JP6533006B2 - 強化されたｘ線放射を用いた撮像 - Google Patents

Description

本発明は、強化されたＸ線放射を用いた対象物体の撮像に関し、特に、Ｘ線撮像装置及びＸ線撮像システムに関する。

Ｘ撮像のために、特にＸ線マンモグラフィ又はＸ線トモセンシスのために、Ｘ線源の制動放射が利用される。Ｘ線源の寿命及び信頼性は、多くの場合、Ｘ線源の負荷に依存する。負荷は、生成されるＸ線放射のパワーと、Ｘ線放射の可能な最大パワーとの間の比率に関係する。様々なレベルのＸ線放射パワーが必要とされ得る。例えば、特にＸ線マンモグラフィでは、より大きく厚みのある乳房を有する女性をスキャンする際に、より高いパワーレベルのＸ線源が必要とされる場合がある。しかし、Ｘ線放射源の最大パワーを増大させると、それぞれのＸ線装置又はシステムのコストが増大する。例えば、ＤＥ４１３００３９Ａ１は、コリメートされたＸ線放射を生成するためのＸ線源及びコリメータの配列に関し、このコリメートされたＸ線放射は、コリメータの出口から物体収容空間に誘導される。Ｘ線源によって生成されたＸ線放射のＸ線放射利用は、Ｘ線源の寿命及び信頼性に対して影響を有することが示されている。

特開２００９−２５０９１０は、結晶におけるブラッグ反射による、単色性の高いＸ線の生成のためのシステムを開示している。

このため、コストを適度なレベルに保持しながら、撮像のために利用可能な強化されたＸ線放射、寿命及び信頼性の増大をもたらすことが必要である。

本発明の課題は、独立請求項の主題によって解決される。更なる実施形態は、従属請求項に組み込まれる。本発明の後述する態様は、Ｘ線撮像装置に適用され、Ｘ線撮像システムにも適用されることに留意されたい。

本発明の第１の態様によれば、Ｘ線エネルギーの多色スペクトルを放出するＸ線放射を生成するためのソースと、Ｘ線撮像のために対象物体を配置するための物体収容空間と、Ｘ線コリメータ配列と、Ｘ線ミラー配列とを備えるＸ線撮像装置が提供される。Ｘ線コリメータ配列は、少なくとも、コリメートされたＸ線放射を物体収容空間に与えるためにソースと物体収容空間との間に配置されたプレコリメータを備える。更に、Ｘ線ミラー配列は、ソースとプレコリメータとの間に配置される。Ｘ線ミラー配列は、プレコリメータに向けてＸ線放射の一部分を偏向させるために、Ｘ線放射の一部分のＸ線エネルギーの全体多色スペクトルの全反射をもたらすことによってソースのＸ線放射を誘導し、それによって、物体収容空間の領域において、反射されない主要Ｘ線放射と全反射による副次Ｘ線放射とが結合された形態で強化された放射が与えられるようにするための２つのミラーの組を備える。２つのミラーの組のミラーは、ゼロより大きな広がり角で互いに対向し、それによって、ミラーの組が、入口幅を有するＸ線入口と、入口幅よりも小さい出口幅を有するＸ線出口とを設けるようにする。

プレコリメータは、少なくとも１つの開口を備える光学素子に関し、各開口はスリットとして形成することができる。

ミラーは、Ｘ線ミラーと呼ぶこともできる。

「全反射」という用語は、境界の平面レベルに対して、特定の臨界角よりも小さい角度で媒体の境界に突き当たるＸ線放射波の反射を指す。臨界角は、それ未満で全内部反射が生じる入射角である。

一例では、臨界角Θｃは以下のように定義される。
Θｃ≒１．６＊１０＾（−３）＊ρ＾（０．５）＊λ
ここで、ρ［ｇ／ｃｍ^３］は、媒体の密度に関係し、λ［Å］は、Ｘ線放射波の波長に関係する。

２つのミラーの組は、ミラーの組と呼ぶこともできる。

「物体収容空間」とは、対象物体を配置するように設計された空間に関する。物体収容空間は、物体支持機構、例えば、Ｘ線検査（例えば、スクリーニング）の目的で乳房を保持し（一時的に）固定するための一対のパドルを備えることができる。

広がり角は、ミラーの組の２つのミラーの鋭角に関する。鋭角は、好ましくは、ミラーのうちの一方の内向きの表面線と、ミラーの組の長手方向軸との間の角度の２倍に対応する。

全反射の影響は、Ｘ線の入射角がＸ線のエネルギーについて臨床角よりも小さい限り、絶対的である。エネルギーが大きいほど、全反射の臨床角が小さい。それにもかかわらず、Ｘ線源によって放出される多色スペクトルの全てのエネルギーについて全反射が生じる。このため、ソースの単色性は必要とされることもなければ、特に望ましくもない。

例示的な実施形態によれば、主要Ｘ線放射は、ソースとプレコリメータとの間に主要ビーム円錐（「円錐ビーム」とも呼ばれる）を形成する。ミラーの組のミラーは、いわば主要ビーム円錐の外側に当接し、広がり角は、主要ビーム円錐の円錐角に対応し、円錐角に対する最大のずれは１０％である。円錐角は、円錐の鋭角に関係する。鋭角は、好ましくは、円錐の表面線と円錐長手方向軸との間の角度の２倍に対応する。

「ずれ」とは、主要ビーム円錐の表面線及び主要ビーム円錐の長手方向軸によって画定される平面におけるずれに関係する。

例示的な実施形態によれば、ミラーの組の各ミラーの長さＬＭは、不等式ＬＭ≦ＬＭｍａｘ＝ＬＷ／（Θｃ２−Θｍ）が成り立つように配置され、ＬＷは、ミラーの組の出口の幅であり、Θｃ２は、ミラーの組のミラーにおける臨界反射角であり、Θｍは、ミラーの組のミラーの広がり角である。

ミラーの長さは、好ましくは、ミラーのそれぞれの組の長手方向軸の方向における、又は長手方向軸に対してミラーの内面とこの長手方向軸との間の角度に対応するある角度を有する方向における、ミラーの延びを指す。

例示的な実施形態によれば、ミラーの組の出口は、プレコリメータの開口に当接する。

例示的な実施形態によれば、ミラーの組の各ミラーは、全反射を与えるためのコーティング層を有する基板を備える。コーティング層と基板との間に、反射されずにミラー面を通過し、コーティング層に入る、入射放射からの散乱放射を低減するように構成された境界が設けられる。

