JP2008164503A - X線集光装置及びx線分析装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】X線源からのX線を集光するX線集光装置10において、X線発生器7からのX線を内面での反射を利用して集光するモノキャピラリ1と、そのモノキャピラリ1の端面に対向して設けられ、その端面から出射されるX線を内面での反射を利用して集光するモノキャピラリ21と、その端面から出射されるX線を平行化するコリメータ22と、モノキャピラリ21及びコリメータ22を保持する第2保持部23と、第2保持部23の移動を案内するレール12とを備える。
【選択図】図1
Description
以下本発明の実施の形態を、図面を参照して説明する。図1はX線分析装置の構成を示す模式的側面図である。図において20はX線分析装置であり、X線発生器7、X線集光装置10、試料4を載置するステージ5及び透過X線検出器6を含んで構成される。なお、本実施の形態においてはX線集光装置10をX線分析装置20に適用した例につき説明するが、これに限るものではなく、レントゲン写真機等の他のX線源を用いる機器に適用しても良い。
実施の形態2はさらに第3の保持部を設ける形態に関する。図3は実施の形態2に係るX線分析装置20の構成を示す模式的側面図である。第2保持部23の下側には第3保持部83が連結棒84、84により連結されており、第2保持部23と共に移動することが可能となっている。第3保持部83は第2保持部23と略同一形状をなし、第2副集光部であるモノキャピラリ81及びモノキャピラリ82を保持している。モノキャピラリ21の中心軸とモノキャピラリ81の中心軸とが一致する位置に、モノキャピラリ81が第3保持部83に保持されている。同様に、コリメータ22の中心軸とモノキャピラリ82の中心軸とが一致する位置に、モノキャピラリ82が第3保持部83に保持されている。
第2保持部23は実施の形態3の如くレボルバー型としても良い。図4は実施の形態3に係るX線分析装置20の構成を示す模式的側面図であり、図5は第2保持部23の外観を示す模式的斜視図である。第2保持部23は扇形断面を有する柱形状をなし、モノキャピラリ21及びコリメータ22を保持している。第2保持部23断面の扇の中心部には案内部としての回動軸24が突設されている。第1保持部11の下面には回動軸24に対応させて断面視円状の溝部25が形成されている。回動軸24の先端軸244は溝部25の底面に回動可能に軸支されており、先端軸244を中心点として回動軸24が回動する。これにより、第2保持部23はモノキャピラリ1の下側にて、当該モノキャピラリ1長手方向と交差する水平方向に回動することができる。そして、手動または電動により第2保持部23を回動させ、モノキャピラリ21をモノキャピラリ1の同軸かつ真下へ、またはコリメータ22をモノキャピラリ1の同軸かつ真下へ移動させる。
実施の形態4は可視光を照射して位置決めを行う形態に関する。図7は実施の形態4に係るX線分析装置20の構成を示す模式的側面図である。実施の形態4に係るX線分析装置20はさらに、X線透過ミラー342、レンズ341、可視光照射部34、メモリ331を備える制御部33、移動部であるモータ31、ラック32、入力部36及び受光部35を含んで構成される。X線発生器7の下側にはX線を透過し可視光を反射するX線透過ミラー342が配置されている。X線透過ミラー342は例えばベリリウム等の薄膜が塗布されたものを用いる。
4 試料
5 ステージ
6 透過X線検出器
7 X線発生器
10 X線集光装置
11 第1保持部
12 レール
13 フック
14 ストッパ
20 X線分析装置
22 コリメータ
23 第2保持部
24 回動軸
25 溝部
31 モータ
32 ラック
33 制御部
34 可視光照射部
35 受光部
36 入力部
83 第3保持部
241 凸部
242 凹部
243 ギャップ
341 レンズ
342 X線透過ミラー
Claims (9)
- X線源からのX線を集光するX線集光装置において、
前記X線源からのX線を内面での反射を利用して集光する主集光部と、
該主集光部の端面に対向して設けられ、前記主集光部の端面から出射されるX線を内面での反射を利用して集光する副集光部と
を備えることを特徴とするX線集光装置。 - X線源からのX線を集光するX線集光装置において、
前記X線源からのX線を内面での反射を利用して集光する主集光部と、
該主集光部の端面に対向して設けられ、前記主集光部の端面から出射されるX線を平行化するコリメータと
を備えることを特徴とするX線集光装置。 - 前記副集光部または前記コリメータの端面に対向して設けられ、前記副集光部または前記コリメータの端面から出射されるX線を内面での反射を利用して集光する第2副集光部
をさらに備えることを特徴とする請求項1または2に記載のX線集光装置。 - X線源からのX線を集光するX線集光装置において、
前記X線源からのX線を内面での反射を利用して集光する主集光部と、
該主集光部の端面から出射されるX線を内面での反射を利用して集光する副集光部と、
前記主集光部の端面から出射されるX線を平行化するコリメータと、
前記副集光部及びコリメータを保持する保持部と、
該保持部の移動を案内する案内部と
を備えることを特徴とするX線集光装置。 - 前記保持部が前記案内部の案内に従い移動した場合に、前記副集光部が前記主集光部の端面に対向する位置または前記コリメータが前記主集光部の端面に対向する位置に前記保持部を位置決めする位置決め部
をさらに備えることを特徴とする請求項4に記載のX線集光装置。 - 前記主集光部へ可視光を照射する可視光照射部と、
該可視光照射部により前記主集光部、及び、前記副集光部または前記コリメータを経て照射された可視光を受光する受光部と、
前記保持部を移動させる移動部と、
前記受光部から出力される可視光の強度に基づいて前記移動部の移動を制御する制御部と
を備えることを特徴とする請求項4に記載のX線集光装置。 - 前記主集光部は、ポリキャピラリまたはモノキャピラリである
ことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一つに記載のX線集光装置。 - 前記副集光部は、モノキャピラリである
ことを特徴とする請求項1、並びに、3乃至7のいずれか一つに記載のX線集光装置。 - 請求項1乃至8のいずれか一つに記載のX線集光装置を備えることを特徴とするX線分析装置。
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