JP2002022681A - 多層鏡及び射出コリメータが設けられるx線分析装置 - Google Patents
多層鏡及び射出コリメータが設けられるx線分析装置Info
- Publication number
- JP2002022681A JP2002022681A JP2001159247A JP2001159247A JP2002022681A JP 2002022681 A JP2002022681 A JP 2002022681A JP 2001159247 A JP2001159247 A JP 2001159247A JP 2001159247 A JP2001159247 A JP 2001159247A JP 2002022681 A JP2002022681 A JP 2002022681A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- collimator
- sample
- multilayer mirror
- mirror
- ray
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000002347 injection Methods 0.000 title abstract 3
- 239000007924 injection Substances 0.000 title abstract 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 abstract description 17
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 abstract description 10
- 230000004304 visual acuity Effects 0.000 abstract 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 abstract 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 238000004590 computer program Methods 0.000 description 2
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 101001094026 Synechocystis sp. (strain PCC 6803 / Kazusa) Phasin PhaP Proteins 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000004807 localization Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000000634 powder X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
- G01N23/223—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material by irradiating the sample with X-rays or gamma-rays and by measuring X-ray fluorescence
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
- G01N2223/07—Investigating materials by wave or particle radiation secondary emission
- G01N2223/076—X-ray fluorescence
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
能よりも良好である分解能を実現することを目的とす
る。 【解決手段】 公知のX線分析(例えば、回折用)の装
置における試料(4)から発する並行放射線(12)は
波長に応じて分析され、方物面多層鏡14によって焦点
20に焦点が合わされる。コリメータ28は焦点の近く
に配置される。装置の分解能は、コリメータの角度通路
幅を装置の反射角度の最大範囲αmaxよりも小さくす
ることによって高められる。本発明では、装置の分解能
はより良好に決められ、鏡の表面の各反射点(A又は
B)からの通路幅に対する角度値が、反射点の位置に実
質的に依存するよう射出コリメータ(28)を導入する
ことによって高められる。射出コリメータは多層鏡の反
射点から異なる距離に配置される2つの互いに並行なナ
イフエッジの形状で実施される。
Description
を照射するためのX線源と、試料から発するX線を検出
するためのX線検出器と、試料と検出器との間のビーム
路に配置され、関連の反射角範囲αmaxを有する放物
面多層鏡と、方物面多層鏡の焦点の領域に配置される第
1のコリメータとを含む、試料のX線分析のための装置
に関する。
線又はX線回折のための装置において、試料は、一般的
に従来のX線管であるX線源から発生するX線によって
照射される。時として、試料に入射する放射線をできる
だけ並行にすることが重要である。つまり、X線ビーム
内の放射線の様々な方向が互いに対し小さな角度のみを
なすことが保証されることが重要である。これにより、
測定は実質的に試料の形状の偏り(例えば、X線粉末回
折の場合、入射ビームに面する試料面は高い度合いで平
らである必要がない)、試料による場所に依存するX線
吸収、及び、試料の全体としての場所の偏りに対し影響
を受けないようにされる。更に、X線の入射角度が好適
に決められる。これは高い分解能を有するX線回折の場
合に特に重要である。
s」に発表された「Modern X-ray mirrors for perfect
parallel beams」(616乃至618頁)の記事から、
X線源から発生するX線を方物面多層鏡によって並行及
び単色にし、並行単色ビームによって分析されるべき試
料を照射することが公知である。試料から発生する放射
線は別の方物面多層鏡に入射し、この方物面多層鏡はX
線検出器の前に配置されるコリメータスリットの方向に
放射線を反射させ、また、反射されたビームから望まし
くない波長が取り除かれることを保証する。上述のコリ
メータスリットは別の方物面多層鏡の焦点の領域に設け
られる。
記事から公知である配置によって得られる分解能よりも
良好である分解能を実現することを目的とする。
分析装置は、第1のコリメータが多層鏡の各反射点から
角度通路幅に対し略等しい角度値を有するように配置さ
れ、上記角度値は多層鏡の各反射点から見たときに最大
反射角度範囲αmaxよりも小さいことを特徴とする。
用の多層鏡は反射角度の限られた範囲αmaxのみを有
する。実際の多層鏡では、この範囲は0.05°の大き
さのオーダの値を有する場合がある。方物面多層鏡が焦
点距離Fを有すると、これは、角度広がりαmaxを有
する入射準並行ビームは、幅F*αmaxで放物線の焦
点の付近でイメージ化されることを意味する。コリメー
タの通路幅がこのイメージの幅よりも大きいと、そのよ
うな通路幅は装置の分解能に影響を与えない。
ド放射線の除去に影響を与える。第1のコリメータに入
射するX線は試料から発する所望の放射線と望ましくな
い放射線とから構成される。所望される放射線とは、試
料から所望の角度で発する放射線のことである。望まし
くない角度で試料及び環境から発生する他の全ての放射
線(バックグランド放射線)は第1のコリメータによっ
てできる限り止められなければならない。
よう選択されると、イメージ内にある放射線の一部が遮
断される。これは、例えば1つの同じ場所に配置される
2つのフラットナイフエッジによって形成される通常の
コリメータによって行われる。ナイフエッジは互いから
所与の距離が置かれて配置され、それにより所与のスリ
ット幅を有するスリット状の通路開口部が形成される。
この幅に対応する角度の広がりを有し、多層鏡に入射す
る放射線は従って遮断され、これにより角度範囲が上記
最大角度範囲αmaxよりも小さくなるよう選択される
ことが可能であり、従って装置の角度分解能が高められ
る。
は、多層鏡の各反射点が上記イメージの異なる大きさを
形成する場合、制限されてしまう。この場合、分解能は
もはや好適には決められることができず、更に、重要な
度合いで焦点から最も離れて配置される点によって決め
られてしまう。これは、イメージの大きさは、そのよう
な点に対し当該の反射領域とイメージの領域との間の距
離に比例するからである。第1のコリメータは、多層鏡
の各反射点から通路幅に対し略等しい角度値を有するよ
う配置されるので、従って各反射点は装置の分解能に同
じように貢献する。
ら見たときの第1のコリメータの通路幅に対する角度値
は調節可能である。この実施例は多層鏡の全体の領域が
等しい分解能を提供するという利点のみならず、装置の
特性が測定状況に適応される、或いは、コリメータが装
置内に配置され得る異なる多層鏡に適応され得るという
利点も提供する。
リメータは多層鏡の反射点から異なる距離で配置される
2つの互いに並行なナイフエッジから形成される。この
実施例は単純に製造され得、また、所望される場合は、
調節可能となるよう直ぐに構成され得る。
ナイフエッジは、コリメータを通るビーム路の方向を横
断するような方向への移動によって互いに対し移動可能
である。コリメータの通路幅、従って、装置の分解能
は、コリメータスリットを反射面の様々な点から見たと
きの角度値に関し逸脱をもたらすことなく制御される。
との間のビーム路に配置される第2の調節可能なコリメ
ータが設けられる。この段階は、試料に入射するビーム
と試料から発するビームとの間の角度が小さい値を有す
る場合に特に重要である。このような場合では、試料に
入射するビームの断面が試料よりも大きくなることが直
ぐに生じることがある。この場合、試料から発する放射
エネルギーの量は入射角度及び試料の形状に依存し、強
度測定においてこれは補正することが困難な状況とな
る。補正は、このような装置に使用されるデータ処理コ
ンピュータプログラムによっても好適に行われることが
できない。従って、この分析X線装置における問題を補
正するよう入射ビーム内にビーム制限要素を配置するこ
とが既知であるが、多くの場合この為に必要となる空間
が得られない。コリメータを外に向かうビーム内に配置
しコリメータの通路幅を入射角度に適応させることによ
り、検出器が常に試料の決められた部分を「知覚する」
ことが保証され、それにより既知となる補正ファクタが
データ処理コンピュータプログラムに得られる。
細に説明する。図中、対応する要素は対応する参照符号
によって示される。
分析のための既知の配置を示す。この配置は特にX線回
折に特に好適である。この配置は、この配置によって分
析されるべき試料4を照射するX線源2を含む。試料に
入射する放射線6をできる限り並行にするために、放射
線を並行にする装置がX線源と試料との間のビーム路に
配置され、本実施例では、上記装置はX線反射のための
多層鏡8である。この多層鏡の反射面は点線10によっ
て示されるように放物線状である。多層鏡の表面に設け
られる反射層は場所に依存する厚さを有し、それにより
いわゆる序所に厚みが変化する多層鏡が得られる。(平
面的に考えると点状であり、立体的に考えると図の平面
に対し垂直である線上の)放射源によって鏡が照射され
ると、多層鏡の各点においてブラッグ反射条件が満たさ
れ、その結果、多層鏡に対し大きい反射面が得られるよ
う徐々に厚みが変化される。
いに並行であるビームが試料から主に放射される。しか
し、X線が試料及びその付近と相互作用することによ
り、優勢的である並行の方向以外の方向で試料から放射
されるビームが生じる可能性がある。このようにずれた
方向を有するX線は通常、測定の精度に影響を与える。
従って、ビーム12からずれたビームを取り除くことが
試みられる。この為に、X線反射のための更なる多層鏡
14が、試料4とX線検出器16との間のビーム路に配
置される。多層鏡8と同様に、多層鏡14は、破線18
によって示されるようにその表面が方物線状であり、徐
々に厚みが変化する多層鏡として構成される。
より、X線源2から放射されるX線は、試料4に到達す
る前に略並行なビームに変換され、また、試料の後に、
多層鏡14の焦点20の中に焦点を有する収束ビームに
再び変換される。
詳細を示す。図中の多数の補助線24a、24b、26
a、及び26bは、多層鏡の各反射点からコリメータの
通路幅に対し略等しい角度値が得られることを示す
(尚、分かりやすくするために、補助線は多層鏡14か
ら発するX線ビームのX線を示すものではなく、点A及
び点Bから見たときのコリメータスリット28の通路幅
に対する角度値の角度の境界のみを示す)。図2に示さ
れる実施例では、コリメータは多層鏡の反射点から異な
る距離で配置される2つのナイフエッジから形成される
コリメータスリットとして形作られる。当該の反射点
(例えば点B)とコリメータ28の通路幅の中心32と
の間を上記距離として考えることが可能であり、例えば
或る長さの線セグメント30として示される。反射に関
与する多層鏡14の表面の点に対し通路幅の角度値γ又
はδが略一定となる状態は、上記距離を適当に異なるよ
う選択することによって達成される(分かりやすくする
ために、図2中の表面の反射部分は実際の状態に対応す
る値よりもかなり大きく示される)。
コリメータの通路幅の角度値(γ又はδ)が、多層鏡の
反射点から見たときに、反射の最大角度範囲αmaxよ
りも小さいときに達成される。実際の多層鏡における最
大角度範囲の値は0.05°の大きさのオーダなので、
図2中の角度γ及びδはかなり強調されているものであ
ることが明らかであろう。
を通るビーム路の方向に対し横断するような方向におい
て互いに対し図中には示されない方法で移動可能であ
る。コリメータの通路幅、従って、装置の分解能は、コ
リメータスリットを反射面の様々な点から見たときの角
度値に関し逸脱をもたらすことなく制御される。
る。図2と同様に、図3中のコリメータ28は多層鏡の
反射点から異なる距離で配置される2つのナイフエッジ
から形成されるコリメータスリットとして形作られ、そ
れにより、多層鏡のどの反射点から見ても通路幅の等し
い角度値が得られる。図3に示される装置には、試料4
とX線検出器16との間のビーム路に第2のコリメータ
34が更に設けられる。第2のコリメータ34は、ナイ
フエッジがコリメータを通るビーム路の方向で互いに対
し移動可能であることによって(図示されない方法で)
調整可能である。検出器は、通路幅が試料に入射する放
射線の角度に適応されると、常に試料の決められた部分
を知覚する。
公知の配置を示す図である。
である。
Claims (5)
- 【請求項1】 X線によって試料を照射するためのX線
源と、 上記試料から発するX線を検出するためのX線検出器
と、 上記試料と上記X線検出器との間のビーム路に配置さ
れ、関連の反射角度範囲αmaxを有する方物面多層鏡
と、 上記方物面多層鏡の焦点の領域に配置される第1のコリ
メータとを含む、試料をX線分析するための装置であっ
て、 上記第1のコリメータは、上記多層鏡の各反射点から通
路幅に対し略等しい角度値を有するよう配置され、 上記角度値は、上記多層鏡の各反射点から見たときに、
上記最大反射角度範囲αmaxよりも小さいことを特徴
とする装置。 - 【請求項2】 上記多層鏡の表面から見たときの上記第
1のコリメータの上記通路幅に対する上記角度値は調節
可能である請求項1記載の装置。 - 【請求項3】 上記第1のコリメータは、上記多層鏡の
上記反射点から異なる距離で配置される2つの互いに並
行なナイフエッジによって形成される請求項1又は2記
載の装置。 - 【請求項4】 上記第1のコリメータの上記ナイフエッ
ジは、上記第1のコリメータを通るビーム路の方向を横
断するような方向への移動によって互いに対し移動可能
である請求項3記載の装置。 - 【請求項5】 上記試料と上記X線検出器との間のビー
ム路に第2の、調節可能なコリメータが設けられる請求
項1乃至4のうちいずれか一項記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP00201887 | 2000-05-29 | ||
EP00201887.7 | 2000-05-29 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002022681A true JP2002022681A (ja) | 2002-01-23 |
JP4868660B2 JP4868660B2 (ja) | 2012-02-01 |
Family
ID=8171568
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001159247A Expired - Lifetime JP4868660B2 (ja) | 2000-05-29 | 2001-05-28 | 多層鏡及び射出コリメータが設けられるx線分析装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6704390B2 (ja) |
JP (1) | JP4868660B2 (ja) |
DE (1) | DE10125454B4 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006317440A (ja) * | 2005-05-10 | 2006-11-24 | General Electric Co <Ge> | コリメータのシステム、方法及び装置 |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6917667B2 (en) * | 2002-09-03 | 2005-07-12 | Rigaku Corporation | Method and apparatus for making parallel X-ray beam and X-ray diffraction apparatus |
CN1864062B (zh) * | 2003-08-04 | 2011-11-02 | X射线光学系统公司 | 使用在固定角位置的源和检测器的原位x射线衍射系统 |
JP4278108B2 (ja) * | 2006-07-07 | 2009-06-10 | 株式会社リガク | 超小角x線散乱測定装置 |
US7470907B2 (en) * | 2006-12-15 | 2008-12-30 | General Electric Company | Cross-slit collimator method and system |
JP5081556B2 (ja) * | 2007-09-28 | 2012-11-28 | 株式会社リガク | デバイシェラー光学系を備えたx線回折測定装置とそのためのx線回折測定方法 |
US7889845B2 (en) * | 2007-12-20 | 2011-02-15 | Morpho Detection, Inc. | Secondary collimator and method of assembling the same |
ATE545858T1 (de) * | 2007-12-31 | 2012-03-15 | Xenocs S A | Röntgenstrahlvorrichtung |
JP6025211B2 (ja) * | 2013-11-28 | 2016-11-16 | 株式会社リガク | X線トポグラフィ装置 |
EP3987279B1 (de) * | 2019-06-24 | 2023-11-08 | SMS Group GmbH | Vorrichtung und verfahren zum bestimmen der werkstoffeigenschaften eines polykristallinen produkts |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05297195A (ja) * | 1992-04-20 | 1993-11-12 | Mc Sci:Kk | X線回折装置 |
DE4417307A1 (de) * | 1994-05-18 | 1995-11-23 | Geesthacht Gkss Forschung | Anordnung zur Bestimmung von Elementen und deren Konzentration in Objekten nach der Methode der Röntgenfluoreszenzanalyse |
JP2000046765A (ja) * | 1998-07-16 | 2000-02-18 | Koninkl Philips Electronics Nv | 薄膜の蛍光x線分析方法及び装置 |
DE19833524A1 (de) * | 1998-07-25 | 2000-02-24 | Bruker Axs Analytical X Ray Sy | Röntgen-Analysegerät mit Gradienten-Vielfachschicht-Spiegel |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3442061A1 (de) * | 1984-11-17 | 1986-05-28 | Erno Raumfahrttechnik Gmbh, 2800 Bremen | Verfahren zum zerstoerungsfreien pruefen inhomogener werkstoffe |
DE69728258T2 (de) * | 1996-12-20 | 2004-12-30 | Panalytical B.V. | Röntgenstrahlspektrometer mit kristallanalysator mit teilweise konstantem und ilweise variablem krümmungsradius |
-
2001
- 2001-05-22 US US09/862,287 patent/US6704390B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-05-25 DE DE10125454A patent/DE10125454B4/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-05-28 JP JP2001159247A patent/JP4868660B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05297195A (ja) * | 1992-04-20 | 1993-11-12 | Mc Sci:Kk | X線回折装置 |
DE4417307A1 (de) * | 1994-05-18 | 1995-11-23 | Geesthacht Gkss Forschung | Anordnung zur Bestimmung von Elementen und deren Konzentration in Objekten nach der Methode der Röntgenfluoreszenzanalyse |
JP2000046765A (ja) * | 1998-07-16 | 2000-02-18 | Koninkl Philips Electronics Nv | 薄膜の蛍光x線分析方法及び装置 |
DE19833524A1 (de) * | 1998-07-25 | 2000-02-24 | Bruker Axs Analytical X Ray Sy | Röntgen-Analysegerät mit Gradienten-Vielfachschicht-Spiegel |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006317440A (ja) * | 2005-05-10 | 2006-11-24 | General Electric Co <Ge> | コリメータのシステム、方法及び装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE10125454B4 (de) | 2008-04-17 |
US6704390B2 (en) | 2004-03-09 |
US20020003859A1 (en) | 2002-01-10 |
DE10125454A1 (de) | 2001-12-06 |
JP4868660B2 (ja) | 2012-02-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5009563B2 (ja) | 試料の検査方法および装置 | |
US6330301B1 (en) | Optical scheme for high flux low-background two-dimensional small angle x-ray scattering | |
US6744850B2 (en) | X-ray reflectance measurement system with adjustable resolution | |
JP5214442B2 (ja) | 2次元小角x線散乱カメラ | |
JP2003297891A (ja) | 半導体用蛍光x線分析装置 | |
CN110376231A (zh) | 具有对光束发散度的混合控制的x射线分析装置及方法 | |
WO1999051972A2 (en) | X-ray diffractometer with adjustable image distance | |
JP2002530671A (ja) | 放物状のx線ミラーと水晶モノクロメータを含むx線分析装置 | |
JP2008014861A (ja) | 超小角x線散乱測定装置 | |
JP4868660B2 (ja) | 多層鏡及び射出コリメータが設けられるx線分析装置 | |
US9640292B2 (en) | X-ray apparatus | |
KR20160137951A (ko) | 빔 생성 유닛 및 x선 소각 산란 장치 | |
JP2006138837A5 (ja) | ||
JP6198406B2 (ja) | マイクロ回折方法及び装置 | |
JP2001021507A (ja) | Xafs測定装置 | |
CN108572184B (zh) | 高分辨率x射线衍射方法和装置 | |
US20040066894A1 (en) | Device for x-ray analytical applications | |
JP4160124B2 (ja) | 部分的に変化し、部分的に一定の曲率半径を有するアナライザ結晶を有するx線スペクトロメータ | |
JP2004333131A (ja) | 全反射蛍光xafs測定装置 | |
US7076021B2 (en) | Apparatus for measurement of the thickness of thin layers | |
JP4257034B2 (ja) | グレージング出射条件におけるx線解析装置 | |
JP2004117362A (ja) | 測定対象物のスペクトル反射率を決定する装置 | |
JP3819376B2 (ja) | X線装置およびその散乱防止キャップ | |
JP3095446B2 (ja) | レーザープラズマ軟x線用分光回折装置 | |
JPH1183766A (ja) | X線反射率測定装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080520 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100917 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100928 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20101215 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20101220 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110328 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110419 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110715 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111018 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111115 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4868660 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141125 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |