KR890016404A - X-선 미러장치 및 그 제조방법 - Google Patents

X-선 미러장치 및 그 제조방법 Download PDF

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미쯔오 스미야
미치오 바바
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Abstract

내용 없음

Description

X-선 미러장치 및 그 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제 1 도는 본 발명의 실시예 1에 따른 X-선 미러 장치의 종단면도. 제 2도는 제 1도의 X-선 미러장치의 차광부재의 정면도. 제 3 도는 본 발명의 실시예 2에 따른 X-선 미러장치의 종단면도.

Claims (10)

  1. 말단부가 열려있고 회전면을 지닌 반사경면을 형성하는 내주면을 가진 실제적인 원통형 미러체와, 반사경면으로 입사하는 X-선 및 반사경 면에 반사되는 X-선만을 통과시키기 위하여 미러체의 적어도 하나의 열린 말단부에 제공되는 차광부재로 구성되고, 상기의 차광부재가 반사된 X-선을 차단하기 위하여 열린 말단부 한쪽에 제공된 차광막과 X-선을 통과시키는 환상의 슬릿으로 구성되고, 상기의 차광부재가 슬릿(30)이 반사경면(16)의 축과 동축으로 위치하도록 미러체에 대해 차광판을 배치하기 위해 미러체의 하나의 열린 말단부에 연결된 연결부재로 구성되는 것을 특징으로 하는 X-선 미러장치.
  2. 제 1 항에 있어서. 미러체(10)의 하나의 열린 말단부가 반사경면(16)과 동축인 외주면을 가지고 맞물림부(18a)(18b)를 형성하며, 연결장치가 슬릿과 동축이고 맞물림부에 연결된 원통형 연결부재(24)를 가지는 것을 특징으로 하는 장치.
  3. 제 1 항에 있어서, 차장부재 (12),(13)가 미러체(10)의 하나의 열린 말단부를 막기 위하여 제공된 X-선 투광막(26)을 포함하고, 차광판이 반사경면의 축(16)과 동축이 되도록 X-선 투광막의 한 표면에 고정된 원형의 제 1 차광구역 및 제 1 차광막 밖에 존재하여 그 사이가 환상의 공간이 되고 그 슬릿(30)이 환상공간을 형성하고 제 1 차광구역과 동축이 되도록 X-선 투광막의 한 표면에 고정된 환상의 제 2 차광구역을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
  4. 제 3 항에 있어서, 연결장치가 슬릿(30)가 동측이 되도록 제 2 차광구역에 고정된 원형의 연결부재(24)를 가지는 것을 특징으로 하는 장치.
  5. 제 2 항에 있어서, 슬릿(30)이 차광판(28)에 형성된 여러개의 아아크형 세그먼트(30a-3Oc)를 가지고, 아아크형 세그먼트가 반사경면(16)의 축과 동심인원을 따라서 형성되는 것을 특징으로 하는 장치.
  6. 제 5 항에 있어서, 연결장치가 슬릿(30)과 동축이 되도록 차광판(28)에 고정된 원통형의 연결부재(24)를 가지는 것을 특징으로 하는 장치.
  7. 제 1 항에 있어서, 반사경면(16)이 미러체(10) 바깥에 위치하는 X-선 촛점 스폿(spot)을 가지고, 나아가 반사경면의 축에 X-선 촛점 스픗을 눈으로 관찰하는 장치, 즉 반사경면에 동축인 차광판(28)에 형성된 통공(36)을 함유하는 관측장치, 가시광을 방사하기 위하여 미러체 밖에 제공되는 광방사장치, 광방사장치로부터의 방사된 가시광을 통공 및 미러체 내부를 통하여 X-선 스폿으로 향하게 하고 가시광을 X-선 촛점 스폿에 투영시키는 광학 시스템(40,44)를 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
  8. 제 1 항에 있어서, 반사경면(16)이 미러체(10)의 하나의 열린 말단부에 존재하는 제 1 반사경면(16a)과, 제 1 반사경면과 연결되어 미러체의 다른 한쪽 말단부에 존재하는 제 2 반사경면(16b)을 가지는 것을 특징으로 하는 장치.
  9. X-선 미러의 하나의 열린 말단부를 막을 수 있는 충분한 크기의 X-선 투광막(26)에 물리적 증착에 의해 X-선을 차단하는 원형의 제 1 차광구역을 형성하고 , X-선을 차단하는 환상의 제 2 차광구역을 제 1 차 광구역과 동축으로 제 1 차광구역 밖에 그 사이가 환상 공간으로 되도록 X-선 투광막에 고정하여 제1 및 제 2 차광막 사이에 X-선을 통과시키는 환상슬릿(30)을 형성하고 ; X-선 미러체의 하나의 열린 말단부에 연결될 수 있는, 원통형의 연결부재(24)를 환상의 슬릿과 동축의 관계인 제 2 차광구역에 고정하는 ; 단계로 구성되는 것을 특징으로 하는 반사경면으로 입사하는 X-선 및 반사경 면에 반사되는 X-선만을 통과시키는 회전면을 지닌 반사경면을 형성하는 내주면을 가진 실제적인 원통형이 X-선 하나의 열린 말단부에 제공되는 차광부재의 제조방법.
  10. X-선 미러의 하나의 열린 말단부를 막을 수 있는 충분한 크기의 X-선을 통과시키지 않는 차광판(28)에서 포토에칭법에 의해 실제적일 환상형의 X-선 투과슬릿(30)을 형성하고 ; 그에 동축인 슬릿 바의 차광판에 X-선 미러의 하나의 열린 말단부에 연결될 수 있는 원통형의 연결부재 (24)를 고정하는 단계로 구성되는 것을 특징으로 하는 반사경 면으로 입사하는 X-선 반사경 면에 반사되는 X-선만을 통과시키는 회전면을 지닌 반사경면을 형성하는 내주면을 가진 실제적인 원통형의 X-선 미러체의 하나의 열린 말단부에 제공되는 차광부재의 제조방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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Families Citing this family (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01202700A (ja) * 1988-02-09 1989-08-15 Mitsubishi Electric Corp X線ミラー及びその製造方法
JP3624207B2 (ja) * 1997-08-06 2005-03-02 理学電機工業株式会社 点集束型x線分光装置
FR2788348B1 (fr) * 1999-01-07 2001-03-02 Agence Spatiale Europeenne Procede d'assemblage d'un ensemble optique comprenant des coquilles coaxiales, notamment pour telescope a rayon x
US6389100B1 (en) * 1999-04-09 2002-05-14 Osmic, Inc. X-ray lens system
JP4220170B2 (ja) * 2002-03-22 2009-02-04 浜松ホトニクス株式会社 X線像拡大装置
US7070327B2 (en) * 2002-05-01 2006-07-04 Siemens Medical Solutions Usa, Inc. Focused radiation visualization
US20030206610A1 (en) * 2002-05-01 2003-11-06 Collins William F. Patient positioning system
DE602005012824D1 (de) * 2005-08-22 2009-04-02 Unisantis Fze Vorrichtung und Verfahren zum Positionieren einer Röntgenlinse und Röntgengerät mit einer solchen Vorrichtung
EP1758130B1 (en) * 2005-08-22 2009-10-07 Unisantis FZE Apparatus for shielding X-rays and X-ray device incorporating said apparatus
JP4900660B2 (ja) 2006-02-21 2012-03-21 独立行政法人物質・材料研究機構 X線集束素子及びx線照射装置
ATE528692T1 (de) * 2006-07-28 2011-10-15 Media Lario Srl Optische multireflexionssysteme und ihre herstellung
US20150117599A1 (en) 2013-10-31 2015-04-30 Sigray, Inc. X-ray interferometric imaging system
US9570265B1 (en) 2013-12-05 2017-02-14 Sigray, Inc. X-ray fluorescence system with high flux and high flux density
US10295485B2 (en) 2013-12-05 2019-05-21 Sigray, Inc. X-ray transmission spectrometer system
US10297359B2 (en) 2013-09-19 2019-05-21 Sigray, Inc. X-ray illumination system with multiple target microstructures
US10269528B2 (en) 2013-09-19 2019-04-23 Sigray, Inc. Diverging X-ray sources using linear accumulation
US9448190B2 (en) 2014-06-06 2016-09-20 Sigray, Inc. High brightness X-ray absorption spectroscopy system
US9449781B2 (en) 2013-12-05 2016-09-20 Sigray, Inc. X-ray illuminators with high flux and high flux density
USRE48612E1 (en) 2013-10-31 2021-06-29 Sigray, Inc. X-ray interferometric imaging system
US10304580B2 (en) 2013-10-31 2019-05-28 Sigray, Inc. Talbot X-ray microscope
