JP3141660B2 - Ｘ線照射装置 - Google Patents
Ｘ線照射装置Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、Ｘ線顕微鏡において観
察試料にＸ線を照射し、あるいは、Ｘ線投影露光装置に
おいてレチクルにＸ線を照射する場合等に用いられるＸ
線照射装置に関する。
察試料にＸ線を照射し、あるいは、Ｘ線投影露光装置に
おいてレチクルにＸ線を照射する場合等に用いられるＸ
線照射装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】Ｘ線顕微鏡による試料の観察において
は、たとえば図７に示すようなレーザプラズマによるＸ
線照射装置が使用される。このＸ線照射装置は、図示さ
れていないレーザ発振器からのレーザ光Ｌを集光レンズ
６０により集光して、レーザ光導入窓６５を介して真空
容器６１内のターゲット６２にスポット照射し、ターゲ
ット６２の表面に径１００μｍ程度のプラズマＰを生成
せしめ、このプラズマＰより可視光除去フイルタ６３を
透過して出射するＸ線Ｌｘを、Ｘ線反射多層膜が表面に
形成された回転楕円面鏡６４により集光し、観察試料Ｍ
に照射する。
は、たとえば図７に示すようなレーザプラズマによるＸ
線照射装置が使用される。このＸ線照射装置は、図示さ
れていないレーザ発振器からのレーザ光Ｌを集光レンズ
６０により集光して、レーザ光導入窓６５を介して真空
容器６１内のターゲット６２にスポット照射し、ターゲ
ット６２の表面に径１００μｍ程度のプラズマＰを生成
せしめ、このプラズマＰより可視光除去フイルタ６３を
透過して出射するＸ線Ｌｘを、Ｘ線反射多層膜が表面に
形成された回転楕円面鏡６４により集光し、観察試料Ｍ
に照射する。
【０００３】Ｘ線投影露光装置によるレチクルなどへの
Ｘ線照射においては、たとえば図８に示すように、シン
クロトロン放射光Ｓを光源として回折格子分光器７０に
より分光し、回折格子分光器７０よりの回折光Ｌｄから
フィルタ７１によって短波長光の高次回折成分や可視光
などの混合光を除去し、単色化されたＸ線Ｌｘをレチク
ルＲに照射する。
Ｘ線照射においては、たとえば図８に示すように、シン
クロトロン放射光Ｓを光源として回折格子分光器７０に
より分光し、回折格子分光器７０よりの回折光Ｌｄから
フィルタ７１によって短波長光の高次回折成分や可視光
などの混合光を除去し、単色化されたＸ線Ｌｘをレチク
ルＲに照射する。
【０００４】
【発明が解決しようする課題】しかしながら、上述した
従来のＸ線照射装置のいずれにおいても、回転楕円面鏡
６４や回折格子分光器７０を用いて観察試料Ｍやレチク
ルＲにＸ線を照射していたので、Ｘ線源（プラズマＰ、
シンクロトロン）におけるＸ線強度分布が被照射物体上
の照度分布として反映し、光源のＸ線強度分布が一様で
ない場合には照明むらが生じる。すなわち、回転楕円面
鏡６４や回折格子分光器７０により照射されるＸ線はい
わばＸ線源の像であるため、このＸ線源の強度むらがそ
のまま観察試料ＭやレチクルＲ上における照明むらとな
る。
従来のＸ線照射装置のいずれにおいても、回転楕円面鏡
６４や回折格子分光器７０を用いて観察試料Ｍやレチク
ルＲにＸ線を照射していたので、Ｘ線源（プラズマＰ、
シンクロトロン）におけるＸ線強度分布が被照射物体上
の照度分布として反映し、光源のＸ線強度分布が一様で
ない場合には照明むらが生じる。すなわち、回転楕円面
鏡６４や回折格子分光器７０により照射されるＸ線はい
わばＸ線源の像であるため、このＸ線源の強度むらがそ
のまま観察試料ＭやレチクルＲ上における照明むらとな
る。
【０００５】反射鏡として、回転放物線面による凹面鏡
