JP2569447B2 - 多層膜反射鏡の製造方法 - Google Patents
多層膜反射鏡の製造方法Info
- Publication number
- JP2569447B2 JP2569447B2 JP63298143A JP29814388A JP2569447B2 JP 2569447 B2 JP2569447 B2 JP 2569447B2 JP 63298143 A JP63298143 A JP 63298143A JP 29814388 A JP29814388 A JP 29814388A JP 2569447 B2 JP2569447 B2 JP 2569447B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film thickness
- multilayer
- film
- heat treatment
- multilayer film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、Ｘ線リソグラフィー、Ｘ線顕微鏡、Ｘ線望
遠鏡、各種Ｘ線分析装置などにおいて、Ｘ線領域での反
射光学系に用いられる多層膜反射鏡に関するものであ
る。
遠鏡、各種Ｘ線分析装置などにおいて、Ｘ線領域での反
射光学系に用いられる多層膜反射鏡に関するものであ
る。
［従来の技術］ Ｘ線領域で物質の屈折率は ｎ＝１−δ−ik（δ,k:実数） ……（１） と表わされ、δ,kともに１に比べて非常に小さい。即
ち、屈折率がほぼ１に近く、Ｘ線はほとんど屈折しない
ので、可視光領域のような屈折を利用したレンズは使用
できない。そこで反射を利用した光学系が用いられる
が、そのような反射鏡には、全反射臨界角θＣ（波長25
Åで６゜）以下の斜入射で用いる全反射鏡と、反射面を
多数設けた多層膜反射鏡とがある。前者は、斜入射のた
め光学系の寸法が大きくなることと、収差が大きいとい
う欠点があり、この点で多層膜反射鏡の方が優れてい
る。
ち、屈折率がほぼ１に近く、Ｘ線はほとんど屈折しない
ので、可視光領域のような屈折を利用したレンズは使用
できない。そこで反射を利用した光学系が用いられる
が、そのような反射鏡には、全反射臨界角θＣ（波長25
Åで６゜）以下の斜入射で用いる全反射鏡と、反射面を
多数設けた多層膜反射鏡とがある。前者は、斜入射のた
め光学系の寸法が大きくなることと、収差が大きいとい
う欠点があり、この点で多層膜反射鏡の方が優れてい
る。
多層膜反射鏡は使用する波長域で前記（１）式のδの
大きい物質と小さい物質を交互に順次積層し、各界面で
の反射波の位相をそろえて全体として高い反射率を得る
もので、タングステン（ｗ）／炭素（ｃ）やモリブデン
（Mo）／シリコン（Si）などの組合せのものが従来から
知られている。このような多層膜反射鏡はスパッタリン
グや真空蒸着、CVD（Chemical Vapor Deposition 気相
反応法）等の方法によって形成されるが、例えばＸ線の
集光に用いるような場合には、多層膜は球面、回転楕円
面、回転放物面、回転双曲面などの曲面形状の基材上に
形成される。
大きい物質と小さい物質を交互に順次積層し、各界面で
の反射波の位相をそろえて全体として高い反射率を得る
もので、タングステン（ｗ）／炭素（ｃ）やモリブデン
（Mo）／シリコン（Si）などの組合せのものが従来から
知られている。このような多層膜反射鏡はスパッタリン
グや真空蒸着、CVD（Chemical Vapor Deposition 気相
反応法）等の方法によって形成されるが、例えばＸ線の
集光に用いるような場合には、多層膜は球面、回転楕円
面、回転放物面、回転双曲面などの曲面形状の基材上に
形成される。
［発明が解決しようとする課題］ 上記の如き従来の技術において、多層膜の膜厚の周期
ｄは、各界面での反射波の位相をそろえるために、
（２）式のブラック回折条件を満足しなければならな
い。
ｄは、各界面での反射波の位相をそろえるために、
（２）式のブラック回折条件を満足しなければならな
い。
2d sinθ＝ｎλ ……（２） なお、θは入射角、λはＸ線の波長、ｎは整数で回折
の次数である。
の次数である。
第２図に回転楕円面を用いた反射鏡の例を示す。楕円
の一つの焦点f1に点光源を置くと、そこから出た光はも
う一つの焦点f2へ集光される。このとき反射面上の異な
