JP2007093316A - X線集束装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】 マルチキャピラリX線レンズの集束端における焦点ボケを改善して試料上の微小領域に高い強度のX線を照射できるようにする。
【解決手段】 マルチキャピラリX線レンズ(MCX)2の出口側の集束端2aの外側に多層膜フレネルゾーンプレートによるX線レンズ(FZP)3を配置し、MCX2によりX線源から出たX線を効率良く収集して或る程度径を絞って小径のFZP3に導入し、FZP3によりX線の集束径をさらに絞る。これにより、ごく狭い領域4にX線を集中させることができる
【選択図】 図1

Description

本発明は、電子線プローブ微小分析装置(EPMA)や走査電子顕微鏡(SEM)、透過電子顕微鏡、蛍光X線分析装置など、X線を利用して分析を行うX線分析装置、XRD、X線CT、レントゲン装置等においてX線を集束するために利用されるX線集束装置に関する。
電子線プローブ微小分析装置(EPMA)では、高エネルギーを有する微小径の電子線を励起線として試料に照射し、それによって試料の含有成分の内側電子が励起された際に外部に放出される固有X線(特性X線)を分析することにより、元素の同定や定量を行ったり、元素の分布を調べたりする。また、走査電子顕微鏡(SEM)では一般的には電子線の照射位置から発生した二次電子や反射電子を検出するが、最近は、エネルギー分散型X線検出部を併設することでX線分析を可能とした装置も開発されている。
この種のX線分析装置においてX線を集光したり平行化したりするために、従来より、マルチキャピラリ(ポリキャピラリと呼ばれることもある)X線レンズと呼ばれる一種のX線集束装置が知られている(特許文献1、2など参照)。図6はマルチキャピラリX線レンズの形態例を示す図、図7はマルチキャピラリX線レンズにおけるX線の伝達の原理図である。
マルチキャピラリX線レンズは例えば内径が2〜十数μm程度の微小径の硼珪酸ガラスから成る細管(キャピラリ)を多数(数百〜100万本程度)束ねた基本構造を有しており、図7に示すように、1本のキャピラリ22の内側に入射されたX線がそのガラス壁の内周面を臨界角以下の角度で以て全反射しながら進行してゆく原理を利用して、X線を効率良く案内するものである。図7(a)に示すようにキャピラリ22が直線状でも、図7(b)に示すようにキャピラリ22が湾曲状であっても、同じようにしてX線を案内することができる。
マルチキャピラリX線レンズには種々の形態があり、例えば図6(a)に示すマルチキャピラリX線レンズ20は、殆ど点とみなし得るX線源から出たX線を入射側端面で大きな立体角で以て取り込み、反対側の出射側端面から出たX線を一点に集束させる点/点型のものである。また図6(b)に示すマルチキャピラリX線レンズ21は、同様に入射側端面の略一点から出たX線を大きな立体角で以て取り込んだ後、出射側端面から平行ビームを出射する、或いはその逆の経路とする点/平行型のものである。こうしたマルチキャピラリX線レンズを用いれば、例えばシンクロトロン放射光(SR光)のような強力なX線源を用いなくても、X線源により発生した励起用のX線を効率的に収集してその照射面積を絞って試料に照射することができる。
上述したようにマルチキャピラリX線レンズはX線を高い効率で収集し案内することができるものの、こうして集めたX線を照射する面積を小さく絞るという点では必ずしも十分な性能が得られない。その大きな理由は、マルチキャピラリX線レンズでは原理的な焦点ボケが生じることによる。即ち、図8に示すように、X線は1本のキャピラリ22の内壁面を全反射しながら進行するが、その反射角の最大は臨界角である。そのため、キャピラリ22からX線が出射する際に、光軸(キャピラリ22の中心軸)Sに対し臨界角θの開き角度を有してX線が拡がる可能性がある。その結果、図9に示すように、マルチキャピラリX線レンズ21の点焦点側の端面から出射したX線の照射領域は、理想的な点とはならず、或る程度のサイズを持つ領域23となってしまう。
また、上記のようなキャピラリを出た後の光の拡がりがないものとして各キャピラリの光軸のみを考えた場合でも、マルチキャピラリX線レンズの製造上の限界により、膨大な数のキャピラリの全ての光軸を完全に1点に収束させることは実際に不可能であるから、そうした要因による焦点ボケも存在する。このように理論上回避できない要因と製造の限界による要因との両方によって、従来のマルチキャピラリX線レンズでの最小焦点サイズはせいぜい20〜30μm程度が限界であり、これより焦点サイズを小さくすることは困難であった。
特公平7−11600号公報 特公平7−40080号公報
本発明は上記課題を解決するために成されたものであり、その目的とするところは、X線を効率良く収集するのみならず、X線強度を大きく減衰させることなく焦点サイズを小さく絞ることができるX線集束装置を提供することである。
上述したようにマルチキャピラリX線レンズはX線を効率良く収集して、或る程度の径に絞るのには非常に有効な素子である。そこで、本願発明者はこうしたマルチキャピラリX線レンズの特性を利用し、特にX線の絞り特性に優れるフレネルゾーンプレート(FZP)とマルチキャピラリX線レンズとを組み合わせることに想到した。
即ち、本発明に係るX線集束装置は、多数の束ねられたX線案内用の細管から成り、少なくとも一方の端面がその外方において微小領域にX線を集中的に照射する集束端となっている細管集合体と、該細管集合体の集束端の外側に配置されたフレネルゾーンプレートによる集光レンズと、を備えることを特徴としている。
周知のようにフレネルゾーンプレートはニュートンリングの回折及び干渉を利用したレンズであり、加工精度を高めることで絞り径を非常に小さくすることができる反面、それ自体を大きなサイズとすることが難しく光(X線)を取り込む立体角が小さいという特性を持つ。しかしながら、上述したようにマルチキャピラリX線レンズでは、ごく小径にX線を絞ることは難しくても、フレネルゾーンプレートのサイズ(例えば1mm程度以下)以下にX線を絞ることは容易であるので、上記のようなフレネルゾーンプレートの欠点は問題とならない。即ち、マルチキャピラリX線レンズとフレネルゾーンプレートとの組み合わせは、両者のそれぞれの長所を活かし、逆に欠点をそれぞれが補い合う優れた組み合わせである。
したがって本発明に係るX線集束装置によれば、例えばX線源から出射されたX線を効率良く収集することでX線強度を高め、それをごく微小な領域に集中的に照射することができる。それにより、例えば同じX線源を用いてもX線照射領域における単位面積当たりのX線強度を従来に比べてかなり大きくすることができ、その微小領域に存在する物質とX線との相互作用(透過、反射、吸収等)による情報を高い感度及び精度で検出することができるようになる。或いは、その分だけX線源のX線強度を下げることができ、小型で低価格のX線源の利用が可能となる。
以下、本発明に係るX線集束装置の一実施例について、図1〜図5を参照しながら説明する。
図1は本実施例のX線集束装置の要部の構成図、図2はフレネルゾーンプレートの一例である多層膜フレネルゾーンプレート単体による集光動作を示す光路構成図、図3は図1中の集束端付近の光路構成図、図4は本実施例のX線集束装置の応用例であるX線検査装置の概略構成図、図5は本実施例のX線集束装置の効果を説明するための図である。
図4に示すように、本実施例のX線集束装置1を用いたX線検査装置では、X線源12と製造ライン10上を移動する検査対象物11との間にX線集束装置1が設置され、X線源12から出射した一次X線はこのX線集束装置1により検査対象物11に効率良く且つごく小径に絞って照射される。これに応じて検査対象物11から放出された二次X線はX線検出器13により検出され、その検出信号に応じて検査対象物11上のX線照射部位の情報(例えば画像)が得られる。もちろん、検出側にもマルチキャピラリX線レンズなどを設けてもよい。
図1に示すように、この実施例によるX線集束装置1は、一方の端部が各キャピラリから出射した後の光の拡がりを考慮しない場合に1点とみなし得る点焦点を有する集束端2aであり、他方の端部が平行端2bである点/平行型のマルチキャピラリX線レンズ(本発明における細管集合体)2の集束端2aの外側に、多層膜フレネルゾーンプレートによるX線レンズ(以下、FZPレンズと呼ぶ)3が配置された構成を有している。マルチキャピラリX線レンズ2の集束端2aの光軸(多数のキャピラリの束の中心部に位置するキャピラリの光軸と考えることができる)とFZPレンズ3の光軸とが一致するように、両者は配置されている。例えばFZPレンズ3は外径が1mmであり、マルチキャピラリX線レンズ2はその集束端2aの集光径が1mm未満となる構成を有したものである。マルチキャピラリX線レンズ2において、この程度のサイズに集光径を絞ることは非常に容易である。
