JPH08247967A - 微小領域平行光線照射装置 - Google Patents
微小領域平行光線照射装置Info
- Publication number
- JPH08247967A JPH08247967A JP7055752A JP5575295A JPH08247967A JP H08247967 A JPH08247967 A JP H08247967A JP 7055752 A JP7055752 A JP 7055752A JP 5575295 A JP5575295 A JP 5575295A JP H08247967 A JPH08247967 A JP H08247967A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- axis
- ray
- reflecting mirror
- reflecting
- parallel
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/7015—Details of optical elements
- G03F7/70175—Lamphouse reflector arrangements or collector mirrors, i.e. collecting light from solid angle upstream of the light source
Abstract
(57)【要約】
【目的】 高強度で、かつ、中抜けのない平行なＸ線ビ
ームを照射できる微小領域平行光線照射装置を提供す
る。 【構成】 一の焦点２２を回転軸３０上に有し長軸２１
が回転軸３０と傾いた楕円２０を回転軸３０を中心とし
て１回転させたときに掃く面の凹面の一部を反射凹面１
１とする第１の反射鏡１０と、焦点５２が楕円２０の他
の焦点２３と一致し対称軸５１が回転軸３０と平行な放
物線５０を回転軸３０を中心として１回転させたときに
掃く面の凸面の一部を反射凸面４１とする第２の反射鏡
４０と、一の焦点２２に設けられた微小光源６０とを備
えた微小領域平行光線照射装置。
ームを照射できる微小領域平行光線照射装置を提供す
る。 【構成】 一の焦点２２を回転軸３０上に有し長軸２１
が回転軸３０と傾いた楕円２０を回転軸３０を中心とし
て１回転させたときに掃く面の凹面の一部を反射凹面１
１とする第１の反射鏡１０と、焦点５２が楕円２０の他
の焦点２３と一致し対称軸５１が回転軸３０と平行な放
物線５０を回転軸３０を中心として１回転させたときに
掃く面の凸面の一部を反射凸面４１とする第２の反射鏡
４０と、一の焦点２２に設けられた微小光源６０とを備
えた微小領域平行光線照射装置。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は微小領域に高強度光線の
平行ビームを照射する微小領域平行光線照射装置に関す
る。
平行ビームを照射する微小領域平行光線照射装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】近年の生物工学技術の発展は光学顕微鏡
や電子顕微鏡などの顕微鏡を用いた観察手段に負うとこ
ろが大きい。しかし、光学顕微鏡は液体中の生きた生体
試料を扱える特長があるものの、可視光を使用するため
にその波長により空間分解能が制限される欠点がある。
また、電子顕微鏡は空間分解能の点では優れるが、電子
線が透過する窓材が存在しないため、真空チャンバーの
中で生きたままの生体試料をカプセル化できず、これを
観察することが不可能である。
や電子顕微鏡などの顕微鏡を用いた観察手段に負うとこ
ろが大きい。しかし、光学顕微鏡は液体中の生きた生体
試料を扱える特長があるものの、可視光を使用するため
にその波長により空間分解能が制限される欠点がある。
また、電子顕微鏡は空間分解能の点では優れるが、電子
線が透過する窓材が存在しないため、真空チャンバーの
中で生きたままの生体試料をカプセル化できず、これを
観察することが不可能である。
【０００３】生きたままの生体試料を高分解能で観察で
きる可能性を持つ顕微鏡としてＸ線顕微鏡が注目され、
その開発が進められている。最近では微細精密工学の発
展によってＸ線顕微鏡用のＸ線光学素子の性能が向上
し、Ｘ線顕微鏡の試験機が作られるまでになっている。
また、Ｘ線源も従来の電子衝撃式に代わって、レーザ励
起プラズマＸ線源やＺピンチプラズマＸ線源などの実験
室サイズの高輝度Ｘ線源が開発されている。これらのプ
ラズマ自体の大きさは１００μｍφ程度である。
きる可能性を持つ顕微鏡としてＸ線顕微鏡が注目され、
その開発が進められている。最近では微細精密工学の発
展によってＸ線顕微鏡用のＸ線光学素子の性能が向上
し、Ｘ線顕微鏡の試験機が作られるまでになっている。
また、Ｘ線源も従来の電子衝撃式に代わって、レーザ励
起プラズマＸ線源やＺピンチプラズマＸ線源などの実験
室サイズの高輝度Ｘ線源が開発されている。これらのプ
ラズマ自体の大きさは１００μｍφ程度である。
【０００４】生体試料はＸ線吸収によって損傷を受け易
いため、強度のＸ線を照射せずに撮影できる方式が望ま
しい。Ｘ線位相差顕微鏡は位相差によってコントラスト
を得るもので、強度のＸ線が不要なためこのような要望
に合致している。
いため、強度のＸ線を照射せずに撮影できる方式が望ま
しい。Ｘ線位相差顕微鏡は位相差によってコントラスト
を得るもので、強度のＸ線が不要なためこのような要望
に合致している。
【０００５】図５は考案されているＸ線位相差顕微鏡の
光学配置を示す。平行Ｘ線２０１で試料２０２を照明
し、対物ゾーンプレート２０４を用いて結像させる。試
料２０２で回折されたＸ線２０３と回折されなかったＸ
線２０１’とは位相が９０度ずれており、また、回折さ
れなかったＸ線２０１’の方が高強度である。対物ゾー
ンプレート２０４の焦点２０５に９０度の位相板２０６
と吸収板２０７を置いて位相と強度を調整したＸ線２０
１’’と、位相板２０６および吸収板２０７を通過しな
い回折Ｘ線２０３’との間に正の干渉が起こり、コント
ラストの高い像２０８が撮像面２０９の上に形成され
る。なお、図５において分離して描かれている位相板２
０６および吸収板２０７は、実際には一体に形成されて
いる。
光学配置を示す。平行Ｘ線２０１で試料２０２を照明
し、対物ゾーンプレート２０４を用いて結像させる。試
料２０２で回折されたＸ線２０３と回折されなかったＸ
線２０１’とは位相が９０度ずれており、また、回折さ
れなかったＸ線２０１’の方が高強度である。対物ゾー
ンプレート２０４の焦点２０５に９０度の位相板２０６
と吸収板２０７を置いて位相と強度を調整したＸ線２０
１’’と、位相板２０６および吸収板２０７を通過しな
い回折Ｘ線２０３’との間に正の干渉が起こり、コント
ラストの高い像２０８が撮像面２０９の上に形成され
る。なお、図５において分離して描かれている位相板２
０６および吸収板２０７は、実際には一体に形成されて
いる。
【０００６】上述のように、Ｘ線位相差顕微鏡の実現に
は平行なＸ線ビームが不可欠であり、従来から図６〜８
に示すような平行Ｘ線照射装置が考案されている。図６
に示す平行Ｘ線照射装置は、回転放物面３０１に沿う凹
面部材３０２を作製し、Ｘ線反射多層膜をコートしてＸ
線反射鏡３０２ａとしたものと、回転放物面３０１の焦
点３０３に配置されたＸ線源３０３’とから構成され
る。Ｘ線源３０３’を発したＸ線３０４はＸ線反射鏡３
０２ａに入射すると回転放物面３０１の回転軸（対称
軸）３０５に平行に反射される。Ｘ線源３０３’を発
し、反射鏡３０２を見込む領域内にあるＸ線はすべて同
様に反射されるため、そのようなＸ線の一群は平行なＸ
線ビーム３０６として出射される。
は平行なＸ線ビームが不可欠であり、従来から図６〜８
に示すような平行Ｘ線照射装置が考案されている。図６
に示す平行Ｘ線照射装置は、回転放物面３０１に沿う凹
面部材３０２を作製し、Ｘ線反射多層膜をコートしてＸ
線反射鏡３０２ａとしたものと、回転放物面３０１の焦
点３０３に配置されたＸ線源３０３’とから構成され
る。Ｘ線源３０３’を発したＸ線３０４はＸ線反射鏡３
０２ａに入射すると回転放物面３０１の回転軸（対称
軸）３０５に平行に反射される。Ｘ線源３０３’を発
し、反射鏡３０２を見込む領域内にあるＸ線はすべて同
様に反射されるため、そのようなＸ線の一群は平行なＸ
線ビーム３０６として出射される。
【０００７】図７に示す平行Ｘ線照射装置は、Ｘ線反射
多層膜をコートした回転楕円凹面鏡３１１とＸ線反射多
層膜をコートした回転放物凸面鏡３１２とから構成され
る。回転楕円凹面鏡３１１の一方の焦点３１３と回転放
物凸面鏡３１２の焦点３１３’とを一致させ、二つの反
射鏡の回転軸を共通軸３１４とする。回転楕円凹面鏡３
１１のもう一方の焦点３１５にＸ線源３１５’を置く
と、発散するＸ線３１６は回転楕円凹面鏡３１１に入射
し、反射されたＸ線３１７は焦点３１３（３１３’）に
向かう。焦点３１３’に向かうＸ線は回転放物凸面鏡３
１２で反射されて、共通軸３１４と平行な方向に向か
う。Ｘ線源３１５’を発し、回転楕円凹面鏡３１１に向
かうＸ線はすべて同様に反射されるため、そのようなＸ
線の一群は平行なＸ線ビーム３１８として出射される。
多層膜をコートした回転楕円凹面鏡３１１とＸ線反射多
層膜をコートした回転放物凸面鏡３１２とから構成され
る。回転楕円凹面鏡３１１の一方の焦点３１３と回転放
物凸面鏡３１２の焦点３１３’とを一致させ、二つの反
射鏡の回転軸を共通軸３１４とする。回転楕円凹面鏡３
１１のもう一方の焦点３１５にＸ線源３１５’を置く
と、発散するＸ線３１６は回転楕円凹面鏡３１１に入射
し、反射されたＸ線３１７は焦点３１３（３１３’）に
向かう。焦点３１３’に向かうＸ線は回転放物凸面鏡３
１２で反射されて、共通軸３１４と平行な方向に向か
う。Ｘ線源３１５’を発し、回転楕円凹面鏡３１１に向
かうＸ線はすべて同様に反射されるため、そのようなＸ
線の一群は平行なＸ線ビーム３１８として出射される。
【０００８】図８に示す平行Ｘ線照射装置は、Ｘ線反射
多層膜をコートした回転楕円凹面鏡３２１とＸ線反射多
層膜をコートした回転放物凹面鏡３２２とから構成され
る。回転楕円凹面鏡３２１の一方の焦点３２３と回転放
物凹面鏡３２２の焦点３２３’とを一致させ、二つの反
射鏡の回転軸を共通軸３２４とする。回転楕円凹面鏡３
２１のもう一方の焦点３２５にＸ線源３２５’を置く
と、発散するＸ線３２６は回転楕円凹面鏡３２１に入射
し、反射されたＸ線３２７は焦点３２３（３２３’）に
向かう。焦点３２３’に向かうＸ線は回転放物凹面鏡３
２２で反射されて、共通軸３２４と平行な方向に向か
う。Ｘ線源３２５’を発し、回転楕円凹面鏡３２１に向
かうＸ線はすべて同様に反射されるため、そのようなＸ
線の一群は平行なＸ線ビーム３２８として出射される。
多層膜をコートした回転楕円凹面鏡３２１とＸ線反射多
層膜をコートした回転放物凹面鏡３２２とから構成され
る。回転楕円凹面鏡３２１の一方の焦点３２３と回転放
物凹面鏡３２２の焦点３２３’とを一致させ、二つの反
射鏡の回転軸を共通軸３２４とする。回転楕円凹面鏡３
２１のもう一方の焦点３２５にＸ線源３２５’を置く
と、発散するＸ線３２６は回転楕円凹面鏡３２１に入射
し、反射されたＸ線３２７は焦点３２３（３２３’）に
向かう。焦点３２３’に向かうＸ線は回転放物凹面鏡３
２２で反射されて、共通軸３２４と平行な方向に向か
う。Ｘ線源３２５’を発し、回転楕円凹面鏡３２１に向
かうＸ線はすべて同様に反射されるため、そのようなＸ
線の一群は平行なＸ線ビーム３２８として出射される。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の平行Ｘ
線照射装置には以下の問題がある。まず、図６に示した
装置では、Ｘ線源から発散してくるＸ線をそのまま平行
化しているため、平行Ｘ線ビームを高強度化できない。
また、図７および図８に示した装置では、Ｘ線源から発
散してくるＸ線を細いビームに変えているため高強度の
平行Ｘ線が得られるが、同図から分かるように中抜けの
ビームになってしまう。
線照射装置には以下の問題がある。まず、図６に示した
装置では、Ｘ線源から発散してくるＸ線をそのまま平行
化しているため、平行Ｘ線ビームを高強度化できない。
また、図７および図８に示した装置では、Ｘ線源から発
散してくるＸ線を細いビームに変えているため高強度の
平行Ｘ線が得られるが、同図から分かるように中抜けの
ビームになってしまう。
【００１０】本発明の目的は、高強度で、かつ、中抜け
のない平行なＸ線ビームを照射できる微小領域平行光線
照射装置を提供することにある。
のない平行なＸ線ビームを照射できる微小領域平行光線
照射装置を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】一実施例を示す図１〜図
４に対応づけて説明すると、本発明は、微小領域平行光
線照射装置に適用される。そして、請求項１の発明にあ
っては、一の焦点２２を回転軸３０上に有し長軸２１が
回転軸３０と傾いた楕円２０を回転軸３０を中心として
１回転させたときに掃く面の凹面の一部を反射凹面１１
とする第１の反射鏡１０と、焦点５２が楕円２０の他の
焦点２３と一致し対称軸５１が回転軸３０と平行な放物
線５０を回転軸３０を中心として１回転させたときに掃
く面の凸面の一部を反射凸面４１とし、この反射凸面４
１を反射凹面１１と対向配置した第２の反射鏡４０と、
一の焦点２２に設けられた微小光源６０とを備え、微小
光源６０からの光線６１が第１の反射鏡１０および第２
の反射鏡４０により順次反射されて平行光６３に変換さ
れるようにしたことにより上述の目的が達成される。請
求項２の発明による微小領域平行光線照射装置は、一の
焦点１２２を回転軸１３０上に有し長軸１２１が回転軸
１３０と傾いた楕円１２０を回転軸１３０を中心として
１回転させたときに掃く面の凹面の一部を反射凹面１１
１とする第１の反射鏡１１０と、焦点１５２が楕円の他
の焦点１２３と一致し対称軸１５１が回転軸１３０と平
行な放物線１５０を回転軸１３０を中心として１回転さ
せたときに掃く面の凹面の一部を反射凹面１４１とし、
反射凹面１４１を反射凹面１１１と対向配置した第２の
反射鏡１４０と、一の焦点１２２に設けられた微小光源
１６０とを備え、微小光源１６０からの光線１６１が第
１の反射鏡１１１および第２の反射鏡１４０により順次
反射されて平行光１６３に変換されるようにしたことに
より上述の目的が達成される。請求項３の発明は、請求
項１または２の微小領域平行光線照射装置において、第
１の反射鏡１０、１１０および第２の反射鏡４０、１４
０をＸ線反射多層鏡とし、かつ、微小光源６０、１６０
をプラズマＸ線源としたものである。
４に対応づけて説明すると、本発明は、微小領域平行光
線照射装置に適用される。そして、請求項１の発明にあ
っては、一の焦点２２を回転軸３０上に有し長軸２１が
回転軸３０と傾いた楕円２０を回転軸３０を中心として
１回転させたときに掃く面の凹面の一部を反射凹面１１
とする第１の反射鏡１０と、焦点５２が楕円２０の他の
焦点２３と一致し対称軸５１が回転軸３０と平行な放物
線５０を回転軸３０を中心として１回転させたときに掃
く面の凸面の一部を反射凸面４１とし、この反射凸面４
１を反射凹面１１と対向配置した第２の反射鏡４０と、
一の焦点２２に設けられた微小光源６０とを備え、微小
光源６０からの光線６１が第１の反射鏡１０および第２
の反射鏡４０により順次反射されて平行光６３に変換さ
れるようにしたことにより上述の目的が達成される。請
求項２の発明による微小領域平行光線照射装置は、一の
焦点１２２を回転軸１３０上に有し長軸１２１が回転軸
１３０と傾いた楕円１２０を回転軸１３０を中心として
１回転させたときに掃く面の凹面の一部を反射凹面１１
１とする第１の反射鏡１１０と、焦点１５２が楕円の他
の焦点１２３と一致し対称軸１５１が回転軸１３０と平
行な放物線１５０を回転軸１３０を中心として１回転さ
せたときに掃く面の凹面の一部を反射凹面１４１とし、
反射凹面１４１を反射凹面１１１と対向配置した第２の
反射鏡１４０と、一の焦点１２２に設けられた微小光源
１６０とを備え、微小光源１６０からの光線１６１が第
１の反射鏡１１１および第２の反射鏡１４０により順次
反射されて平行光１６３に変換されるようにしたことに
より上述の目的が達成される。請求項３の発明は、請求
項１または２の微小領域平行光線照射装置において、第
１の反射鏡１０、１１０および第２の反射鏡４０、１４
０をＸ線反射多層鏡とし、かつ、微小光源６０、１６０
をプラズマＸ線源としたものである。
【００１２】
【作用】光源６０を発した光線６１は第１の反射鏡１０
の反射凹面１１により集光される。また、光線６１は反
射凹面１１により第２の反射鏡４０の反射凸面４１の中
央部にも導かれる。したがって、反射凸面４１により反
射される平行光６３は強度で中抜けのない平行ビームと
なる（請求項１）。光源１６０を発した光線１６１は第
１の反射鏡１１０の反射凹面１１１により集光される。
また、光線１６１は反射凹面１１１により第２の反射鏡
１４０の反射凹面１４１の中央部にも導かれる。したが
って、反射凹面１４１により反射される平行光１６３は
強度で中抜けのない平行ビームとなる（請求項２）。Ｘ
線反射多層鏡である第１の反射鏡１０、１１０および第
２の反射鏡４０、１４０は光線の減衰が小さいので、平
行光６３、１６３が高強度になる。また、微小光源６０
としてプラズマＸ線源を用いるので装置がコンパクトに
なる（請求項３）。
の反射凹面１１により集光される。また、光線６１は反
射凹面１１により第２の反射鏡４０の反射凸面４１の中
央部にも導かれる。したがって、反射凸面４１により反
射される平行光６３は強度で中抜けのない平行ビームと
なる（請求項１）。光源１６０を発した光線１６１は第
１の反射鏡１１０の反射凹面１１１により集光される。
また、光線１６１は反射凹面１１１により第２の反射鏡
１４０の反射凹面１４１の中央部にも導かれる。したが
って、反射凹面１４１により反射される平行光１６３は
強度で中抜けのない平行ビームとなる（請求項２）。Ｘ
線反射多層鏡である第１の反射鏡１０、１１０および第
２の反射鏡４０、１４０は光線の減衰が小さいので、平
行光６３、１６３が高強度になる。また、微小光源６０
としてプラズマＸ線源を用いるので装置がコンパクトに
なる（請求項３）。
【００１３】なお、本発明の構成を説明する上記課題を
解決するための手段と作用の項では、本発明を分かり易
くするために実施例の図を用いたが、これにより本発明
が実施例に限定されるものではない。
解決するための手段と作用の項では、本発明を分かり易
くするために実施例の図を用いたが、これにより本発明
が実施例に限定されるものではない。
【００１４】
−第１の実施例− 図１および図２により本発明による微小領域平行光線照
射装置の一実施例を説明する。本実施例装置の斜視図で
ある図２において、１０は第１の反射鏡であり、中央部
にビーム孔１１ａが形成された環状の楕円反射凹面１１
を備える。この第１の反射鏡１０の形状を図１により説
明する。図１において、１０Ａは第１の反射鏡１０の断
面形状を示し、２０は、対称軸（長軸）２１上に２つの
焦点２２，２３が位置する楕円、３０は、一方の焦点２
２を通り、対称軸（長軸）２１と所定の角度で交差する
回転軸である。楕円２０を回転軸３０を軸として回転し
たときに楕円２０の太線で示す範囲２０Ａが描く面が図
２の楕円反射凹面１１である。
射装置の一実施例を説明する。本実施例装置の斜視図で
ある図２において、１０は第１の反射鏡であり、中央部
にビーム孔１１ａが形成された環状の楕円反射凹面１１
を備える。この第１の反射鏡１０の形状を図１により説
明する。図１において、１０Ａは第１の反射鏡１０の断
面形状を示し、２０は、対称軸（長軸）２１上に２つの
焦点２２，２３が位置する楕円、３０は、一方の焦点２
２を通り、対称軸（長軸）２１と所定の角度で交差する
回転軸である。楕円２０を回転軸３０を軸として回転し
たときに楕円２０の太線で示す範囲２０Ａが描く面が図
２の楕円反射凹面１１である。
【００１５】図２において、４０は放物線反射凸面４１
を備える第２の反射鏡であり、放物線反射凸面４１は楕
円反射凹面１１と対向して配置されている。この第２の
反射鏡４０の形状を図１により説明する。図１におい
て、４０Ａは第２の反射鏡４０の断面形状を示し、５０
は放物線、５１は放物線５０の対称軸、５２は放物線５
０の焦点であり、焦点５２は楕円２０の一方の焦点２３
と同じ位置に位置し、対称軸５１はその焦点５２を通り
回転軸３０と平行である。放物線５０を回転軸３０を軸
として回転したときに放物線５０の太線で示す範囲５０
Ａが描く面が図２の放物線反射凸面４１である。
を備える第２の反射鏡であり、放物線反射凸面４１は楕
円反射凹面１１と対向して配置されている。この第２の
反射鏡４０の形状を図１により説明する。図１におい
て、４０Ａは第２の反射鏡４０の断面形状を示し、５０
は放物線、５１は放物線５０の対称軸、５２は放物線５
０の焦点であり、焦点５２は楕円２０の一方の焦点２３
と同じ位置に位置し、対称軸５１はその焦点５２を通り
回転軸３０と平行である。放物線５０を回転軸３０を軸
として回転したときに放物線５０の太線で示す範囲５０
Ａが描く面が図２の放物線反射凸面４１である。
【００１６】図１および図２において、６０は光源であ
り、楕円２０の一方の焦点２２に配置され、光源６０か
らの照明光６１は楕円反射凹面１１で集光されて楕円２
０の焦点２３に向う光線６２ａ，６２ｂとして放物線反
射凸面４１に入射する。焦点２３は放物線５０の焦点５
２でもあり、光線６２ａ，６２ｂは放物線反射凸面４１
で反射されて放物線５０の対称軸５１と平行な、すなわ
ち回転軸３０に平行な平行光線６３となってビーム孔１
１ａから出射される。
り、楕円２０の一方の焦点２２に配置され、光源６０か
らの照明光６１は楕円反射凹面１１で集光されて楕円２
０の焦点２３に向う光線６２ａ，６２ｂとして放物線反
射凸面４１に入射する。焦点２３は放物線５０の焦点５
２でもあり、光線６２ａ，６２ｂは放物線反射凸面４１
で反射されて放物線５０の対称軸５１と平行な、すなわ
ち回転軸３０に平行な平行光線６３となってビーム孔１
１ａから出射される。
【００１７】ここで、光源６０からの光線６１のうち最
も外側の光線６１ａは楕円反射凹面１１の外周側で光線
６２ａのように反射し、放物線反射凸面４１の外周側で
回転軸３０に平行な光線６３ａとして反射される。一
方、光源６０からの光線６１のうち最も内側の光線６１
ｂは楕円反射凹面１１の内周側で光線６２ｂのように反
射し、放物線反射凸面４１の中心で回転軸３０に沿った
平行光線６３ｂとして反射される。したがって、中抜け
のない平行光線６３が得られる。
も外側の光線６１ａは楕円反射凹面１１の外周側で光線
６２ａのように反射し、放物線反射凸面４１の外周側で
回転軸３０に平行な光線６３ａとして反射される。一
方、光源６０からの光線６１のうち最も内側の光線６１
ｂは楕円反射凹面１１の内周側で光線６２ｂのように反
射し、放物線反射凸面４１の中心で回転軸３０に沿った
平行光線６３ｂとして反射される。したがって、中抜け
のない平行光線６３が得られる。
【００１８】すなわち、図７，図８に示す従来の微小領
域平行光線照射装置では、楕円の対称軸と回転軸、ある
いは放物線の対称軸と回転軸がそれぞれ重なって回転楕
円面あるいは回転放物線面が形成されているので、中抜
けビームになってしまった。これに対して本実施例で
は、楕円の対称軸（長軸）が回転軸と傾きを持ち、放物
線の対称軸が回転軸と平行とされるため、それぞれの反
射面が軸傾斜楕円反射凹面１１および軸外れ回転放物線
反射凸面４１に形成され、したがって、楕円反射凹面１
１の反射光を放物線反射凸面４１の中心に導くことがで
き、中抜けのない平行光線を得ることができる。
域平行光線照射装置では、楕円の対称軸と回転軸、ある
いは放物線の対称軸と回転軸がそれぞれ重なって回転楕
円面あるいは回転放物線面が形成されているので、中抜
けビームになってしまった。これに対して本実施例で
は、楕円の対称軸（長軸）が回転軸と傾きを持ち、放物
線の対称軸が回転軸と平行とされるため、それぞれの反
射面が軸傾斜楕円反射凹面１１および軸外れ回転放物線
反射凸面４１に形成され、したがって、楕円反射凹面１
１の反射光を放物線反射凸面４１の中心に導くことがで
き、中抜けのない平行光線を得ることができる。
【００１９】光源６０としてレーザ励起プラズマＸ線源
やＺピンチプラズマＸ線源等を使用し、反射凹面１１お
よび反射凸面４１にＸ線反射多層膜コートが施された反
射鏡１０、４０を用いることにより、実験室サイズの微
小領域平行Ｘ線照射装置を得ることができる。なお、光
源６０は電子衝撃式Ｘ線光源や上述のＸ線光源に限定さ
れず、可視光源でもよい。
やＺピンチプラズマＸ線源等を使用し、反射凹面１１お
よび反射凸面４１にＸ線反射多層膜コートが施された反
射鏡１０、４０を用いることにより、実験室サイズの微
小領域平行Ｘ線照射装置を得ることができる。なお、光
源６０は電子衝撃式Ｘ線光源や上述のＸ線光源に限定さ
れず、可視光源でもよい。
【００２０】−第２の実施例− 図３および図４により本発明による微小領域平行光線照
射装置の一実施例を説明する。本実施例装置の斜視図で
ある図４において、１１０は第１の反射鏡であり、中央
部にビーム孔１１１ａが形成された環状の楕円反射凹面
１１１を備える。この第１の反射鏡１１０の形状を図３
により説明する。図３において、１１０Ａは第１の反射
鏡１１０の断面形状を示し、１２０は、対称軸１２１上
に２つの焦点１２２，１２３が位置する楕円、１３０
は、一方の焦点１２２を通り、対称軸１２１と所定の角
度で交差する回転軸である。楕円１２０を回転軸１３０
を軸として回転したときに楕円１２０の太線で示す範囲
１２０Ａが描く面が図４の楕円反射凹面１１１である。
射装置の一実施例を説明する。本実施例装置の斜視図で
ある図４において、１１０は第１の反射鏡であり、中央
部にビーム孔１１１ａが形成された環状の楕円反射凹面
１１１を備える。この第１の反射鏡１１０の形状を図３
により説明する。図３において、１１０Ａは第１の反射
鏡１１０の断面形状を示し、１２０は、対称軸１２１上
に２つの焦点１２２，１２３が位置する楕円、１３０
は、一方の焦点１２２を通り、対称軸１２１と所定の角
度で交差する回転軸である。楕円１２０を回転軸１３０
を軸として回転したときに楕円１２０の太線で示す範囲
１２０Ａが描く面が図４の楕円反射凹面１１１である。
【００２１】図４において、１４０は放物線反射凹面１
４１を備える第２の反射鏡であり、放物線反射凹面１４
１は楕円反射凹面１１１と対向して配置されている。こ
の第２の反射鏡１４０の形状を図３により説明する。図
３において、１４０Ａは第２の反射鏡１４０の断面形状
を示し、１５０は放物線、１５１は放物線１５０の対称
軸、１５２は放物線１５０の焦点であり、焦点１５２は
楕円１２０の一方の焦点１２３と同じ位置に位置し、対
称軸１５１はその焦点１５２を通り回転軸１３０と平行
である。放物線１５０を回転軸１３０を軸として回転し
たときに放物線１５０の太線で示す範囲１５０Ａが描く
面が図４の放物線反射凹面１４１である。
４１を備える第２の反射鏡であり、放物線反射凹面１４
１は楕円反射凹面１１１と対向して配置されている。こ
の第２の反射鏡１４０の形状を図３により説明する。図
３において、１４０Ａは第２の反射鏡１４０の断面形状
を示し、１５０は放物線、１５１は放物線１５０の対称
軸、１５２は放物線１５０の焦点であり、焦点１５２は
楕円１２０の一方の焦点１２３と同じ位置に位置し、対
称軸１５１はその焦点１５２を通り回転軸１３０と平行
である。放物線１５０を回転軸１３０を軸として回転し
たときに放物線１５０の太線で示す範囲１５０Ａが描く
面が図４の放物線反射凹面１４１である。
【００２２】図３および図４において、１６０は光源で
あり、楕円１２０の一方の焦点１２２に配置され、光源
１６０からの照明光１６１は楕円反射凹面１１１で集光
されて楕円１２０の焦点１２３に向う光線１６２ａ，１
６２ｂとして放物線反射凹面１４１に入射する。焦点１
２３は放物線１５０の焦点１５２でもあり、光線１６２
ａ，１６２ｂは放物線反射凹面１４１で反射されて放物
線１５０の対称軸１５１と平行な、すなわち回転軸１３
０に平行な平行光線１６３となってビーム孔１１１ａか
ら出射される。
あり、楕円１２０の一方の焦点１２２に配置され、光源
１６０からの照明光１６１は楕円反射凹面１１１で集光
されて楕円１２０の焦点１２３に向う光線１６２ａ，１
６２ｂとして放物線反射凹面１４１に入射する。焦点１
２３は放物線１５０の焦点１５２でもあり、光線１６２
ａ，１６２ｂは放物線反射凹面１４１で反射されて放物
線１５０の対称軸１５１と平行な、すなわち回転軸１３
０に平行な平行光線１６３となってビーム孔１１１ａか
ら出射される。
【００２３】ここで、光源１６０からの光線１６１のう
ち最も内側の光線１６１ｂは楕円反射凹面１１１の内周
側で光線１６２ｂのように反射し、放物線反射凹面１４
１の外周側で回転軸１３０に平行な光線１６３ｂとして
反射される。一方、光源１６０からの光線１６１のうち
最も外側の光線１６１ａは楕円反射凹面１１１の外周側
で光線１６２ａのように反射し、放物線反射凹面１４１
の中心で回転軸１３０に沿った平行光線１６３ａとして
反射される。したがって、中抜けのない平行光線１６３
が得られる。
ち最も内側の光線１６１ｂは楕円反射凹面１１１の内周
側で光線１６２ｂのように反射し、放物線反射凹面１４
１の外周側で回転軸１３０に平行な光線１６３ｂとして
反射される。一方、光源１６０からの光線１６１のうち
最も外側の光線１６１ａは楕円反射凹面１１１の外周側
で光線１６２ａのように反射し、放物線反射凹面１４１
の中心で回転軸１３０に沿った平行光線１６３ａとして
反射される。したがって、中抜けのない平行光線１６３
が得られる。
【００２４】すなわち、本実施例では、楕円の対称軸
（長軸）が回転軸と傾きを持ち、放物線の対称軸が回転
軸と平行とされるため、それぞれの反射面が軸傾斜楕円
反射凹面１１１および軸外れ回転放物線反射凹面１４１
に形成され、したがって、楕円反射凹面１１１の反射光
を放物線反射凹面１４１の中心に導くことができ、中抜
けのない平行光線を得ることができる。
（長軸）が回転軸と傾きを持ち、放物線の対称軸が回転
軸と平行とされるため、それぞれの反射面が軸傾斜楕円
反射凹面１１１および軸外れ回転放物線反射凹面１４１
に形成され、したがって、楕円反射凹面１１１の反射光
を放物線反射凹面１４１の中心に導くことができ、中抜
けのない平行光線を得ることができる。
【００２５】
【発明の効果】本発明の微小領域平行Ｘ線照射装置によ
れば、軸傾斜楕円凹面と軸外れ回転放物線凸面をそれぞ
れ反射面とする一対の反射鏡あるいは、軸傾斜楕円凹面
と軸外れ回転放物線凹面をそれぞれ反射面とする一対の
反射鏡を組合せた構成としたので、高強度で中抜けのな
い平行光線が得られる。また、請求項３のように光源を
プラズマＸ線源とし、Ｘ線反射多重鏡を用いることによ
り、実験室規模のコンパクトな微小領域平行光線照射装
置を提供することができる。
れば、軸傾斜楕円凹面と軸外れ回転放物線凸面をそれぞ
れ反射面とする一対の反射鏡あるいは、軸傾斜楕円凹面
と軸外れ回転放物線凹面をそれぞれ反射面とする一対の
反射鏡を組合せた構成としたので、高強度で中抜けのな
い平行光線が得られる。また、請求項３のように光源を
プラズマＸ線源とし、Ｘ線反射多重鏡を用いることによ
り、実験室規模のコンパクトな微小領域平行光線照射装
置を提供することができる。
【図１】本発明の微小領域平行光線照射装置の第１の実
施例を示す一部断面図である。
施例を示す一部断面図である。
【図２】第１の実施例を示す斜視図である。
【図３】本発明の微小領域平行光線照射装置の第２の実
施例を示す一部断面図である。
施例を示す一部断面図である。
【図４】第２の実施例を示す斜視図である。
【図５】Ｘ線位相差顕微鏡の光学配置を示す図であり、
図５（Ａ）は配置図、図５（Ｂ）は図５（Ａ）における
Ｉの部分を示す拡大図である。
図５（Ａ）は配置図、図５（Ｂ）は図５（Ａ）における
Ｉの部分を示す拡大図である。
【図６】従来の平行光線照射装置を示す図であり、図６
（Ａ）は一部断面図、図６（Ｂ）は一部斜視図である。
（Ａ）は一部断面図、図６（Ｂ）は一部斜視図である。
【図７】従来の微小領域平行光線照射装置を示す断面図
である。
である。
【図８】従来の微小領域平行光線照射装置の別の例を示
す断面図である。
す断面図である。
１０ 第１の反射鏡 １１ 反射面 ２０ 楕円 ２１ 長軸 ２２ 焦点 ２３ 焦点 ３０ 回転軸 ４０ 第２の反射鏡 ４１ 反射面 ５０ 放物線 ５１ 対称軸 ５２ 焦点 ６０ 微小光源 ６１ 光線 ６３ 平行光 １１０ 第１の反射鏡 １１１ 反射面 １２０ 楕円 １２１ 長軸 １２２ 焦点 １２３ 焦点 １３０ 回転軸 １４０ 第２の反射鏡 １４１ 反射面 １５０ 放物線 １５１ 対称軸 １５２ 焦点 １６０ 微小光源 １６１ 光線 １６３ 平行光
Claims (3)
- 【請求項１】 一の焦点を回転軸上に有し長軸が前記回
転軸と傾いた楕円を前記回転軸を中心として１回転させ
たときに掃く面の凹面の一部を反射面とする第１の反射
鏡と、 焦点が前記楕円の他の焦点と一致し対称軸が前記回転軸
と平行な放物線を前記回転軸を中心として１回転させた
ときに掃く面の凸面の一部を反射面とし、この反射凸面
を前記反射凹面と対向配置した第２の反射鏡と、 前記一の焦点に設けられた微小光源とを備え、 前記微小光源からの光線が前記第１の反射鏡および第２
の反射鏡により順次反射されて平行光に変換されること
を特徴とする微小領域平行光線照射装置。 - 【請求項２】 一の焦点を回転軸上に有し長軸が前記回
転軸と傾いた楕円を前記回転軸を中心として１回転させ
たときに掃く面の凹面の一部を反射面とする第１の反射
鏡と、 焦点が前記楕円の他の焦点と一致し対称軸が前記回転軸
と平行な放物線を前記回転軸を中心として１回転させた
ときに掃く面の凹面の一部を反射面とし、この反射面を
前記反射凹面と対向配置した第２の反射鏡と、 前記一の焦点に設けられた微小光源とを備え、 前記微小光源からの光線が前記第１の反射鏡および第２
の反射鏡により順次反射されて平行光に変換されること
を特徴とする微小領域平行光線照射装置。 - 【請求項３】 前記第１の反射鏡および第２の反射鏡が
Ｘ線反射多層鏡であり、かつ、微小光源がプラズマＸ線
源であることを特徴とする請求項１または２に記載の微
小領域平行光線照射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7055752A JPH08247967A (ja) | 1995-03-15 | 1995-03-15 | 微小領域平行光線照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7055752A JPH08247967A (ja) | 1995-03-15 | 1995-03-15 | 微小領域平行光線照射装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08247967A true JPH08247967A (ja) | 1996-09-27 |
Family
ID=13007587
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7055752A Pending JPH08247967A (ja) | 1995-03-15 | 1995-03-15 | 微小領域平行光線照射装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08247967A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2789217A1 (fr) * | 1999-02-01 | 2000-08-04 | Pierre Marie | Generateur de puissance electrique |
| JP2001267096A (ja) * | 2000-03-24 | 2001-09-28 | Nikon Corp | Ｘ線発生装置 |
| JP2011522256A (ja) * | 2008-05-30 | 2011-07-28 | リガク イノベイティブ テクノロジーズ インコーポレイテッド | 高強度ｘ線ビームシステム |
| KR20220081471A (ko) * | 2020-12-09 | 2022-06-16 | 한국원자력연구원 | 타원과 포물선 반사체를 이용한 광 집속 장치 |
-
1995
- 1995-03-15 JP JP7055752A patent/JPH08247967A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2789217A1 (fr) * | 1999-02-01 | 2000-08-04 | Pierre Marie | Generateur de puissance electrique |
| JP2001267096A (ja) * | 2000-03-24 | 2001-09-28 | Nikon Corp | Ｘ線発生装置 |
| JP4505664B2 (ja) * | 2000-03-24 | 2010-07-21 | 株式会社ニコン | Ｘ線発生装置 |
| JP2011522256A (ja) * | 2008-05-30 | 2011-07-28 | リガク イノベイティブ テクノロジーズ インコーポレイテッド | 高強度ｘ線ビームシステム |
| KR20220081471A (ko) * | 2020-12-09 | 2022-06-16 | 한국원자력연구원 | 타원과 포물선 반사체를 이용한 광 집속 장치 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7119953B2 (en) | Phase contrast microscope for short wavelength radiation and imaging method | |
| US5162941A (en) | Confocal microscope | |
| US7406151B1 (en) | X-ray microscope with microfocus source and Wolter condenser | |
| US4802748A (en) | Confocal tandem scanning reflected light microscope | |
| TWI379104B (en) | Illuminator for dark field inspection | |
| US5204887A (en) | X-ray microscope | |
| EP0459833B1 (en) | X-ray microscope | |
| US6128364A (en) | Condenser-monochromator arrangement for X-radiation | |
| WO1999042905A1 (en) | Reflective optical imaging system | |
| JPH08247967A (ja) | 微小領域平行光線照射装置 | |
| JP3234183B2 (ja) | 光散乱強度測定装置 | |
| JP3141660B2 (ja) | Ｘ線照射装置 | |
| JP2003527752A (ja) | 超高分解能イメージング・デバイス | |
| JP2515893B2 (ja) | 結像型ｘ線顕微鏡 | |
| JPH08146199A (ja) | 平行ｘ線照射装置 | |
| JP5652310B2 (ja) | 顕微鏡装置 | |
| JPH0511600B2 (ja) | ||
| JPH11195580A (ja) | 半導体露光装置及び露光方法 | |
| WO2023210793A1 (ja) | ベッセルビーム発生装置及びそれを用いた光走査装置 | |
| JPH1073698A (ja) | レーザプラズマｘ線用真空紫外分光器 | |
| JPH06160723A (ja) | 暗視野照明装置 | |
| CN117420670A (zh) | 红外共聚焦成像系统 | |
| JPH0618700A (ja) | Ｘ線モノクロメータ | |
| JPH07167994A (ja) | Ｘ線光学系 | |
| JPH087331B2 (ja) | 赤外吸収スペクトル測定顕微鏡装置 |