JP2011122826A - X線照射装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】装置の大型化を招くことなく、X線のフラックスの照射方向を適切に制御できるX線照射装置を提供する。
【解決手段】X線の線源と、前記線源から射出されるX線のフラックスの照射方向を制御する光学系とを備えるX線照射装置に関する。前記光学系は、前記線源からの前記X線の射出軸と直交する平面方向について、互いに間隙を介して積層される複数枚の反射ミラーを備える。前記線源から射出されたX線が前記間隙を介して前記反射ミラーに入射し、前記反射ミラーでそれぞれ全反射して互いに重畳することにより、前記フラックスとして照射される。
【選択図】図1
【解決手段】X線の線源と、前記線源から射出されるX線のフラックスの照射方向を制御する光学系とを備えるX線照射装置に関する。前記光学系は、前記線源からの前記X線の射出軸と直交する平面方向について、互いに間隙を介して積層される複数枚の反射ミラーを備える。前記線源から射出されたX線が前記間隙を介して前記反射ミラーに入射し、前記反射ミラーでそれぞれ全反射して互いに重畳することにより、前記フラックスとして照射される。
【選択図】図1
Description
本発明は、X線の線源と、前記線源から射出されるX線のフラックスの照射方向を制御する光学系とを備えるX線照射装置に関する。
図8はX線を用いた厚さ測定装置の構成を示す斜視図である。
図8に示すように、X線の線源101に正対してライン状の検出パターンを有するX線検出器4が配置される。X線検出器4は、シンチレータを用いたC−MOSやCCDなどの半導体受光素子、あるいはX線に感度を持たせた直接変換型放射線検出素子を使用した検出器である。X線検出器4の近傍でフィルム状の検査対象物6を連続的に搬送し、これをX線検出器4で高速に撮影することでX線の透過光量をリアルタイムに計測することができる。予め求めておいた透過光量と厚さの関係(検量線)と、計測値を対比することで検査対象物6の厚さ分布を算出する。塗工量測定の場合には、工程の前後において上記の方法で厚さを計測し、その差を求めることで工程(塗工量)の制御が可能となる。
X線検出器4では、通常、小さな検出素子を直線状に1列もしくは複数列並べた構造によりいわゆるラインセンサが構成され、素子サイズは0.数mm〜2mm程度である。この素子を検査対象物のサイズに合わせて、数十〜数百素子隙間なく1次元に並べてある。したがって、検出部のサイズは、各辺の長さが数百mm×0.数mm程度の長方形の領域となる。
http://WWW.nims.go.jp/xray/ref/whats0.htm 「X線反射率ってなに?」桜井 健二 著
ところで、放射線の取り扱いに関する法令に「利用線錐の放射角がその目的を達するために必要な角度を越えないようにするための照射筒または絞りを用いなければならない」とあるように、X線の放射方向を制限する必要がある。このため、図8に示すように、線源1の出口近傍にスリット102aが形成されたコリメータ102を配置し、これにより放射線(フラックス)を制限して検出器4の検出部41のサイズに合わせたファンビームを得ている。仮にコリメータ102がない場合には、ほぼ真円に近い円錐状のフラックスが得られる。X線源から放射されるフラックスは、その構造により放射角が決まり、透過型であれば比較的広角(100〜130度程度)、反射型であれば狭角(30〜70度程度)であるが、いずれにしても円錐状に放射されているにもかかわらず、実際に利用できる線量は極僅かである。X線は可視光に対して1/1000程度と波長が短く、レンズや反射鏡による集光は困難で有効な集光手段がないため、必要な範囲以外のフラックスは無駄となっている。また、X線源には寿命があり交換や調整も必要でランニングコストもかかるため、できるだけ小型のX線管を使用したいという要望もある。
従来の装置ではフラックスの利用効率が低く、僅かでも集光して利用効率を上げられれば線源を小型のX線管に置換できるが、比較的容易な方法で集光できるような有用なX線光学系がない。
