JP6937380B2 - X線分光を実施するための方法およびx線吸収分光システム - Google Patents
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Description
本特許出願は、2017年3月22日に出願された米国仮特許出願第62/475213号の優先権を主張し、2016年9月19日に出願され、現在米国特許第9570265号として発行された米国特許出願第15/269855号の一部継続出願である、2017年2月14日に出願された米国特許出願第15/431786号の一部継続出願であり且つ2016年5月27日に出願された米国特許出願第15/166274号の一部継続出願であり、これらの出願の全体が参照により本明細書に組み込まれる。また、米国特許出願第15/269855号は、2013年12月5日に出願された米国仮特許出願第61/912478号、2013年12月5日に出願された米国仮特許出願第61/912486号、2014年2月28日に出願された米国仮特許出願第61/946475号、および2014年6月6日に出願された米国仮特許出願第62/008856号の利益を主張しており、2014年12月5日に出願され、現在米国特許第9449781号として発行された米国特許出願第14/544191号の一部継続出願であり、これらの出願の全体が参照により本明細書に組み込まれる。さらに、米国特許出願第15/269855号は、2014年6月6日に出願された米国仮特許出願第62/008856号、2014年12月1日に出願された米国仮特許出願第62/086132号、および2015年2月17日に出願された米国仮特許出願第62/117062号の利益を主張しており、2015年3月3日に出願され、現在米国特許第9448190号として発行された米国特許出願第14/636994号の一部継続出願であり、これらの出願の全体が参照により本明細書に組み込まれる。
発明の分野
本明細書に開示された本発明の実施形態は、X線分光を実施するための方法およびX線分光システムに関する。X線分光システムは、X線照射システムを備え、X線照射システムは、10eVよりも高いエネルギー帯域幅を有するX線集光レンズを含む。X線集光レンズは、実験室線源からのX線を収集し、収集されたX線の一部を、対象物上の500μm未満の集光サイズを有する集光スポットまたはその近くに集光させる。多くの実施形態において、集光スポットは、10〜20μm以下である。様々な実施形態の分光計は、様々なX線分光用途に適した様々な範囲のX線帯域幅を提供するために、様々なX線材料および光学素子を有することができる。
1 序論
材料のX線吸収特性、特にイオン化エネルギー付近のX線吸収特性の測定は、材料の組成および化学状態に関する情報を示すことができる。X線吸収分光(XAS)は、化学分析用の高輝度シンクロトロン光源の場合に一般的に採用される技術であるが、取得時間が長くおよび実験システムのスペクトル分解能が低いため、実験室の応用が制限されている。したがって、重要な革新を用いて、特定のエネルギーのX線量を増加させ、高スペクトル分解能を達成することによって、吸収端に関連する吸収微細構造のより良い分析を可能にする実験室XASシステムを説明する。
1.1 X線源
通常、実験室線源のX線は、真空環境において電位(keV)によって加速された電子を用いて、選択されたX線発生材料を含む陽極ターゲットを照射することによって生成される。電子が材料に衝突すると、熱およびX線の生成を含むいくつかのエネルギー伝達メカニズムが発生する。X線スペクトルは、元の電子エネルギー(この例では約50KeV)までのX線エネルギーを用いて生成され、制動放射線と呼ばれる特性X線および連続スペクトルを含む。X線源の輝度を上げる方法は、加速電圧を上げることによって電子のエネルギーを増加すること、より大きな原子番号Zを有するターゲット材料を使用すること、および/または材料を照射する電子の密度を増加することである。しかしながら、このような方法は、一般に、材料が溶融または損傷することなくエネルギーを吸収する能力によって制限される。したがって、最新の電子照射X線源は、高融点および高熱伝導率などの良好な熱特性を有する単一のX線放射材料で構成されている。また、ターゲット材料は、X線発生材料から熱を効率的に伝導する特性を有する基板上に搭載されるまたは埋め込まれるため、X線発生材料の厚さは、電子浸透深度によって制限される。
1.2 X線集光レンズ
電子ビーム照射により生成されたX線は、一般にあらゆる方向に放射する。試料上の所定の分析領域のX線密度は、光学レンズを使用することによって増加させることができる。XAS測定の場合、集光レンズは、エネルギー帯域幅で機能する必要がある。これまでに開発されたXASの実施形態において、一般にX線光学レンズを使用せず、その代わりに、マイクロフォーカスX線源を使用する。
1.3 X線吸収分光計
X線吸収分光(XAS)は、典型的には、10eVよりも高いエネルギー分解能で、対象物内の元素の吸収端を含む所定のエネルギー範囲に亘って、対象物によって吸収されたX線の部分をX線エネルギーの関数として測定する。シンクロトロン光源は、高輝度が高く且つエネルギーの調整が簡単であるため、しばしばX線吸収分光に使用される。小型の実験室X線吸収分光システムの利用および制御が簡単であるが、実験室XASシステムの性能は、実験室X線源の制動放射の低輝度、高屈折率反射に関連する結晶解析装置の低回折効率、および分光計の非最適設計を含む多くの要因によって大きく制限される。これらの制限によって、取得時間が非常に長くなり(最大数十時間)および/またはエネルギー分解能が低くなる。その結果、実験室システムは、殆ど使用されていない。
本願は、高スループット、高空間分解能および高スペクトル分解能で透過X線を測定するために、X線吸収分光測定を実行するための方法およびシステム並びにX線吸収分光計を提供する。
開示されたX線吸収分光計は、実験室X線源と、10eVよりも高いエネルギー帯域幅に亘ってX線源から出射されたX線を、500μm未満の集光サイズで検査される対象物上またはその近くに集光させるための光学レンズ列とを備える。光学レンズ列の利点は、試料上の高X線量、小さな領域を分析するための小さな照射スポット(高空間分解能)、低ブラッグ角の結晶解析装置の使用による高スループット、分光計の小型化を含む。さらに、光学レンズ列は、X線の所定の高エネルギーカットオフを備えたローパスフィルタとして機能する。ローパス集光反射鏡として機能することを可能にする特性を備えた光学レンズ列を使用する利点は、X線源の電子照射エネルギーを大幅に高くすることによって、X線源のX線生成効率を高めることができることである。
1 本発明の基本的な実施形態
図1は、X線分光システム200の一実施形態を示す。このX線分光システム200は、X線源80と、透過X線によって検査され、当業者に試料として呼ばれる対象物240を含むX線光学システム3000と、検出装置290および結晶291を含む分光計3700と、信号処理電子装置292と、ディスプレイ298を備えた分析システム295とを含む。以下、検査される対象物240は、試料とも呼ばれる。
2 X線源スペクトル
図1に示したように、X線源80は、一般に窓40を有する。この窓40は、低エネルギーX線を減衰させることができる。この窓および/または光学レンズ列は、低エネルギーX線をさらに減衰させるためのフィルタ、例えば、アルミニウムシートまたはアルミニウム層をさらに備えてもよい。
3 構造化されたX線源
当業者に知られている多くのX線源、例えば市販のマイクロフォーカス線源または回転アノード線源を使用することができる。いくつかの好ましい実施形態において、使用されたX線源は、熱伝導性基板と密接に熱接触するX線材料の複数の「線状」ターゲットを含む。これは、当技術分野で知られている任意の方法、例えば、複数の材料を基板上にスパッタリングまたはろう付けすることによって達成することができる。異なるターゲット材料を照射することによって異なるスペクトルを生成するように、電子ビームとターゲットとを互いに対して移動することができる。いくつかの実施形態において、X線発生材料は、微細構造化されている。
上記で引用された米国特許出願第14/465816号に記載されているように、本発明の実施形態に使用され得る他の構成のターゲットは、複数のX線発生材料を含む微細構造、X線発生材料の合金を含む微細構造、拡散防止層または接着層を堆積した微細構造、熱伝導性保護層を備えた微細構造、熱伝導性および導電性保護層を備えた微細構造、基板に埋め込まれた微細構造などであってもよい。
4 X線光学システム
一旦X線が高輝度のX線源から生成されると、X線の一部は、光学レンズ列により収集され、X線の吸収および透過を測定するために、対象物に平行化されおよび/または集光されてもよい。多くの場合、この光学システムは、目標のX線エネルギーよりも0.1%大きい帯域幅のX線エネルギーを収集して集光するX線反射装置を備えている。
4.1 楕円形光学レンズ
図8Aは、光学レンズ列に使用される楕円形の可能な光学構成を示す断面図である。楕円形キャピラリレンズは、2つの焦点F1およびF2を有する。したがって、一方の焦点から出射された光子は、反射され、他方の焦点に収束する。
4.2 放物面光学レンズ
いくつかの例において、光学レンズ列に使用される別の可能な光学構成は、2つの放物線の形状を有する。放物線は、1つの焦点Fpを有することができる。したがって、焦点から放射された光子は、反射され、(平行化された)平行ビームを形成する。
4.3 他のX線光学レンズ
他のX線光学システム、例えば、ウォルターI型光学レンズ、円錐形キャピラリレンズ、ポリキャピラリレンズ、Kirkpatrick-Baezレンズ、Montelレンズを光学レンズ列の構成素子として使用することができる。フィルタおよび追加のビームストップなどを含むシステムを使用することもできる。
5 分光計および検出装置
5.1 基本的な分光計
図10〜12は、本発明のいくつかの実施形態に使用され得る分光計システムの素子を概略的に示す断面図および斜視図である。図10において、基板1000およびX線発生材料1700を含むX線ターゲット1100は、真空中で電子111によって照射される。図示のように、X線888は、表面に対して非ゼロの出射角で出射する。
5.2 多結晶分光計
本発明のいくつかの実施形態において、分光計は、異なる種類の結晶を用いて、異なる領域のX線吸収分光を取得することができる。いくつかの実施形態において、分光計は、少なくとも2種類の異なる結晶、すなわち、少なくとも1つの単結晶および少なくとも1つのモザイク結晶を使用する。いくつかの実施形態において、単結晶は、特定のX線波長を測定するように構成された平坦結晶であってもよい。好ましい実施形態において、結晶は、接線方向に湾曲している(例えば、Johann結晶、Johansson結晶)。
5.3 検出装置
波長分散構成を使用する実施形態において、検出装置は、任意のX線計数検出装置であってもよい。
5.4 付加機能および汎用性
図14は、多様な付加機能を組み込んだ分光システムを示す概略図である。
5.4 方法
図15は、複数の結晶を用いてX線吸収分光情報を効率的に取得するための方法を示している。ステップ1510において、所定の試料から目的元素を選択する。場合によって、元素は、ユーザから受信した入力に応じて、X線吸収分光計(XAS)システムによって選択されてもよい。次いで、ステップ1520において、目標のX線吸収端エネルギーを特定することができる。場合によって、吸収端は、本発明のシステムによって受信したユーザ入力に応じて、本発明のシステムによって特定することができる。
6 制限および拡張
本願において、発明者が考え出した最良の形態を含む本発明のいくつかの実施形態は、開示されている。注意すべきことは、特定の実施形態を説明するときに、一部の実施形態について詳細に説明された要素が他の実施形態にも適用できることである。また、先行技術にあるとして説明した詳細および様々な要素も、本発明の様々な実施形態に適用され得る。
Claims (20)
- X線吸収分光を実施するための方法であって、
原子元素の吸収端に対応するエネルギーよりも0.1%高く且つ前記エネルギーを含むエネルギー帯域幅を有するX線ビームを用いて、対象物を照射することと、
単結晶分光計を用いて、3eVよりも高い第1のエネルギー分解能で、前記吸収端を含む第1のエネルギー帯域幅に亘って、前記対象物から第1のX線吸収スペクトルを取得することと、
モザイク結晶分光計を用いて、前記第1のエネルギー分解能よりも低い第2のエネルギー分解能で、前記第1のエネルギー帯域幅よりも広い第2のエネルギー帯域幅に亘って、前記対象物から第2のX線吸収スペクトルを取得することと、
前記第1のX線吸収スペクトルおよび前記第2のX線吸収スペクトルを処理することによって、第3のX線吸収スペクトルを生成することとを含み、前記第1のX線吸収スペクトルに対応する前記第1のエネルギー帯域幅内の前記第2のX線吸収スペクトルは、前記第1のX線吸収スペクトルを用いて精密化される、方法。 - 少なくとも1つの反射X線集光キャピラリレンズを用いて、前記X線ビームを前記対象物に集光させることをさらに含み、
前記X線ビームの前記エネルギー帯域幅は、前記吸収端を含み、前記吸収端よりも100eV高いエネルギーを有する、請求項1に記載の方法。 - 前記単結晶分光計は、少なくとも分散面で湾曲した単結晶を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記第1のX線吸収スペクトルを取得することは、前記対象物、前記単結晶および空間分解検出装置をオフローランド円形状に配置すると共に、前記空間分解検出装置を用いて、前記単結晶によって分散されたX線を検出することを含む、請求項3に記載の方法。
- 前記モザイク結晶分光計は、少なくとも矢状方向に湾曲したモザイク結晶を含み、
前記第2のX線吸収スペクトルを取得することは、前記モザイク結晶および空間分解検出装置をVon Hamos形状に配置すると共に、前記空間分解検出装置を用いて、前記モザイク結晶によって分散されたX線を検出することを含む、請求項1に記載の方法。 - X線吸収分光を実施するためのシステムであって、
X線源と、
検査される対象物を支持するように構成された支持台と、
前記X線源からの、前記対象物から検出される原子元素の吸収端に対応するX線エネルギーよりも0.1%高いエネルギー帯域幅を有するX線を収集するように構成された少なくとも1つのX線集光レンズとを備え、前記エネルギー帯域幅は、前記吸収端に対応する前記X線エネルギーを含み、前記少なくとも1つのX線集光レンズは、前記収集されたX線の一部を、500μm未満の集光サイズを有する前記対象物上の集光スポットに集光させるようにさらに構成され、
3eVよりも高いエネルギー分解能を有する少なくとも1つの単結晶分光計を備え、
前記少なくとも1つの単結晶分光計は、
少なくとも分散方向に湾曲した少なくとも1つの単結晶解析装置と、
前記対象物を透過したX線を検出するように構成された少なくとも1つの空間分解X線検出装置とを含み、
前記集光スポット、前記少なくとも1つの単結晶解析装置および前記少なくとも1つの空間分解X線検出装置は、オフローランド円形状に配置される、システム。 - 前記少なくとも1つのX線集光レンズは、内側反射面を有するX線キャピラリレンズを含み、
前記内側反射面の少なくとも一部は、二次曲面の一部である、請求項6に記載のシステム。 - 前記少なくとも1つのX線集光レンズの反射面は、多層コーティングを含む、請求項6に記載のシステム。
- 前記X線源は、複数のX線ターゲット材料と、電子ビームを発生し、前記電子ビームを用いて前記複数のX線ターゲット材料から選択されたX線ターゲット材料を照射するように構成された電子ビーム発生装置とを含む、請求項6に記載のシステム。
- X線吸収分光を実施するためのシステムであって、
X線源と、
検査される対象物を支持するように構成された支持台と、
前記X線源からのX線を収集し、収集された前記X線の少なくとも一部を、前記対象物上の500μm未満の集光サイズを有する集光スポットに集光させるように構成された少なくとも1つのX線集光レンズと、
少なくとも1つの空間分解X線検出装置と、
