JP2002512357A - X線診断システム - Google Patents
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Abstract
Description
し集結し、それをX線スペクトロメータ(分光計)に供給するシステムに関する
。
、入射角が反射物質の特性およびX線エネルギに依存して決まる臨界角よりも小
さいときに起こる。従来の設計ないし構造は応用に従って変わるが、大抵のこの
種の設計は、10〜150アーク分の範囲の視射角でニッケル、金またはイリジ
ウムの被覆をもつ金属またはガラスサブストレートを使用した。X線の平行ビー
ムを集結するために、Wolter-I形式またはKirkpatrick-Baez形式の二重反射形態
が使用された。Wolter-I形態は、共焦点の放物面−双曲面シェルより成り、高角
度解像度用に設計されたX線テレスコープ用に使用されることが非常に多かった
。この光学系は、軸線方向にコンパクトであり、適度の視野を有し、またある場
合には、多数のテレスコープを、有効な入口孔の相当の部分を充たすように入れ
子化できる。Wolter-I設計の近似物では、精密に型造られる光学系を簡単なコー
ンで置き換えている。この近似物に基づくテレスコープは、種々の宇宙物理的ペ
イロードのために開発された。Kirkpatrick-Baez形態は、パラレルツーポイント
形式の集結のために二つの放物面を使用し、これをX線顕微鏡のためのポイント
ツーポイント形態に適合させた。最近、ガラス毛管束に基づく光学系が、X線を
集結するための方法として出現した。X線は、それがガラスチャンネルを通って
伝搬するとき数々の反射を受け、これらの光学系に上述の二重反射システムより
も低い効率をもたせる。
。ターゲットが電子で照射されると、X線が副作用として発生される。X線スペ
クトルは、ターゲットに含まれる要素についての情報を提供するから、X線が分
析のために検出されることがしばしばある。従来技術においては、走査型電子顕
微鏡内のターゲットのごく近くにリチウムドリフトシリコンまたはゲルマニウム
検出器のような検出器を配置することが知られている。この種の検出器は、普通
、77Kで沸騰するある量の液体窒素により熱伝導により冷却される冷却指部の
端部に装着される。約0.1ケルビンに冷却される検出器を使用してより高い解
像度を達成でき、そしてこれに関連して、SEM包囲体の外側に検出器を配置す
るのが望ましかろう。しかしながら、強度がX線源からの距離に平方で依存する
という周知の法則のため、検出器がX線源からさらに遠くに移動されると、強度
が落ち、このためX線を受けるスペクトロメータの性能が劣化する。SEM包囲
体内にモノリシックな多毛管ガラス光学系を使用して後での分析のためにX線を
集結することは周知であるが、SEM包囲体の限界を越えてこの種の集中化装置
を使用することは周知でない。
離間されかつX線源からのX線を受け入れるように配置されたX線ビーム集中化
装置とを備える。集中化装置からのX線を受け入れるためX線スペクトロメータ
が配置されている。X線源は、走査型電子顕微鏡内の電子ビームにより励起され
る、あるいは焦合サイクロトロンビーム、イオンビームまたはレーザにより励起
されるサンプル領域のような点X線源としてよい。点X源は、市販のX線管とし
てもよいし、実験室規模のプラズママシンにより作られる小容量の熱ガスにより
作ってもよい。そして、実験室規模のプラズママシンは、磁気的および/または
静電的に包閉された形式としてよい。プラズマはまた内部的に包閉してもよい。
X線源はまた、市販の電子衝撃デバイスとしてもよいし、さらには宇宙内の離れ
たX線放射性物体としてよい。
状面の入れ子または円筒螺旋状の型に巻かれた面から作られた単一の反射集中装
置である。ポイントツーポイント形式の集中化装置は、相対する一組の入れ子式
円錐面または円錐螺旋の型に巻かれた面のいずれかより成る複式反射集中化装置
としてよい。他の具体例においては、ポイントツーポイント集中装置は、単一の
ガラス毛管束である。単一のガラス毛管束はモノリシックとし得る。他の具体例
において、ポイントツーポイント形式の集中装置は、パラレルツーポイント形式
のガラス毛管束に結合されたポイントツーパラレル形式のガラス毛管束を含み、
結合は可変距離を介して真空中またはガス内で行われる。 スペクトロメータは、マイクロカロリーメータ、リチウムドリフトシリコン検
