DE19954520A1 - Vorrichtung zur Führung von Röntgenstrahlen - Google Patents
Vorrichtung zur Führung von RöntgenstrahlenInfo
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- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 31
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract description 28
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 20
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 19
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 9
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 7
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 2
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 7
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 5
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 238000013461 design Methods 0.000 description 3
- 238000004876 x-ray fluorescence Methods 0.000 description 3
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001154 acute effect Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 230000001066 destructive effect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002068 genetic effect Effects 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 210000004072 lung Anatomy 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 description 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000004936 stimulating effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K1/00—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
- G21K1/06—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diffraction, refraction or reflection, e.g. monochromators
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
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- General Engineering & Computer Science (AREA)
- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Radiation-Therapy Devices (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
- X-Ray Techniques (AREA)
Abstract
Vorrichtung zur Führung von Röntgenstrahlen von einer Strahlenquelle zu einem Meßobjekt (16) mit zumindest zwei einen Spalt bildenden Reflexionsflächen (18).
Description
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Führung von Röntgenstrahlen von einer
Strahlenquelle zu einem Meßobjekt.
Zur Messung dünner Schichten oder Mehrfachschichten wird die Röntgenfluores
zenzmethode eingesetzt. Bei einer derartigen Schichtanalyse wird die Röntgen
fluoreszenzstrahlung der einzelnen Elemente einer Probe nachgewiesen und in
Schichtdicke(n) und Zusammensetzung(en) umgerechnet. Die anregende Rönt
genstrahlung gelangt durch ein Kollimatorsystem abgeblendet als feines Strahlen
bündel an die Meßfläche. Von hier aus wird die Röntgenfluoreszenzstrahlung
emittiert. In einem Proportionalzählrohr oder einem anderen Detektor wird die
Strahlung energiedispersiv nachgewiesen. Durch eine derartige Schichtdicken
analyse lassen sich berührungslos und zerstörungsfrei Funktionsflächen mit Ab
messungen bis einer Größe von beispielsweise 100 µm × 100 µm exakt ermitteln.
Zur Schichtdickenanalyse von kleineren Funktionsflächen von beispielsweise we
niger als 100 µm × 100 µm sind Röntgenstrahlungsleiter bekannt, welche ermögli
chen, daß die Röntgenstrahlung auf diese kleinen Funktionsflächen fokussiert
wird. Das sind sogenannte Monokapillare. Diese Monokapillaren sind zylindrisch in
Form eines Glasröhrchens ausgebildet. Durch Totalreflexion an den Wänden des
Glasrohres wird ermöglicht, daß die Röntgenstrahlen mit hinreichender Intensität
zum Meßobjekt geführt werden.
Die als Monokapillaren ausgebildeten Kollimatoren sind darüber hinaus dahinge
hend weiterentwickelt worden, daß die Innenwände der Glasröhre parabolisch
ausgebildet sind, so daß eine Fokussierung der reflektierten Strahlen zum Meß
objekt erfolgen soll. Des weiteren sind sogenannte Polykapillare bekannt. Hierbei
handelt es sich um einen Monolithen, der ein Bündel von mehreren Monokapilla
ren aufweist, wobei diese wiederum derart angeordnet sind, daß die gezielt ge
führten Röntgenstrahlen sich in einem Punkt außerhalb der Austrittsebene des
Monolithen fokussieren.
Diese Kapillare weisen den Nachteil auf, daß diese im Preis hoch sind und
Schichtdickenmeßgeräte mit diesen Kollimatoren wirtschaftlich nicht herstellbar
sind. Des weiteren weisen die oben beschriebenen Kollimatoren den Nachteil auf,
daß diese in ihrem Durchmesser fest ausgebildet sind, so daß eine Einstellung
und Fokussierung der Röntgenstrahlen auf eine unterschiedliche Größe des Meß
objektes nicht ermöglicht ist. Darüber hinaus weisen diese Kollimatoren den
Nachteil auf, daß die Beschaffung äußerst erschwert ist, da die Herstellung dieser
Kollimatoren insbesondere auf Grund deren Komplexität monopolisiert ist.
Der Erfindung liegt deshalb die Aufgabe zugrunde, eine Vorrichtung zur Führung
der Röntgenstrahlen von einer Strahlenquelle zu einem Meßobjekt, insbesondere
für kleine Strukturgrößen mit einer Funktionsfläche unter 100 µm × 100 µm zu
schaffen, welche kostengünstig herstellbar sind, auf die zu messende Meßfläche
einstellbar und eine hinreichende Übermittlung der Strahlungsintensität zum Meß
objekt ermöglicht.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch eine Vorrichtung gemäß dem An
spruch 1 gelöst.
Die erfindungsgemäße Ausgestaltung von zumindest zwei einen Spalt bildenden
Reflexionsflächen weist den Vorteil auf, daß eine einfache Anordnung geschaffen
wurde, welche ermöglicht, daß die Röntgenstrahlen mit hinreichender Intensität
zum Meßobjekt geführt werden, um zu ermöglichen, daß der Detektor eine hinrei
chende Intensität der emittierten Fluoreszenzstrahlung erfassen kann. Die zumin
dest zwei einen Spalt bildenden Reflexionsflächen sind in der Herstellung einfach.
Aufwendige fertigungstechnische Verfahren zur Herstellung der Vorrichtung zur
Führung von Röntgenstrahlen sind im Vergleich zu den aus dem Stand der Tech
nik bekannten Mono- und/oder Polykapillaren nicht gegeben.
Im Gegensatz zum Stand der Technik, bei welchem die Mono- oder Polykapillare
aus vollständig geschlossenen Glasröhrchen gebildet sind, genügt es gemäß dem
Gegenstand der Erfindung, daß die Röntgenstrahlen durch Totalreflexion inner
halb eines durch zumindest zwei Reflexionsflächen gebildeten Spaltes zum Meß
objekt geführt werden. Die seitlich aus dem oder den Spalten austretende Rönt
genstrahlung ist für die Anregung der Fluoreszenzstrahlung unwirksam, aber
durch Totalreflexion der Röntgenstrahlen zwischen den zumindest zwei einen
Spalt bildenden Reflexionsflächen wird eine zumindest hinreichende Intensität auf
das Meßobjekt eingeleitet oder übergeführt.
Nach einer vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung ist vorgesehen, daß der
durch die zumindest zwei Reflexionsflächen gebildete Spalt in der Breite einstell
bar ist. Dadurch ist ermöglicht, daß die Größe der Meßfläche auf dem Meßobjekt
einstellbar ist. Somit kann die Vorrichtung auf unterschiedliche Anforderungen der
Schichtdickenanalyse eingestellt und angepaßt werden.
Nach einer vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung ist vorgesehen, daß zwei
einander gegenüber liegende und parallel zueinander angeordnete Reflexionsflä
chen vorgesehen sind. Dadurch kann eine konstruktiv einfache Ausgestaltung für
eine Röntgenstrahlungsführung gegeben sein. Die Spaltbreite ist zumindest an die
Größe der Meßfläche der Meßobjekte und vorteilhafterweise auf die Austrittsöff
nung der Röntgenröhre angepaßt, so daß eine möglichst große Strahlungsinten
sität zum Meßobjekt übergeführt werden kann.
Nach einer alternativen Ausgestaltung der Erfindung ist vorgesehen, daß zwei
einander gegenüber liegende und einen zum Meßobjekt sich verjüngenden Spalt
aufweisende Reflexionsflächen vorgesehen sind. Durch diese in etwa keilförmige
Anordnung der Reflexionsflächen kann eine zusätzlich Fokussierung der Rönt
genstrahlung erzielt werden. Die Öffnungsweite der Reflexionsflächen zwischen
dem Eingang und dem am verjüngenden Ende vorgesehenen Ausgang kann im
Mikrometerbereich oder größer liegen.
Nach einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung ist vorgesehen, daß
zumindest eine der Reflexionsflächen fixiert und zumindest eine weitere Refle
xionsfläche im Abstand und/oder Winkel einstellbar ist. Dadurch kann in Abhän
gigkeit des Anwendungsfalles wahlweise sowohl Abstand/und oder Winkel einge
stellt werden, wobei eine Reflexionsfläche als Referenzfläche dient.
Nach einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung ist vorgesehen, daß
die Reflexionsflächen aus einem Halbleitermaterial, insbesondere einem Silizium
wafer hergestellt sind. Die industrielle Herstellung der Siliziumwafer ist zwischen
zeitlich kostengünstig. Die Siliziumwafer weisen des weiteren aufgrund der sehr
ebenen Ausgestaltung eine Oberfläche auf, die sich für die Totalreflexion der
Röntgenstrahlen eignet. Der kritische Winkel der Totalreflexion liegt beispielsweise
bei wenigen mrad abhängig von der Energie der Röntgenstrahlung. Durch die
hochwertige ebene Oberfläche der Siliziumwafer kann eine hinreichend verlust
freie Strahlweiterleitung gegeben sein.
Vorteilhafterweise ist vorgesehen, daß die Reflexionsflächen zumindest teilweise
mit einem Edelmetall, vorzugsweise Kupfer, Silber, Gold, Platin, Paladium oder
dergleichen bedampft ist. Durch diese vorzugsweise auf einem Siliziumwafer vor
gesehene Beschichtung kann der kritische Winkel beispielsweise bei einer Platin
beschichtung auf 4,5 mrad erhöht sein, wodurch der kritische Winkel für die Total
reflexion erhöht sein kann. Dies führt wiederum zu dem Effekt, daß eine höhere
Intensität der Röntgenstrahlung am Meßobjekt vorliegt, wodurch eine hinreichend
hohe Intensität zur Emittierung von Fluoreszenzstrahlen gegeben sein kann.
Nach einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung ist vorgesehen, daß
die Beschichtung zumindest teilweise an einem dem Strahlaustritt der Röntgen
röhre zugewandten Ende vorgesehen ist. Dadurch können eine Vielzahl von
Röntgenstrahlen durch Totalreflexion im Eingangsbereich reflektiert werden, wo
durch eine hohe Intensität erzielt werden kann.
Nach einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung ist vorgesehen, daß
die Reflexionsflächen nahe dem Meßobjekt einen Bereich aufweisen, der eine die
Totalreflexion unterbindende Beschichtung aufweist oder bei zumindest teilweise
beschichteten Reflexionsflächen einen Bereich aufweist, der ohne Beschichtung
oder bei dem eine die Totalreflexion unterbindende Beschichtung vorgesehen ist.
Dadurch kann ermöglicht werden, daß die Totalreflexion von Strahlen eliminiert
wird, welche nach einer letzten Reflexion vor Austritt aus den Reflexionsflächen
außerhalb des Meßbereiches liegen würde. Durch diese Anordnung kann eine
noch exaktere Bestrahlung der Meßfläche an einem Meßobjekt erzielt werden,
wodurch wiederum die Qualität der Messung erhöht wird.
Nach einer vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung ist vorgesehen, daß zumin
dest eine Reflexionsfläche durch zumindest eine Einstelleinheit einstellbar ist. Die
se Einstelleinheit kann vorteilhafterweise als feinmechanische Justierung, als
elektrischer, hydraulischer, pneumatischer oder piezoelektronischer Aktuator aus
gebildet sein. Diese Einstelleinheit muß zumindest im Mikrometerbereich Einstel
lungen ermöglichen, damit eine exakte Ausrichtung und Einstellung der zumindest
zwei zueinander angeordneten Reflexionsflächen gegeben ist.
Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen und Weiterbildungen der Erfindung sind in
den weiteren Ansprüchen angegeben.
Anhand der nachfolgenden Zeichnungen und Beschreibungen wird ein bevorzug
tes Ausführungsbeispiel näher beschrieben. Es zeigt
Fig. 1 eine schematische Ansicht eines Schichtdickenmeßgerätes mit einer
erfindungsgemäßen Vorrichtung,
Fig. 2 eine schematische Seitenansicht des in Fig. 1 dargestellten
Schichtdickenmeßgerätes,
Fig. 3 eine schematische Detaildarstellung der erfindungsgemäßen Vor
richtung und
Fig. 4 eine schematisch vergrößerte Darstellung eines zum Meßobjekt wei
senden Ende der erfindungsgemäßen Vorrichtung.