US9823203B2 (en) 2014-02-28 2017-11-21 Sigray, Inc. X-ray surface analysis and measurement apparatus
US9594036B2 (en) 2014-02-28 2017-03-14 Sigray, Inc. X-ray surface analysis and measurement apparatus
US10401309B2 (en) 2014-05-15 2019-09-03 Sigray, Inc. X-ray techniques using structured illumination
US10352880B2 (en) 2015-04-29 2019-07-16 Sigray, Inc. Method and apparatus for x-ray microscopy
US10295486B2 (en) 2015-08-18 2019-05-21 Sigray, Inc. Detector for X-rays with high spatial and high spectral resolution
US10247683B2 (en) 2016-12-03 2019-04-02 Sigray, Inc. Material measurement techniques using multiple X-ray micro-beams
WO2018175570A1 (en) 2017-03-22 2018-09-27 Sigray, Inc. Method of performing x-ray spectroscopy and x-ray absorption spectrometer system
US10578566B2 (en) 2018-04-03 2020-03-03 Sigray, Inc. X-ray emission spectrometer system
US10845491B2 (en) 2018-06-04 2020-11-24 Sigray, Inc. Energy-resolving x-ray detection system
GB2591630B (en) 2018-07-26 2023-05-24 Sigray Inc High brightness x-ray reflection source
US10656105B2 (en) 2018-08-06 2020-05-19 Sigray, Inc. Talbot-lau x-ray source and interferometric system
CN112638261A (zh) 2018-09-04 2021-04-09 斯格瑞公司 利用滤波的x射线荧光的系统和方法
US11056308B2 (en) 2018-09-07 2021-07-06 Sigray, Inc. System and method for depth-selectable x-ray analysis
WO2021162947A1 (en) 2020-02-10 2021-08-19 Sigray, Inc. X-ray mirror optics with multiple hyperboloidal / hyperbolic surface profiles

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4063088A (en) * 1974-02-25 1977-12-13 The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration Method of and means for testing a glancing-incidence mirror system of an X-ray telescope
US4415810A (en) * 1979-07-05 1983-11-15 Brown Sr Robert L Device for imaging penetrating radiation
US4370750A (en) * 1981-05-15 1983-01-25 The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration Extended range X-ray telescope
US4742225A (en) * 1986-10-16 1988-05-03 Eastman Kodak Company Elliptical cylinder light collector for photosimulable phosphor imaging apparatus
JPS63123000A (ja) * 1986-11-12 1988-05-26 日本電子株式会社 X線光学系のアライメント方法

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Publication number Publication date
EP0339941A3 (en) 1990-01-10
US4940319A (en) 1990-07-10
DE68909996T2 (de) 1994-03-31
JPH01276100A (ja) 1989-11-06
DE68909996D1 (de) 1993-11-25
JPH0631887B2 (ja) 1994-04-27
EP0339941A2 (en) 1989-11-02
EP0339941B1 (en) 1993-10-20
KR920003955B1 (ko) 1992-05-18

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