出器、ゲルマニウム検出器、テルル化カドミウム亜鉛(CCZ)検出器、ガスシ
ンチレーション比例カウンタまたはガス比例カウンタのようなエネルギ分散型X
線検出器であるのが好ましい。
の波長分散型X線スペクトロメータは、少なくとも一つの平坦なBraggクリスタ
ルを使用してもよいし、Johann形態またはvon Hamos形態の一つのBraggクリスタ
ルを利用してもよい。
の巻きを有する螺旋に形成されたリボンを備えるX線集中装置を提供する。この
集中装置は、単一式または複式反射集中装置のいずれかとしてよい。リボン材料
は、プラスチック箔(フォイル)、アルミニウム箔または石英リボンとするのが
好ましい。適当なプラスチック箔は、ポリエステル、カプトン、メリネックス、
ホスタファン、アピルカルまたはマイラーである。特に好ましいプラスチックは
、ESTARTMなる登録商標でEastman Kodak社から入手できる。適当な箔厚さ
は、必要に応じて0.004〜0.015の範囲で変わる。リボン材料は、金属好ましくは
ニッケル、金またはイリジウムのような高Z金属の薄層で被覆されるのが好まし
い。金属被覆は多層とし得る。好ましい具体例において、螺旋形態は、金属、プ
ラスチックまたは複合物質より成る支持構造体により維持される。適当な金属は
、アルミニウム、ベリリウム、ステンレスチール、チタンまたはタングステンで
ある。
成る複数の入れ子式同心円筒またはコーンより成るX線集中装置である。入れ子
式円筒またはコーンは、ガラス、アルミニウム箔、プラスチック箔、シリコンま
たはゲルマニウムより構成してよい。適当なプラスチック材料は、本発明の螺旋
の側面と関連して上述したのと同じである。プラスチック材料は、螺旋状形態と
関連して上述したように被覆される。
過性窓を介して、またはSEMと集中装置間に窓がない場合排気されたパイプを
介してX線を受け取る。X線は、SEM内のターゲットから数メートル離れて配
置され得るスペクトロメータ上に集中ないし集結せしめられる。分離されている
ため、0.1ケルビン程度に冷却されたマイクロカロリーメータのようなスペク
トロメータは、一層便利に利用でき、それにより大きなスペクトル解像度を与え
る。
のホトン束の減少が測定感度を由々しく制限することがあり得る。ここに開示さ
れるX線光学系の二つの一般的設計は、感度の問題を取り扱う。一つの設計概念
は、図1および2に示される入れ子式の円筒状、円錐状、円筒螺旋状または円錐
螺旋状箔から形成される面からのすれすれ入射角での単一または複数の反射に基
づく。これらの図において、走査型電子顕微鏡10は、X線12の分散ビームを
発生する。X線12は、単一の反射円筒状または円筒螺旋状箔集中装置14に当
たり、スペクトロフォトメータ16上に集結せしめられる。図2において、X線
12の発散ビームは、入れ子式のすなわち複数の反射性円錐状または円錐螺旋状
箔集中装置18に遭遇し、これがX線12をスペクトロメータ16上に同様に集
結する。図3および図4には、第2の設計概念が示されているが、これはガラス
毛管束内における複式(マルチ)反射を利用する。図3においては、X線12の
発散ビームが、ポイントツーポイント毛管束20を通り、この毛管束がX線12
をスペクトロメータ12上に集結させる。図4においては、複式反射性ポイント
ツーパラレル、パラレルツーポイント形式毛管束22が、同様にビーム12をス
ペクトロメータ16上に集結させる。図4はまた、ポイントツーパラレル形式の
単一または複式反射円錐または円錐螺旋状集中装置、それに続く単一または複式
反射円錐状または円錐螺旋状集中装置を示している。図1〜図4に示される具体
例の詳細は以下に提示され、実験に基づく性能が提示されている。図1〜4に示
される各X線光学系の具体例はコンパクトであり、収集の立体角に相当の向上を
もたらすことができる。これらの具体例は、実験室規模の宇宙物理学およびX線
微量分析の分野に特に適合するもので、この分野において、これらの具体例は、
高解像度X線マイクロカロリーメータを含む低温保持装置のプラズママシンまた
は走査型電子顕微鏡10への結合を相当に改善し得る。ここに開示される技術は
、宇宙を運ばれる宇宙物理学の応用に適用し得ることは当業者には容易に明らか
であろう。集中装置14,18,20,22は分散ビームを集結させるから、許
容し得る強度がスペクトロメータ16に与えられる。
において、円筒状または円錐状集中装置24が、入れ子式同心円筒またはコーン
26,28,30等を具備している。同心円筒はまたはコーンは、金被覆プラス
チックの薄いリボンから形成される。入れ子式円筒またはコーン26,28,3
0も、ガラス、アルミニウム箔、シリコンまたはゲルマニウムから形成してもよ
い。図6に示される螺旋状集中装置32は、螺旋に巻かれた長い単一のリボン3
4より形成される。リボン34は、金被覆プラスチック、アルミニウム箔または
石英リボンで形成し得る。図5および6に示される具体例の適当なプラスチック
材料としては、ポリエステル、ポリイミド、カプトン、メリネックス、ホスタフ
ァン、アピルカル、マイラーまたは任意の適当に滑らかで可撓性の材料が挙げら
れる。適当に好ましいプラスチックは、ESTARTMの登録商標でEastman Koda
k社から入手し得る。この種のプラスチック箔は、例えば0.004〜0.015インチ(0
.1016〜0.381mm)の範囲で変えられる。プラスチック材料は、金属例えばニッケ
ル、金またはイリジウムのような高Z金属の薄層で被覆され、多層で被覆されて
よい。金属被覆として適当な厚さは、概ね800Åである。蒸着またはスパッタリ
ングが、金属被覆をプラスチックリボン材料34に適用するのに適当な技術であ
る。図5および6の具体例は、図1に示されるような単一の反射のために構成し
てもよいし、図2に示されるような複式の反射に構成してもよい。
域において相当の利得および立体角を得るようにポイントツーポイント形態を使
用する。利得は、X線反射性、焦点距離、リボン材料の幅、螺旋の巻きの数また
は入れ子式円筒の数に依存する。集中装置24および32のX線反射性は、例え
ば不被覆または金属被覆プラスチック上に例えばW−C,Co−CまたはNi−
Cの複数層を付着することによって改善し得る。これは、設計物に大きな視射角
を含むことを可能にする。
旋状集中装置32の具体例を組み立て、微量分析の応用において試験したが、こ
の場合、X線源(走査型電子顕微鏡SEM)とエネルギ分散検出器(リチウムド
リフトシリコン検出器および/またはマイクロカロリーメータ)間の間隔は、概
ね2メータであった。使用された構成された具体例は、ポイントツーポイント形
態で単一反射を使用した。螺旋集中装置32としては、リボンは、0.05イン
チ(1.27mm)のピッチで巻かれ、50mmの直径をもつ入口孔内に19巻きを有し
た。円筒状集中装置24としては、リボンは、同心円筒を形成するために20の
長状体に切断される。図7は、25mmのリボン幅、1.5mの焦点距離をもつ
円筒状集中装置により作られる像の形状を模擬したX線トレーシングコンピュー
タプログラムの結果を示す。図8は、円筒螺旋状集中装置32から予測される疑
似像を図示する。円筒状形態に比して、螺旋状光学系32は図8に示されるよう
に輪状の像を形成する。何故ならば、螺旋の中心をリボンの反射面に結ぶ線は、
リボン表面における垂直ベクトルを表す線と同じでないからである。この関係は
図9および図10に例示されており、図5の円筒状光学系と図6の螺旋状光学系
の反射形態が比較されている。
により離間関係に支持された前面ディスク40および後面ディスク42を具備し
ている。この具体例においては、各ディスク40および42は、中心ハブ44か
ら半径方向にのびる8本のスポークを有する。スポーク中には、細いステンレス
スチールピン46を保持するために穴(図示せず)が穿たれている。ピン46は
金メッキプラスチックリボン34(図11に図示せず)を位置づけ、支持する。
リボン34の一端は、中心ハブ44にクランプされ、他端は支持ピン46の外側
のものの一つにクランプされている。図12は、組み立てられた集中装置32を
示している。リボン34は、前面ディスク40および後面ディスク42の半径方
向スポークに加工された溝に支持してよいこと認められたい。リボン34を支持
する構造体は、金属、プラスチックまたは複合物質とし得る。適当な金属は、ア
ルミニウム、ベリリウム、ステンレススチール、チタニウムまたはタングステン
である。
れた。光学系(すなわち集中装置)32は、5度の自由度、すなわち三つの並進
軸線および2本の回転軸線をもつステージに取り付けられた運動学的基板上に取
り付けた。ステージは、走査型電子顕微鏡の軸線とマイクロチャンネルプレート
検出器またはリチウムドリフトシリコン検出器間の途中(52インチ(132.08cm)
)に配置した。これらの機器は、それぞれ像特性およびスペクトル伝達特性を測
定するのに使用された
いた場合と用いない場合に得られたスペクトルカウントレートを、図14に示し
てある。リチウムドリフトシリコン検出器をこれらの測定のために使用した。三
つのピークは、それぞれ930eVでのCuLα、8.04keVでのCuLa
および8.9keVでのCuLβである。テレスコープを用いた場合と用いない
場合に記録される強度の比は、X線光学系32により提供される利得の尺度であ
り、図15に図示されている。この特定の例において、1mm直径の孔を検出器
上に配し、マイクロカロリーメータのような小X線検出器の寸法を真似た。2k
eV以下での概ね200の利得は、X線源から2メートルの距離にて、テレスコ
ープが、検出器をX線源に14倍近く(14cm)に置くに等価なX線強度を提
供し得ることを意味する。リチウムドリフトシリコン検出器の代わりに極低温マ
イクロカロリーメータで取られた高解像度微量分析スペクトルの例が、図16に
図示されている。
含む多くの実験室規模の応用に他のものにより適応せしめられた。これらのテー
パ状のガラス光学系は、6度程度の角度範囲にわたり点X線源からのX線を受け
止め、それを0.2mmFWHM程度の寸法をもつスポットに集結させることを
可能にする。
、ゲルマニウム検出器または極低温冷却されたマイクロカロリーメータのような
SEMまたはエネルギ分散検出器での微量分析に使用できよう。図3および4に
略示されるように、毛細束でポイントツーポイント形式の集中化を生ずるには二
つの方法がある。図3に示される第1のものでは、単一のモノリシック多毛管束
20を使用する。本件発明者らは、6keVに及ぶエネルギ範囲にわたるX線で
この種の毛管束を試験した。この試験に使用される光学系は、14インチのポイ
ントツーポイント焦点距離を有した。エネルギの関数として測定される強度の利
得は、図17に示されるように400程度である。
。入力光学系は、点X線源10からX線を受け入れ、放射線12を平行束に向け
る。出力レンズ部分は、X線の平行部分を受け入れ、それをスポットに再集結す
る。この技術は、X線源と像間の距離が可変であり、実験形態が変更されるたび
に特定のモノリシック多毛管束が製造されることを要しないという利点を有する
。設定された多毛管ガラス光学系からのスペクトルは図18に図示されており、
エネルギの関数としての利得は図19に提示されている。
に応用を有する。例えば従来のマモグラフィ(X線撮像技術)マシンにおいては
,MoKX線点源が分散ビームを形成し、これが胸を貫き、写真板上に記録され
る。胸組織内の病巣は、対照強度の領域として像内に現れる。胸組織は厚いから
、病巣はビーム路に沿う種々の距離に位置づけられる。ビームの発散により、病
巣の記録寸法は、ビーム路に沿う位置に従って変化せしめられる。この影響は、
スペクトル解像度の損失を引き起こし、マモグラムの結果としての診断に悪影響
を及ぼすことがある。この影響は、X線が発散でなく平行であれば存在しないで
あろう。
のX線源は点状形態から誘導されるからである。この問題の解決方法は、X線源
と胸との間に光学系を導入することであり、これにより、点X線源から発散する
X線源から平行ビームが作られる。これは、図20に示されるように高効率をも
ってMoKX線を反射するように多層化した一組の入れ子式コーンか、ガラス毛
管のポイントツーパラレル束のいずれかにより遂行される。両者は、放物面レン
ズに適当に近似しており、小さな角発散をもつ準平行ビームである。逐次のコー
ンから反射されるX線をオーバーラップさせ、コーンの影を除去するため、若干
の角度的分散が必要である。この平行ビームのため、病巣の像はビーム路に沿う
その位置により影響を受けず、ある程度の不確実性は診断から除去されることと
なる。
刷用の光学系を形成し得る。マイクロ平版印刷には一般に低エネルギX線が使用
されるが、多層化は必要とされない。準平行ビームは、マスクがサブストレート
上に高精度で作像され得ることを保証する。ビーム発散が欠如することは、サブ
ストレート上により細い線で特徴を構成することができることを意味する。
て通常用いられる手法は、病巣の位置に交差する繊細に平行化されたビームを使
用することである。この手法は、視線に沿う全組織に、ほぼ同じ高線量の放射線
を投射せしめる。病巣に対してよりも回りの組織に低線量のX線を提供する一つ
の手法は、頂点を病巣においたコーンの領域内において放射線を体内に進入させ
ることである。これは、病巣上に中心をおくコーンの頂点の回りに患者を回転さ
せることによって機械的に達成し得る。ペンシルビームはつねに頂点を通過する
が、方向は変えられ、健康な周囲組織への露出を減ずる。同じ目的を達成する他
の手法は、図22に示されるようにX線源からの分散ビームを再集結する光学系
を使用することである。光学系の焦点は病巣に位置づけられ、円錐の最終ビーム
が病巣上に最大の強度を置き、健康な周囲物質上により低い強度を置く。光学系
は、近似的ポイントツーポイントレンズとして作ってよい。近似物は、入れ子式
円筒の形式でもよいし、二組の相対する入れ子式コーンとして形成してもよい。
いずれの場合にも、ミラーは、関係するX線を反射するように多層化された薄い
箔として作られる。
はここに開示されるものの種々の変更、変化は明らかであり、このような変更、
変化が特許請求の範囲の範囲にある限り、本発明の技術思想内にあることは明ら
かである。
略線図である。
示する概略線図である。
する概略線図である。
する本発明の具体例を例示するとともに、ポイントツーパラレル形式単一または
複式反射円錐状または円錐螺旋状集中装置およびそれに続く単一または複式反射
パラレルツーポイント形式円錐または円錐螺旋状集中装置を採用する本発明の具
体例を例示する概略線図である。
る。
る。
斜視図である。
ントレート対エネルギのグラフである。
得られる微量分析スペクトルである。
フである。
光学系を利用したスペクトルのグラフである。
光学系についての利得対エネルギのグラフである。
中装置 26,28,30 同心円筒またはコーン 32 螺旋状集中装置 34 リボン
Claims (47)
- 【請求項1】 X線源と、 このX線源から離間されX線源からのX線を受け入れるように配置されたX線
ビーム集中装置と、 該集中装置からX線を受け入れるように配置されたX線スペクトロメータと を備えることを特徴とするX線診断システム。 - 【請求項2】 前記X線源が走査型電子顕微鏡または電子マイクロプローブ
である請求項1記載のX線診断システム。 - 【請求項3】 前記X線源が、イオンビーム、サイクロトロンビームまたは
レーザでサンプルを照射するための装置である請求項1記載のX線診断システム
。 - 【請求項4】 前記X線源が実験室規模プラズマである請求項1記載のX線
診断システム。 - 【請求項5】 前記実験室規模のプラズマが磁気的および/または静電的に
包閉された形式である請求項4記載のX線診断システム。 - 【請求項6】 前記実験室規模のプラズマが内部包閉形式である請求項4記
載のX線診断システム。 - 【請求項7】 前記X線源が電子衝撃装置である請求項1記載のX線診断シ
ステム。 - 【請求項8】 前記X線ビーム集中装置がポイントツーポイント形式X線集
中装置である請求項1記載のX線診断システム。 - 【請求項9】 前記集中装置が単一反射性円筒状集中装置である請求項8記
載のX線診断システム。 - 【請求項10】 前記集中装置が二重または複式反射性円錐状集中装置であ
る請求項8記載のX線診断システム。 - 【請求項11】 円筒状集中装置が2または複数の入れ子式円筒またはコー
ンである請求項9または10記載のX線診断システム。 - 【請求項12】 前記入れ子式円筒が、ガラス、アルミニウム箔(フォイル
)、プラスチック箔、シリコンまたはゲルマニウムである請求項11記載のX線
診断システム。 - 【請求項13】 前記プラスチック箔が、ポリエステル、ポリイミド、カプ
トン、メリネックス、ホスタファン、アプリカルまたはマイラーである請求項1
2記載のX線診断システム。 - 【請求項14】 前記プラスチックがESTARTMである請求項12記載の
X線診断システム。 - 【請求項15】 プラスチック箔が、0.002〜0.015インチ(0.0508
〜0.381mm)の範囲の厚さ、または箔を円筒に折り曲げることができる任意の厚さ
を有する請求項13記載のX線診断システム。 - 【請求項16】 前記入れ子式円筒が金属の薄層で被覆された請求項12記
載のX線診断システム。 - 【請求項17】 前記金属が高Z金属である請求項16記載のX線診断シス
テム。 - 【請求項18】 前記高Z金属がニッケル、金またはイリジウムである請求
項17記載のX線診断システム。 - 【請求項19】 前記入れ子式円筒が多層で被覆される請求項12記載のX
線診断システム。 - 【請求項20】 前記集中装置が単一反射性円筒螺旋状集中装置である請求