In Fig. 1 sind schematisch die wesentlichen Komponenten eines Schichtdicken
meßgerätes 11 dargestellt, wobei auf die Darstellung einer Auswerteeinheit, eines
Bildschirms zur Visualisierung eines durch eine Videokamera aufgenommenen
Meßobjektes sowie Eingabetastatur und Drucker verzichtet wurde. Dieses
Schichtdickenmeßgerät 11 wird beispielsweise zur Messung von Bondpads, Kon
takten, die zum Teil mit selektiver Beschichtung versehen sind, Leiterbahnen und
funktionelle Beschichtungen an kleinen Flächen eingesetzt. Bevorzugt werden
durch ein Schichtdickenmeßgerät 11 mit der erfindungsgemäßen Vorrichtung 12
Schichtdicken ermittelt oder geprüft, deren Meßfläche bzw. die Funktionsflächen
kleiner als 100 µm × 100 µm, insbesondere kleiner als 50 µm × 50 µm sind. In ei
ner Röntgenröhre 13 wird eine Röntgenstrahlung erzeugt, welche über eine Anode
14 auf ein Meßobjekt 16 gerichtet ist. Durch die Röntgenstrahlung wird in einer
Schicht des Meßobjekts 16 eine Fluoreszenzstrahlung angeregt. Die Intensität
dieser Fluoreszenzstrahlung in Abhängigkeit der Energie (Spektrum) ist eine
Funktion der Schichtdicke. Dies oder der Parameter des Schichtsystems wird
ausgenutzt, in dem mit Hilfe eines Detektors 17 das System der emittierten Strah
lung registriert wird.
Zwischen der Röntgenröhre 13 und dem Meßobjekt 16 ist die erfindungsgemäße
Vorrichtung 12 vorgesehen, welche gemäß dem Ausführungsbeispiel aus zwei
einander gegenüber liegenden Reflexionsflächen 18 besteht. Diese Reflexionsflä
chen 18 dienen zur Strahlenbündelung und Strahlenweiterleitung, so daß die
Röntgenstrahlung an die Meßfläche des Meßobjekts 16 gelangt. Die Reflexions
flächen 18 sind vorzugsweise unmittelbar zur Anode 14 bzw. zu einem Austritts
flansch 21 nahe der Anode 14 angeordnet. Am unteren Ende 22 der einander zu
geordneten Reflexionsflächen 18 ist des weiteren ein Kollimator 23 vorgesehen,
wodurch ein Meßbereich 24 gemäß Fig. 3 auf einem Meßobjekt abgebildet wer
den kann. Der Kollimator 23 ist vorteilhafterweise ein Spaltkollimator, dessen
Spaltbreite einstellbar ist.
Die Reflexionsflächen 18 sind als längliche, rechteckförmige Flächen ausgebildet,
wie aus Fig. 1 und Fig. 2 zu entnehmen ist. Die Länge der Reflexionsflächen 18
ist im wesentlichen durch den Aufbau bestimmt sowie durch den Grad der Totalre
flexion. Röntgenstrahlen, welche nicht parallel zwischen einer Achse des Meßbe
reichs 24 und der Anode 14 verlaufen, werden zumindest einmal durch eine Total
reflexion abgelenkt. Die Breite der Reflexionsflächen 18 ist zumindest eineinhalb
mal so groß wie die maximal zu prüfende Funktionsfläche. Vorteilhafterweise wer
den für die Reflexionsflächen 18 Siliziumwafer verwendet. Dieses kostengünstige
Grundmaterial kann auf die entsprechende Größe der erfindungsgemäßen Vor
richtung 12 einfach angepaßt werden. Für die Reflexionsflächen 18 eignen sich
auch weitere Halbleitermaterialien wie beispielsweise Germanium, Galliumarenid
oder dgl.
Die vorzugsweise aus einem Siliziumwafer hergestellten Reflexionsflächen 18
werden vorteilhafterweise auf Halteelemente 26, 27 gemäß Fig. 3 aufgebracht.
Vorteilhafterweise sind diese verspannungsfrei aufgeklebt, so daß die Ebenheit
der Reflexionsfläche 18 aufrecht erhalten werden kann. Alternativ können die Re
flexionsflächen 18 auch spannungsfrei an den Halteelementen 26, 27 durch eine
Klemmung oder dergleichen fixiert werden. Gemäß Fig. 3 greift an einem der
beiden Halteelemente 27 eine Einstelleinheit 28 an, durch welche ein Halteele
ment 27 zu dem feststehenden Element 26 einstellbar ist. Das Halteelement 26
nimmt vorteilhafterweise die Reflexionsfläche 18 parallel zur Mittelachse 29 der
Vorrichtung 12 auf. Durch die Einstelleinheit 28 kann die Spaltbreite eingestellt
werden. Ebenso ist ermöglicht, daß die Winkligkeit des Halteelements 27 zum
Element 26 einstellbar ist. Alternativ kann ebenso eine spiegelbildliche Anordnung
vorgesehen sein. Ebenso kann alternativ vorgesehen sein, daß an jedem der
Halteelemente 26, 27 eine Einstelleinheit 28 vorgesehen ist, wodurch die Halte
elemente 26, 27 entweder parallel zueinander und/oder in einem Winkel zueinander
angeordnet sein können, so daß ein gleichmäßiger oder sich verjüngender Spalt
zum Meßobjekt 16 hin gebildet ist. Die Einstelleinheit 28 ist derart ausgebildet,
daß Spaltbreiten beispielsweise in einem Bereich von 10 bis 100 µm wahlweise
eingestellt werden können. Hierfür können feinmechanische Einstellmechanismen,
piezoelektrische Aktuatoren, sowie elektrisch, hydraulisch, pneumatisch betriebe
ne Stellantriebe vorgesehen sein.
An einem zum Meßobjekt 16 weisenden Ende ist an dem Halteelement 26 eine
Abflachung 31 vorgesehen. Durch diese Abflachung ist ermöglicht, daß für die
emittierte Fluoreszenzstrahlung eine hinreichende Öffnungsweite 32 zur Verfü
gung steht, um die emittierte Fluoreszenzstrahlung zu detektieren.
Die Reflexionsfläche 18 kann beispielsweise mit einem Edelmetall bedampft sein.
Dadurch kann der kritische Winkel für die Totalreflexion, der für Silizium bei 1,5 mrad
liegt, durch eine Platinbeschichtung auf 4,5 mrad erhöht werden. Dies
schlägt sich wiederum vorteilhafterweise auf die Transmission der Röntgenstrah
lung nieder. Alternativ ist denkbar, daß bei dem Einsatz von beschichteten Refle
xionsflächen der Grundwerkstoff aus einer Quarzoberfläche oder einem Kunst
stoffmaterial bestehen kann, welches die Anforderung an die Ebenheit erfüllt und
eine Beschichtung aufweist. Vorteilhafterweise kann die Beschichtung zumindest
am Eingang der Reflexionsflächen 18 vorgesehen sein, so daß die Anzahl der
eingefangenen und reflektierten Strahlen möglichst groß ist. Über den Verlauf
entlang der Reflexionsflächen 18 kann die Beschichtung vollständig fortgeführt
werden oder auch nur teilweise vorgesehen sein. Ebenso kann sich die Be
schichtung bzw. das Material der Beschichtung in Abhängigkeit der Anwendungs
fälle auch ändern. Beispielsweise kann durch Verkleinerung des Grenzwinkels für
die Totalreflexion die Divergenz am Ausgang der Reflexionsflächen 18 verkleinert
werden, wodurch eine Fokussierung der Strahlung und dadurch eine Intensi
tätserhöhung auf dem Meßbereich 24 des Meßobjektes 16 erzielt werden kann.
Dazu ist beispielsweise denkbar, daß in einem Bereich nahe dem unteren Ende
22 der Reflexionsfläche 18 eine Beschichtung nicht vorgesehen ist oder eine die
Totalreflexion verhindernde Beschichtung vorgesehen ist, wodurch die unterhalb
der Reflexionsfläche 18 austretende Strahlung gerade auf die Größe des Meßbe
reiches 24 von dem Meßobjekt 16 fokussiert ist. Die Bestrahlung von Randberei
chen außerhalb des Meßbereiches 24 kann dadurch erheblich verringert werden.
Durch die erfindungsgemäße Ausgestaltung der Vorrichtung 12 kann je nach
Meßaufgabe der Meßbereich eingestellt werden. Der Kollimator 23 kann ebenso
an diesen Meßbereich angepaßt werden, so daß durch die Fokussierung der
Strahlung eine Intensitätserhöhung auf einen vorbestimmten Meßbereich ermög
licht ist.
Alternativ kann vorgesehen sein, daß die Reflexionsflächen 18 zumindest leicht
konkav ausgebildet sind. Ebenso kann die konkave Ausbildung sich zum unteren
Ende 22 hin verjüngen, so daß eine Art sprachrohrförmige Ausgestaltung der Re
flexionsflächen 18 gegeben ist. Dabei sind jedoch die Dimensionen zu berück
sichtigen, die auch im Mikrometerbereich liegen können.
Die Öffnungsweite der Reflexionsflächen 18 am Eingang der Vorrichtung 12 ent
spricht im wesentlichen der Austrittsöffnung der über die Anode ausgesandten
Röntgenstrahlung. Ebenso kann auch eine geringfügig größere oder kleinere Öff
nungsbreite zu dem Durchmesser des Primärspots der Röntgenstrahlung gegeben
sein.
Die Vorrichtung 12 kann des weiteren noch Öffnungen und Aufnahmen aufweisen,
welche zur Anordnung einer Optik dienen, um den Meßgegenstand 16 durch eine
Videokamera zu visualisieren.
Die Vorrichtung 12 ist gemäß dem Ausführungsbeispiel durch zwei zueinander
angeordnete Reflexionsflächen 18, die parallel oder in einem spitzen Winkel zu
einander angeordnet sind, vorgesehen. Es kann auch vorgesehen sein, daß an
stelle von diesen zwei Reflexionsflächen 18 drei oder mehrere Reflexionsflächen
in geeigneter Weise zueinander angeordnet sind, um die Transmission von Rönt
genstrahlung zum Meßbereich 24 eines Meßobjektes 16 zu ermöglichen, so daß
durch die Fokussierung der Röntgenstrahlung eine Intensitätserhöhung ermöglicht
ist. Es ist jedoch nicht, wie aus dem Stand der Technik bekannt, erforderlich, daß
eine geschlossene, röhrenförmige Anordnung eingesetzt wird, um die Röntgen
strahlen zum Meßbereich durch Totalreflexion zu fokussieren. Weitere geometri
sche Ausgestaltungen der Reflexionsflächen 18 sind ebenso denkbar, welche die
Totalreflexion der Röntgenstrahlung ermöglichen.
Claims (15)
1. Vorrichtung zur Führung von Röntgenstrahlen von einer Strahlenquelle zu
einem Meßobjekt (16), dadurch gekennzeichnet, daß zumindest zwei einen
Spalt bildenden Reflexionsflächen (18) vorgesehen sind.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der durch die
zumindest zwei Reflexionsflächen (18) gebildete Spalt in der Breite einstell
bar ist.
3. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
daß zwei einander gegenüberliegende und parallel zueinander angeordnete
Reflexionsflächen (18) vorgesehen sind.
4. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
daß zwei einander gegenüberliegende und einen zum Meßobjekt (16) sich
verjüngenden Spalt aufweisende Reflexionsflächen (18) vorgesehen sind.
5. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekenn
zeichnet, daß zumindest eine Reflexionsfläche (18) fixiert und zumindest ei
ne weitere Reflexionsfläche (18) im Abstand und/oder Winkel einstellbar ist.
6. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekenn
zeichnet, daß zumindest eine, vorzugsweise die Reflexionsfläche (18) im
wesentlichen unmittelbar an dem Strahlaustritt der Strahlaustrittseinrichtung
angeordnet sind.
7. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekenn
zeichnet, daß zumindest eine Reflexionsfläche (18) eben ausgebildet ist.
8. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet,
daß zumindest eine Reflexionsfläche (18) im Querschnitt gesehen konkav
gekrümmt ausgebildet ist.
9. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Reflexionsflächen (18) aus einem Halbleitermaterial, insbe
sondere aus einem Siliziumwafer, hergestellt ist.
10. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekenn
zeichnet, daß zumindest eine Reflexionsfläche (18) zumindest teilweise mit
einem Edelmetall, vorzugsweise Gold, Platin, Kupfer, Silber, Paladium be
schichtet ist.
11. Vorrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die zumindest
teilweise Beschichtung an einem am Strahlaustritt der Röntgenröhre zuge
wandten Ende vorgesehen ist.
12. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 10 oder 11, dadurch gekennzeichnet,
daß die zumindest eine teilweise beschichtete Reflexionsfläche (18) nahe
dem Meßobjekt (16) einen Bereich aufweist, der ohne Beschichtung vorge
sehen ist oder eine die Totalreflexion unterbindende Beschichtung aufweist.
13. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 11, dadurch gekennzeichnet,
daß die nicht beschichtete Reflexionsfläche (18) nahe dem Meßobjekt (16)
einen Bereich mit einer die Totalreflexion unterbindenden Beschichtung auf
weist.
14. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekenn
zeichnet, daß zumindest eine der Reflexionsflächen (18) an einer die Öff
nungsweite des Spaltes einstellbaren Einstelleinheit (28) vorgesehen ist.
15. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekenn
zeichnet, daß an einem zum Meßobjekt (16) weisenden Ende ein den Refle
xionsflächen (18) zugeordneter Kollimator (23) vorgesehen ist, dessen Spalt
breite vorzugsweise einstellbar ist.
Priority Applications (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19954520A DE19954520A1 (de) | 1999-11-12 | 1999-11-12 | Vorrichtung zur Führung von Röntgenstrahlen |
DE50013184T DE50013184D1 (de) | 1999-11-12 | 2000-10-27 | Vorrichtung zur Führung von Röntgenstrahlen |
EP00123501A EP1100092B1 (de) | 1999-11-12 | 2000-10-27 | Vorrichtung zur Führung von Röntgenstrahlen |
AT00123501T ATE333702T1 (de) | 1999-11-12 | 2000-10-27 | Vorrichtung zur führung von röntgenstrahlen |
US09/707,394 US6438209B1 (en) | 1999-11-12 | 2000-11-06 | Apparatus for guiding X-rays |
CN00133902.8A CN1202416C (zh) | 1999-11-12 | 2000-11-10 | X-射线的导向装置 |
JP2000344828A JP2001201599A (ja) | 1999-11-12 | 2000-11-13 | X線を案内するための器具 |
HK01105756A HK1035400A1 (en) | 1999-11-12 | 2001-08-16 | Apparatus for guiding x-rays. |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19954520A DE19954520A1 (de) | 1999-11-12 | 1999-11-12 | Vorrichtung zur Führung von Röntgenstrahlen |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19954520A1 true DE19954520A1 (de) | 2001-05-17 |
Family
ID=7928847
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19954520A Withdrawn DE19954520A1 (de) | 1999-11-12 | 1999-11-12 | Vorrichtung zur Führung von Röntgenstrahlen |
DE50013184T Expired - Lifetime DE50013184D1 (de) | 1999-11-12 | 2000-10-27 | Vorrichtung zur Führung von Röntgenstrahlen |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE50013184T Expired - Lifetime DE50013184D1 (de) | 1999-11-12 | 2000-10-27 | Vorrichtung zur Führung von Röntgenstrahlen |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6438209B1 (de) |
