JPH0631887B2 - Ｘ線ミラー及びその製造方法 - Google Patents

Ｘ線ミラー及びその製造方法

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JPH0631887B2 JP63104096A JP10409688A JPH0631887B2 JP H0631887 B2 JPH0631887 B2 JP H0631887B2 JP 63104096 A JP63104096 A JP 63104096A JP 10409688 A JP10409688 A JP 10409688A JP H0631887 B2 JPH0631887 B2 JP H0631887B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 （産業上の利用分野） 本発明は、例えばＸ線顕微鏡などに用いられるＸ線ミラ
ー及びその製造方法に関する。
（従来の技術） Ｘ線は可視光に比べ波長が短く、電子線に比べ透過力が
大きいという特徴を持つとともに、元素固有の吸収端や
螢光Ｘ線を利用した特定元素の識別も行え、物体の原子
レベルでの情報を得る重要な手段となっている。ところ
が、Ｘ線領域では、物質の屈折率が１に極めて近く、可
視域のような屈折型のレンズや直入射反射鏡の製作が困
難である。そこで、現在、実用化されつつあるＸ線顕微
鏡は、Ｘ線が鏡面すれすれに入射すると全反射すること
を利用している。このときの鏡面を形成するのが第６図
に示すようなWelter型光学系である。これは、一つの焦
点Ｆ１を共有する回転双曲面ＳＨと回転楕円面ＳＰとか
らなる。そして、焦点Ｆ２を物点とし、ここを通るＸ線
は上記二つの曲面で反射して焦点Ｆ３に結像する。この
ようの反射面を２回使うのは光軸から離れた物点の像の
ゆがみを少なくするためである。
ところで、このようなＸ線顕微鏡用のＸ線ミラーにおい
ては、第６図に示すように、反射Ｘ線(A)の検出器(B)へ
の結像を用いるため、直射Ｘ線(C)のＸ線検出器(B)への
入射を遮へいするための遮光板(D)，(E)をミラー体(L)
の前後に設けている。そして、これら遮光板(D)，(E)と
円筒状のミラー体(L)との間のスリット(G)から反射Ｘ線
(A)を出入するようにしている。このスリット(G)は、ミ
ラー体(L)と数μｍ乃至数10μｍの精度で同軸であるこ
とを条件とする。
しかしながら従来、遮光板(D)，(E)は、ミラー体(L)に
３本以上のワイヤあるいは梁によりミラー体(L)に同軸
となるよう連結していた。そのため、スリット(G)部分
がワイヤあるいは梁によりしゃ断され、反射Ｘ線(A)の
集光効率低下、これに起因する像のボケ、あるいは、Ｘ
線散乱によるゴーストの発生を惹起していた。のみなら
ず、従来の遮光板(D)，(E)取付方法は、Ｘ線が可視光で
ないことも相俟って同軸調整のためのアライメントがす
こぶる困難となっていた。
（発明が解決しようとする課題） 本発明は、上記事情に着目してなされたもので、Ｘ線顕
微鏡においてアライメントが容易で、しかも集光特性を
害することがなく所望のＸ線像を得ることができるＸ線
ミラー及びその製造方法を提供することを目的とする。
〔発明の構成〕 （課題を解決するための手段と作用） 本願のＸ線ミラーは、例えば梁などのようにＸ線を遮る
ものがない連続したリング状のスリットを介してＸ線を
通過させるようにしているので、Ｘ線に集光能率の低下
やＸ線の散乱を惹起することがなく、ボケ，ゴーストの
ない鮮明なＸ線像を得ることができる。
また、本願のＸ線ミラーの製造方法は、スリットが形成
された遮光板をミラー部に同軸に嵌合する継手を介して
取付けるようにしているので、Ｘ線が透過するスリット
のミラー部に対するアライメントを高精度かつ高能率で
行うことができる。
（実施例） 以下、本発明の一実施例を図面を参照して詳述する。
第１図は、この実施例のＸ線ミラーを示している。この
Ｘ線ミラーは、円筒状をなすミラー部(1)と、このミラ
ー部(1)の両開口端部に嵌着された一対の遮光板(2)，
(3)とからなっている。しかして、上記ミラー部(1)は、
例えば銅(Cu)又はニッケル(Ni)より形成され、内周面に
は例えば金(Au)被膜がコーティングされている。そうし
て、このミラー部(1)は、物点(4)側に位置し内周面が回
転双曲面(5)をなす第１反射部(6)と、この第１反射部
(6)に同軸に連設し内周面が回転楕円面(7)をなす第２反
射部(8)とからなるタンデム鏡となっている。他方、遮
光板(2)，(3)は、円孔(9)を有し厚さ２mmの例えば銅な
どのようにＸ線を遮断する材質からなるリング状の円板
(10)と、この円板(10)の一方の主面側外周部に設けられ
ミラー部(1)に外嵌するいわゆるいんろう状の継手(11)
と、円板(10)の他方の主面側に固着されかつ例えばポリ
エチレン、ベリリウム、リチウム等からなり厚さ１μｍ
程度をなす透光膜(12)と、この透光膜(12)のミラー部
(1)側上に円孔(9)と同軸となるように例えば蒸着法、ス
パッタ法などで被着された遮光膜(13)とからなってい
る。この遮光膜(13)は、金(Au)，白金(pt)などであっ
て、その厚さは５μｍ程度である。そして、透光膜(12)
の直径は、円板(10)の外径に等しく、且つ、遮光膜(13)
の直径は円孔(9)の内径よりも小さく設定されている。
しかして、円板(10)と遮光膜(13)との間には、第２図に
示すように、リング状のスリット(14)が形成され、Ｘ線
は、このスリット(14)を通過し、かつ、遮光膜(13)によ
り通過を遮断させるようになっている。上記遮光膜(13)
と、透光膜(12)とのＸ線透過の割合は、１：1000であ
る。また、継手(11)は、ミラー部(1)に嵌着されたとき
にスリット(14)とミラー部(1)とが同軸となるように設
定されている。
しかして、上記構成のＸ線ミラーは、スリット(14)が、
遮光膜(13)により形成されるので、例えば梁などのよう
なものによりＸ線が遮ぎられることがない。したがっ
て、Ｘ線の集光効率が低下したり、Ｘ線が散乱したりす
ることがなく、ボケのない鮮明なＸ線像を得ることがで
きる。
つぎに、上記構成のＸ線ミラーの製造方法について述べ
る。
まず、継手(11)を円板(10)の外周部に同軸に例えばろう
付けなどで接合する。そして、円板(10)の外径と同一の
直径の透光膜(12)上に、金又は白金などからなる円形遮
光膜(13)を例えば蒸着法、スパッタ法などの物理的蒸着
により厚さ５μｍ程度に透光膜(12)と同心になるように
被着させる。このとき、透光膜(12)の遮光膜(13)を蒸着
させない部位には、あらかじめマスクを被せておく。つ
いで、遮光膜(13)を被着した透光膜(12)を、瞬間接着剤
により円板(10)に接着する。このとき、透光膜(12)は、
円板(10)にあらかじめ接合している継手(11)側とは反対
側の面に同軸となるように接着する。これにより、スリ
ット(14)は、円孔(9)と同軸に設定される。つぎに、こ
のようにして製作した遮光板(2)，(3)をそれらの継手(1
1)，(11)を介してミラー部(1)に嵌着する。この結果、
遮光板(2)，(3)に形成されているスリット(14)，(14)
は、ミラー部(1)に同軸となる。
このように、この実施例のＸ線ミラーの製造方法は、ス
リット(14)を透光膜(12)上に被着された遮光膜(13)によ
り形成し、かつ、このスリット(14)が形成された円板(1
0)をミラー部(1)に継手(11)を介して嵌着するようにし
ているので、Ｘ線が透過するスリット(14)のミラー部
(1)に対するアラインメントを高能率かつ高精度で行う
ことができる。
なお、上記実施例において、例えば第５図に示すよう
に、遮光膜(21)，(21)の中心にミラー部(26)の光軸を通
るピンホール(31)，(31)を設け、レーザ発振器(32)から
の可視レーザ光(33)を一方の遮光膜(21)のピンホール(3
1)に近接して設けられた平面ミラー(34)にてミラー部(2
6)中に導入したのち、他方の遮光膜(21)のピンホール(3
1)から外部へ導出させ、さらに、外部へ導出したレーザ
光(33)をミラー部(26)と光軸を同じくするレンズ(35)に
よりミラー部(26)の焦点(F)に集光させることにより、
ミラー部(26)のＸ線集光点を目視することができるよう
になり、各種調整作業が容易となる。なお、図示せぬ
が、平面ミラー(34)及びレンズ(35)は、遮光膜(21)に対
して一体的に取付ける。とくに、レンズ(35)は、同軸調
整が容易なようにいんろう継手を介して取付ける。
さらに、上記実施例の継手は、ミラー部側が雄部、遮光
板側が雌部となっているが、逆でもよい。
さらに、上記実施例においては、継手を介して円板をミ
ラー部に嵌着するようにしているが、ミラー部の端面に
直接、ねじ，ろう付け，接着剤等により固着するように
