JPH05297195A - Ｘ線回折装置 - Google Patents
Ｘ線回折装置Info
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- JPH05297195A JPH05297195A JP4099508A JP9950892A JPH05297195A JP H05297195 A JPH05297195 A JP H05297195A JP 4099508 A JP4099508 A JP 4099508A JP 9950892 A JP9950892 A JP 9950892A JP H05297195 A JPH05297195 A JP H05297195A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 Ｘ線回折装置において、スリット幅の調節処
理を自動化して、測定作業能率の向上と、測定精度の向
上とを図る。 【構成】 装備するスリット装置Ｓは、スリット幅方向
にスライド自在に支持された一対のＸ線遮蔽板４１，４
２と、これらのＸ線遮蔽板４１，４２を互いに離間する
方向あるいは互いに接近する方向に移動させる送りねじ
部材４４と、この送りねじ部材４４を回転駆動する駆動
手段４５と、この駆動手段４５の動作を制御する制御処
理装置３１とを具備した構成とする。そして、制御処理
装置３１は、スリット幅を変更する際に、Ｘ線遮蔽板４
１，４２の端面同士を当接させることによってスリット
幅のセンター出しを行う。
理を自動化して、測定作業能率の向上と、測定精度の向
上とを図る。 【構成】 装備するスリット装置Ｓは、スリット幅方向
にスライド自在に支持された一対のＸ線遮蔽板４１，４
２と、これらのＸ線遮蔽板４１，４２を互いに離間する
方向あるいは互いに接近する方向に移動させる送りねじ
部材４４と、この送りねじ部材４４を回転駆動する駆動
手段４５と、この駆動手段４５の動作を制御する制御処
理装置３１とを具備した構成とする。そして、制御処理
装置３１は、スリット幅を変更する際に、Ｘ線遮蔽板４
１，４２の端面同士を当接させることによってスリット
幅のセンター出しを行う。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、Ｘ線回折装置に関する
もので、詳しくは、Ｘ線回折装置に装備される発散スリ
ット等のスリット幅の調整の自動化に係るものである。
もので、詳しくは、Ｘ線回折装置に装備される発散スリ
ット等のスリット幅の調整の自動化に係るものである。
【０００２】
【従来の技術】Ｘ線源としてライン焦点（線焦点）を使
用するディフラクトメータ等のＸ線回折装置では、入射
Ｘ線の発散角を制限するために試料とＸ線源との間に配
置される発散スリット（divergence slit）や、回折Ｘ
線の集束位置（即ち、焦点円上）に配置される受光スリ
ット（receiving slit）や、散乱Ｘ線の前記Ｘ線検出器
への進入を防止するためにＸ線計数管と試料との間に配
置される散乱スリット（scatter slit）などの多種のス
リットが使用されている。
用するディフラクトメータ等のＸ線回折装置では、入射
Ｘ線の発散角を制限するために試料とＸ線源との間に配
置される発散スリット（divergence slit）や、回折Ｘ
線の集束位置（即ち、焦点円上）に配置される受光スリ
ット（receiving slit）や、散乱Ｘ線の前記Ｘ線検出器
への進入を防止するためにＸ線計数管と試料との間に配
置される散乱スリット（scatter slit）などの多種のス
リットが使用されている。
【０００３】これらの各スリットは、試料上のＸ線照射
領域の不足等による回折Ｘ線の強度低下を防止したり、
あるいは、不要な散乱Ｘ線の計数管への進入を防止する
ことなどから、試料のθ回転に応じて、スリット幅を調
節する必要がある。
領域の不足等による回折Ｘ線の強度低下を防止したり、
あるいは、不要な散乱Ｘ線の計数管への進入を防止する
ことなどから、試料のθ回転に応じて、スリット幅を調
節する必要がある。
【０００４】そこで、旧来では、発散スリット、受光ス
リット、散乱スリットのそれぞれに、スリット幅の異な
る種々のスリット板を用意しておいて、θの値の変化に
応じて、適時、装置使用者が手作業でスリット板自体を
交換するという対応が行われた。
リット、散乱スリットのそれぞれに、スリット幅の異な
る種々のスリット板を用意しておいて、θの値の変化に
応じて、適時、装置使用者が手作業でスリット板自体を
交換するという対応が行われた。
【０００５】しかし、このような対応では、スリット板
の交換の都度、測定作業が中断し、また、交換作業自体
が装置使用者の負担となって、測定作業の能率が著しく
低下するという問題があった。
の交換の都度、測定作業が中断し、また、交換作業自体
が装置使用者の負担となって、測定作業の能率が著しく
低下するという問題があった。
【０００６】また、θの変化に応じて連続的にスリット
幅を調節することができず、結局、θの微小変化に対し
ては、スリット幅の調節によって測定精度の向上を測る
ことができないという問題もあった。
幅を調節することができず、結局、θの微小変化に対し
ては、スリット幅の調節によって測定精度の向上を測る
ことができないという問題もあった。
【０００７】そこで、従来、試料のθ回転に連動してス
リット板を回転させることによって、スリット幅を調節
するという技術が提案された。
リット板を回転させることによって、スリット幅を調節
するという技術が提案された。
【０００８】図２は、スリット板の回転によってスリッ