が使用されれば、その凹面鏡の焦点より発するすべての
光線が回転放物線面の中心軸線（放物線の主軸）に平行
な光線になり、平行光が得られ、照明むらが解消され
る。しかし回転放物線面による凹面鏡は集光能を有して
おらず、観察試料、レチクルなどに照射するＸ線強度を
高めることができない。
が使用されれば、その凹面鏡の焦点より発するすべての
光線が回転放物線面の中心軸線（放物線の主軸）に平行
な光線になり、平行光が得られ、照明むらが解消され
る。しかし回転放物線面による凹面鏡は集光能を有して
おらず、観察試料、レチクルなどに照射するＸ線強度を
高めることができない。
【０００６】本発明の目的は、被照射物体に対して高強
度のＸ線を均一に照射することの可能なＸ線照射装置を
提供することにある。
度のＸ線を均一に照射することの可能なＸ線照射装置を
提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】一実施例を示す図１〜図
５に対応づけて説明すると、請求項１の発明は、放物線
Ｐｒの一部がなす線分Ｌｓを、この放物線Ｐｒの焦点ｆ
を通りかつ放物線Ｐｒの主軸Ｘに対して線分Ｌｓ側に傾
斜した軸線Ａの周りに回転して得られる回転曲面の内周
面を反射面３とする集光鏡１を備え、焦点ｆの位置から
集光鏡１の内周面へ向けてＸ線Ｌｘを放射するＸ線照射
装置を構成することにより、上述の目的を達成している
（図１〜３参照）。
５に対応づけて説明すると、請求項１の発明は、放物線
Ｐｒの一部がなす線分Ｌｓを、この放物線Ｐｒの焦点ｆ
を通りかつ放物線Ｐｒの主軸Ｘに対して線分Ｌｓ側に傾
斜した軸線Ａの周りに回転して得られる回転曲面の内周
面を反射面３とする集光鏡１を備え、焦点ｆの位置から
集光鏡１の内周面へ向けてＸ線Ｌｘを放射するＸ線照射
装置を構成することにより、上述の目的を達成している
（図１〜３参照）。
【０００８】また、請求項２の発明は、一つの焦点ｆを
共有する互いに異なる複数の放物線Ｐｒ1、Ｐｒ2の各々
の一部がなす複数の線分Ｌｓ1、Ｌｓ2のそれぞれを、焦
点ｆを通りかつ各線分Ｌｓ1、Ｌｓ2に対応する放物線Ｐ
ｒ1、Ｐｒ2の主軸Ｘ1、Ｘ2に対して線分Ｌｓ1、Ｌｓ2側
に傾斜した一つの軸線Ａの周りに回転して得られる複数
の回転曲面の内周面の各々を反射面３1、３2とする集光
鏡１を備え、焦点ｆの位置から集光鏡１の内周面へ向け
てＸ線Ｌｘを放射するＸ線照射装置を構成することによ
り上述の目的を達成している（図４，５参照）。焦点ｆ
の位置に点状Ｘ線源２を配置してもよく、また、集光鏡
１の反射面にＸ線反射多層膜４を設けてもよい。
共有する互いに異なる複数の放物線Ｐｒ1、Ｐｒ2の各々
の一部がなす複数の線分Ｌｓ1、Ｌｓ2のそれぞれを、焦
点ｆを通りかつ各線分Ｌｓ1、Ｌｓ2に対応する放物線Ｐ
ｒ1、Ｐｒ2の主軸Ｘ1、Ｘ2に対して線分Ｌｓ1、Ｌｓ2側
に傾斜した一つの軸線Ａの周りに回転して得られる複数
の回転曲面の内周面の各々を反射面３1、３2とする集光
鏡１を備え、焦点ｆの位置から集光鏡１の内周面へ向け
てＸ線Ｌｘを放射するＸ線照射装置を構成することによ
り上述の目的を達成している（図４，５参照）。焦点ｆ
の位置に点状Ｘ線源２を配置してもよく、また、集光鏡
１の反射面にＸ線反射多層膜４を設けてもよい。
【０００９】
【作用】焦点位置Ｆより発したＸ線Ｌｘは、集光鏡１の
反射面３によって反射し、反射されたＸ線Ｌｘは、放物
線Ｐｒ、Ｐｒの主軸Ｘ、Ｘ´に平行な進路ｐ、ｐ´をも
って進行する。また、本発明の集光鏡１の反射面３は、
軸線Ａを中心として環状に形成されている。従って、反
射面３全体から反射されたＸ線Ｌｘは、集光鏡１の回転
中心をなす軸線Ａの放物線主軸Ｘに対する傾斜角ａの２
