JPS63192000A - Ｘ線光学系 - Google Patents
Ｘ線光学系Info
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- JPS63192000A JPS63192000A JP2378687A JP2378687A JPS63192000A JP S63192000 A JPS63192000 A JP S63192000A JP 2378687 A JP2378687 A JP 2378687A JP 2378687 A JP2378687 A JP 2378687A JP S63192000 A JPS63192000 A JP S63192000A
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- Japan
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- rays
- ring
- ray
- optical system
- reflecting mirror
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- Pending
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- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、回転面反射鏡を使用してＸ線を集光するよう
にしたＸ線光学系に関する。
にしたＸ線光学系に関する。
［従来技術］
ＸＩＩを集光する光学系としては、幾多のものが考えら
れているが、その中で、回転面反射鏡を用いるものが注
目されている。この光学系は、例えば、回転双曲面体と
回転楕円面体との内側表面をＸ線の全反射面とし、該内
側表面によってＸ線を全反射させて該Ｘ線を集光するよ
うに構成している。この集光されたＸ線を試料に照射し
、該試料によって回折されたＸ線を回転楕円面と回転双
曲面とより成る対物レンズと、同じく回転楕円面と回転
双曲面とより成る接眼レンズとより構成されるＸ線光学
系によって結像すれば、試料のｘｍｍを得ることができ
る。
れているが、その中で、回転面反射鏡を用いるものが注
目されている。この光学系は、例えば、回転双曲面体と
回転楕円面体との内側表面をＸ線の全反射面とし、該内
側表面によってＸ線を全反射させて該Ｘ線を集光するよ
うに構成している。この集光されたＸ線を試料に照射し
、該試料によって回折されたＸ線を回転楕円面と回転双
曲面とより成る対物レンズと、同じく回転楕円面と回転
双曲面とより成る接眼レンズとより構成されるＸ線光学
系によって結像すれば、試料のｘｍｍを得ることができ
る。
［発明の目的］
本発明は、上述した回転面反射鏡を用いたＸ線光学系に
おいて、リング状の焦線を形成することができるＸ線光
学系を提供することを目的としている。
おいて、リング状の焦線を形成することができるＸ線光
学系を提供することを目的としている。
［問題点を解決するための手段］
本発明に基づくＸ線光学系は、Ｘ線を反射させて集光す
る回転面反射鏡を有したＸａ光学系であって、該回転面
反射鏡によって発散あるいは収束するＸ線の光路に補助
回転面反射鏡を配置し、該補助回転面反射鏡によってリ
ング状の焦線を形成するように構成したことを特徴とし
ている。
る回転面反射鏡を有したＸａ光学系であって、該回転面
反射鏡によって発散あるいは収束するＸ線の光路に補助
回転面反射鏡を配置し、該補助回転面反射鏡によってリ
ング状の焦線を形成するように構成したことを特徴とし
ている。
［作用］
回転面反射鏡によって収束するＸ線は、例えば、円筒状
の回転体の外面の反射面によって反射され、収束点にお
いてリング状の焦線を形成する。又、回転面反射鏡によ
って発散するＸ線は、例えば、円筒状の回転体の内面の
反射面によって反射され、該回転体の焦点面に適宜な大
きさのリング状の焦線を形成する。
の回転体の外面の反射面によって反射され、収束点にお
いてリング状の焦線を形成する。又、回転面反射鏡によ
って発散するＸ線は、例えば、円筒状の回転体の内面の
反射面によって反射され、該回転体の焦点面に適宜な大
きさのリング状の焦線を形成する。
［実施例］
以下本発明の一実施例を添付図面に基づき詳述する。
第１図において、１は、例えば、回転対陰極型のＸ線源
であり、該Ｘ線源１から発生したＸ線の内、特定方向に
進むＸ線は第１のＸ線反射鏡２によって全反射させられ
る。該第１の反射鏡によって全反射させられたＸ線は、
第２のＸ線反射鏡３によって全反射させられ、光軸Ｏに
平行なＸ線とされる。該第１及び第２のＸ線反射鏡２，
３は夫々回転体で、一体加工されており、例えば、該第
１の反射鏡２は回転双曲面鏡、第２の反射鏡３は回転放
物面鏡である。該光軸に平行とされたＸ線は、第３及び
第４のＸ線反射鏡４，５によって試料６上に集光される
。尚、本実施例において、該第３の反射鏡４は回転放物
面鏡であり、第４の反射鏡５は回転双曲面鏡である。こ
こで、７は第１と第２の反ｔＪＪ１ｔ２．３によって全
反射されるＸ線以外のＸ線を遮蔽するためのｘｍ遮蔽部
材、８は第１〜第４のＸ線反射鏡より成るＸ線集光系の
焦平面に配置された絞り板であり、該絞り板８にはリン
グ状のスリット９が設けられている。該試料６へのＸ線
の照射により、該試料６から回折されたＸ線は、第５と
第６の反射１１０．１１によって全反射されるが、該第
５の反ＧＩＪ＆Ａ１０は回転双曲面鏡であり、該第６の
反射１ｔ１１は回転楕円面鏡であり、この第５と第６の
反射鏡は試料６から回折されたＸ線の対物レンズを構成
している。該対物レンズによって試料６から回折された
Ｘ線は光軸Ｏ上の回転楕円面鏡１１の一方の焦点Ｆに向
って集光される。該焦点Ｆに向うＸ線は円筒状の反射鏡
１２によって反射される。
であり、該Ｘ線源１から発生したＸ線の内、特定方向に
進むＸ線は第１のＸ線反射鏡２によって全反射させられ
る。該第１の反射鏡によって全反射させられたＸ線は、
第２のＸ線反射鏡３によって全反射させられ、光軸Ｏに
平行なＸ線とされる。該第１及び第２のＸ線反射鏡２，
３は夫々回転体で、一体加工されており、例えば、該第
１の反射鏡２は回転双曲面鏡、第２の反射鏡３は回転放
物面鏡である。該光軸に平行とされたＸ線は、第３及び
第４のＸ線反射鏡４，５によって試料６上に集光される
。尚、本実施例において、該第３の反射鏡４は回転放物
面鏡であり、第４の反射鏡５は回転双曲面鏡である。こ
こで、７は第１と第２の反ｔＪＪ１ｔ２．３によって全
反射されるＸ線以外のＸ線を遮蔽するためのｘｍ遮蔽部
材、８は第１〜第４のＸ線反射鏡より成るＸ線集光系の
焦平面に配置された絞り板であり、該絞り板８にはリン
グ状のスリット９が設けられている。該試料６へのＸ線
の照射により、該試料６から回折されたＸ線は、第５と
第６の反射１１０．１１によって全反射されるが、該第
５の反ＧＩＪ＆Ａ１０は回転双曲面鏡であり、該第６の
反射１ｔ１１は回転楕円面鏡であり、この第５と第６の
反射鏡は試料６から回折されたＸ線の対物レンズを構成
している。該対物レンズによって試料６から回折された
Ｘ線は光軸Ｏ上の回転楕円面鏡１１の一方の焦点Ｆに向
って集光される。該焦点Ｆに向うＸ線は円筒状の反射鏡
１２によって反射される。
上述した如き構成において、Ｘ線源１から発生したＸ線
の内、特定方向に放射されたＸ線は、第１と第２のＸ線
反射ｔｌｔ２．３によって全反射させられて光軸Ｏと平
行なＸ線とされ、更に、それ以外のＸ線はｘｍ遮蔽板７
によって遮蔽されるため、絞り板８上にはリング状のＸ
線が照射されることになる。該リング状のＸ線は、該絞
り板８のスリット９を通過することによって整形され、
該整形されたＸ線のみが試料６上の微小点に第３と第４
の反射鏡４．５によって集光されることになる。
の内、特定方向に放射されたＸ線は、第１と第２のＸ線
反射ｔｌｔ２．３によって全反射させられて光軸Ｏと平
行なＸ線とされ、更に、それ以外のＸ線はｘｍ遮蔽板７
によって遮蔽されるため、絞り板８上にはリング状のＸ
線が照射されることになる。該リング状のＸ線は、該絞
り板８のスリット９を通過することによって整形され、
該整形されたＸ線のみが試料６上の微小点に第３と第４
の反射鏡４．５によって集光されることになる。
該試料６に照射されたＸ線は該試料の厚さ、あるいは、
構成成分の違いに応じて回折される。該回折光は対物レ
ンズを構成する第５と第６の反射鏡１０．１１により全
反射させられ、更に、円筒状反射鏡１２によって反射さ
れる。該円筒状反射鏡１２によって反射されたＸ″ｍは
、回転楕円面鏡１１の一方の焦点Ｆ上の平面にリング状
の焦線ＦＬを形成する。該リング状の焦線ＦＬは、図示
しないが、接眼レンズによって結像される。該接眼レン
ズの結像面には、例えば、ｍ像管が配置され、該リング
状の焦線の像が撮像される。
構成成分の違いに応じて回折される。該回折光は対物レ
ンズを構成する第５と第６の反射鏡１０．１１により全
反射させられ、更に、円筒状反射鏡１２によって反射さ
れる。該円筒状反射鏡１２によって反射されたＸ″ｍは
、回転楕円面鏡１１の一方の焦点Ｆ上の平面にリング状
の焦線ＦＬを形成する。該リング状の焦線ＦＬは、図示
しないが、接眼レンズによって結像される。該接眼レン
ズの結像面には、例えば、ｍ像管が配置され、該リング
状の焦線の像が撮像される。
第２図は本発明の他の実施例を示しているが、図中第１
図の実施例と同一ないしは類似の構成要素は同一番号を
付し、その詳細な説明を省略する。
図の実施例と同一ないしは類似の構成要素は同一番号を
付し、その詳細な説明を省略する。
第２図において、第５の反射鏡１０によって反射され、
発散するＸ線は、円筒状反射鏡１３の内面の反射面によ
って反射される。該円筒状反射＃ｆ１１３によって反射
されたＸ線は、該第５の反射鏡１０によるＸ線収束平面
において、リング状の焦線を形成する。
発散するＸ線は、円筒状反射鏡１３の内面の反射面によ
って反射される。該円筒状反射＃ｆ１１３によって反射
されたＸ線は、該第５の反射鏡１０によるＸ線収束平面
において、リング状の焦線を形成する。
このように、円筒状の反射鏡によってリング状の焦線を
形成する実施例を説明したが、リング状の焦線は、円筒
状反射鏡以外にも、リング状焦線の大きさや位置を任意
に変え得るように、円錐状の反射鏡や２次曲面２次以上
の多次曲面等によっても形成することができる。
形成する実施例を説明したが、リング状の焦線は、円筒
状反射鏡以外にも、リング状焦線の大きさや位置を任意
に変え得るように、円錐状の反射鏡や２次曲面２次以上
の多次曲面等によっても形成することができる。
第３図は、本発明に基づくＸ線光学系を情報の消去と付
加に用いた利用例を示している。第３図において、リン
グ状焦線を形成する同一の光学系が２種用意されている
が、第１および第２の光学系Ｓ＋ 、Ｓｚは夫々、第１
図に示したリング状無線を形成するための要素、すなわ
ち、Ｘ線源１゜Ｘ線反射Ｍ２．３．４，５．１０．１１
．１２゜Ｘ線遮蔽板７．絞り板８を有している。該第１
の光学系Ｓ１の反射鏡５によってＸ線が集光された位置
には、修正されるべき情報が記録された媒体２０が配置
され、該第２の光学系Ｓ２の反射１５によってＸ線が集
光された位置には、修正情報が記録された媒体２１が配
置されている。該光学系Ｓ１によって形成されたリング
状のＸ線の光路上には部分的にＸ線を遮蔽する遮蔽体２
２が配置され、又、該光学系Ｓ２によって形成されたリ
ング状のＸ線の光路上には部分的にＸＩを遮蔽する遮蔽
体２３が配置されている。該遮蔽体２２．２３は、夫々
第４図に示す如き形状を有しており、リング状のＸ線の
一部がその透過を阻止されるようになっている。該第１
と第２の光学系Ｓ１と８２によるＸ線は、ベリリウム等
によって形成されたＸ線半透明鏡２４によって合成され
、該合成されたＸ線は回転楕円面体２５と回転双曲面体
２６とより成る接眼レンズによってリング状に結像され
る。
加に用いた利用例を示している。第３図において、リン
グ状焦線を形成する同一の光学系が２種用意されている
が、第１および第２の光学系Ｓ＋ 、Ｓｚは夫々、第１
図に示したリング状無線を形成するための要素、すなわ
ち、Ｘ線源１゜Ｘ線反射Ｍ２．３．４，５．１０．１１
．１２゜Ｘ線遮蔽板７．絞り板８を有している。該第１
の光学系Ｓ１の反射鏡５によってＸ線が集光された位置
には、修正されるべき情報が記録された媒体２０が配置
され、該第２の光学系Ｓ２の反射１５によってＸ線が集
光された位置には、修正情報が記録された媒体２１が配
置されている。該光学系Ｓ１によって形成されたリング
状のＸ線の光路上には部分的にＸ線を遮蔽する遮蔽体２
２が配置され、又、該光学系Ｓ２によって形成されたリ
ング状のＸ線の光路上には部分的にＸＩを遮蔽する遮蔽
体２３が配置されている。該遮蔽体２２．２３は、夫々
第４図に示す如き形状を有しており、リング状のＸ線の
一部がその透過を阻止されるようになっている。該第１
と第２の光学系Ｓ１と８２によるＸ線は、ベリリウム等
によって形成されたＸ線半透明鏡２４によって合成され
、該合成されたＸ線は回転楕円面体２５と回転双曲面体
２６とより成る接眼レンズによってリング状に結像され
る。
上述した如き構成で、第１の光学系Ｓ１において、媒体
２０の修正が必要な部分にＸＷａが集光され、又、第２
の光学系Ｓ２において、媒体２１の修正情報が記録され
た部分にＸ線が集光される。
２０の修正が必要な部分にＸＷａが集光され、又、第２
の光学系Ｓ２において、媒体２１の修正情報が記録され
た部分にＸ線が集光される。
該両光学系によって、例えば、第５図、第６図に示すよ
うなリング状のＸ線が形成されるが、第１の光学系Ｓ１
によって形成された第５図に示すリング状Ｘ線の内、Ｘ
ｌは修正が必要でない部分、×２は修正を要する部分で
ある。該修正を要する部分×２は、遮蔽体２２によって
遮蔽され、Ｘｌのみが半透明鏡２４に照射される。一方
、第２の光学系Ｓ２によって形成された第６図に示すリ
ング状Ｘ線の内、×３が修正情報部分であり、該修正部
分×３のみが半透明１２４に照射されるよう、遮蔽体２
３が配置されている。従って、修正を要しない×１部分
は半透明鏡２４を透過し、修正情報部分×３は該半透明
鏡２４によって反射され、×２部分に×３部分が置換え
られたリング状のＸ線が得られることになる。該必要部
分の情報の修正が行われたリング状Ｘ線は、反射１２５
．２６より成る接眼レンズによってリング状に結像され
、該リング状に結像され、修正済情報を有したＸ線は所
望の目的に利用される。
うなリング状のＸ線が形成されるが、第１の光学系Ｓ１
によって形成された第５図に示すリング状Ｘ線の内、Ｘ
ｌは修正が必要でない部分、×２は修正を要する部分で
ある。該修正を要する部分×２は、遮蔽体２２によって
遮蔽され、Ｘｌのみが半透明鏡２４に照射される。一方
、第２の光学系Ｓ２によって形成された第６図に示すリ
ング状Ｘ線の内、×３が修正情報部分であり、該修正部
分×３のみが半透明１２４に照射されるよう、遮蔽体２
３が配置されている。従って、修正を要しない×１部分
は半透明鏡２４を透過し、修正情報部分×３は該半透明
鏡２４によって反射され、×２部分に×３部分が置換え
られたリング状のＸ線が得られることになる。該必要部
分の情報の修正が行われたリング状Ｘ線は、反射１２５
．２６より成る接眼レンズによってリング状に結像され
、該リング状に結像され、修正済情報を有したＸ線は所
望の目的に利用される。
なお、上述した実施例で、ｘｍａ蔽体２２，２３の形状
は、第４図に示したものに限定されず、修正を要する部
分の大きさや形状に応じて適宜変更できるものである。
は、第４図に示したものに限定されず、修正を要する部
分の大きさや形状に応じて適宜変更できるものである。
又、媒体２０．２１の位置は、精密に移動できるように
構成し、２種のＸ線の位置合せを容易に行えるようにす
ることは望ましい。更に、試料にＸ線を集光するために
、複数の反射面を用いたが、単一の反射面でＸ線を試料
に集光するようにしても良い。更に又、Ｘ線遮蔽板７の
位置は図示した位置に限定されない。
構成し、２種のＸ線の位置合せを容易に行えるようにす
ることは望ましい。更に、試料にＸ線を集光するために
、複数の反射面を用いたが、単一の反射面でＸ線を試料
に集光するようにしても良い。更に又、Ｘ線遮蔽板７の
位置は図示した位置に限定されない。
［効果］
以上詳述した如く、本発明は、回転面反射鏡を追加する
簡単な構成で、リング状の焦線を形成ることができる。
簡単な構成で、リング状の焦線を形成ることができる。
第１図および第２図は本発明に基づくＸ線光学系の一実
施例を示す図、第３図は本発明の光学系の一利用例を示
す図、第４図は第３図の利用例で用いた遮蔽体の形状を
示す図、第５図および第６図はリング状Ｘ線を示す図で
ある。 １−Ｘ１ｉｉｉ
施例を示す図、第３図は本発明の光学系の一利用例を示
す図、第４図は第３図の利用例で用いた遮蔽体の形状を
示す図、第５図および第６図はリング状Ｘ線を示す図で
ある。 １−Ｘ１ｉｉｉ
Claims (2)
- （１）Ｘ線を反射させて集光する回転面反射鏡を有した
Ｘ線光学系であつて、該回転面反射鏡によって発散ある
いは収束するＸ線の光路に補助回転面反射鏡を配置し、
該補助回転面反射鏡によってリング状の焦線を形成する
ように構成したＸ線反射鏡。 - （２）該補助回転面反射鏡は、円筒状に形成され、その
外面あるいは内面がＸ線反射面とされる特許請求の範囲
第１項記載のＸ線光学系。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2378687A JPS63192000A (ja) | 1987-02-04 | 1987-02-04 | Ｘ線光学系 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2378687A JPS63192000A (ja) | 1987-02-04 | 1987-02-04 | Ｘ線光学系 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63192000A true JPS63192000A (ja) | 1988-08-09 |
Family
ID=12120007
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2378687A Pending JPS63192000A (ja) | 1987-02-04 | 1987-02-04 | Ｘ線光学系 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63192000A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4953188A (en) * | 1988-06-09 | 1990-08-28 | Carl-Zeiss-Stiftung | Method and device for producing phase-contrast images |
| JPH08148415A (ja) * | 1994-11-24 | 1996-06-07 | Nikon Corp | 照明装置及び露光装置 |
| US7170969B1 (en) * | 2003-11-07 | 2007-01-30 | Xradia, Inc. | X-ray microscope capillary condenser system |
| JP2008164503A (ja) * | 2006-12-28 | 2008-07-17 | Horiba Ltd | Ｘ線集光装置及びｘ線分析装置 |
| US8416921B2 (en) | 2006-02-21 | 2013-04-09 | Horiba, Ltd. | X-ray convergence element and X-ray irradiation device |
| DE102024002214A1 (de) * | 2024-06-25 | 2026-01-08 | Helmholtz-Zentrum Berlin für Materialien und Energie Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Reflexionsoptik und Mikroskop mit Reflexionsoptik |
-
1987
- 1987-02-04 JP JP2378687A patent/JPS63192000A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4953188A (en) * | 1988-06-09 | 1990-08-28 | Carl-Zeiss-Stiftung | Method and device for producing phase-contrast images |
| JPH08148415A (ja) * | 1994-11-24 | 1996-06-07 | Nikon Corp | 照明装置及び露光装置 |
| US7170969B1 (en) * | 2003-11-07 | 2007-01-30 | Xradia, Inc. | X-ray microscope capillary condenser system |
| US8416921B2 (en) | 2006-02-21 | 2013-04-09 | Horiba, Ltd. | X-ray convergence element and X-ray irradiation device |
| JP2008164503A (ja) * | 2006-12-28 | 2008-07-17 | Horiba Ltd | Ｘ線集光装置及びｘ線分析装置 |
| DE102024002214A1 (de) * | 2024-06-25 | 2026-01-08 | Helmholtz-Zentrum Berlin für Materialien und Energie Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Reflexionsoptik und Mikroskop mit Reflexionsoptik |
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