EP (1) | EP1100092B1 (de) |
JP (1) | JP2001201599A (de) |
CN (1) | CN1202416C (de) |
AT (1) | ATE333702T1 (de) |
DE (2) | DE19954520A1 (de) |
HK (1) | HK1035400A1 (de) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1193492B1 (de) * | 2000-09-27 | 2007-08-08 | Euratom | Mikrostrahl-Kollimator für Hochauflösungs-Röntgenstrahl-Beugungsanalyse mittels konventionellen Diffraktometern |
JP2007304063A (ja) * | 2006-05-15 | 2007-11-22 | Shimadzu Corp | ソーラスリット |
EP2572368A2 (de) * | 2010-05-19 | 2013-03-27 | Eric H. Silver | Optische hybrid-röntgen-vorrichtungen und verfahren dafür |
ES2880741T3 (es) * | 2015-07-06 | 2021-11-25 | Exruptive As | Un procedimiento de escaneado de seguridad de artículos de equipaje de mano, y un sistema de escaneado de seguridad de artículos de equipaje de mano |
US10765383B2 (en) * | 2015-07-14 | 2020-09-08 | Koninklijke Philips N.V. | Imaging with enhanced x-ray radiation |
DE102022105838B3 (de) | 2022-03-14 | 2023-08-17 | Helmut Fischer GmbH Institut für Elektronik und Messtechnik | Justiereinheit für eine Röntgenoptik in einem Röntgenfluoreszenzgerät sowie Röntgenfluoreszenzgerät |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4958363A (en) * | 1986-08-15 | 1990-09-18 | Nelson Robert S | Apparatus for narrow bandwidth and multiple energy x-ray imaging |
EP0322408B1 (de) * | 1986-08-15 | 1993-05-05 | Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation | Instrumente zur konditionierung von röntgen- oder neutronenstrahlen |
JPH03504271A (ja) * | 1988-03-11 | 1991-09-19 | ロッサー,ロイ,ジョナサン | 光学装置及びその製造法 |
US5001737A (en) * | 1988-10-24 | 1991-03-19 | Aaron Lewis | Focusing and guiding X-rays with tapered capillaries |
US5101422A (en) * | 1990-10-31 | 1992-03-31 | Cornell Research Foundation, Inc. | Mounting for X-ray capillary |
JPH0727946B2 (ja) * | 1993-03-25 | 1995-03-29 | 東和科学株式会社 | 表面異物分析用ウエハ及びウエハ表面の金属不純物の評価方法 |
WO1996002058A1 (fr) * | 1994-07-08 | 1996-01-25 | Muradin Abubekirovich Kumakhov | Procede de guidage de faisceaux de particules neutres et chargees et son dispositif de mise en ×uvre |
EP0873565B1 (de) * | 1996-01-10 | 1999-10-20 | Bastian Niemann | Kondensor-monochromator-anordnung für röntgenstrahlung |
JPH10221500A (ja) * | 1997-02-03 | 1998-08-21 | Olympus Optical Co Ltd | 軟x線検査装置 |
JP3771697B2 (ja) * | 1997-11-01 | 2006-04-26 | 株式会社堀場製作所 | 螢光x線分析装置 |
-
1999
- 1999-11-12 DE DE19954520A patent/DE19954520A1/de not_active Withdrawn
-
2000
- 2000-10-27 EP EP00123501A patent/EP1100092B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-10-27 AT AT00123501T patent/ATE333702T1/de not_active IP Right Cessation
- 2000-10-27 DE DE50013184T patent/DE50013184D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-11-06 US US09/707,394 patent/US6438209B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-11-10 CN CN00133902.8A patent/CN1202416C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2000-11-13 JP JP2000344828A patent/JP2001201599A/ja active Pending
-
2001
- 2001-08-16 HK HK01105756A patent/HK1035400A1/xx not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
HK1035400A1 (en) | 2001-11-23 |
CN1296178A (zh) | 2001-05-23 |
DE50013184D1 (de) | 2006-08-31 |
US6438209B1 (en) | 2002-08-20 |
EP1100092A3 (de) | 2003-03-26 |
ATE333702T1 (de) | 2006-08-15 |
EP1100092A2 (de) | 2001-05-16 |
CN1202416C (zh) | 2005-05-18 |
JP2001201599A (ja) | 2001-07-27 |
EP1100092B1 (de) | 2006-07-19 |
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