倍の集束角ｂをもって、軸線Ａを中心とする領域Ｃ内に
集光する。
反射面３によって反射し、反射されたＸ線Ｌｘは、放物
線Ｐｒ、Ｐｒの主軸Ｘ、Ｘ´に平行な進路ｐ、ｐ´をも
って進行する。また、本発明の集光鏡１の反射面３は、
軸線Ａを中心として環状に形成されている。従って、反
射面３全体から反射されたＸ線Ｌｘは、集光鏡１の回転
中心をなす軸線Ａの放物線主軸Ｘに対する傾斜角ａの２
倍の集束角ｂをもって、軸線Ａを中心とする領域Ｃ内に
集光する。
【００１０】なお、本発明の構成を説明する上記課題を
解決するための手段と作用の項では、本発明を分かり易
くするために実施例の図を用いたが、これにより本発明
が実施例に限定されるものではない。
解決するための手段と作用の項では、本発明を分かり易
くするために実施例の図を用いたが、これにより本発明
が実施例に限定されるものではない。
【００１１】
−第１実施例− 図１は本発明によるＸ線照射装置の第１実施例を示す断
面図、図２は斜視図である。これらの図に示すように、
本実施例のＸ線照射装置は、集光鏡１と微小Ｘ線源２と
を含んでいる。
面図、図２は斜視図である。これらの図に示すように、
本実施例のＸ線照射装置は、集光鏡１と微小Ｘ線源２と
を含んでいる。
【００１２】集光鏡１は略円環状の外形を有し、その内
周面が反射面３とされている。この反射面３は、図３に
示すように、放物線Ｐｒの一部がなす線分Ｌｓを、放物
線Ｐｒの焦点ｆを通り、かつ放物線Ｐｒの主軸（対称
軸）Ｘに対して線分Ｌｓの側に傾斜した軸線Ａの周りに
一回転して得られる回転曲面の内周面Ｆｉからなる。な
お、図３において、符号Ｐｒ′は放物線Ｐｒを軸線Ａの
周りに１８０°回転させた状態を、符号Ｌｓ´は線分Ｌ
ｓを軸線Ａの周りに１８０°回転させた状態を示し、ま
た符号Ｘ′はその放物線Ｐｒ′の主軸を示している。注
意すべきことは、線分Ｌｓを軸線Ａの周りに回転するこ
とにより、これに対応する放物線Ｐｒ、およびその主軸
Ｘも軸線Ａの周りに回転しているのであり、反射面３の
任意の周方向の位置において対応する主軸Ｘの向きはそ
れぞれ異なる。後述のように、この主軸Ｘの向きがＸ線
の照射方向および領域を決定する。
周面が反射面３とされている。この反射面３は、図３に
示すように、放物線Ｐｒの一部がなす線分Ｌｓを、放物
線Ｐｒの焦点ｆを通り、かつ放物線Ｐｒの主軸（対称
軸）Ｘに対して線分Ｌｓの側に傾斜した軸線Ａの周りに
一回転して得られる回転曲面の内周面Ｆｉからなる。な
お、図３において、符号Ｐｒ′は放物線Ｐｒを軸線Ａの
周りに１８０°回転させた状態を、符号Ｌｓ´は線分Ｌ
ｓを軸線Ａの周りに１８０°回転させた状態を示し、ま
た符号Ｘ′はその放物線Ｐｒ′の主軸を示している。注
意すべきことは、線分Ｌｓを軸線Ａの周りに回転するこ
とにより、これに対応する放物線Ｐｒ、およびその主軸
Ｘも軸線Ａの周りに回転しているのであり、反射面３の
任意の周方向の位置において対応する主軸Ｘの向きはそ
れぞれ異なる。後述のように、この主軸Ｘの向きがＸ線
の照射方向および領域を決定する。
【００１３】集光鏡１の反射面３には、その前面にわた
ってＸ線反射多層膜４が形成されている。Ｘ線反射多層
膜４は、ある波長のＸ線における屈折率と真空の屈折率
（＝１）との差が大きい物質と、差が小さい物質とが交
互に積層された構造を有し、ブラッグの条件式を満たす
ことで特定の波長を有するＸ線を反射させるものであ
る。このＸ線反射多層膜４によって、反射面３全体はＸ
線に対して一様な反射率を有するようになる。Ｘ線反射
多層膜４によって選択的に反射されるＸ線の波長は、こ
の多層膜４を構成する各層の物質および周期長（前記差
の大きい物質と小さい物質の１ペア分の膜厚）により定
