JPH02216100A - Ｘ線集光器 - Google Patents
Ｘ線集光器Info
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- JPH02216100A JPH02216100A JP3714089A JP3714089A JPH02216100A JP H02216100 A JPH02216100 A JP H02216100A JP 3714089 A JP3714089 A JP 3714089A JP 3714089 A JP3714089 A JP 3714089A JP H02216100 A JPH02216100 A JP H02216100A
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- ray
- rays
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- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims abstract description 23
- 239000007787 solid Substances 0.000 abstract description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 abstract description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- X-Ray Techniques (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、Ｘ線を微小領域に集光させるにＸ線集光器関
する。
する。
（従来の技術）
微小領域Ｘ線光電子分光分析装置やＸ線顕微鏡やＸ線露
光装置等においては、Ｘ線を微小領域に集中させ、Ｘ線
によって励起されて試料から放射する放射線を検出して
分析したり、或は微細パターンの焼付けを行ったりして
いるが、Ｘ線を微小領域に照射する方法としては、Ｘ線
を簡単に集光する手段がないために、絞りやマスつて制
限をしているのが普通である。しかし、絞りやマスクは
集光能力を持たないのて、Ｘ線の強度を強めることがで
きない。数少ないＸ線の集光素子として、ゾーンプレー
トやＸ線ミラー、凹面回折格子等があるが、Ｘ線を反射
させるには、表面に平行に近い入射角でＸ線を入射させ
る必要があり、Ｘ線ミラーに入射するＸ線の立体角を大
きくするのは困難である。ゾーンプレートは理論上優れ
たＸ線集光能力を有するが、直径の大きいゾーンプレー
トを製作することは技術的に難しく、小径ゾーンプレー
トでは、入射するＸ線の立体角が小さくなり、Ｘ線の強
度を上げることが難しい。また、凹面結晶格子をＸ線集
光素子として用いる場合、集光性を持たせるために、結
晶格子面を球面に形成させる必要があるが、結晶格子は
通常平面の板であり、結晶格子面を球面に形成させるこ
とは難しく、そのために円筒状に形成した短冊型の結晶
格子を球面状に並べることにより、球面状の結晶格子を
製作している。そのために非常に高価になると云う問題
があった。
光装置等においては、Ｘ線を微小領域に集中させ、Ｘ線
によって励起されて試料から放射する放射線を検出して
分析したり、或は微細パターンの焼付けを行ったりして
いるが、Ｘ線を微小領域に照射する方法としては、Ｘ線
を簡単に集光する手段がないために、絞りやマスつて制
限をしているのが普通である。しかし、絞りやマスクは
集光能力を持たないのて、Ｘ線の強度を強めることがで
きない。数少ないＸ線の集光素子として、ゾーンプレー
トやＸ線ミラー、凹面回折格子等があるが、Ｘ線を反射
させるには、表面に平行に近い入射角でＸ線を入射させ
る必要があり、Ｘ線ミラーに入射するＸ線の立体角を大
きくするのは困難である。ゾーンプレートは理論上優れ
たＸ線集光能力を有するが、直径の大きいゾーンプレー
トを製作することは技術的に難しく、小径ゾーンプレー
トでは、入射するＸ線の立体角が小さくなり、Ｘ線の強
度を上げることが難しい。また、凹面結晶格子をＸ線集
光素子として用いる場合、集光性を持たせるために、結
晶格子面を球面に形成させる必要があるが、結晶格子は
通常平面の板であり、結晶格子面を球面に形成させるこ
とは難しく、そのために円筒状に形成した短冊型の結晶
格子を球面状に並べることにより、球面状の結晶格子を
製作している。そのために非常に高価になると云う問題
があった。
（発明が解決しようとする課題）
本発明は、より大きい立体角のＸ線を一点に集光させる
方法を提供することを目的とする。
方法を提供することを目的とする。
（課題を解決するための手段）
複数のゾーンプレートを焦点かＸ線照射点に一致するよ
うに球面状に配置し、上記夫々のゾーンプレートの外側
にＸ線ファイバーの一端を対向させ、−１ｘ記夫々のＸ
線ファイバーの他端がＸ線源に対向するように配置し、
更に、集光性及び透過率を向上させるために、」−記と
は別の複数のゾーンプレートを焦点がＸ線源に一致する
ように球面状に配置し、上記Ｘ線ファイバーの他端がこ
のゾーンプレートの外側に対向するように配置した。
うに球面状に配置し、上記夫々のゾーンプレートの外側
にＸ線ファイバーの一端を対向させ、−１ｘ記夫々のＸ
線ファイバーの他端がＸ線源に対向するように配置し、
更に、集光性及び透過率を向上させるために、」−記と
は別の複数のゾーンプレートを焦点がＸ線源に一致する
ように球面状に配置し、上記Ｘ線ファイバーの他端がこ
のゾーンプレートの外側に対向するように配置した。
（作用）
ゾーンプレートは小径なので、１枚のゾーンプレートで
集光できるＸ線は少ないけれど、複数枚のゾーンプレー
トを用いて、−点にＸ線を集光させることができれば、
大きい立体角でＸ線を集光でき、大径のゾーンプレート
と同し効果が期待できる。本発明は、上記の発想にて、