る位置（p1,q1）（p2,q2）での入射角θ1,θ２は等しく
ない。従って、各位置でブラッグの条件（２）式を満足
するためには、場所毎に多層膜の周期ｄを変化させる必
要がある。これは回転楕円面以外の一般の曲面において
も同様である。
の一つの焦点f1に点光源を置くと、そこから出た光はも
う一つの焦点f2へ集光される。このとき反射面上の異な
る位置（p1,q1）（p2,q2）での入射角θ1,θ２は等しく
ない。従って、各位置でブラッグの条件（２）式を満足
するためには、場所毎に多層膜の周期ｄを変化させる必
要がある。これは回転楕円面以外の一般の曲面において
も同様である。
ここで、曲面の各場所によって多層膜の周期を変える
ことは特開昭60−98399号公報に示されている。しか
し、この公報には膜厚周期が場所毎に異なる多層膜を形
成する手段については何等記載されておらず、敢えて推
察すれば成膜時に生じる膜厚分布を利用するものと考え
られる。
ことは特開昭60−98399号公報に示されている。しか
し、この公報には膜厚周期が場所毎に異なる多層膜を形
成する手段については何等記載されておらず、敢えて推
察すれば成膜時に生じる膜厚分布を利用するものと考え
られる。
しかしながら、成膜時に膜厚分布を任意に制御するこ
とは非常に困難であり、成膜条件によって曲面の各場所
でブラッグの回折条件を満たすような膜厚分布とするこ
とは、仮にできたとしても歩留りが極めて悪く、事実上
不可能でる。このため、従来の多層膜反射鏡では反射面
上のごく一部でしかブラッグの条件を満足することがで
きず、効率が非常に悪いという問題点があった。
とは非常に困難であり、成膜条件によって曲面の各場所
でブラッグの回折条件を満たすような膜厚分布とするこ
とは、仮にできたとしても歩留りが極めて悪く、事実上
不可能でる。このため、従来の多層膜反射鏡では反射面
上のごく一部でしかブラッグの条件を満足することがで
きず、効率が非常に悪いという問題点があった。
本発明はこの様な従来の問題点に鑑みてなされたもの
で、曲面の各場所でブラッグの回折条件を満たす多層膜
反射鏡の製造方法を提供することを目的とするものであ
る。
で、曲面の各場所でブラッグの回折条件を満たす多層膜
反射鏡の製造方法を提供することを目的とするものであ
る。
［課題を解決するための手段］ 本発明においては、曲面基板上に、真空の屈折率との
差が大きい物質と小さい物質をほぼ均一な膜厚周期とな
るように交互に積層して多層膜を曲面状に形成した後、
前記ほぼ均一な膜厚周期が前記多層膜上の各場所におけ
るブラッグの回折条件を満足する膜厚周期の各値となる
ように、その各値と前記ほぼ均一な膜厚周期との膜厚差
の分布と相関する加熱温度の分布を持たせて、前記多層
膜を加熱処理することによって、上記の課題を達成して
いる。
差が大きい物質と小さい物質をほぼ均一な膜厚周期とな
るように交互に積層して多層膜を曲面状に形成した後、
前記ほぼ均一な膜厚周期が前記多層膜上の各場所におけ
るブラッグの回折条件を満足する膜厚周期の各値となる
ように、その各値と前記ほぼ均一な膜厚周期との膜厚差
の分布と相関する加熱温度の分布を持たせて、前記多層
膜を加熱処理することによって、上記の課題を達成して
いる。
［作 用］ 本発明者らは、多層膜反射鏡の耐熱性を評価する実験
を行なう中で、加熱処理によって多層膜の膜厚周期ｄが
増加するとともに、反射率も増加する現象を見出した。
第３図は、W/C多層膜反射鏡を真空中で熱処理した場合
の熱処理温度と膜厚周期ｄの増加率の関係を示すグラフ
であり、600〜900℃の温度で温度に依存して多層膜の周
期ｄが徐々に増加（数％）していることがわかる。この
加熱処理による膜厚周期の増加現象は非可逆的であり、
多層膜の断面のTEM（透過型電子顕微鏡）像を観察した
ところ、熱処理後のＷ層中には微結晶化が生じているこ
とがわかった。
を行なう中で、加熱処理によって多層膜の膜厚周期ｄが
増加するとともに、反射率も増加する現象を見出した。
第３図は、W/C多層膜反射鏡を真空中で熱処理した場合
の熱処理温度と膜厚周期ｄの増加率の関係を示すグラフ
であり、600〜900℃の温度で温度に依存して多層膜の周
期ｄが徐々に増加（数％）していることがわかる。この
加熱処理による膜厚周期の増加現象は非可逆的であり、
多層膜の断面のTEM（透過型電子顕微鏡）像を観察した
ところ、熱処理後のＷ層中には微結晶化が生じているこ
とがわかった。
そこで、本発明者らは、鋭意検討の結果、加熱処理に
よる膜厚の非可逆的な増加現象を利用して曲面上に形成
した多層膜の膜厚分布を制御することを可能にし、本発
明を成すに至った。
よる膜厚の非可逆的な増加現象を利用して曲面上に形成
した多層膜の膜厚分布を制御することを可能にし、本発
明を成すに至った。
即ち、膜厚周期ｄの変化は第３図に示したように温度
依存性があるので、場所毎に異る温度で熱処理すること
により、場所毎に膜厚周期ｄを変化させ、これにより曲
面の各場所でブラッグの条件を満たす多層膜反射鏡を得
ることができる。
依存性があるので、場所毎に異る温度で熱処理すること
により、場所毎に膜厚周期ｄを変化させ、これにより曲
面の各場所でブラッグの条件を満たす多層膜反射鏡を得
ることができる。
第１図は本発明による製造方法によって得られた多層
膜反射鏡の模式的な断面図である。図において、基材１
の曲面上には、例えばタングステン等の真空の屈折率と
の差が大きい物質２と例えば炭素等の真空の屈折率との
差が小さい物質３が交互に積層されており、物質２及び
３の膜厚周期は場所毎に異なる温度で加熱処理されるこ
とにより曲面の各場所でブラッグの回折条件を満足する
ように制御（この場合断面中心部ほど厚く、端部ほど薄
くなっている）されている。この際、周期ｄの変化に伴
い、多層膜の結晶化の状態も変化しており、高い温度で
処理したところほど微結晶化が進行している。
膜反射鏡の模式的な断面図である。図において、基材１
の曲面上には、例えばタングステン等の真空の屈折率と
の差が大きい物質２と例えば炭素等の真空の屈折率との
差が小さい物質３が交互に積層されており、物質２及び
３の膜厚周期は場所毎に異なる温度で加熱処理されるこ
とにより曲面の各場所でブラッグの回折条件を満足する
ように制御（この場合断面中心部ほど厚く、端部ほど薄
くなっている）されている。この際、周期ｄの変化に伴
い、多層膜の結晶化の状態も変化しており、高い温度で
処理したところほど微結晶化が進行している。
なお、本発明において多層膜を熱処理する方法は特に
限定されるものではなく、ヒータ等の熱源を所定の位置
に配置しても良いし、レーザ光をスポット状に集光して
場所毎にレーザ強度を変えながら多層膜表面を照射する
ことによって行なっても良い。
限定されるものではなく、ヒータ等の熱源を所定の位置
に配置しても良いし、レーザ光をスポット状に集光して
場所毎にレーザ強度を変えながら多層膜表面を照射する
ことによって行なっても良い。
［実施例］ 実施例:1 まず、ガラスを用いて第４図（図ａは平面図，図ｂは
長軸方向の側面図，図ｃは短軸方向の側面図）に示され
るように回転楕円面を反射面とする多層膜反射鏡の基材
１を作製した。この基材１の反射面は長軸半径50mm、短
軸半径20mmの楕円を長軸を回転中心軸として回転させる
ことによってできる回転楕円面の一部を、長軸半径20m
m、短軸半径8mmの楕円の断面で切断することにより形成
されたものである。
長軸方向の側面図，図ｃは短軸方向の側面図）に示され
るように回転楕円面を反射面とする多層膜反射鏡の基材
１を作製した。この基材１の反射面は長軸半径50mm、短
軸半径20mmの楕円を長軸を回転中心軸として回転させる
ことによってできる回転楕円面の一部を、長軸半径20m
m、短軸半径8mmの楕円の断面で切断することにより形成
されたものである。
このような反射面においては、第４図ｂに示されるよ
うに回転楕円面の一方の焦点f1の位置に点光源を置く
と、そこから出た光はもう一方の焦点f2の位置に集光さ
れる。ここで、入射角は反射面の中心でθ１＝23.6゜，
長軸方向の端部でθ２＝25.5゜であるので、使用するＸ
線の波長を25Åとすると、ブラッグの条件を満足する多
層膜の膜厚周期ｄは、反射面の中心でd1＝31.3Å，長軸
方向の端部で29.1Åとなり、その膜厚差は7.5％とな
る。
うに回転楕円面の一方の焦点f1の位置に点光源を置く
と、そこから出た光はもう一方の焦点f2の位置に集光さ
れる。ここで、入射角は反射面の中心でθ１＝23.6゜，
長軸方向の端部でθ２＝25.5゜であるので、使用するＸ
線の波長を25Åとすると、ブラッグの条件を満足する多
層膜の膜厚周期ｄは、反射面の中心でd1＝31.3Å，長軸
方向の端部で29.1Åとなり、その膜厚差は7.5％とな
る。
