DE19841083C2 - Verfahren zur Charakterisierung eines Strahlenbündels - Google Patents
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Charakterisierung eines Strahlenbündels, dessen
Intensität und Phase innerhalb der Querschnittsfläche des Strahlenbündels ortsaufgelöst
gemessen werden, nach dem Oberbegriff des Anspruch 1, wie sie aus Daniel R. Neal,
"Amplitude and phase characterization using a 2-dimensional wavefront sensor", SPIE
vol. 2870, S. 72-82, bekannt ist. Bevorzugtes Anwendungsgebiet ist die Charakterisierung
von Laserstrahlung hoher Leistung oder starker Divergenz.
Bei der Strahldiagnostik ist es wünschenswert, den Strahl durch einen geeigneten Satz
von Kenngrößen an einem Ort des optischen Systems zu charakterisieren, so daß
nachfolgend aus diesen Kenngrößen eine Vorhersage über die Beschaffenheit des
propagierenden Strahles, zum Beispiel eines propagierenden Laserstrahles, an einem
später erreichten Ort im Strahlengang möglich ist. Dabei kann die Vermessung des
Strahls sowohl während des laufenden Betriebes als auch außerhalb des jeweiligen
Einsatzes der Strahlung erfolgen. Üblicherweise werden umfangreiche Vermessungen des
Strahls außerhalb dieses Einsatzes vorgenommen, während einzelne Kenngrößen wie
zum Beispiele die Intensität im laufenden Betrieb überwacht werden.
Wird die Intensitätsverteilung an einem Ort des Strahlengangs gemessen, so ist eine
Aussage über die Intensitätsverteilung dieses Strahls an einem später vom Strahl
erreichten Punkt des Strahlengangs nur dann möglich, wenn zusätzlich das
Propagationsverhalten des Strahls vollständig bekannt ist. Dieses Propagationsverhalten
wird physikalisch durch die zugrundeliegende Phasenverteilung der Wellenfront
beschrieben. Die gewünschte vollständige Charakterisierung des Strahls an allen Punkten
des Strahlengangs ist damit nur möglich, wenn sowohl die Intensität als auch die
Phasenverteilung der Wellenfront vollständig bekannt sind.
Die Phasenverteilung einer Strahlung läßt sich mit allgemein bekannten Algorithmen
berechnen, wenn ihre Richtungsverteilung bekannt ist. Dieses Prinzip macht sich der
Stand der Technik beim sogenannten Shack-Hartmann-Sensor, vgl. Daniel R. Neal et. al.,
"Amplitude and phase characterization using a 2-dimensional wavefront sensor", SPIE
vol. 2870, S. 72-82, zunutze, mit dem innerhalb einer Messung Intensität und Richtung
des Strahlenbündels ortsaufgelöst vermessen werden können. Um eine ortsaufgelöste
Messung zu ermöglichen teilt der Stand der Technik das gesamte Strahlenbündel mittels
einer Mikrolinsenanordnung in Teilstrahlenbündel auf. Über den geometrischen Verlauf
eines Teilstrahls, welcher durch den Mittelpunkt der Mikrolinse sowie dem Auftreffpunkt
des zugehörigen Teilstrahls auf einem positionsempfindlichen Detektor bestimmt ist, läßt
sich jeweils die Richtung einer Gerade definieren. Die Gesamtheit der derart definierten
Geraden stellt die Richtungsverteilung des Gesamtstrahlenbündels dar.
Die nach dem Stand der Technik verwendete Mikrolinsenanordnung hat dabei zwei
Funktionen. Zum einen stellt sie ein System von Subaperturen dar, welches das
Strahlenbündel in Teilstrahlenbündel teilt. Andererseits kommt ihr die wichtige Aufgabe
zu, die Teilstrahlenbündel zu formen. Nach dem Stand der Technik besteht die
Strahlformung in der Fokussierung der Teilstrahlen. Ohne diese Fokussierung käme es
nach dem Durchlaufen der Strahlung durch die Mikrolinsenanordnung zu
Interferenzeffekten. Diese bewirken, daß die Teilstrahlenbündel dann nicht mehr
vollständig voneinander räumlich separiert werden können und somit keine eindeutlige
Bestimmung des Auftreffortes der Teilstrahlenbündel auf dem Detektor durchgeführt
werden kann. Da selbst bei nicht überlappenden bzw. nicht interferierenden Teilstrahlen
die Genauigkeit der Messung maßgeblich davon abhängt, wie zuverlässig und genau die
Auftrefforte der Teilstrahlen auf einem ortsempfindlichen Detektor bestimmt werden
können, werden erhebliche Anstrengungen unternommen, die Güte der
Mikrolinsenanordnungen zu verbessern. Der Stand der Technik bemüht hierzu moderne
Fertigungsmethoden wie die hochauflösende Photolithographie zur Herstellung möglichst
kleiner Mikrolinsen deren Parameter wie Größe, Form und Brennweite maßgeschneidert
werden um die Kalibrierung der Auswerteelektronik und die Signalverarbeitung zu
optimieren, vgl. D. Kwo et. al, "A Hartmann-Shack wavefront sensor using a binary
lenslet array", SPIE vol 1544, S. 66-74. Bei aller Sorgfalt lassen sich bei der Strahlformung
durch die Mikrolinsen Abbildungsfehler nicht vermeiden. Soll insbesondere stark
divergente Strahlung, wie zum Beispiel die von Diodenlasern, vermessen werden, so
entstehen aufgrund der dann insbesondere in den Randbereichen nicht mehr paraxialen
Beleuchtung der Linsenelemente Abbildungsfehler, die zu erheblichen Meßfehlern
führen. Eigene Messungen zeigten daher, daß die mit einem Shack-Hartmann-Sensor
vermessene Strahlung von divergent strahlenden Diodenlaseranordnungen nicht mehr
zuverlässig charakterisiert werden kann.
Die US 5,629,765 offenbart ferner den Einsatz einer Präzisionsanordnung von Mikrolinsen zur
Vermessung einer Wellenfront. Jede Mikrolinse enthält mittig ein opakes Zentrum konzentrisch
zur optischen Achse der jeweiligen Mikrolinse. Die opaken Zentren stellen ein als Referenz
dienendes Punktmuster bereit, wobei die Referenzpunkte auf dem jeweiligen Hauptstrahl der
Linse liegt. Auf die Phasenverteilung des Strahls kann geschlossen werden, indem die
geometrische Abweichung der Auftreffpunkte der Teilstrahlen von den Referenzpunkten bestimmt
wird. Eine Intensitätsmessung ist dabei nicht vorgesehen.
Die EP 0 461 730 A1 lehrt die ortsaufgelöste Messung der Intensitätsverteilung unter Verwendung
einer Lochblende und einem nachgeschalteten Strahlungsdetektor. Eine gleichzeitige Messung der
Phasenverteilung ist nicht vorgesehen.
Die DE 195 28 198 A1 offenbart ein Verfahren zur Bestimmung der Intensitätsverteilung eines
Laserstrahls. Bei diesem wird aus dem Gesamtstrahl ein leistungsreduzierter Teilstrahl an
vorbestimmten Positionen abgezweigt, der Auftreffpunkt des Teilstrahls bestimmt, dessen
Intensität von einem Detektor ermittelt, und auf die Intensitätsverteilung des Gesamtstrahls
zurückgeschlossen. Eine Phasenverteilung wird nicht bestimmt.
Zu weiteren Verfälschungen kommt es beim Stand der Technik, wenn der
Strahlquerschnitt auf die Größe des Detektors angepaßt werden muß. Für konkrete
Anwendungen ist es nämlich erforderlich, die Eigenschaften des Strahls innerhalb der
gesamten Bearbeitungszone zu kennen. Soll zum Beispiel ein zum Schweißen
einzusetzender Laserstrahl charakterisiert werden, so ist dessen Intensitäts- und
Phasenverteilung innerhalb des Brennflecks auf dem Werkstück von Interesse. Da die
ortsempfindlichen Detektoren zumeist eine andere Größe als der jeweilige Brennfleck
besitzen, muß notwendigerweise der Strahlquerschnitt auf diesen Detektor angepaßt
werden um die gewünschten Ortsinformationen für Punkte innerhalb der
Bearbeitungszone zu erhalten. Diese Anpassung ist jedoch immer mit Abbildungsfehlern
verknüpft, die die Genauigkeit und Zuverlässigkeit der Messung schmälert.
Wünschenswert ist es daher, daß der Detektor auf den Strahl angepaßt wird, und nicht
umgekehrt der Strahl auf den Detektor.
Ein weiterer Nachteil der Lösung nach dem Stand der Technik liegt darin, daß wegen der
erforderlichen Linsenanordnung nur Strahlung geringer Intensität vermessen werden
kann. Dies liegt daran, daß bei hochenergetischer Strahlung die Absorption im
Linsenmaterial zur Zerstörung der Linsen führen kann. Nachteilig ist ferner, daß der
Einsatz der Mikrolinsen die Ortsauflösung der Messung beschränkt, da der Abstand
benachbarter Meßpunkte innerhalb des Strahlenbündels grundsätzlich nicht kleiner als
die Abmessung der Mikrolinsen sein kann.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zur gleichzeitigen Bestimmung
von Intensitäts- und Phasenverteilung von Strahlung, vorteilhafterweise kohärenter
Strahlung, und besonders vorteilhafterweise Laserstrahlung, bereitzustellen, das die oben
genannten Nachteile vermeidet und zusätzlich auf kostengünstige Weise die
Ortsauflösung der Messung steigert. Weiterhin ist es Aufgabe, auch die Strahlung von
Laserdiodenarrays zuverlässig mit hoher Auflösung charakterisieren zu können.
Diese Aufgaben werden erfindungsgemäß durch die im Anspruch 1 gegebenen
Merkmale gelöst. Vorteilhafte Ausgestaltungen für die Durchführung des Verfahrens sind
in den Unteransprüchen 2-6 gegeben.
Erfindungsgemäß wurde erkannt, daß die sich aus dem Stand der Technik ergebenden
Nachteile darauf beruhen, daß das zur Teilung des Strahlenbündels verwendete optische
Element strahlformend ist. Die Mikrolinsenanordnung nach dem Stand der Technik wird
vorliegend als ein solches optisches Element aufgefaßt. Bei dem Begriff der
Strahlformung soll nur darauf abgehoben werden, daß die Teilstrahlen geformt werden,
die Teilung des Ausgangsstrahls in einzelne Teilstrahlen soll nicht von diesem Begriff
erfaßt werden. In diesem Sinne formt die Mikrolinsenanordnung als verwendetes
optisches Element nach dem Stand der Technik die entstehenden Teilstrahlen.
Bei strahlformenden Elementen kommt es grundsätzlich zu Abbildungsfehlern mit den
oben genannten Nachteilen. Ziel der vorliegenden Erfindung ist es daher ein Verfahren
der genannten Art bereitzustellen, bei dem Abbildungsfehler von vorne herein
ausgeschlossen werden. Die Lösung dieser Aufgabe besteht darin, auf die strahlformende
Eigenschaft des verwendeten optischen Elements zu verzichteten. Vorteilhafterweise wird
als optisches Element eine Blende eingesetzt welche eine reine Apertur darstellt, und
welche die Teilstrahlen damit nicht formt. Ist die Blende ganz besonders vorteilhaft eine
symmetrische Lochblende, so bewirkt diese als reine Apertur nur eine beugungsbedingte
Aufweitung des Teilstrahls. Ein Abbildungsfehler in Gestalt einer Verschiebung des
Intensitätsschwerpunkts des Teilstrahls tritt dabei jedoch nicht auf.
Wird als Blende eine Blende mit nur einer einzelnen Durchtrittsöffnung eingesetzt (z. B.
eine Lochblende), so wird nur ein Teilstrahl aus dem Gesamtstrahlenbündel
ausgeblendet. In diesem Fall wird das gesamte Strahlprofil dadurch vermessen, daß bei
der Messung die Lochblende mechanisch verschoben und auf diese Weise das Strahlprofil
sequentiell abgetastete wird. Der Unterscheid zum Stand der Technik besteht dann darin,
daß beim erfindungsgemäßen Verfahren die einzelnen Teilstrahlen zeitlich nacheinander
vorliegen, während nach dem Stand der Technik alle Teilstrahlen zu ein und dem selben
Zeitpunkt vorliegen.
Es ist auch möglich, daß zur Messung eine Blende mit einigen wenigen
Durchtrittsöffnungen eingesetzt wird. In einem solchen Fall muß zunächst eine
eindeutige Zuordnung von Durchtrittsöffnung und Lichtfleck auf dem Detektor erfolgen
damit die Geraden auf eindeutige Weise definiert werden. Anschließend erfolgt über eine
geeignete Abfolge von mechanischen Verschiebungen der Blende das Abtasten des
gesamten Strahlprofils. Auf diese Weise kann die Meßgeschwindigkeit vorteilhafterweise
gesteigert werden.
Die durch die Blende in Teilstrahlenbündel zerteilte Strahlung trifft nachfolgend auf einen
positionsempfindlichen Detektor, der die gesamte durch die Blende hindurchtretende
Strahlung erfaßt. Der Detektor ermöglicht die Ermittlung der Gesamtleistung und der
Position des Strahlungsschwerpunkts auf dem Detektor. Dieser Intensitätsschwerpunkt ist
einer der beiden Punkte, mit welchen beim erfindungsgemäßen Verfahren die über den
Teilstrahl festgelegte Gerade definiert wird. Durch zusätzliche Auswertung der örtlichen
Verteilung der Strahlung innerhalb des Lichtflecks auf dem Detektor ist es möglich, auf
die Homogenität der Phase innerhalb der Durchtrittsöffnung zu schließen. Modulationen
der Phasenfront innerhalb der Durchtrittsöffnung, deren örtliche Ausdehnung kleiner als
die Größe der Öffnung ist, beeinflussen die Aufweitung zusätzlich. Zur Vermessung einer
Wellenfront wird diese mit dem Detektor abgetastet (abgescannt) und darüber ein
zweidimensionaler Datensatz aus Richtungsvektoren und Intensitäten gewonnen. Durch
allgemein bekannten Algorithmen wird unter Einbeziehung der Wellenlänge der
Strahlung die Phasenverteilung der vermessenen Wellenfront durch eine partielle
Integration der Richtungsverteilung nach den Ortskoordinaten errechnet.
Da beim erfindungsgemäßen Verfahren keine Beschränkung der Ortsauflösung durch die
Größe der Mikrolinsen erfolgt, liegt die Ortsauflösung beugungsbegrenzt nur etwa beim
10- bis 100-fachen der Wellenlänge der Strahlung, und liegt damit deutlich unterhalb
dessen, was nach dem Stand der Technik möglich ist. Auch entfallen Einschränkungen
bezüglich Wellenlänge oder Intensität der zu vermessenden Strahlung. So können mit
dem erfindungsgemäßen Verfahren auch hohe Strahlleistungen wie solche von
Hochleistungs-Materialbearbeitungslasern mit Leistungen im kW-Bereich vermessen
werden, deren Strahlung Mikrolinsen stark erhitzen und darüber zerstören würde.
Als ortsempfindliche Detektoren kommen grundsätzlich alle Typen von Detektoren in
Frage, welche neben der insgesamt auftreffenden Leistung auch eine Ortsinformation
liefern. Typische Vertreter dieser Gruppe sind Kameradetektoren (zum Beispiel CCD's
(charge coupled device) oder Pyro-Kameradetektoren), positionsauflösende
Photoempfänger (englisch PSD, position sensitive device) zur direkten Bestimmung von
Gesamtleitung und Strahlungsschwerpunkt, 4-Quadranten-Detektoren oder auch
Zeilendetektoren zur eindimensionalen Lagebestimmung.
Claims (6)
1. Verfahren zur Charakterisierung eines Strahlenbündels, insbesondere eines
Laserstrahlenbündels, bei dem das Strahlenbündel durch ein optisches Element in
Teilstrahlenbündel zerteilt wird, deren jeweilige Intensität ortsaufgelöst detektiert
wird, und bei dem die Phasenverteilung der Gesamtstrahlung aus der
Einstrahlrichtungsverteilung der Teilstrahlenbündel bestimmt wird, dadurch
gekennzeichnet, daß das optische Element nicht strahlformend ist.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das optische Element
eine Blende ist.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das optische Element
eine Lochblende ist.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 2-3, dadurch gekennzeichnet, daß die Blende
nur ein Teilstrahlenbündel durchläßt und der Strahlquerschnitt sequentiell abgetastet
wird.
5. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1-4, dadurch gekennzeichnet,
daß zur ortsempfindlichen Detektion der Teilstrahlenbündel ein CCD-Kameradetektor
oder ein Pyro-Kameradetektor eingesetzt wird.
6. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1-4, dadurch gekennzeichnet,
daß zur ortsempfindlichen Detektion der Teilstrahlenbündel ein PSD (position sensitive
device), ein 4-Quadranten-Detektor oder ein Zeilendetektor eingesetzt wird.
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102012212354A1 (de) * | 2012-07-13 | 2014-01-16 | Asml Netherlands B.V. | Messvorrichtung zur Vermessung und Überwachung mindestens eines Laserstrahls sowie Verwendung einer derartigen Messvorrichtung |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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DE102010053323B3 (de) | 2010-12-02 | 2012-05-24 | Xtreme Technologies Gmbh | Verfahren zur räumlich aufgelösten Messung von Parametern in einem Querschnitt eines Strahlenbündels energiereicher Strahlung mit hoher Intensität |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0461730A1 (de) * | 1990-06-15 | 1991-12-18 | Interuniversitair Microelektronica Centrum Vzw | Verfahren und Vorrichtung zur Messung der Energieverteilung eines Strahlungsbündels |
DE19528198A1 (de) * | 1995-08-01 | 1997-02-06 | Blz Gmbh | Verfahren zur Bestimmung der Intensitätsverteilung eines Laserstrahls |
US5629765A (en) * | 1995-12-15 | 1997-05-13 | Adaptive Optics Associates, Inc. | Wavefront measuring system with integral geometric reference (IGR) |
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1998
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0461730A1 (de) * | 1990-06-15 | 1991-12-18 | Interuniversitair Microelektronica Centrum Vzw | Verfahren und Vorrichtung zur Messung der Energieverteilung eines Strahlungsbündels |
DE19528198A1 (de) * | 1995-08-01 | 1997-02-06 | Blz Gmbh | Verfahren zur Bestimmung der Intensitätsverteilung eines Laserstrahls |
US5629765A (en) * | 1995-12-15 | 1997-05-13 | Adaptive Optics Associates, Inc. | Wavefront measuring system with integral geometric reference (IGR) |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
KWO, D. (u.a.), In: SPIE, Bd. 1544, S. 66-74 * |
NEAL, D.R. (u.a.), In: SPIE, Bd. 2870, S. 72-82 * |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102012212354A1 (de) * | 2012-07-13 | 2014-01-16 | Asml Netherlands B.V. | Messvorrichtung zur Vermessung und Überwachung mindestens eines Laserstrahls sowie Verwendung einer derartigen Messvorrichtung |
DE102012212354B4 (de) | 2012-07-13 | 2024-05-16 | Asml Netherlands B.V. | Messvorrichtung zur Vermessung und Überwachung mindestens eines Laserstrahls, Strahlführungssystem zur Führung mindestens eines Laserstrahls mit einer derartigen Messvorrichtung sowie Verwendung einer derartigen Messvorrichtung |
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