JPS6188200A - Ｘ線照射系 - Google Patents
Ｘ線照射系Info
- Publication number
- JPS6188200A JPS6188200A JP59209518A JP20951884A JPS6188200A JP S6188200 A JPS6188200 A JP S6188200A JP 59209518 A JP59209518 A JP 59209518A JP 20951884 A JP20951884 A JP 20951884A JP S6188200 A JPS6188200 A JP S6188200A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ray
- rays
- sample
- zone plate
- mirror
- Prior art date
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- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、Ｘ線顕微鏡等における試料へのＸ線の照射系
に関する。
に関する。
［従来技術］
Ｘ線を集光する光学系としては、幾多のものが考えられ
ているが、その中で、回転体反射鏡を用いるものが注目
されている。この光学系は、例えば、回転双曲面体と回
転楕円面体との内側表面をＸ線の全反射面とし、該内側
表面によってＸ線を全反射させて該Ｘ線を集光するよう
に構成している。この集光されたＸ線を試料に照射し、
該試料によって回折されたＸ線を回転楕円面体と回転双
曲面体とより成る集光系によって結像すれば、試料のＸ
線像を得ることができる。
ているが、その中で、回転体反射鏡を用いるものが注目
されている。この光学系は、例えば、回転双曲面体と回
転楕円面体との内側表面をＸ線の全反射面とし、該内側
表面によってＸ線を全反射させて該Ｘ線を集光するよう
に構成している。この集光されたＸ線を試料に照射し、
該試料によって回折されたＸ線を回転楕円面体と回転双
曲面体とより成る集光系によって結像すれば、試料のＸ
線像を得ることができる。
［発明が解決しようとする問題点］
上述した回転体反射鏡を用いた光学系では、回転体反射
鏡によって反射されずに該反射鏡内部を通過するＸ線は
何等の集光作用を受けないため、Ｘ線遮蔽部材によって
試料への照射が阻止される。
鏡によって反射されずに該反射鏡内部を通過するＸ線は
何等の集光作用を受けないため、Ｘ線遮蔽部材によって
試料への照射が阻止される。
すなわち、回転体反射鏡を用いたＸ線集光系は、Ｘ線の
利用効率が極めて悪い。
利用効率が極めて悪い。
本発明は、上述した点に鑑みてなされたもので、大強度
のＸＩ！を試料等のターゲットに集光して照射すること
のできるＸ線照射系を提供することを目的としている。
のＸＩ！を試料等のターゲットに集光して照射すること
のできるＸ線照射系を提供することを目的としている。
［問題点を解決するための手段］
本発明に基づくＸ線照射系は、Ｘ線源と、回転体から成
り、その内側表面がＸ線反射面となっている複数のＸ線
反射鏡から成るＸ線集光系と、該Ｘ線反射鏡内部を該反
射鏡によって反射されることなく通過するＸ線の光路上
に配置されたゾーンプレートとを備え、該Ｘ線集光系に
よるＸ線の集光点に該ゾーンプレート°によって特定波
長のＸ線を集光するように構成したことを特徴としてい
る。
り、その内側表面がＸ線反射面となっている複数のＸ線
反射鏡から成るＸ線集光系と、該Ｘ線反射鏡内部を該反
射鏡によって反射されることなく通過するＸ線の光路上
に配置されたゾーンプレートとを備え、該Ｘ線集光系に
よるＸ線の集光点に該ゾーンプレート°によって特定波
長のＸ線を集光するように構成したことを特徴としてい
る。
［実施例１
以下本発明の一実施例を添付図面に基づき詳述する。
第１図は本発明を実施したＸ線顕微鏡を示しており、１
は、例えば、回転対陰極型のＸ線源であり、該Ｘ線源か
ら発生したＸ線の内、特定方向に進むＸ線は第１のＸ線
反射鏡２によって全反射させられる。該第１の反射鏡に
よって全反射させられたＸ線は、第２のＸ線反射鏡３に
よって全反射させられ、光１１（ＩＩ Ｏに平行なＸ線
とされる。該第１及び第２のＸ線反射鏡２，３は夫々回
転体で、一体加工されており、例えば、該第１の反！）
Ｊ鏡２は回転双曲面鏡、第２の反射鏡３は回転放物面鏡
である。該光軸に平行とされたＸ線は、第３及び第４の
Ｘ線反ｒｊＪ鏡４，５によって試料６上に集光される。
は、例えば、回転対陰極型のＸ線源であり、該Ｘ線源か
ら発生したＸ線の内、特定方向に進むＸ線は第１のＸ線
反射鏡２によって全反射させられる。該第１の反射鏡に
よって全反射させられたＸ線は、第２のＸ線反射鏡３に
よって全反射させられ、光１１（ＩＩ Ｏに平行なＸ線
とされる。該第１及び第２のＸ線反射鏡２，３は夫々回
転体で、一体加工されており、例えば、該第１の反！）
Ｊ鏡２は回転双曲面鏡、第２の反射鏡３は回転放物面鏡
である。該光軸に平行とされたＸ線は、第３及び第４の
Ｘ線反ｒｊＪ鏡４，５によって試料６上に集光される。
尚、本実施例において、該第３の反射鏡４は回転放物面
鏡であり、第４の反射鏡５は回転双曲面鏡である。ここ
で、７は第１と第２の反射鏡２．３によって全反射され
るＸ線以外のＸ線が通過する光路上に配置されたゾーン
プレートであり、該ゾーンプレート７には、リング状の
多数のスリットが設けられている。８は第１〜第４のＸ
線反射鏡より成るＸ線集光系の焦平面に配置された絞り
板であり、該絞り板８には該Ｘ線反射鏡によって全反射
されたＸ線を透過させるリング状のスリットと、該ゾー
ンプレート７によって回折されたＸ線を通過させるスリ
ットが設けられている。該試料６へのＸ線の照射により
、該試料６がら回折されたＸ線は、第５と第６の反ＤＩ
！１１０．１１によって全反射されるが、該第５の反射
ｖ１１０は回転双曲面鏡であり、該第６の反射鏡１１は
回転楕円面鏡であり、この第５と第６の反射鏡は試料６
から回折されたＸ線の結像系を構成している。１２は該
結像系によるＸＦＡ＠の結像位置に配置されたね像管で
あり、該＠像管１２によって検出された信号は、増幅器
１３に供給されて増幅された後、陰極線管の如き表示手
段１４に供給される。尚、１５はＸ線遮蔽板であり、該
遮蔽板１５は図中矢印で示す如く、光軸に沿って移動可
能に配置されている。
鏡であり、第４の反射鏡５は回転双曲面鏡である。ここ
で、７は第１と第２の反射鏡２．３によって全反射され
るＸ線以外のＸ線が通過する光路上に配置されたゾーン
プレートであり、該ゾーンプレート７には、リング状の
多数のスリットが設けられている。８は第１〜第４のＸ
線反射鏡より成るＸ線集光系の焦平面に配置された絞り
板であり、該絞り板８には該Ｘ線反射鏡によって全反射
されたＸ線を透過させるリング状のスリットと、該ゾー
ンプレート７によって回折されたＸ線を通過させるスリ
ットが設けられている。該試料６へのＸ線の照射により
、該試料６がら回折されたＸ線は、第５と第６の反ＤＩ
！１１０．１１によって全反射されるが、該第５の反射
ｖ１１０は回転双曲面鏡であり、該第６の反射鏡１１は
回転楕円面鏡であり、この第５と第６の反射鏡は試料６
から回折されたＸ線の結像系を構成している。１２は該
結像系によるＸＦＡ＠の結像位置に配置されたね像管で
あり、該＠像管１２によって検出された信号は、増幅器
１３に供給されて増幅された後、陰極線管の如き表示手
段１４に供給される。尚、１５はＸ線遮蔽板であり、該
遮蔽板１５は図中矢印で示す如く、光軸に沿って移動可
能に配置されている。
上述した如ぎ構成において、Ｘ線源１から発生したＸ線
の内、特定方向に放射されたＸ線は、第１と第２のＸ線
反射鏡２，３によって全反射さけられて光軸と平行なＸ
線とされ、絞り仮８上にはリング状のＸ線が照射される
ことになる。該リング状のＸＦＩＩは、該絞り板８のス
リットを通過することによって整形され、該整形された
ＸＦ２は試料６上の微小点に第３と第４の反射＆１４．
５によって集光されることになる。更に、該ゾーンプレ
ート７によって回折されたＸ線は該絞り板８の中心部の
スリットを通過し、特定波長のＸ線が該試料６上の微小
点に集光される。該試料６に照射されたＸ線は該試料の
厚さ、あるいは、構成成分の違いに応じて回折される。
の内、特定方向に放射されたＸ線は、第１と第２のＸ線
反射鏡２，３によって全反射さけられて光軸と平行なＸ
線とされ、絞り仮８上にはリング状のＸ線が照射される
ことになる。該リング状のＸＦＩＩは、該絞り板８のス
リットを通過することによって整形され、該整形された
ＸＦ２は試料６上の微小点に第３と第４の反射＆１４．
５によって集光されることになる。更に、該ゾーンプレ
ート７によって回折されたＸ線は該絞り板８の中心部の
スリットを通過し、特定波長のＸ線が該試料６上の微小
点に集光される。該試料６に照射されたＸ線は該試料の
厚さ、あるいは、構成成分の違いに応じて回折される。
該回折光は第５と第６の反射鏡１０．１１によって′＃
を像管１２の蛍光面上に結像され、該撮像管１２によっ
て検出されたＸ線像の信号は、増幅器１３によって増幅
され、表示装置１４に供給されてＸＩｉ像が表示される
。ここで、Ｘ線遮蔽板１５を図中右側に移動させ、Ｘ線
反射鏡２，３に向うＸ線を遮蔽すれば、試料６にはゾー
ンプレート７によって回折された特定波長のＸ線のみが
照射されることになり、表示手段１４上には特定波長の
Ｘ線に基づく試料像が表示されることになる。尚、回転
体反射鏡によって反射集光されるＸ線は白色Ｘ線である
ため、該′１１蔽板１５の移動によって白色Ｘ線による
試料像と１Ｓｉ定波長のＸ線による同一視野の試料像と
を交互に対応づけて観察することが可能となる。
を像管１２の蛍光面上に結像され、該撮像管１２によっ
て検出されたＸ線像の信号は、増幅器１３によって増幅
され、表示装置１４に供給されてＸＩｉ像が表示される
。ここで、Ｘ線遮蔽板１５を図中右側に移動させ、Ｘ線
反射鏡２，３に向うＸ線を遮蔽すれば、試料６にはゾー
ンプレート７によって回折された特定波長のＸ線のみが
照射されることになり、表示手段１４上には特定波長の
Ｘ線に基づく試料像が表示されることになる。尚、回転
体反射鏡によって反射集光されるＸ線は白色Ｘ線である
ため、該′１１蔽板１５の移動によって白色Ｘ線による
試料像と１Ｓｉ定波長のＸ線による同一視野の試料像と
を交互に対応づけて観察することが可能となる。
以上、本発明の一実施例を詳述したが、本発明はこの実
施例に限定されず、幾多の変形が可能である。例えば、
本発明をＸ線顕微鏡に適用した場合について詳述したが
、Ｘ線を試料上に集光し、該試料から発生する蛍光Ｘｔ
ａ等を検出するようにしたＸ線装置にも本発明を適用す
ることができる。
施例に限定されず、幾多の変形が可能である。例えば、
本発明をＸ線顕微鏡に適用した場合について詳述したが
、Ｘ線を試料上に集光し、該試料から発生する蛍光Ｘｔ
ａ等を検出するようにしたＸ線装置にも本発明を適用す
ることができる。
又、ゾーンプレートの位置を光軸上で移動するように構
成すれば、試料の微小点に異なった波長のＸ線を照射す
ることができる。
成すれば、試料の微小点に異なった波長のＸ線を照射す
ることができる。
［効果１
以上詳述した如く、本発明は、回転体皮ＯＡ鏡の中心部
を通過するＸ線をゾーンプレートによって回折させ、特
定波長のＸ線を集光して照射するように構成したため、
回転体反射鏡を用いた集光系で集光されたＸ線と併せて
、強度の大きなＸ線を試料等のターゲットに照射するこ
とができる。
を通過するＸ線をゾーンプレートによって回折させ、特
定波長のＸ線を集光して照射するように構成したため、
回転体反射鏡を用いた集光系で集光されたＸ線と併せて
、強度の大きなＸ線を試料等のターゲットに照射するこ
とができる。
添附図面は本発明の一実施例であるＸ線順（２２鏡を示
す図である。 １・・・Ｘ線源 ２．３，４，５．１０．１１・・・ＸＳ１反射鏡６・・
・試料 ７・・・ゾーンプレート８・・・絞り
板 １２・・・撮像管１３・・・増幅器 １４
・・・表示手段１５・・・ＸＩ！遮蔽板
す図である。 １・・・Ｘ線源 ２．３，４，５．１０．１１・・・ＸＳ１反射鏡６・・
・試料 ７・・・ゾーンプレート８・・・絞り
板 １２・・・撮像管１３・・・増幅器 １４
・・・表示手段１５・・・ＸＩ！遮蔽板
Claims (2)
- （１）Ｘ線源と、回転体から成り、その内側表面がＸ線
反射面となっている複数のＸ線反射鏡から成るＸ線集光
系と、該Ｘ線反射鏡内部を該反射鏡によって反射される
ことなく通過するＸ線の光路上に配置されたゾーンプレ
ートとを備え、該Ｘ線集光系によるＸ線の集光点に該ゾ
ーンプレートによって特定波長のＸ線を集光するように
構成したＸ線照射系。 - （２）該Ｘ線集光系によるＸ線の該集光点への照射を阻
止する手段を設けた特許請求の範囲第１項記載のＸ線装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59209518A JPS6188200A (ja) | 1984-10-05 | 1984-10-05 | Ｘ線照射系 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59209518A JPS6188200A (ja) | 1984-10-05 | 1984-10-05 | Ｘ線照射系 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6188200A true JPS6188200A (ja) | 1986-05-06 |
Family
ID=16574116
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59209518A Pending JPS6188200A (ja) | 1984-10-05 | 1984-10-05 | Ｘ線照射系 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6188200A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01117252A (ja) * | 1987-10-30 | 1989-05-10 | Hamamatsu Photonics Kk | Ｘ線像観察装置 |
| JPH0225737A (ja) * | 1988-07-15 | 1990-01-29 | Hitachi Ltd | 表面分析方法および装置 |
| US4953188A (en) * | 1988-06-09 | 1990-08-28 | Carl-Zeiss-Stiftung | Method and device for producing phase-contrast images |
| US5220169A (en) * | 1989-09-01 | 1993-06-15 | Hitachi, Ltd. | Surface analyzing method and apparatus |
| JPH0815188A (ja) * | 1995-07-14 | 1996-01-19 | Hitachi Ltd | 表面分析装置 |
| JP2007127511A (ja) * | 2005-11-04 | 2007-05-24 | Casio Comput Co Ltd | Ｅｐｍａ装置 |
-
1984
- 1984-10-05 JP JP59209518A patent/JPS6188200A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01117252A (ja) * | 1987-10-30 | 1989-05-10 | Hamamatsu Photonics Kk | Ｘ線像観察装置 |
| JPH054778B2 (ja) * | 1987-10-30 | 1993-01-20 | Hamamatsu Photonics Kk | |
| US4953188A (en) * | 1988-06-09 | 1990-08-28 | Carl-Zeiss-Stiftung | Method and device for producing phase-contrast images |
| JPH0225737A (ja) * | 1988-07-15 | 1990-01-29 | Hitachi Ltd | 表面分析方法および装置 |
| US5220169A (en) * | 1989-09-01 | 1993-06-15 | Hitachi, Ltd. | Surface analyzing method and apparatus |
| JPH0815188A (ja) * | 1995-07-14 | 1996-01-19 | Hitachi Ltd | 表面分析装置 |
| JP2007127511A (ja) * | 2005-11-04 | 2007-05-24 | Casio Comput Co Ltd | Ｅｐｍａ装置 |
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