本発明の第２の態様によれば、Ｘ線撮像システムが提供される。撮像システムは、上記の例のうちの１つによるＸ線撮像装置と、装置の物体収容空間を通過したＸ線放射を検出するための検出器と、撮像処理ユニットと、撮像出力ユニットとを備える。撮像処理ユニットは、検出器から信号を受信し、これらの信号に基づいて、物体収容空間内に配置可能な対象物体の画像データを計算するように構成され、撮像出力ユニットは、更なる目的のために画像データを提供するように構成される。

本発明の態様によれば、Ｘ線撮像の物体収容空間において与えられるＸ線放射の強化された強度を可能にするＸ線撮像装置が提供される。物体収容空間におけるＸ線放射の強度が高まることにより、撮像品質を改善することが可能になる。物体収容空間には、Ｘ線装置のＸ線源のＸ線放射が加えられるべきである。一方、このＸ線放射の横方向の延びに対する制限が必要とされる。そうでない場合、Ｘ線放射を検出するための検出器は、通常、限られた横方向の延びを有するため、Ｘ線放射が、撮像品質を改善することなく物体収容空間に加えられる場合がある。双方の難点を補うために、Ｘ線撮像装置は、コリメータと、２つのミラーの組とを設ける。コリメータは、開口を備え、ソースと物体収容空間との間に設けられる。コリメータは、コリメートされたＸ線放射を物体収容空間に与える。コリメータとソースとの間にミラーの組が設けられる。ミラーの組のミラーはテーパリングされ、ソースに対して開かれている。コリメータの開口とソースとの間に、Ｘ線ビーム円錐が形成されるのに対し、Ｘ線ビーム円錐のＸ線波（すなわち、Ｘ線放射）は、反射されずに開口を通過する。ミラーの組のミラーの内向きの表面は、互いに対向し、ビーム円錐の外面と境界を接する。この構成は、ゼロではなく、全反射の臨界角よりも小さい入射角でミラーのうちの１つにぶつかるＸ線ビームの反射数を低減する。更に、ミラーの組の各ミラーの長さは制限され、それによって、好ましくは、同じＸ線ビームについて最大で１つ又は２つの全反射が生じる。これによって、ミラーの組の長手方向軸に対する反射されるＸ線放射の反射角度の増大が制限され、これにより、物体収容空間に加えられるＸ線放射の横方向の延びが制限される。ソースによって生成され、ミラーで反射されるＸ線放射の一部分は、副次Ｘ線放射と呼ばれる。ブラッグ反射と対照的に、全反射は、全反射の条件が満たされる全ての角度及びエネルギーについて機能し、主要放射の多くのエネルギー成分が全反射を受け、このため副次Ｘ線放射の一部分となることを保証する。このため、本方法は、多色Ｘ線スペクトルと結合して効果的である。副次Ｘ線放射は、物体収容空間における主要Ｘ線放射を抑制する。主要Ｘ線放射は、ソースによって生成されるＸ線放射によって形成され、反射されずにミラーの組及びコリメータを通過する。したがって、物体収容空間におけるＸ線放射の強度が増大する一方で、物体収容空間におけるＸ線放射の横方向の延びが制限される。したがって、同じソースを用いることによって、撮像のために効果的に利用されていない対象物体に対するＸ線放射の線量を大幅に増大させることなく、撮像品質の増大が達成可能である。同時に、ソースによって与えられるＸ線放射はより効率的に利用されるので、ソースの寿命の低下を防ぐことができる。

本発明のこれらの態様及び他の態様は、以下で説明される実施形態を参照して明らかとなり、解明される。

本発明の例示的な実施形態を、以下の図面を参照して以下に説明する。

Ｘ線撮像装置の第１の例の概略的な配置を示す。 Ｘ線撮像装置の更なる例を示す。 Ｘ線撮像装置の別の例を示す。 Ｘ線撮像装置のまた更なる例を示す。 Ｘ線撮像装置の更なる例を示す。 Ｘ線撮像装置の更なる例を示す。 Ｘ線撮像装置の更なる例を示す。 Ｘ線撮像装置の更なる例を示す。 概略断面図におけるミラーの組のミラーの一部分の例を示す。 ミラーの組のミラーの別の例を示す。 ミラーの組のミラーの更なる例を示す。 Ｘ線撮像システムの例の概略的な配置を示す。

図１は、Ｘ線撮像装置２の例を示す。Ｘ線撮像装置２は、Ｘ線放射を生成するためのソース４と、Ｘ線撮像のための対象物体を配置するための物体収容空間６と、Ｘ線コリメータ配列８と、Ｘ線ミラー配列１０とを備える。Ｘ線コリメータ配列８は、少なくともプレコリメータ１２を備える。プレコリメータ１２は、コリメートされたＸ線放射を物体収容空間６に与えるために、ソース４と物体収容空間６との間に配置される。Ｘ線ミラー配列１０は、ソース４とプレコリメータ１２との間に配置される。Ｘ線ミラー配列１０は、Ｘ線放射の一部分１６をプレコリメータ１２に向かって偏向させるために、Ｘ線放射の一部分１６の全反射をもたらすことによってソース４のＸ線放射を誘導し、それによって、物体収容空間６の領域において、反射されていない主要Ｘ線放射１８と全反射による副次Ｘ線放射２０とが結合された形態で強化された放射が与えられるようにするための２つのミラーの組１４を備える。ミラーの組１４のミラー２２は、０よりも大きい広がり角θ_ｍで互いに対向し、それによって、ミラーの組１４は、入口幅ＵＷを有するＸ線入口２４と、入口幅ＵＷよりも小さい出口幅ＬＷを有する（Ｘ線）出口２６を設ける。

ソース４は、Ｘ線源と呼ぶこともできる。ソース４は、好ましくは、当該技術分野において一般的に知られている種類のものである。ソース４は、好ましくは、特に固定又は回転陽極Ｘ線管のＸ線焦点等の剛体のＸ線源ユニットとして、又は放射性γ放射体として提供される。剛体の取付具又は装着機構は更に示されないことに留意されたい。一例では、ソース４は、Ｘ線エネルギーの多色（白色）スペクトルを放射するＸ線管の焦点である。ソース４は、Ｘ線放射を生成するようになっている。特に、ソース４によって生成されるＸ線放射は、２０ｋｅＶ〜４０ｋｅＶのエネルギーを有する。好ましくは、ソース４は、２０ｋｅＶよりも多くのエネルギーに対応する波長を有するＸ線放射を抑制するか又は減衰させるようになっている波長フィルタを備える。

物体収容空間６は、Ｘ線撮像のために対象物体を配置するようになっている。このため、物体収容空間６は、対象物体を配置するように設計された空間に関する。物体収容空間６は、物体支持機構（図示せず）、例えば、Ｘ線検査目的、特にスクリーニング目的で乳房を保持し一時的に固定するための一対のパッドを備えることができる。