ト幅を調節する技術を使った従来のＸ線回折装置を示し
たものである。このＸ線回折装置は、特開昭５８−１８
２５４３号公報に記載されたもので、図中の符号１はラ
イン焦点型のＸ線源、２は入射Ｘ線、３は試料、４は回
折Ｘ線、５はＸ線計数管、６はゴニオメータであり、７
は発散スリット、８は漂遊放射線スリット、９は受光ス
リットである。
ト幅を調節する技術を使った従来のＸ線回折装置を示し
たものである。このＸ線回折装置は、特開昭５８−１８
２５４３号公報に記載されたもので、図中の符号１はラ
イン焦点型のＸ線源、２は入射Ｘ線、３は試料、４は回
折Ｘ線、５はＸ線計数管、６はゴニオメータであり、７
は発散スリット、８は漂遊放射線スリット、９は受光ス
リットである。
【０００９】この図２に示した装置では、発散スリット
７と漂遊放射線スリット８とが、試料３のθ回転に連動
して回転操作されることによって、スリット幅を調節す
る構成となっている。図２において矢印（イ），（ロ）
はスリット７，８の回転方向であり、１０，１１は各ス
リット７，８を回転駆動する駆動装置、１２は制御処理
装置（コンピュータ）である。この制御処理装置１２
は、前記駆動装置１０，１１を介して各スリット７，８
の回転量を制御したり、ゴニオメータ６の動作を制御し
たり、Ｘ線計数管５の検出結果を処理する。
７と漂遊放射線スリット８とが、試料３のθ回転に連動
して回転操作されることによって、スリット幅を調節す
る構成となっている。図２において矢印（イ），（ロ）
はスリット７，８の回転方向であり、１０，１１は各ス
リット７，８を回転駆動する駆動装置、１２は制御処理
装置（コンピュータ）である。この制御処理装置１２
は、前記駆動装置１０，１１を介して各スリット７，８
の回転量を制御したり、ゴニオメータ６の動作を制御し
たり、Ｘ線計数管５の検出結果を処理する。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】ところで、確かに、図
２に示したＸ線回折装置の発散スリット７および漂遊放
射線スリット８では、Ｘ線方向に対するスリットの投影
面積をスリット板の回転量の制御によって連続的に調節
することができ、試料のθ回転に応じたスリット幅の調
節がスリット板の交換を行わなくとも可能になり、ま
た、θの微小変化に対してもスリット幅の連続的な調節
によって測定精度の向上を測ることができる。
２に示したＸ線回折装置の発散スリット７および漂遊放
射線スリット８では、Ｘ線方向に対するスリットの投影
面積をスリット板の回転量の制御によって連続的に調節
することができ、試料のθ回転に応じたスリット幅の調
節がスリット板の交換を行わなくとも可能になり、ま
た、θの微小変化に対してもスリット幅の連続的な調節
によって測定精度の向上を測ることができる。
【００１１】しかし、図３に示すように、スリット板１
５を通過させるＸ線１６に対して傾斜させるときには、
スリット板１５の板厚Ｔの影響で、有効なスリット幅ｄ
は実際のスリット幅Ｄよりも狭くなり、この傾向は試料
３の回転角θが小さくなる程大きくなるという問題があ
り、また、有効なスリット幅ｄが実際のスリット幅Ｄの
中心に対して偏心するという問題もある。
５を通過させるＸ線１６に対して傾斜させるときには、
スリット板１５の板厚Ｔの影響で、有効なスリット幅ｄ
は実際のスリット幅Ｄよりも狭くなり、この傾向は試料
３の回転角θが小さくなる程大きくなるという問題があ
り、また、有効なスリット幅ｄが実際のスリット幅Ｄの
中心に対して偏心するという問題もある。
【００１２】そのため、スリット板の傾斜によって有効
なスリット幅を調節するという従来の対応では、一枚の
スリット板では試料３のθ回転に応じて連続的にスリッ
ト幅を調節し得る範囲が制限され、結局、θの広範囲な
変化に対応させるには、数枚のスリット板を用意してお
いて、θの範囲に応じて差し替えるという作業が必要に
なるという問題があった。また、スリット板の移動制御
が複雑になるという問題もあった。
なスリット幅を調節するという従来の対応では、一枚の
スリット板では試料３のθ回転に応じて連続的にスリッ
ト幅を調節し得る範囲が制限され、結局、θの広範囲な
変化に対応させるには、数枚のスリット板を用意してお
いて、θの範囲に応じて差し替えるという作業が必要に
なるという問題があった。また、スリット板の移動制御
が複雑になるという問題もあった。
【００１３】本発明は前記事情に鑑みてなされたもの
で、試料のθ回転に連動するスリット幅の調節を、スリ
ット板の交換等を必要とせずに試料のθ回転の全範囲に
渡って連続的に実行することができ、しかもスリット幅
の調節のための制御処理が容易で、スリット幅の調節処
理の自動化による測定作業能率の向上と、測定精度の向
上とを図ることができるＸ線回折装置を提供することを
目的とする。
で、試料のθ回転に連動するスリット幅の調節を、スリ
ット板の交換等を必要とせずに試料のθ回転の全範囲に
渡って連続的に実行することができ、しかもスリット幅
の調節のための制御処理が容易で、スリット幅の調節処
理の自動化による測定作業能率の向上と、測定精度の向
上とを図ることができるＸ線回折装置を提供することを
目的とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】請求項１に記載のＸ線回
折装置は、Ｘ線源と、試料からの回折Ｘ線を検出するた
めのＸ線検出器と、試料のθ回転に対する前記Ｘ線検出
器の２θ走査のために試料のθ回転に対する角度２θを
測るゴニオメータと、入射Ｘ線の発散角を制限するため
に試料とＸ線源との間に配置される発散スリットと、回
折Ｘ線の集束位置に配置される受光スリットと、散乱Ｘ
線の前記Ｘ線検出器への進入を防止するために前記Ｘ線
検出器と試料との間に配置される散乱スリットとを備え
る。
折装置は、Ｘ線源と、試料からの回折Ｘ線を検出するた
めのＸ線検出器と、試料のθ回転に対する前記Ｘ線検出
器の２θ走査のために試料のθ回転に対する角度２θを
測るゴニオメータと、入射Ｘ線の発散角を制限するため
に試料とＸ線源との間に配置される発散スリットと、回
折Ｘ線の集束位置に配置される受光スリットと、散乱Ｘ
線の前記Ｘ線検出器への進入を防止するために前記Ｘ線
検出器と試料との間に配置される散乱スリットとを備え
る。
【００１５】そして、前記発散スリットとして利用され
るスリット装置は、スリット幅の方向に沿って延在する
ガイド部材と、このガイド部材によってスリット幅方向
にスライド自在に支持された一対のＸ線遮蔽板と、これ
ら一対のＸ線遮蔽板を互いに離間する方向あるいは互い
に接近する方向に移動させる送りねじ部材と、前記送り
ねじ部材を回転駆動するための駆動手段と、前記駆動手
段を介して前記送りねじ部材の回転方向および回転量を
制御する制御処理装置とを具備した構成とする。
るスリット装置は、スリット幅の方向に沿って延在する
ガイド部材と、このガイド部材によってスリット幅方向
にスライド自在に支持された一対のＸ線遮蔽板と、これ
ら一対のＸ線遮蔽板を互いに離間する方向あるいは互い
に接近する方向に移動させる送りねじ部材と、前記送り
ねじ部材を回転駆動するための駆動手段と、前記駆動手
段を介して前記送りねじ部材の回転方向および回転量を
制御する制御処理装置とを具備した構成とする。
【００１６】また、前記一対のＸ線遮蔽板は互いに対向
する相互の端部間の離間距離がスリット幅となるように
Ｘ線を横断する同一面上に配置され、前記送りねじ部材
は、一方のＸ線遮蔽板に螺合した右ねじ部と他方のＸ線
遮蔽板に螺合した左ねじ部とが同一軸上に装備された構
成をなしている。
する相互の端部間の離間距離がスリット幅となるように
Ｘ線を横断する同一面上に配置され、前記送りねじ部材
は、一方のＸ線遮蔽板に螺合した右ねじ部と他方のＸ線
遮蔽板に螺合した左ねじ部とが同一軸上に装備された構
成をなしている。
【００１７】そして、前記制御処理装置は、スリット幅
を変更する際には、まず、Ｘ線遮蔽板相互が接近する方
向の送りねじ部材の回転量をそれまでのＸ線遮蔽板相互
の離間距離分よりも大目に指示して前記一対のＸ線遮蔽
板の端面同士を当接させることによってスリット幅のセ
ンター出しを行い、その後に、Ｘ線遮蔽板相互が離間す
る方向の送りねじ部材の回転量を試料の回転角θに応じ
て正確に指示することによって、試料のθ回転に応じた
スリット幅を確保させる。
を変更する際には、まず、Ｘ線遮蔽板相互が接近する方
向の送りねじ部材の回転量をそれまでのＸ線遮蔽板相互
の離間距離分よりも大目に指示して前記一対のＸ線遮蔽
板の端面同士を当接させることによってスリット幅のセ
ンター出しを行い、その後に、Ｘ線遮蔽板相互が離間す
る方向の送りねじ部材の回転量を試料の回転角θに応じ
て正確に指示することによって、試料のθ回転に応じた
スリット幅を確保させる。
【００１８】請求項２に記載のＸ線回折装置は、請求項
１に記載のＸ線回折装置を改善したもので、前記受光ス
リットおよび散乱スリットにも、発散スリットと同じ構
成のスリット装置を使用する。
１に記載のＸ線回折装置を改善したもので、前記受光ス
リットおよび散乱スリットにも、発散スリットと同じ構
成のスリット装置を使用する。
【００１９】
【作用】請求項１に記載のＸ線回折装置は、一対のＸ線
遮蔽板のスライド操作によってスリット幅を調節するス
リット装置を発散スリットとして使用したもので、この
スリット装置では、Ｘ線遮蔽板のそれぞれをＸ線光路に
対して傾斜させずに使用することができるため、Ｘ線遮
蔽板の板厚の影響によるスリット幅設定上の不都合が発
生せず、また、スリット幅を変更する場合には、一旦Ｘ
線遮蔽板相互の端面を当接させることによってスリット
幅のセンター出しを行うため、特にセンサ等を使用せず
とも比較的に簡単な制御で正確にスリット幅を割り出す
ことができる。
遮蔽板のスライド操作によってスリット幅を調節するス
リット装置を発散スリットとして使用したもので、この
スリット装置では、Ｘ線遮蔽板のそれぞれをＸ線光路に
対して傾斜させずに使用することができるため、Ｘ線遮
蔽板の板厚の影響によるスリット幅設定上の不都合が発
生せず、また、スリット幅を変更する場合には、一旦Ｘ
線遮蔽板相互の端面を当接させることによってスリット
幅のセンター出しを行うため、特にセンサ等を使用せず
とも比較的に簡単な制御で正確にスリット幅を割り出す
ことができる。
【００２０】したがって、スリット板の交換等を必要と
せずに、入射Ｘ線の発散角の制御を試料のθ回転の全範
囲に渡って連続的に精密に実行することができ、入射Ｘ
線に対するスリット幅調節処理の自動化によって測定作
業能率を向上させると同時に、入射Ｘ線の発散角の制御
を適正化することによって回折Ｘ線の強度を高めて測定
精度の向上を図ることができる。
せずに、入射Ｘ線の発散角の制御を試料のθ回転の全範
囲に渡って連続的に精密に実行することができ、入射Ｘ
線に対するスリット幅調節処理の自動化によって測定作
業能率を向上させると同時に、入射Ｘ線の発散角の制御
を適正化することによって回折Ｘ線の強度を高めて測定
精度の向上を図ることができる。
【００２１】また、請求項２に記載のＸ線回折装置は、
発散スリット，受光スリット，散乱スリットの全てに、