複数枚のゾーンプレートを焦点が同一集光点に位置する
ように球面状に配置し、上記ゾーンプレートに垂直にＸ
線を照射させる方法として、Ｘ線ファイバーの一端側が
ゾーンプレートに垂直となるように配置し、他端側かＸ
線源を臨むように配置させたものである。Ｘ線ファイバ
ーは石英ガラスで製作された管であり、管内面に沿った
小さい入射角でＸ線を入射させれば、Ｘ線は管内面で反
射させることができる。従って、Ｘ線ファイバーに入射
したＸ線は出口てはほぼ全部がＸ線ファイバーの管内面
と平行になるので、入口端をＸ線源に対向させ、出口端
をゾーンプレ−１・に対向させるだけ、Ｘ線をゾーンプ
レートの焦点に集光させることができる（実施例） 第１図に本発明の一実施例を示ず。第１図において、電
子ビームＢがターゲット１の照射点Ｐに照射され、ター
ゲツト１照射点ＰがらＸ線が放射される。２は石英ガラ
ス製の管であるＸ線ファイバーで、一端側の開口部２Ａ
が照射点Ｐを中心とする球面上に配置されており、照射
点Ｐがら放射されるＸ線が上記開口部２Ａがら管内に導
入される。他端側の開口部２Ｂが集光点０に中心とする
球面上に配置されている。３は開口部２Ｂの前方に集光
点Ｏが焦点になるように配置されたゾーンプレートで、
開口部２Ｂからほぼ管側面と平行に出射されるＸ線を集
光点０に集光させる。
集光できるＸ線は少ないけれど、複数枚のゾーンプレー
トを用いて、−点にＸ線を集光させることができれば、
大きい立体角でＸ線を集光でき、大径のゾーンプレート
と同し効果が期待できる。本発明は、上記の発想にて、
複数枚のゾーンプレートを焦点が同一集光点に位置する
ように球面状に配置し、上記ゾーンプレートに垂直にＸ
線を照射させる方法として、Ｘ線ファイバーの一端側が
ゾーンプレートに垂直となるように配置し、他端側かＸ
線源を臨むように配置させたものである。Ｘ線ファイバ
ーは石英ガラスで製作された管であり、管内面に沿った
小さい入射角でＸ線を入射させれば、Ｘ線は管内面で反
射させることができる。従って、Ｘ線ファイバーに入射
したＸ線は出口てはほぼ全部がＸ線ファイバーの管内面
と平行になるので、入口端をＸ線源に対向させ、出口端
をゾーンプレ−１・に対向させるだけ、Ｘ線をゾーンプ
レートの焦点に集光させることができる（実施例） 第１図に本発明の一実施例を示ず。第１図において、電
子ビームＢがターゲット１の照射点Ｐに照射され、ター
ゲツト１照射点ＰがらＸ線が放射される。２は石英ガラ
ス製の管であるＸ線ファイバーで、一端側の開口部２Ａ
が照射点Ｐを中心とする球面上に配置されており、照射
点Ｐがら放射されるＸ線が上記開口部２Ａがら管内に導
入される。他端側の開口部２Ｂが集光点０に中心とする
球面上に配置されている。３は開口部２Ｂの前方に集光
点Ｏが焦点になるように配置されたゾーンプレートで、
開口部２Ｂからほぼ管側面と平行に出射されるＸ線を集
光点０に集光させる。
上記実施例において、ターゲット１側のＸ線ファイバ−
２開口部の前面にゾーンプレ−１〜を配置させれば、Ｘ
線ファイバーに入射するＸ線が、Ｘ線ファイバーの管内
面と平行になるために、Ｘ線ファイバーにおけるＸ線の
透過率及び集光性が、上記実施例より良くなる。
２開口部の前面にゾーンプレ−１〜を配置させれば、Ｘ
線ファイバーに入射するＸ線が、Ｘ線ファイバーの管内
面と平行になるために、Ｘ線ファイバーにおけるＸ線の
透過率及び集光性が、上記実施例より良くなる。
上記実施例では、Ｘ線ファイバーを用いているが、第２
図に示すように、Ｘ線ファイバーを用いずに、夫々のゾ
ーンプレートに対応するＸ線源を配置し、各Ｘ線源から
放射されるＸ線を対応する各ゾーンプレートで直接集光
点に集光させることも可能である。
図に示すように、Ｘ線ファイバーを用いずに、夫々のゾ
ーンプレートに対応するＸ線源を配置し、各Ｘ線源から
放射されるＸ線を対応する各ゾーンプレートで直接集光
点に集光させることも可能である。
また、第３図に示すように、焦点距離の異なるゾーンプ
レートを、集光点が一致するように配置させることによ
っても集光能力を向上させることができる。しかし、焦
点距離の異なるゾーンプレートを用いた場合には、方向
によって輝度が異なったら、測定結果に影響か生しる測
定には用いることができない。
レートを、集光点が一致するように配置させることによ
っても集光能力を向上させることができる。しかし、焦
点距離の異なるゾーンプレートを用いた場合には、方向
によって輝度が異なったら、測定結果に影響か生しる測
定には用いることができない。
（発明の効果）
本発明によれは、複数枚のゾーンプレーＩ・により一点
に集光させることにより、Ｘ線を広立体角で集光させる
ことか可能になり、集光点のＸ線強度を著しく強めるこ
とが可能になった。
に集光させることにより、Ｘ線を広立体角で集光させる
ことか可能になり、集光点のＸ線強度を著しく強めるこ
とが可能になった。
第１図は本発明の一実施例の構成図、第２図は第２実施
例の部分構成図、第３図は第３実施例の部分構成図であ
る。 Ｂ・・電子ビーム、１・・ターゲット、２・・・Ｘ線フ
ァイバー、３・・・ゾーンプレート。
例の部分構成図、第３図は第３実施例の部分構成図であ
る。 Ｂ・・電子ビーム、１・・ターゲット、２・・・Ｘ線フ
ァイバー、３・・・ゾーンプレート。
Claims (3)
- （１）複数のゾーンプレートを一点に集光するように配
置し、夫々のゾーンプレートにＸ線を入射させるように
したことを特徴とするＸ線集光器。 - （２）複数のゾーンプレートを焦点が一致するように球
面状に配置し、上記夫々のゾーンプレートの外側にＸ線
ファイバーの一端を対向させ、上記各Ｘ線ファイバーの
他端をＸ線源を臨むように配置したことを特徴とするＸ
線集光器。 - （３）複数のゾーンプレートＡを焦点が一致するように
球面状に配置し、上記夫々のゾーンプレートＡの外側に
Ｘ線ファイバーの一端を対向させ、上記とは別の複数の
ゾーンプレートＢを焦点がＸ線源に一致するように球面
状に配置し、上記夫々のゾーンプレートＢの外側に上記