プレコリメータ１２のために、最新技術において一般的に既知の種類のコリメータが提供される。例えば、プレコリメータ８は、Ｘ線放射が通過するようになっている少なくとも１つの孔を有するプレート、特にＸ線吸収プレートを備える。したがって、プレコリメータ１２の開口３６は、孔によって形成することができる。更に好ましくは、開口３６はスリットとして形成される。開口３６又はスリットはそれぞれ、Ｘ線放射が通過するようになっている。プレコリメータ１２、特に、プレコリメータ１２の開口３６又はスリットを通過するＸ線放射は、物体収容空間６に到達する。

プレコリメータ１２に向けられているが、プレコリメータ１２の開口３６を通ってプレコリメータ１２を通過しないソース４のＸ線放射は、代わりに、プレコリメータ１２の表面にぶつかる。プレコリメータ１２のこの表面にぶつかるＸ線放射は、物体収容空間６に到達しない可能性が非常に高い。代わりに、このＸ線放射は、プレコリメータ１２によって吸収される可能性が非常に高い。したがって、このＸ線放射は、通常、物体収容空間６内に配置されている対象物体を撮像するために利用されるのに十分な効果を有していない。

物体収容空間６内に配置されている対象物体を撮像するために使用可能な、ソース４から放出される総Ｘ線放射の利用を改善するために、ソース４とプレコリメータ１２との間にＸ線ミラー配列１０が設けられ、配置される。上述したように、Ｘ線ミラー配列１０は、２つのミラーの少なくとも１つの組１４を備える。２つのミラーの組１４は、ミラーの組１４とも呼ばれる。ミラーの組１４は、ソース４によって生成されたＸ線放射の少なくとも一部分１６をプレコリメータ１２に向けて誘導する目的を有する。ミラーがなければ、Ｘ線放射のこの部分１６はプレコリメータ１２の表面にぶつかり、このため、対象物体を撮像するために利用されるのに十分な効果を有することなくプレコリメータ１２によって吸収されることになる。このため、ミラーの組１４は、Ｘ線放射の一部分１６をプレコリメータ１２、特にプレコリメータ１２の開口３６に向けて偏向し、物体収容空間６の領域内に強化された放射がもたらされるようにするために、ソース４のＸ線放射の一部分１６の全反射を与えることによって、ソース４によって生成されたＸ線放射の一部分１６をプレコリメータ１２に向けて誘導するようになっている。

通常、物体収容空間６内に主要Ｘ線放射１８が与えられる。この主要放射１８は、反射されずにミラー配列１０及びプレコリメータ１２を通過する。更に、副次Ｘ線放射２０が、物体収容空間６内に、具体的には、ミラー配列１０のミラーの組１４のミラー２２のうちの１つで前もって全反射されることによって与えられる。したがって、ミラー２２のうちの１つで全反射されたソース４のＸ線放射の一部分１６が、物体収容空間６内で副次Ｘ線放射２０を形成する。主要Ｘ線放射１８及び副次Ｘ線放射２０は、物体収容空間６内で重ね合わされ、このため、物体収容空間６に提供されるＸ放射の強度が増大する。

結果として、物体収容空間におけるＸ線放射の強度が高まることにより、撮像品質が増大する。代替的に、ソース４の出力は、ソース４の寿命を増大させながら、撮像品質を下げることなく低減することもできる。

更に、物体収容空間におけるＸ線放射の強度が高まることにより、対象物体を撮像するための測定時間を短縮することが可能になる。

ミラーの組１４のミラー２２の各々が、Ｘ線放射を全反射するようになっている。したがって、ミラー２２の各々をＸ線ミラーと呼ぶこともできる。

ミラー２２は、好ましくは、適切な低原子番号のミラー材料、特に、９未満の原子番号のミラー材料を有するプレートに各々が関係している。ミラー２２は、更に好ましくは、ガラスセラミックのプレートに各々が関係している。例として、各ミラー２２は、リチウムアルミノケイ酸ガラスセラミックを備えることができる。その種のミラーは、２．５３の比重を有する場合がある。しかし、これは比重の１つの例にすぎない。一般的に、Ｘ線ミラー２２の広範にわたる取り得る比重が可能である。基本的に、ミラー２２がＸ線放射に対し、ソース４とミラー２２との間の空間に対する境界面において光学的により薄い媒体を有する場合に、ミラー２２で全反射が生じる。Ｘ線放射の状況における屈折率は１よりも小さいため、臨界入射角θ_ｃ内で入射が発生すると仮定して、任意の材料に対するグレージング入射時にＸ線全反射を観測することができる。単純化された臨界入射角は、以下のように計算することができる：θ_ｃ＝１．６×１０^−３×（ρ）^−０．５×λ。ここで、ρはｇ／ｃｍ^３単位の密度であり、λはＸ線波長をÅで表す。臨界入射角θ_ｃは、通常、約数ｍｒａｄ（ミリｒａｄ）である。例えば、全反射の臨界角は、０．５ｍｒａｄ〜２ｍｒａｄとすることができる。より大きな角度で全反射を達成するためには、用いられる材料の密度を増大しなくてはならないか、又は例えば銀若しくは金による金属コーティングを用いることができる。より小さな角度で全反射を達成するには、ミラーのために用いられる材料の密度を減少させなくてはならない。例えば、各ミラーは、好ましくは低原子番号の要素を有する少なくとも１つのプラスチックミラー層を備えることができる。

そのようなミラーをミラーの組１４のために用いるとき、物体収容空間６における放射の改善が可能にされる。全反射という用語は、ソース４から与えられるそれぞれのＸ線放射波がミラー２２の境界に、境界の平面レベルに対して臨界角未満の角度で突き当たるときの、このＸ線放射波の反射を指す。

主要Ｘ線放射１８及び副次Ｘ線放射２０を結合することによって物体収容空間における放射を増大させるために、ミラーの組１４のミラー２２は、０より大きい広がり角θ_ｍで互いに対向している。したがって、ミラーの組１４は、ソース４のＸ線放射を入れるための入口幅ＵＷを有するＸ線入口２４を設ける。Ｘ線放射を物体収容空間６に与えるために、ミラーの組１４は、入口幅ＵＷよりも小さい出口幅ＬＷを有するＸ線出口２６を設ける。ソース４のＸ線放射の一部分が、物体収容空間６において主要Ｘ線放射を形成するために、反射されずにミラーの組１４を通過することができる。ソース４のＸ線放射の別の部分１６は、ミラー２２の境界面の平面レベルに対し、臨界角θ_ｃよりも小さい入射角θ_ｉでミラー２２のうちの少なくとも１つにぶつかり、それによって全反射が生じる。全反射されたＸ線放射は、副次放射２２を形成するために、少なくとも部分的にＸ線出口２６を通ってミラーの組１４を出る。

