JPS62265613A - 光ビ−ムの２次元町偏向装置 - Google Patents
光ビ−ムの２次元町偏向装置Info
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- JPS62265613A JPS62265613A JP61109049A JP10904986A JPS62265613A JP S62265613 A JPS62265613 A JP S62265613A JP 61109049 A JP61109049 A JP 61109049A JP 10904986 A JP10904986 A JP 10904986A JP S62265613 A JPS62265613 A JP S62265613A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- deflection
- light beam
- deflection means
- deflecting
- optical system
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 17
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 11
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は図形、画像の読取または記録、更には３次元形
状計測において使用される光ビームの２次元的偏向装置
に関し、特に、２軸方向の走査特性が等しい、ランダム
走査に適した光ビームの２次元的偏向装置に関する。
状計測において使用される光ビームの２次元的偏向装置
に関し、特に、２軸方向の走査特性が等しい、ランダム
走査に適した光ビームの２次元的偏向装置に関する。
従来、光ビームの偏向には、振動鏡、回転鏡、超音波光
偏向素子、ホログラフィックグレーティング回転板など
が使用されている。２次元的な偏向は、これらの１次元
的な偏向手段を組み合わせることにより実現されている
。第２図は従来の光ビームの２次元的偏向装置の一例の
概略図である。
偏向素子、ホログラフィックグレーティング回転板など
が使用されている。２次元的な偏向は、これらの１次元
的な偏向手段を組み合わせることにより実現されている
。第２図は従来の光ビームの２次元的偏向装置の一例の
概略図である。
光ビームＢは第１の光ビーム偏向手段Ｄ１に入射して１
次元的偏向を受けた後、第２の光ビーム偏向手段Ｄ２に
よって初めの偏向方向と異なる方向に第２の偏向を受け
る。図示されるように、第２の偏向手段Ｄ２（本例では
鏡面）への光ビームＢの入射位置は第１の偏向手段の偏
向角度によって変化する。
次元的偏向を受けた後、第２の光ビーム偏向手段Ｄ２に
よって初めの偏向方向と異なる方向に第２の偏向を受け
る。図示されるように、第２の偏向手段Ｄ２（本例では
鏡面）への光ビームＢの入射位置は第１の偏向手段の偏
向角度によって変化する。
従来の１次元的なビーム偏向手段の組合わせでは、第２
の偏向により偏向中心Ｃが移動してしまう。２軸方向の
偏向の特性が異なったものとなってしまう。更には、２
個の振動鏡を組合わせた偏向装置では、第２の振動鏡へ
の光ビームの入射位置が第１の偏向により移動するため
、第２の振動鏡の面積を、第１の振動鏡よりも大きくす
ることが必要となり、慣性が大きくなるため第２の偏向
の応答速度が遅くなってしまうという欠点があった。ま
た、偏向手段として、ホログラフィックグレーティング
の回転板を用いる場合には、第２の偏向を行う、ホログ
ラフィックグレーティング回転板への光ビームの入射位
置が第１の偏向に依存して変わり、従って、グレーティ
ング方向に対しての入射角度が変化して光ビームの偏向
される方向が異なってしまうという問題があった。
の偏向により偏向中心Ｃが移動してしまう。２軸方向の
偏向の特性が異なったものとなってしまう。更には、２
個の振動鏡を組合わせた偏向装置では、第２の振動鏡へ
の光ビームの入射位置が第１の偏向により移動するため
、第２の振動鏡の面積を、第１の振動鏡よりも大きくす
ることが必要となり、慣性が大きくなるため第２の偏向
の応答速度が遅くなってしまうという欠点があった。ま
た、偏向手段として、ホログラフィックグレーティング
の回転板を用いる場合には、第２の偏向を行う、ホログ
ラフィックグレーティング回転板への光ビームの入射位
置が第１の偏向に依存して変わり、従って、グレーティ
ング方向に対しての入射角度が変化して光ビームの偏向
される方向が異なってしまうという問題があった。
上記の問題点は、即ち偏向中心の不一致の問題点は異な
る方向に偏向する２つの１次元的偏向手段の間に結像光
学系を配置し、第１の偏向手段によって偏向された光ビ
ームが、第１の偏向にかかわらず、第２の偏向手段の同
一の位置に入射するようにしたことを特徴とする本発明
の光ビームの２次元的偏向装置によって解決される。
る方向に偏向する２つの１次元的偏向手段の間に結像光
学系を配置し、第１の偏向手段によって偏向された光ビ
ームが、第１の偏向にかかわらず、第２の偏向手段の同
一の位置に入射するようにしたことを特徴とする本発明
の光ビームの２次元的偏向装置によって解決される。
なお、結像光学系としては、レンズ、ミラーのいずれを
も使用できることは言うまでもない。
も使用できることは言うまでもない。
ある点より発射される全ての光線は、結像光学系を通過
した後、結像光学系に対してその点と像の関係にある点
へと向う。従って、第１の偏向手一段の偏向中心と第２
の偏向手段の偏向中心が、そ間に配置される結像光学系
に対し、互いに像の関係となるようにすることにより、
結像光学系は、第１の偏向手段により偏向された光ビー
ムを第１の偏向にかかわらず第２の偏向手段の定まった
部分に入射させるように作用する。
した後、結像光学系に対してその点と像の関係にある点
へと向う。従って、第１の偏向手一段の偏向中心と第２
の偏向手段の偏向中心が、そ間に配置される結像光学系
に対し、互いに像の関係となるようにすることにより、
結像光学系は、第１の偏向手段により偏向された光ビー
ムを第１の偏向にかかわらず第２の偏向手段の定まった
部分に入射させるように作用する。
本発明によれば、光ビームを第１の偏向に係わらず、第
２の偏向手段の定まった箇所に入射することができるた
め、第１および第２の偏向手段による実効的偏向中心が
一致するし、第２の偏向手段の必要面積を最小限に保つ
ことができる。従って、例えば偏向手段として振動鏡を
用いる場合、第２の偏向手段にも第１の偏向手段と同様
に、小面積で慣性の小さい偏向手段を用いることが可能
となり、第１および第２の偏向の動特性をほぼ同一とす
ることが可能になり、ランダム走査にも適した光ビーム
偏向システムを構成できる。また、偏向手段としてホロ
グラフィックグレーティング回転板を使用する場合も、
第２の偏向を行なうホログラフィックグレーティング回
転板への光ビームの入射位置が変わらないので、第２の
グレーティングの方向に対する光ビームの入射角を一定
にでき極めて具合がよい。
２の偏向手段の定まった箇所に入射することができるた
め、第１および第２の偏向手段による実効的偏向中心が
一致するし、第２の偏向手段の必要面積を最小限に保つ
ことができる。従って、例えば偏向手段として振動鏡を
用いる場合、第２の偏向手段にも第１の偏向手段と同様
に、小面積で慣性の小さい偏向手段を用いることが可能
となり、第１および第２の偏向の動特性をほぼ同一とす
ることが可能になり、ランダム走査にも適した光ビーム
偏向システムを構成できる。また、偏向手段としてホロ
グラフィックグレーティング回転板を使用する場合も、
第２の偏向を行なうホログラフィックグレーティング回
転板への光ビームの入射位置が変わらないので、第２の
グレーティングの方向に対する光ビームの入射角を一定
にでき極めて具合がよい。
以下、本発明を実施例に基づき更に詳細に説明する。第
１図は本発明の第１実施例の斜視図である。図示される
ように、第１の偏向手段Ｄ１による偏向中心と、第２の
偏向手段Ｄ２による偏向中心とが互いに像の関係になる
ように、第１の偏向手段Ｄｉと第２の偏向手段Ｄ２との
間に結像光学系である集光し、ンズＬが配置されている
。このように、第１の偏向手段Ｄ１と第２の偏向手段Ｄ
２との間に集光レンズＬが配置されていると、第１の偏
向手段Ｄ１の偏向に係わらず、光ビームＢを第２の偏向
手段Ｄ２の鏡面のほぼ同一の位置に入射させることがで
きる。また、光ビーム投射空間から見た等価的な第１の
偏向手段ＤＩによる偏向中心を第２の偏向手段Ｄ２への
入射位置、即ち、第２の偏向手段Ｄ２による偏向中心と
一致させることができる。本実施例においては結像光学
系として円筒状レンズが使用されたが、通常の凹レンズ
を使用してもよい。
１図は本発明の第１実施例の斜視図である。図示される
ように、第１の偏向手段Ｄ１による偏向中心と、第２の
偏向手段Ｄ２による偏向中心とが互いに像の関係になる
ように、第１の偏向手段Ｄｉと第２の偏向手段Ｄ２との
間に結像光学系である集光し、ンズＬが配置されている
。このように、第１の偏向手段Ｄ１と第２の偏向手段Ｄ
２との間に集光レンズＬが配置されていると、第１の偏
向手段Ｄ１の偏向に係わらず、光ビームＢを第２の偏向
手段Ｄ２の鏡面のほぼ同一の位置に入射させることがで
きる。また、光ビーム投射空間から見た等価的な第１の
偏向手段ＤＩによる偏向中心を第２の偏向手段Ｄ２への
入射位置、即ち、第２の偏向手段Ｄ２による偏向中心と
一致させることができる。本実施例においては結像光学
系として円筒状レンズが使用されたが、通常の凹レンズ
を使用してもよい。
第３図は本発明の第２実施例の斜視図であり、第１およ
び第２の偏向手段ＤＩ、Ｄ２として、超音波偏向器を用
いた場合の例である。第１図の実施例と同様にして集光
レンズＬが設置されている。
び第２の偏向手段ＤＩ、Ｄ２として、超音波偏向器を用
いた場合の例である。第１図の実施例と同様にして集光
レンズＬが設置されている。
本実施例においても、光ビーム投射空間から見た等価的
な第１の偏向手段Ｄ１による偏向中心が、第２の偏向手
段Ｄ２への光ビームＢの入射位置、即ち第２の偏向手段
Ｄ２による偏向中心と一致する。
な第１の偏向手段Ｄ１による偏向中心が、第２の偏向手
段Ｄ２への光ビームＢの入射位置、即ち第２の偏向手段
Ｄ２による偏向中心と一致する。
第４図は本発明の第３実施例の平面図であり、結像光学
系として２枚のレンズＬ１、Ｌ２によるテレセンドリン
クな光学系を使用した場合の実施例である。第１および
第２の偏向手段Ｄ１、Ｄ２としては、第２実施例と同様
に超音波偏向器が使用されている。本実施例によると、
レーザ光ビームと同様な、平行性の保たれた、距離によ
りビーム径の変化しない光ビームを投射することが可能
となる。第１図および第３図に示された様に１枚のみの
円筒面鏡が配置された構成においては、レーザ光ビーム
等のように平行性のよい光ビームを偏向、入射させた場
合には、レンズの焦点面の位置にクロスオーバーが生じ
、光ビーム投射空間から見た場合には、あたかも焦点面
上にある点光源から出射された光のように、距離ととも
に広がっていく光ビームが得られる。
系として２枚のレンズＬ１、Ｌ２によるテレセンドリン
クな光学系を使用した場合の実施例である。第１および
第２の偏向手段Ｄ１、Ｄ２としては、第２実施例と同様
に超音波偏向器が使用されている。本実施例によると、
レーザ光ビームと同様な、平行性の保たれた、距離によ
りビーム径の変化しない光ビームを投射することが可能
となる。第１図および第３図に示された様に１枚のみの
円筒面鏡が配置された構成においては、レーザ光ビーム
等のように平行性のよい光ビームを偏向、入射させた場
合には、レンズの焦点面の位置にクロスオーバーが生じ
、光ビーム投射空間から見た場合には、あたかも焦点面
上にある点光源から出射された光のように、距離ととも
に広がっていく光ビームが得られる。
第５図は本発明の第４実施例の斜視図であり、第１およ
び第２の偏向手段Ｄ１、Ｄ２として振動鏡が使用されて
いる。他の実施例においても同様であるが、集光学系は
第１の偏向手段の偏向方向についてのみ作用すればよく
、図示するように幅の狭い円筒レンズＬ１、Ｌ２の組合
わせとすることが可能であり、本実施例の構成は装置を
小型化する上で有利である。
び第２の偏向手段Ｄ１、Ｄ２として振動鏡が使用されて
いる。他の実施例においても同様であるが、集光学系は
第１の偏向手段の偏向方向についてのみ作用すればよく
、図示するように幅の狭い円筒レンズＬ１、Ｌ２の組合
わせとすることが可能であり、本実施例の構成は装置を
小型化する上で有利である。
第６図は本発明の第５実施例の斜視図であり、結像光学
系として凹面鏡Ｍを用いた場合の実施例である。
系として凹面鏡Ｍを用いた場合の実施例である。
第１図は本発明の第１実施例の斜視図、第２図は従来の
光ビームの２次元的偏向装置の斜視図、 第３図は本発明の第２実施例の斜視図、第４図は本発明
の第３実施例の平面図、第５図は本発明の第４実施例の
斜視図、第６図は本発明の第５実施例の斜視図。 Ｄｉ・・・第１の偏向手段、Ｄ２・・・第２の偏向手段
、Ｌ、ＬＬ、Ｌ２・・・集光レンズ、Ｍ・・・凹面鏡、
Ｂ・・・光ビーム。 第１図 第５図 第６図
光ビームの２次元的偏向装置の斜視図、 第３図は本発明の第２実施例の斜視図、第４図は本発明
の第３実施例の平面図、第５図は本発明の第４実施例の
斜視図、第６図は本発明の第５実施例の斜視図。 Ｄｉ・・・第１の偏向手段、Ｄ２・・・第２の偏向手段
、Ｌ、ＬＬ、Ｌ２・・・集光レンズ、Ｍ・・・凹面鏡、
Ｂ・・・光ビーム。 第１図 第５図 第６図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 第１の光ビーム偏向手段、 この第１の光ビーム偏向手段の偏向方向と異なる方向に
光ビームを偏向する第２の光ビーム偏向手段、および 前記第１の光ビーム偏向手段と前記第２の光ビーム偏向
手段との間に設置され、前記第１の光ビーム偏向手段に
よつて偏向された光ビームを前記第２の光ビーム偏向手
段の同一箇所に投射する結像光学系を備えている光ビー
ムの２次元的偏向装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61109049A JPS62265613A (ja) | 1986-05-13 | 1986-05-13 | 光ビ−ムの２次元町偏向装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61109049A JPS62265613A (ja) | 1986-05-13 | 1986-05-13 | 光ビ−ムの２次元町偏向装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62265613A true JPS62265613A (ja) | 1987-11-18 |
Family
ID=14500307
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61109049A Pending JPS62265613A (ja) | 1986-05-13 | 1986-05-13 | 光ビ−ムの２次元町偏向装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62265613A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007023946A1 (ja) * | 2005-08-26 | 2007-03-01 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | 光走査装置、画像表示装置及び網膜走査型画像表示装置 |
| JP2007058072A (ja) * | 2005-08-26 | 2007-03-08 | Brother Ind Ltd | 光走査装置、画像表示装置及び網膜走査型画像表示装置 |
| JP2007194605A (ja) * | 2005-12-20 | 2007-08-02 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | レーザ照射装置、及び半導体装置の作製方法 |
| US7760407B2 (en) | 2003-10-31 | 2010-07-20 | Tdk Corporation | Multilayer holographic recording medium and manufacturing method of the same, multilayer holographic recording and reproducing method, multilayer holographic memory reproducing apparatus, and multilayer holographic recording and reproducing apparatus |
| JP2012022104A (ja) * | 2010-07-14 | 2012-02-02 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | レーザ加工装置 |
| JP2013097137A (ja) * | 2011-10-31 | 2013-05-20 | Kyushu Univ | 光走査装置 |
| US8525070B2 (en) | 2005-12-20 | 2013-09-03 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Laser irradiation apparatus, laser irradiation method, and method for manufacturing semiconductor device |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51114944A (en) * | 1975-04-02 | 1976-10-09 | Oki Electric Ind Co Ltd | 2 dimensional optical polarizer |
-
1986
- 1986-05-13 JP JP61109049A patent/JPS62265613A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51114944A (en) * | 1975-04-02 | 1976-10-09 | Oki Electric Ind Co Ltd | 2 dimensional optical polarizer |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7760407B2 (en) | 2003-10-31 | 2010-07-20 | Tdk Corporation | Multilayer holographic recording medium and manufacturing method of the same, multilayer holographic recording and reproducing method, multilayer holographic memory reproducing apparatus, and multilayer holographic recording and reproducing apparatus |
| WO2007023946A1 (ja) * | 2005-08-26 | 2007-03-01 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | 光走査装置、画像表示装置及び網膜走査型画像表示装置 |
| JP2007058072A (ja) * | 2005-08-26 | 2007-03-08 | Brother Ind Ltd | 光走査装置、画像表示装置及び網膜走査型画像表示装置 |
| US7903312B2 (en) | 2005-08-26 | 2011-03-08 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Optical scanning device, imaging display device, and retinal scanning display |
| JP2007194605A (ja) * | 2005-12-20 | 2007-08-02 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | レーザ照射装置、及び半導体装置の作製方法 |
| US8525070B2 (en) | 2005-12-20 | 2013-09-03 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Laser irradiation apparatus, laser irradiation method, and method for manufacturing semiconductor device |
| JP2012022104A (ja) * | 2010-07-14 | 2012-02-02 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | レーザ加工装置 |
| JP2013097137A (ja) * | 2011-10-31 | 2013-05-20 | Kyushu Univ | 光走査装置 |
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