さらに、軟X線や低エネルギーのX線では大気吸収があるためにビームハードニング(線質硬化)が発生し、検査対象物を遠方に置いた場合にはより強大な線源を必要とし、効率が非常に悪くなる。また、ビームハードニングが発生すると、透過性の高い検査対象物では線量の吸収が不十分で検出感度が得られず、検出信号レベルが低下して検出精度が悪化する。ビームハードニングを回避するためには、線源、検査対象物、検出器、検査対象物の搬送装置などの一式をチャンバ内に収容して真空引きし、あるいはチャンバ内に吸収の少ない気体を充填するなど、大掛かりな装置が必要となる。また、線源と検査対象物との間を大気とする場合には、空気の温度、気圧、水分(湿度)などの影響によりX線の吸収量が変化し、測定誤差の原因となる。したがって、線源から検査対象物までの距離を縮小できれば、効率面でも測定精度の面でも効果がある。
本発明の目的は、装置の大型化を招くことなく、X線のフラックスの照射方向を適切に制御できるX線照射装置を提供することにある。
本発明のX線照射装置は、X線の線源と、前記線源から射出されるX線のフラックスの照射方向を制御する光学系とを備えるX線照射装置において、前記光学系は、前記線源からの前記X線の射出軸と直交する平面方向について、互いに間隙を介して積層される複数枚の反射ミラーを備え、前記線源から射出されたX線が前記間隙を介して前記反射ミラーに入射し、前記反射ミラーでそれぞれ全反射して互いに重畳することにより、前記フラックスとして照射されることを特徴とする。
このX線照射装置によれば、線源から射出されたX線が間隙を介して反射ミラーに入射し、反射ミラーでそれぞれ全反射して互いに重畳することにより、フラックスとして照射されるので、装置の大型化を招くことなく、X線のフラックスの照射方向を適切に制御できる。
このX線照射装置によれば、線源から射出されたX線が間隙を介して反射ミラーに入射し、反射ミラーでそれぞれ全反射して互いに重畳することにより、フラックスとして照射されるので、装置の大型化を招くことなく、X線のフラックスの照射方向を適切に制御できる。
前記反射ミラーは反射面が鏡面状とされた金属箔により構成されてもよい。
前記反射ミラーは、前記反射ミラーと前記X線の射出軸とが平行となる向きに配置されてもよい。
前記反射ミラーと前記X線の射出軸とがなす角度が、前記X線の射出軸から離れるほど大きくされていてもよい。
前記反射ミラーは、前記X線の射出軸方向と直交する方向について当該反射ミラーの位置が前記X線の射出軸から離れるほど、前記X線の射出軸方向について前記線源に近づく位置に配置されてもよい。
前記反射ミラーは平面形状とされていてもよい。
前記反射ミラーは前記X線の射出軸を取り囲む凹面形状とされていてもよい。
前記複数枚の反射ミラーは平板状の反射材料を前記X線の射出軸周りに螺旋状に巻き回すことで構成されてもよい。
前記間隙はX線を透過する部材を用いて形成されてもよい。
本発明のX線照射装置によれば、線源から射出されたX線が間隙を介して反射ミラーに入射し、反射ミラーでそれぞれ全反射して互いに重畳することにより、フラックスとして照射されるので、装置の大型化を招くことなく、X線のフラックスの照射方向を適切に制御できる。
以下、本発明によるX線照射装置の実施形態について説明する。
図1は本実施形態のX線照射装置の構成を示す斜視図、図2(a)は図1におけるIIa−IIa線断面図、図3はX線が反射される様子を示す図である。
図1に示すように、本実施形態のX線照射装置では、X線を照射するX線源1と、X線の強度を検出するX線検出器4とが正対して配置されている。また、検査対象物(不図示)は、図8と同様、X線検出器4の近傍で連続的に搬送される。
図1および図2(a)に示すように、X線源1とX線検出器4との間には、コリメータ2および反射光学系3が配置されている。
図2(a)に示すように、余分なX線を遮るためのコリメータ2には、X線を通過させるためのスリット21が形成され、反射光学系3はスリット21に対応する位置に配置される。
図1、図2(a)および図3に示すように、反射光学系3は反射ミラーを構成するリボン状の箔31,31,・・・を、間隙を介して積層することで構成される。箔31,31,・・・はX線源1からのX線の射出軸と平行とされる。
また、箔31は、例えば、鏡面仕上げした銅箔、ステンレス箔またはタングステン箔に、金蒸着(金メッキ)または白金蒸着することで作成できる。箔31の厚みは5μm〜100μm程度とされる。また、隣り合う箔31,31の間の間隙は数十μm〜数百μmとされ、箔31の枚数は、例えば数十〜数百枚とされる。なお、説明の便宜のため、各図面では箔の枚数を実際よりも少なく描画している。
図1、図2(a)および図3に示すように、X線源1のターゲット11(図3)から照射されたX線10は、反射光学系3およびコリメータ2を経由して検出器4の検出部41に照射される。図2(a)および図3に示すように、X線源1から照射されたX線10は、反射光学系3の箔31で1度だけ全反射され、コリメータ2のスリット21を通過して検出部41に向かう。反射光学系3は、このような光学的条件を満足するように構成されている。X線の全反射は極浅い入射角でのみ発生することが知られており、光子エネルギー(波長)や反射物質によってその全反射角度が変化する。全反射角度が大きな物質としては、例えば、金(9.63mrad)、白金(10.11mrad)が上げられる。したがって、これらの物質を箔31の反射面とすれば設計上、有利である。
箔31で全反射されたX線および箔31の間を通過したX線は互いに重畳し、さらに散乱線が加算されて線量が増加した状態で、検出部41に照射される。
箔31,31,・・・の間隙は、均一でなくてもよい。例えば、X線源1の射出軸の近傍ではX線を通過させるため間隙を荒くし、X線源1の射出軸から離れた部位(図2(a)における左右両端側)にいくほど、間隙を狭めてもよい。
図2(b)は、X線源1の射出軸の近傍ではX線を反射させることなく通過させるように構成した反射光学系を示す断面図である。
図2(b)に示すように、この反射光学系3Aでは、X線源1の射出軸の近傍のスリット状の領域32から箔31Aを排除することで、領域32に入射したX線をそのまま通過させるようにしている。
図4は、反射光学系の作成方法を示す図である。
図4(a)の例では、切削加工や放電加工(ワイヤーカット)などにより角穴51が形成された中空の厚板材5に、放電加工あるいはエッジングによりスリット52を形成している。このスリット52,52,・・・は箔31,31,・・・に対応しており、その数は箔31,31,・・・の枚数に等しく、また、そのスリット幅は箔31よりも僅かに大きくされている。このスリット52,52,・・・に箔31,31,・・・を差し込むことで、箔31,31,・・・を所定の位置に配置することができる。次に、スリット52,52,・・・に挿入された箔31,31,・・・を両側から引き伸ばすようにした状態で、スリット52をスリット幅方向にねじやクリップなどで締め付け、あるいは接着剤を用いることで、箔31,31,・・・を厚板材5に固定することができる。なお、この場合、厚板材5をコリメータとして利用し、図1に示すコリメータ2の代わりとすることもできる。
図4(b)および図4(c)は、カーボンペーストなどのスペーサとなる材質を塗布することで、反射光学系を作成する例を示す図である。
図4(b)に示すように、カーボンペースト等の塗布物31aを箔31の両端部に所定の塗布厚で塗ることにより、これをスペーサとして利用することができる。箔31,31,・・・の端部にそれぞれカーボンペースト等の塗布物31aを塗って硬化させた後、図4(c)に示すように箔31,31,・・・を積層すると、塗布物31aがスペーサとして機能し、箔31,31,・・・の間隙が形成される。塗布物は箔31の全面に塗布してもよいが、低エネルギー量域での吸収等があるため、ビームハードニングが発生するおそれがある。したがって、塗布のパターンは任意であるが、極力、空気層を確保することが望ましい。
また、PET(ポリエチレンテレフタレート)のようなX線透過性の良好な樹脂製のテグス(細線)やフィルムを箔31の間に挟み込むことで、スペーサとして機能させてもよい。
図5は、箔の向きをX線源1の射出軸からの距離に応じて変える例を示している。
図5に示す反射光学系3Bでは、互いに積層された箔311,312,313,・・・の向きを少しずつ変化させ、X線源1の射出軸からの距離が大きくなるほど、その射出軸と箔のなす角度が大きくなるようにされている。このように、箔311,312,313,・・・の向きを調整することにより、全反射可能なX線の入射角度の範囲を拡大でき、これにより検出部41に照射されるX線の強度を高めることができる。
