JP2002022681A - 多層鏡及び射出コリメータが設けられるx線分析装置 - Google Patents

多層鏡及び射出コリメータが設けられるx線分析装置

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は、従来の装置によって得られる分解
能よりも良好である分解能を実現することを目的とす
る。 【解決手段】 公知のX線分析(例えば、回折用)の装
置における試料(4)から発する並行放射線(12)は
波長に応じて分析され、方物面多層鏡14によって焦点
20に焦点が合わされる。コリメータ28は焦点の近く
に配置される。装置の分解能は、コリメータの角度通路
幅を装置の反射角度の最大範囲αmaxよりも小さくす
ることによって高められる。本発明では、装置の分解能
はより良好に決められ、鏡の表面の各反射点(A又は
B)からの通路幅に対する角度値が、反射点の位置に実
質的に依存するよう射出コリメータ(28)を導入する
ことによって高められる。射出コリメータは多層鏡の反
射点から異なる距離に配置される2つの互いに並行なナ
イフエッジの形状で実施される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、X線によって試料
を照射するためのX線源と、試料から発するX線を検出
するためのX線検出器と、試料と検出器との間のビーム
路に配置され、関連の反射角範囲αmaxを有する放物
面多層鏡と、方物面多層鏡の焦点の領域に配置される第
1のコリメータとを含む、試料のX線分析のための装置
に関する。
【0002】
【従来の技術】X線分析のための装置、例えば、蛍光X
線又はX線回折のための装置において、試料は、一般的
に従来のX線管であるX線源から発生するX線によって
照射される。時として、試料に入射する放射線をできる
だけ並行にすることが重要である。つまり、X線ビーム
内の放射線の様々な方向が互いに対し小さな角度のみを
なすことが保証されることが重要である。これにより、
測定は実質的に試料の形状の偏り(例えば、X線粉末回
折の場合、入射ビームに面する試料面は高い度合いで平
らである必要がない)、試料による場所に依存するX線
吸収、及び、試料の全体としての場所の偏りに対し影響
を受けないようにされる。更に、X線の入射角度が好適
に決められる。これは高い分解能を有するX線回折の場
合に特に重要である。
【0003】1999年の10月、「Materials World
s」に発表された「Modern X-ray mirrors for perfect
parallel beams」(616乃至618頁)の記事から、
X線源から発生するX線を方物面多層鏡によって並行及
び単色にし、並行単色ビームによって分析されるべき試
料を照射することが公知である。試料から発生する放射
線は別の方物面多層鏡に入射し、この方物面多層鏡はX
線検出器の前に配置されるコリメータスリットの方向に
放射線を反射させ、また、反射されたビームから望まし
くない波長が取り除かれることを保証する。上述のコリ
メータスリットは別の方物面多層鏡の焦点の領域に設け
られる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、引用された
記事から公知である配置によって得られる分解能よりも
良好である分解能を実現することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】この為に、本発明のX線
分析装置は、第1のコリメータが多層鏡の各反射点から
角度通路幅に対し略等しい角度値を有するように配置さ
れ、上記角度値は多層鏡の各反射点から見たときに最大
反射角度範囲αmaxよりも小さいことを特徴とする。
【0006】本発明は以下の見識に基づいている。X線
用の多層鏡は反射角度の限られた範囲αmaxのみを有
する。実際の多層鏡では、この範囲は0.05°の大き
さのオーダの値を有する場合がある。方物面多層鏡が焦
点距離Fを有すると、これは、角度広がりαmaxを有
する入射準並行ビームは、幅F*αmaxで放物線の焦
点の付近でイメージ化されることを意味する。コリメー
タの通路幅がこのイメージの幅よりも大きいと、そのよ
うな通路幅は装置の分解能に影響を与えない。
【0007】しかし、そのような通路幅はバックグラン
ド放射線の除去に影響を与える。第1のコリメータに入
射するX線は試料から発する所望の放射線と望ましくな
い放射線とから構成される。所望される放射線とは、試
料から所望の角度で発する放射線のことである。望まし
くない角度で試料及び環境から発生する他の全ての放射
線(バックグランド放射線)は第1のコリメータによっ
てできる限り止められなければならない。
【0008】通路幅が上記イメージの幅より小さくなる
よう選択されると、イメージ内にある放射線の一部が遮
断される。これは、例えば1つの同じ場所に配置される
2つのフラットナイフエッジによって形成される通常の
コリメータによって行われる。ナイフエッジは互いから
所与の距離が置かれて配置され、それにより所与のスリ
ット幅を有するスリット状の通路開口部が形成される。