次に、かかる反射面上にrfマグネトロンスバッタリン
グにより、厚さ13ÅのＷ層と厚さ16ÅのＣ層を交互に50
層ずつ積層した。第５図に示すようにスパッタリングタ
ーゲット４と、回転楕円体の回転軸６とが平行になるよ
うに基材１を配置し、成膜中は回転中心軸６と平行な軸
７の周りに基材１を揺動して、回転中心軸６に直交する
方向の膜厚分布は均一となるようにした。
グにより、厚さ13ÅのＷ層と厚さ16ÅのＣ層を交互に50
層ずつ積層した。第５図に示すようにスパッタリングタ
ーゲット４と、回転楕円体の回転軸６とが平行になるよ
うに基材１を配置し、成膜中は回転中心軸６と平行な軸
７の周りに基材１を揺動して、回転中心軸６に直交する
方向の膜厚分布は均一となるようにした。
一方、楕円の長軸方向は、面の傾きが異るため端部と
中心部では膜厚の差が生じる。この際の膜厚差は反射面
の中心と長軸方向の端部で1.5％である。従って、反射
面のすべての位置でブラッグの条件を満足するために
は、最大7.5％−1.5％＝6.0％だけ膜厚周期ｄを調整し
なければならないことになる。なお、基材１及びその保
持治具は真空中で異なるターゲット４上へ移動すること
ができるような構造とし、これらをＷとＣのターゲット
上へ交互に移動することによりＷ層とＣ層を順次積層し
た。
中心部では膜厚の差が生じる。この際の膜厚差は反射面
の中心と長軸方向の端部で1.5％である。従って、反射
面のすべての位置でブラッグの条件を満足するために
は、最大7.5％−1.5％＝6.0％だけ膜厚周期ｄを調整し
なければならないことになる。なお、基材１及びその保
持治具は真空中で異なるターゲット４上へ移動すること
ができるような構造とし、これらをＷとＣのターゲット
上へ交互に移動することによりＷ層とＣ層を順次積層し
た。
次に、このようにして作製した多層膜反射鏡を第６図
（ａ）に示すような装置で熱処理した。図示したよう
に、回転楕円面の断面である楕円の中心における法線と
交わり、かつこの楕円の短軸と平行になる位置にタング
ステン線から成るヒーター線８を配置した。ヒーター線
８に流す電流とヒーター線８と反射面９との距離ｌを変
えることによって、反射面上で楕円の上軸方向の温度分
布を変えることができる。
（ａ）に示すような装置で熱処理した。図示したよう
に、回転楕円面の断面である楕円の中心における法線と
交わり、かつこの楕円の短軸と平行になる位置にタング
ステン線から成るヒーター線８を配置した。ヒーター線
８に流す電流とヒーター線８と反射面９との距離ｌを変
えることによって、反射面上で楕円の上軸方向の温度分
布を変えることができる。
即ち、このような装置を用いると、第６図（ｃ）のグ
ラフに示されるように短軸方向の温度分布は均一となる
が、楕円の長軸方向においては第６図（ｂ）のように中
心に近いほど高い温度で熱処理されることになり、その
結果、多層膜の膜厚周期ｄの増加も中心に近いほど大き
くなる。
ラフに示されるように短軸方向の温度分布は均一となる
が、楕円の長軸方向においては第６図（ｂ）のように中
心に近いほど高い温度で熱処理されることになり、その
結果、多層膜の膜厚周期ｄの増加も中心に近いほど大き
くなる。
本実施例では約６％の周期ｄの変化を生じさせるため
の、中心部の最高温度は約900℃であった。なお、これ
らの装置全体は真空中に設置し、熱処理中にW/C多層膜
及びヒーター線８が酸化されるのを防止した。
の、中心部の最高温度は約900℃であった。なお、これ
らの装置全体は真空中に設置し、熱処理中にW/C多層膜
及びヒーター線８が酸化されるのを防止した。
上記のような装置で、ブラッグの回折条件を満足する
ような膜厚変化を生じさせるに最適な温度分布となるよ
うにヒーター線８に流す電流とヒーター線８と反射面９
との距離ｌを調整して多層膜反射鏡の熱処理を行った
後、第７図に示すようにエキシマレーザ（波長249nm）1
0とグラファイトターゲット11を用いたレーザプラズマ
Ｘ線源を光源の位置が多層反射鏡の一方の焦点f1にくる
ように配置し、他方の焦点f2にＸ線検出器12を配置して
多層膜反射鏡13の集光効率を測定した。本発明による熱
処理を行なったものと、行なわなかったものとで集光効
率を比較したところ、熱処理を行なったものは集光率が
約７倍に向上していた。
ような膜厚変化を生じさせるに最適な温度分布となるよ
うにヒーター線８に流す電流とヒーター線８と反射面９
との距離ｌを調整して多層膜反射鏡の熱処理を行った
後、第７図に示すようにエキシマレーザ（波長249nm）1
0とグラファイトターゲット11を用いたレーザプラズマ
Ｘ線源を光源の位置が多層反射鏡の一方の焦点f1にくる
ように配置し、他方の焦点f2にＸ線検出器12を配置して
多層膜反射鏡13の集光効率を測定した。本発明による熱
処理を行なったものと、行なわなかったものとで集光効
率を比較したところ、熱処理を行なったものは集光率が
約７倍に向上していた。
実施例:2 実施例１と同様な回転楕円面形状の反射面を有するガ
ラス製の基材に、rfマグネトロンスパッタリング法によ
りW/C多層膜を形成した。
ラス製の基材に、rfマグネトロンスパッタリング法によ
りW/C多層膜を形成した。
この多層膜反射鏡を第８図に示すような装置を用い
て、YAGレーザ14（波長1.06μｍ）のレーザ光をレンズ1
5でスポット状に集光して多層膜を照射し局所的に熱処
理を行なった。多層膜反射鏡13はＸ−Ｙステージ16上に
乗せられており、Ｘ−Ｙステージ16をレーザ光に対して
相対移動させることにより反射面全体をレーザ光で走査
することができるようになっている。かかる装置では、
レーザ出力を変化させながら走査することにより場所毎
に異なる温度で熱処理を行なうことができる。
て、YAGレーザ14（波長1.06μｍ）のレーザ光をレンズ1
5でスポット状に集光して多層膜を照射し局所的に熱処
理を行なった。多層膜反射鏡13はＸ−Ｙステージ16上に
乗せられており、Ｘ−Ｙステージ16をレーザ光に対して
相対移動させることにより反射面全体をレーザ光で走査
することができるようになっている。かかる装置では、
レーザ出力を変化させながら走査することにより場所毎
に異なる温度で熱処理を行なうことができる。
具体的には第９図（ａ）に示すように楕円の短軸に平
行な方向に一定のレーザ出力でライン走査し、次にレー
ザ出力を変えて次のラインを走査するという動作を繰り
返し反射面の多層膜全体を熱処理した。この際の温度分
布は、短軸方向では第９図（ｃ）のように一定で、長軸
方向では第９図（ｂ）のように中央ほど高い温度となっ
ている。本実施例では約６％の周期ｄの変化を生じさせ
るための、中心部の最高温度は約900℃であった。な
お、これらの装置全体（YAGレーザ本体は除く）は真空
中に設置し、熱処理中にW/C多層膜が酸化するのを防止
した。
行な方向に一定のレーザ出力でライン走査し、次にレー
ザ出力を変えて次のラインを走査するという動作を繰り
返し反射面の多層膜全体を熱処理した。この際の温度分
布は、短軸方向では第９図（ｃ）のように一定で、長軸
方向では第９図（ｂ）のように中央ほど高い温度となっ
ている。本実施例では約６％の周期ｄの変化を生じさせ
るための、中心部の最高温度は約900℃であった。な
お、これらの装置全体（YAGレーザ本体は除く）は真空
中に設置し、熱処理中にW/C多層膜が酸化するのを防止
した。
このようにして熱処理を行った多層膜反射鏡の集光効
率を実施例１と同様に第７図に示す装置で評価したとこ
ろ、熱処理を行なわなかったものに対して約12倍に集光
効率が向上した。
率を実施例１と同様に第７図に示す装置で評価したとこ
ろ、熱処理を行なわなかったものに対して約12倍に集光
効率が向上した。
［発明の効果］ 以上の様に本発明は、曲面上に形成された多層膜の周
期ｄを各場所でブラッグの回折条件を満たすように変化
させることにより、曲面状の反射面全面で高い反射率を
確保して、多層膜反射鏡の効率を大幅に向上させること
ができるという極めて優れた効果を有している。
期ｄを各場所でブラッグの回折条件を満たすように変化
させることにより、曲面状の反射面全面で高い反射率を
確保して、多層膜反射鏡の効率を大幅に向上させること
ができるという極めて優れた効果を有している。
また、本発明による加熱処理を行なうこにとよって、
膜厚周期の増加とともに物質の反射率自体も増加するの
で、このことも多層膜反射鏡の効率向上に寄与する。
膜厚周期の増加とともに物質の反射率自体も増加するの
で、このことも多層膜反射鏡の効率向上に寄与する。
第１図は本発明による多層膜反射鏡の模式的な断面図、
第２図は回転楕円面を用いた反射鏡を説明する説明図、
第３図は熱処理温度に対する多層膜周期ｄの増加を示す
グラフ、第４図は本発明実施例の多層膜反射鏡の形状を
説明する説明図、第５図は本発明実施例における多層膜
