し、前記少なくとも1つの第2の材料は、電子照射による前記少なくとも1つの第2の材料の充電を防止するように構成される、請求項1に記載のX線ターゲット。
- X線源であって、
X線ターゲットを備え、前記X線ターゲットは、
表面を含む熱伝導性基板と、
前記表面の少なくとも一部の上の、または前記表面の少なくとも一部に埋め込まれた少なくとも1つの構造とを備え、前記少なくとも1つの構造は、
前記基板と熱的に連通する熱伝導性の第1の材料を備え、前記第1の材料は、前記表面の前記一部に平行な第1の方向に沿った、1ミリメートル超の範囲の長さと、前記表面の前記一部に平行であり前記第1の方向に垂直な第2の方向に沿った幅とを有し、前記幅は0.2ミリメートル〜3ミリメートルの範囲であり、前記少なくとも1つの構造はさらに、
前記第1の材料の上に少なくとも1つの層を備え、前記少なくとも1つの層は前記第1の材料とは異なる少なくとも1つの第2の材料を含み、前記少なくとも1つの層は2ミクロン〜50ミクロンの範囲の厚みを有し、前記少なくとも1つの第2の材料は、0.5keV〜160keVのエネルギー範囲のエネルギーを有する電子を照射するとX線を発生させるように構成され、前記X線源はさらに、
少なくとも1本の電子ビームにおける電子を発生させ、前記少なくとも1本の電子ビームを前記少なくとも1つの構造に当たるように方向付けるように構成された電子源を備える、X線源。 - 前記少なくとも1つの第2の材料の前記厚みは、前記少なくとも1つの第2の材料の内部の前記電子の電子侵入深さよりも小さい、請求項17に記載のX線源。
- 前記少なくとも1本の電子ビームは、前記少なくとも1本の電子ビームの中心線が前記表面の前記一部に垂直なまたは前記少なくとも1つの構造の前記少なくとも1つの層に垂直な方向に対して非ゼロの角度であるように、前記少なくとも1つの構造に当たる、請求項18に記載のX線源。
- 前記非ゼロの角度は50度〜70度の範囲である、請求項19に記載のX線源。
- 前記少なくとも1本の電子ビームは、前記少なくとも1本の電子ビームの中心線が前記第1の方向と前記表面の前記一部に垂直な方向とによって規定される平面内にあるように、前記少なくとも1つの構造に当たる、請求項19に記載のX線源。
- 前記少なくとも1本の電子ビームは、15ミクロン以下の最大値を有する、前記少なくとも1つの構造の上の半値全幅スポットサイズを有する、請求項17に記載のX線源。
- 真空状態の領域をさらに備え、前記領域は前記少なくとも1つの構造を含み、前記電子源からの前記少なくとも1本の電子ビームは、前記領域の一部を通って伝搬して前記少なくとも1つの構造のうちの選択された1つに当たるように構成される、請求項17に記載のX線源。
- 前記少なくとも1つの構造は互いに別個の複数の構造を含み、前記ターゲットおよび前記少なくとも1本の電子ビームのうちの少なくとも一方は、前記複数の構造が密閉された前記領域に残っている間に前記複数の構造のうちの選択された1つに前記電子ビームが当たるように、制御可能に動かされるように構成される、請求項23に記載のX線源。
- 請求項17に記載のX線源を備える、X線システム。
- 前記表面の前記一部に対する取り出し角度を有する伝搬方向に沿って伝搬する前記X線源からのX線を受けるように構成された少なくとも1つのX線光学部品をさらに備え、前記取り出し角度は0度〜40度の範囲である、請求項25に記載のX線システム。
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