図6は、円形の照射スポットに対応する反射光学系の構成例を示す図である。
図6(a)および図6(b)に示すように、この反射光学系3Cは、直径の異なる円筒状の反射ミラー331,332,333,334,・・・を組み合わせて構成される。この場合、スペーサとなるフィルムや塗布物等を反射ミラー331,332,333,334,・・・の間に挟み込むことで、反射ミラー間の間隙を確保できる。反射ミラー331,332,333,334,・・・は、それぞれ凹面形状のミラーとして機能する。
図6(b)に示すように、反射ミラー331,332,333,334,・・・では、それぞれX線を1度だけ全反射することで、X線を円錐ビーム状に集光している。また、X線の射出軸の近傍では反射ミラーの間隔を広げることにより、間隙の幅を拡大して効率的にX線を通過させるようにしている。
図6(c)に示す反射光学系3Dのように、反射ミラー331,332,333,334,・・・の位置をX線の射出軸からの距離に応じて変えてもよい。この例では、X線の射出軸から離れるほど、反射ミラーを線源に近づけるようにX線の射出軸方向にずらして配置している。これにより、全反射可能なX線の入射角度の範囲を拡大でき、反射光学系3Dから射出されるX線の強度を高めることができる。
図6に示す反射光学系3Cおよび反射光学系3Dでは、X線の射出軸周りのすべての方向について光学特性が一定とされる。このため、反射光学系3Eあるいは反射光学系3Fを経由したX線は円錐状のビームを形成する。したがって、これらの反射光学系は、円形の照射スポットに向けてX線を照射したい場合に適用することができる。
図7は、円形の照射スポットに対応する反射光学系の別構成例を示す図である。
図7(a)に示すように、反射ミラーを構成する細長い箔32を所定の間隙をあけて螺旋状に巻き取ることで、図7(b)および図7(c)に示すような反射光学系3Eを作成することができる。この場合、スペーサとなるフィルムや塗布物等を箔32の間に挟み込むことで、箔32間の間隙を確保できる。
また、図7(c)に示すように、X線の射出軸から離れるにつれて、箔32の位置を線源に近づけるように箔32を巻き取ることで、全反射可能なX線の入射角度の範囲を拡大することができる。ただし、図7(d)に示す反射光学系3Fのように、箔32の全体にわたって、X線の射出軸方向についての位置を一定としてもよい。
反射光学系3Eおよび反射光学系3Fのいずれについても、箔32は本発明における凹面形状の複数枚の反射ミラーとして機能し、いずれの箇所においてもX線を1度だけ全反射するように構成される。
図7に示す反射光学系3Eおよび反射光学系3Fでは、X線の射出軸周りのすべての方向について光学特性がほぼ一定とされる。このため、反射光学系3Eあるいは反射光学系3Fを経由したX線は円錐状のビームを形成する。したがって、これらの反射光学系は、円形の照射スポットに向けてX線を照射したい場合に適用することができる。
以上説明したように、上記各実施形態のX線照射装置によれば、複数枚の反射ミラーによって集光することで、X線の利用効率を高めることができるため、低入力の小型X線管により所望のスラックス量を得ることも可能となる。また、一般に、とくに低光子エネルギー(長波長)のフラックスを検査に用いる場合には、X線管の管電圧を上げられず、また管電圧を上げられないために管電流も充分に流れずに低光子エネルギーでの多量のフラックスが得にくいという問題がある。しかし、上記各実施形態のX線照射装置によれば、拡散してしまうフラックスを重畳させて収束することができるため、低光子エネルギーのフラックスを多量に得られる。
また、大きなX線管を使用する場合でも、X線管を定格電流よりも低い入力電流で使用することが可能となり、ターゲットやフィラメントの寿命が延びるため、ランニングコスト等を軽減できる。