項8記載のX線診断システム。 - 【請求項21】 前記集中装置が、二重または複式反射性円錐螺旋状集中装
置である請求項8記載のX線診断システム。 - 【請求項22】 前記螺旋が、プラスチック箔、アルミニウム箔、または石
英リボンより成る請求項20または21記載のX線診断システム。 - 【請求項23】 前記プラスチック箔が、ポリエステル、カプトン、メリネ
ックス、ホストファン、アピルカルまたはマイラーである請求項22記載のX線
診断システム。 - 【請求項24】 前記プラスチック箔がESTARである請求項22記載の
X線診断システム。 - 【請求項25】 前記プラスチック箔が、0.002〜0.015(0.0508〜0
.381mm)の範囲の厚さ、または箔を螺旋に折り曲げることができる任意の厚さを
有する請求項23記載のX線診断システム。 - 【請求項26】 前記螺旋が金属の薄層で被覆された請求項22記載のX線
診断システム。 - 【請求項27】 前記金属が高Z金属である請求項26記載のX線診断シス
テム。 - 【請求項28】 前記高Z金属がニッケル、金またはイリジウムである請求
項27記載のX線診断システム。 - 【請求項29】 前記螺旋が多層で被覆される請求項22記載のX線診断シ
ステム。 - 【請求項30】 複数の巻きを有する螺旋に形成された反射面を有する材料
のリボンより成ることを特徴とするX線集中装置。 - 【請求項31】 反射面を有するリボン材料の複数の入れ子式同心円筒より
成るX線集中装置。 - 【請求項32】 シャフトにより接続され、スポークにより支持された外部
リングを具備する1対の離間したディスクと、反射面を支持するための手段を備
える請求項30または31記載のX線集中装置。 - 【請求項33】 前記反射面を支持するための手段が、スポークにより支持
されるステンレススチールより成る請求項32記載のX線集中装置。 - 【請求項34】 前記反射面を支持するための手段が、離間されたディスク
のスポーク内の溝より成る請求項32記載のX線集中装置。 - 【請求項35】 前記ディスクおよびシャフトが金属より成る請求項32記
載のX線集中装置。 - 【請求項36】 前記金属が、アルミニウム、ベリリウム、ステンレススチ
ール、チタンまたはタングステンである請求項35記載のX線集中装置。 - 【請求項37】 前記集中装置が単一ガラス毛管束である請求項8記載のX
線診断システム。 - 【請求項38】 前記ガラス毛管束がモノリシックである請求項37記載の
X線診断システム。 - 【請求項39】 前記ガラス毛管束が,350mmの焦点距離、または製造
し得る任意の焦点距離を有する請求項38記載のX線診断システム。 - 【請求項40】 前記集中装置が、パラレルツーポイント形式ガラス毛管束
に結合されたポイントツーパラレル形式ガラス毛管束より成る請求項1記載のX
線診断システム。 - 【請求項41】 全結合が、可変の距離を介して真空またはガス中で行われ
る請求項40記載のX線診断システム。 - 【請求項42】 前記スペクトロメータがエネルギ分散X線検出器である請
求項1記載のX線診断システム。 - 【請求項43】 前記エネルギ分散検出器が、マイクロカロリーメータ、リ
チウムドリフトシリコン検出器、ゲルマニウム検出器、比例カウンタ、ガスシン
チレーション比例カウンタおよびガス比例カウンタより成る群から選択される請
求項42記載のX線診断システム。 - 【請求項44】 前記スペクトロメータが、波長分散X線スペクトロメータ
である請求項1記載のX線診断システム。 - 【請求項45】 前記波長分散X線スペクトロメータが、少なくとも一つの
平坦なBraggクリスタルを使用する請求項44記載のX線診断システム。 - 【請求項46】 前記波長分散X線スペクトロメータが、Johann形態または
von Hamos形態の少なくとも一つのBraggクリスタルを使用する請求項44記載の
X線診断システム。 - 【請求項47】 X線を発生する走査型電子顕微鏡と、 この走査型電子顕微鏡から離間され、走査型電子顕微鏡からのX線を受け取る
ように配置されたX線ビーム集中装置と、 この集中装置からX線を受け取るように配置されたX線スペクトロメータと を備え、前記集中装置が複数巻きを有する円筒状螺旋に形成された反射面を有す
る材料のリボンから構成され、該材料のリボンが金属被覆プラスチックである ことを特徴とするX線診断システム。
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