JP5282136B2 - 高強度の高エネルギー放射光のビーム束断面におけるパラメータの空間分解測定方法 - Google Patents
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- 230000005469 synchrotron radiation Effects 0.000 title claims description 6
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 title description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 77
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract description 76
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 claims abstract description 69
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 25
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 47
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 claims description 5
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 claims description 5
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 3
- 239000000284 extract Substances 0.000 claims description 3
- 230000001960 triggered effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 2
- 208000003580 polydactyly Diseases 0.000 claims 1
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 abstract description 9
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 abstract description 4
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 abstract description 4
- 230000006735 deficit Effects 0.000 abstract 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 10
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 9
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 7
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 6
- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 description 5
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 5
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 4
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 3
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- 230000009897 systematic effect Effects 0.000 description 3
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 239000008280 blood Substances 0.000 description 1
- 210000004369 blood Anatomy 0.000 description 1
- 230000001010 compromised effect Effects 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 235000012489 doughnuts Nutrition 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000001900 extreme ultraviolet lithography Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 230000005865 ionizing radiation Effects 0.000 description 1
- 238000003698 laser cutting Methods 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 description 1
- 238000009304 pastoral farming Methods 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 238000013519 translation Methods 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
- G01J1/42—Photometry, e.g. photographic exposure meter using electric radiation detectors
- G01J1/4257—Photometry, e.g. photographic exposure meter using electric radiation detectors applied to monitoring the characteristics of a beam, e.g. laser beam, headlamp beam
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
- G01J1/02—Details
- G01J1/04—Optical or mechanical part supplementary adjustable parts
- G01J1/0407—Optical elements not provided otherwise, e.g. manifolds, windows, holograms, gratings
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
- G01J1/58—Photometry, e.g. photographic exposure meter using luminescence generated by light
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- Physics & Mathematics (AREA)
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Description
さらに、特許文献3は、レーザビームの空間エネルギー分布を測定するための構成を開示し、この構成は、ビーム路に対して垂直に移動可能な2つのスリット開口から成る開口構成と、前記開口構成と共に移動する検出器とを用いており、前記検出器は、ビーム横断面において移動可能な開口で回折された光を検出するために、前記開口構成からの隔たりを可変に光軸の近くに配置されている。この構成は、検出器が開口と共に移動され、最大回折に特に適合するので測定結果を、特に発散ビーム束に対する測定結果を歪めるという、不利な点を有している。
似ているが非常に単純な相違例(これは高エネルギー放射には適していない)が、特許文献4に記載され、これはLEDの強度分布を測定するもので、開口を直接備えた検出器が光源を横切って案内されるようになっている。
別の放射測定の解決策が特許文献5に開示されている。回転対象を有さないビーム強度分布のビーム密度を測定するために、互いに密に相前後してスリット開口と螺旋開口を配置し、異なる強度に構成感度を適合させるように共通軸回りに異なる速度で回転することによって「移動開口」が光源の遠視野面に生成される。
特許文献6はcw−レーザビームにおける測定のための2つの回転する開口を備える同様の構成を記載する。
レーザのエネルギ分布を測定するためのもっと複雑な構成が特許文献7に開示されており、これは2つの回転する開口を含み3つの開口を有している。
上記後半3つの解決策の全ては、異なるやり方で制御し同期させる2つの移動可能な開口の問題を有している。
− ビーム束を遮蔽要素によって遮蔽し、ビーム束の断面が遮蔽要素の上に結像されるようにする。
− ビーム束に対して断面が小さく、出力密度が低い部分ビーム束を、遮蔽要素の少なくとも1つの開口部によって取り出す。
− 遮蔽要素の少なくとも1つの開口部を、遮蔽要素の回転移動により、測定されるべきビーム束の断面内の異なる位置に移動させることによって、ビーム束を位置の異なる部分ビーム束へと時間的に連続的に分離する。遮蔽要素の少なくとも1つの開口による分離は放射光源の光ノードでもたらされる。
− 少なくとも1つの開口部を透過した部分ビーム束の測定値を、ビーム束の断面内の大きな範囲を測定する検出器の形態をした測定器によって時間的に連続的に取得し、ビーム束の断面の中で、部分ビーム束が関連付けられる位置を、遮蔽要素の回転移動の結果として得られる開口部の所与の経路に応じて把握する。その際、測定器による強度測定は光ノードの後ろのビーム束の発散領域の中でもたらされる。
− 連続的に取得した部分ビーム束の測定値およびそれに関連付けられた位置を含む測定データを記憶する。
装置であって、測定対象のビーム束を放出する放射光源と、ビーム束からビーム成分を取
り出す要素と、ビーム束から取り出されたビーム成分を測定する測定器と、を備える装置
において、上記の目的はさらに、
− ビーム成分を取り出す要素を、部分ビーム束を通過させるための少なくとも1つの開口部を有しかつ測定対象のビーム束がその断面上で遮蔽されるような遮蔽要素として構成し、
− 遮蔽要素を、ビーム束の中の、放射光源の光源地点の光ノードの前又は後ろのビーム束中に回転可能に配置して、ビーム束の断面の中の異なる領域内の予め定められた経路上で少なくとも1つの開口部を移動できるようにし、断面内で異なる位置を有する時間的に連続する部分ビーム束を、ビーム束の断面内の少なくとも1つの開口部の背後にある経路に沿った少なくとも1つの開口部の移動に基づいて、ビーム束の発散領域における大きな範囲を測定する測定器へと向け、
− 放射光源の光ノードの後ろのビーム束の発散領域における測定器を、ある距離だけ遮蔽要素の下流に配置して、高エネルギー放射光の測定値を取得することを目的として、部分ビーム束の放射密度が、ビーム束断面の中の開口部の位置における放射密度に対して複数桁のオーダで低減される程度にまで減衰されるようにし、
− 遮蔽要素を制御して、断面内の少なくとも1つの開口部の位置を取得し、測定器による測定値取得を遮蔽要素の移動に同期して、部分ビーム束の測定値を少なくとも1つの開口部の異なる位置に関連付け、位置依存的に測定されるビーム束の断面のパラメータを取得するために、測定および制御手段を設置することにおいて達成される。
ri=ri+i−1(Δr) (i=1,2,...n)
式中、nは経路34の数、Δrは、2つの隣接する経路34の間の半径方向の距離である。各経路34の上には、厳密に1つの微細孔36がある。各経路34の微細孔36は、各経路34の上に配置される。各経路34の上の微細孔36は、相互に関して角度Φだけずれ、その結果、内側から外側に延びる螺旋状の配置となり、微細孔36はダイアフラム板33の上に分散される(テレビ技術のニプコーディスクと同様)。
rmin=r0−(n−1)/2Δr
と
rmax=r0+(n−1)/2Δr
との間の範囲を超える走査地点39は同時に走査されないため、重大な、または有害な測定値に寄与しえない。この場合、r0は特定領域の中心を通って延びる経路34の半径である。
δ(α)=1/(2・tan(θB0))・α2、 (αはラジアン)
11 光軸
12 光源位置
13 中間焦点
14 IMFダイアフラム
15 集光器
2 ビーム束
21 断面
22 部分ビーム束
23 伝搬経路
24 二次的放射光
3 遮蔽要素
31 開口部
32 回転軸
33 ダイアフラム板
34 (光軸の周囲の開口部の)経路
35 大型孔用の円
36 微小孔
37 大型孔
38 走査ラスタ
39 走査地点
4 測定器
41 検出器
411 カメラ
412 光子カウンタ
42 吸収フィルタ
43 発光スクリーン
44 多層ミラー
5 記憶/評価ユニット
6 制御ユニット
7 駆動手段
8 エンコーダ
9 ローランド円
α 発散角
θB ブラッグ角
θB0 中心ブラッグ角
Φ 角度
ΔΦ ステップ角
Rm 子午面曲率半径
d1 (微細孔36の)直径
d2 (大型孔37の)直径
R (大型孔用の円35の)半径
ri (経路34の)半径
r0 半径
Δr 半径方向の距離
Claims (17)
- 高強度の高エネルギー放射光のビーム束の断面にてパラメータの空間分解測定を行う方法であって、前記ビーム束の特定位置にあるビーム成分が測定器に向けて取り出される方法において、
− 前記ビーム束(2)を遮蔽要素(3)によって遮蔽し、前記ビーム束(2)の断面(21)が前記遮蔽要素(3)の上に結像されるステップと、
− 前記ビーム束(2)に対して断面が小さく、かつ強度が弱い部分ビーム束(22)を、前記遮蔽要素(3;33)における少なくとも1つの開口部(31;36)によって取り出すステップと、
− 前記遮蔽要素(3;33)の回転移動により、前記遮蔽要素(3;33)の前記少なくとも1つの開口部(31;36)を、測定対象の前記ビーム束(2)の前記断面(21)内の異なる位置に移動させることによって、前記ビーム束(2)を、位置の異なる部分ビーム束(22)へと時間的に連続的に分離するステップであって、その分離は放射光源(1)の光ノード(12;13)の前又は後ろのビーム束(2)中で前記遮蔽要素(3)の前記少なくとも1つの開口(31;36)によって実行されるステップと、
− 前記少なくとも1つの開口部(31;36)を透過した前記部分ビーム束(22)の測定値を、前記ビーム束(2)の断面(21)内の大きな範囲を測定する検出器(41)の形態をした測定器(4)によって時間的に連続的に取得し、その際、強度測定が前記測定器(4)によって前記光ノード(12;13)の後ろのビーム束(2)の発散領域の中で実行されるものであり、前記ビーム束(2)の前記断面(21)の中で、前記部分ビーム束(22)が関連付けられる位置を、前記遮蔽要素(3;33)の回転移動の結果として得られる前記開口部(31;36)の所与の経路(34)に応じて把握するステップと、
− 前記連続的に取得した部分ビーム束(22)の測定値およびそれに関連付けられた位置を含む測定データを記憶するステップと、
を有する方法。 - 前記遮蔽要素(3)の前記開口部(31;36)を通じて測定対象の前記ビーム束(2)を部分ビーム束(22)に分離する前記ステップは、放射光源(1)の中間焦点(31)で実行されることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 前記開口部(31;36)を通じて測定対象の前記ビーム束(2)を部分ビーム束(22)に分離する前記ステップは、前記ビーム束(2)の光軸(11)に平行な回転軸(32)のまわりに前記遮蔽要素(3;33)を回転移動させることによって実行されることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 前記開口部(31;36)を通過する前記部分ビーム束(22)の強度の減弱は、前記ビーム束(2)の発散領域に前記遮蔽要素(3;33)を配置することによって実行されることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 前記開口部(31;36)を通過する前記部分ビーム束(22)の強度の減弱は、前記遮蔽要素(3;33)を放射光源(1)の中間焦点(13)の前の前記ビーム束(2)の収束領域の中に配置しかつ前記測定器(4)を前記中間焦点(13)の後ろの前記ビーム束(2)の発散領域の中に配置することにおいて実行されることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 前記開口部(31;36)を通過する前記部分ビーム束(22)の強度の減弱は、前記測定器(4)まで前記部分ビーム束(22)の伝搬経路(23)を長くすることによって達成されることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 各時点で厳密に1つの開口部(31;36)が前記ビーム束(2)の前記断面(21)で案内されることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 各時点で2つ以上の開口部(31;36)が前記ビーム束(2)の前記断面(21)で案内され、同時に生成される各部分ビーム束(22)の前記測定値の区別は、前記測定器(4)の別々の検出領域を通じて行われることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 測定値の獲得は、前記少なくとも1つの開口部(31)のその経路(34)上での位置が、前回の獲得位置に対して、少なくとも前記開口部(31)の長さ範囲に対応する量だけ移動方向に変化したときにトリガされることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 高強度の高エネルギー放射光のビーム束の断面にてパラメータを空間分解測定する装置であって、測定対象のビーム束を放出する放射光源と、前記ビーム束からビーム成分を取り出す要素と、前記ビーム束から取り出された前記ビーム成分を測定する測定器と、を備えて構成される装置において、
− ビーム成分を取り出す前記要素が、部分ビーム束(22)を通過させる少なくとも1つの開口部(31)を有しかつ測定対象の前記ビーム束(2)がその断面(21)上で遮蔽されるような遮蔽要素(3;33)として構成され、
− 前記遮蔽要素(3;33)が、前記放射光源(1)の光源地点(12;13)の光ノード(12;13)の前又は後ろの前記ビーム束(2)中に回転可能に配置され、前記ビーム束(2)の前記断面(21)の中の異なる領域内の予め定められた経路(34)上で前記少なくとも1つの開口部(31;36)を移動できるようになっており、前記断面(21)内で異なる位置を有する時間的に連続する部分ビーム束(22)が、前記少なくとも1つの開口部(31)の背後にある所定の経路(34)に沿った前記少なくとも1つの開口部(31;36)の移動に基づいて、前記ビーム束(2)の断面(21)内の大きな範囲を測定する前記測定器(4)へと向けられ、
− 放射光源(1)の光ノード(12;13)の後ろのビーム束(2)の発散領域の中の前記測定器(4)は、ある距離だけ前記遮蔽要素(3;33)の下流に配置され、前記高エネルギー放射光の測定値を取得することを目的として、前記部分ビーム束(22)が、前記ビーム束(2)の前記断面(21)の中の前記開口部(31;36)の位置における強度に対して放射光の強度が複数桁のオーダで減弱される程度にまで減衰されるようになっており、
− 前記遮蔽要素(3;33)を制御して、前記断面(21)内の前記少なくとも1つの開口部(31;36)の位置を取得し、前記測定器(4)による測定値取得を、前記遮蔽要素(3;33)の動きに同期して、前記部分ビーム束(22)の前記測定値を前記少なくとも1つの開口部(31;36)の異なる位置に関連付け、位置依存的に測定される前記ビーム束(2)の前記断面(21)のパラメータを取得するために、測定および制御手段が設置される、
ことを特徴とする装置。 - 前記遮蔽要素(3;33)が、光軸(11)の外かつ前記ビーム束(2)の外に配置された回転軸(32)を有することを特徴とする、請求項10に記載の装置。
- 前記遮蔽要素(3、33)が、前記ビーム束(2)の前記断面(21)を通る、前記回転軸(32)まわりの異なる経路(34)上で案内される複数の開口部(31)を有することを特徴とする、請求項10に記載の装置。
- 前記開口部(31)が、大きさの等しい微細孔(36)であることを特徴とする、請求項12に記載の装置。
- 前記開口部(31)が、大きさの異なる微細孔(36)と大型孔(37)とによって形成されることを特徴とする、請求項12に記載の装置。
- 前記測定器(4)が、検出器(41)と、前記検出器(41)の前に配置された発光スクリーン(43)とを有することを特徴とする、請求項10に記載の装置。
- 前記測定器(4)が、検出器(41)と、光軸(11)の外に配置された検出器(41)へ前記部分ビーム束(22)を偏向するビーム偏向光学素子とを有することを特徴とする、請求項10に記載の装置。
- 前記測定器(4)が検出器(41)と多層ミラー(44)とを有しており、前記検出器(41)と、多層ミラー(44)と、及び、光ノード(13)とが、前記多層ミラー(44)にその凹面鏡面の中心で接触するローランド円(9)の上に配置されることを特徴とする、請求項16に記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102010053323A DE102010053323B3 (de) | 2010-12-02 | 2010-12-02 | Verfahren zur räumlich aufgelösten Messung von Parametern in einem Querschnitt eines Strahlenbündels energiereicher Strahlung mit hoher Intensität |
DE102010053323.8 | 2010-12-02 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012118061A JP2012118061A (ja) | 2012-06-21 |
JP2012118061A5 JP2012118061A5 (ja) | 2012-10-04 |
JP5282136B2 true JP5282136B2 (ja) | 2013-09-04 |
Family
ID=44993852
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011254902A Expired - Fee Related JP5282136B2 (ja) | 2010-12-02 | 2011-11-22 | 高強度の高エネルギー放射光のビーム束断面におけるパラメータの空間分解測定方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8686372B2 (ja) |
JP (1) | JP5282136B2 (ja) |
DE (1) | DE102010053323B3 (ja) |
NL (1) | NL2007739C2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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-
2010
- 2010-12-02 DE DE102010053323A patent/DE102010053323B3/de not_active Expired - Fee Related
-
2011
- 2011-11-08 NL NL2007739A patent/NL2007739C2/en not_active IP Right Cessation
- 2011-11-22 JP JP2011254902A patent/JP5282136B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2011-11-30 US US13/307,244 patent/US8686372B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2012118061A (ja) | 2012-06-21 |
US20120138805A1 (en) | 2012-06-07 |
NL2007739C2 (en) | 2013-11-18 |
US8686372B2 (en) | 2014-04-01 |
DE102010053323B3 (de) | 2012-05-24 |
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Legal Events
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A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
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A975 | Report on accelerated examination |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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|
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