FZPレンズ3は、周知のように、その中心の光軸の周囲に、X線を通過させる物質と遮断する物質とを交互に同心円状に配した透過型の回折格子の一種であり、図2に示すように、平行に((a)参照)、集束しながら((b)参照)、或いは拡がりながら((c)参照)入射したX線をそれぞれ或る1点Fに集光する作用を有する。焦点のサイズや焦点距離はFZPレンズ3を構成する物質の種類や輪帯パターンの間隔などに依存して任意に決めることができるが、通過するX線の波長にも依存するため、使用するX線の波長帯域を考慮して適切に定めればよい。
本実施例のX線集束装置1の構成では、例えば図4に示すように、X線源12から出射したX線はマルチキャピラリX線レンズ2の例えば平行端2bから各キャピラリに効率良く取り込まれ、各キャピラリの内部を全反射しながら集束端2aに案内される。そして集束端2aにおいて各キャピラリから出射されたX線は全体として集束して小径のFZPレンズ3に当たる。この際、詳細に見れば、理論的に、各キャピラリから出射するX線は図8に示したように光軸Sを中心として臨界角θが成す角度を示す線を回転させたような立体角の範囲に拡がる可能性がある。しかしながら、こうして拡がろうとするX線は、図3に示すようにFZPレンズ3を通過する際に集束されるため、各キャピラリから出たX線はほぼ1点とみなし得るようなごく微小な領域4を通過することとなる。もちろん、既述のように、理論的な焦点ボケだけでなくマルチキャピラリX線レンズの製造上の限界による焦点ボケの要因もあるが、その影響も同様に軽減されることになる。
上記のような作用・効果は図5により容易に理解できる。図5は横軸に照射X線の横への拡がり、縦軸にX線光量子数(つまりX線強度)をとったグラフであり、図中に示すようなカーブで囲まれる領域の面積が照射全X線光量子数を表す。即ち、マルチキャピラリX線レンズ2の集束端2aの外側にフレネルゾーンプレートを配置しない、つまり従来の構成では、図中のAに示すようになり、既述の理由により照射X線をあまり絞ることができず照射X線の拡がりは相対的に大きい(最小でも20〜30μm程度)が、集束端2aを出たX線は殆ど損失しないので多量のX線を照射することができる。一方、フレネルゾーンプレート単体では図中のBに示すように、照射X線の拡がりは非常に小さくすることができるが、光の取り込みが少ないので照射全X線光量子数は少ない。
これに対し、本発明のようにマルチキャピラリX線レンズとフレネルゾーンプレートとを組み合わせた構成では、効率良く収集したX線を小さく絞って照射することができるので、図中のCに示すようになる。即ち、従来に比べて照射X線を小さく絞ることができるとともに照射全X線光量子数も多くなるので、高い空間分解能と高い感度とを両立させることができる。
即ち、本実施例のX線集束装置によれば、マルチキャピラリX線レンズ2によりX線を効率よく収集してその集光径を或る程度絞って小径のFZPレンズ3に無駄なく導入し、FZPレンズ3によりX線をさらに絞って例えば検査対象物11上のごく微小な領域4に照射することができる。X線はFZPレンズ3を通過する際にその一部が吸収されたり散乱されたりして減衰するが、その減衰の程度はX線の絞りの程度に比較すれば小さく、実質的に無視できる程度である。このようにして、本実施例によるX線集束装置によれば、X線源で発生するX線の強度がそれほど大きくなくても、ごく微小な領域に高い強度のX線を照射することができる。
なお、上記実施例は本発明の一例であるから、本発明の趣旨の範囲で適宜変形、修正又は追加を行っても本願特許請求の範囲に包含されることは当然である。
本発明の一実施例であるX線集束装置の要部の構成図。 多層膜フレネルゾーンプレート単体による集光動作を示す光路構成図。 図1中の集束端付近の光路構成図。 本実施例のX線集束装置の応用例であるX線検査装置の概略構成図。 本実施例のX線集束装置の効果を説明するための図。 従来知られているマルチキャピラリX線レンズの形態例を示す図。 マルチキャピラリX線レンズにおけるX線の伝達の原理図。 従来のマルチキャピラリX線レンズの問題点を説明するための図。 従来のマルチキャピラリX線レンズの問題点を説明するための図。
符号の説明
1…X線集束装置
2…マルチキャピラリX線レンズ
2a…集束端
2b…平行端
3…多層膜フレネルゾーンプレート(FZP)X線レンズ