してもよい。
さらにまた、本発明は、Ｘ線顕微鏡に限ることなく、Ｘ
線望遠鏡にも適用できる。
〔発明の効果〕
本発明のＸ線ミラーは、Ｘ線がスリットを通るときにほ
とんど遮ぎられることがないので、Ｘ線の集光効率の低
下やＸ線の散乱を惹起することがなく、ボケ，ゴースト
のない鮮明なＸ線像を得ることができる。
また、本発明のＸ線ミラーの製造方法は、Ｘ線が透過す
るスリットのミラー部に対するアラインメントを高精度
かつ高能率で行うことができる。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の一実施例のＸ線ミラーの構成図、第２
図は同じく遮光板を示す図、第３図は本発明の他の実施
例のＸ線ミラーを示す図、第４図は従来技術の説明図で
ある。 (1)…ミラー部，(2)，(3)…遮光板， (11)…継手、(12)…透光膜， (13)…遮光膜。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】円筒状をなし内周面にＷｏｌｔｅｒ型の反
    射鏡面が形成されているミラー部と、このミラー部の少
    なくとも一端部に取付けられ上記反射鏡面にて入射及び
    反射するＸ線のみを通過させるリング状のスリットが形
    成された遮光板とを有するＸ線ミラーにおいて、上記遮
    光板は上記スリットを上記反射鏡面と同軸に位置決めす
    る嵌合部を介して上記ミラー部に嵌着されていることを
    特徴とするＸ線ミラー。
  2. 【請求項２】遮光板は、Ｘ線を透過する透光膜と、この
    透光膜に被着され上記Ｘ線を遮断する遮光膜とからな
    り、上記遮光膜により上記透光膜を介してＸ線を通過さ
    せる上記遮光板と同心のスリットが形成されていること
    を特徴とする特許請求の範囲第１項記載のＸ線ミラー。
  3. 【請求項３】遮光板はミラー部と同軸の通孔を有し、且
    つ、この通孔に近接して上記ミラー部のＸ線集光点に焦
    点を有する光学系が上記遮光板に取付けられ、上記通孔
    を通過した可視光を上記光学系により上記Ｘ線集光点に
    結像させることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
    Ｘ線ミラー。
  4. 【請求項４】円筒状をなし内周面にＷｏｌｔｅｒ型の反
    射鏡面が形成されているミラー部と、このミラー部の少
    なくとも一端部に取付けられ上記反射鏡面にて入射及び
    反射するＸ線のみを通過させ且つ上記反射鏡面と同軸と
    なるリング状のスリットが形成された遮光板とを有する
    Ｘ線ミラーの製造方法において、ミラー部の少なくとも
    一端部に嵌合自在なリング状の継手をＸ線を通過させる
    円孔を有し且つＸ線を遮断する材質からなる円板に同軸
    に接合する工程と、上記円孔よりも大きい直径を有し且
    つＸ線を通過させる材質からなるとともにＸ線を遮断す
    る材質からなり且つ上記円孔よりも小さい直径を有する
    円形の遮光膜が同心に蒸着された透光膜を上記円板に同
    心に接着して得られた上記遮光板を上記継手を介してミ
    ラー部の少なくとも一端部に同軸に取付ける工程とを具
    備することを特徴とするＸ線ミラーの製造方法。
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DE89304121T DE68909996T2 (de) 1988-04-28 1989-04-25 Röntgenstrahlungsspiegelvorrichtung und Verfahren zu ihrer Herstellung.
US07/342,793 US4940319A (en) 1988-04-28 1989-04-25 X-ray mirror apparatus and method of manufacturing the same
EP89304121A EP0339941B1 (en) 1988-04-28 1989-04-25 X-ray mirror apparatus and method of manufacturing the same
KR1019890005629A KR920003955B1 (ko) 1988-04-28 1989-04-28 X-선 미러장치 및 그 제조방법

