JPH0747063A - Ｘ線照射野確認装置 - Google Patents
Ｘ線照射野確認装置Info
- Publication number
- JPH0747063A JPH0747063A JP5194543A JP19454393A JPH0747063A JP H0747063 A JPH0747063 A JP H0747063A JP 5194543 A JP5194543 A JP 5194543A JP 19454393 A JP19454393 A JP 19454393A JP H0747063 A JPH0747063 A JP H0747063A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ray
- irradiation field
- light source
- ray tube
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004846 x-ray emission Methods 0.000 claims abstract description 8
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 claims description 13
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 8
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 6
- 238000002594 fluoroscopy Methods 0.000 abstract description 4
- 238000004904 shortening Methods 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- 238000002601 radiography Methods 0.000 description 3
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 1
- 239000005041 Mylar™ Substances 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Apparatus For Radiation Diagnosis (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 Ｘ線管装置のＸ線放射窓から所定距離離れた
位置に設けられ、Ｘ線管から放射されるＸ線の照射野を
被照射体上に可視光にて現出させるＸ線照射野確認装置
において、Ｘ線管装置と被照射体間の距離の短縮を図
り、低いＸ線条件でも透視，撮影などを可能にする。 【構成】 Ｘ線中心軸１８に直交するように出力光軸２
２が向けられたレーザ光源２１と、このレーザ光源から
のビーム光２４を、Ｘ線管１３が実際にＸ線を照射した
ときの照射野最外周の軌跡２５に沿って反射，進行させ
る位置及び角度をもって前記レーザ光源に対向設置され
たＸ線透過性の反射鏡２３とを設ける。
位置に設けられ、Ｘ線管から放射されるＸ線の照射野を
被照射体上に可視光にて現出させるＸ線照射野確認装置
において、Ｘ線管装置と被照射体間の距離の短縮を図
り、低いＸ線条件でも透視，撮影などを可能にする。 【構成】 Ｘ線中心軸１８に直交するように出力光軸２
２が向けられたレーザ光源２１と、このレーザ光源から
のビーム光２４を、Ｘ線管１３が実際にＸ線を照射した
ときの照射野最外周の軌跡２５に沿って反射，進行させ
る位置及び角度をもって前記レーザ光源に対向設置され
たＸ線透過性の反射鏡２３とを設ける。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、Ｘ線を実際に照射する
ことなく、照射目的物上でのＸ線照射野（照射範囲）を
確認することを可能とするＸ線照射野確認装置に関する
ものである。
ことなく、照射目的物上でのＸ線照射野（照射範囲）を
確認することを可能とするＸ線照射野確認装置に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】例えば医用Ｘ線装置や、各種試料にＸ線
を照射するＸ線照射装置など、Ｘ線装置においては、被
照射体（範囲）にＸ線が間違いなく照射されるか、ある
いは照射してはならない箇所に誤って照射されることが
ないか、無用な被曝がなされないか、などを事前に知る
