JPH04328500A - コンデンサ - Google Patents
コンデンサInfo
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- JPH04328500A JPH04328500A JP3097414A JP9741491A JPH04328500A JP H04328500 A JPH04328500 A JP H04328500A JP 3097414 A JP3097414 A JP 3097414A JP 9741491 A JP9741491 A JP 9741491A JP H04328500 A JPH04328500 A JP H04328500A
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- JP
- Japan
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- axis
- reflecting surface
- light
- reflective surface
- condenser lens
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 6
- 230000004907 flux Effects 0.000 abstract description 4
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- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/08—Mirrors
- G02B5/10—Mirrors with curved faces
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lenses (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、シンクロトロン放射（
ＳＯＲ）のビームラインやＸ線レーザ等の平行性のよい
光束を発する光源と組合わせて用いるコンデンサレンズ
に関する。
ＳＯＲ）のビームラインやＸ線レーザ等の平行性のよい
光束を発する光源と組合わせて用いるコンデンサレンズ
に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、軟Ｘ線領域では物質の屈折率は
１に近い値になるため、可視光に対して用いられている
屈折光学系や通常の反射光学系を利用することができな
い。このため直入射多層膜光学系や斜入射光学系又はゾ
ーンプレート等が用いられているが、特にＳＯＲ光のよ
うにほぼ平行に近い光の場合、従来、コンデンサレンズ
には斜入射光学系やゾーンプレートが使用される。
１に近い値になるため、可視光に対して用いられている
屈折光学系や通常の反射光学系を利用することができな
い。このため直入射多層膜光学系や斜入射光学系又はゾ
ーンプレート等が用いられているが、特にＳＯＲ光のよ
うにほぼ平行に近い光の場合、従来、コンデンサレンズ
には斜入射光学系やゾーンプレートが使用される。
【０００３】斜入射光学系は、入射角が９０°に近い場
合の軟Ｘ線の全反射を利用して、斜入射、即ち鏡面すれ
すれに入射させることにより反射鏡を構成したものであ
るが、かかる斜入射光学系には例えばＫ−Ｂ（Ｋｉｒｋ
ｐａｔｒｉｃｋ−Ｂａｅｚ）型やウォルター（Ｗａｌｔ
ｅｒ）型などがある。このうちＫ−Ｂ型光学系は図３に
示したように２枚の球面鏡又は円筒鏡を直角に配置して
成るもので、その制作が容易である等の利点を有してい
る。また、ウォルター型光学系は図４に示したように回
転楕円面と回転双曲面とを連結して成るもので、これら
２つの非球面の焦点は共通になっている。そして、この
タイプは非球面を用いるため上記Ｋ−Ｂ型光学系よりも
収差が小さく又、視野が広い。
合の軟Ｘ線の全反射を利用して、斜入射、即ち鏡面すれ
すれに入射させることにより反射鏡を構成したものであ
るが、かかる斜入射光学系には例えばＫ−Ｂ（Ｋｉｒｋ
ｐａｔｒｉｃｋ−Ｂａｅｚ）型やウォルター（Ｗａｌｔ
ｅｒ）型などがある。このうちＫ−Ｂ型光学系は図３に
示したように２枚の球面鏡又は円筒鏡を直角に配置して
成るもので、その制作が容易である等の利点を有してい
る。また、ウォルター型光学系は図４に示したように回
転楕円面と回転双曲面とを連結して成るもので、これら
２つの非球面の焦点は共通になっている。そして、この
タイプは非球面を用いるため上記Ｋ−Ｂ型光学系よりも
収差が小さく又、視野が広い。
【０００４】一方、ゾーンプレートは回折を利用した結
像素子であるが、図５に示したように軟Ｘ線に対して不
透明である同心円の帯を１つおきに形成して成る板体で
ある。上記不透明部分にはＸ線を吸収し易い金等が使用
されるが、通常、電子ビームリソグラフィやホログラフ
ィック法等により製作される。そしてゾーンプレートの
中心からｎ番目の帯の円の半径ｒｎ と焦点距離ｆとの
間にはｒｎ ２ ＝ｎｆλなる関係が成立する。尚、上
式中、λは波長で、ｆ＝ｒ１２／λの関係がある。
像素子であるが、図５に示したように軟Ｘ線に対して不
透明である同心円の帯を１つおきに形成して成る板体で
ある。上記不透明部分にはＸ線を吸収し易い金等が使用
されるが、通常、電子ビームリソグラフィやホログラフ
ィック法等により製作される。そしてゾーンプレートの
中心からｎ番目の帯の円の半径ｒｎ と焦点距離ｆとの
間にはｒｎ ２ ＝ｎｆλなる関係が成立する。尚、上
式中、λは波長で、ｆ＝ｒ１２／λの関係がある。
【０００５】ところで、ＳＯＲ光を利用した顕微鏡の場
合、試料を高解像度で観察するにはＮＡ（開口数）の大
きい対物レンズが必要になるため、このときコンデンサ
レンズもＮＡが大である必要がある。更に該コンデンサ
レンズは集光効率が高いことが望ましいので、軟Ｘ線に
対して反射率を高くするためには斜入射光学系において
は斜入射角をできる限り小さくすることが必要になる。 このように上述した各種類の光学系をＳＯＲ光のコンデ
ンサレンズに用いる場合には考慮すべき問題がある。
合、試料を高解像度で観察するにはＮＡ（開口数）の大
きい対物レンズが必要になるため、このときコンデンサ
レンズもＮＡが大である必要がある。更に該コンデンサ
レンズは集光効率が高いことが望ましいので、軟Ｘ線に
対して反射率を高くするためには斜入射光学系において
は斜入射角をできる限り小さくすることが必要になる。 このように上述した各種類の光学系をＳＯＲ光のコンデ
ンサレンズに用いる場合には考慮すべき問題がある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、先ずＫ
−Ｂ型光学系の場合、平行光束を集光しようとすると収
差が大きくなってしまうという問題があり、又収差を小
さくしようとすればＮＡを大きくすることができないと
いう不都合がある。しかも、鏡面の大きさが大きくなら
ざるを得ない上に、２枚鏡構成であるからそれらのアラ
イメントを必要とする。一方、ウォルター型光学系では
、細長い円筒形状である点や前記回転楕円面及び回転双
曲面に高い非球面精度を要求されること等からその製作
は著しく困難にならざるを得ない。
−Ｂ型光学系の場合、平行光束を集光しようとすると収
差が大きくなってしまうという問題があり、又収差を小
さくしようとすればＮＡを大きくすることができないと
いう不都合がある。しかも、鏡面の大きさが大きくなら
ざるを得ない上に、２枚鏡構成であるからそれらのアラ
イメントを必要とする。一方、ウォルター型光学系では
、細長い円筒形状である点や前記回転楕円面及び回転双
曲面に高い非球面精度を要求されること等からその製作
は著しく困難にならざるを得ない。
【０００７】更に、ゾーンプレートの場合は中心から離
れるにつれてゾーン幅が狭くなるが、最小ゾーン幅をｄ
ｒｎ としたときの開口数は、ＮＡ＝λ／２ｄｒｎ で
表されるが、特にｄｒｎ ＝２５ｎｍ，λ＝１０ｎｍの
ときにはＮＡ＝０．２になってしまう。従って、０．２
５以上の大きいＮＡを得ることが極めて困難になる。
れるにつれてゾーン幅が狭くなるが、最小ゾーン幅をｄ
ｒｎ としたときの開口数は、ＮＡ＝λ／２ｄｒｎ で
表されるが、特にｄｒｎ ＝２５ｎｍ，λ＝１０ｎｍの
ときにはＮＡ＝０．２になってしまう。従って、０．２
５以上の大きいＮＡを得ることが極めて困難になる。
【０００８】本発明はかかる実情に鑑み、特に軟Ｘ線領
域の平行な入射光に対して大きいＮＡ及び高い反射率を
得ることができると共に、その製作が容易であるコンデ
ンサレンズを提供することを目的とする。
域の平行な入射光に対して大きいＮＡ及び高い反射率を
得ることができると共に、その製作が容易であるコンデ
ンサレンズを提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明によるコンデンサ
レンズは、光源からの光束を所望の位置に収束させるが
、特に回転二次曲面から成る反射面を有している。そし
てこの二次曲面を以下の式（１）で表したとき、以下の
条件（２）及び（３）を満足することを特徴としている
。 （１） ｚ＝Ｃｙ２ ／［１＋（１−ｐＣ２ ｙ
２ ）１／２ ］ （２） Ｃ・ｈ＜２２ （３） ７８−４θＮ ＜Ｃ・ｈ 但し、ｚ，
ｙは反射面の回転軸をｚ軸とし該ｚ軸と反射面との交点
を原点としてｚ軸に垂直にｙ軸をとったときの座標、Ｃ
はｚ軸上で反射面に接する球面の曲率半径、ｈは反射面
に入射する光束の中心線とｚ軸との距離、θＮ は入射
する光束のうちｚ軸に最も近い光線の反射面への斜入射
角、ｐは円錐係数である。
レンズは、光源からの光束を所望の位置に収束させるが
、特に回転二次曲面から成る反射面を有している。そし
てこの二次曲面を以下の式（１）で表したとき、以下の
条件（２）及び（３）を満足することを特徴としている
。 （１） ｚ＝Ｃｙ２ ／［１＋（１−ｐＣ２ ｙ
２ ）１／２ ］ （２） Ｃ・ｈ＜２２ （３） ７８−４θＮ ＜Ｃ・ｈ 但し、ｚ，
ｙは反射面の回転軸をｚ軸とし該ｚ軸と反射面との交点
を原点としてｚ軸に垂直にｙ軸をとったときの座標、Ｃ
はｚ軸上で反射面に接する球面の曲率半径、ｈは反射面
に入射する光束の中心線とｚ軸との距離、θＮ は入射
する光束のうちｚ軸に最も近い光線の反射面への斜入射
角、ｐは円錐係数である。
【００１０】
【作用】本発明によれば、条件（２）は入射光束のビー
ム径と回転軸方向の反射面とのバランスを規制する関係
を示しており、この値が上限を越えるとビーム径に対し
て反射面が極端に大きくなり過ぎてしまい製作及び取扱
いが著しく困難になる。また、反射面に接する球面の曲
率半径と入射光束の中心と回転軸との距離との積Ｃ・ｈ
は、入射光束のうちｚ軸に最も近い光線の反射面への斜
入射角との関係において条件（３）を満足するが、これ
により０．２５以上の大きい開口数を確保することがで
きる。
ム径と回転軸方向の反射面とのバランスを規制する関係
を示しており、この値が上限を越えるとビーム径に対し
て反射面が極端に大きくなり過ぎてしまい製作及び取扱
いが著しく困難になる。また、反射面に接する球面の曲
率半径と入射光束の中心と回転軸との距離との積Ｃ・ｈ
は、入射光束のうちｚ軸に最も近い光線の反射面への斜
入射角との関係において条件（３）を満足するが、これ
により０．２５以上の大きい開口数を確保することがで
きる。
【００１１】
【実施例】以下、図１に基づき本発明によるコンデンサ
レンズの第一実施例を説明する。図において、鏡Ｍの反
射面Ｓは回転二次曲面により構成されるが、ここでは該
反射面Ｓの形状は回転放物面である。
レンズの第一実施例を説明する。図において、鏡Ｍの反
射面Ｓは回転二次曲面により構成されるが、ここでは該
反射面Ｓの形状は回転放物面である。
【００１２】本実施例においてもＳＯＲ光等の指向性の
よい光を発する光源を用いるが、鏡Ｍはその反射面Ｓの
回転軸、即ちｚ軸が入射光Ｉに平行になるように配置さ
れる。更に図中、Ｄは入射光Ｉの光束径、Ｌは回転軸方
向の鏡Ｍの長さ、ｈは入射光Ｉの光束の中心と回転軸と
の距離、ｆは反射面Ｓの面頂Ｐと焦点Ｆとの距離である
。反射面Ｓは前記の（２）式及び（３）式を満足する。
よい光を発する光源を用いるが、鏡Ｍはその反射面Ｓの
回転軸、即ちｚ軸が入射光Ｉに平行になるように配置さ
れる。更に図中、Ｄは入射光Ｉの光束径、Ｌは回転軸方
向の鏡Ｍの長さ、ｈは入射光Ｉの光束の中心と回転軸と
の距離、ｆは反射面Ｓの面頂Ｐと焦点Ｆとの距離である
。反射面Ｓは前記の（２）式及び（３）式を満足する。
【００１３】上記の場合、反射面Ｓの回転軸に最も近い
入射光Ｉの光線ＩＮと最も遠い光線ＩＦ はそれぞれ反
射面Ｓ上の点Ａ及び点Ｂで反射し、焦点Ｆにおいて交差
するが、この交差する角度の半分の角度の正弦が開口数
ＮＡである。又、回転軸に近い光線ほど反射面Ｓへの斜
入射角θＮ が大きく、従って反射率は小さくなる。そ