の形成法を説明する説明図、第６図は本発明実施例にお
ける熱処理方法を説明する説明図、第７図は多層膜反射
鏡の集光効率を評価した装置の構成図、第８図は本発明
の別の実施例における熱処理装置の構成図、第９図は第
８図に示された装置による熱処理方法を説明する説明図
である。 ［主要部分の符号の説明］ １……基材 ２……多層膜を形成する一方の物質 ３……多層膜を形成するもう一方の物質 ４……スパッタリングターゲット ６……回転中心軸 ７……揺動の中心軸 ８……ヒーター線 ９……反射面 10……エキシマレーザ 11……グラファイトターゲット 12……Ｘ線検出器 13……多層膜反射鏡 14……YAGレーザ 16……Ｘ−Ｙステージ。
第２図は回転楕円面を用いた反射鏡を説明する説明図、
第３図は熱処理温度に対する多層膜周期ｄの増加を示す
グラフ、第４図は本発明実施例の多層膜反射鏡の形状を
説明する説明図、第５図は本発明実施例における多層膜
の形成法を説明する説明図、第６図は本発明実施例にお
ける熱処理方法を説明する説明図、第７図は多層膜反射
鏡の集光効率を評価した装置の構成図、第８図は本発明
の別の実施例における熱処理装置の構成図、第９図は第
８図に示された装置による熱処理方法を説明する説明図
である。 ［主要部分の符号の説明］ １……基材 ２……多層膜を形成する一方の物質 ３……多層膜を形成するもう一方の物質 ４……スパッタリングターゲット ６……回転中心軸 ７……揺動の中心軸 ８……ヒーター線 ９……反射面 10……エキシマレーザ 11……グラファイトターゲット 12……Ｘ線検出器 13……多層膜反射鏡 14……YAGレーザ 16……Ｘ−Ｙステージ。
Claims (1)
- 【請求項１】曲面基板上に、真空の屈折率との差が大き
い物質と小さい物質をほぼ均一な膜厚周期となるように
交互に積層して多層膜を曲面状に形成した後、前記ほぼ
均一な膜厚周期が前記多層膜上の各場所におけるブラッ
グの回折条件を満足する膜厚周期の各値となるように、
その各値と前記ほぼ均一な膜厚周期との膜厚差の分布と
相関する加熱温度の分布を持たせて、前記多層膜を加熱
処理することを特徴とする多層膜反射鏡の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63298143A JP2569447B2 (ja) | 1988-11-28 | 1988-11-28 | 多層膜反射鏡の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63298143A JP2569447B2 (ja) | 1988-11-28 | 1988-11-28 | 多層膜反射鏡の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02146000A JPH02146000A (ja) | 1990-06-05 |
| JP2569447B2 true JP2569447B2 (ja) | 1997-01-08 |
Family
ID=17855752
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63298143A Expired - Fee Related JP2569447B2 (ja) | 1988-11-28 | 1988-11-28 | 多層膜反射鏡の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2569447B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6421417B1 (en) * | 1999-08-02 | 2002-07-16 | Osmic, Inc. | Multilayer optics with adjustable working wavelength |
| US6317483B1 (en) * | 1999-11-29 | 2001-11-13 | X-Ray Optical Systems, Inc. | Doubly curved optical device with graded atomic planes |
| JP4498060B2 (ja) * | 2004-08-18 | 2010-07-07 | キヤノン株式会社 | 投影光学系、露光装置及び光学素子の製造方法 |
| DE102008002403A1 (de) * | 2008-06-12 | 2009-12-17 | Carl Zeiss Smt Ag | Verfahren zum Herstellen einer Mehrlagen-Beschichtung, optisches Element und optische Anordnung |
-
1988
- 1988-11-28 JP JP63298143A patent/JP2569447B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02146000A (ja) | 1990-06-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5003567A (en) | Soft x-ray reduction camera for submicron lithography | |
| US7412131B2 (en) | Multilayer optic device and system and method for making same | |
| US7414787B2 (en) | Phase contrast microscope for short wavelength radiation and imaging method | |
| US4525853A (en) | Point source X-ray focusing device | |
| JP5631049B2 (ja) | ゾーン最適化ミラー及び同ミラーを用いた光学系 | |
| US6625250B2 (en) | Optical structures and methods for x-ray applications | |
| WO2001039211A1 (en) | Doubly curved optical device with graded atomic planes | |
| Senba et al. | Stable sub-micrometre high-flux probe for soft X-ray ARPES using a monolithic Wolter mirror | |
| CN106324711A (zh) | 硬X射线微聚焦用WSi2/Al0.98Si0.02多层膜Laue透镜 | |
| JPH0372298A (ja) | 多層膜反射鏡の製造方法 | |
| JP2569447B2 (ja) | 多層膜反射鏡の製造方法 | |
| US9082522B2 (en) | Zone compensated multilayer laue lens and apparatus and method of fabricating the same | |
| Spiller | A scanning soft x-ray microscope using normal incidence mirrors | |
| JP3010844B2 (ja) | Ｘ線反射鏡 | |
| JP3141660B2 (ja) | Ｘ線照射装置 | |
| US10867717B2 (en) | Optical element for deflecting x-rays | |
| Codling | Recent European advances in monochromator design for use with synchrotron radiation sources | |
| JP2000147198A (ja) | 多層膜反射鏡及びその製造方法 | |
| JPH06300897A (ja) | Ｘ線光学装置 | |
| JPH05164899A (ja) | 多層膜反射鏡 | |
| JP2634661B2 (ja) | Ｘ線用多層膜反射鏡 | |
| JP2001066399A (ja) | 多層膜反射鏡および露光装置、又は分析装置。 | |
| JPH08262198A (ja) | Ｘ線多層膜反射鏡 | |
| JPH02145999A (ja) | 多層膜ｘ線反射鏡 | |
| JPH05232298A (ja) | Ｘ線多層膜反射鏡 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |