JPH07167994A - Ｘ線光学系 - Google Patents
Ｘ線光学系Info
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- JPH07167994A JPH07167994A JP5341191A JP34119193A JPH07167994A JP H07167994 A JPH07167994 A JP H07167994A JP 5341191 A JP5341191 A JP 5341191A JP 34119193 A JP34119193 A JP 34119193A JP H07167994 A JPH07167994 A JP H07167994A
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- JP
- Japan
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- ray
- optical system
- zone plate
- sample
- reflecting mirror
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 Ｘ線顕微鏡などの拡大光学系に用いた場合に
高分解能かつ高倍率のＸ線像が得られるようなＸ線光学
系を提供する。 【構成】 試料のＸ線像を拡大する斜入射反射型光学部
材と、該光学部材によって形成された中間像をさらに拡
大するゾーンプレートとを備えたＸ線光学系。また、前
記Ｘ線光学系の斜入射反射型光学部材とゾーンプレート
の光軸に沿った配置を反転してなるＸ線マイクロビーム
照射装置用のＸ線光学系。
高分解能かつ高倍率のＸ線像が得られるようなＸ線光学
系を提供する。 【構成】 試料のＸ線像を拡大する斜入射反射型光学部
材と、該光学部材によって形成された中間像をさらに拡
大するゾーンプレートとを備えたＸ線光学系。また、前
記Ｘ線光学系の斜入射反射型光学部材とゾーンプレート
の光軸に沿った配置を反転してなるＸ線マイクロビーム
照射装置用のＸ線光学系。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、Ｘ線顕微鏡などの拡大
光学系やＸ線マイクロビーム照射装置に用いられるＸ線
光学系に関するものである。
光学系やＸ線マイクロビーム照射装置に用いられるＸ線
光学系に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、急速に進歩している医学や生物工
学の分野では、通常の可視光（波長λ＝約400nm 〜800n
m ）を用いる顕微鏡よりも分解能が高く、しかも、例え
ば、細胞、バクテリア、精子、染色体、ミトコンドリ
ア、べん毛などの生きた試料（以下、生物試料と記す）
をも鮮明に観察することのできる高解像度顕微鏡を要求
する声が日増しに高まっている。
学の分野では、通常の可視光（波長λ＝約400nm 〜800n
m ）を用いる顕微鏡よりも分解能が高く、しかも、例え
ば、細胞、バクテリア、精子、染色体、ミトコンドリ
ア、べん毛などの生きた試料（以下、生物試料と記す）
をも鮮明に観察することのできる高解像度顕微鏡を要求
する声が日増しに高まっている。
【０００３】これは、従来の高解像度電子顕微鏡では、
空間分解能は高いが電子線が透過する窓材が存在しない
ために真空中に試料を置かなければならず、上記の如き
生物試料を生きたままで観察することができなかったた
め、生きたままの試料を高分解能で観察できる可能性を
持つＸ線顕微鏡が注目されている。具体的には、波長λ
＝２〜５ｎｍの軟Ｘ線を用いるＸ線顕微鏡が検討され、
開発されつつある。
空間分解能は高いが電子線が透過する窓材が存在しない
ために真空中に試料を置かなければならず、上記の如き
生物試料を生きたままで観察することができなかったた
め、生きたままの試料を高分解能で観察できる可能性を
持つＸ線顕微鏡が注目されている。具体的には、波長λ
＝２〜５ｎｍの軟Ｘ線を用いるＸ線顕微鏡が検討され、
開発されつつある。
【０００４】このような従来のＸ線顕微鏡の一例とし
て、図３に簡単な構造と光学系を示す。このＸ線顕微鏡
では、排気装置１１０によって減圧された鏡筒用真空容
器１００内において、Ｘ線源１０１から出射したＸ線
は、照明光学系１０２で集光されて、試料カプセル１０
３を照射する。そして、試料カプセル１０３を透過した
Ｘ線は、結像光学系１０４により、試料１０６の像を撮
像装置１０５上に結像させる。Ｘ線源１０１から撮像装
置１０５までの光路長は、例えば２ｍ程度である。
て、図３に簡単な構造と光学系を示す。このＸ線顕微鏡
では、排気装置１１０によって減圧された鏡筒用真空容
器１００内において、Ｘ線源１０１から出射したＸ線
は、照明光学系１０２で集光されて、試料カプセル１０
３を照射する。そして、試料カプセル１０３を透過した
Ｘ線は、結像光学系１０４により、試料１０６の像を撮
像装置１０５上に結像させる。Ｘ線源１０１から撮像装
置１０５までの光路長は、例えば２ｍ程度である。
【０００５】このようなＸ線顕微鏡の結像光学系１０４
には、図４に示すようなウォルター型等の斜入射反射鏡
や、図５に示すゾーンプレートが用いられている。
には、図４に示すようなウォルター型等の斜入射反射鏡
や、図５に示すゾーンプレートが用いられている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
如きＸ線顕微鏡に用いられているＸ線光学素子は、各々
優れた特徴を備えている一方で欠点をも有するものであ
る。例えばウォルター型と呼ばれる斜入射反射鏡では、
図４に示すように回転双曲面Ａと回転楕円面Ｂとで構成
されている。この斜入射反射鏡の分解能Ｒは以下の式に
示すように斜入射鏡のＮＡで決まる。 Ｒ＝ｋλ／ＮＡ
如きＸ線顕微鏡に用いられているＸ線光学素子は、各々
優れた特徴を備えている一方で欠点をも有するものであ
る。例えばウォルター型と呼ばれる斜入射反射鏡では、
図４に示すように回転双曲面Ａと回転楕円面Ｂとで構成
されている。この斜入射反射鏡の分解能Ｒは以下の式に
示すように斜入射鏡のＮＡで決まる。 Ｒ＝ｋλ／ＮＡ
【０００７】ここで、λはＸ線の波長、ｋは約０．６で
ある。例えば波長２．３ｎｍ、ＮＡ＝０．２程度とする
と、原理的には分解能Ｒは６．９ｎｍである。このよう
に、斜入射反射鏡は分解能が高く、Ｘ線の伝達効率が良
い明るい光学系という利点がある。
ある。例えば波長２．３ｎｍ、ＮＡ＝０．２程度とする
と、原理的には分解能Ｒは６．９ｎｍである。このよう
に、斜入射反射鏡は分解能が高く、Ｘ線の伝達効率が良
い明るい光学系という利点がある。
【０００８】しかしながら、この様な斜入射反射鏡の光
学系では、高倍率になるにつれて急速に収差が大きくな
り、視野が制限される。現在、倍率３２倍程度のものが
得られているが、Ｘ線顕微鏡などに応用する場合には、
光学系の倍率が低いという問題があり、Ｘ線像を撮像す
る検出器に、空間分解能の高いものを選ぶ必要があっ
た。
学系では、高倍率になるにつれて急速に収差が大きくな
り、視野が制限される。現在、倍率３２倍程度のものが
得られているが、Ｘ線顕微鏡などに応用する場合には、
光学系の倍率が低いという問題があり、Ｘ線像を撮像す
る検出器に、空間分解能の高いものを選ぶ必要があっ
た。
【０００９】また、ゾーンプレートは、図５に示すよう
な形態をしており、Ｘ線に対して透明、不透明の同心円
状の輪帯によって構成されている。この輪帯のｎ番目の
境界の半径ｒn が、 ｒn ＝（ｎλｆ）１／２ ｎ＝１，２，・・・，Ｎ の条件を満たすとき、このゾーンプレートは、レンズ作
用を示し、Ｘ線像を拡大する。ゾーンプレートの倍率
は、試料とゾーンプレートの距離ａと、ゾーンプレート
と結像面との距離ｂの比によって決まり、倍率Ｍ＝ｂ／
ａである。ゾーンプレートの分解能Ｒは、原理的にゾー
ンの最小線幅によって制限され、以下の式で表される。 Ｒ＝１．２２ｒn
な形態をしており、Ｘ線に対して透明、不透明の同心円
状の輪帯によって構成されている。この輪帯のｎ番目の
境界の半径ｒn が、 ｒn ＝（ｎλｆ）１／２ ｎ＝１，２，・・・，Ｎ の条件を満たすとき、このゾーンプレートは、レンズ作
用を示し、Ｘ線像を拡大する。ゾーンプレートの倍率
は、試料とゾーンプレートの距離ａと、ゾーンプレート
と結像面との距離ｂの比によって決まり、倍率Ｍ＝ｂ／
ａである。ゾーンプレートの分解能Ｒは、原理的にゾー
ンの最小線幅によって制限され、以下の式で表される。 Ｒ＝１．２２ｒn
【００１０】現在、高分解能ゾーンプレートは、電子ビ
ーム露光によって製作されるが、様々な要因によって最
小線幅３０ｎｍ程度に制限されている。従って、最高分
解能Ｒも３６．６ｎｍ程度と斜入射反射鏡に比べて非常
に低いものに留まっている。さらに最小線幅を微細にし
ようとすればするほど、さらに精度の良い電子ビーム露
光装置など、かなり大がかりな設備を必要とし、実現は
困難である。
ーム露光によって製作されるが、様々な要因によって最
小線幅３０ｎｍ程度に制限されている。従って、最高分
解能Ｒも３６．６ｎｍ程度と斜入射反射鏡に比べて非常
に低いものに留まっている。さらに最小線幅を微細にし
ようとすればするほど、さらに精度の良い電子ビーム露
光装置など、かなり大がかりな設備を必要とし、実現は
困難である。
【００１１】この様に、Ｘ線顕微鏡の実現に向けてＸ線
光学素子の開発がなされてきているが、上記に述べたよ
うにＸ線拡大光学系では、斜入射反射鏡を用いると分解
能は高いが倍率が低く、ゾーンプレートを用いた場合
は、高倍率は得られるが分解能を向上させるための微細
パターンの実現が非常に困難であるという問題点があっ
た。
光学素子の開発がなされてきているが、上記に述べたよ
うにＸ線拡大光学系では、斜入射反射鏡を用いると分解
能は高いが倍率が低く、ゾーンプレートを用いた場合
は、高倍率は得られるが分解能を向上させるための微細
パターンの実現が非常に困難であるという問題点があっ
た。
【００１２】本発明は、上記問題点を解消し、Ｘ線顕微
鏡などの拡大光学系に用いた場合に高分解能かつ高倍率
のＸ線像が得られるようなＸ線光学系を提供することを
目的とする。
鏡などの拡大光学系に用いた場合に高分解能かつ高倍率
のＸ線像が得られるようなＸ線光学系を提供することを
目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１に記載の発明に係るＸ線顕微鏡では、試料
のＸ線像を拡大する斜入射反射型光学部材と、該光学部
材によって形成された中間像をさらに拡大するゾーンプ
レートとを備えたものである。
め、請求項１に記載の発明に係るＸ線顕微鏡では、試料
のＸ線像を拡大する斜入射反射型光学部材と、該光学部
材によって形成された中間像をさらに拡大するゾーンプ
レートとを備えたものである。
【００１４】また、請求項２に記載のＸ線マイクロビー
ム照射装置用のＸ線光学系では、請求項１に記載のＸ線
光学系の前記斜入射反射型光学部材と前記ゾーンプレー
トの光軸に沿った配置を反転してなるものである。
ム照射装置用のＸ線光学系では、請求項１に記載のＸ線
光学系の前記斜入射反射型光学部材と前記ゾーンプレー
トの光軸に沿った配置を反転してなるものである。
【００１５】
【作用】本発明は、例えば、斜入射反射鏡などの斜入射
反射型光学部材とゾーンプレートとからなるＸ線光学系
である。このＸ線光学系を拡大光学系に用いた場合、低
倍率・高分解能の斜入射反射型光学部材によって試料の
Ｘ線像を一旦拡大した後、この中間像をゾーンプレート
によってさらに拡大することができる。この時、斜入射
反射型光学部材による中間像は、これをさらに拡大する
ゾーンプレートにとって、ゾーンプレートの分解能でも
見ることができる、即ち斜入射反射型光学部材による解
像度を再現できるほどに拡大されている。従って、本発
明のＸ線学系によれば、斜入射反射型光学部材による高
い分解能でかつゾーンプレートによる高倍率の試料拡大
像を得ることが可能となる。
反射型光学部材とゾーンプレートとからなるＸ線光学系
である。このＸ線光学系を拡大光学系に用いた場合、低
倍率・高分解能の斜入射反射型光学部材によって試料の
Ｘ線像を一旦拡大した後、この中間像をゾーンプレート
によってさらに拡大することができる。この時、斜入射
反射型光学部材による中間像は、これをさらに拡大する
ゾーンプレートにとって、ゾーンプレートの分解能でも
見ることができる、即ち斜入射反射型光学部材による解
像度を再現できるほどに拡大されている。従って、本発
明のＸ線学系によれば、斜入射反射型光学部材による高
い分解能でかつゾーンプレートによる高倍率の試料拡大
像を得ることが可能となる。
【００１６】なお、ゾーンプレートによる分解能は、斜
入射反射型光学部材の分解能（ここでは分解できる極限
の距離とする）がこれによって拡大された後の距離より
細かい必要はないので、ゾーンプレートのみをＸ線光学
系に用いていた従来のようにゾーンプレート自身に高分
解能を求める必要がない。従って、本発明に用いるゾー
ンプレートは、精度の良い電子ビーム露光装置などのか
なり大がかりな設備によって微細な線幅を高精度に形成
する必要はなく、製作も比較的容易となる。
入射反射型光学部材の分解能（ここでは分解できる極限
の距離とする）がこれによって拡大された後の距離より
細かい必要はないので、ゾーンプレートのみをＸ線光学
系に用いていた従来のようにゾーンプレート自身に高分
解能を求める必要がない。従って、本発明に用いるゾー
ンプレートは、精度の良い電子ビーム露光装置などのか
なり大がかりな設備によって微細な線幅を高精度に形成
する必要はなく、製作も比較的容易となる。
【００１７】また請求項２に記載の本発明は、Ｘ線マイ
クロビーム照射装置に、請求項１に記載のＸ線光学系の
前記斜入射反射型光学部材と前記ゾーンプレートの光軸
に沿った配置を反転して用いるものである。このような
マイクロビーム照射光学系では、まずゾーンプレートに
よって高倍率で集光されたＸ線ビームを高分解能の斜入
射反射型光学部材によって鮮明なＸ線スポットとして試
料面上に集光することができる。従って、例えばこのＸ
線スポットによって試料面上を走査すれば、高解像度で
鮮明な試料像を得ることができる。
クロビーム照射装置に、請求項１に記載のＸ線光学系の
前記斜入射反射型光学部材と前記ゾーンプレートの光軸
に沿った配置を反転して用いるものである。このような
マイクロビーム照射光学系では、まずゾーンプレートに
よって高倍率で集光されたＸ線ビームを高分解能の斜入
射反射型光学部材によって鮮明なＸ線スポットとして試
料面上に集光することができる。従って、例えばこのＸ
線スポットによって試料面上を走査すれば、高解像度で
鮮明な試料像を得ることができる。
【００１８】
【実施例】以下に、本発明を実施例を以て説明する。ま
ず、本発明の一実施例によるＸ線光学系を結像型Ｘ線顕
微鏡に応用した場合を図１に示す。このＸ線顕微鏡は、
Ｘ線源１、照明光学系２、試料３、斜入射反射鏡４およ
びゾーンプレート５からなるＸ線拡大光学系、検出器６
からなっており、ここでは、Ｘ線顕微鏡の鏡筒用真空容
器内の配置を示した。
ず、本発明の一実施例によるＸ線光学系を結像型Ｘ線顕
微鏡に応用した場合を図１に示す。このＸ線顕微鏡は、
Ｘ線源１、照明光学系２、試料３、斜入射反射鏡４およ
びゾーンプレート５からなるＸ線拡大光学系、検出器６
からなっており、ここでは、Ｘ線顕微鏡の鏡筒用真空容
器内の配置を示した。
【００１９】図１において、Ｘ線源１から発生したＸ線
を照明光学系２によって試料３上に集光、照明し、その
試料３のＸ線像を斜入射反射鏡４によって一旦拡大す
る。斜入射反射鏡４によって拡大された中間像を、ゾー
ンプレート５によってさらに拡大して撮像装置６によっ
て撮像する。
を照明光学系２によって試料３上に集光、照明し、その
試料３のＸ線像を斜入射反射鏡４によって一旦拡大す
る。斜入射反射鏡４によって拡大された中間像を、ゾー
ンプレート５によってさらに拡大して撮像装置６によっ
て撮像する。
【００２０】ここで、本実施例において、例えば用いる
Ｘ線を波長λ＝２．３ｎｍ、斜入射反射鏡４としてＮＡ
＝０．２で倍率２０倍、分解能Ｒ＝６．９ｎｍのものを
用いた場合のＸ線拡大光学系について説明する。
Ｘ線を波長λ＝２．３ｎｍ、斜入射反射鏡４としてＮＡ
＝０．２で倍率２０倍、分解能Ｒ＝６．９ｎｍのものを
用いた場合のＸ線拡大光学系について説明する。
【００２１】まず、試料３の像は、斜入射反射鏡４によ
って中間像ｙの位置で２０倍に拡大され、斜入射反射鏡
４の分解能として示されている分解可能な極限距離Ｒ＝
６．９ｎｍも１３８ｎｍになる。その中間像ｙは、さら
にゾーンプレート５の高倍率によって拡大されるが、こ
の際、ゾーンプレート５の分解能は、中間像ｙでの拡大
された分解能の距離１３８ｎｍより細かい必要はない。
って中間像ｙの位置で２０倍に拡大され、斜入射反射鏡
４の分解能として示されている分解可能な極限距離Ｒ＝
６．９ｎｍも１３８ｎｍになる。その中間像ｙは、さら
にゾーンプレート５の高倍率によって拡大されるが、こ
の際、ゾーンプレート５の分解能は、中間像ｙでの拡大
された分解能の距離１３８ｎｍより細かい必要はない。
【００２２】なおゾーンプレート５の開口数ＮＡZ は斜
入射反射鏡４の像面側開口数ＮＡ2と合わせておく。斜
入射反射鏡４の像面側開口数ＮＡ2 は、物体側開口数Ｎ
Ａ1と倍率Ｍより以下の式で表せる。 ＮＡ2 ＝ＮＡ1 ／Ｍ この場合、斜入射反射鏡４の物体側開口数ＮＡ1 ＝０．
２、倍率Ｍ＝２０であるので像面側開口数ＮＡ2 ＝０．
０１である。
入射反射鏡４の像面側開口数ＮＡ2と合わせておく。斜
入射反射鏡４の像面側開口数ＮＡ2 は、物体側開口数Ｎ
Ａ1と倍率Ｍより以下の式で表せる。 ＮＡ2 ＝ＮＡ1 ／Ｍ この場合、斜入射反射鏡４の物体側開口数ＮＡ1 ＝０．
２、倍率Ｍ＝２０であるので像面側開口数ＮＡ2 ＝０．
０１である。
【００２３】一方、ゾーンプレート５の開口数ＮＡZ は
最小線幅により決定され、最外周輪帯（ゾーン）までの
半径をｒN 、焦点距離をｆとすると以下の関係がある。 ＮＡZ ＝ｓｉｎ（ｒN ／ｆ）≒ｒN ／ｆ ｒN ＝ＮＡz ・ｆ 従って、ゾーンプレート５をｆ＝１０ｍｍのものとする
と、ｒN ＝０．１ｍｍとなる。また、Ｎ＝ｒN 2／（ｆ
λ）より、ゾーンプレート５のゾーン数はＮ＝４３５と
なる。最小線幅δｒN は、以下の式で求められる。 δｒN ＝ｒN −ｒN-1 ≒ｒN ／２Ｎ 従って、最小線幅はδｒN ＝０．１μｍとなる。
最小線幅により決定され、最外周輪帯（ゾーン）までの
半径をｒN 、焦点距離をｆとすると以下の関係がある。 ＮＡZ ＝ｓｉｎ（ｒN ／ｆ）≒ｒN ／ｆ ｒN ＝ＮＡz ・ｆ 従って、ゾーンプレート５をｆ＝１０ｍｍのものとする
と、ｒN ＝０．１ｍｍとなる。また、Ｎ＝ｒN 2／（ｆ
λ）より、ゾーンプレート５のゾーン数はＮ＝４３５と
なる。最小線幅δｒN は、以下の式で求められる。 δｒN ＝ｒN −ｒN-1 ≒ｒN ／２Ｎ 従って、最小線幅はδｒN ＝０．１μｍとなる。
【００２４】以上のように、本実施例で用いるゾーンプ
レート５としては、ゾーン数Ｎ＝４３５、半径ｒN ＝
０．１ｍｍ、最小線幅δｒN ＝０．１μｍ程度のものが
望ましい。この程度のゾーンプレートであれば、従来の
高分解能、微細線幅が求められたゾーンプレートに比べ
れば製作が容易である。
レート５としては、ゾーン数Ｎ＝４３５、半径ｒN ＝
０．１ｍｍ、最小線幅δｒN ＝０．１μｍ程度のものが
望ましい。この程度のゾーンプレートであれば、従来の
高分解能、微細線幅が求められたゾーンプレートに比べ
れば製作が容易である。
【００２５】このようなゾーンプレート５によって、中
間像を例えば５００倍に拡大する構成とすれば、本実施
例のＸ線拡大光学系においては分解能６．９ｎｍで１０
０００倍の像が得られることとなる。
間像を例えば５００倍に拡大する構成とすれば、本実施
例のＸ線拡大光学系においては分解能６．９ｎｍで１０
０００倍の像が得られることとなる。
【００２６】なお、照明光学系２としては、拡大光学系
の斜入射反射鏡４の開口数ＮＡに合わせたものが望まし
く、本実施例では、図１に示したように、ＮＡ＝０．２
の斜入射反射鏡を用いた。もちろん、本発明はこれに限
るものではない。
の斜入射反射鏡４の開口数ＮＡに合わせたものが望まし
く、本実施例では、図１に示したように、ＮＡ＝０．２
の斜入射反射鏡を用いた。もちろん、本発明はこれに限
るものではない。
【００２７】次に、請求項２に記載の発明の一実施例に
よるＸ線光学系を、走査型Ｘ線顕微鏡のマイクロビーム
光学系に組み込んだ場合を第２の実施例として図２に示
す。本実施例のＸ線光学系は、前記第１の実施例で示し
た斜入射反射鏡とゾーンプレートとの光軸に沿った配置
を反転させたものである。
よるＸ線光学系を、走査型Ｘ線顕微鏡のマイクロビーム
光学系に組み込んだ場合を第２の実施例として図２に示
す。本実施例のＸ線光学系は、前記第１の実施例で示し
た斜入射反射鏡とゾーンプレートとの光軸に沿った配置
を反転させたものである。
【００２８】図２において、Ｘ線源１１から発したＸ線
は、ゾーンプレート１２によってピンホール１３上に集
光される。このゾーンプレート１２とピンホール１３の
光学系によって、Ｘ線源より発したＸ線は単色化され
る。さらに、ピンホール１３の像を斜入射反射鏡１４に
より縮小し、試料１５をスポット状に照射する。この状
態で、駆動機構（不図示）によって試料ステージ１６を
Ｘ−Ｙ方向に移動させることによってＸ線スポットは試
料１５面上を走査する。Ｘ線検出器１９あるいは半導体
検出器１７、光電子検出器１８などからの信号をマッピ
ングする事により試料１５面像が得られる。
は、ゾーンプレート１２によってピンホール１３上に集
光される。このゾーンプレート１２とピンホール１３の
光学系によって、Ｘ線源より発したＸ線は単色化され
る。さらに、ピンホール１３の像を斜入射反射鏡１４に
より縮小し、試料１５をスポット状に照射する。この状
態で、駆動機構（不図示）によって試料ステージ１６を
Ｘ−Ｙ方向に移動させることによってＸ線スポットは試
料１５面上を走査する。Ｘ線検出器１９あるいは半導体
検出器１７、光電子検出器１８などからの信号をマッピ
ングする事により試料１５面像が得られる。
【００２９】なお、第２の実施例では、走査型Ｘ線顕微
鏡のマイクロビーム光学系に本発明のＸ線光学系を用い
た場合を説明したが、その他、蛍光顕微鏡など、Ｘ線光
学系を用いた各種分析装置に使用可能である。
鏡のマイクロビーム光学系に本発明のＸ線光学系を用い
た場合を説明したが、その他、蛍光顕微鏡など、Ｘ線光
学系を用いた各種分析装置に使用可能である。
【００３０】
【発明の効果】以上に説明した通り、本発明によれば、
簡便な構成でありながら、高分解能かつ高倍率のＸ線光
学系装置が得られる。また、本発明の光学系に用いられ
るゾーンプレートは、従来のものに比べて製作が容易で
あるので、時間的にもコスト的にも本発明によるＸ線光
学系の設計は効率的となる。
簡便な構成でありながら、高分解能かつ高倍率のＸ線光
学系装置が得られる。また、本発明の光学系に用いられ
るゾーンプレートは、従来のものに比べて製作が容易で
あるので、時間的にもコスト的にも本発明によるＸ線光
学系の設計は効率的となる。
【図１】本発明の第１の実施例によるＸ線顕微鏡の概略
構成図である。
構成図である。
【図２】本発明の第２の実施例による走査型Ｘ線顕微鏡
の概略構成図である。
の概略構成図である。
【図３】従来技術によるＸ線顕微鏡の概略構成図であ
る。
る。
【図４】ウォルター型斜入射反射鏡の説明図である。
【図５】ゾーンプレートを説明する模式図である。
１，１１，１０１：Ｘ線源 ２，１０２：照明用光学系 ３，１５，１０６：試料 ４，１４：斜入射反射鏡 ５，１２：ゾーンプレート ６：撮像装置 １３：ピンホール １６：試料ステージ １７：光電子検出器 １８：半導体検出器 １９：Ｘ線検出器 １００：鏡筒用真空容器 １０３：試料カプセル １０４：結像光学系 １０７：モニタ １１０：排気装置 Ａ：回転双曲面 Ｂ：回転楕円面
Claims (2)
- 【請求項１】 試料のＸ線像を拡大する斜入射反射型光
学部材と、該光学部材によって形成された中間像をさら
に拡大するゾーンプレートとを備えたことを特徴とする
Ｘ線光学系。 - 【請求項２】 請求項１に記載のＸ線光学系の前記斜入
射反射型光学部材と前記ゾーンプレートの光軸に沿った
配置を反転してなることを特徴とするＸ線マイクロビー
ム照射装置用のＸ線光学系。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5341191A JPH07167994A (ja) | 1993-12-13 | 1993-12-13 | Ｘ線光学系 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5341191A JPH07167994A (ja) | 1993-12-13 | 1993-12-13 | Ｘ線光学系 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07167994A true JPH07167994A (ja) | 1995-07-04 |
Family
ID=18344074
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5341191A Pending JPH07167994A (ja) | 1993-12-13 | 1993-12-13 | Ｘ線光学系 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07167994A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008180731A (ja) * | 2008-03-31 | 2008-08-07 | Muradin Abubekirovich Kumakhov | Ｘ線顕微鏡 |
| WO2009030390A1 (de) * | 2007-09-04 | 2009-03-12 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Vorrichtung und verfahren für die xuv-mikroskopie |
| KR20220066916A (ko) * | 2019-09-16 | 2022-05-24 | 알아이 리서치 인스트루먼츠 게엠베하 | Euv 리소그래피 포토마스크의 구조 및 결함 검사를 위한 현미경 시스템 |
-
1993
- 1993-12-13 JP JP5341191A patent/JPH07167994A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009030390A1 (de) * | 2007-09-04 | 2009-03-12 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Vorrichtung und verfahren für die xuv-mikroskopie |
| JP2008180731A (ja) * | 2008-03-31 | 2008-08-07 | Muradin Abubekirovich Kumakhov | Ｘ線顕微鏡 |
| KR20220066916A (ko) * | 2019-09-16 | 2022-05-24 | 알아이 리서치 인스트루먼츠 게엠베하 | Euv 리소그래피 포토마스크의 구조 및 결함 검사를 위한 현미경 시스템 |
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