一対のＸ線遮蔽板のスライド操作によってスリット幅を
調節するスリット装置を使用したもので、入射Ｘ線と回
折Ｘ線の双方に対してスリット幅調節の自動化と精密な
スリット幅調整とを徹底することができ、これによって
測定作業能率の向上や測定精度の向上といった効果を最
大限にして得ることができる。
発散スリット，受光スリット，散乱スリットの全てに、
一対のＸ線遮蔽板のスライド操作によってスリット幅を
調節するスリット装置を使用したもので、入射Ｘ線と回
折Ｘ線の双方に対してスリット幅調節の自動化と精密な
スリット幅調整とを徹底することができ、これによって
測定作業能率の向上や測定精度の向上といった効果を最
大限にして得ることができる。
【００２２】
【実施例】図１および図４は、本発明に係るＸ線回折装
置の一実施例を示したものである。この一実施例におけ
るＸ線回折装置は、図４に示したように、Ｘ線源２０
と、試料２１からの回折Ｘ線２２を検出するためのＸ線
検出器２３と、試料２１のθ回転に対する前記Ｘ線検出
器２３の２θ走査のために試料２１のθ回転に対する角
度２θを測るゴニオメータ２４と、入射Ｘ線２５の発散
角を制限するために試料２１とＸ線源２０との間に配置
される発散スリット２６と、回折Ｘ線２２の集束位置
（即ち、焦点円上）に配置される受光スリット２７と、
散乱Ｘ線の前記Ｘ線検出器２３への進入を防止するため
に前記Ｘ線検出器２３と試料２１との間に配置される散
乱スリット２８と、前記Ｘ線源２０と発散スリット２６
との間に配置されるソーラスリット２９と、前記受光ス
リット２７と散乱スリット２８との間に配置されたソー
ラスリット３０と、前述の各スリット２６，２７，２８
やゴニオメータ２４の動作の制御やＸ線検出器２３の検
出結果の処理を行う制御処理装置３１と、この制御処理
装置３１の処理結果等を表示する表示装置３２と、測定
結果をハードコピーするプリンタ３３とを備えた構成と
なっている。
置の一実施例を示したものである。この一実施例におけ
るＸ線回折装置は、図４に示したように、Ｘ線源２０
と、試料２１からの回折Ｘ線２２を検出するためのＸ線
検出器２３と、試料２１のθ回転に対する前記Ｘ線検出
器２３の２θ走査のために試料２１のθ回転に対する角
度２θを測るゴニオメータ２４と、入射Ｘ線２５の発散
角を制限するために試料２１とＸ線源２０との間に配置
される発散スリット２６と、回折Ｘ線２２の集束位置
（即ち、焦点円上）に配置される受光スリット２７と、
散乱Ｘ線の前記Ｘ線検出器２３への進入を防止するため
に前記Ｘ線検出器２３と試料２１との間に配置される散
乱スリット２８と、前記Ｘ線源２０と発散スリット２６
との間に配置されるソーラスリット２９と、前記受光ス
リット２７と散乱スリット２８との間に配置されたソー
ラスリット３０と、前述の各スリット２６，２７，２８
やゴニオメータ２４の動作の制御やＸ線検出器２３の検
出結果の処理を行う制御処理装置３１と、この制御処理
装置３１の処理結果等を表示する表示装置３２と、測定
結果をハードコピーするプリンタ３３とを備えた構成と
なっている。
【００２３】前記Ｘ線源２０は、垂直方向（図４の紙面
に直交する方向）に長いライン焦点（線焦点）のもの
で、入射Ｘ線２５の垂直発散が前記ソーラスリット２９
によって抑えられ、さらに水平面（図の紙面に平行な
面）内の発散角が前記発散スリット２６によって制限さ
れる。
に直交する方向）に長いライン焦点（線焦点）のもの
で、入射Ｘ線２５の垂直発散が前記ソーラスリット２９
によって抑えられ、さらに水平面（図の紙面に平行な
面）内の発散角が前記発散スリット２６によって制限さ
れる。
【００２４】図２の符号２４ａは、ゴニオメータ２４の
回転軸である。受光側のソーラスリット３０は、回折Ｘ
線２２の垂直の垂直発散を抑える。前記ソーラスリット
２９は前記発散スリット２６と共通の支持枠に固定さ
れ、ソーラスリット３０は受光スリット２７および散乱
スリット２８と共通の２θ走査用の支持枠に固定されて
いる。
回転軸である。受光側のソーラスリット３０は、回折Ｘ
線２２の垂直の垂直発散を抑える。前記ソーラスリット
２９は前記発散スリット２６と共通の支持枠に固定さ
れ、ソーラスリット３０は受光スリット２７および散乱
スリット２８と共通の２θ走査用の支持枠に固定されて
いる。
【００２５】前述の各スリット２６，２７，２８に使用
しているスリット装置は、何れも、同一構成のものであ
る。図１は、これらのスリット２６，２７，２８に使用
しているスリット装置Ｓの拡大図である。
しているスリット装置は、何れも、同一構成のものであ
る。図１は、これらのスリット２６，２７，２８に使用
しているスリット装置Ｓの拡大図である。
【００２６】このスリット装置Ｓは、スリット幅の方向
（即ち、Ｘ線束３９を横断する方向で、図１の矢印
（イ）方向）に沿って延在するガイド部材４０と、この
ガイド部材４０によってスリット幅方向にスライド自在
に支持された一対のＸ線遮蔽板４１，４２と、これら一
対のＸ線遮蔽板４１，４２のそれぞれをガイド部材４０
に沿って移動させるための送りねじ部材４４と、この送
りねじ部材４４を回転駆動するための駆動手段４５と、
この駆動手段４５と制御処理装置３１とを接続して前記
制御処理装置３１からの制御信号を前記駆動手段４５に
通知するインターフェースとを具備してなる。
（即ち、Ｘ線束３９を横断する方向で、図１の矢印
（イ）方向）に沿って延在するガイド部材４０と、この
ガイド部材４０によってスリット幅方向にスライド自在
に支持された一対のＸ線遮蔽板４１，４２と、これら一
対のＸ線遮蔽板４１，４２のそれぞれをガイド部材４０
に沿って移動させるための送りねじ部材４４と、この送
りねじ部材４４を回転駆動するための駆動手段４５と、
この駆動手段４５と制御処理装置３１とを接続して前記
制御処理装置３１からの制御信号を前記駆動手段４５に
通知するインターフェースとを具備してなる。
【００２７】ここに、前述の一対のＸ線遮蔽板４１，４
２は、それぞれの遮蔽板本体４１ａ，４２ａに固着した
ブロック４１ｂ，４２ｂがガイド部材４０にスライド自
在に嵌合することによって、Ｘ線を横断する同一面内で
スリット幅方向に移動自在に支持されている。そして、
それぞれの遮蔽板本体４１ａ，４２ａの互いに対向する
相互の端部間の離間距離Ｌがスリット幅となる。また、
前記ブロック４１ｂには前記送りねじ部材４４と螺合す
る右ねじ用の雌ねじブロック４１ｃが固設され、ブロッ
ク４２ｂには前記送りねじ部材４４と螺合する左ねじ用
の雌ねじブロック４２ｃが固設されている。
２は、それぞれの遮蔽板本体４１ａ，４２ａに固着した
ブロック４１ｂ，４２ｂがガイド部材４０にスライド自
在に嵌合することによって、Ｘ線を横断する同一面内で
スリット幅方向に移動自在に支持されている。そして、
それぞれの遮蔽板本体４１ａ，４２ａの互いに対向する
相互の端部間の離間距離Ｌがスリット幅となる。また、
前記ブロック４１ｂには前記送りねじ部材４４と螺合す
る右ねじ用の雌ねじブロック４１ｃが固設され、ブロッ
ク４２ｂには前記送りねじ部材４４と螺合する左ねじ用
の雌ねじブロック４２ｃが固設されている。
【００２８】前記送りねじ部材４４は、一方のＸ線遮蔽
板４１に螺合した右ねじ部４４ａと他方のＸ線遮蔽板４
２に螺合した左ねじ部４４ｂとが同一軸上に装備された
もので、前記駆動手段４５によって回転駆動されること
によって、前記一対のＸ線遮蔽板４１，４２のそれぞれ
を互いに離間する方向あるいは互いに接近する方向に移
動させる。
板４１に螺合した右ねじ部４４ａと他方のＸ線遮蔽板４
２に螺合した左ねじ部４４ｂとが同一軸上に装備された
もので、前記駆動手段４５によって回転駆動されること
によって、前記一対のＸ線遮蔽板４１，４２のそれぞれ
を互いに離間する方向あるいは互いに接近する方向に移
動させる。
【００２９】なお、図１において、符号５０は、送りね
じ部材４４を回転自在に支持すると同時に、前記ガイド
部材４０を支持した支持枠である。この支持枠５０に
は、各Ｘ線遮蔽板４１，４２を支持枠５０側に引っ張る
付勢手段５１，５２が装備されている。これらの付勢手
段５１，５２は、送りねじ部材４４によってこれらのＸ
線遮蔽板４１，４２を移動させるときのガタを無くし、
円滑で正確な送り動作を可能ならしめる。
じ部材４４を回転自在に支持すると同時に、前記ガイド
部材４０を支持した支持枠である。この支持枠５０に
は、各Ｘ線遮蔽板４１，４２を支持枠５０側に引っ張る
付勢手段５１，５２が装備されている。これらの付勢手
段５１，５２は、送りねじ部材４４によってこれらのＸ
線遮蔽板４１，４２を移動させるときのガタを無くし、
円滑で正確な送り動作を可能ならしめる。
【００３０】前記駆動手段４５は、送りねじ部材４４を
正負どちらの回転方向にも微小回転させることのできる
パルスモータを使用したもので、パルスモータのモータ
軸は軸カップリングＣを介して前記送りねじ部材４４の
一端に連結している。
正負どちらの回転方向にも微小回転させることのできる
パルスモータを使用したもので、パルスモータのモータ
軸は軸カップリングＣを介して前記送りねじ部材４４の
一端に連結している。
【００３１】前記制御処理装置３１は、コンピュータで
あり、試料２１の回転角θに応じて前記スリット装置Ｓ
における各Ｘ線遮蔽板４１，４２の移動動作を制御した
り、あるいはゴニオメータ２４の動作を制御したり、Ｘ
線検出器２３の検出結果の処理を行う。
あり、試料２１の回転角θに応じて前記スリット装置Ｓ
における各Ｘ線遮蔽板４１，４２の移動動作を制御した
り、あるいはゴニオメータ２４の動作を制御したり、Ｘ
線検出器２３の検出結果の処理を行う。
【００３２】この制御処理装置３１は、スリット幅を変
更する際には、まず、Ｘ線遮蔽板４１，４２相互を接近
する方向に移動させる。この時に制御処理装置３１が駆
動手段４５に対して指示する送りねじ部材４４の回転量
は、それまでのＸ線遮蔽板４１，４２相互の離間距離分
よりも大目に設定される。
更する際には、まず、Ｘ線遮蔽板４１，４２相互を接近
する方向に移動させる。この時に制御処理装置３１が駆
動手段４５に対して指示する送りねじ部材４４の回転量
は、それまでのＸ線遮蔽板４１，４２相互の離間距離分
よりも大目に設定される。
【００３３】例えば、駆動手段４５に９０パルスの回転
指示をだせばＸ線遮蔽板４１，４２相互の端部同士がち
ょうど密着する離間距離Ｌの場合には、１００パルス分
の回転指示を出す。これによって、前記一対のＸ線遮蔽
板４１，４２の端面同士がぶつかり、端面同士の当接し
た位置をスリット幅のセンターとすることによって、位
置検出センサ等を使用せずとも、簡単にセンター出しを
することができる。
指示をだせばＸ線遮蔽板４１，４２相互の端部同士がち
ょうど密着する離間距離Ｌの場合には、１００パルス分
の回転指示を出す。これによって、前記一対のＸ線遮蔽
板４１，４２の端面同士がぶつかり、端面同士の当接し
た位置をスリット幅のセンターとすることによって、位
置検出センサ等を使用せずとも、簡単にセンター出しを
することができる。
【００３４】そして、Ｘ線遮蔽板４１，４２相互をぶつ
けることによるセンター出しが終ったら、両Ｘ線遮蔽板
４１，４２がぶつかった位置を基準位置として、所定の
スリット幅が得られるように、Ｘ線遮蔽板４１，４２相
互を離間する方向に移動させる。この時に制御処理装置
３１が駆動手段４５に指示する送りねじ部材４４の回転
量は、試料２１の回転角θに応じて正確に指示する。こ
れによって、各スリット装置Ｓには、試料２１のθ回転
に応じたスリット幅を正確に確保させることができる。
けることによるセンター出しが終ったら、両Ｘ線遮蔽板
４１，４２がぶつかった位置を基準位置として、所定の
スリット幅が得られるように、Ｘ線遮蔽板４１，４２相
互を離間する方向に移動させる。この時に制御処理装置
３１が駆動手段４５に指示する送りねじ部材４４の回転
量は、試料２１の回転角θに応じて正確に指示する。こ
れによって、各スリット装置Ｓには、試料２１のθ回転
に応じたスリット幅を正確に確保させることができる。
【００３５】なお、Ｘ線遮蔽板４１，４２相互を離間さ
せる際に指示したデータは、制御処理装置３１内部のメ
モリに保存し、次にＸ線遮蔽板４１，４２の端面同士を
ぶつけて再度センター出しする際の参考データとする。
せる際に指示したデータは、制御処理装置３１内部のメ
モリに保存し、次にＸ線遮蔽板４１，４２の端面同士を
ぶつけて再度センター出しする際の参考データとする。
【００３６】以上に説明したように、一実施例で各スリ
ット２６，２７，２８に採用したスリット装置Ｓは、一
対のＸ線遮蔽板４１，４２のスライド操作によってスリ
ット幅を調節するもので、Ｘ線遮蔽板４１，４２のそれ
ぞれはＸ線光路に対して傾斜させずに常時直交した状態
で使用することができる。従って、Ｘ線遮蔽板４１，４
２の板厚の影響で有効スリット幅が実際のスリット幅か
ら偏心したり、あるいはスリット幅の調節範囲が制限さ
れるといったスリット幅設定上の不都合が生じない。
ット２６，２７，２８に採用したスリット装置Ｓは、一
対のＸ線遮蔽板４１，４２のスライド操作によってスリ
ット幅を調節するもので、Ｘ線遮蔽板４１，４２のそれ
ぞれはＸ線光路に対して傾斜させずに常時直交した状態
で使用することができる。従って、Ｘ線遮蔽板４１，４
２の板厚の影響で有効スリット幅が実際のスリット幅か
ら偏心したり、あるいはスリット幅の調節範囲が制限さ
れるといったスリット幅設定上の不都合が生じない。
【００３７】また、スリット装置Ｓは、スリット幅を変
更する場合には、一旦Ｘ線遮蔽板４１，４２相互の端面
を当接させることによってスリット幅のセンター出しを
行うため、特にセンサ等を使用せずとも比較的に簡単な
制御で正確にスリット幅を割り出すことができる。
更する場合には、一旦Ｘ線遮蔽板４１，４２相互の端面
を当接させることによってスリット幅のセンター出しを
行うため、特にセンサ等を使用せずとも比較的に簡単な
制御で正確にスリット幅を割り出すことができる。
【００３８】したがって、各スリット２６，２７，２８
において、試料２１のθ回転に連動したスリット幅の調
節を、スリット板の交換等を必要とせずに試料のθ回転
の全範囲に渡って連続的に実行することができ、しかも
スリット幅の調節のための制御処理も容易であるから、
スリット幅の調節処理の自動化による測定作業能率の向
上と測定精度の向上とを達成することができる。
において、試料２１のθ回転に連動したスリット幅の調
節を、スリット板の交換等を必要とせずに試料のθ回転
の全範囲に渡って連続的に実行することができ、しかも
スリット幅の調節のための制御処理も容易であるから、
スリット幅の調節処理の自動化による測定作業能率の向
上と測定精度の向上とを達成することができる。
【００３９】なお、前記発散スリット２６にスリット装
置Ｓを使用したことは、入射Ｘ線２５の発散角を精密に
制御して、試料２１上のＸ線照射領域が必要以上に拡大
されたり、あるいは不足することを防止して、入射Ｘ線
の発散角制御の適正化によって回折Ｘ線の強度を改善す
る点で重要な意義を持つ。そして、受光スリット２７や
散乱スリット２８にスリット装置Ｓを使用したことは、
発散スリット２６によって改善した回折Ｘ線の強度低下
を防止し、かつＳＮ比の低下を防止する等の点で重要な
意義を持つ。
置Ｓを使用したことは、入射Ｘ線２５の発散角を精密に
制御して、試料２１上のＸ線照射領域が必要以上に拡大
されたり、あるいは不足することを防止して、入射Ｘ線
の発散角制御の適正化によって回折Ｘ線の強度を改善す
る点で重要な意義を持つ。そして、受光スリット２７や
散乱スリット２８にスリット装置Ｓを使用したことは、
発散スリット２６によって改善した回折Ｘ線の強度低下
を防止し、かつＳＮ比の低下を防止する等の点で重要な
意義を持つ。
【００４０】従って、一実施例では、発散スリット２
６、受光スリット２７、散乱スリット２８の全てに、ス
リット幅を自動調節するスリット装置Ｓを使用して、ス
リット幅調節の自動化による効果が最大限に発揮される
ようにした。しかし、少なくとも発散スリット２６にス
リット装置Ｓを使用すれば、他の一部のスリットには公
知のスリット幅調節技術を利用するような場合でも、一
実施例ほど充分にではないが、測定作業能率や測定精度
の向上といった効果を得ることができる。
６、受光スリット２７、散乱スリット２８の全てに、ス
リット幅を自動調節するスリット装置Ｓを使用して、ス
リット幅調節の自動化による効果が最大限に発揮される
ようにした。しかし、少なくとも発散スリット２６にス
リット装置Ｓを使用すれば、他の一部のスリットには公
知のスリット幅調節技術を利用するような場合でも、一
実施例ほど充分にではないが、測定作業能率や測定精度
の向上といった効果を得ることができる。
【００４１】
【発明の効果】請求項１に記載のＸ線回折装置は、一対
のＸ線遮蔽板のスライド操作によってスリット幅を調節
するスリット装置を発散スリットとして使用したもの
で、このスリット装置では、Ｘ線遮蔽板のそれぞれをＸ
線光路に対して傾斜させずに使用することができるた
め、Ｘ線遮蔽板の板厚の影響によるスリット幅設定上の
不都合が発生せず、また、スリット幅を変更する場合に
は、一旦Ｘ線遮蔽板相互の端面を当接させることによっ
てスリット幅のセンター出しを行うため、特にセンサ等
を使用せずとも比較的に簡単な制御で正確にスリット幅
を割り出すことができる。
のＸ線遮蔽板のスライド操作によってスリット幅を調節
するスリット装置を発散スリットとして使用したもの
で、このスリット装置では、Ｘ線遮蔽板のそれぞれをＸ
線光路に対して傾斜させずに使用することができるた
め、Ｘ線遮蔽板の板厚の影響によるスリット幅設定上の
不都合が発生せず、また、スリット幅を変更する場合に
は、一旦Ｘ線遮蔽板相互の端面を当接させることによっ
てスリット幅のセンター出しを行うため、特にセンサ等
を使用せずとも比較的に簡単な制御で正確にスリット幅
を割り出すことができる。
【００４２】したがって、スリット板の交換等を必要と
せずに、入射Ｘ線の発散角の制御を試料のθ回転の全範
囲に渡って連続的に精密に実行することができ、入射Ｘ
線に対するスリット幅調節処理の自動化によって測定作
業能率を向上させると同時に、入射Ｘ線の発散角の制御
を適正化することによって回折Ｘ線の強度を高めて測定
精度の向上を図ることができる。
せずに、入射Ｘ線の発散角の制御を試料のθ回転の全範
囲に渡って連続的に精密に実行することができ、入射Ｘ
線に対するスリット幅調節処理の自動化によって測定作
業能率を向上させると同時に、入射Ｘ線の発散角の制御
を適正化することによって回折Ｘ線の強度を高めて測定
精度の向上を図ることができる。
【００４３】また、請求項２に記載のＸ線回折装置は、
発散スリット，受光スリット，散乱スリットの全てに、
一対のＸ線遮蔽板のスライド操作によってスリット幅を
調節するスリット装置を使用したもので、入射Ｘ線と回
折Ｘ線の双方に対してスリット幅調節の自動化と精密な
スリット幅調整とを徹底することができ、これによって
測定作業能率の向上や測定精度の向上といった効果を最
大限にして得ることができる。
発散スリット，受光スリット，散乱スリットの全てに、
一対のＸ線遮蔽板のスライド操作によってスリット幅を
調節するスリット装置を使用したもので、入射Ｘ線と回
折Ｘ線の双方に対してスリット幅調節の自動化と精密な
スリット幅調整とを徹底することができ、これによって
測定作業能率の向上や測定精度の向上といった効果を最
大限にして得ることができる。
【図１】本発明の一実施例の要部の構成説明図である。
【図２】スリット幅を自動調整する従来のＸ線回折装置
の説明図である。
の説明図である。
【図３】従来のスリット装置の問題点の説明図である。
【図４】本発明の一実施例の全体構成図である。
２０ Ｘ線源 ２１ 試料 ２２ 回折Ｘ線 ２３ Ｘ線検出器 ２４ ゴニオメータ ２５ 入射Ｘ線 ２６ 発散スリット ２７ 受光スリット ２８ 散乱スリット ３１ 制御処理装置 Ｓ スリット装置 ４０ ガイド部材 ４１，４２ Ｘ線遮蔽板 ４４ 送りねじ部材 ４５ 駆動手段 ５０ 支持枠 ５１，５２ 付勢手段
Claims (2)
- 【請求項１】 Ｘ線源と、試料からの回折Ｘ線を検出す
るためのＸ線検出器と、試料のθ回転に対する前記Ｘ線
検出器の２θ走査のために試料のθ回転に対する角度２
θを測るゴニオメータと、入射Ｘ線の発散角を制限する
ために試料とＸ線源との間に配置される発散スリット
と、回折Ｘ線の集束位置に配置される受光スリットと、
散乱Ｘ線の前記Ｘ線検出器への進入を防止するために前
記Ｘ線検出器と試料との間に配置される散乱スリットと
を備えたＸ線回折装置であって、 前記発散スリットとして利用されるスリット装置は、 スリット幅の方向に沿って延在するガイド部材と、 このガイド部材によってスリット幅方向にスライド自在
に支持されて、Ｘ線を横断する同一面上で互いに対向す
る相互の端部間の離間距離がスリット幅となる一対のＸ
線遮蔽板と、 これら一対のＸ線遮蔽板の内の一方に螺合した右ねじ部
と他方に螺合した左ねじ部とが同一軸上に装備されて回
転駆動されることによって前記一対のＸ線遮蔽板のそれ
ぞれを互いに離間する方向あるいは互いに接近する方向
に移動させる送りねじ部材と、 前記送りねじ部材を回転駆動するための駆動手段と、 前記駆動手段による前記送りねじ部材の回転方向および
回転量を制御する制御処理装置とを具備した構成とし、 前記制御処理装置は、スリット幅を変更する際には、ま
ず、Ｘ線遮蔽板相互が接近する方向の送りねじ部材の回
転量をそれまでのＸ線遮蔽板相互の離間距離分よりも大
目に指示して前記一対のＸ線遮蔽板の端面同士を当接さ
せることによってスリット幅のセンター出しを行い、そ
の後に、Ｘ線遮蔽板相互が離間する方向の送りねじ部材
の回転量を試料の回転角θに応じて正確に指示すること
によって、試料のθ回転に応じたスリット幅を確保させ
ることを特徴としたＸ線回折装置。 - 【請求項２】 前記受光スリットおよび散乱スリット
に、発散スリットと同じ構成のスリット装置が使用され
たことを特徴とする請求項１に記載のＸ線回折装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09950892A JP3221619B2 (ja) | 1992-04-20 | 1992-04-20 | Ｘ線回折装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09950892A JP3221619B2 (ja) | 1992-04-20 | 1992-04-20 | Ｘ線回折装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05297195A true JPH05297195A (ja) | 1993-11-12 |