Ｘ線ファイバーの他端が対向するように配置したことを
特徴とするＸ線集光器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1037140A JP2884583B2 (ja) | 1989-02-16 | 1989-02-16 | Ｘ線集光器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1037140A JP2884583B2 (ja) | 1989-02-16 | 1989-02-16 | Ｘ線集光器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02216100A true JPH02216100A (ja) | 1990-08-28 |
| JP2884583B2 JP2884583B2 (ja) | 1999-04-19 |
Family
ID=12489312
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1037140A Expired - Lifetime JP2884583B2 (ja) | 1989-02-16 | 1989-02-16 | Ｘ線集光器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2884583B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002512357A (ja) * | 1998-04-22 | 2002-04-23 | スミソニアン アストロフィジカル オブザーバトリ | Ｘ線診断システム |
| JP2007093315A (ja) * | 2005-09-28 | 2007-04-12 | Shimadzu Corp | Ｘ線集束装置 |
| JP2007093316A (ja) * | 2005-09-28 | 2007-04-12 | Shimadzu Corp | Ｘ線集束装置 |
| JP2008164503A (ja) * | 2006-12-28 | 2008-07-17 | Horiba Ltd | Ｘ線集光装置及びｘ線分析装置 |
| JP2011089805A (ja) * | 2009-10-20 | 2011-05-06 | Shimadzu Corp | Ｘ線集束装置 |
| US20150185168A1 (en) * | 2012-07-05 | 2015-07-02 | Helmholtz-Zentrum Berlin Fuer Materialien Und Energie Gmbh | Device for measuring resonant inelastic x-ray scattering of a sample |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60233600A (ja) * | 1984-05-02 | 1985-11-20 | 株式会社島津製作所 | Ｘ線レンズ |
| JPS61260200A (ja) * | 1985-05-15 | 1986-11-18 | 富士通株式会社 | 軟ｘ線用偏向器 |
-
1989
- 1989-02-16 JP JP1037140A patent/JP2884583B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60233600A (ja) * | 1984-05-02 | 1985-11-20 | 株式会社島津製作所 | Ｘ線レンズ |
| JPS61260200A (ja) * | 1985-05-15 | 1986-11-18 | 富士通株式会社 | 軟ｘ線用偏向器 |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002512357A (ja) * | 1998-04-22 | 2002-04-23 | スミソニアン アストロフィジカル オブザーバトリ | Ｘ線診断システム |
| JP2007093315A (ja) * | 2005-09-28 | 2007-04-12 | Shimadzu Corp | Ｘ線集束装置 |
| JP2007093316A (ja) * | 2005-09-28 | 2007-04-12 | Shimadzu Corp | Ｘ線集束装置 |
| JP2008164503A (ja) * | 2006-12-28 | 2008-07-17 | Horiba Ltd | Ｘ線集光装置及びｘ線分析装置 |
| JP2011089805A (ja) * | 2009-10-20 | 2011-05-06 | Shimadzu Corp | Ｘ線集束装置 |
| US20150185168A1 (en) * | 2012-07-05 | 2015-07-02 | Helmholtz-Zentrum Berlin Fuer Materialien Und Energie Gmbh | Device for measuring resonant inelastic x-ray scattering of a sample |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2884583B2 (ja) | 1999-04-19 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080212 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090212 Year of fee payment: 10 |
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|
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