この幅に対応する角度の広がりを有し、多層鏡に入射す
る放射線は従って遮断され、これにより角度範囲が上記
最大角度範囲αmaxよりも小さくなるよう選択される
ことが可能であり、従って装置の角度分解能が高められ
る。
【0009】しかし、分解能が高められることの可能性
は、多層鏡の各反射点が上記イメージの異なる大きさを
形成する場合、制限されてしまう。この場合、分解能は
もはや好適には決められることができず、更に、重要な
度合いで焦点から最も離れて配置される点によって決め
られてしまう。これは、イメージの大きさは、そのよう
な点に対し当該の反射領域とイメージの領域との間の距
離に比例するからである。第1のコリメータは、多層鏡
の各反射点から通路幅に対し略等しい角度値を有するよ
う配置されるので、従って各反射点は装置の分解能に同
じように貢献する。
【0010】本発明の実施例において、反射鏡の表面か
ら見たときの第1のコリメータの通路幅に対する角度値
は調節可能である。この実施例は多層鏡の全体の領域が
等しい分解能を提供するという利点のみならず、装置の
特性が測定状況に適応される、或いは、コリメータが装
置内に配置され得る異なる多層鏡に適応され得るという
利点も提供する。
【0011】本発明の更なる実施例において、第1のコ
リメータは多層鏡の反射点から異なる距離で配置される
2つの互いに並行なナイフエッジから形成される。この
実施例は単純に製造され得、また、所望される場合は、
調節可能となるよう直ぐに構成され得る。
【0012】本発明の更なる実施例では、コリメータの
ナイフエッジは、コリメータを通るビーム路の方向を横
断するような方向への移動によって互いに対し移動可能
である。コリメータの通路幅、従って、装置の分解能
は、コリメータスリットを反射面の様々な点から見たと
きの角度値に関し逸脱をもたらすことなく制御される。
【0013】本発明の更なる実施例には、試料と検出器
との間のビーム路に配置される第2の調節可能なコリメ
ータが設けられる。この段階は、試料に入射するビーム
と試料から発するビームとの間の角度が小さい値を有す
る場合に特に重要である。このような場合では、試料に
入射するビームの断面が試料よりも大きくなることが直
ぐに生じることがある。この場合、試料から発する放射
エネルギーの量は入射角度及び試料の形状に依存し、強
度測定においてこれは補正することが困難な状況とな
る。補正は、このような装置に使用されるデータ処理コ
ンピュータプログラムによっても好適に行われることが
できない。従って、この分析X線装置における問題を補
正するよう入射ビーム内にビーム制限要素を配置するこ
とが既知であるが、多くの場合この為に必要となる空間
が得られない。コリメータを外に向かうビーム内に配置
しコリメータの通路幅を入射角度に適応させることによ
り、検出器が常に試料の決められた部分を「知覚する」
ことが保証され、それにより既知となる補正ファクタが
データ処理コンピュータプログラムに得られる。
【0014】
【発明の実施の形態】本発明を、図面を参照し以下に詳
細に説明する。図中、対応する要素は対応する参照符号
によって示される。
【0015】図1は、2つの方物面多層鏡を有するX線
分析のための既知の配置を示す。この配置は特にX線回
折に特に好適である。この配置は、この配置によって分
析されるべき試料4を照射するX線源2を含む。試料に
入射する放射線6をできる限り並行にするために、放射
線を並行にする装置がX線源と試料との間のビーム路に
配置され、本実施例では、上記装置はX線反射のための
多層鏡8である。この多層鏡の反射面は点線10によっ
て示されるように放物線状である。多層鏡の表面に設け
られる反射層は場所に依存する厚さを有し、それにより
いわゆる序所に厚みが変化する多層鏡が得られる。(平
面的に考えると点状であり、立体的に考えると図の平面
に対し垂直である線上の)放射源によって鏡が照射され
ると、多層鏡の各点においてブラッグ反射条件が満たさ
れ、その結果、多層鏡に対し大きい反射面が得られるよ
う徐々に厚みが変化される。
【0016】X線が試料4で回折する後、X線12の互
いに並行であるビームが試料から主に放射される。しか
し、X線が試料及びその付近と相互作用することによ
り、優勢的である並行の方向以外の方向で試料から放射
されるビームが生じる可能性がある。このようにずれた
方向を有するX線は通常、測定の精度に影響を与える。
従って、ビーム12からずれたビームを取り除くことが
試みられる。この為に、X線反射のための更なる多層鏡
14が、試料4とX線検出器16との間のビーム路に配
置される。多層鏡8と同様に、多層鏡14は、破線18
によって示されるようにその表面が方物線状であり、徐
々に厚みが変化する多層鏡として構成される。
【0017】多層鏡8及び14の方物線状であることに
より、X線源2から放射されるX線は、試料4に到達す
る前に略並行なビームに変換され、また、試料の後に、
多層鏡14の焦点20の中に焦点を有する収束ビームに
再び変換される。
【0018】図2は、本発明のX線分析のための配置の
詳細を示す。図中の多数の補助線24a、24b、26
a、及び26bは、多層鏡の各反射点からコリメータの
通路幅に対し略等しい角度値が得られることを示す
(尚、分かりやすくするために、補助線は多層鏡14か
ら発するX線ビームのX線を示すものではなく、点A及
び点Bから見たときのコリメータスリット28の通路幅
に対する角度値の角度の境界のみを示す)。図2に示さ
れる実施例では、コリメータは多層鏡の反射点から異な
る距離で配置される2つのナイフエッジから形成される
コリメータスリットとして形作られる。当該の反射点
(例えば点B)とコリメータ28の通路幅の中心32と
の間を上記距離として考えることが可能であり、例えば
或る長さの線セグメント30として示される。反射に関
与する多層鏡14の表面の点に対し通路幅の角度値γ又
はδが略一定となる状態は、上記距離を適当に異なるよ
う選択することによって達成される(分かりやすくする
ために、図2中の表面の反射部分は実際の状態に対応す
る値よりもかなり大きく示される)。
【0019】高められた分解能の所望の効果は、第1の
コリメータの通路幅の角度値(γ又はδ)が、多層鏡の
反射点から見たときに、反射の最大角度範囲αmax
りも小さいときに達成される。実際の多層鏡における最
大角度範囲の値は0.05°の大きさのオーダなので、
図2中の角度γ及びδはかなり強調されているものであ
ることが明らかであろう。
【0020】コリメータのナイフエッジは、コリメータ
を通るビーム路の方向に対し横断するような方向におい
て互いに対し図中には示されない方法で移動可能であ
る。コリメータの通路幅、従って、装置の分解能は、コ
リメータスリットを反射面の様々な点から見たときの角
度値に関し逸脱をもたらすことなく制御される。
【0021】図3は本発明の更なる実施例を示す図であ
る。図2と同様に、図3中のコリメータ28は多層鏡の
反射点から異なる距離で配置される2つのナイフエッジ
から形成されるコリメータスリットとして形作られ、そ
れにより、多層鏡のどの反射点から見ても通路幅の等し
い角度値が得られる。図3に示される装置には、試料4
とX線検出器16との間のビーム路に第2のコリメータ
34が更に設けられる。第2のコリメータ34は、ナイ
フエッジがコリメータを通るビーム路の方向で互いに対
し移動可能であることによって(図示されない方法で)
調整可能である。検出器は、通路幅が試料に入射する放
射線の角度に適応されると、常に試料の決められた部分
を知覚する。
【図面の簡単な説明】
【図1】2つの方物面多層鏡を有するX線分析のための
公知の配置を示す図である。
【図2】本発明のX線分析のための配置の詳細を示す図
である。
【図3】本発明の更なる実施例を示す図である。
【符号の説明】
2 X線源 4 試料 6、12 放射線 8、14 多層鏡 10、18 方物面 16 X線検出器 20 焦点 22、28 第1のコリメータ 24a、24b、26a、26b 補助線 32 コリメータの通路幅の中心 34 第2のコリメータ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (71)出願人 590000248 Groenewoudseweg 1, 5621 BA Eindhoven, Th e Netherlands Fターム(参考) 2G001 AA01 BA04 BA18 CA01 EA01 EA20 GA01 GA13 JA04 SA01 SA04

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 X線によって試料を照射するためのX線
    源と、 上記試料から発するX線を検出するためのX線検出器
    と、 上記試料と上記X線検出器との間のビーム路に配置さ
    れ、関連の反射角度範囲αmaxを有する方物面多層鏡
    と、 上記方物面多層鏡の焦点の領域に配置される第1のコリ
    メータとを含む、試料をX線分析するための装置であっ
    て、 上記第1のコリメータは、上記多層鏡の各反射点から通
    路幅に対し略等しい角度値を有するよう配置され、 上記角度値は、上記多層鏡の各反射点から見たときに、
    上記最大反射角度範囲αmaxよりも小さいことを特徴
    とする装置。
  2. 【請求項2】 上記多層鏡の表面から見たときの上記第
    1のコリメータの上記通路幅に対する上記角度値は調節
    可能である請求項1記載の装置。
  3. 【請求項3】 上記第1のコリメータは、上記多層鏡の
    上記反射点から異なる距離で配置される2つの互いに並
    行なナイフエッジによって形成される請求項1又は2記
    載の装置。
  4. 【請求項4】 上記第1のコリメータの上記ナイフエッ
    ジは、上記第1のコリメータを通るビーム路の方向を横
    断するような方向への移動によって互いに対し移動可能
    である請求項3記載の装置。
  5. 【請求項5】 上記試料と上記X線検出器との間のビー
    ム路に第2の、調節可能なコリメータが設けられる請求
    項1乃至4のうちいずれか一項記載の装置。
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