まり、これらは既知の方法により決定される（代表的な
ものとして、タングステン（Ｗ）とカーボン（Ｃ）等の
組合せが知られている）。また、各層を形成する物質は
真空蒸着等の薄膜形成技術によって形成される。微小Ｘ
線源２は、放物線Ｐｒの焦点ｆに整合する焦点位置Ｆに
配置され、Ｘ線Ｌｘを集光鏡１の反射面３へ向けて放射
する。
ってＸ線反射多層膜４が形成されている。Ｘ線反射多層
膜４は、ある波長のＸ線における屈折率と真空の屈折率
（＝１）との差が大きい物質と、差が小さい物質とが交
互に積層された構造を有し、ブラッグの条件式を満たす
ことで特定の波長を有するＸ線を反射させるものであ
る。このＸ線反射多層膜４によって、反射面３全体はＸ
線に対して一様な反射率を有するようになる。Ｘ線反射
多層膜４によって選択的に反射されるＸ線の波長は、こ
の多層膜４を構成する各層の物質および周期長（前記差
の大きい物質と小さい物質の１ペア分の膜厚）により定
まり、これらは既知の方法により決定される（代表的な
ものとして、タングステン（Ｗ）とカーボン（Ｃ）等の
組合せが知られている）。また、各層を形成する物質は
真空蒸着等の薄膜形成技術によって形成される。微小Ｘ
線源２は、放物線Ｐｒの焦点ｆに整合する焦点位置Ｆに
配置され、Ｘ線Ｌｘを集光鏡１の反射面３へ向けて放射
する。
【００１４】焦点位置Ｆに配置された微小Ｘ線源２が発
したＸ線Ｌｘは、集光鏡１の反射面３によって反射され
る。反射面３によるＸ線の反射を図３を参照して詳細に
説明すると、図３において線分Ｌｓに入射したＸ線は、
放物線Ｐｒの主軸Ｘに平行な進路ｐをもって軸線Ａを横
切る。一方、線分Ｌｓから１８０°離れた位置にある線
分Ｌｓ´に入射したＸ線Ｌｘは、放物線Ｐｒ´の主軸Ｘ
´に平行な進路ｐ´をもって軸線Ａを横切る。同様にし
て反射面３の全体についてＸ線の経路を辿ると、図２に
示すように、微小Ｘ線源２が発したＸ線Ｌｘは、集光鏡
１の反射面３により反射されて、集光鏡１の軸線Ａの放
物線主軸Ｘに対する傾斜角ａの２倍の集束角ｂ（図１、
図３参照）をもって軸線Ａを中心とする微小円形領域Ｃ
内に集光する。
したＸ線Ｌｘは、集光鏡１の反射面３によって反射され
る。反射面３によるＸ線の反射を図３を参照して詳細に
説明すると、図３において線分Ｌｓに入射したＸ線は、
放物線Ｐｒの主軸Ｘに平行な進路ｐをもって軸線Ａを横
切る。一方、線分Ｌｓから１８０°離れた位置にある線
分Ｌｓ´に入射したＸ線Ｌｘは、放物線Ｐｒ´の主軸Ｘ
´に平行な進路ｐ´をもって軸線Ａを横切る。同様にし
て反射面３の全体についてＸ線の経路を辿ると、図２に
示すように、微小Ｘ線源２が発したＸ線Ｌｘは、集光鏡
１の反射面３により反射されて、集光鏡１の軸線Ａの放
物線主軸Ｘに対する傾斜角ａの２倍の集束角ｂ（図１、
図３参照）をもって軸線Ａを中心とする微小円形領域Ｃ
内に集光する。
【００１５】よって、図１に示すように、この微小円形
領域Ｃ内に被照射物体Ｍを配置することにより、集光さ
れかつ平行なＸ線Ｌｘにより被照射物体Ｍの全体を均一
に照射することができる。
領域Ｃ内に被照射物体Ｍを配置することにより、集光さ
れかつ平行なＸ線Ｌｘにより被照射物体Ｍの全体を均一
に照射することができる。
【００１６】集光鏡１の反射面３にＸ線反射多層膜４が
コーティングされていない場合には、Ｘ線の斜入射によ
る全反射を利用することになり、分光はできない。ま
た、焦点距離が大きくなる。一方、反射面３にＸ線反射
多層膜４がコーティングされていれば、反射面３におけ
るＸ線の反射角が大きく設定できるようになり、焦点距
離が短くなって装置全体がコンパクトになる。また、上
述のように、Ｘ線反射多層膜４の多層膜材質、層厚の選
択によって任意の単色Ｘ線を被照射物体Ｍに照射するこ
とが可能になる。
コーティングされていない場合には、Ｘ線の斜入射によ
る全反射を利用することになり、分光はできない。ま
た、焦点距離が大きくなる。一方、反射面３にＸ線反射
多層膜４がコーティングされていれば、反射面３におけ
るＸ線の反射角が大きく設定できるようになり、焦点距
離が短くなって装置全体がコンパクトになる。また、上
述のように、Ｘ線反射多層膜４の多層膜材質、層厚の選
択によって任意の単色Ｘ線を被照射物体Ｍに照射するこ
とが可能になる。
【００１７】−第２実施例− 図４は本発明によるＸ線照射装置の第２実施例を示す図
である。なお、図４において、上述した第１実施例と同
様の構成要素については同一の符号を付し、その説明を
簡略化する。
である。なお、図４において、上述した第１実施例と同
様の構成要素については同一の符号を付し、その説明を
簡略化する。
【００１８】本実施例においては集光鏡１は複数（より
詳細には２枚）の反射面３1、３2を備えており、全体と
して樽状の中空環状体に形成されている。これら反射面
３1、３2は、一つの焦点ｆを共有する互いに異なる２本
の放物線Ｐｒ1、Ｐｒ2の各々の一部がなす２本の線分Ｌ
ｓ1、Ｌｓ2のそれぞれを、焦点ｆを通り、かつ各線分Ｌ
ｓ1、Ｌｓ2に対応する放物線Ｐｒ1、Ｐｒ2の主軸Ｘ1、
Ｘ2に対して線分Ｌｓ1、Ｌｓ2側に傾斜した一つの軸線
Ａの周りに一回転して得られる複数の回転曲面の内周面
Ｆｉ1、Ｆｉ2からなる。
詳細には２枚）の反射面３1、３2を備えており、全体と
して樽状の中空環状体に形成されている。これら反射面
３1、３2は、一つの焦点ｆを共有する互いに異なる２本
の放物線Ｐｒ1、Ｐｒ2の各々の一部がなす２本の線分Ｌ
ｓ1、Ｌｓ2のそれぞれを、焦点ｆを通り、かつ各線分Ｌ
ｓ1、Ｌｓ2に対応する放物線Ｐｒ1、Ｐｒ2の主軸Ｘ1、
Ｘ2に対して線分Ｌｓ1、Ｌｓ2側に傾斜した一つの軸線
Ａの周りに一回転して得られる複数の回転曲面の内周面
Ｆｉ1、Ｆｉ2からなる。
【００１９】集光鏡１の反射面３1、３2にはその全面に
わたってＸ線反射多層膜４がコーティングされ、特定の
波長を有するＸ線に対して反射面３1、３2の全体が一様
な反射率を有するように構成されている。この場合、線
分Ｌｓ1とＬｓ2とが軸線方向に互いに連続していること
により、集光鏡１の反射面３1と３2とは軸線方向に互い
に連続している。
わたってＸ線反射多層膜４がコーティングされ、特定の
波長を有するＸ線に対して反射面３1、３2の全体が一様
な反射率を有するように構成されている。この場合、線
分Ｌｓ1とＬｓ2とが軸線方向に互いに連続していること
により、集光鏡１の反射面３1と３2とは軸線方向に互い
に連続している。
【００２０】焦点位置Ｆに配置された微小Ｘ線源２が発
したＸ線Ｌｘは、集光鏡１の反射面３1、３2の各々によ
って反射し、各反射面３1、３2で反射されたＸ線Ｌｘ
は、それぞれの反射面３1、３2に対応する放物線Ｐｒ1
あるいはＰｒの主軸Ｘ1、Ｘ2に平行な進路ｐ1、ｐ2をも
って、かつ集光鏡１の軸線Ａの放物線主軸Ｘ1、Ｘ2に対
する傾斜角ａ1、ａ2の２倍の集束角ｂ1、ｂ2をもって軸
線Ａを中心とする一つの微小円形領域Ｃ内に重複集光す
る。
したＸ線Ｌｘは、集光鏡１の反射面３1、３2の各々によ
って反射し、各反射面３1、３2で反射されたＸ線Ｌｘ
は、それぞれの反射面３1、３2に対応する放物線Ｐｒ1
あるいはＰｒの主軸Ｘ1、Ｘ2に平行な進路ｐ1、ｐ2をも
って、かつ集光鏡１の軸線Ａの放物線主軸Ｘ1、Ｘ2に対
する傾斜角ａ1、ａ2の２倍の集束角ｂ1、ｂ2をもって軸
線Ａを中心とする一つの微小円形領域Ｃ内に重複集光す
る。
【００２１】したがって、本実施例によっても、微小円
形領域Ｃ内に被照射物体Ｍを配置することにより、集光
されかつ平行なＸ線Ｌｘにより被照射物体Ｍの全体を均
一に照射することができる。しかも、本実施例では、反
射面３1と３2の各々よりのＸ線Ｌｘが微小円形領域Ｃ内
に重複集光するので、被照射物体Ｍに照射されるＸ線Ｌ
ｘの強度が倍増する。
形領域Ｃ内に被照射物体Ｍを配置することにより、集光
されかつ平行なＸ線Ｌｘにより被照射物体Ｍの全体を均
一に照射することができる。しかも、本実施例では、反
射面３1と３2の各々よりのＸ線Ｌｘが微小円形領域Ｃ内
に重複集光するので、被照射物体Ｍに照射されるＸ線Ｌ
ｘの強度が倍増する。
【００２２】なお、図６を参照して、反射面３1および
３2の決定方法について説明する。 (１) まず、焦点ｆを図示の位置に持ち、この焦点ｆを
通る直線Ｘ1を主軸とする放物線Ｐｒ1の一部をなす線分
Ｌｓ1を考える。焦点ｆに整合する焦点位置Ｆに配置さ
れたＸ線源から発したＸ線Ｌｘは、内周面が線分Ｌｓ1
に一致する反射面で反射して、主軸Ｘ1に平行な光路ｐ1
を辿る。 (２) 次に、放物線Ｐｒ1の焦点ｆと共通の焦点を図示
の位置に持ち、この焦点ｆを通る直線Ｘ1と異なる直線
Ｘ2を主軸とする放物線Ｐｒ1と異なる放物線Ｐｒ2の一
部をなす線分Ｌｓ2を考える。焦点ｆに整合する焦点位
置Ｆに配置されたＸ線源から発したＸ線Ｌｘは、内周面
が線分Ｌｓ2に一致する反射面で反射して、主軸Ｘ2に平
行な光路ｐ2を辿る。 (３) 光路ｐ1と光路ｐ2は、図示の領域Ｃで交わる。 (４) この交差領域Ｃの中心点と上述の焦点ｆとを通る
直線Ａを回転軸として、放物線Ｐｒ1、Ｐｒ2の一部をな
す線分Ｌｓ1、Ｌｓ2を回転させて回転曲面を形成する。
この回転曲面の内周面が集光鏡１の反射面３1、３2とな
る。
３2の決定方法について説明する。 (１) まず、焦点ｆを図示の位置に持ち、この焦点ｆを
通る直線Ｘ1を主軸とする放物線Ｐｒ1の一部をなす線分
Ｌｓ1を考える。焦点ｆに整合する焦点位置Ｆに配置さ
れたＸ線源から発したＸ線Ｌｘは、内周面が線分Ｌｓ1
に一致する反射面で反射して、主軸Ｘ1に平行な光路ｐ1
を辿る。 (２) 次に、放物線Ｐｒ1の焦点ｆと共通の焦点を図示
の位置に持ち、この焦点ｆを通る直線Ｘ1と異なる直線
Ｘ2を主軸とする放物線Ｐｒ1と異なる放物線Ｐｒ2の一
部をなす線分Ｌｓ2を考える。焦点ｆに整合する焦点位
置Ｆに配置されたＸ線源から発したＸ線Ｌｘは、内周面
が線分Ｌｓ2に一致する反射面で反射して、主軸Ｘ2に平
行な光路ｐ2を辿る。 (３) 光路ｐ1と光路ｐ2は、図示の領域Ｃで交わる。 (４) この交差領域Ｃの中心点と上述の焦点ｆとを通る
直線Ａを回転軸として、放物線Ｐｒ1、Ｐｒ2の一部をな
す線分Ｌｓ1、Ｌｓ2を回転させて回転曲面を形成する。
この回転曲面の内周面が集光鏡１の反射面３1、３2とな
る。
【００２３】−第３実施例− 図４に示す実施例においては、集光鏡１の反射面３1と
３2とは軸線方向に互いに連続した形態をなしている
が、図５に示すように、径違いに構成されて軸線Ａを中
心として互いに同心に配置されてもよい。この場合も図
示するような進路をもってＸ線Ｌｘが微小円形領域Ｃ内
に重複集光するから、上述の第２実施例と同様の作用効
果が得られる。
３2とは軸線方向に互いに連続した形態をなしている
が、図５に示すように、径違いに構成されて軸線Ａを中
心として互いに同心に配置されてもよい。この場合も図
示するような進路をもってＸ線Ｌｘが微小円形領域Ｃ内
に重複集光するから、上述の第２実施例と同様の作用効
果が得られる。
【００２４】上述した第１〜第３の実施例において、Ｘ
線源２が可視光も放射するものである場合には、Ｘ線源
２と反射鏡１との間、あるいは反射鏡１と被照射物体Ｍ
との間に可視光除去用のフィルタを配置することが望ま
しい。
線源２が可視光も放射するものである場合には、Ｘ線源
２と反射鏡１との間、あるいは反射鏡１と被照射物体Ｍ
との間に可視光除去用のフィルタを配置することが望ま
しい。
【００２５】なお、本発明のＸ線照射装置は、その細部
が上述の各実施例に限定されず、種々の変形が可能であ
る。
が上述の各実施例に限定されず、種々の変形が可能であ
る。
【００２６】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
れば、集光鏡の反射面で反射されたＸ線はこの反射面を
形成する放物線の主軸に沿って平行に進行し、かつ、反
射面の回転軸の延長方向にある領域に集光されるので、
この領域内に被照射物体を配置することにより、被照射
物体を均一な照度分布をもって一様に集光照射すること
が可能になる。また、請求項２の発明によれば、集光鏡
が複数の反射面を有しているので、その反射面の総面積
に応じて被照射物体に照射されるＸ線の強度が増大し、
照度が増加する。この反射面の配置個数は立体的配置が
許す限り、幾つであってもよい。さらに、請求項４の発
明によれば、反射面にＸ線反射多層膜を形成したので、
反射面におけるＸ線の反射角を大きく設定でき、焦点距
離が短くなるので装置をコンパクトなものにすることが
できる。
れば、集光鏡の反射面で反射されたＸ線はこの反射面を
形成する放物線の主軸に沿って平行に進行し、かつ、反
射面の回転軸の延長方向にある領域に集光されるので、
この領域内に被照射物体を配置することにより、被照射
物体を均一な照度分布をもって一様に集光照射すること
が可能になる。また、請求項２の発明によれば、集光鏡
が複数の反射面を有しているので、その反射面の総面積
に応じて被照射物体に照射されるＸ線の強度が増大し、
照度が増加する。この反射面の配置個数は立体的配置が
許す限り、幾つであってもよい。さらに、請求項４の発
明によれば、反射面にＸ線反射多層膜を形成したので、
反射面におけるＸ線の反射角を大きく設定でき、焦点距
離が短くなるので装置をコンパクトなものにすることが
できる。
【図１】本発明の第１実施例であるＸ線照射装置を示す
縦断面図。
縦断面図。
【図２】第１実施例のＸ線照射装置の概略斜視図。
【図３】第１実施例のＸ線照射装置に使用される集光鏡
の幾何学的形状を説明する説明図。
の幾何学的形状を説明する説明図。
【図４】本発明の第２実施例であるＸ線照射装置を示す
縦断面図。
縦断面図。
【図５】本発明の第３実施例であるＸ線照射装置を示す
縦断面図。
縦断面図。
【図６】第２実施例のＸ線照射装置の反射面を決定する
方法を説明するための図。
方法を説明するための図。
【図７】Ｘ線顕微鏡に使用されるＸ線照射装置の従来例
を示す概略構成図。
を示す概略構成図。
【図８】Ｘ線投影露光装置の従来例を示す概略構成図。
１ 集光鏡 ２ 微小Ｘ線源 Ｐｒ、Ｐｒ1、Ｐｒ2 放物線 ｆ 焦点 Ｆ 焦点位置 Ａ 軸線 Ｘ、Ｘ1、Ｘ2 主軸
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭51−53832（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−54402（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H05H 13/04 G21K 1/06 G21K 5/02 G21K 5/04
Claims (4)
- 【請求項１】 放物線の一部がなす線分を、前記放物線
の焦点を通りかつこの放物線の主軸に対して前記線分側
に傾斜した軸線の周りに回転して得られる回転曲面の内
周面を反射面とする集光鏡を備え、前記焦点の位置から
前記集光鏡の内周面へ向けてＸ線を放射するＸ線照射装
置。 - 【請求項２】 一つの焦点を共有する互いに異なる複数
の放物線の各々の一部がなす複数の線分のそれぞれを、
前記焦点を通りかつ前記各線分に対応する前記放物線の
主軸に対して前記線分側に傾斜した一つの軸線の周りに
回転して得られる複数の回転曲面の内周面の各々を反射
面とする集光鏡を備え、前記焦点の位置から前記集光鏡
の内周面へ向けてＸ線を放射するＸ線照射装置。 - 【請求項３】 請求項１または２に記載のＸ線照射装置
において、 前記焦点の位置に点状Ｘ線源が配置されていることを特
徴とするＸ線照射装置。 - 【請求項４】 請求項１、２または３に記載のＸ線照射
装置において、 前記集光鏡の反射面にＸ線反射多層膜が設けられている
ことを特徴とするＸ線照射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05315147A JP3141660B2 (ja) | 1993-12-15 | 1993-12-15 | Ｘ線照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05315147A JP3141660B2 (ja) | 1993-12-15 | 1993-12-15 | Ｘ線照射装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07167997A JPH07167997A (ja) | 1995-07-04 |
| JP3141660B2 true JP3141660B2 (ja) | 2001-03-05 |
Family
ID=18061983
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP05315147A Expired - Lifetime JP3141660B2 (ja) | 1993-12-15 | 1993-12-15 | Ｘ線照射装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3141660B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10339798A (ja) * | 1997-06-07 | 1998-12-22 | Horiba Ltd | Ｘ線集光用ミラー |
| US6094471A (en) * | 1998-04-22 | 2000-07-25 | Smithsonian Astrophysical Observatory | X-ray diagnostic system |
| JP2002195963A (ja) * | 2000-12-25 | 2002-07-10 | Ours Tex Kk | Ｘ線分光装置およびｘ線分析装置 |
| US7720197B2 (en) * | 2008-05-30 | 2010-05-18 | Rigaku Innovative Technologies, Inc. | High intensity x-ray beam system |
-
1993
- 1993-12-15 JP JP05315147A patent/JP3141660B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07167997A (ja) | 1995-07-04 |
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