さらに、上記各実施形態のX線照射装置では反射光学系の小型化が容易なため、照射距離を短く抑えることができる。したがって、低出力で且つ広放射角である透過型X線管が使用できる場合には、近距離での照射が可能となり、ビームハードニングの発生を抑制できる。このため、透過性の高い検査対象物であっても低光子エネルギーのフラックスが効率的に得られ、充分な検出感度を確保できる。また、反射光学系が小型化できるため、装置全体の小型、軽量化を図ることができる。
また、線源と検査対象物とを接近させることが可能なため、空気の温度、気圧、水分等の影響によるX線の吸収率変化が軽減され、測定誤差を抑制できる。
本発明の適用範囲は上記実施形態に限定されることはない。本発明は、X線の線源と、前記線源から射出されるX線のフラックスの照射方向を制御する光学系とを備えるX線照射装置に対し、広く適用することができる。
1 線源
3 反射光学系(光学系)
31,31A 箔(反射ミラー)
32 箔(反射ミラー)
311,312,・・・ 箔(反射ミラー)
331,332,・・・ 反射ミラー
3 反射光学系(光学系)
31,31A 箔(反射ミラー)
32 箔(反射ミラー)
311,312,・・・ 箔(反射ミラー)
331,332,・・・ 反射ミラー
Claims (9)
- X線の線源と、前記線源から射出されるX線のフラックスの照射方向を制御する光学系とを備えるX線照射装置において、
前記光学系は、前記線源からの前記X線の射出軸と直交する平面方向について、互いに間隙を介して積層される複数枚の反射ミラーを備え、
前記線源から射出されたX線が前記間隙を介して前記反射ミラーに入射し、前記反射ミラーでそれぞれ全反射して互いに重畳することにより、前記フラックスとして照射されることを特徴とするX線照射装置。 - 前記反射ミラーは反射面が鏡面状とされた金属箔により構成されることを特徴とする請求項1に記載のX線照射装置。
- 前記反射ミラーは、前記反射ミラーと前記X線の射出軸とが平行となる向きに配置されていることを特徴とする請求項1または2に記載のX線照射装置。
- 前記反射ミラーと前記X線の射出軸とがなす角度が、前記X線の射出軸から離れるほど大きくされていることを特徴とする請求項1または2に記載のX線照射装置。
- 前記反射ミラーは、前記X線の射出軸方向と直交する方向について当該反射ミラーの位置が前記X線の射出軸から離れるほど、前記X線の射出軸方向について前記線源に近づく位置に配置されることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のX線照射装置。
- 前記反射ミラーは平面形状とされていることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載のX線照射装置。
- 前記反射ミラーは前記X線の射出軸を取り囲む凹面形状とされていることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載のX線照射装置。
- 前記複数枚の反射ミラーは平板状の反射材料を前記X線の射出軸周りに螺旋状に巻き回すことで構成されることを特徴とする請求項7に記載のX線照射装置。
- 前記間隙はX線を透過する部材を用いて形成されることを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載のX線照射装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2009278194A JP2011122826A (ja) | 2009-12-08 | 2009-12-08 | X線照射装置 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2013190269A (ja) * | 2012-03-13 | 2013-09-26 | Canon Inc | 放射線撮影装置 |
CN108693199A (zh) * | 2017-03-30 | 2018-10-23 | 住友化学株式会社 | 检查装置、检查方法及膜卷绕体的制造方法 |
-
2009
- 2009-12-08 JP JP2009278194A patent/JP2011122826A/ja active Pending
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