ことは重要である。
を照射するＸ線照射装置など、Ｘ線装置においては、被
照射体（範囲）にＸ線が間違いなく照射されるか、ある
いは照射してはならない箇所に誤って照射されることが
ないか、無用な被曝がなされないか、などを事前に知る
ことは重要である。
【０００３】そのためには被照射体上での照射野（照射
範囲）を確認すればよいが、これを実際にＸ線を照射す
ることなく行うことが肝要であり、従来、この種のＸ線
照射野確認装置として、図５に示すものがあった。
範囲）を確認すればよいが、これを実際にＸ線を照射す
ることなく行うことが肝要であり、従来、この種のＸ線
照射野確認装置として、図５に示すものがあった。
【０００４】図５において、１１はＸ線管装置で、Ｘ線
管容器１２とその内部の絶縁油中に封入されたＸ線管１
３とで主構成をなす。１４はＸ線管１３の陽極であり、
陽極１４にはＸ線の放射点となる焦点１５がある。ここ
からＸ線は放射されるが、その範囲は、陽極１４の角度
やＸ線管容器１２のＸ線放射窓１６で制限される。１７
はＸ線照射野で、一般には円形である。１８はＸ線放射
窓１６から放射されるＸ線の中心軸である。
管容器１２とその内部の絶縁油中に封入されたＸ線管１
３とで主構成をなす。１４はＸ線管１３の陽極であり、
陽極１４にはＸ線の放射点となる焦点１５がある。ここ
からＸ線は放射されるが、その範囲は、陽極１４の角度
やＸ線管容器１２のＸ線放射窓１６で制限される。１７
はＸ線照射野で、一般には円形である。１８はＸ線放射
窓１６から放射されるＸ線の中心軸である。
【０００５】５１は電球、５２は電球５１からの光の放
射範囲制限用のマスク、５３は反射鏡で、これらにより
従来のＸ線照射野確認装置が構成されている。この場
合、反射鏡５３は、その設置位置において照射野全範囲
を覆う大きさをもつ、Ｘ線が透過しやすい薄いマイラ材
などにアルミ蒸着により反射面５４を作ってなるもの
で、前記Ｘ線管容器１２のＸ線放射窓１６から所定距離
離れた照射野全範囲を覆う位置に、Ｘ線中心軸１８と４
５゜の傾斜角度をもって反射面５４を電球５１側に向け
て設置されている。
射範囲制限用のマスク、５３は反射鏡で、これらにより
従来のＸ線照射野確認装置が構成されている。この場
合、反射鏡５３は、その設置位置において照射野全範囲
を覆う大きさをもつ、Ｘ線が透過しやすい薄いマイラ材
などにアルミ蒸着により反射面５４を作ってなるもの
で、前記Ｘ線管容器１２のＸ線放射窓１６から所定距離
離れた照射野全範囲を覆う位置に、Ｘ線中心軸１８と４
５゜の傾斜角度をもって反射面５４を電球５１側に向け
て設置されている。
【０００６】電球５１は、そのフィラメント５５位置が
Ｘ線管焦点１５から反射鏡５３の背面までの距離と等し
く、かつその光中心軸５６がＸ線中心軸１８に直交する
ように向けて、設置されている。
Ｘ線管焦点１５から反射鏡５３の背面までの距離と等し
く、かつその光中心軸５６がＸ線中心軸１８に直交する
ように向けて、設置されている。
【０００７】マスク５２は、上記のように電球５１及び
反射鏡５３が設置されたときに、Ｘ線照射野と電球５１
からの可視光照射野の大きさが一致するように光の放射
範囲（角度）を制限する。
反射鏡５３が設置されたときに、Ｘ線照射野と電球５１
からの可視光照射野の大きさが一致するように光の放射
範囲（角度）を制限する。
【０００８】これによれば、Ｘ線を実際に照射（投射）
することなく、照射目的物上でのＸ線照射野（照射範
囲）を可視光（可視光照射野）にて確認することができ
る。
することなく、照射目的物上でのＸ線照射野（照射範
囲）を可視光（可視光照射野）にて確認することができ
る。
【０００９】また、図６に示すように、反射鏡５３のＸ
線管１３とは反対側に、照射野絞り板６１を設けた場合
でも、この照射野絞り板６１で絞られたＸ線照射野（照
射範囲）１９を同様に可視光（可視光照射野）にて確認
することができる。
線管１３とは反対側に、照射野絞り板６１を設けた場合
でも、この照射野絞り板６１で絞られたＸ線照射野（照
射範囲）１９を同様に可視光（可視光照射野）にて確認
することができる。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】上記のように従来技術
では、反射鏡５３は、その設置位置において照射野全範
囲を覆う大きさをもち、Ｘ線中心軸１８と４５゜の傾斜
をもって設置されるため、Ｘ線の放射角度が２０゜の場
合を例にとると、焦点１５から２００ｍｍの距離では、
Ｘ線照射野の直径が約１４６ｍｍあるので、この位置に
反射鏡５３を設けようとすると、Ｘ線中心軸１８方向に
更に距離が必要となる。すなわち、図５中のＬが大きく
なる。
では、反射鏡５３は、その設置位置において照射野全範
囲を覆う大きさをもち、Ｘ線中心軸１８と４５゜の傾斜
をもって設置されるため、Ｘ線の放射角度が２０゜の場
合を例にとると、焦点１５から２００ｍｍの距離では、
Ｘ線照射野の直径が約１４６ｍｍあるので、この位置に
反射鏡５３を設けようとすると、Ｘ線中心軸１８方向に
更に距離が必要となる。すなわち、図５中のＬが大きく
なる。
【００１１】このため、焦点１５と被照射体（図示せ
ず）の間距離を短くしたくても限界があり、透視，撮影
などに当たり、より高いＸ線条件を必要とするという問
題点があった。
ず）の間距離を短くしたくても限界があり、透視，撮影
などに当たり、より高いＸ線条件を必要とするという問
題点があった。
【００１２】また、Ｘ線装置においては、一般にフィル
タ（図示せず）を付加して使用することが多いが、この
場合、フィルタを反射鏡５３と被照射体の間に設置する
と、反射鏡５３で反射してきた照射野確認用の光がフィ
ルタで遮断され、あるいは減弱されて、照射野確認を困
難にする。そこで、フィルタを反射鏡５３とＸ線管装置
１１の間に設置していたが、これでは図５中のＬ（Ｘ線
管装置と被照射体間の距離）が益々大きくなる。
タ（図示せず）を付加して使用することが多いが、この
場合、フィルタを反射鏡５３と被照射体の間に設置する
と、反射鏡５３で反射してきた照射野確認用の光がフィ
ルタで遮断され、あるいは減弱されて、照射野確認を困
難にする。そこで、フィルタを反射鏡５３とＸ線管装置
１１の間に設置していたが、これでは図５中のＬ（Ｘ線
管装置と被照射体間の距離）が益々大きくなる。
【００１３】このため、Ｘ線照射野の直径も大きくな
り、したがって反射鏡５３も大きくしなければならず、
焦点１５と被照射体（図示せず）間の距離は益々大きく
なって、更に高いＸ線条件を必要とするという問題点が
あった。
り、したがって反射鏡５３も大きくしなければならず、
焦点１５と被照射体（図示せず）間の距離は益々大きく
なって、更に高いＸ線条件を必要とするという問題点が
あった。
【００１４】本発明の目的は、装置設置のためのＸ線中
心軸方向距離の短縮、すなわち焦点（Ｘ線管装置）と被
照射体間の距離の短縮を図ることができ、透視，撮影な
どにおいて、同一のＸ線照射結果を得るために要するＸ
線条件の低減を図ることができるＸ線照射野確認装置を
提供することにある。
心軸方向距離の短縮、すなわち焦点（Ｘ線管装置）と被
照射体間の距離の短縮を図ることができ、透視，撮影な
どにおいて、同一のＸ線照射結果を得るために要するＸ
線条件の低減を図ることができるＸ線照射野確認装置を
提供することにある。
【００１５】
【課題を解決するための手段】上記目的は、Ｘ線管装置
のＸ線放射窓から所定距離離れた位置に設けられ、Ｘ線
管から放射されるＸ線の照射野（照射範囲）を被照射体
上に可視光にて現出させるＸ線照射野確認装置におい
て、前記Ｘ線の中心軸の側方に配置され、その中心軸
（通常は中心軸に直交すべく）に出力光軸が向けられた
レーザ光源と、このレーザ光源からのビーム光を受け、
前記Ｘ線管が実際にＸ線を照射したときの照射野最外周
の軌跡に沿って前記ビーム光を反射，進行させる位置及
び角度をもって前記レーザ光源に対向設置されたＸ線透
過性の反射鏡とを設けることにより達成される。
のＸ線放射窓から所定距離離れた位置に設けられ、Ｘ線
管から放射されるＸ線の照射野（照射範囲）を被照射体
上に可視光にて現出させるＸ線照射野確認装置におい
て、前記Ｘ線の中心軸の側方に配置され、その中心軸
（通常は中心軸に直交すべく）に出力光軸が向けられた
レーザ光源と、このレーザ光源からのビーム光を受け、
前記Ｘ線管が実際にＸ線を照射したときの照射野最外周
の軌跡に沿って前記ビーム光を反射，進行させる位置及
び角度をもって前記レーザ光源に対向設置されたＸ線透
過性の反射鏡とを設けることにより達成される。
【００１６】
【作用】レーザ光源は、Ｘ線中心軸の側方に配置され、
その中心軸に（通常は中心軸に直交すべく）出力光軸が
向けられ、反射鏡は、レーザ光源に対向設置され、レー
ザ光源からのビーム光を受けて、これを照射野最外周の
軌跡に沿って反射，進行させる。これにより、反射ビー
ム光は照射目的物に投射されるが、その投射ポイントは
照射目的物における照射野最外周ポイントとして、Ｘ線
を実際に照射することなく可視光にて確認できることに
なる。
その中心軸に（通常は中心軸に直交すべく）出力光軸が
向けられ、反射鏡は、レーザ光源に対向設置され、レー
ザ光源からのビーム光を受けて、これを照射野最外周の
軌跡に沿って反射，進行させる。これにより、反射ビー
ム光は照射目的物に投射されるが、その投射ポイントは
照射目的物における照射野最外周ポイントとして、Ｘ線
を実際に照射することなく可視光にて確認できることに
なる。
【００１７】この場合、本発明での反射鏡は、対向設置
されたレーザ光源からのビーム光を照射野最外周の軌跡
に沿って反射させるために必要な最小限の大きさがあれ
ばよい。したがって、装置設置のためのＸ線管装置と被
照射体間の距離の短縮が図れ、同一のＸ線照射結果を得
るために要するＸ線条件の低減が図れることになる。
されたレーザ光源からのビーム光を照射野最外周の軌跡
に沿って反射させるために必要な最小限の大きさがあれ
ばよい。したがって、装置設置のためのＸ線管装置と被
照射体間の距離の短縮が図れ、同一のＸ線照射結果を得
るために要するＸ線条件の低減が図れることになる。
【００１８】
【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を説明
する。図１は、本発明によるＸ線照射野確認装置の第１
実施例を示す図である。この図１において、１１〜１８
は図５と同様である。
する。図１は、本発明によるＸ線照射野確認装置の第１
実施例を示す図である。この図１において、１１〜１８
は図５と同様である。
【００１９】２１はＸ線中心軸１８の側方に配置され、
その中心軸１８に直交すべく出力光軸２２が向けられた
レーザ光発生器である。２３はＸ線透過性の反射鏡で、
レーザ光発生器２１からのビーム光２４を受け、Ｘ線管
１３が実際にＸ線を照射したときの照射野最外周の軌跡
２５に沿って前記ビーム光２４を反射，進行させる位置
及び角度をもって前記レーザ光発生器２１に対向設置さ
れている。ここでは、これらレーザ光発生器２１及び反
射鏡２３で本発明のＸ線照射野確認装置が構成されてい
る。
その中心軸１８に直交すべく出力光軸２２が向けられた
レーザ光発生器である。２３はＸ線透過性の反射鏡で、
レーザ光発生器２１からのビーム光２４を受け、Ｘ線管
１３が実際にＸ線を照射したときの照射野最外周の軌跡
２５に沿って前記ビーム光２４を反射，進行させる位置
及び角度をもって前記レーザ光発生器２１に対向設置さ
れている。ここでは、これらレーザ光発生器２１及び反
射鏡２３で本発明のＸ線照射野確認装置が構成されてい
る。
【００２０】上述本発明装置において、反射ビーム光２
６は照射目的物（図示せず）に投射されるが、その投射
ポイント２７は照射目的物における照射野最外周ポイン
トとして、Ｘ線を実際に照射することなく可視光にて確
認できる。
６は照射目的物（図示せず）に投射されるが、その投射
ポイント２７は照射目的物における照射野最外周ポイン
トとして、Ｘ線を実際に照射することなく可視光にて確
認できる。
【００２１】この場合、反射鏡２３は、対向設置された
レーザ光発生器２１からのビーム光２４を照射野最外周
の軌跡２５に沿って反射させるために必要な最小限の大
きさがあればよく、従来装置のように、その設置位置に
おいて照射野全範囲を覆う大きさをもたせなければなら
ないものではない。
レーザ光発生器２１からのビーム光２４を照射野最外周
の軌跡２５に沿って反射させるために必要な最小限の大
きさがあればよく、従来装置のように、その設置位置に
おいて照射野全範囲を覆う大きさをもたせなければなら
ないものではない。
【００２２】したがって、装置設置のためのＸ線中心軸
１８方向距離の短縮、すなわち焦点１５（Ｘ線管装置１
１）と被照射体間の距離の短縮が図れ、同一のＸ線照射
結果を得るために要するＸ線条件の低減が図れる。
１８方向距離の短縮、すなわち焦点１５（Ｘ線管装置１
１）と被照射体間の距離の短縮が図れ、同一のＸ線照射
結果を得るために要するＸ線条件の低減が図れる。
【００２３】特に、レーザ光発生器２１は、Ｘ線照射野
１７から十分離れた位置に設置可能で、直径０．５〜１
ｍｍ程度の集束された光（ビーム光２４）を放射する。
これに対向する反射鏡２３は、一部が照射野内に設置さ
れることになるが、Ｘ線減弱は殆ど無視できる。また反
射鏡２３は、設置位置において照射野限界が示せるよう
に傾斜をもっているが、ビーム光２４を反射させる性質
上、非常に小さなものでよい。
１７から十分離れた位置に設置可能で、直径０．５〜１
ｍｍ程度の集束された光（ビーム光２４）を放射する。
これに対向する反射鏡２３は、一部が照射野内に設置さ
れることになるが、Ｘ線減弱は殆ど無視できる。また反
射鏡２３は、設置位置において照射野限界が示せるよう
に傾斜をもっているが、ビーム光２４を反射させる性質
上、非常に小さなものでよい。
【００２４】図２は、本発明装置の第２実施例を示す斜
視図で、図中、３１はレーザビーム発生器３を保持する
保持器、３２は反射鏡２３と保持器３１（レーザビーム
発生器３）とを図１の例と同様な配置関係をもったまま
Ｘ線中心軸１８を中心として一体的に回動可能に保持す
る環状板、３３は環状板３２を回動自在に支持する支持
具である。その他は図１と同様である。
視図で、図中、３１はレーザビーム発生器３を保持する
保持器、３２は反射鏡２３と保持器３１（レーザビーム
発生器３）とを図１の例と同様な配置関係をもったまま
Ｘ線中心軸１８を中心として一体的に回動可能に保持す
る環状板、３３は環状板３２を回動自在に支持する支持
具である。その他は図１と同様である。
【００２５】この例によれば、環状板３２を回動させる
ことにより、投射ポイント２７が照射目的物におけるＸ
線照射野１７の周縁に沿って移動することになり、Ｘ線
照射野１７全周（全照射範囲）の確認が可能となる。
ことにより、投射ポイント２７が照射目的物におけるＸ
線照射野１７の周縁に沿って移動することになり、Ｘ線
照射野１７全周（全照射範囲）の確認が可能となる。
【００２６】図３は、本発明装置の第３実施例を示す図
で、図中、４１は照射野絞り板である。またここでは、
照射野絞り板４１が実線で示した位置から破線で示した
位置に移動（４１→４１´に移動）してＸ線照射野が変
更（１７→１７´に変更）されたとき、反射鏡２３の傾
斜角度及び位置を変化させ（２３´は変化後の反射鏡を
示す）、ビーム光２４を変更後の照射野最外周の軌跡２
５´に沿って反射，進行させ、投射ポイント２７を破線
で示した位置に移動（２７→２７´に移動）させる反射
鏡駆動機構（図示せず）が設けられている。その他は図
１と同様である。
で、図中、４１は照射野絞り板である。またここでは、
照射野絞り板４１が実線で示した位置から破線で示した
位置に移動（４１→４１´に移動）してＸ線照射野が変
更（１７→１７´に変更）されたとき、反射鏡２３の傾
斜角度及び位置を変化させ（２３´は変化後の反射鏡を
示す）、ビーム光２４を変更後の照射野最外周の軌跡２
５´に沿って反射，進行させ、投射ポイント２７を破線
で示した位置に移動（２７→２７´に移動）させる反射
鏡駆動機構（図示せず）が設けられている。その他は図
１と同様である。
【００２７】この例によれば、照射野絞り板４１が移動
してＸ線照射野１７が変更されたときでも、それに追随
して、反射鏡２３の傾斜角度及び位置が変化し、ビーム
光２４は変更後の照射野最外周の軌跡２５´に沿って反
射，進行され、投射ポイント２７も移動する。したがっ
て、照射野絞り板４１の移動によりＸ線照射野１７の変
更があっても、何らの手間を要しない。
してＸ線照射野１７が変更されたときでも、それに追随
して、反射鏡２３の傾斜角度及び位置が変化し、ビーム
光２４は変更後の照射野最外周の軌跡２５´に沿って反
射，進行され、投射ポイント２７も移動する。したがっ
て、照射野絞り板４１の移動によりＸ線照射野１７の変
更があっても、何らの手間を要しない。
【００２８】図４は、本発明装置の第４実施例を示す図
で、図中、７１は照射野形状が線状となる帯状ビーム光
７２を放射する光源である。７３は、光源７１からの帯
状ビーム光７２の反射鏡２３による反射ビーム光７４が
照射目的物（図示せず）に投射された位置に現出された
投射ラインである。なお、光源７１としては、電球など
の光源本体をスリットを穿設した遮光体で覆ったもの
で、特に上記スリットからの帯状ビーム光（スリット
光）７２の集束性を十分にもつものが用いられる。
で、図中、７１は照射野形状が線状となる帯状ビーム光
７２を放射する光源である。７３は、光源７１からの帯
状ビーム光７２の反射鏡２３による反射ビーム光７４が
照射目的物（図示せず）に投射された位置に現出された
投射ラインである。なお、光源７１としては、電球など
の光源本体をスリットを穿設した遮光体で覆ったもの
で、特に上記スリットからの帯状ビーム光（スリット
光）７２の集束性を十分にもつものが用いられる。
【００２９】すなわちこの例は、図１におけるレーザ光
発生器２１に代えて、帯状ビーム光７２を放射する光源
７１を用いたもので、これによれば、反射鏡２３も帯状
ビーム光７２に合わせて幅広に形成されることになる
が、焦点１５（Ｘ線管装置１１）と被照射体間の距離の
短縮を妨げるものではない。のみならず、この例では、
投射ポイント２７（点）に代わって投射ライン７３
（線）が映るので、その位置が見やすくなるという利点
がある。
発生器２１に代えて、帯状ビーム光７２を放射する光源
７１を用いたもので、これによれば、反射鏡２３も帯状
ビーム光７２に合わせて幅広に形成されることになる
が、焦点１５（Ｘ線管装置１１）と被照射体間の距離の
短縮を妨げるものではない。のみならず、この例では、
投射ポイント２７（点）に代わって投射ライン７３
（線）が映るので、その位置が見やすくなるという利点
がある。
【００３０】なお、上述第１〜４実施例では、いずれも
反射鏡２３と光源５１，７１対が一対あるものを例示し
たが、これを複数対、所定の回転角をおいて、例えば４
対、９０゜の回転角をおいて、設けてもよく、このよう
に構成すれば、図２の例のように反射鏡２３と光源５１
対を回動させなくとも、Ｘ線照射野（照射範囲）１７の
おおよその輪郭の確認が可能となる。
反射鏡２３と光源５１，７１対が一対あるものを例示し
たが、これを複数対、所定の回転角をおいて、例えば４
対、９０゜の回転角をおいて、設けてもよく、このよう
に構成すれば、図２の例のように反射鏡２３と光源５１
対を回動させなくとも、Ｘ線照射野（照射範囲）１７の
おおよその輪郭の確認が可能となる。
【００３１】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、装
置設置のためのＸ線中心軸方向距離の短縮、すなわちＸ
線管装置と被照射体間の距離の短縮を図ることができ、
透視，撮影などにおいて、同一のＸ線照射結果を得るた
めに要するＸ線条件の低減を図ることができる（Ｘ線条
件が低くても透視，撮影などが可能）という効果があ
る。
置設置のためのＸ線中心軸方向距離の短縮、すなわちＸ
線管装置と被照射体間の距離の短縮を図ることができ、
透視，撮影などにおいて、同一のＸ線照射結果を得るた
めに要するＸ線条件の低減を図ることができる（Ｘ線条
件が低くても透視，撮影などが可能）という効果があ
る。
【図１】本発明装置の第１実施例を示す図である。
【図２】本発明装置の第２実施例を示す斜視図である。
【図３】本発明装置の第３実施例を示す図である。
【図４】本発明装置の第４実施例を示す図である。
【図５】従来装置を示す図である。
【図６】照射野絞り板を備えたＸ線装置に適用された従
来装置を示す図である。
来装置を示す図である。
１１ Ｘ線管装置 １２ Ｘ線管容器 １３ Ｘ線管 １４ 陽極 １５ 焦点 １６ Ｘ線放射窓 １７，１９ Ｘ線照射野 １８ Ｘ線中心軸 ２１ レーザ光発生器 ２２ レーザ光発生器出力光軸 ２３，５３ 反射鏡 ２４ ビーム光 ２５ 照射野最外周の軌跡 ２６ 反射ビーム光 ２７ 投射ポイント ３１ 保持器 ３２ 環状板 ３３ 環状板支持具 ４１，６１ 照射野絞り板 ５１ 電球 ５２ 光放射範囲制限用マスク ５４ 反射面 ５５ フィラメント ５６ 光中心軸 ７１ 光源 ７２ 帯状ビーム光 ７３ 投射ライン
Claims (5)
- 【請求項１】 Ｘ線管装置のＸ線放射窓から所定距離離
れた位置に設けられ、Ｘ線管から放射されるＸ線の照射
野を被照射体上に可視光にて現出させるＸ線照射野確認
装置において、前記Ｘ線の中心軸の側方に配置され、そ
の中心軸に出力光軸が向けられたレーザ光源と、このレ
ーザ光源からのビーム光を受け、前記Ｘ線管が実際にＸ
線を照射したときの照射野最外周の軌跡に沿って前記ビ
ーム光を反射，進行させる位置及び角度をもって前記レ
ーザ光源に対向設置されたＸ線透過性の反射鏡とを具備
することを特徴とするＸ線照射野確認装置。 - 【請求項２】 Ｘ線管装置のＸ線放射窓から所定距離離
れた位置に設けられ、Ｘ線管から放射されるＸ線の照射
野を被照射体上に可視光にて現出させるＸ線照射野確認
装置において、前記Ｘ線の中心軸の側方に配置され、そ
の中心軸に出力光軸が向けられた、照射野形状が線状と
なる帯状ビーム光を放射する光源と、この光源からのビ
ーム光を受け、前記Ｘ線管が実際にＸ線を照射したとき
の照射野最外周の軌跡に沿って前記ビーム光を反射，進
行させる位置及び角度をもって前記光源に対向設置され
たＸ線透過性の反射鏡とを具備することを特徴とするＸ
線照射野確認装置。 - 【請求項３】 反射鏡と光源とが対向したままＸ線中心
軸を中心として一体的に回動可能である請求項１又は２
に記載のＸ線照射野確認装置。 - 【請求項４】 反射鏡の傾斜角度及び位置をＸ線照射野
の変更に伴って変化させ、変更後の照射野最外周の軌跡
に沿ってビーム光を反射，進行させる反射鏡駆動機構を
具備することを特徴とする請求項１又は２に記載のＸ線
照射野確認装置。 - 【請求項５】 反射鏡及び光源対を所定の回転角をおい
て複数対具備することを特徴とする請求項１又は２に記
載のＸ線照射野確認装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5194543A JPH0747063A (ja) | 1993-08-05 | 1993-08-05 | Ｘ線照射野確認装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5194543A JPH0747063A (ja) | 1993-08-05 | 1993-08-05 | Ｘ線照射野確認装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0747063A true JPH0747063A (ja) | 1995-02-21 |
Family
ID=16326287
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5194543A Pending JPH0747063A (ja) | 1993-08-05 | 1993-08-05 | Ｘ線照射野確認装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0747063A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1084678A1 (de) * | 1999-09-14 | 2001-03-21 | Philips Corporate Intellectual Property GmbH | Röntgeneinrichtung mit Indikatormitteln |
| JP2004271316A (ja) * | 2003-03-07 | 2004-09-30 | Hitachi Ltd | Ｘ線ｃｔ装置 |
| JP2006026413A (ja) * | 2004-07-21 | 2006-02-02 | General Electric Co <Ge> | 医用イメージング装置における対象物の位置合わせのためのシステム及び方法 |
| EP2079083A2 (en) * | 2008-01-08 | 2009-07-15 | Poskom Co., ltd. | Compact and lightweight x-ray device |
| JP2011161032A (ja) * | 2010-02-10 | 2011-08-25 | Toshiba Corp | Ｘ線ｃｔ装置 |
| ES2490394A1 (es) * | 2013-03-01 | 2014-09-03 | Fm Control S.L. | Aparato de rayos X adaptado para obtener una imagen de rayos X de un objeto |
| CN112015042A (zh) * | 2020-09-07 | 2020-12-01 | 汕头市超声仪器研究所股份有限公司 | 一种基于十字激光的光野标示装置 |
| KR102660741B1 (ko) * | 2023-09-25 | 2024-04-25 | 에프에스케이 주식회사 | 다기능 x레이 시준기 |
-
1993
- 1993-08-05 JP JP5194543A patent/JPH0747063A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1084678A1 (de) * | 1999-09-14 | 2001-03-21 | Philips Corporate Intellectual Property GmbH | Röntgeneinrichtung mit Indikatormitteln |
| US6435717B1 (en) | 1999-09-14 | 2002-08-20 | Koninklijke Phillips Electronics N.V. | X-ray device |
| JP2004271316A (ja) * | 2003-03-07 | 2004-09-30 | Hitachi Ltd | Ｘ線ｃｔ装置 |
| JP2006026413A (ja) * | 2004-07-21 | 2006-02-02 | General Electric Co <Ge> | 医用イメージング装置における対象物の位置合わせのためのシステム及び方法 |
| EP2079083A2 (en) * | 2008-01-08 | 2009-07-15 | Poskom Co., ltd. | Compact and lightweight x-ray device |
| EP2079083A3 (en) * | 2008-01-08 | 2010-08-18 | Poskom Co., ltd. | Compact and lightweight x-ray device |
| US8011829B2 (en) | 2008-01-08 | 2011-09-06 | Poskom Co., Ltd. | Compact and lightweight X-ray device |
| JP2011161032A (ja) * | 2010-02-10 | 2011-08-25 | Toshiba Corp | Ｘ線ｃｔ装置 |
| ES2490394A1 (es) * | 2013-03-01 | 2014-09-03 | Fm Control S.L. | Aparato de rayos X adaptado para obtener una imagen de rayos X de un objeto |
| CN112015042A (zh) * | 2020-09-07 | 2020-12-01 | 汕头市超声仪器研究所股份有限公司 | 一种基于十字激光的光野标示装置 |
| KR102660741B1 (ko) * | 2023-09-25 | 2024-04-25 | 에프에스케이 주식회사 | 다기능 x레이 시준기 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5222112A (en) | X-ray pattern masking by a reflective reduction projection optical system | |
| US4940319A (en) | X-ray mirror apparatus and method of manufacturing the same | |
| US20040131157A1 (en) | LED based light source with uniform light field & well defined edges | |
| JPH0747063A (ja) | Ｘ線照射野確認装置 | |
| US5136627A (en) | Slit diaphragm system defining x-ray examination zone with visible light and for passing x-ray radiation to the defined zone | |
| JP2008089753A (ja) | 半導体レーザ光源ユニット | |
| EP1403882A2 (en) | Method and apparatus for obtaining parallel x-ray beam and x-ray diffraction apparatus related thereto | |
| JPH07148159A (ja) | Ｘ線可動絞り装置 | |
| JP3278812B2 (ja) | 潜像読み取り装置 | |
| JP2014090849A (ja) | 放射線発生装置、放射線撮影システム及びこれらに用いる照準投光手段 | |
| CN110308168B (zh) | X射线衍射装置 | |
| JP3141660B2 (ja) | Ｘ線照射装置 | |
| JPH0134056B2 (ja) | ||
| JPS6188200A (ja) | Ｘ線照射系 | |
| JPH0511600B2 (ja) | ||
| JP2821691B2 (ja) | プロジェクター用光源装置 | |
| JPH11327047A (ja) | 投影装置 | |
| CN111722264B (zh) | 一种x射线多层膜反射镜的调节方法及应用 | |
| JPH0349213A (ja) | 露光装置 | |
| JPH0670687B2 (ja) | 放射線画像読取装置 | |
| JP3060540B2 (ja) | 微細パターン転写方法およびその装置 | |
| JPS6346974B2 (ja) | ||
| JP2685243B2 (ja) | Ｘ線光学系およびそのアライメント方法 | |
| JPS6219966Y2 (ja) | ||
| JP2868028B2 (ja) | Ｘ線照射装置 |