Ｘ線撮像装置２は、物体収容空間６における主要Ｘ線放射１８及び副次Ｘ線放射２０の結合を提供するようになっているため、Ｘ線放射の全フラックスの増大が物体収容空間６においてもたらされる。この増大が、ミラーの組１４のミラー２２のテーパリングされた配列、及びソース４とプレコリメータ１２との間のその配列によって生じることに留意されたい。結果として、Ｘ線撮像装置２は、物体収容空間６において対象物体の撮像に使用可能なＸ線放射の強度を増大させるためのコスト効率のよい改善点となる。更に、ソース４は、より大きな又はより厚みのある対象物体が撮像のために物体収容空間６内に配列されている場合、十分なフラックスを与えるために、必ずしもソース４の極限パワーで動作しない。代わりに、ミラー配列１０は、十分なＸ線放射フラックスを生成するために同じソース４を用いることを可能にする。したがって、ソース４の寿命が増大し、早期のソース交換のコスト低減がもたらされる。更に、強化されたＸ線放射の強度は、そのような対象物体のスクリーニングに十分とすることができるため、撮像のために物体収容空間６に厚みのある対象物体が設置される場合の撮像品質を高めることができる。Ｘ線撮像装置がマンモグラフィ又はトモセンシスに用いられる場合、女性のスキャン時間を改善し、特に低減することができる。

一例では、プレコリメータ１２は、開口３６を有するプレートを備える。プレコリメータ１２のプレートは、好ましくは、Ｘ線放射を吸収するようになっており、特に、ソース４によって提供されるＸ線放射を吸収するようになっている。プレコリメータ１２を用いた強化されたＸ線放射を物体収容空間６に提供するために、ミラーの組１４のミラー２２は、好ましくはテーパリングされており、ソース４によって生成されるＸ線放射の一部分１６が全反射され、それによってプレコリメータ１２の開口３６に焦点を合わせられるようになっている。一例では、ミラーの組１４の出口２６は、プレコリメータ１２の開口２６に位置合わせされる。したがって、ミラー２２のうちの１つによって全反射されたＸ線放射は、ミラーの組１４の出口２６に反射させることができ、このため、プレコリメータ１２の開口３６に反射される。プレコリメータ１２の開口３６とミラーの組１４の出口２６とが位置合わせされる場合、反射されたＸ線放射は、開口３６を通過し、結果として物体収容空間６に副次Ｘ線放射を与えることができる。更に、ミラーの組１４及びプレコリメータ１２の開口３６は、好ましくは、共通長手方向軸に対して同軸に位置合わせされる。

一例では、プレコリメータ１２の開口３６は、スリットとして配置される。したがって、プレコリメータ１２は、スリットプレコリメータと呼ぶことができる。

一例では、ミラーの組１４のミラー２２は、各々、平面ミラー面を有する平面ミラーとして配置される。特に、表面は研磨される。代替的な例によれば、ミラーの組１４のミラー２２は、好ましくは各々が湾曲ミラー面を有する湾曲ミラー２２として配置される。面は好ましくは研磨される。

更なる例では、ミラーの組１４のミラー２２は、好ましくは、１つの共通ミラーのミラーセグメントである。

一例では、ソース４のソース幅ＳＷは、ミラーの組１４の入口２４の入口幅ＵＷよりも大きい。これにより、ミラーの組１４のミラー２２が、それらの総長ＬＭにおいてソース４のＸ線放射の一部分１６を反射することができるため、物体収容空間６内で与えられるＸ線放射の強化を更に増す。

更なる例では、出口幅ＬＷは、ミラーの組１４の入口幅ＵＷよりも小さい。更なる例によれば、ソース４のソース幅ＳＷは、ミラーの組２４の出口２６の出口幅ＬＷよりも大きい。開口３６の幅ＡＷがミラーの組１４の出口２６の出口幅ＬＷに一致することが更に好ましい。代替的に、プレコリメータ１２の開口３６の幅ＡＷが、出口２６の出口幅ＬＷよりも小さいことが好ましい。更なる例によれば、ソース４のソース幅ＳＷは、プレコリメータ１２の開口３６の開口幅ＡＷよりも大きい。

図２は、ソース４と、物体収容空間６と、物体収容空間６とソース４との間に配置されたプレコリメータ１２と、プレコリメータ１２とソース４との間に配置されたミラーの組１４とを備えるＸ線撮像装置２の例を示す。ミラーの組１４はテーパリングされた２つのミラー２２を備え、ミラーの組１４の入口２４の入口幅ＵＷがミラーの組１４の出口２６の出口幅ＬＷよりも大きい。ミラーの組１４の出口２６は、好ましくは、共通長手方向軸Ａに対してプレコリメータ１２の開口３６と位置合わせされる。したがって、ミラーの組１４及びプレコリメータ１２を反射されずに通過するＸ線放射は、主要Ｘ線放射１８を物体収容空間６に与える。

図２に例示的に示す更なる例によれば、主要Ｘ線放射は、ソース４とプレコリメータ１２との間に主要ビーム円錐２８を形成する。好ましくは、主要ビーム円錐２８の幅は、一端においてソース４の幅ＳＷによって、及び他端においてプレコリメータ１２の開口３６の幅ＡＷによって定義される。好ましくは、ミラーの組１４のミラー２２は、主要ビーム円錐２８の外側に当接する。したがって、広がり角θ_ｍは、好ましくは、主要ビーム円錐２８の円錐角θ_ｋに対応し、円錐角θ_ｋに対する最大のずれは１０％である。円錐角θ_ｋは、主要ビーム円錐２８の鋭角に関係し、これは、主要ビーム円錐２８の表面の線３０と主要ビーム円錐２８の長手方向軸との間の角度φ_ｋの２倍に対応する。好ましくは、円錐長手方向軸は、ミラーの組１４の共通長手方向軸Ａ及びプレコリメータ１２の開口３６に対応する。一例では、ミラーの組１４のミラー２２は、主要ビーム円錐２８の外面に直接当接する。この場合、ミラーの組１４のミラー２２の広がり角θ_ｍは及び主要ビーム円錐２８の円錐角θ_ｋは、互いに厳密に対応する。ミラーの組１４のミラー２２の広がり角θ_ｍが円錐角θ_ｋよりも大きいか又は小さい場合、ミラー２２は、好ましくは、少なくとも部分的に、主要ビーム円錐２８の外面に当接する。円錐角θ_ｋと広がり角θ_ｍとの間のずれは、好ましくは１０％までに制限される。このずれを制限することによって、物体収容空間６において与えられるＸ線放射の横方向の分解能が大きく減少しないようにされる。

一例では、Ｘ線撮像装置２は、検出器（図示せず）を配置するための検出器平面３２を備える。好ましくは、ミラー配列１０及びコリメータ配列８は、ソース４と検出器平面３２との間に配置される。

図３に示す更なる例によれば、Ｘ線撮像装置２は、ミラーの組１４のうちの少なくとも１つを備えるミラー配列１０を備える。ミラーの組１４の各ミラー２２の長さＬＭは、画像品質ＬＭ≦ＬＭ_ｍａｘ＝ＬＷ／（θ_ｃ２−θ_ｍ）が成り立つように配置され、ここで、ＬＷは、ミラーの組１４の出口２６の幅に関係し、θ_ｃ２は、ミラーの組１４のミラー２２における臨床反射角に関係し、θ_ｍは、ミラーの組１４のミラー２２の角度広がりに関連する。ミラーの組１４のミラー２２の各々の長さＬＭを制限することは、ソース４によって与えられるＸ線放射の反射数が、特にミラーの組１４内の副次又は主要反射に制限されるという効果を有する。ミラーの組１４の共通長手方向軸Ａに対するミラーの組１４のミラー２２によって反射されるＸ線放射のＸ線ビームの反射角θ_ｒは、ミラーの組１４のミラー２２における各反射と共に増大することに留意されたい。したがって、副次反射Ｘ線ビーム、又は更に高次の反射Ｘ線ビームは、ミラーの組１４の出口２６、プレコリメータ１２の開口３６及び物体収容空間６を、検出器平面３２に配置可能な検出器によって捕捉されることなく通過することができる。検出器は、通常、Ｘ線放射を検出するための限られた幅を有する。副次又は更に高次の反射Ｘ線ビームは、より大きな反射角θ_ｒを有するため、それぞれのＸ線ビームは、検出器平面３２において検出器を通過し、検出器が配置されていない場合がある位置で検出器平面３２にぶつかる。したがって、これらのＸ線ビームは、画像品質を高めることなく、対象物体、特に患者にＸ線線量を加えることになる。上記の例は、ミラーの組１４のミラー２２の長さＬＭに対する制限を示し、これにより、ミラーの組１４のミラー２２における副次又はより高次の反射Ｘ線放射ビームの大幅な低減がもたらされるため、画像品質のために利用されないＸ線線量は大幅に低減される。

一例では、ミラーの組１４の各ミラー２２の長さＬＭは、０．８×ＬＭ_ｍａｘ〜１．２×ＬＭ_ｍａｘ、特に、０．９×ＬＭ_ｍａｘ〜１．０ＬＭ_ｍａｘである。上記で説明したように、ミラーの組１４の各ミラー２２の長さＬＭの配列は、ミラーの組１４内で、Ｘ線放射ビームの副次又はより高次の反射の非常に良好な低減をもたらす。このため、長さＬＭを長さＬＭ_ｍａｘの近くに制限することによって、上述したような技術的効果が少なくとも同様にもたらされる。

一例では、臨界反射角θ_ｃ２は、θ_ｃ２＝１．６×１０^−３×ρ^{（０．５）}×λとして定義され、ここで、ρ［ｇ／ｃｍ^３］はミラーの密度に関係し、λ［Å］はＸ線放射の波長に関係する。

更なる例では、ソース４のＸ線放射がフィルタリングされ、それによって、主要Ｘ線放射、及びミラーの組１４で反射されるＸ線放射の一部分が、２０ｋｅＶ〜４０ｋｅＶ、特に２５ｋｅＶ〜３５ｋｅＶのエネルギー帯域幅内のエネルギーを有する。２５ｋｅＶのエネルギーにおいて、Ｘ線放射の波長は、約λ＝０．５Åである。ミラーの組１４のミラー２２のための好ましい材料は、好ましくは約ρ＝２．５３ｇ／ｃｍ^３の密度を有するリチウムアルミノケイ酸塩である。特に、上記の図１〜図３のうちの任意のものに示す更なる例によれば、ミラーの組１４の出口２６は、プレコリメータ１２の開口３６に当接する。好ましくは、プレコリメータ１２に面するミラーの組１４の端部は、ミラーの組１４に面するプレコリメータの表面に直接当接する。更に、好ましくは、ミラーの組１４の出口２６は、特にプレコリメータ１２によって形成された開口３６の縁に隣接する。

更なる例では、ミラーの組１４の出口２６の出口幅ＬＷは、プレコリメータ１２の開口３６の開口幅ＡＷに対応する。上記で例示的に指摘したように、ミラーの組１４の出口２６及びプレコリメータ１２の開口３６は、好ましくは共通長手方向軸Ａに位置合わせされる。出口２６及び開口３６が一致する幅、すなわち、それぞれ出口幅ＬＷ及び開口幅ＡＷを有する場合、出口２６を通過するＸ線放射が開口３６も通過する可能性が非常に高い。

図４は、主要Ｘ線放射１８及び副次Ｘ線放射２０に関するＸ線撮像装置２の更なる例を示す。主要Ｘ線放射１８は、ミラー配列１４及びコリメータ配列８を反射されずに通過し、このため、検出器平面３２において主要スポット３４を生成する。主要スポット３４は、好ましくは、検出器平面３２のエリアに関係し、このエリアにおいて、反射されないＸ線放射のうち、その分布に対する少なくとも７５％、特に少なくとも８５％が検出器平面３２に到達する。図４に例示的に示す更なる例によれば、検出器平面３２の副次スポット３８は、ミラーの組１４のミラー２２のうちの１つで以前に全反射された副次Ｘ線放射２０によって生成される。副次スポット３８は、好ましくは、検出器平面３２のエリアに関係し、ここで、反射されるＸ線放射のうち、その分布に対する少なくとも７５％、特に少なくとも８５％が検出器平面３２に到達する。

一例では、副次スポット３８のスポット幅ＫＰは、主要スポット３４のスポット幅ＳＰよりも大きい。好ましくは、それぞれ検出器平面３２の副次スポット３８と主要スポット３４は、互いに重なり合っている。したがって、物体収容空間６内に強化されたＸ線放射がもたらされる。

更なる例では、副次スポット３８のスポット幅ＫＰは、プレコリメータ１２の開口３６の開口幅ＡＷよりも大きいか、又はミラーの組１４の出口２６の出口幅ＬＷと同じである。主要スポット３４のスポット幅ＳＰは、好ましくは、プレコリメータ１２の開口３６の開口幅ＡＷ、又はミラーの組１４の出口２６の出口幅ＬＷよりも大きい。