Claims (1)

  1. 多数の束ねられたX線案内用の細管から成り、少なくとも一方の端面がその外方において微小領域にX線を集中的に照射する集束端となっている細管集合体と、
    該細管集合体の集束端の外側に配置されたフレネルゾーンプレートによる集光レンズと、
    を備えることを特徴とするX線集束装置。

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Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008281421A (ja) * 2007-05-10 2008-11-20 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> X線集光レンズ
JP2009047430A (ja) * 2007-08-13 2009-03-05 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> X線集光レンズ
JP2009121904A (ja) * 2007-11-14 2009-06-04 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> X線集光レンズ
JP2010025662A (ja) * 2008-07-17 2010-02-04 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> X線集光レンズ
JP2010276423A (ja) * 2009-05-27 2010-12-09 Shimadzu Corp X線集束装置
JP2012242165A (ja) * 2011-05-17 2012-12-10 Hamamatsu Photonics Kk X線装置
US8481932B2 (en) 2011-04-08 2013-07-09 Hitachi, Ltd. Charged particle beam analyzer and analysis method
US9418767B2 (en) 2009-10-20 2016-08-16 Shimadzu Corporation X-ray focusing device
CN108627530A (zh) * 2018-05-24 2018-10-09 北京师范大学 一种波长色散x射线荧光分析仪
WO2020202730A1 (ja) * 2019-03-29 2020-10-08 株式会社応用科学研究所 X線分析装置
CN115389538A (zh) * 2022-08-09 2022-11-25 深圳市埃芯半导体科技有限公司 X射线分析装置及方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02216100A (ja) * 1989-02-16 1990-08-28 Shimadzu Corp X線集光器
JPH0666997A (ja) * 1992-08-21 1994-03-11 Olympus Optical Co Ltd 照明光学系
JPH0784096A (ja) * 1993-09-13 1995-03-31 Nikon Corp X線照明用ゾーンプレート

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02216100A (ja) * 1989-02-16 1990-08-28 Shimadzu Corp X線集光器
JPH0666997A (ja) * 1992-08-21 1994-03-11 Olympus Optical Co Ltd 照明光学系
JPH0784096A (ja) * 1993-09-13 1995-03-31 Nikon Corp X線照明用ゾーンプレート

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4705606B2 (ja) * 2007-05-10 2011-06-22 日本電信電話株式会社 X線集光レンズ
JP2008281421A (ja) * 2007-05-10 2008-11-20 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> X線集光レンズ
JP2009047430A (ja) * 2007-08-13 2009-03-05 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> X線集光レンズ
JP4700034B2 (ja) * 2007-08-13 2011-06-15 日本電信電話株式会社 X線集光レンズ
JP2009121904A (ja) * 2007-11-14 2009-06-04 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> X線集光レンズ
JP4659015B2 (ja) * 2007-11-14 2011-03-30 日本電信電話株式会社 X線集光レンズ
JP2010025662A (ja) * 2008-07-17 2010-02-04 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> X線集光レンズ
JP2010276423A (ja) * 2009-05-27 2010-12-09 Shimadzu Corp X線集束装置
US9418767B2 (en) 2009-10-20 2016-08-16 Shimadzu Corporation X-ray focusing device
US8481932B2 (en) 2011-04-08 2013-07-09 Hitachi, Ltd. Charged particle beam analyzer and analysis method
JP2012242165A (ja) * 2011-05-17 2012-12-10 Hamamatsu Photonics Kk X線装置
CN108627530A (zh) * 2018-05-24 2018-10-09 北京师范大学 一种波长色散x射线荧光分析仪
WO2020202730A1 (ja) * 2019-03-29 2020-10-08 株式会社応用科学研究所 X線分析装置
JP6851107B2 (ja) * 2019-03-29 2021-03-31 株式会社応用科学研究所 X線分析装置
CN115389538A (zh) * 2022-08-09 2022-11-25 深圳市埃芯半导体科技有限公司 X射线分析装置及方法
CN115389538B (zh) * 2022-08-09 2023-12-29 深圳市埃芯半导体科技有限公司 X射线分析装置及方法

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