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Families Citing this family (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01202700A (ja) * 1988-02-09 1989-08-15 Mitsubishi Electric Corp Ｘ線ミラー及びその製造方法
JP3624207B2 (ja) * 1997-08-06 2005-03-02 理学電機工業株式会社 点集束型ｘ線分光装置
FR2788348B1 (fr) * 1999-01-07 2001-03-02 Agence Spatiale Europeenne Procede d'assemblage d'un ensemble optique comprenant des coquilles coaxiales, notamment pour telescope a rayon x
US6389100B1 (en) * 1999-04-09 2002-05-14 Osmic, Inc. X-ray lens system
JP4220170B2 (ja) * 2002-03-22 2009-02-04 浜松ホトニクス株式会社 Ｘ線像拡大装置
US7070327B2 (en) * 2002-05-01 2006-07-04 Siemens Medical Solutions Usa, Inc. Focused radiation visualization
US20030206610A1 (en) * 2002-05-01 2003-11-06 Collins William F. Patient positioning system
ATE423382T1 (de) * 2005-08-22 2009-03-15 Unisantis Fze Vorrichtung und verfahren zum positionieren einer röntgenlinse und röntgengerät mit einer solchen vorrichtung
DE602005017035D1 (de) * 2005-08-22 2009-11-19 Unisantis Fze Vorrichtung zur Abschirmung von Röntgenstrahlen und Röntgengerät mit dieser
JP4900660B2 (ja) * 2006-02-21 2012-03-21 独立行政法人物質・材料研究機構 Ｘ線集束素子及びｘ線照射装置
EP1882984B1 (en) * 2006-07-28 2011-10-12 Media Lario s.r.l. Multi-reflection optical systems and their fabrication
US20150117599A1 (en) 2013-10-31 2015-04-30 Sigray, Inc. X-ray interferometric imaging system
US9570265B1 (en) 2013-12-05 2017-02-14 Sigray, Inc. X-ray fluorescence system with high flux and high flux density
US10269528B2 (en) 2013-09-19 2019-04-23 Sigray, Inc. Diverging X-ray sources using linear accumulation
US9449781B2 (en) 2013-12-05 2016-09-20 Sigray, Inc. X-ray illuminators with high flux and high flux density
US10295485B2 (en) 2013-12-05 2019-05-21 Sigray, Inc. X-ray transmission spectrometer system
US10297359B2 (en) 2013-09-19 2019-05-21 Sigray, Inc. X-ray illumination system with multiple target microstructures
US9448190B2 (en) 2014-06-06 2016-09-20 Sigray, Inc. High brightness X-ray absorption spectroscopy system
USRE48612E1 (en) 2013-10-31 2021-06-29 Sigray, Inc. X-ray interferometric imaging system
US10304580B2 (en) 2013-10-31 2019-05-28 Sigray, Inc. Talbot X-ray microscope
US9823203B2 (en) 2014-02-28 2017-11-21 Sigray, Inc. X-ray surface analysis and measurement apparatus
US9594036B2 (en) 2014-02-28 2017-03-14 Sigray, Inc. X-ray surface analysis and measurement apparatus
US10401309B2 (en) 2014-05-15 2019-09-03 Sigray, Inc. X-ray techniques using structured illumination
US10352880B2 (en) 2015-04-29 2019-07-16 Sigray, Inc. Method and apparatus for x-ray microscopy
US10295486B2 (en) 2015-08-18 2019-05-21 Sigray, Inc. Detector for X-rays with high spatial and high spectral resolution
US10247683B2 (en) 2016-12-03 2019-04-02 Sigray, Inc. Material measurement techniques using multiple X-ray micro-beams
JP6937380B2 (ja) 2017-03-22 2021-09-22 シグレイ、インコーポレイテッド Ｘ線分光を実施するための方法およびｘ線吸収分光システム
US10578566B2 (en) 2018-04-03 2020-03-03 Sigray, Inc. X-ray emission spectrometer system
US10989822B2 (en) 2018-06-04 2021-04-27 Sigray, Inc. Wavelength dispersive x-ray spectrometer
CN112470245A (zh) 2018-07-26 2021-03-09 斯格瑞公司 高亮度x射线反射源
US10656105B2 (en) 2018-08-06 2020-05-19 Sigray, Inc. Talbot-lau x-ray source and interferometric system
DE112019004433T5 (de) 2018-09-04 2021-05-20 Sigray, Inc. System und verfahren für röntgenstrahlfluoreszenz mit filterung
WO2020051221A2 (en) 2018-09-07 2020-03-12 Sigray, Inc. System and method for depth-selectable x-ray analysis
US11217357B2 (en) 2020-02-10 2022-01-04 Sigray, Inc. X-ray mirror optics with multiple hyperboloidal/hyperbolic surface profiles

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4370750A (en) 1981-05-15 1983-01-25 The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration Extended range X-ray telescope

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4063088A (en) * 1974-02-25 1977-12-13 The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration Method of and means for testing a glancing-incidence mirror system of an X-ray telescope
US4415810A (en) * 1979-07-05 1983-11-15 Brown Sr Robert L Device for imaging penetrating radiation
US4742225A (en) * 1986-10-16 1988-05-03 Eastman Kodak Company Elliptical cylinder light collector for photosimulable phosphor imaging apparatus
JPS63123000A (ja) * 1986-11-12 1988-05-26 日本電子株式会社 Ｘ線光学系のアライメント方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4370750A (en) 1981-05-15 1983-01-25 The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration Extended range X-ray telescope

Also Published As

Publication number Publication date
DE68909996D1 (de) 1993-11-25
JPH01276100A (ja) 1989-11-06
EP0339941A3 (en) 1990-01-10
US4940319A (en) 1990-07-10
EP0339941B1 (en) 1993-10-20
DE68909996T2 (de) 1994-03-31
KR890016404A (ko) 1989-11-29
KR920003955B1 (ko) 1992-05-18
EP0339941A2 (en) 1989-11-02

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