一例では、副次スポット３８のスポット幅ＫＰは、１．０５×Ｓ〜１．５×Ｓの範囲内にあり、ここで、Ｓは主要スポット３４のスポット幅ＳＰの量に関係する。これにより、主要スポット３４と副次スポット３８との間に大きな重複がもたらされ、これは、物体収容空間６におけるＸ線放射の強度の増大、及びこれによる対象物体の撮像のためのＸ線放射の利用に役立つ。

更なる例によれば、ミラー配列１０、特にミラーの組１４の各ミラー２２の長さＬＭは、副次Ｘ線放射２０の少なくとも５０％が検出器平面３２の主要スポット３４にぶつかるように配置される。

図５に例示的に示すような更なる例によれば、ミラーの組１４は、ミラーの組１４で反射されるソース４のＸ線放射の一部分１６について、ミラーの組１４のミラー２２において最大で１つ又は２つの全反射が生じるように配置される。ミラーの組１４の出口２６の出口幅ＬＷがＸ線撮像装置２のシステム設計によって与えられ、広がり角θ_ｍが主要ビーム円錐２８の円錐角θ_ｋによって与えられると仮定すると、ミラーの組１４のミラー２２の各々の長さＬＭが、ミラーの組１４のミラーの反射数を制限するようになっていることが好ましい。したがって、ミラー２２の長さＬＭは、ミラーの組１４のミラー２２のうちの少なくとも１つで全反射されるＸ線放射の一部分１６について、ミラーの組１４のミラー２２において最大で１つ又は２つの全反射が生じるようになっていることが好ましい。全反射の数を制限することによって、（ミラーの組１４及びプレコリメータ１２の開口３６の共通長手方向軸Ａに対する）副次Ｘ線放射２９の反射角θ_ｒが制限される。副次Ｘ線放射２０の反射角θ_ｒを、特に、そのＸ線ビームに関して制限することによって、副次スポット３８のスポット幅ＫＰが制限され、このため、対象物体の画像品質の増大がもたらされる。

図６に例示的に示すような更なる例によれば、プレコリメータ１２は、少なくとも２つの開口３６を備え、プレコリメータ１２の開口３６ごとに、ミラー配列１０は、２つのミラーの関連付けられた組１４を備える。したがって、プレコリメータ１２の開口３６ごとに、ミラーの組１４が設けられることが好ましく、上記で例示的に説明したように、ミラーの各組１４の２つのミラー２２は、ミラーの組１４のうちの１つとして形成されることが好ましい。ミラーの組１４は、一体成形することができる。特に、ミラーの組は、同じ手段から作製されることが好ましい。更なる例では、ミラーの組のミラーは、固く取り付けられたユニットを形成するために、共に固定される。このユニットは事前に構築することができる。少なくとも２つの開口３６を備えるプレコリメータ１２は、物体収容空間６内の２つの異なるエリア４０、４２内に強化されたＸ線放射を与えることを可能にする。したがって、これによって、主要スポット３４及び副次スポット３８の第１の対を、主要スポット３４及び副次スポット３８の更なる対から離間されるように設けることが可能になる。このため、撮像は、２つの分離されたエリア４０、４２において並列に行うことができる。並列の撮像により、対象物体を撮像するための総時間が短縮される。

例えば、２つのミラーの関連する組１４を有する２つの開口３６が図６に示すように設けられる。更なる例では、２つのミラーのそれぞれの関連する組１４を有する２つより多く、例えば、３つ、４つ、５つ、６つ、７つ、８つ、９つ、若しくは１０個、又は１０個よりも多くの開口３６が設けられる。一例では、１５個、２０個、２５個、３０個若しくはそれよりも多くの、又はそれらの間の数の開口３６が、ミラーの関連付けられた組１４を有して設けられる。

図７に例示的に示すような更なる例によれば、Ｘ線撮像装置２のコリメータ配列１０は、ポストコリメータ４４を備える。好ましくは、物体収容空間６は、プレコリメータ１２とポストコリメータ４４との間に配置される。ミラー配列１０及びコリメータ配列８は、ソース４と検出器平面３２との間に配置されることが更に好ましい。したがって、ミラー配列１０及びコリメータ配列８を通過するＸ線放射は、対象物体を撮像するために利用される。対象物体は、物体収容空間６においてコリメータ配列８のプレコリメータ１２とポストコリメータ４４との間に配置することができる。好ましくは、ポストコリメータ４４は、少なくとも１つの開口４６を備える。少なくとも１つの開口４６は、好ましくは、Ｘ線放射が通過するようになっている。残りのポストコリメータ４４は、好ましくは、Ｘ線放射を吸収するようになっている。ポストコリメータ４４の少なくとも１つの開口４６は、共通長手方向軸に対し、プレコリメータの開口３６と位置合わせすることができる。

更なる例では、ポストコリメータ４４は、少なくとも２つの開口４６を備える。プレコリメータ１２の開口３６ごとに、ポストコリメータ４４は、好ましくは、特にポストコリメータ４４の開口４６のうちの１つによって形成された関連する開口４６を備える。

一例では、プレコリメータ１２の開口３６と、ポストコリメータ４４の開口４６は、共通軸に対し、特に、とりわけ焦点中心においてソース４に交差する光軸に対して位置合わせされ、それによって、プレコリメータ１２の開口３６及びポストコリメータ４４の開口４６はコリメータ配列８の開口対を形成する。コリメータ配列８は、好ましくは、少なくとも２つの開口対を備える。更なる例では、コリメータ配列８の各開口３６、４６はスリットとして形成される。これに対応して、各開口対は、コリメータ配列８のスリット対として形成することができる。

図８に例示的に示すような更なる例によれば、Ｘ線撮像装置２は、検出器配列４８を備える。好ましくは、検出器配列４８は、検出器平面３２に配置される。これに対応して、ミラー配列１０及びコリメータ配列８は、好ましくは、ソース４と検出器配列４８との間に配置される。検出器配列４８は、少なくとも１つの検出器５０を備える。一例では、検出器５０、ポストコリメータ４４の少なくとも１つの開口４６のうちの１つ、プレコリメータ１２の少なくとも１つの開口３６のうちの１つ、及びミラーの組１４の出口２６が、共通の長手方向軸に対して位置合わせされる。位置合わせは、好ましくは、共通軸が特に焦点中心においてソース４に交差する光軸に対して行われる。これによって、良好な撮像品質がもたらされる。

一例では、ポストコリメータ４４の開口４６ごとに、検出器配列４８の関連付けられた検出器５０が設けられる。好ましくは、ポストコリメータ４４の各開口４６の開口幅ＫＷは、関連する検出器５０の検出器幅ＤＷよりも小さい。したがって、各検出器５０は、好ましくは、ポストコリメータ４４の関連する開口４６を通過したＸ線放射を検出するようになっている。

図９に、ミラーの組１４のミラー２２の例が示される。示されるミラー２２は、ミラーの各組１４の２つのミラー２２の各々についての例である。

一例では、ミラーの組１４の各ミラー２２は、全反射を与えるためのコーディング層５４を有する基板５２を備える。コーティング層５４と基板５２との間に境界５６が設けられ、この境界５６は、反射されずにミラー面５８を通過し、コーティング層５４に入る、入射放射からの散乱放射を低減するように構成される。好ましくは、基板５２の密度は、コーティング層５４の密度よりも高い。

一例では、境界５６は平坦であり、特に、可能な限り平坦である。しかし、更なる例では、境界は粗さを有する場合がある。したがって、境界４６にぶつかるＸ線放射の全ての波について入射角θ_ｉが臨界角θ_ｃよりも小さいことを確実にするのは困難である。境界４６では、Ｘ線放射は、その小さな部分でのみ全反射することができる。しかし、非常に低い入射角θ_ｉでは、微視的な粗さはますます平坦に見える。したがって、実際には、微視的粗さは、臨界角θ_ｃに近い入射角θ_ｉの場合のＸ線放射の全反射にのみ影響を与える。

図１０に例示的に示す更なる例によれば、境界５６は、ランダムに粗く構築された表面プロファイルを有する。Ｘ線放射ビームが境界５６で反射される場合、境界５６のランダムに粗く構築された表面プロファイルは、反射されるビーム部分のための反射条件が境界５６において満たされないように、反射されるビーム部分を抑制するための効果的なビーム低減をもたらす。したがって、基板５２又はコーティング層５４から反射されるＸ線放射のビーム部分は、境界５６で吸収される。その結果として、境界５６にぶつかるときの入射放射からの散乱放射の低減がもたらされる。

境界５６のための代替的な構成が図１１に例示的に示される。一例によれば、境界５６は、０．０５ｍｍ（ミリメートル）〜１．５ｍｍの周期的高さｈと、０．５ｍｍ〜５ｍｍの周期ｐとを有する周期的プロファイルを有する。上記でランダムな粗い表面に関して説明したのと類似の効果が周期的プロファイルについて当てはまる。したがって、類似の基準が作成される。

更なる例によれば、コーティング層の厚みｔは、１０ｎｍ（ナノメートル）〜２５ｎｍである。

更なる例によれば、コーティング層は、最大で９の原子番号を有する材料を備える。

更なる例（更には示されない）によれば、コーティング層５４と基板５２との間に、境界５６に不均一な界面領域が設けられる。界面領域は、互いに対向する基板５２の表面とコーティング層５４の表面とによって形成することができる。

代替的な例によれば、界面領域は更なる層によって形成される。これは、基板５２とコーティング層５４との間に設けられ、コーティング層５４を基板５２に接続する。

図１２に例示的に示す更なる例によれば、Ｘ線撮像システム６０が設けられる。撮像システム６０は、上記の例のうちの１つによるＸ線撮像装置２と、装置２の物体収容空間６を通るＸ線放射を検出するための検出器５０と、撮像処理ユニット６２と、撮像出力ユニット６４とを備える。撮像処理ユニット６２は、検出器５０から信号を受信し、この信号に基づいて、物体収容空間６内に配置可能な対象物体７６の画像データを計算するように構成され、撮像出力ユニット６４は、更なる目的のために画像データを提供するように構成される。

好ましくは、検出器５０を撮像処理ユニット６２と接続する信号接続６６が提供される。したがって、撮像処理ユニット６２は、信号線６６を介して検出器５０から信号を得ることができる。検出器５０からの信号は、好ましくは、検出されたＸ線放射に対応する。撮像処理ユニット６２は、検出器５０から受信した信号を処理して、対象物体７６の画像データの形態で画像を計算するように構成することができる。対象物体７６が物体収容空間６内に配置されると、対象物体７６にソース４からのＸ線放射を加えることができる。画像処理ユニット６２によって計算することができる画像データは、出力ユニット６４に提供することができる。画像データを送信するために、画像処理ユニット６２を出力ユニット６４に接続するように更なる信号線６８を提供することができる。出力ユニット６４は、更なる目的のために画像データを提供するように構成される。一例では、出力ユニット６４は、ディスプレイ又はモニターとすることができる。更なる例では、出力ユニット６４は、画像データを更なるユニット（図示せず）に送信するように構成することができる。

一例では、システム６０は、ソース４、ミラー配列１４、コリメータ配列８、及び検出器５０を機械的に接続するための装着機構７０を更に備える。更に、装着機構７０を変位させるように装着機構７０に結合されたアクチュエータ７２と、アクチュエータ７２を制御する制御ユニット７４とを設けることができる。制御ユニット７４は、検出器５０から信号を受信し、検出器５０から受信した信号に基づいて制御信号を計算するように構成することができる。一例では、制御ユニット７４は、更なる信号線７８を介して検出器から信号を受信する。制御ユニット７４からの制御信号は、更なる信号線８０を介してアクチュエータ７２に送信することができる。好ましくは、制御ユニット７４は、ソース４又は関連するコントローラーから更なる信号線（図示せず）を介して信号を受信する。

更なる例では、制御ユニット７４は、アクチュエータ７２に送信される制御信号を介し、受信される信号に基づいてアクチュエータ７２を制御する。特に、制御ユニット７４は、装着機構７０が線形に、又は第１の位置と第２の位置との間の軌跡に沿って動かされるようにアクチュエータ７２を制御する。これらは装着機構７０に機械的に接続されているため、ソース４、ミラー配列１４、コリメータ配列８、及び検出器５０は、それに応じて動かされる。好ましくは、対象物体７６は、ホルダー（図示せず）によって保持される。ホルダーは、装着機構に機械的に接続されておらず、装着機構の動きがホルダーに加わらないようになっている。したがって、アクチュエータ７２が装着機構７０及び装着機構７０に機械的に接続された要素を動かすとき、ホルダーに対して、及びその結果対象物体７６に対して相対的な動きが与えられる。したがって、対象物体７６は、装着機構７０の第１の位置と第２の位置との間のいくつかの異なる位置で撮像することができ、これによりスキャンされる。制御ユニット７４は、開ループ又は閉ループでアクチュエータ７２を制御することができる。閉ループ制御の場合、検出器５０又は装着機構７０の位置を検出するための位置センサ（図示せず）をシステム２のために設けることができる。検出位置は、制御ユニット７４又は画像処理ユニット６２に与えることができる。対象物体７６のスキャンの場合、取得された画像ごとに、検出位置を関連付けることができる。これにより、対象物体７６の疑似連続画像を計算することが可能になる。

一例では、撮像処理ユニット６２又はコントローラーユニット７４は、ソース４によって放出されるＸ線放射を、特にその強度に関して制御するために、ソース４から、又はソース４を制御するための関連するコントローラ（図示せず）から、信号を受信することができる。

本発明は、図面及び上記の説明において詳細に例証及び説明されてきたが、そのような例証及び説明は、例証的又は例示的であるとみなされ、制限的なものとはみなされない。本発明は開示される実施形態に限定されない。特許請求される発明を実施する当業者であれば、図面、開示及び従属請求項の研究により、開示される実施形態に対する他の変形形態を理解し、実施することができる。

特許請求の範囲において、「備える、含む」という語は、他の要素又はステップを除外せず、不定冠詞「ａ」又は「ａｎ」は複数形を除外しない。単一のコリメータ又は別のユニットは、特許請求の範囲において挙げられるいくつかの項目の機能を満たすことができる。単にいくつかの手段が互いに異なる従属項において挙げられていることは、これらの手段の組み合わせを有利に使用することができないことを示すものではない。特許請求の範囲におけるいかなる参照符号も、本発明の範囲を限定するものとして解釈されるべきでない。

Claims (15)

1. ２０ｋｅＶ〜４０ｋｅＶのエネルギー帯域幅内のエネルギーを有するＸ線エネルギーの多色スペクトルを放出するＸ線放射を生成するためのソースと、
   Ｘ線撮像のために対象物体を配置するための物体収容空間と、
   Ｘ線コリメータ配列と、
   Ｘ線ミラー配列と、
   を備えるＸ線撮像装置であって、
   前記Ｘ線コリメータ配列は、少なくとも、コリメートされたＸ線放射を前記物体収容空間に与えるために前記ソースと前記物体収容空間との間に配置されたプレコリメータを備え、
   前記Ｘ線ミラー配列は、前記ソースと前記プレコリメータとの間に配置され、
   前記Ｘ線ミラー配列は、前記プレコリメータに向けて前記Ｘ線放射の一部分を偏向させるために、前記Ｘ線放射の前記一部分のＸ線エネルギーの全体多色スペクトルの全反射をもたらすことによって前記ソースのＸ線放射を誘導し、それによって、前記物体収容空間の領域において、反射されない主要Ｘ線放射と全反射による副次Ｘ線放射とが結合された形態で強化された放射が与えられるようにするための２つのミラーの組を備え、
   前記２つのミラーの組のミラーは、ゼロより大きな広がり角で互いに対向し、それによって、前記ミラーの組が、入口幅を有するＸ線入口と、前記入口幅よりも小さい出口幅を有するＸ線出口とを設けるようにする、Ｘ線撮像装置。
2. 前記主要Ｘ線放射は、前記ソースと前記プレコリメータとの間に主要ビーム円錐を形成し、
   前記ミラーの組の前記ミラーは、前記主要ビーム円錐の外側に当接し、
   前記広がり角は、前記主要ビーム円錐の円錐角に対応し、円錐角に対する最大のずれは１０％である、請求項１に記載のＸ線撮像装置。
3. 前記ミラーの組の前記ミラーの各々の長さＬＭは、不等式
   ＬＭ≦ＬＭｍａｘ＝ＬＷ／（Θｃ２−Θｍ）
   が成り立つように配置され、
   ＬＷは、前記ミラーの組の前記Ｘ線出口の前記出口幅であり、
   Θｃ２は、前記ミラーの組のミラーにおける臨界反射角であり、
   Θｍは、前記ミラーの組の前記ミラーの前記広がり角である、請求項１又は２に記載のＸ線撮像装置。
4. 前記ミラーの組の前記Ｘ線出口は、前記プレコリメータの開口に当接する、請求項１乃至３のいずれか一項に記載のＸ線撮像装置。
5. 前記プレコリメータの開口は、前記ミラーの組によって形成される、請求項１乃至４のいずれか一項に記載のＸ線撮像装置。
6. 前記ミラーの組は、前記ミラーの組で反射される前記ソースの前記Ｘ線放射の前記一部分について、前記ミラーの組の前記ミラーで最大で１つ又は２つの全反射が生じるように配置される、請求項１乃至５のいずれか一項に記載のＸ線撮像装置。
7. 前記プレコリメータは、少なくとも２つの開口を備え、
   前記プレコリメータの開口ごとに、前記Ｘ線ミラー配列は、関連するミラーの組を備える、請求項１乃至６のいずれか一項に記載のＸ線撮像装置。
8. 前記Ｘ線コリメータ配列は、ポストコリメータを更に備え、
   前記物体収容空間は、前記プレコリメータと前記ポストコリメータとの間に配置される、請求項１乃至７のいずれか一項に記載のＸ線撮像装置。
9. 前記ミラーの組の各ミラーは、前記全反射を与えるためのコーティング層を有する基板を備え、
   前記コーティング層と前記基板との間に、反射されずにミラー面を通過し、前記コーティング層に入る、入射放射からの散乱放射を低減する境界が設けられる、請求項１乃至８のいずれか一項に記載のＸ線撮像装置。
10. 前記コーティング層と前記基板との間に、不均一な界面の領域が前記境界として設けられる、請求項９に記載のＸ線撮像装置。
11. 前記界面は、ランダムに粗く構築された表面プロファイルを有する、請求項１０に記載のＸ線撮像装置。
12. 前記界面は、０．０５ｍｍ〜１．５ｍｍの周期的高さ及び０．５ｍｍ〜５ｍｍの周期を有する周期的プロファイルを有する、請求項１０に記載のＸ線撮像装置。
13. 前記コーティング層の厚みは１０ｎｍ〜２５ｎｍである、請求項９乃至１２のいずれか一項に記載のＸ線撮像装置。
14. 請求項１乃至１３のいずれか一項に記載のＸ線撮像装置と、
    前記物体収容空間を通過したＸ線放射を検出するための検出器と、
    撮像処理ユニットと、
    画像データ出力ユニットと、
    を備えるＸ線撮像システムであって、
    前記撮像処理ユニットは、前記検出器から信号を受信し、前記信号に基づいて物体の画像データを計算し、
    前記画像データ出力ユニットは、更なる目的のために前記画像データを提供する、Ｘ線撮像システム。
15. 前記ソース、前記Ｘ線ミラー配列、前記Ｘ線コリメータ配列、及び前記検出器を機械的に接続するための装着機構と、
    前記装着機構を変位させるように前記装着機構に結合されたアクチュエータと、
    前記アクチュエータを制御する制御ユニットと、
    を更に備え、
    前記制御ユニットは、前記検出器から信号を受信し、前記検出器から受信した信号に基づいて、制御信号を計算する、請求項１４に記載のＸ線撮像システム。

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