少なくとも分散方向に湾曲した少なくとも1つの単結晶とを備え、前記集光スポット、前記少なくとも1つの単結晶および前記少なくとも1つの空間分解X線検出装置は、オフローランド円形状に配置されるように構成され、
少なくとも矢状方向に湾曲した少なくとも1つのモザイク結晶を備え、前記集光スポット、前記少なくとも1つのモザイク結晶およびおよび前記少なくとも1つの空間分解X線検出装置は、Von Hamos形状に配置されるように構成され、
前記単結晶を用いて得られた単結晶X線吸収スペクトルおよび前記モザイク結晶を用いて得られたモザイク結晶X線吸収スペクトルを正規化および調整することによって、複合のX線吸収スペクトルを生成するように構成された処理システムを備え、
前記単結晶X線吸収スペクトルに対応するエネルギー帯域幅内の前記モザイク結晶X線吸収スペクトルは、前記単結晶X線吸収スペクトルを用いて精密化される、X線吸収分光システム。 - 前記単結晶X線吸収スペクトルは、10eV〜100eVのエネルギー帯域幅で3eVよりも高いエネルギー分解能を有する、請求項10に記載のシステム。
- 前記モザイク結晶X線吸収スペクトルは、100eVを超えるエネルギー帯域幅で3eVよりも低いエネルギー分解能を有する、請求項10に記載のシステム。
- 前記少なくとも1つのX線集光レンズは、前記X線源から、所定の原子元素の吸収端よりも0.1%高く且つ前記所定の原子元素の前記吸収端を含むエネルギー帯域幅を有するX線を収集するように構成されている、請求項10に記載のシステム。
- 前記少なくとも1つのX線集光レンズは、内側反射面を有するX線キャピラリレンズを含み、
前記内側反射面の少なくとも一部は、二次曲面の一部である、請求項13に記載のシステム。 - 前記内側反射面の前記一部は、26よりも大きい原子番号を有する材料でコーティングされ、軸対称である、請求項14に記載のシステム。
- 前記対象物を透過したX線を選択的に通過させ、前記対象物からの蛍光X線を通過させないように構成された絞りをさらに備える、請求項13に記載のシステム。
- 前記X線源は、複数のX線ターゲット材料と、電子ビームを発生し、前記電子ビームを用いて前記複数のX線ターゲット材料から選択されたX線ターゲット材料を照射するように構成された電子ビーム発生装置とを含む請求項10に記載のシステム。
- 前記集光スポット、前記単結晶および前記少なくとも1つの空間分解X線検出装置は、前記集光スポットと前記単結晶との間の距離を変更することによって、前記単結晶X線吸収スペクトルの前記エネルギー帯域幅を選択するように構成されている、請求項10に記載のシステム。
- 前記第1のX線吸収スペクトルは、X線吸収端近傍構造(XANES)スペクトルの少なくとも一部を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記第2のX線吸収スペクトルは、少なくとも拡張X線吸収微細構造(EXAFS)データを含む、請求項19に記載の方法。
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WO2018094883A1 (zh) * | 2016-11-26 | 2018-05-31 | 华为技术有限公司 | 生成三维模型的方法和终端设备 |
US10247683B2 (en) | 2016-12-03 | 2019-04-02 | Sigray, Inc. | Material measurement techniques using multiple X-ray micro-beams |
WO2018175570A1 (en) | 2017-03-22 | 2018-09-27 | Sigray, Inc. | Method of performing x-ray spectroscopy and x-ray absorption spectrometer system |
WO2019027761A1 (en) * | 2017-07-31 | 2019-02-07 | Sigray, Inc. | SPECTROMETER SYSTEM WITH X-RAY TRANSMISSION |
US10914694B2 (en) * | 2017-08-23 | 2021-02-09 | Government Of The United States Of America, As Represented By The Secretary Of Commerce | X-ray spectrometer |
US10578566B2 (en) | 2018-04-03 | 2020-03-03 | Sigray, Inc. | X-ray emission spectrometer system |
WO2019236384A1 (en) | 2018-06-04 | 2019-12-12 | Sigray, Inc. | Wavelength dispersive x-ray spectrometer |
US10658145B2 (en) | 2018-07-26 | 2020-05-19 | Sigray, Inc. | High brightness x-ray reflection source |
EP3603516A1 (de) * | 2018-08-02 | 2020-02-05 | Siemens Healthcare GmbH | Röntgenvorrichtung und verfahren zum betrieb der röntgenvorrichtung |
US10656105B2 (en) | 2018-08-06 | 2020-05-19 | Sigray, Inc. | Talbot-lau x-ray source and interferometric system |
DE112019004433T5 (de) | 2018-09-04 | 2021-05-20 | Sigray, Inc. | System und verfahren für röntgenstrahlfluoreszenz mit filterung |
CN112823280A (zh) | 2018-09-07 | 2021-05-18 | 斯格瑞公司 | 用于深度可选x射线分析的系统和方法 |
JP7270637B2 (ja) * | 2018-10-25 | 2023-05-10 | 株式会社堀場製作所 | X線分析装置及びx線発生ユニット |
WO2020202730A1 (ja) * | 2019-03-29 | 2020-10-08 | 株式会社応用科学研究所 | X線分析装置 |
CN114729907B (zh) | 2019-09-03 | 2023-05-23 | 斯格瑞公司 | 用于计算机层析x射线荧光成像的系统和方法 |
JP2022553015A (ja) * | 2019-10-21 | 2022-12-21 | イージーザフス,エルエルシー | 分光器 |
AT523121B1 (de) | 2019-10-21 | 2021-12-15 | Anton Paar Gmbh | Röntgenvorrichtung mit mehreren Strahlpfaden |
US20220390395A1 (en) * | 2019-11-01 | 2022-12-08 | Nova Measuring Instruments Inc. | Patterned x-ray emitting target |
US11175243B1 (en) | 2020-02-06 | 2021-11-16 | Sigray, Inc. | X-ray dark-field in-line inspection for semiconductor samples |
US11217357B2 (en) * | 2020-02-10 | 2022-01-04 | Sigray, Inc. | X-ray mirror optics with multiple hyperboloidal/hyperbolic surface profiles |
JP7144475B2 (ja) * | 2020-03-30 | 2022-09-29 | 日本電子株式会社 | 分析方法および分析装置 |
CN111487270A (zh) * | 2020-04-20 | 2020-08-04 | 厦门汇美集智科技有限公司 | 一种射线诱导发光装置 |
CN115667896A (zh) | 2020-05-18 | 2023-01-31 | 斯格瑞公司 | 使用晶体分析器和多个检测器元件的x射线吸收光谱的系统和方法 |
CN116194760A (zh) * | 2020-07-15 | 2023-05-30 | 丹麦技术大学 | 基于实验室的3D扫描X射线劳厄微衍射系统和方法(Lab3DμXRD) |
JP7191902B2 (ja) * | 2020-07-27 | 2022-12-19 | 日本電子株式会社 | 試料分析装置及び方法 |
WO2022061347A1 (en) | 2020-09-17 | 2022-03-24 | Sigray, Inc. | System and method using x-rays for depth-resolving metrology and analysis |
DE112021006348T5 (de) | 2020-12-07 | 2023-09-21 | Sigray, Inc. | 3d-röntgenbildgebungssystem mit hohem durchsatz, das eine transmissionsröntgenquelle verwendet |
CN113218974A (zh) * | 2021-04-25 | 2021-08-06 | 中科合成油技术有限公司 | 一种x射线吸收谱测量系统 |
CN113008925B (zh) * | 2021-05-10 | 2022-04-22 | 中国科学院高能物理研究所 | 一种消反冲震动的平动光闸兼荧光靶装置 |
WO2023017636A1 (ja) * | 2021-08-10 | 2023-02-16 | 株式会社島津製作所 | X線分析装置 |
US11885755B2 (en) | 2022-05-02 | 2024-01-30 | Sigray, Inc. | X-ray sequential array wavelength dispersive spectrometer |
Family Cites Families (378)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US1203495A (en) | 1913-05-09 | 1916-10-31 | Gen Electric | Vacuum-tube. |
US1355126A (en) | 1916-12-16 | 1920-10-12 | Gen Electric | X-ray tube |
US1211092A (en) | 1915-06-05 | 1917-01-02 | Gen Electric | X-ray tube. |
US1215116A (en) | 1916-10-24 | 1917-02-06 | Gen Electric | X-ray apparatus. |
US1328495A (en) | 1918-07-15 | 1920-01-20 | Gen Electric | X-ray apparatus |
US1790073A (en) | 1927-07-02 | 1931-01-27 | Pohl Ernst | Rontgen tube |
BE355009A (ja) | 1927-10-18 | |||
US1917099A (en) | 1929-10-18 | 1933-07-04 | Gen Electric | x-ray tube |
US2926270A (en) | 1957-12-30 | 1960-02-23 | Gen Electric | Rotating anode x-ray tube |
US3795832A (en) | 1972-02-28 | 1974-03-05 | Machlett Lab Inc | Target for x-ray tubes |
US4165472A (en) | 1978-05-12 | 1979-08-21 | Rockwell International Corporation | Rotating anode x-ray source and cooling technique therefor |
US4266138A (en) | 1978-07-11 | 1981-05-05 | Cornell Research Foundation, Inc. | Diamond targets for producing high intensity soft x-rays and a method of exposing x-ray resists |
US4277112A (en) | 1979-10-01 | 1981-07-07 | Mechanical Technology Incorporated | Stepped, split, cantilevered compliant bearing support |
JPS5744841A (en) | 1980-09-01 | 1982-03-13 | Hitachi Ltd | Method and apparatus for x-ray diffraction |
DE3222511C2 (de) | 1982-06-16 | 1985-08-29 | Feinfocus Röntgensysteme GmbH, 3050 Wunstorf | Feinfokus-Röntgenröhre |
US4523327A (en) | 1983-01-05 | 1985-06-11 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Multi-color X-ray line source |
FR2548447B1 (fr) | 1983-06-28 | 1986-02-21 | Thomson Csf | Tube a rayons x a foyer de forte intensite |
US4807268A (en) | 1983-11-04 | 1989-02-21 | University Of Southern California | Scanning monochrometer crystal and method of formation |
US4642811A (en) * | 1984-06-12 | 1987-02-10 | Northwestern University | EXAFS spectrometer |
JPH0631887B2 (ja) | 1988-04-28 | 1994-04-27 | 株式会社東芝 | X線ミラー及びその製造方法 |
US5001737A (en) | 1988-10-24 | 1991-03-19 | Aaron Lewis | Focusing and guiding X-rays with tapered capillaries |
US4951304A (en) | 1989-07-12 | 1990-08-21 | Adelphi Technology Inc. | Focused X-ray source |
US5249216B1 (en) | 1989-10-19 | 1996-11-05 | Sumitomo Electric Industries | Total reflection x-ray fluorescence apparatus |
US5008918A (en) | 1989-11-13 | 1991-04-16 | General Electric Company | Bonding materials and process for anode target in an x-ray tube |
EP0432568A3 (en) | 1989-12-11 | 1991-08-28 | General Electric Company | X ray tube anode and tube having same |
US4972449A (en) | 1990-03-19 | 1990-11-20 | General Electric Company | X-ray tube target |
US5173928A (en) | 1990-07-09 | 1992-12-22 | Hitachi, Ltd. | Tomograph using phase information of a signal beam having transmitted through a to-be-inspected object |
JPH0769477B2 (ja) | 1990-09-05 | 1995-07-31 | 理学電機工業株式会社 | X線分光装置 |
US5148462A (en) | 1991-04-08 | 1992-09-15 | Moltech Corporation | High efficiency X-ray anode sources |
JPH0582419A (ja) | 1991-09-20 | 1993-04-02 | Fujitsu Ltd | X線透過窓およびその製造方法 |
JPH06188092A (ja) | 1992-12-17 | 1994-07-08 | Hitachi Ltd | X線発生用タ−ゲットとx線源とx線撮像装置 |
JPH0756000A (ja) | 1993-08-17 | 1995-03-03 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | マイクロx線ターゲット |
GB9318197D0 (en) | 1993-09-02 | 1993-10-20 | Medical Res Council | Improvements in or relating xo x-ray tubes |
US5737387A (en) | 1994-03-11 | 1998-04-07 | Arch Development Corporation | Cooling for a rotating anode X-ray tube |
JP3191554B2 (ja) | 1994-03-18 | 2001-07-23 | 株式会社日立製作所 | X線撮像装置 |
AU2641495A (en) | 1994-05-11 | 1995-12-05 | Regents Of The University Of Colorado, The | Spherical mirror grazing incidence x-ray optics |
US5878110A (en) | 1994-08-20 | 1999-03-02 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | X-ray generation apparatus |
JP3612795B2 (ja) | 1994-08-20 | 2005-01-19 | 住友電気工業株式会社 | X線発生装置 |
JPH08128971A (ja) * | 1994-10-31 | 1996-05-21 | Rigaku Corp | Exafs測定装置 |
JPH08184572A (ja) | 1995-01-04 | 1996-07-16 | Hitachi Ltd | 全反射x線分析装置 |
DE19509516C1 (de) | 1995-03-20 | 1996-09-26 | Medixtec Gmbh Medizinische Ger | Mikrofokus-Röntgeneinrichtung |
JPH095500A (ja) | 1995-06-26 | 1997-01-10 | Shimadzu Corp | X線顕微鏡 |
US5729583A (en) | 1995-09-29 | 1998-03-17 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of Commerce | Miniature x-ray source |
US5682415A (en) | 1995-10-13 | 1997-10-28 | O'hara; David B. | Collimator for x-ray spectroscopy |
JPH09187455A (ja) | 1996-01-10 | 1997-07-22 | Hitachi Ltd | 位相型x線ct装置 |
US5602899A (en) | 1996-01-31 | 1997-02-11 | Physical Electronics Inc. | Anode assembly for generating x-rays and instrument with such anode assembly |
US5778039A (en) | 1996-02-21 | 1998-07-07 | Advanced Micro Devices, Inc. | Method and apparatus for the detection of light elements on the surface of a semiconductor substrate using x-ray fluorescence (XRF) |
DE69730550T2 (de) | 1996-03-29 | 2005-11-10 | Hitachi, Ltd. | Phasenkontrast-Röntgenabbildungssystem |
US5912940A (en) | 1996-06-10 | 1999-06-15 | O'hara; David | Combination wavelength and energy dispersive x-ray spectrometer |
US5825848A (en) | 1996-09-13 | 1998-10-20 | Varian Associates, Inc. | X-ray target having big Z particles imbedded in a matrix |
US5772903A (en) | 1996-09-27 | 1998-06-30 | Hirsch; Gregory | Tapered capillary optics |
IL132351A (en) | 1997-04-08 | 2003-03-12 | X Ray Technologies Pty Ltd | High resolution x-ray imaging of very small objects |
US5812629A (en) | 1997-04-30 | 1998-09-22 | Clauser; John F. | Ultrahigh resolution interferometric x-ray imaging |
US6442231B1 (en) | 1997-08-15 | 2002-08-27 | O'hara David B. | Apparatus and method for improved energy dispersive X-ray spectrometer |
US6108397A (en) | 1997-11-24 | 2000-08-22 | Focused X-Rays, Llc | Collimator for x-ray proximity lithography |
US6108398A (en) | 1998-07-13 | 2000-08-22 | Jordan Valley Applied Radiation Ltd. | X-ray microfluorescence analyzer |
WO2000031523A2 (en) | 1998-11-25 | 2000-06-02 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | X-ray analysis apparatus including a parabolic x-ray mirror and a crystal monochromator |
US6125167A (en) | 1998-11-25 | 2000-09-26 | Picker International, Inc. | Rotating anode x-ray tube with multiple simultaneously emitting focal spots |
JP2000306533A (ja) | 1999-02-19 | 2000-11-02 | Toshiba Corp | 透過放射型x線管およびその製造方法 |
US6389100B1 (en) | 1999-04-09 | 2002-05-14 | Osmic, Inc. | X-ray lens system |
US6278764B1 (en) | 1999-07-22 | 2001-08-21 | The Regents Of The Unviersity Of California | High efficiency replicated x-ray optics and fabrication method |
JP2001035428A (ja) | 1999-07-22 | 2001-02-09 | Shimadzu Corp | X線発生装置 |
DE19934987B4 (de) | 1999-07-26 | 2004-11-11 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Röntgenanode und ihre Verwendung |
JP3488843B2 (ja) | 1999-08-26 | 2004-01-19 | 理学電機株式会社 | X線分光装置及びxafs測定装置 |
US6307916B1 (en) | 1999-09-14 | 2001-10-23 | General Electric Company | Heat pipe assisted cooling of rotating anode x-ray tubes |
US6381303B1 (en) | 1999-09-29 | 2002-04-30 | Jordan Valley Applied Radiation Ltd. | X-ray microanalyzer for thin films |
DE19955392A1 (de) | 1999-11-18 | 2001-05-23 | Philips Corp Intellectual Pty | Monochromatische Röntgenstrahlenquelle |
GB9927555D0 (en) | 1999-11-23 | 2000-01-19 | Bede Scient Instr Ltd | X-ray fluorescence apparatus |
TWI282909B (en) | 1999-12-23 | 2007-06-21 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and a method for manufacturing a device |
US6811612B2 (en) | 2000-01-27 | 2004-11-02 | The University Of Chicago | Patterning of nanocrystalline diamond films for diamond microstructures useful in MEMS and other devices |
US6504902B2 (en) | 2000-04-10 | 2003-01-07 | Rigaku Corporation | X-ray optical device and multilayer mirror for small angle scattering system |
UA59495C2 (uk) | 2000-08-07 | 2003-09-15 | Мурадін Абубєкіровіч Кумахов | Рентгенівський вимірювально-випробувальний комплекс |
US6815363B2 (en) | 2000-08-11 | 2004-11-09 | The Regents Of The University Of California | Method for nanomachining high aspect ratio structures |
US6891627B1 (en) | 2000-09-20 | 2005-05-10 | Kla-Tencor Technologies Corp. | Methods and systems for determining a critical dimension and overlay of a specimen |
US6829327B1 (en) | 2000-09-22 | 2004-12-07 | X-Ray Optical Systems, Inc. | Total-reflection x-ray fluorescence apparatus and method using a doubly-curved optic |
US6553096B1 (en) | 2000-10-06 | 2003-04-22 | The University Of North Carolina Chapel Hill | X-ray generating mechanism using electron field emission cathode |
US6463123B1 (en) | 2000-11-09 | 2002-10-08 | Steris Inc. | Target for production of x-rays |
US6847699B2 (en) | 2000-12-04 | 2005-01-25 | Advanced Ceramics Research, Inc. | Composite components for use in high temperature applications |
US6430260B1 (en) | 2000-12-29 | 2002-08-06 | General Electric Company | X-ray tube anode cooling device and systems incorporating same |
JP2002336232A (ja) | 2001-05-16 | 2002-11-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 位相コントラスト画像生成方法および装置並びにプログラム |
WO2003014871A2 (en) | 2001-08-03 | 2003-02-20 | Hill-Rom Services, Inc. | Patient point-of-care computer system |
US6917472B1 (en) | 2001-11-09 | 2005-07-12 | Xradia, Inc. | Achromatic fresnel optics for ultraviolet and x-ray radiation |
US6914723B2 (en) | 2001-11-09 | 2005-07-05 | Xradia, Inc. | Reflective lithography mask inspection tool based on achromatic Fresnel optics |
AU2002357069A1 (en) | 2001-12-04 | 2003-06-17 | X-Ray Optical Systems, Inc. | Method and device for cooling and electrically insulating a high-voltage, heat-generating component such as an x-ray tube |
WO2003081631A1 (de) | 2002-03-26 | 2003-10-02 | Fraunhofer-Gesellschaft Zur Foerderung Der Angewandten Forschung E.V. | Roentgenstrahlquelle mit einer kleinen brennfleckgroesse |
JP2003288853A (ja) | 2002-03-27 | 2003-10-10 | Toshiba Corp | X線装置 |
US7180981B2 (en) | 2002-04-08 | 2007-02-20 | Nanodynamics-88, Inc. | High quantum energy efficiency X-ray tube and targets |
JP4322470B2 (ja) | 2002-05-09 | 2009-09-02 | 浜松ホトニクス株式会社 | X線発生装置 |
US6560315B1 (en) | 2002-05-10 | 2003-05-06 | Ge Medical Systems Global Technology Company, Llc | Thin rotating plate target for X-ray tube |
US20050282300A1 (en) | 2002-05-29 | 2005-12-22 | Xradia, Inc. | Back-end-of-line metallization inspection and metrology microscopy system and method using x-ray fluorescence |
US7245696B2 (en) | 2002-05-29 | 2007-07-17 | Xradia, Inc. | Element-specific X-ray fluorescence microscope and method of operation |
JP2004089445A (ja) | 2002-08-30 | 2004-03-25 | Konica Minolta Holdings Inc | X線発生装置およびx線画像撮像システム |
US6763086B2 (en) | 2002-09-05 | 2004-07-13 | Osmic, Inc. | Method and apparatus for detecting boron in x-ray fluorescence spectroscopy |
US7015467B2 (en) | 2002-10-10 | 2006-03-21 | Applied Materials, Inc. | Generating electrons with an activated photocathode |
US7268945B2 (en) | 2002-10-10 | 2007-09-11 | Xradia, Inc. | Short wavelength metrology imaging system |
US7365909B2 (en) | 2002-10-17 | 2008-04-29 | Xradia, Inc. | Fabrication methods for micro compounds optics |
JP3998556B2 (ja) | 2002-10-17 | 2007-10-31 | 株式会社東研 | 高分解能x線顕微検査装置 |
US10638994B2 (en) | 2002-11-27 | 2020-05-05 | Hologic, Inc. | X-ray mammography with tomosynthesis |
US6947522B2 (en) | 2002-12-20 | 2005-09-20 | General Electric Company | Rotating notched transmission x-ray for multiple focal spots |
WO2004058070A1 (ja) | 2002-12-26 | 2004-07-15 | Atsushi Momose | X線撮像装置および撮像方法 |
US7119953B2 (en) | 2002-12-27 | 2006-10-10 | Xradia, Inc. | Phase contrast microscope for short wavelength radiation and imaging method |
US7079625B2 (en) | 2003-01-20 | 2006-07-18 | Siemens Aktiengesellschaft | X-ray anode having an electron incident surface scored by microslits |
GB0309374D0 (en) | 2003-04-25 | 2003-06-04 | Cxr Ltd | X-ray sources |
US8094784B2 (en) | 2003-04-25 | 2012-01-10 | Rapiscan Systems, Inc. | X-ray sources |
GB0812864D0 (en) | 2008-07-15 | 2008-08-20 | Cxr Ltd | Coolign anode |
US6707883B1 (en) | 2003-05-05 | 2004-03-16 | Ge Medical Systems Global Technology Company, Llc | X-ray tube targets made with high-strength oxide-dispersion strengthened molybdenum alloy |
US7006596B1 (en) | 2003-05-09 | 2006-02-28 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Light element measurement |
US6975703B2 (en) | 2003-08-01 | 2005-12-13 | General Electric Company | Notched transmission target for a multiple focal spot X-ray source |
US7023955B2 (en) | 2003-08-12 | 2006-04-04 | X-Ray Optical System, Inc. | X-ray fluorescence system with apertured mask for analyzing patterned surfaces |
US7003077B2 (en) | 2003-10-03 | 2006-02-21 | General Electric Company | Method and apparatus for x-ray anode with increased coverage |
US7394890B1 (en) | 2003-11-07 | 2008-07-01 | Xradia, Inc. | Optimized x-ray energy for high resolution imaging of integrated circuits structures |
US7170969B1 (en) | 2003-11-07 | 2007-01-30 | Xradia, Inc. | X-ray microscope capillary condenser system |
US7057187B1 (en) | 2003-11-07 | 2006-06-06 | Xradia, Inc. | Scintillator optical system and method of manufacture |
US7218703B2 (en) | 2003-11-21 | 2007-05-15 | Tohken Co., Ltd. | X-ray microscopic inspection apparatus |
US7130375B1 (en) | 2004-01-14 | 2006-10-31 | Xradia, Inc. | High resolution direct-projection type x-ray microtomography system using synchrotron or laboratory-based x-ray source |
US7215736B1 (en) | 2004-03-05 | 2007-05-08 | Xradia, Inc. | X-ray micro-tomography system optimized for high resolution, throughput, image quality |
JP2005276760A (ja) | 2004-03-26 | 2005-10-06 | Shimadzu Corp | X線発生装置 |
DE112005000798T5 (de) | 2004-04-08 | 2007-04-05 | Japan Science And Technology Agency, Kawaguchi | Röntgenstrahlen-Target und Vorrichtungen, die es verwenden |
US7286640B2 (en) | 2004-04-09 | 2007-10-23 | Xradia, Inc. | Dual-band detector system for x-ray imaging of biological samples |
US7412024B1 (en) | 2004-04-09 | 2008-08-12 | Xradia, Inc. | X-ray mammography |
WO2005109969A2 (en) | 2004-05-05 | 2005-11-17 | The Regents Of The University Of California | Compact x-ray source and panel |
US7330533B2 (en) | 2004-05-05 | 2008-02-12 | Lawrence Livermore National Security, Llc | Compact x-ray source and panel |
US6870172B1 (en) | 2004-05-21 | 2005-03-22 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Maskless reflection electron beam projection lithography |
US7203269B2 (en) | 2004-05-28 | 2007-04-10 | General Electric Company | System for forming x-rays and method for using same |
US7095822B1 (en) | 2004-07-28 | 2006-08-22 | Xradia, Inc. | Near-field X-ray fluorescence microprobe |
US7365918B1 (en) | 2004-08-10 | 2008-04-29 | Xradia, Inc. | Fast x-ray lenses and fabrication method therefor |
US7103138B2 (en) | 2004-08-24 | 2006-09-05 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University | Sampling in volumetric computed tomography |
US7120228B2 (en) | 2004-09-21 | 2006-10-10 | Jordan Valley Applied Radiation Ltd. | Combined X-ray reflectometer and diffractometer |
JP4565198B2 (ja) * | 2005-03-01 | 2010-10-20 | 国立大学法人大阪大学 | 高分解・高速テラヘルツ分光計測装置 |
NL1028481C2 (nl) | 2005-03-08 | 2006-09-11 | Univ Delft Tech | Microröntgenbron. |
JP4568801B2 (ja) | 2005-04-20 | 2010-10-27 | 国立大学法人京都工芸繊維大学 | フレネルゾーンプレート及び該フレネルゾーンプレートを使用したx線顕微鏡 |
WO2006130630A2 (en) | 2005-05-31 | 2006-12-07 | The University Of North Carolina At Chapel Hill | X-ray pixel beam array systems and methods for electronically shaping radiation fields and modulating radiation field intensity patterns for radiotherapy |
EP1731099A1 (en) | 2005-06-06 | 2006-12-13 | Paul Scherrer Institut | Interferometer for quantitative phase contrast imaging and tomography with an incoherent polychromatic x-ray source |
DE102005026578A1 (de) | 2005-06-08 | 2006-12-21 | Comet Gmbh | Vorrichtung zur Röntgen-Laminographie und/oder Tomosynthese |
US7406151B1 (en) | 2005-07-19 | 2008-07-29 | Xradia, Inc. | X-ray microscope with microfocus source and Wolter condenser |
JP4994375B2 (ja) | 2005-08-01 | 2012-08-08 | ザ リサーチ ファウンデーション オブ ステート ユニバーシティ オブ ニューヨーク | 点焦点湾曲モノクロメータ光学体を使用するx線結像系 |
DE102005036285B4 (de) | 2005-08-02 | 2013-06-20 | Siemens Aktiengesellschaft | Verfahren zur Bestimmung der relativen Lage einer Röntgenquelle zu einem Röntgenbilddetektor und entsprechendes Röntgensystem |
JP2007093581A (ja) | 2005-09-01 | 2007-04-12 | Jeol Ltd | 波長分散型x線分光器 |
US7382864B2 (en) | 2005-09-15 | 2008-06-03 | General Electric Company | Systems, methods and apparatus of a composite X-Ray target |
US7359487B1 (en) | 2005-09-15 | 2008-04-15 | Revera Incorporated | Diamond anode |
KR100772639B1 (ko) | 2005-10-18 | 2007-11-02 | 한국기계연구원 | 다이아몬드상 카본 박막을 이용한 미세 임프린트리소그래피용 스탬프 및 그 제조방법 |
DE202005017496U1 (de) | 2005-11-07 | 2007-03-15 | Comet Gmbh | Target für eine Mikrofocus- oder Nanofocus-Röntgenröhre |
DE102005053386A1 (de) | 2005-11-07 | 2007-05-16 | Comet Gmbh | Nanofocus-Röntgenröhre |
US20070108387A1 (en) | 2005-11-14 | 2007-05-17 | Xradia, Inc. | Tunable x-ray fluorescence imager for multi-element analysis |
US7443953B1 (en) | 2005-12-09 | 2008-10-28 | Xradia, Inc. | Structured anode X-ray source for X-ray microscopy |
DE502006007410D1 (de) | 2005-12-27 | 2010-08-26 | Paul Scherrer Inst Psi | Fokus-Detektor-Anordnung zur Erzeugung von Phasenkontrast-Röntgenaufnahmen und Verfahren hierzu |
DE102006037257B4 (de) | 2006-02-01 | 2017-06-01 | Siemens Healthcare Gmbh | Verfahren und Messanordnung zur zerstörungsfreien Analyse eines Untersuchungsobjektes mit Röntgenstrahlung |
EP1988564A4 (en) | 2006-02-01 | 2011-04-20 | Toshiba Electron Tubes & Devic | X-RAY SOURCE AND FLUORESCENCE X-RAY ANALYSIS DEVICE |
DE102006037254B4 (de) | 2006-02-01 | 2017-08-03 | Paul Scherer Institut | Fokus-Detektor-Anordnung zur Erzeugung projektiver oder tomographischer Phasenkontrastaufnahmen mit röntgenoptischen Gittern, sowie Röntgen-System, Röntgen-C-Bogen-System und Röntgen-Computer-Tomographie-System |
DE102006037255A1 (de) | 2006-02-01 | 2007-08-02 | Siemens Ag | Fokus-Detektor-Anordnung einer Röntgenapparatur zur Erzeugung projektiver oder tomographischer Phasenkontrastaufnahmen |
DE102006063048B3 (de) | 2006-02-01 | 2018-03-29 | Siemens Healthcare Gmbh | Fokus/Detektor-System einer Röntgenapparatur zur Erzeugung von Phasenkontrastaufnahmen |
DE102006017291B4 (de) | 2006-02-01 | 2017-05-24 | Paul Scherer Institut | Fokus/Detektor-System einer Röntgenapparatur zur Erzeugung von Phasenkontrastaufnahmen, Röntgensystem mit einem solchen Fokus/Detektor-System sowie zugehöriges Speichermedium und Verfahren |
DE102006037281A1 (de) | 2006-02-01 | 2007-08-09 | Siemens Ag | Röntgenoptisches Durchstrahlungsgitter einer Fokus-Detektor-Anordnung einer Röntgenapparatur zur Erzeugung projektiver oder tomographischer Phasenkontrastaufnahmen von einem Untersuchungsobjekt |
DE102006037282B4 (de) | 2006-02-01 | 2017-08-17 | Siemens Healthcare Gmbh | Fokus-Detektor-Anordnung mit röntgenoptischem Gitter zur Phasenkontrastmessung |
DE102006037256B4 (de) | 2006-02-01 | 2017-03-30 | Paul Scherer Institut | Fokus-Detektor-Anordnung einer Röntgenapparatur zur Erzeugung projektiver oder tomographischer Phasenkontrastaufnahmen sowie Röntgensystem, Röntgen-C-Bogen-System und Röntgen-CT-System |
DE102006046034A1 (de) | 2006-02-01 | 2007-08-16 | Siemens Ag | Röntgen-CT-System zur Erzeugung projektiver und tomographischer Phasenkontrastaufnahmen |
DE102006017290B4 (de) | 2006-02-01 | 2017-06-22 | Siemens Healthcare Gmbh | Fokus/Detektor-System einer Röntgenapparatur, Röntgen-System und Verfahren zur Erzeugung von Phasenkontrastaufnahmen |
DE102006015356B4 (de) | 2006-02-01 | 2016-09-22 | Siemens Healthcare Gmbh | Verfahren zur Erzeugung projektiver und tomographischer Phasenkontrastaufnahmen mit einem Röntgen-System |
DE102006015358B4 (de) | 2006-02-01 | 2019-08-22 | Paul Scherer Institut | Fokus/Detektor-System einer Röntgenapparatur zur Erzeugung von Phasenkontrastaufnahmen, zugehöriges Röntgen-System sowie Speichermedium und Verfahren zur Erzeugung tomographischer Aufnahmen |
US7796726B1 (en) * | 2006-02-14 | 2010-09-14 | University Of Maryland, Baltimore County | Instrument and method for X-ray diffraction, fluorescence, and crystal texture analysis without sample preparation |
JP2007218683A (ja) | 2006-02-15 | 2007-08-30 | Renesas Technology Corp | 臭素化合物の分析方法および分析装置 |
JP4878311B2 (ja) | 2006-03-03 | 2012-02-15 | キヤノン株式会社 | マルチx線発生装置 |
US7412030B1 (en) | 2006-03-03 | 2008-08-12 | O'hara David | Apparatus employing conically parallel beam of X-rays |
WO2007125833A1 (ja) | 2006-04-24 | 2007-11-08 | The University Of Tokyo | X線撮像装置及びx線撮像方法 |
US7529343B2 (en) | 2006-05-04 | 2009-05-05 | The Boeing Company | System and method for improved field of view X-ray imaging using a non-stationary anode |
JP4912743B2 (ja) | 2006-05-18 | 2012-04-11 | 浜松ホトニクス株式会社 | X線管及びそれを用いたx線照射装置 |
US7463712B2 (en) | 2006-05-18 | 2008-12-09 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University | Scatter correction for x-ray imaging using modulation of primary x-ray spatial spectrum |
EP1879020A1 (en) | 2006-07-12 | 2008-01-16 | Paul Scherrer Institut | X-ray interferometer for phase contrast imaging |
US20080037706A1 (en) | 2006-08-08 | 2008-02-14 | Panalytical B.V. | Device and method for performing X-ray analysis |
US7522707B2 (en) | 2006-11-02 | 2009-04-21 | General Electric Company | X-ray system, X-ray apparatus, X-ray target, and methods for manufacturing same |
US7902528B2 (en) | 2006-11-21 | 2011-03-08 | Cadence Design Systems, Inc. | Method and system for proximity effect and dose correction for a particle beam writing device |
JP2008145111A (ja) | 2006-12-06 | 2008-06-26 | Univ Of Tokyo | X線撮像装置、これに用いるx線源、及び、x線撮像方法 |
WO2008078255A2 (en) | 2006-12-22 | 2008-07-03 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Energy-resolving detection system and imaging system |
DE102006062452B4 (de) | 2006-12-28 | 2008-11-06 | Comet Gmbh | Röntgenröhre und Verfahren zur Prüfung eines Targets einer Röntgenröhre |
US7412131B2 (en) | 2007-01-02 | 2008-08-12 | General Electric Company | Multilayer optic device and system and method for making same |
US7499521B2 (en) | 2007-01-04 | 2009-03-03 | Xradia, Inc. | System and method for fuel cell material x-ray analysis |
US20080181363A1 (en) | 2007-01-25 | 2008-07-31 | Uchicago Argonne, Llc | Surface topography with X-ray reflection phase-contrast microscopy |
US7601399B2 (en) | 2007-01-31 | 2009-10-13 | Surface Modification Systems, Inc. | High density low pressure plasma sprayed focal tracks for X-ray anodes |
US7864426B2 (en) | 2007-02-13 | 2011-01-04 | Xradia, Inc. | High aspect-ratio X-ray diffractive structure stabilization methods and systems |
JP2008197495A (ja) | 2007-02-14 | 2008-08-28 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc | X線撮像フイルム及び製造方法、x線撮像方法、システム |
JP2008200359A (ja) | 2007-02-21 | 2008-09-04 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc | X線撮影システム |
WO2008112950A1 (en) | 2007-03-15 | 2008-09-18 | X-Ray Optical Systems, Inc. | Small spot and high energy resolution xrf system for valence state determination |
US7920676B2 (en) | 2007-05-04 | 2011-04-05 | Xradia, Inc. | CD-GISAXS system and method |
US7680243B2 (en) | 2007-09-06 | 2010-03-16 | Jordan Valley Semiconductors Ltd. | X-ray measurement of properties of nano-particles |
AT10598U1 (de) | 2007-09-28 | 2009-06-15 | Plansee Metall Gmbh | Ríntgenanode mit verbesserter warmeableitung |
US8699667B2 (en) | 2007-10-02 | 2014-04-15 | General Electric Company | Apparatus for x-ray generation and method of making same |
WO2009058976A1 (en) | 2007-10-30 | 2009-05-07 | Massachusetts Institute Of Technology | Phase-contrast x-ray imaging |
ATE524056T1 (de) | 2007-11-15 | 2011-09-15 | Suisse Electronique Microtech | Interferometervorrichtung und verfahren |
EP2214558B1 (en) | 2007-11-26 | 2017-08-30 | Koninklijke Philips N.V. | Detection setup for x-ray phase contrast imaging |
EP2075569B1 (en) | 2007-12-31 | 2012-02-15 | Xenocs S.A. | X-ray beam device |
DE102008007413A1 (de) | 2008-02-04 | 2009-08-27 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Röntgentarget |
US8576983B2 (en) | 2008-02-14 | 2013-11-05 | Koninklijke Philips N.V. | X-ray detector for phase contrast imaging |
JP5158699B2 (ja) | 2008-02-20 | 2013-03-06 | 国立大学法人 東京大学 | X線撮像装置、及び、これに用いるx線源 |
JP5294653B2 (ja) | 2008-02-28 | 2013-09-18 | キヤノン株式会社 | マルチx線発生装置及びx線撮影装置 |
EP2260501B1 (en) | 2008-03-05 | 2021-08-25 | X-ray Optical Systems, INC. | Xrf system having multiple excitation energy bands in highly aligned package |
JP5153388B2 (ja) | 2008-03-06 | 2013-02-27 | 株式会社リガク | X線発生装置ならびにx線分析装置、x線透過像計測装置及びx線干渉計 |
US7813475B1 (en) | 2008-03-11 | 2010-10-12 | Xradia, Inc. | X-ray microscope with switchable x-ray source |
WO2009115966A1 (en) | 2008-03-19 | 2009-09-24 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Rotational x ray device for phase contrast imaging |
US8068579B1 (en) | 2008-04-09 | 2011-11-29 | Xradia, Inc. | Process for examining mineral samples with X-ray microscope and projection systems |
US7876883B2 (en) | 2008-04-10 | 2011-01-25 | O'hara David | Mammography X-ray homogenizing optic |
JP5451150B2 (ja) | 2008-04-15 | 2014-03-26 | キヤノン株式会社 | X線用線源格子、x線位相コントラスト像の撮像装置 |
US7672433B2 (en) | 2008-05-16 | 2010-03-02 | General Electric Company | Apparatus for increasing radiative heat transfer in an x-ray tube and method of making same |
US7787588B1 (en) | 2008-07-21 | 2010-08-31 | Xradia, Inc. | System and method for quantitative reconstruction of Zernike phase-contrast images |
US8036341B2 (en) | 2008-08-14 | 2011-10-11 | Varian Medical Systems, Inc. | Stationary x-ray target and methods for manufacturing same |
JP5647607B2 (ja) | 2008-08-14 | 2015-01-07 | コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェ | マルチセグメント陽極ターゲットを備えた回転陽極を有するx線管、及びそれを有するx線スキャナシステム |
US7974379B1 (en) | 2008-09-09 | 2011-07-05 | Xradia, Inc. | Metrology and registration system and method for laminography and tomography |
JP2010063646A (ja) | 2008-09-11 | 2010-03-25 | Fujifilm Corp | 放射線位相画像撮影装置 |
US8602648B1 (en) | 2008-09-12 | 2013-12-10 | Carl Zeiss X-ray Microscopy, Inc. | X-ray microscope system with cryogenic handling system and method |
DE102008048688B4 (de) | 2008-09-24 | 2011-08-25 | Paul Scherrer Institut | Röntgen-CT-System zur Erzeugung tomographischer Phasenkontrast- oder Dunkelfeldaufnahmen |
DE102008048683A1 (de) | 2008-09-24 | 2010-04-08 | Siemens Aktiengesellschaft | Verfahren zur Bestimmung von Phase und/oder Amplitude zwischen interferierenden benachbarten Röntgenstrahlen in einem Detektorpixel bei einem Talbot-Interferometer |
EP2168488B1 (de) | 2008-09-30 | 2013-02-13 | Siemens Aktiengesellschaft | Röntgen-CT-System zur Röntgen-Phasenkontrast-und/oder Röntgen-Dunkelfeld-Bildgebung |
US7929667B1 (en) | 2008-10-02 | 2011-04-19 | Kla-Tencor Corporation | High brightness X-ray metrology |
CN101413905B (zh) | 2008-10-10 | 2011-03-16 | 深圳大学 | X射线微分干涉相衬成像系统 |
US8559594B2 (en) | 2008-10-29 | 2013-10-15 | Canon Kabushiki Kaisha | Imaging apparatus and imaging method |
WO2010050483A1 (ja) | 2008-10-29 | 2010-05-06 | キヤノン株式会社 | X線撮像装置およびx線撮像方法 |
US8353628B1 (en) | 2008-12-04 | 2013-01-15 | Xradia, Inc. | Method and system for tomographic projection correction |
US8553843B2 (en) | 2008-12-17 | 2013-10-08 | Koninklijke Philips N.V. | Attachment of a high-Z focal track layer to a carbon-carbon composite substrate serving as a rotary anode target |
DE102009004702B4 (de) | 2009-01-15 | 2019-01-31 | Paul Scherer Institut | Anordnung und Verfahren zur projektiven und/oder tomographischen Phasenkontrastbildgebung mit Röntgenstrahlung |
US8972191B2 (en) | 2009-02-05 | 2015-03-03 | Paul Scherrer Institut | Low dose single step grating based X-ray phase contrast imaging |
US7949095B2 (en) | 2009-03-02 | 2011-05-24 | University Of Rochester | Methods and apparatus for differential phase-contrast fan beam CT, cone-beam CT and hybrid cone-beam CT |
DE112010002512B4 (de) | 2009-03-27 | 2024-03-14 | Rigaku Corp. | Röntgenstrahlerzeugungsvorrichtung und Untersuchungsvorrichtung, die diese verwendet |
WO2010109390A1 (en) | 2009-03-27 | 2010-09-30 | Koninklijke Philips Electronics N. V. | Achromatic phase-contrast imaging |
JP2010236986A (ja) | 2009-03-31 | 2010-10-21 | Fujifilm Corp | 放射線位相画像撮影装置 |
JP2010249533A (ja) | 2009-04-10 | 2010-11-04 | Canon Inc | タルボ・ロー干渉計用の線源格子 |
EP2420112B1 (en) | 2009-04-16 | 2017-03-01 | Eric H. Silver | Monochromatic x-ray apparatus |
JP2010253194A (ja) | 2009-04-28 | 2010-11-11 | Fujifilm Corp | 放射線位相画像撮影装置 |
CN102422364B (zh) | 2009-05-12 | 2015-08-05 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 具有多个电子发射器的x射线源 |
US8351569B2 (en) | 2009-06-12 | 2013-01-08 | Lawrence Livermore National Security, Llc | Phase-sensitive X-ray imager |
CN102802529B (zh) | 2009-06-16 | 2015-09-16 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 用于微分相衬成像的校正方法 |
DE112010006114A5 (de) * | 2009-07-01 | 2016-03-17 | Rigaku Corp. | Röntgenvorrichtung, verfahren zum verwenden der röntgenvorrichtung und röntgenbestrahlungsverfahren |
JP2011029072A (ja) | 2009-07-28 | 2011-02-10 | Canon Inc | X線発生装置及びそれを備えたx線撮像装置。 |
JP5626750B2 (ja) * | 2009-08-04 | 2014-11-19 | 国立大学法人広島大学 | 測定装置及び測定方法 |
EP2284524B1 (en) * | 2009-08-10 | 2014-01-15 | FEI Company | Microcalorimetry for X-ray spectroscopy |
US8526575B1 (en) | 2009-08-12 | 2013-09-03 | Xradia, Inc. | Compound X-ray lens having multiple aligned zone plates |
JP5670111B2 (ja) | 2009-09-04 | 2015-02-18 | 東京エレクトロン株式会社 | X線発生用ターゲット、x線発生装置、及びx線発生用ターゲットの製造方法 |
EP2478842A4 (en) | 2009-09-16 | 2013-10-23 | Konica Minolta Med & Graphic | X-RAY IMAGING DEVICE, X-RAY IMAGING SYSTEM, AND RADIOGRAPHIC CLOG GENERATING METHOD |
EP2478328B1 (en) | 2009-09-18 | 2016-07-27 | Carl Zeiss SMT GmbH | Method of measuring a shape of an optical surface |
JP5459659B2 (ja) | 2009-10-09 | 2014-04-02 | キヤノン株式会社 | X線位相コントラスト像の撮像に用いられる位相格子、該位相格子を用いた撮像装置、x線コンピューター断層撮影システム |
US8249220B2 (en) | 2009-10-14 | 2012-08-21 | Rigaku Innovative Technologies, Inc. | Multiconfiguration X-ray optical system |
US8058621B2 (en) | 2009-10-26 | 2011-11-15 | General Electric Company | Elemental composition detection system and method |
FR2953320B1 (fr) | 2009-11-27 | 2013-07-05 | Gen Electric | Grille anti-diffusante inversee |
JP5269041B2 (ja) | 2009-12-04 | 2013-08-21 | キヤノン株式会社 | X線撮像装置およびx線撮像方法 |
US8588372B2 (en) | 2009-12-16 | 2013-11-19 | General Electric Company | Apparatus for modifying electron beam aspect ratio for X-ray generation |
JP5538936B2 (ja) | 2010-02-10 | 2014-07-02 | キヤノン株式会社 | 解析方法、プログラム、記憶媒体、x線位相イメージング装置 |
US8208602B2 (en) | 2010-02-22 | 2012-06-26 | General Electric Company | High flux photon beams using optic devices |
JP5725870B2 (ja) | 2010-02-22 | 2015-05-27 | キヤノン株式会社 | X線撮像装置およびx線撮像方法 |
JP5900324B2 (ja) | 2010-03-18 | 2016-04-06 | コニカミノルタ株式会社 | X線撮影システム |
JP2011218147A (ja) | 2010-03-26 | 2011-11-04 | Fujifilm Corp | 放射線撮影システム |
JP5378335B2 (ja) | 2010-03-26 | 2013-12-25 | 富士フイルム株式会社 | 放射線撮影システム |
JP5438649B2 (ja) | 2010-03-26 | 2014-03-12 | 富士フイルム株式会社 | 放射線撮影システム及び位置ずれ判定方法 |
JP2012090944A (ja) | 2010-03-30 | 2012-05-17 | Fujifilm Corp | 放射線撮影システム及び放射線撮影方法 |
JP5548085B2 (ja) | 2010-03-30 | 2014-07-16 | 富士フイルム株式会社 | 回折格子の調整方法 |
JP2011224329A (ja) | 2010-03-30 | 2011-11-10 | Fujifilm Corp | 放射線撮影システム及び方法 |
US8831175B2 (en) | 2010-05-19 | 2014-09-09 | Eric H. Silver | Hybrid X-ray optic apparatus and methods |
US8509386B2 (en) | 2010-06-15 | 2013-08-13 | Varian Medical Systems, Inc. | X-ray target and method of making same |
US9031201B2 (en) | 2010-07-05 | 2015-05-12 | Canon Kabushiki Kaisha | X-ray source, X-ray imaging apparatus, and X-ray computed tomography imaging system |
JP5731214B2 (ja) | 2010-08-19 | 2015-06-10 | 富士フイルム株式会社 | 放射線撮影システム及びその画像処理方法 |
US8406378B2 (en) | 2010-08-25 | 2013-03-26 | Gamc Biotech Development Co., Ltd. | Thick targets for transmission x-ray tubes |
US20130163717A1 (en) | 2010-09-08 | 2013-06-27 | Canon Kabushiki Kaisha | Imaging apparatus |
JP2012103237A (ja) | 2010-10-14 | 2012-05-31 | Canon Inc | 撮像装置 |
EP2630476B1 (en) | 2010-10-19 | 2017-12-13 | Koninklijke Philips N.V. | Differential phase-contrast imaging |
BR112013009248A2 (pt) | 2010-10-19 | 2019-09-24 | Koninl Philips Electronics Nv | difração de reticulação para a geração de imagens por contraste de fase diferencial de raios x, disposição de detector de um sistema de raios x para a geração de imagens por contraste de fase de um objeto, sistema de geração de umagens médica de raios x para a geração de imagens por contraste de fase diferencial, método para a geração de imagens por contraste de fase diferencial, elemento de programa de computador para o controle de um aparelho e meio legível por computador |
JP5331940B2 (ja) | 2010-10-27 | 2013-10-30 | 富士フイルム株式会社 | 放射線撮影システム及び放射線画像生成方法 |
EP2633813B1 (en) | 2010-10-29 | 2015-02-25 | FUJIFILM Corporation | Phase contrast radiation imaging device |
RU2013126530A (ru) | 2010-11-08 | 2014-12-20 | Конинклейке Филипс Электроникс Н.В. | Определение изменений выхода рентгеновского источника |
US9748012B2 (en) | 2010-12-21 | 2017-08-29 | Konica Minolta, Inc. | Method for manufacturing metal grating structure, metal grating structure manufactured by the method, and X-ray imaging device using the metal grating structure |
JP2012130586A (ja) | 2010-12-22 | 2012-07-12 | Fujifilm Corp | 放射線画像検出装置、放射線撮影装置、及び放射線撮影システム |
US8744048B2 (en) | 2010-12-28 | 2014-06-03 | General Electric Company | Integrated X-ray source having a multilayer total internal reflection optic device |
US9280056B2 (en) | 2011-01-12 | 2016-03-08 | Eulitha A.G. | Method and system for printing high-resolution periodic patterns |
US9086536B2 (en) | 2011-03-09 | 2015-07-21 | California Institute Of Technology | Talbot imaging devices and systems |
JP5777360B2 (ja) | 2011-03-14 | 2015-09-09 | キヤノン株式会社 | X線撮像装置 |
WO2012144317A1 (ja) | 2011-04-20 | 2012-10-26 | 富士フイルム株式会社 | 放射線撮影装置及び画像処理方法 |
US8831179B2 (en) | 2011-04-21 | 2014-09-09 | Carl Zeiss X-ray Microscopy, Inc. | X-ray source with selective beam repositioning |
US20120307970A1 (en) | 2011-05-31 | 2012-12-06 | General Electric Company | Multispot x-ray phase-contrast imaging system |
WO2013004574A1 (en) | 2011-07-04 | 2013-01-10 | Koninklijke Philips Electronics N.V | Phase contrast imaging apparatus |
US9486175B2 (en) | 2011-07-04 | 2016-11-08 | Koninklijke Philips N.V. | Phase contrast imaging apparatus |
JP6070555B2 (ja) | 2011-07-27 | 2017-02-01 | コニカミノルタ株式会社 | 金属格子の製造方法 |
KR20140129394A (ko) | 2011-07-29 | 2014-11-06 | 더 존스 홉킨스 유니버시티 | 미분 위상 대조 x선 이미징 시스템 및 컴포넌트 |
JP2013050441A (ja) | 2011-08-03 | 2013-03-14 | Canon Inc | 波面測定装置、波面測定方法、及びプログラム並びにx線撮像装置 |
AT12862U1 (de) | 2011-08-05 | 2013-01-15 | Plansee Se | Anode mit linearer haupterstreckungsrichtung |
JP5901180B2 (ja) | 2011-08-31 | 2016-04-06 | キヤノン株式会社 | 透過型x線発生装置及びそれを用いたx線撮影装置 |
WO2013030698A1 (en) | 2011-08-31 | 2013-03-07 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Differential phase contrast imaging with energy sensitive detection |
JP5854707B2 (ja) | 2011-08-31 | 2016-02-09 | キヤノン株式会社 | 透過型x線発生管及び透過型x線発生装置 |
JP5896649B2 (ja) | 2011-08-31 | 2016-03-30 | キヤノン株式会社 | ターゲット構造体及びx線発生装置 |
JP2013063099A (ja) | 2011-09-15 | 2013-04-11 | Canon Inc | X線撮像装置 |
US9001968B2 (en) | 2011-10-27 | 2015-04-07 | Lawrence Livermore National Security, Llc | Method for characterization of a spherically bent crystal for Kα X-ray imaging of laser plasmas using a focusing monochromator geometry |
US20130108015A1 (en) | 2011-10-28 | 2013-05-02 | Csem Centre Suisse D'electronique Et De Microtechnique S.A - Recherche Et Developpement | X-ray interferometer |
US20150117599A1 (en) | 2013-10-31 | 2015-04-30 | Sigray, Inc. | X-ray interferometric imaging system |
CN104066375B (zh) | 2012-01-24 | 2017-08-11 | 皇家飞利浦有限公司 | 多方向相衬x射线成像 |
JP5984403B2 (ja) | 2012-01-31 | 2016-09-06 | キヤノン株式会社 | ターゲット構造体及びそれを備える放射線発生装置 |
JP5911323B2 (ja) | 2012-02-06 | 2016-04-27 | キヤノン株式会社 | ターゲット構造体及びそれを備える放射線発生装置並びに放射線撮影システム |
US20150055743A1 (en) | 2012-02-24 | 2015-02-26 | University Of Massachusetts Medical School | Apparatus and method for x-ray phase contrast imaging |
EP2820666A4 (en) | 2012-02-28 | 2016-02-17 | X Ray Optical Sys Inc | DEVICE FOR ANALYSIS BY X-RAYS WITH MULTIPLE EXTRACTION ENERGY TAPES, PRODUCED BY X-RAY TUBE ANODES MADE OF SEVERAL MATERIALS AND MONOCHROMATIC OPTICS |
CN104540451B (zh) | 2012-03-05 | 2019-03-08 | 罗切斯特大学 | 用于微分相位衬度锥束ct和混合锥束ct的方法和装置 |
US8735844B1 (en) | 2012-03-26 | 2014-05-27 | Massachusetts Institute Of Technology | Compact neutron imaging system using axisymmetric mirrors |
JP5936895B2 (ja) | 2012-03-27 | 2016-06-22 | 株式会社リガク | X線発生装置のターゲット及びその製造方法並びにx線発生装置 |
CN104244828B (zh) | 2012-04-24 | 2017-06-30 | 西门子公司 | X射线设备 |
US9007562B2 (en) | 2012-04-26 | 2015-04-14 | Colorado State University Research Foundation | Extreme ultraviolet/soft X-ray laser nano-scale patterning using the demagnified talbot effect |
JP6224580B2 (ja) | 2012-05-11 | 2017-11-01 | 浜松ホトニクス株式会社 | X線発生装置及びx線発生方法 |
US10068740B2 (en) | 2012-05-14 | 2018-09-04 | The General Hospital Corporation | Distributed, field emission-based X-ray source for phase contrast imaging |
US9761021B2 (en) | 2012-05-14 | 2017-09-12 | Koninklijke Philips N.V. | Dark field computed tomography imaging |
JP2013239317A (ja) | 2012-05-15 | 2013-11-28 | Canon Inc | 放射線発生ターゲット、放射線発生装置および放射線撮影システム |
EP2866665B1 (en) | 2012-06-27 | 2018-10-31 | Koninklijke Philips N.V. | Grating-based differential phase contrast imaging |
US9291578B2 (en) | 2012-08-03 | 2016-03-22 | David L. Adler | X-ray photoemission microscope for integrated devices |
US9129715B2 (en) | 2012-09-05 | 2015-09-08 | SVXR, Inc. | High speed x-ray inspection microscope |
US9520260B2 (en) | 2012-09-14 | 2016-12-13 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University | Photo emitter X-ray source array (PeXSA) |
WO2014054497A1 (ja) | 2012-10-04 | 2014-04-10 | 東京エレクトロン株式会社 | X線発生用ターゲットの製造方法及びx線発生用ターゲット |
AU2012258412A1 (en) | 2012-11-30 | 2014-06-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Combining differential images by inverse Riesz transformation |
US9001967B2 (en) | 2012-12-28 | 2015-04-07 | Carestream Health, Inc. | Spectral grating-based differential phase contrast system for medical radiographic imaging |
US9357975B2 (en) | 2013-12-30 | 2016-06-07 | Carestream Health, Inc. | Large FOV phase contrast imaging based on detuned configuration including acquisition and reconstruction techniques |
US9494534B2 (en) | 2012-12-21 | 2016-11-15 | Carestream Health, Inc. | Material differentiation with phase contrast imaging |
US9008278B2 (en) | 2012-12-28 | 2015-04-14 | General Electric Company | Multilayer X-ray source target with high thermal conductivity |
US9439613B2 (en) | 2013-02-12 | 2016-09-13 | The Johns Hopkins University | System and method for phase-contrast X-ray imaging |
JP2014171799A (ja) | 2013-03-12 | 2014-09-22 | Canon Inc | X線撮像装置及びx線撮像システム |
JP2014178130A (ja) | 2013-03-13 | 2014-09-25 | Canon Inc | X線撮像装置及びx線撮像システム |
EP3005289B1 (en) | 2013-06-07 | 2017-07-12 | Paul Scherrer Institut | Image fusion scheme for differential phase contrast imaging |
JP6207246B2 (ja) | 2013-06-14 | 2017-10-04 | キヤノン株式会社 | 透過型ターゲットおよび該透過型ターゲットを備える放射線発生管、放射線発生装置、及び、放射線撮影装置 |
DE102013214393A1 (de) | 2013-07-23 | 2014-11-20 | Siemens Aktiengesellschaft | Röntgenaufnahmesystem zur differentiellen Phasenkontrast-Bildgebung eines Untersuchungsobjekts mit Phase-Stepping |
JP6188470B2 (ja) | 2013-07-24 | 2017-08-30 | キヤノン株式会社 | 放射線発生装置及びそれを用いた放射線撮影システム |
CN105452852B (zh) | 2013-07-30 | 2019-02-01 | 皇家飞利浦有限公司 | 通过使用相衬ct的单色衰减对比图像生成 |
JPWO2015015851A1 (ja) | 2013-07-30 | 2017-03-02 | コニカミノルタ株式会社 | 医用画像システム及び関節軟骨状態のスコア判定方法 |
JP2015028879A (ja) | 2013-07-30 | 2015-02-12 | 東京エレクトロン株式会社 | X線発生用ターゲット及びx線発生装置 |
WO2015026766A1 (en) | 2013-08-19 | 2015-02-26 | University Of Houston System | Single step differential phase contrast x-ray imaging |
WO2015027029A1 (en) | 2013-08-23 | 2015-02-26 | Carl Zeiss X-ray Microscopy, Inc. | Phase contrast imaging using patterned illumination/detector and phase mask |
JP6232603B2 (ja) | 2013-08-30 | 2017-11-22 | 国立大学法人大阪大学 | X線撮像装置及びx線撮像方法 |
US20150092924A1 (en) | 2013-09-04 | 2015-04-02 | Wenbing Yun | Structured targets for x-ray generation |
WO2015038793A1 (en) | 2013-09-12 | 2015-03-19 | The United States Of America, As Represented By The Secretary, Department Of Health & Human Services | Demodulation of intensity modulation in x-ray imaging |
US9390881B2 (en) | 2013-09-19 | 2016-07-12 | Sigray, Inc. | X-ray sources using linear accumulation |
US20190088381A9 (en) | 2013-09-19 | 2019-03-21 | Sigray, Inc. | X-ray illuminators with high flux and high flux density |
WO2015084466A2 (en) | 2013-09-19 | 2015-06-11 | Sigray, Inc. | X-ray sources using linear accumulation |
US10295485B2 (en) | 2013-12-05 | 2019-05-21 | Sigray, Inc. | X-ray transmission spectrometer system |
US9543109B2 (en) | 2013-09-19 | 2017-01-10 | Sigray, Inc. | X-ray sources using linear accumulation |
US10297359B2 (en) | 2013-09-19 | 2019-05-21 | Sigray, Inc. | X-ray illumination system with multiple target microstructures |
US9448190B2 (en) | 2014-06-06 | 2016-09-20 | Sigray, Inc. | High brightness X-ray absorption spectroscopy system |
US9449781B2 (en) | 2013-12-05 | 2016-09-20 | Sigray, Inc. | X-ray illuminators with high flux and high flux density |
US9570265B1 (en) | 2013-12-05 | 2017-02-14 | Sigray, Inc. | X-ray fluorescence system with high flux and high flux density |
US10269528B2 (en) | 2013-09-19 | 2019-04-23 | Sigray, Inc. | Diverging X-ray sources using linear accumulation |
CN105612584B (zh) | 2013-10-07 | 2018-12-04 | 西门子医疗有限公司 | 相衬x射线成像设备及其相位光栅 |
JP6256941B2 (ja) | 2013-10-17 | 2018-01-10 | 国立大学法人大阪大学 | X線撮像方法及びx線撮像装置 |
JP6436089B2 (ja) | 2013-10-25 | 2018-12-12 | コニカミノルタ株式会社 | 湾曲型格子の製造方法 |
US9874531B2 (en) | 2013-10-31 | 2018-01-23 | Sigray, Inc. | X-ray method for the measurement, characterization, and analysis of periodic structures |
US9719947B2 (en) | 2013-10-31 | 2017-08-01 | Sigray, Inc. | X-ray interferometric imaging system |
WO2015066333A1 (en) | 2013-10-31 | 2015-05-07 | Sigray, Inc. | X-ray interferometric imaging system |
US9823203B2 (en) | 2014-02-28 | 2017-11-21 | Sigray, Inc. | X-ray surface analysis and measurement apparatus |
US9594036B2 (en) | 2014-02-28 | 2017-03-14 | Sigray, Inc. | X-ray surface analysis and measurement apparatus |
WO2015168473A1 (en) | 2014-05-01 | 2015-11-05 | Sigray, Inc. | X-ray interferometric imaging system |
JP6495943B2 (ja) | 2014-05-09 | 2019-04-03 | ザ・ジョンズ・ホプキンス・ユニバーシティー | 位相コントラストx線イメージングのためのシステム及び方法 |
US10401309B2 (en) | 2014-05-15 | 2019-09-03 | Sigray, Inc. | X-ray techniques using structured illumination |
WO2015176023A1 (en) | 2014-05-15 | 2015-11-19 | Sigray, Inc. | X-ray method for measurement, characterization, and analysis of periodic structures |
WO2015187219A1 (en) | 2014-06-06 | 2015-12-10 | Sigray, Inc. | X-ray absorption measurement system |
JP6667215B2 (ja) | 2014-07-24 | 2020-03-18 | キヤノン株式会社 | X線遮蔽格子、構造体、トールボット干渉計、x線遮蔽格子の製造方法 |
CN105374654B (zh) | 2014-08-25 | 2018-11-06 | 同方威视技术股份有限公司 | 电子源、x射线源、使用了该x射线源的设备 |
US10231687B2 (en) | 2014-10-17 | 2019-03-19 | Triple Ring Technologies, Inc. | Method and apparatus for enhanced X-ray computing arrays |
CN105606633B (zh) | 2014-11-04 | 2019-03-19 | 清华大学 | X射线相衬成像系统与成像方法 |
CN105628718A (zh) | 2014-11-04 | 2016-06-01 | 同方威视技术股份有限公司 | 多能谱x射线光栅成像系统与成像方法 |
US10352880B2 (en) | 2015-04-29 | 2019-07-16 | Sigray, Inc. | Method and apparatus for x-ray microscopy |
WO2016187623A1 (en) | 2015-05-15 | 2016-11-24 | Sigray, Inc. | X-ray techniques using structured illumination |
US10151713B2 (en) | 2015-05-21 | 2018-12-11 | Industrial Technology Research Institute | X-ray reflectometry apparatus for samples with a miniscule measurement area and a thickness in nanometers and method thereof |
US10153062B2 (en) | 2015-06-30 | 2018-12-11 | Fraunhofer-Gesellschaft Zur Foerderung Der Angewandten Forschung E.V. | Illumination and imaging device for high-resolution X-ray microscopy with high photon energy |
JP6594075B2 (ja) | 2015-07-22 | 2019-10-23 | キヤノン株式会社 | 画像処理装置、撮像システム、画像処理方法 |
US10295486B2 (en) | 2015-08-18 | 2019-05-21 | Sigray, Inc. | Detector for X-rays with high spatial and high spectral resolution |
JP6657664B2 (ja) * | 2015-08-21 | 2020-03-04 | 住友ゴム工業株式会社 | 化学状態測定方法 |
JP6422123B2 (ja) | 2015-08-27 | 2018-11-14 | 国立大学法人東北大学 | 放射線画像生成装置 |
CN108449982B (zh) | 2015-08-27 | 2020-12-15 | 深圳帧观德芯科技有限公司 | 利用能够分辨光子能量的检测器的x射线成像 |
US11189392B2 (en) | 2015-09-25 | 2021-11-30 | Osaka University | X-ray microscope |
CN109073769B (zh) | 2016-02-19 | 2022-11-25 | 卡里姆·S·卡里姆 | 用于x射线探测器中的改进的量子探测效率的方法及装置 |
WO2017204850A1 (en) | 2016-05-27 | 2017-11-30 | Sigray, Inc. | Diverging x-ray sources using linear accumulation |
CN109564176A (zh) | 2016-06-05 | 2019-04-02 | 斯格瑞公司 | 用于x射线显微镜检查的方法和设备 |
WO2018175570A1 (en) | 2017-03-22 | 2018-09-27 | Sigray, Inc. | Method of performing x-ray spectroscopy and x-ray absorption spectrometer system |
EP3391821A3 (en) | 2017-04-20 | 2018-11-28 | Shimadzu Corporation | X-ray phase contrast imaging system |
US10520454B2 (en) | 2017-05-02 | 2019-12-31 | Fei Company | Innovative X-ray source for use in tomographic imaging |
US10634628B2 (en) | 2017-06-05 | 2020-04-28 | Bruker Technologies Ltd. | X-ray fluorescence apparatus for contamination monitoring |
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