こで上記回転軸に最も近い入射光Ｉの光線ＩＮ に対す
る反射率ＲＡ が最小になるからこの反射率ＲＡ をこ
の光学系の反射率とする。
入射光Ｉの光線ＩＮと最も遠い光線ＩＦ はそれぞれ反
射面Ｓ上の点Ａ及び点Ｂで反射し、焦点Ｆにおいて交差
するが、この交差する角度の半分の角度の正弦が開口数
ＮＡである。又、回転軸に近い光線ほど反射面Ｓへの斜
入射角θＮ が大きく、従って反射率は小さくなる。そ
こで上記回転軸に最も近い入射光Ｉの光線ＩＮ に対す
る反射率ＲＡ が最小になるからこの反射率ＲＡ をこ
の光学系の反射率とする。
【００１４】ここで、光線ＩＮ の反射面Ｓへの斜入射
角θＮ と反射率ＲＡ との関係はフレネル（Ｆｒｅｓ
ｎｅｌ ）の公式によれば次の（４）式により表される
。 ＲＡ ＝Ｒｅ｛（ＲＰ ＲＰ ＊ ＋ＲＳ Ｒ
Ｓ ＊ ）／２｝ （４）但し
、ＲＰ ，ＲＳ はそれぞれ入射面に平行な成分と垂直
な成分であり、反射面Ｓの物質の屈折率ｎを用いて次の
（５）式及び（６）式により表される。 ＲＰ ＝（ｎｓｉｎ θＮ −ｃｏｓ θ）／
（ｎｓｉｎ θＮ ＋ｃｏｓ θ） （５）
ＲＳ ＝（ｓｉｎ θＮ −ｎｃｏｓ θ）／（ｓ
ｉｎ θＮ ＋ｎｃｏｓ θ） （６）屈折率ｎ
は入射光の波長によって決定され、その波長と斜入射角
θＮ とにより所望の反射率ＲＡ が得られるように反
射面Ｓの物質の種類が選定される。
角θＮ と反射率ＲＡ との関係はフレネル（Ｆｒｅｓ
ｎｅｌ ）の公式によれば次の（４）式により表される
。 ＲＡ ＝Ｒｅ｛（ＲＰ ＲＰ ＊ ＋ＲＳ Ｒ
Ｓ ＊ ）／２｝ （４）但し
、ＲＰ ，ＲＳ はそれぞれ入射面に平行な成分と垂直
な成分であり、反射面Ｓの物質の屈折率ｎを用いて次の
（５）式及び（６）式により表される。 ＲＰ ＝（ｎｓｉｎ θＮ −ｃｏｓ θ）／
（ｎｓｉｎ θＮ ＋ｃｏｓ θ） （５）
ＲＳ ＝（ｓｉｎ θＮ −ｎｃｏｓ θ）／（ｓ
ｉｎ θＮ ＋ｎｃｏｓ θ） （６）屈折率ｎ
は入射光の波長によって決定され、その波長と斜入射角
θＮ とにより所望の反射率ＲＡ が得られるように反
射面Ｓの物質の種類が選定される。
【００１５】本発明によるコンデンサレンズは上記のよ
うに構成されているから、反射面Ｓを回転二次曲面、即
ちこの例では回転放物面にしたことにより、該放物面の
回転軸に平行な入射光Ｉが放物面の焦点Ｆに集まるので
理論上無収差にすることができる。又、放物面であるか
ら、簡単な設計により大きいＮＡに対しても鏡Ｍを小さ
く構成することができる。そして更に放物面は回転軸の
周りの全周によって構成する必要はなく、例えば該回転
軸を通る平面で切断されたその片側だけを用いるだけで
済み、この場合、材料ブロックからＮＣ加工により容易
に製作することができる。
うに構成されているから、反射面Ｓを回転二次曲面、即
ちこの例では回転放物面にしたことにより、該放物面の
回転軸に平行な入射光Ｉが放物面の焦点Ｆに集まるので
理論上無収差にすることができる。又、放物面であるか
ら、簡単な設計により大きいＮＡに対しても鏡Ｍを小さ
く構成することができる。そして更に放物面は回転軸の
周りの全周によって構成する必要はなく、例えば該回転
軸を通る平面で切断されたその片側だけを用いるだけで
済み、この場合、材料ブロックからＮＣ加工により容易
に製作することができる。
【００１６】ここで、本実施例の具体例を次の表１乃至
表５に示される具体的数値例を以て示すと共に、それら
の関係を図２のグラフに表す。
表５に示される具体的数値例を以て示すと共に、それら
の関係を図２のグラフに表す。
【００１７】
【表１】
【００１８】
【表２】
【００１９】
【表３】
【００２０】
【表４】
【００２１】
【表５】
【００２２】これらの各表からも明らかなように、反射
率ＲＡ は著しく高くすることができると共に、開口数
はすべての場合にＮＡ＝０．２５以上の大きい値になっ
ている。
率ＲＡ は著しく高くすることができると共に、開口数
はすべての場合にＮＡ＝０．２５以上の大きい値になっ
ている。
【００２３】本発明によるコンデンサレンズの第二実施
例において、鏡Ｍの反射面Ｓは回転楕円面により構成さ
れる。そしてその他の構成は上記第一実施例の場合と同
様であるが、この第二実施例による具体例を次の表６に
示される具体的数値例を以て示す。尚、表中、ａは楕円
面の長軸（回転軸方向）の長さ、ｂはその短軸の長さで
ある。
例において、鏡Ｍの反射面Ｓは回転楕円面により構成さ
れる。そしてその他の構成は上記第一実施例の場合と同
様であるが、この第二実施例による具体例を次の表６に
示される具体的数値例を以て示す。尚、表中、ａは楕円
面の長軸（回転軸方向）の長さ、ｂはその短軸の長さで
ある。
【００２４】
【表６】
【００２５】第二実施例の場合にも、鏡Ｍの反射面Ｓを
回転二次曲面としての楕円面で構成することにより、上
記第一実施例と同様な作用効果を得ることができる。
回転二次曲面としての楕円面で構成することにより、上
記第一実施例と同様な作用効果を得ることができる。
【００２６】
【発明の効果】上述したように本発明によれば、特に軟
Ｘ線領域の平行な入射光に対して高い開口数及び反射率
を得ることができると共に、その製作が容易である等の
利点がある。
Ｘ線領域の平行な入射光に対して高い開口数及び反射率
を得ることができると共に、その製作が容易である等の
利点がある。
【図１】本発明によるコンデンサレンズの第一実施例に
よる構成及び原理を示す図である。
よる構成及び原理を示す図である。
【図２】本発明による上記コンデンサレンズの具体例に
よる斜入射角度と、反射面に接する球面の曲率半径及び
入射光の光束の中心と回転軸の距離の積との関係を表す
グラフである。
よる斜入射角度と、反射面に接する球面の曲率半径及び
入射光の光束の中心と回転軸の距離の積との関係を表す
グラフである。
【図３】従来のＫ−Ｂ型光学系の構成を示す斜視図であ
る。
る。
【図４】従来のウォルター型光学系の構成を示す図であ
る。
る。
【図５】従来のゾーンプレートの構成を示す図である。
Ｍ 鏡
Ｓ 反射面
Ｆ 焦点
Ｐ 面頂
Ｉ 入射光
θＮ 斜入射角度
ｚ 回転軸
Claims (1)
- 【請求項１】 光源からの光束を所望の位置に収束さ
せるコンデンサレンズにおいて、下記の（１）式で表さ
れる回転二次曲面から成る反射面を有し、前記光源から
の光束が回転軸に対してほぼ平行に入射するように配置
した際に該反射面が下記の（２）式及び（３）式の条件
を満足することを特徴とするコンデンサレンズ。 （１） ｚ＝Ｃｙ２ ／［１＋（１−ｐＣ２ ｙ
２ ）１／２ ］ （２） Ｃ・ｈ＜２２ （３） ７８−４θＮ ＜Ｃ・ｈ 但し、ｚ，
ｙは反射面の回転軸をｚ軸とし該ｚ軸と反射面との交点
を原点としてｚ軸に垂直にｙ軸をとったときの座標、Ｃ
はｚ軸上で反射面に接する球面の曲率半径、ｈは反射面
に入射する光束の中心線とｚ軸との距離、θＮ は入射
する光束のうちｚ軸に最も近い光線の反射面への斜入射
角、ｐは円錐係数である。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3097414A JPH04328500A (ja) | 1991-04-26 | 1991-04-26 | コンデンサ |
| US07/872,072 US5241426A (en) | 1991-04-26 | 1992-04-22 | Condenser optical system |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3097414A JPH04328500A (ja) | 1991-04-26 | 1991-04-26 | コンデンサ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04328500A true JPH04328500A (ja) | 1992-11-17 |
Family
ID=14191822
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3097414A Withdrawn JPH04328500A (ja) | 1991-04-26 | 1991-04-26 | コンデンサ |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5241426A (ja) |
| JP (1) | JPH04328500A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5745547A (en) * | 1995-08-04 | 1998-04-28 | X-Ray Optical Systems, Inc. | Multiple channel optic |
| US6180938B1 (en) * | 1997-12-08 | 2001-01-30 | Raytheon Company | Optical system with a window having a conicoidal inner surface, and testing of the optical system |
| JP4220170B2 (ja) * | 2002-03-22 | 2009-02-04 | 浜松ホトニクス株式会社 | Ｘ線像拡大装置 |
| US6966661B2 (en) * | 2003-09-16 | 2005-11-22 | Robert L. Read | Half-round total internal reflection magnifying prism |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2474240A (en) * | 1945-08-08 | 1949-06-28 | Friedman Herbert | Focusing x-ray monochromator |
| US2557662A (en) * | 1948-11-29 | 1951-06-19 | Research Corp | Short-wave electromagnetic radiation catoptrics |
| GB717330A (en) * | 1951-10-24 | 1954-10-27 | Ass Elect Ind | Improvements relating to x-ray microscopes |
| US3079501A (en) * | 1960-09-29 | 1963-02-26 | Jr La Verne S Birks | System for recording parallel x-rays |
| US3821556A (en) * | 1972-02-15 | 1974-06-28 | Nasa | Three mirror glancing incidence system for x ray telescope |
| US4370750A (en) * | 1981-05-15 | 1983-01-25 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Extended range X-ray telescope |
| US4562583A (en) * | 1984-01-17 | 1985-12-31 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Spectral slicing X-ray telescope with variable magnification |
| JPS61102600A (ja) * | 1984-10-25 | 1986-05-21 | 日本電子株式会社 | Ｘ線レンズ系 |
| JPS61292600A (ja) * | 1985-06-20 | 1986-12-23 | 日本電子株式会社 | Ｘ線光学系 |
| US4941163A (en) * | 1985-08-15 | 1990-07-10 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Multispectral glancing incidence X-ray telescope |
-
1991
- 1991-04-26 JP JP3097414A patent/JPH04328500A/ja not_active Withdrawn
-
1992
- 1992-04-22 US US07/872,072 patent/US5241426A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5241426A (en) | 1993-08-31 |
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