| JP3221619B2 JP3221619B2 (ja) | 2001-10-22 |
Family
ID=14249207
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP09950892A Expired - Fee Related JP3221619B2 (ja) | 1992-04-20 | 1992-04-20 | Ｘ線回折装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3221619B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1152096A (ja) * | 1997-08-06 | 1999-02-26 | Rigaku Ind Co | 点集束型ｘ線分光装置 |
| JP2002022681A (ja) * | 2000-05-29 | 2002-01-23 | Koninkl Philips Electronics Nv | 多層鏡及び射出コリメータが設けられるｘ線分析装置 |
| US7397900B2 (en) | 2000-09-27 | 2008-07-08 | Euratom | Micro beam collimator for high resolution XRD investigations with conventional diffractometers |
| KR101719434B1 (ko) * | 2015-12-23 | 2017-03-23 | 한양대학교 산학협력단 | 접부채 형상의 가림막을 이용하여 레이저 여기 표면파를 생성하기 위한 슬릿 마스크 |
| JP2019184611A (ja) * | 2018-04-13 | 2019-10-24 | マルバーン パナリティカル ビー ヴィ | Ｘ線分析装置 |
| US10656994B2 (en) | 2017-10-24 | 2020-05-19 | Spin Memory, Inc. | Over-voltage write operation of tunnel magnet-resistance (“TMR”) memory device and correcting failure bits therefrom by using on-the-fly bit failure detection and bit redundancy remapping techniques |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4359116B2 (ja) * | 2003-10-23 | 2009-11-04 | 株式会社リガク | Ｘ線回折装置の微小部ｘ線照射装置及び微小部ｘ線照射方法 |
-
1992
- 1992-04-20 JP JP09950892A patent/JP3221619B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1152096A (ja) * | 1997-08-06 | 1999-02-26 | Rigaku Ind Co | 点集束型ｘ線分光装置 |
| JP2002022681A (ja) * | 2000-05-29 | 2002-01-23 | Koninkl Philips Electronics Nv | 多層鏡及び射出コリメータが設けられるｘ線分析装置 |
| US7397900B2 (en) | 2000-09-27 | 2008-07-08 | Euratom | Micro beam collimator for high resolution XRD investigations with conventional diffractometers |
| KR101719434B1 (ko) * | 2015-12-23 | 2017-03-23 | 한양대학교 산학협력단 | 접부채 형상의 가림막을 이용하여 레이저 여기 표면파를 생성하기 위한 슬릿 마스크 |
| US10656994B2 (en) | 2017-10-24 | 2020-05-19 | Spin Memory, Inc. | Over-voltage write operation of tunnel magnet-resistance (“TMR”) memory device and correcting failure bits therefrom by using on-the-fly bit failure detection and bit redundancy remapping techniques |
| JP2019184611A (ja) * | 2018-04-13 | 2019-10-24 | マルバーン パナリティカル ビー ヴィ | Ｘ線分析装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3221619B2 (ja) | 2001-10-22 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |