KR101399505B1 - 에너지 분산형 형광 분석기의 프레임 누적 스캔 방법 - Google Patents
에너지 분산형 형광 분석기의 프레임 누적 스캔 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR101399505B1 KR101399505B1 KR1020130003273A KR20130003273A KR101399505B1 KR 101399505 B1 KR101399505 B1 KR 101399505B1 KR 1020130003273 A KR1020130003273 A KR 1020130003273A KR 20130003273 A KR20130003273 A KR 20130003273A KR 101399505 B1 KR101399505 B1 KR 101399505B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- sub
- spectrum
- sample
- electron beam
- region
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 38
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 title claims abstract description 7
- 238000002149 energy-dispersive X-ray emission spectroscopy Methods 0.000 title description 3
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims abstract description 62
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims abstract description 42
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims abstract description 10
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 abstract description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 22
- 238000004451 qualitative analysis Methods 0.000 description 4
- 238000004445 quantitative analysis Methods 0.000 description 4
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 238000013500 data storage Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000001976 improved effect Effects 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
- G01N23/223—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material by irradiating the sample with X-rays or gamma-rays and by measuring X-ray fluorescence
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
- G01N23/225—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using electron or ion
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B21/00—Microscopes
- G02B21/0004—Microscopes specially adapted for specific applications
- G02B21/002—Scanning microscopes
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
- G01N2223/07—Investigating materials by wave or particle radiation secondary emission
- G01N2223/076—X-ray fluorescence
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
Description
도2 는 측정하고자 하는 시료의 관심 영역을 나타낸다.
도3 및 도4 는 기존의 형광 분석기의 스캔 방법의 일예를 나타낸다.
도5 는 도3 및 도4 의 스캔 방법에 의해 검출된 시료의 원소 스펙트럼의 일예를 나타낸다.
도6 은 본 발명에 따른 형광 분석기의 스캔 방법의 개념을 나타낸 도면이다.
도7 은 본 발명에 따른 형광 분석기의 스캔 방법을 나타낸다.
도8 은 본 발명에 따른 형광 분석기의 스캔 방법의 다른 활용 예를 나타낸다.
Claims (5)
- 전자 총에서 방출되는 전자 빔을 시료에 조사하고, 상기 시료에서 방출되는 형광 엑스레이를 수집하여 상기 시료에 포함된 원소를 분석하는 형광 분석기의 스캔 방법에 있어서, 상기 형광 분석기는
상기 시료에서 분석하고자 하는 관심 영역을 설정하는 단계;
상기 관심 영역을 복수개의 세부 구역으로 분할하는 단계;
상기 전자 빔이 조사되는 스팟 크기를 상기 세부 구역의 크기에 대응하여 설정하는 단계;
상기 전자 빔의 세기와 상기 세부 구역의 크기 및 상기 시료의 종류에 따라 상기 전자 빔에 의해 상기 시료의 변형이 발생되는 시간보다 짧게 빔 조사 시간을 설정하는 단계;
상기 복수개의 세부 구역 각각에 대해 상기 빔 조사 시간동안 전자 빔을 조사하여 형광 엑스레이를 수집하여 스펙트럼을 측정하고, 이전 측정된 스펙트럼에 누적하여 저장하는 단계; 및
누적하여 저장된 상기 스펙트럼 양이 분석 가능한 스펙트럼인지 판별하여 분석할 수 없는 스펙트럼의 양이면, 상기 누적하여 저장된 스펙트럼이 분석 가능한 스펙트럼으로 판별될 때까지 상기 복수개의 세부 구역 각각에 대해 이전 측정된 스펙트럼에 누적하여 저장하는 단계를 반복하여 수행하는 단계;를 포함하는 형광 분석기의 스캔 방법.
- 제1 항에 있어서, 상기 이전 측정된 스펙트럼에 누적하여 저장하는 단계는
상기 복수개의 세부 구역 각각에 대해 개별적으로 스펙트럼을 측정하고, 동일한 세부 구역에 대한 스펙트럼을 누적하여 저장하는 것을 특징으로 하는 형광 분석기의 스캔 방법.
- 제1 항에 있어서, 상기 복수개의 세부 구역은
동일한 크기의 영역으로 분할되는 것을 특징으로 하는 형광 분석기의 스캔 방법.
- 제1 항에 있어서, 상기 이전 측정된 스펙트럼에 누적하여 저장하는 단계는
상기 복수개의 세부 구역 중 기설정된 복수개의 인접한 세부 구역들을 포함하는 적어도 하나의 그룹을 구성하고, 상기 적어도 하나의 그룹에 포함된 상기 복수개의 세부 구역들에 대한 스펙트럼을 누적하여 저장하는 것을 특징으로 하는 형광 분석기의 스캔 방법.
- 제1 항 내지 제4 항 중 어느 한 항에 따른 형광 분석기의 스캔 방법을 수행하기 위한 프로그램 명령어가 기록된 기록매체.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020120126201 | 2012-11-08 | ||
KR20120126201 | 2012-11-08 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20140059688A KR20140059688A (ko) | 2014-05-16 |
KR101399505B1 true KR101399505B1 (ko) | 2014-05-27 |
Family
ID=50889449
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020130003273A KR101399505B1 (ko) | 2012-11-08 | 2013-01-11 | 에너지 분산형 형광 분석기의 프레임 누적 스캔 방법 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101399505B1 (ko) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7195341B2 (ja) | 2018-06-04 | 2022-12-23 | シグレイ、インコーポレイテッド | 波長分散型x線分光計 |
DE112019003777T5 (de) | 2018-07-26 | 2021-04-08 | Sigray, Inc. | Röntgenreflexionsquelle mit hoher helligkeit |
DE112019004478T5 (de) | 2018-09-07 | 2021-07-08 | Sigray, Inc. | System und verfahren zur röntgenanalyse mit wählbarer tiefe |
US11143605B2 (en) | 2019-09-03 | 2021-10-12 | Sigray, Inc. | System and method for computed laminography x-ray fluorescence imaging |
US11175243B1 (en) | 2020-02-06 | 2021-11-16 | Sigray, Inc. | X-ray dark-field in-line inspection for semiconductor samples |
JP7395775B2 (ja) | 2020-05-18 | 2023-12-11 | シグレイ、インコーポレイテッド | 結晶解析装置及び複数の検出器素子を使用するx線吸収分光法のためのシステム及び方法 |
US11549895B2 (en) | 2020-09-17 | 2023-01-10 | Sigray, Inc. | System and method using x-rays for depth-resolving metrology and analysis |
KR20230109735A (ko) | 2020-12-07 | 2023-07-20 | 시그레이, 아이엔씨. | 투과 x-선 소스를 이용한 고처리량 3D x-선 이미징 시스템 |
DE112023001408T5 (de) | 2022-03-15 | 2025-02-13 | Sigray, Inc. | System und verfahren für die kompakte laminographie unter verwendung einer mikrofokus-transmissionsröntgenquelle und eines röntgendetektors mit variabler vergrösserung |
US11885755B2 (en) | 2022-05-02 | 2024-01-30 | Sigray, Inc. | X-ray sequential array wavelength dispersive spectrometer |
WO2024173256A1 (en) | 2023-02-16 | 2024-08-22 | Sigray, Inc. | X-ray detector system with at least two stacked flat bragg diffractors |
US12181423B1 (en) | 2023-09-07 | 2024-12-31 | Sigray, Inc. | Secondary image removal using high resolution x-ray transmission sources |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08220027A (ja) * | 1995-02-10 | 1996-08-30 | Technos Kenkyusho:Kk | 蛍光x線分析装置 |
JP2000500881A (ja) * | 1995-10-31 | 2000-01-25 | グレイブリー,ベンジャミン・ティ | 作像システム |
KR20010110739A (ko) * | 2000-02-11 | 2001-12-13 | 무라딘 아부베키로비치 꾸마코프 | X선 방사선을 사용하여 대상 내부 구조의 화상을 얻는방법 및 그 실현을 위한 디바이스 |
KR20080063443A (ko) * | 2007-01-01 | 2008-07-04 | 조르단 밸리 세미컨덕터즈 리미티드 | X선 형광을 이용한 작은 특징부의 검사 |
-
2013
- 2013-01-11 KR KR1020130003273A patent/KR101399505B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08220027A (ja) * | 1995-02-10 | 1996-08-30 | Technos Kenkyusho:Kk | 蛍光x線分析装置 |
JP2000500881A (ja) * | 1995-10-31 | 2000-01-25 | グレイブリー,ベンジャミン・ティ | 作像システム |
KR20010110739A (ko) * | 2000-02-11 | 2001-12-13 | 무라딘 아부베키로비치 꾸마코프 | X선 방사선을 사용하여 대상 내부 구조의 화상을 얻는방법 및 그 실현을 위한 디바이스 |
KR20080063443A (ko) * | 2007-01-01 | 2008-07-04 | 조르단 밸리 세미컨덕터즈 리미티드 | X선 형광을 이용한 작은 특징부의 검사 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20140059688A (ko) | 2014-05-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101399505B1 (ko) | 에너지 분산형 형광 분석기의 프레임 누적 스캔 방법 | |
US11521827B2 (en) | Method of imaging a 2D sample with a multi-beam particle microscope | |
EP2546638B1 (en) | Clustering of multi-modal data | |
JP6769402B2 (ja) | 電子線マイクロアナライザー及びデータ処理プログラム | |
CN110873725B (zh) | X射线分析装置 | |
JP6822783B2 (ja) | 有向ビーム信号分析を使用した粒子サイズの適応走査 | |
JP2009250867A (ja) | エネルギー分散型x線分光器を備えるx線分析装置 | |
JP2016213189A5 (ko) | ||
JP2024086781A (ja) | 表面分析装置 | |
US10483083B2 (en) | Scanning electron microscope and image processing apparatus | |
JP7091256B2 (ja) | 予備サーベイを用いる改善された分析 | |
JP6010547B2 (ja) | X線分析装置 | |
US11698336B2 (en) | Analysis method and analysis apparatus | |
JP6808700B2 (ja) | 元素マップの生成方法および表面分析装置 | |
US11674913B2 (en) | Sample analysis apparatus and method | |
JP2004265879A (ja) | 元素マッピング装置,走査透過型電子顕微鏡および元素マッピング方法 | |
JP3956282B2 (ja) | 面分析装置 | |
US20240110880A1 (en) | Dynamic Data Driven Detector Tuning for Improved Investigation of Samples in Charged Particle Systems | |
JP6809356B2 (ja) | X線画像表示装置、x線画像表示方法及びx線画像表示プログラム | |
JP2005233670A (ja) | X線分析装置 | |
JP6085132B2 (ja) | 結晶解析装置、複合荷電粒子ビーム装置及び結晶解析方法 | |
JP2024008451A (ja) | 荷電粒子線装置 | |
CN115602515A (zh) | 粒子束显微镜及其操作方法和计算机程序产品 | |
CN113203765A (zh) | 分析装置以及分析装置的控制方法 | |
JP2018119918A (ja) | 放射線分析装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20130111 |
|
PA0201 | Request for examination | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20140318 |
|
PG1501 | Laying open of application | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 20140520 Patent event code: PR07011E01D |
|
PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 20140521 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
|
PG1601 | Publication of registration | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170511 Year of fee payment: 4 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20170511 Start annual number: 4 End annual number: 4 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180518 Year of fee payment: 5 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20180518 Start annual number: 5 End annual number: 5 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20200520 Start annual number: 7 End annual number: 7 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20210518 Start annual number: 8 End annual number: 8 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20220518 Start annual number: 9 End annual number: 9 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20230515 Start annual number: 10 End annual number: 10 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20240520 Start annual number: 11 End annual number: 11 |